JP2003104988A - 抗菌剤として有用なキノロン誘導体 - Google Patents
抗菌剤として有用なキノロン誘導体Info
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- JP2003104988A JP2003104988A JP2001299089A JP2001299089A JP2003104988A JP 2003104988 A JP2003104988 A JP 2003104988A JP 2001299089 A JP2001299089 A JP 2001299089A JP 2001299089 A JP2001299089 A JP 2001299089A JP 2003104988 A JP2003104988 A JP 2003104988A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 グラム陽性菌、グラム陰性菌又は嫌気性菌に
対して強い抗菌活性を有するキノロン系抗菌剤を提供す
ること。 【解決手段】 次式(I): 【化1】 (I)で表される化合物又はその薬学的に許容可能な塩で
ある。(式中、R1は、水素原子又はカルボキシル保護
基を示し、R2は、水素原子又はハロゲン原子を示し、
R3は、ピリジニル又はフェニル基から選ばれる、6員
環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ
基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド基、ハロゲン
原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基から成る群よ
り選ばれる置換基を含有する。)
対して強い抗菌活性を有するキノロン系抗菌剤を提供す
ること。 【解決手段】 次式(I): 【化1】 (I)で表される化合物又はその薬学的に許容可能な塩で
ある。(式中、R1は、水素原子又はカルボキシル保護
基を示し、R2は、水素原子又はハロゲン原子を示し、
R3は、ピリジニル又はフェニル基から選ばれる、6員
環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ
基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド基、ハロゲン
原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基から成る群よ
り選ばれる置換基を含有する。)
Description
【0001】
【発明に属する技術分野】本発明は、特にグラム陽性
菌、グラム陰性菌又は嫌気性菌に対して強力な抗菌活性
を有するキノロン誘導体に関する。
菌、グラム陰性菌又は嫌気性菌に対して強力な抗菌活性
を有するキノロン誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】キノロンカルボン酸骨格を有する抗菌剤
としては、キノロン骨格の7位に窒素原子を介してピペ
ラジニル基、ピロリジニル基等の環状のアミンが置換さ
れた誘導体が幅広く研究され、実際医療の場で幅広く抗
菌剤として用いられているが、7位に炭素原子を介して
種々の置換基を導入した誘導体の研究は、非常に少ない
のが現状である。近年、キノロン系合成抗菌剤は、臨床
の場で優れた抗菌作用を有する薬剤として、広く用いら
れているが、セファロスポリン、ペニシリン系のβ-ラ
クタム抗生物質と比較して、中枢系の副作用発現が多
く、痙攣誘発等の重篤な副作用を引き起こしたり、急速
に耐性菌が分離される等の問題を出現している。そのた
め、耐性菌に対しても有効で副作用の少ない広範な抗菌
スペクトルを有する合成抗菌剤の開発が望まれている。
ところで、キノロン骨格を有する抗菌剤として、次式で
示される(特開平2-28178号公報)。
としては、キノロン骨格の7位に窒素原子を介してピペ
ラジニル基、ピロリジニル基等の環状のアミンが置換さ
れた誘導体が幅広く研究され、実際医療の場で幅広く抗
菌剤として用いられているが、7位に炭素原子を介して
種々の置換基を導入した誘導体の研究は、非常に少ない
のが現状である。近年、キノロン系合成抗菌剤は、臨床
の場で優れた抗菌作用を有する薬剤として、広く用いら
れているが、セファロスポリン、ペニシリン系のβ-ラ
クタム抗生物質と比較して、中枢系の副作用発現が多
く、痙攣誘発等の重篤な副作用を引き起こしたり、急速
に耐性菌が分離される等の問題を出現している。そのた
め、耐性菌に対しても有効で副作用の少ない広範な抗菌
スペクトルを有する合成抗菌剤の開発が望まれている。
ところで、キノロン骨格を有する抗菌剤として、次式で
示される(特開平2-28178号公報)。
【0003】
【化2】
【0004】この化合物は、キノロン骨格を含む縮合環
中には、1つの窒素原子を含む構造を有している。しか
しながら、この刊行物には、窒素原子が連続して結合し
ている縮合環を基本骨格とする抗菌剤については全く開
示も示唆もされていない。
中には、1つの窒素原子を含む構造を有している。しか
しながら、この刊行物には、窒素原子が連続して結合し
ている縮合環を基本骨格とする抗菌剤については全く開
示も示唆もされていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な構造
を有する強い抗菌活性を有するキノロン系抗菌剤を提供
することを目的とする。
を有する強い抗菌活性を有するキノロン系抗菌剤を提供
することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を達成するため鋭意検討した結果、これまでのキノロン
系合成抗菌剤とは構造を全く異にする新規なキノロン誘
導体を調製し、この化合物が上記目的を達成できること
を見出し、本発明に到達したものである。特に、本発明
の化合物は、C-C結合による単環の置換基を有し、この
ような構造の化合物は、他に類をみないものである。即
ち、本発明は、次式(I)で示される化合物、その異性
体又はその薬学的に許容可能な塩に関するものである。
を達成するため鋭意検討した結果、これまでのキノロン
系合成抗菌剤とは構造を全く異にする新規なキノロン誘
導体を調製し、この化合物が上記目的を達成できること
を見出し、本発明に到達したものである。特に、本発明
の化合物は、C-C結合による単環の置換基を有し、この
ような構造の化合物は、他に類をみないものである。即
ち、本発明は、次式(I)で示される化合物、その異性
体又はその薬学的に許容可能な塩に関するものである。
【0007】
【化3】
(I)
【0008】(上記式中、R1は、水素原子又はカルボ
キシル保護基を示し、R2は、水素原子又はハロゲン原
子を示し、R3は、ピリジニル又はフェニル基から選ば
れる、6員環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ
基、アミノ基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基
から成る群より選ばれる置換基を含有する。)で表され
る。
キシル保護基を示し、R2は、水素原子又はハロゲン原
子を示し、R3は、ピリジニル又はフェニル基から選ば
れる、6員環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ
基、アミノ基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基
から成る群より選ばれる置換基を含有する。)で表され
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本明細書において特にことわらない限り、以下の
用語は以下の意味を有する。前記式(I)中、R1は、水
素原子又はカルボキシル保護基を示す。カルボキシル基
の保護基(カルボキシル保護基)としては、例えば、メ
チル基や、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、
n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチ
ル基等が挙げられる。R2は、水素原子又はハロゲン原子
を示す。ハロゲン原子は、フッ素原子や、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子である。
する。本明細書において特にことわらない限り、以下の
用語は以下の意味を有する。前記式(I)中、R1は、水
素原子又はカルボキシル保護基を示す。カルボキシル基
の保護基(カルボキシル保護基)としては、例えば、メ
チル基や、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、
n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチ
ル基等が挙げられる。R2は、水素原子又はハロゲン原子
を示す。ハロゲン原子は、フッ素原子や、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子である。
【0010】R3は、ピリジニル又はフェニル基から選ば
れる、6員環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ
基、アミノ基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基
から成る群より選ばれる置換基を含有する。ピリジニル
及びフェニル基は、複数の置換基を有していてもかまわ
ない。例えば、水素原子2つがアミノ基で置換されたフ
ェニル基や、アミノ基とメチル基1つづつで置換された
フェニル基等が挙げられる。アルキル基は、通常、1〜
20個、好ましくは、1〜15個、更に好ましくは、1
〜10個の炭素数を有する飽和アルキル基であり、直鎖
状又は分岐鎖状であってもよい。具体的には、低級アル
キル基としては、アルキル基において、炭素数が例えば
1〜8個、好ましくは、1〜5個程度のアルキル基が挙
げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基や、
エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル
基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基又は
ペンチル基等の低級アルキル基の他に、デシル基や、ド
デシル基、トリデシル基、ウンデシル基等のアルキル基
が含まれる。アルコキシ基は、アルキル基と結合した酸
素原子からなるアルコキシ基である。アルコキシ基を構
成するアルキル基としては、上記アルキル基と同様であ
る。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキ
シ基又はペンチルオキシ基等の直鎖状又は分岐鎖状の低
級アルコキシ基が挙げられる。置換基としての低級アル
キル基及び低級アルコキシ基は、必要に応じて、アミノ
基や酸素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシイミ
ノ基等で置換されてもよい。これらのアミノ基等は更
に、低級アルキル基やヒドロキシル基、シクロプロピル
基等で置換されていてもかまわない。また、置換基とし
てのアミノ基は、必要に応じて、低級アルキル基やアシ
ル基、アルコキシカルボニル基等で置換されて、アルキ
ルアミノ基等であってもよい。例えば、メチルアミノ基
や、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、n-プロピルア
ミノ基、イソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、イ
ソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチル
アミノ基等が挙げられる。更に、アルキルアミノ基等が
酸素原子等を介してテトラヒドロピラン等の環を持つ置
換基で置換されてもよい。置換基としてのアシル基は、
ホルミル基やアセチル基等を好適に挙げることができ
る。ヒドロキシイミノ基のヒドロキシル基は、ヒドロキ
シル保護基、例えばアルコキシ基等で保護されていても
よい。
れる、6員環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ
基、アミノ基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基
から成る群より選ばれる置換基を含有する。ピリジニル
及びフェニル基は、複数の置換基を有していてもかまわ
ない。例えば、水素原子2つがアミノ基で置換されたフ
ェニル基や、アミノ基とメチル基1つづつで置換された
フェニル基等が挙げられる。アルキル基は、通常、1〜
20個、好ましくは、1〜15個、更に好ましくは、1
〜10個の炭素数を有する飽和アルキル基であり、直鎖
状又は分岐鎖状であってもよい。具体的には、低級アル
キル基としては、アルキル基において、炭素数が例えば
1〜8個、好ましくは、1〜5個程度のアルキル基が挙
げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基や、
エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル
基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基又は
ペンチル基等の低級アルキル基の他に、デシル基や、ド
デシル基、トリデシル基、ウンデシル基等のアルキル基
が含まれる。アルコキシ基は、アルキル基と結合した酸
素原子からなるアルコキシ基である。アルコキシ基を構
成するアルキル基としては、上記アルキル基と同様であ
る。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキ
シ基又はペンチルオキシ基等の直鎖状又は分岐鎖状の低
級アルコキシ基が挙げられる。置換基としての低級アル
キル基及び低級アルコキシ基は、必要に応じて、アミノ
基や酸素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシイミ
ノ基等で置換されてもよい。これらのアミノ基等は更
に、低級アルキル基やヒドロキシル基、シクロプロピル
基等で置換されていてもかまわない。また、置換基とし
てのアミノ基は、必要に応じて、低級アルキル基やアシ
ル基、アルコキシカルボニル基等で置換されて、アルキ
ルアミノ基等であってもよい。例えば、メチルアミノ基
や、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、n-プロピルア
ミノ基、イソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、イ
ソブチルアミノ基、sec-ブチルアミノ基、tert-ブチル
アミノ基等が挙げられる。更に、アルキルアミノ基等が
酸素原子等を介してテトラヒドロピラン等の環を持つ置
換基で置換されてもよい。置換基としてのアシル基は、
ホルミル基やアセチル基等を好適に挙げることができ
る。ヒドロキシイミノ基のヒドロキシル基は、ヒドロキ
シル保護基、例えばアルコキシ基等で保護されていても
よい。
【0011】上記式(I)で示される化合物の塩として
は、例えば、塩酸や、硫酸、リン酸などの無機酸との
塩、酒石酸や、ギ酸、酢酸、クエン酸、フマル酸、乳酸
等の有機カルボン酸との塩、メタンスルホン酸や、ベン
ゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレン
スルホン酸等のスルホン酸との塩、ナトリウムや、カリ
ウムなどのアルカリ金属との塩、カルシウムや、マグネ
シウムなどのアルカリ土類金属との塩、更には、アンモ
ニウム塩などの含窒素有機塩基との塩等を挙げることが
できる。また、式(I)の化合物及びその塩には、溶媒
和物や、水和物及び種々の形状の結晶が包含される。更
に、式(I)の化合物には、立体異性体が含まれる。な
お、本発明の化合物の具体例として、以下に述べる実施
例が挙げられ、本発明の化合物は、エステル体も含む実
施例の化合物が好ましいが、これらに限定されることは
ない。また、本発明の化合物の物性を考慮すると、式
(I)のR3は、窒素原子を有する置換基であることが好
ましい。R3が窒素原子を有すると、水溶性の良好な化合
物が得られる。
は、例えば、塩酸や、硫酸、リン酸などの無機酸との
塩、酒石酸や、ギ酸、酢酸、クエン酸、フマル酸、乳酸
等の有機カルボン酸との塩、メタンスルホン酸や、ベン
ゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレン
スルホン酸等のスルホン酸との塩、ナトリウムや、カリ
ウムなどのアルカリ金属との塩、カルシウムや、マグネ
シウムなどのアルカリ土類金属との塩、更には、アンモ
ニウム塩などの含窒素有機塩基との塩等を挙げることが
できる。また、式(I)の化合物及びその塩には、溶媒
和物や、水和物及び種々の形状の結晶が包含される。更
に、式(I)の化合物には、立体異性体が含まれる。な
お、本発明の化合物の具体例として、以下に述べる実施
例が挙げられ、本発明の化合物は、エステル体も含む実
施例の化合物が好ましいが、これらに限定されることは
ない。また、本発明の化合物の物性を考慮すると、式
(I)のR3は、窒素原子を有する置換基であることが好
ましい。R3が窒素原子を有すると、水溶性の良好な化合
物が得られる。
【0012】次に、式(I)で示される化合物(以下、
「本発明化合物」という)の合成方法について説明す
る。本発明化合物は、公知の方法に従って合成すること
ができる。例えば、具体例を挙げて説明すると、本発明
化合物は、それぞれ図1及び図2に示される反応図式1
及び2に示す合成ルートに従って合成することができ
る。図1に示される反応図式1を参照しながら、本発明
化合物の合成工程を説明する。まず、化合物(I-1)とし
て、例えば、3-ヒドロキシ安息香酸エチルエステルを、
無水ジクロロメタン等の溶媒中において、t-ブチルア
ミンの存在下において、アルゴン等の不活性雰囲気下、
臭素と反応させることによって、化合物(I-2)として、
2,4-ジブロモ-3-ヒドロキシ安息香酸エチルエステルが
得られる。反応温度は、例えば、−78〜−20℃が適
当である。また、反応時間は、例えば、30分〜24時
間が適当である。次に、化合物(I-2)を、無水アセトン
等の溶媒中に溶解した後、炭酸カリウム及びベンジルブ
ロマイドと反応させることによって、化合物(I-3)とし
て、例えば、2,4-ジブロモ-3-ベンジルオキシ-安息香酸
エチルエステルが得られる。反応温度は、例えば、20
〜100℃が適当であり、また反応時間は、例えば、3
0分〜10時間が適当である。次いで、化合物(I-3)を
水酸化ナトリウム等のアルカリで処理することにより、
化合物(I-4)として、2,4-ジブロモ-3-ベンジルオキシ-
安息香酸が生成する。
「本発明化合物」という)の合成方法について説明す
る。本発明化合物は、公知の方法に従って合成すること
ができる。例えば、具体例を挙げて説明すると、本発明
化合物は、それぞれ図1及び図2に示される反応図式1
及び2に示す合成ルートに従って合成することができ
る。図1に示される反応図式1を参照しながら、本発明
化合物の合成工程を説明する。まず、化合物(I-1)とし
て、例えば、3-ヒドロキシ安息香酸エチルエステルを、
無水ジクロロメタン等の溶媒中において、t-ブチルア
ミンの存在下において、アルゴン等の不活性雰囲気下、
臭素と反応させることによって、化合物(I-2)として、
2,4-ジブロモ-3-ヒドロキシ安息香酸エチルエステルが
得られる。反応温度は、例えば、−78〜−20℃が適
当である。また、反応時間は、例えば、30分〜24時
間が適当である。次に、化合物(I-2)を、無水アセトン
等の溶媒中に溶解した後、炭酸カリウム及びベンジルブ
ロマイドと反応させることによって、化合物(I-3)とし
て、例えば、2,4-ジブロモ-3-ベンジルオキシ-安息香酸
エチルエステルが得られる。反応温度は、例えば、20
〜100℃が適当であり、また反応時間は、例えば、3
0分〜10時間が適当である。次いで、化合物(I-3)を
水酸化ナトリウム等のアルカリで処理することにより、
化合物(I-4)として、2,4-ジブロモ-3-ベンジルオキシ-
安息香酸が生成する。
【0013】次いで、化合物(I-4)を、まず、トリエチ
ルアミン等の存在下において、イミダゾールで処理した
後、マロン酸エチルカリウムと反応させることによっ
て、化合物(I-5)として、例えば、3-(3-ベンジルオキシ
-2,4-ジブロモフェニル) -3-オキソプロピオン酸エチル
エステルが生成する。反応温度としては、例えば、0〜
80℃が適当である。また、反応時間は、例えば、30
分〜10時間が適当である。次いで、化合物(I-5)を、
無水酢酸等の溶媒中において、アルゴン等の不活性雰囲
気下、例えば、60〜180℃において、例えば30分
〜6時間、オルトギ酸エチルと反応させ、次いで、例え
ば、ジクロロメタン等の溶媒中において、例えば、0〜
80℃において、例えば 30分〜24時間、アミノ(t
-ブトキシカルボニル)メチルアミン等と反応させるこ
とにより、化合物(I-6)として、例えば、2-(3-ベンジル
オキシ-2,4-ジブロモフェニル)ベンゾイル-3-((t-ブ
トキシカルボニルメチルアミノ)アミノ)アクリル酸エ
チルエステルが得られる。
ルアミン等の存在下において、イミダゾールで処理した
後、マロン酸エチルカリウムと反応させることによっ
て、化合物(I-5)として、例えば、3-(3-ベンジルオキシ
-2,4-ジブロモフェニル) -3-オキソプロピオン酸エチル
エステルが生成する。反応温度としては、例えば、0〜
80℃が適当である。また、反応時間は、例えば、30
分〜10時間が適当である。次いで、化合物(I-5)を、
無水酢酸等の溶媒中において、アルゴン等の不活性雰囲
気下、例えば、60〜180℃において、例えば30分
〜6時間、オルトギ酸エチルと反応させ、次いで、例え
ば、ジクロロメタン等の溶媒中において、例えば、0〜
80℃において、例えば 30分〜24時間、アミノ(t
-ブトキシカルボニル)メチルアミン等と反応させるこ
とにより、化合物(I-6)として、例えば、2-(3-ベンジル
オキシ-2,4-ジブロモフェニル)ベンゾイル-3-((t-ブ
トキシカルボニルメチルアミノ)アミノ)アクリル酸エ
チルエステルが得られる。
【0014】次いで、化合物(I-6)を、DMF等の溶媒
中において、例えば、60〜180℃で例えば、30分
〜6時間、炭酸カリウムと反応させた後、DMFを減圧
下で除去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィ-にて精製し、例えば、8-ベンジルオキシ-7-ブロモ-
1,4-ジヒドロ-1-(N-メチル-(t-ブトキシカルボニル)ア
ミノ)-4-オキソキノリン-3-カルボン酸エチルエステル
を得、次いで、この化合物を、ジオキサン等の溶媒中
で、例えば、0〜80℃で、 30分〜12時間、塩酸
で処理することによって、化合物(I-7)として、8-ベン
ジルオキシ-7-ブロモ-1,4-ジヒドロ-1-メチルアミノ-4-
オキソキノリン-3-カルボン酸エチルエステルが得られ
る。
中において、例えば、60〜180℃で例えば、30分
〜6時間、炭酸カリウムと反応させた後、DMFを減圧
下で除去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィ-にて精製し、例えば、8-ベンジルオキシ-7-ブロモ-
1,4-ジヒドロ-1-(N-メチル-(t-ブトキシカルボニル)ア
ミノ)-4-オキソキノリン-3-カルボン酸エチルエステル
を得、次いで、この化合物を、ジオキサン等の溶媒中
で、例えば、0〜80℃で、 30分〜12時間、塩酸
で処理することによって、化合物(I-7)として、8-ベン
ジルオキシ-7-ブロモ-1,4-ジヒドロ-1-メチルアミノ-4-
オキソキノリン-3-カルボン酸エチルエステルが得られ
る。
【0015】次いで、化合物(I-7)を、パラジウム触媒
の存在下に通常の接触水素還元や、ヨードトリメチルシ
ランを用いた脱保護法、又はDMF等の溶媒中、アルゴ
ン等の不活性雰囲気下において、例えば、60〜180
℃で、30分〜12時間、例えば、ピロリジン及びトリ
エチルアミンと反応させることによって、化合物(I-8)
として、7-ブロモ-1,4-ジヒドロ-8-ヒドロキシ-1-メチ
ルアミノ-4-オキソキノリン-3-カルボン酸エチルエステ
ルが得られる。次いで、化合物(I-8)を、ジオキサン等
の媒体中において、アルゴン等の不活性雰囲気下におい
て、例えば、60〜180℃において、1〜24時間、
例えば、パラホルムアルデヒドと反応させることによっ
て、化合物(X)として、10-ブロモ-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e][1,3,4]ベンズオキ
サジアジン-6-カルボン酸エチルエステルが得られる。
の存在下に通常の接触水素還元や、ヨードトリメチルシ
ランを用いた脱保護法、又はDMF等の溶媒中、アルゴ
ン等の不活性雰囲気下において、例えば、60〜180
℃で、30分〜12時間、例えば、ピロリジン及びトリ
エチルアミンと反応させることによって、化合物(I-8)
として、7-ブロモ-1,4-ジヒドロ-8-ヒドロキシ-1-メチ
ルアミノ-4-オキソキノリン-3-カルボン酸エチルエステ
ルが得られる。次いで、化合物(I-8)を、ジオキサン等
の媒体中において、アルゴン等の不活性雰囲気下におい
て、例えば、60〜180℃において、1〜24時間、
例えば、パラホルムアルデヒドと反応させることによっ
て、化合物(X)として、10-ブロモ-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e][1,3,4]ベンズオキ
サジアジン-6-カルボン酸エチルエステルが得られる。
【0016】次いで、化合物(X)を、トルエン等の溶媒
中において、例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(II)クロリド等の触媒の存在下において、
アルゴン等の不活性雰囲気下において、例えば、60〜
180℃において、30分〜24時間、化合物(3)と反
応させることによって、本発明化合物(I-10)が得られ
る。化合物(3)としては、例えば、以下の式で示され
る化合物が使用される。
中において、例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(II)クロリド等の触媒の存在下において、
アルゴン等の不活性雰囲気下において、例えば、60〜
180℃において、30分〜24時間、化合物(3)と反
応させることによって、本発明化合物(I-10)が得られ
る。化合物(3)としては、例えば、以下の式で示され
る化合物が使用される。
【0017】
【化4】
【0018】式中、R4は、ピリジニル又はフェニル基か
ら選ばれ、R5は、水素原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ホルミル
基、カルバモイル基、ウレイド基、ハロゲン原子、ヒド
ロキシル基及びカルボキシル基から成る群より選択さ
れ、L1は、例えば、スズ(アルキル基)3を、L2は、例
えば、ホウ素(低級アルコキシ基)2を示す。
ら選ばれ、R5は、水素原子、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ホルミル
基、カルバモイル基、ウレイド基、ハロゲン原子、ヒド
ロキシル基及びカルボキシル基から成る群より選択さ
れ、L1は、例えば、スズ(アルキル基)3を、L2は、例
えば、ホウ素(低級アルコキシ基)2を示す。
【0019】次いで、この化合物(I-10)を常法に従っ
て、加水分解することにより、本発明化合物(I-11)が
得られる。また、本発明化合物(I-10)は、図2に示され
る反応図式2に従って合成できる。反応図式2の式中、
R1〜3は、前述と同様の意味を有し、L1は、スズ(アル
キル基)3を、L2は、ホウ素(低級アルコキシ基)2を、
Xは、ハロゲン原子を示す。触媒としてパラジウム錯体
を用いて、化合物(1)と化合物(3)の有機スズ化合物或
いは化合物(2)の有機スズ化合物と化合物(4)の化合
物をカップリング反応に付すことによって得ることがで
きる。
て、加水分解することにより、本発明化合物(I-11)が
得られる。また、本発明化合物(I-10)は、図2に示され
る反応図式2に従って合成できる。反応図式2の式中、
R1〜3は、前述と同様の意味を有し、L1は、スズ(アル
キル基)3を、L2は、ホウ素(低級アルコキシ基)2を、
Xは、ハロゲン原子を示す。触媒としてパラジウム錯体
を用いて、化合物(1)と化合物(3)の有機スズ化合物或
いは化合物(2)の有機スズ化合物と化合物(4)の化合
物をカップリング反応に付すことによって得ることがで
きる。
【0020】この反応で使用される溶媒としては、反応
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、例えば、ベンゼンや、トルエン及びキシレンなどの
芳香族炭化水素類;ジオキサンや、テトラヒドロフラ
ン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル及びジメチルセロソルブなどのエーテル類;アセトニ
トリルなどのニトリル類;N,N-ジメチルホルムアミド及
びN,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げら
れ、また、これらの溶媒を一種又は二種類以上混合して
使用してもよい。
に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されない
が、例えば、ベンゼンや、トルエン及びキシレンなどの
芳香族炭化水素類;ジオキサンや、テトラヒドロフラ
ン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル及びジメチルセロソルブなどのエーテル類;アセトニ
トリルなどのニトリル類;N,N-ジメチルホルムアミド及
びN,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げら
れ、また、これらの溶媒を一種又は二種類以上混合して
使用してもよい。
【0021】この反応で用いられるパラジウム錯体触媒
としては、例えば、PdCl2(PPh3) 2、Pd(PPh3) 4、PdCl2
(P(O-toryl) 3) 2、PdCl2+2P(OEt) 3及びPdCl2(PhCN)
2、(但し、Phはフェニル基、Etはエチル基を示す)な
どが挙げられる。化合物(3)の有機スズ化合物の使用
量は、化合物(1)に対して、等モル以上、好ましく
は、1.0〜2.0倍モルである。このカップリング反応は、
通常、不活性気体(例えば、アルゴン、窒素)雰囲気
下、50〜170℃で、1分〜24時間実施すればよい。
としては、例えば、PdCl2(PPh3) 2、Pd(PPh3) 4、PdCl2
(P(O-toryl) 3) 2、PdCl2+2P(OEt) 3及びPdCl2(PhCN)
2、(但し、Phはフェニル基、Etはエチル基を示す)な
どが挙げられる。化合物(3)の有機スズ化合物の使用
量は、化合物(1)に対して、等モル以上、好ましく
は、1.0〜2.0倍モルである。このカップリング反応は、
通常、不活性気体(例えば、アルゴン、窒素)雰囲気
下、50〜170℃で、1分〜24時間実施すればよい。
【0022】別法として、塩基の存在下又は不存在下、
前述と同様のパラジウム錯体触媒を用いて、化合物
(1)と化合物(3)の有機ホウ素化合物をカップリング
反応に付すことによっても得ることができる。この反応
で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
ものであれば特に限定されないが、例えば、水;メタノ
ール、エタノール及びプロパノールなどのアルコール
類;ベンゼン、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化
水素類;塩化メチレン、クロロホルム及びジクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類;ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル及びジメチルセロソルブなどのエーテル類;
酢酸エチル及び酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン
及びメチルエチルケトンなどのケトン類;アセトニトリ
ルなどのニトリル類;N,N-ジメチルホルムアミド及びN,
N-ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、
また、これらの溶媒を一種又は二種類以上混合して使用
してもよい。
前述と同様のパラジウム錯体触媒を用いて、化合物
(1)と化合物(3)の有機ホウ素化合物をカップリング
反応に付すことによっても得ることができる。この反応
で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
ものであれば特に限定されないが、例えば、水;メタノ
ール、エタノール及びプロパノールなどのアルコール
類;ベンゼン、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化
水素類;塩化メチレン、クロロホルム及びジクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類;ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル及びジメチルセロソルブなどのエーテル類;
酢酸エチル及び酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン
及びメチルエチルケトンなどのケトン類;アセトニトリ
ルなどのニトリル類;N,N-ジメチルホルムアミド及びN,
N-ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、
また、これらの溶媒を一種又は二種類以上混合して使用
してもよい。
【0023】この反応で用いられる塩基としては、例え
ば、炭酸水素ナトリウムや、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミンなどが挙げられる。化合物
(3)の有機ホウ素化合物の使用量は、化合物(1)に対
し、等モル以上、好ましいは、1.0〜1.5倍モルである。
このカップリング反応は、通常、不活性気体(例えば、
アルゴン、窒素)雰囲気下、50〜170℃で、1分〜24時間
実施すればよい。
ば、炭酸水素ナトリウムや、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、トリエチルアミンなどが挙げられる。化合物
(3)の有機ホウ素化合物の使用量は、化合物(1)に対
し、等モル以上、好ましいは、1.0〜1.5倍モルである。
このカップリング反応は、通常、不活性気体(例えば、
アルゴン、窒素)雰囲気下、50〜170℃で、1分〜24時間
実施すればよい。
【0024】本発明の化合物は、単独で、あるいは2又
はそれ以上の異なった化合物の混合物としても使用可能
である。本発明の化合物は、グラム陽性菌、グラム陰性
菌、嫌気性菌、抗酸菌等によってひきおこされる人間や
動物の局所性感染症、又は全身性感染症を治療するのに
有用な抗菌剤である。本発明の化合物は、単独で、もし
くは医薬上許容される補助剤、希釈剤、結合剤等ととも
に、例えば、錠剤や、糖衣錠、カプセル剤、注射剤、ク
リーム、軟膏剤、液剤、パウダー剤等のような一般的な
医薬組成物の形で使用することができる。このような各
種の医薬組成物の形態を調製するのに有用な添加物とし
ては、以下のものが好適に挙げられる。
はそれ以上の異なった化合物の混合物としても使用可能
である。本発明の化合物は、グラム陽性菌、グラム陰性
菌、嫌気性菌、抗酸菌等によってひきおこされる人間や
動物の局所性感染症、又は全身性感染症を治療するのに
有用な抗菌剤である。本発明の化合物は、単独で、もし
くは医薬上許容される補助剤、希釈剤、結合剤等ととも
に、例えば、錠剤や、糖衣錠、カプセル剤、注射剤、ク
リーム、軟膏剤、液剤、パウダー剤等のような一般的な
医薬組成物の形で使用することができる。このような各
種の医薬組成物の形態を調製するのに有用な添加物とし
ては、以下のものが好適に挙げられる。
【0025】経口剤及び坐剤にあっては、賦形剤(例え
ば、乳糖、D-マンニトール、トウモロコシデンプン、結
晶セルロース等)、崩壊剤(例えば、カルボキシメチル
セルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム
等)、結合剤(例えば、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドン等)、滑沢剤(例えば、ステアリン酸マグネ
シウム、タルク等)、コーティング剤(例えば、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、白糖、酸化チタン
等)、可塑剤(例えば、ポリエチレングリコール等)、
基剤(例えば、ポリエチレングリコール、ハードファッ
ト等)等の製剤用成分が、注射剤あるいは点眼、点耳剤
にあっては水性あるいは用時溶解型剤型を構成しうる溶
解剤ないし溶解補助剤(例えば、注射用蒸留水、生理食
塩水、プロピレングリコール等)、pH調節剤(例えば、
無機又は有機の酸あるいは塩基)、等張化剤(例えば、
食塩、ブドウ糖、グリセリン等)、安定化剤等の製剤成
分が、又、眼軟膏剤、外皮用剤にあっては、軟膏剤、ク
リーム剤、貼付剤として適切な製剤成分(例えば、白色
ワセリン、マクロゴール、グリセリン、流動パラフィ
ン、綿布等)が使用される。
ば、乳糖、D-マンニトール、トウモロコシデンプン、結
晶セルロース等)、崩壊剤(例えば、カルボキシメチル
セルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム
等)、結合剤(例えば、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドン等)、滑沢剤(例えば、ステアリン酸マグネ
シウム、タルク等)、コーティング剤(例えば、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、白糖、酸化チタン
等)、可塑剤(例えば、ポリエチレングリコール等)、
基剤(例えば、ポリエチレングリコール、ハードファッ
ト等)等の製剤用成分が、注射剤あるいは点眼、点耳剤
にあっては水性あるいは用時溶解型剤型を構成しうる溶
解剤ないし溶解補助剤(例えば、注射用蒸留水、生理食
塩水、プロピレングリコール等)、pH調節剤(例えば、
無機又は有機の酸あるいは塩基)、等張化剤(例えば、
食塩、ブドウ糖、グリセリン等)、安定化剤等の製剤成
分が、又、眼軟膏剤、外皮用剤にあっては、軟膏剤、ク
リーム剤、貼付剤として適切な製剤成分(例えば、白色
ワセリン、マクロゴール、グリセリン、流動パラフィ
ン、綿布等)が使用される。
【0026】本発明の化合物は、医薬組成物中に、例え
ば、0.1〜99.5重量%、好ましくは、0.5〜95重量%の量
で使用されるのが適当である。本発明の化合物は、症状
や、年齢、体重等によって異なるが、全身的投与の場合
には、通常成人1日当たり、体重1kgにつき、0.05〜10
0mg、好ましくは、0.1〜50mgの量で投与することがで
き、局所的治療における有効成分の濃度は、例えば、0.
01〜5%、好ましくは、0.1〜3%が最適である。
ば、0.1〜99.5重量%、好ましくは、0.5〜95重量%の量
で使用されるのが適当である。本発明の化合物は、症状
や、年齢、体重等によって異なるが、全身的投与の場合
には、通常成人1日当たり、体重1kgにつき、0.05〜10
0mg、好ましくは、0.1〜50mgの量で投与することがで
き、局所的治療における有効成分の濃度は、例えば、0.
01〜5%、好ましくは、0.1〜3%が最適である。
【0027】
【実施例】次に、本発明について、実施例により更に具
体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に
よって何ら限定されるものではない。なお、化合物の番
号は、反応図式中で使用した番号に対応する。実施例1 10-ブロモ-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド
[1,2,3-d,e] [1,3,4]ベンズオキサジアジン-6-カルボン
酸エチル103.4mgをトルエン1mlに懸濁し、これにエタノ
ール0.5ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.5ml、4-アミノ
メチルフェニルボロン酸塩酸塩60.4mg及びビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド10mgを加
えた後、アルゴン雰囲気下で、4.5時間加熱還流した。
反応液に1N塩酸を加え酸性化し、酢酸エチルを加え分液
する。水層を分取し、酢酸エチルにて洗浄後、水を減圧
下留去した。得られた残渣は10-(4-アミノメチルフェニ
ル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3
-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボン酸エ
チルの粗品で、それを精製せずにメタノール2ml、1N水
酸化ナトリウム1mlを加え、50℃で1時間撹拌した。反応
液を減圧濃縮後、残渣を水10mlに溶かし、1N塩酸にて中
和した。析出した結晶を濾取し、10-(4-アミノメチルフ
ェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド
[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボ
ン酸24.1mgを得た。1 H-NMR(CF3COOD)δ:3.52(3H, s), 4.68(2H, s), 5.52
(2H, brs), 7.44(1H, brs), 7.84(2H, d, J=7.8Hz), 8.
01(2H, d, J=7.8Hz), 8.28(1H, d, J=8.8Hz), 8.62(1
H, d, J=8.8Hz), 9.53(1H, s) FAB-MS m/z :352(M+H)+
体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に
よって何ら限定されるものではない。なお、化合物の番
号は、反応図式中で使用した番号に対応する。実施例1 10-ブロモ-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド
[1,2,3-d,e] [1,3,4]ベンズオキサジアジン-6-カルボン
酸エチル103.4mgをトルエン1mlに懸濁し、これにエタノ
ール0.5ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.5ml、4-アミノ
メチルフェニルボロン酸塩酸塩60.4mg及びビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド10mgを加
えた後、アルゴン雰囲気下で、4.5時間加熱還流した。
反応液に1N塩酸を加え酸性化し、酢酸エチルを加え分液
する。水層を分取し、酢酸エチルにて洗浄後、水を減圧
下留去した。得られた残渣は10-(4-アミノメチルフェニ
ル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3
-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボン酸エ
チルの粗品で、それを精製せずにメタノール2ml、1N水
酸化ナトリウム1mlを加え、50℃で1時間撹拌した。反応
液を減圧濃縮後、残渣を水10mlに溶かし、1N塩酸にて中
和した。析出した結晶を濾取し、10-(4-アミノメチルフ
ェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド
[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボ
ン酸24.1mgを得た。1 H-NMR(CF3COOD)δ:3.52(3H, s), 4.68(2H, s), 5.52
(2H, brs), 7.44(1H, brs), 7.84(2H, d, J=7.8Hz), 8.
01(2H, d, J=7.8Hz), 8.28(1H, d, J=8.8Hz), 8.62(1
H, d, J=8.8Hz), 9.53(1H, s) FAB-MS m/z :352(M+H)+
【0028】実施例2
10-ブロモ-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド
[1,2,3-d,e] [1,3,4]ベンズオキサジアジン-6-カルボン
酸エチル92.1mgをトルエン1mlに懸濁し、これにエタノ
ール0.5ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.5ml、4-(4,4,5,
5-テトラメチル-[1,3,2]ジオキサボロラン-2-イル)アニ
リン68.6mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(II)クロリド9mgを加えた後、アルゴン雰囲気下
で、3時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、
有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢
酸エチル=4:1)で精製し、10-(4-アミノフェニル)-2,
3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e]
[1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボン酸エチル40m
gを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ:1.40(3H, t, J=7.3Hz), 3.03(3H,
s), 4.38(2H, q, J=7.3Hz), 5.03(2H, s), 6.76(2H, d,
J=8.8Hz), 7.40-7.45(3H, m), 8.06(1H, d, J=8.3Hz),
8.45(1H, s)
[1,2,3-d,e] [1,3,4]ベンズオキサジアジン-6-カルボン
酸エチル92.1mgをトルエン1mlに懸濁し、これにエタノ
ール0.5ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.5ml、4-(4,4,5,
5-テトラメチル-[1,3,2]ジオキサボロラン-2-イル)アニ
リン68.6mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(II)クロリド9mgを加えた後、アルゴン雰囲気下
で、3時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、
有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢
酸エチル=4:1)で精製し、10-(4-アミノフェニル)-2,
3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e]
[1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボン酸エチル40m
gを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ:1.40(3H, t, J=7.3Hz), 3.03(3H,
s), 4.38(2H, q, J=7.3Hz), 5.03(2H, s), 6.76(2H, d,
J=8.8Hz), 7.40-7.45(3H, m), 8.06(1H, d, J=8.3Hz),
8.45(1H, s)
【0029】実施例3
10-(4-アミノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸エチル40mgにメタノール0.5ml、1N水酸
化ナトリウム0.5mlを加え、50℃で3時間撹拌した。反応
液を減圧濃縮後、水10mlに溶かし、不溶物を濾去し、濾
液を1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取し10-(4-ア
ミノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピ
リド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カ
ルボン酸29.3mgを得た。1H-NMR(CF3COOD) δ:3.49(3H,
s), 5.49(2H, brs), 7.86(2H, d, J=8.5Hz), 8.07(2
H, d, J=8.5Hz), 8.23(1H, d, J=8.5Hz), 8.60(1H, d,
J=8.5Hz), 9.50(1H, s) FAB-MS m/z :338(M+H)+
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸エチル40mgにメタノール0.5ml、1N水酸
化ナトリウム0.5mlを加え、50℃で3時間撹拌した。反応
液を減圧濃縮後、水10mlに溶かし、不溶物を濾去し、濾
液を1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取し10-(4-ア
ミノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピ
リド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カ
ルボン酸29.3mgを得た。1H-NMR(CF3COOD) δ:3.49(3H,
s), 5.49(2H, brs), 7.86(2H, d, J=8.5Hz), 8.07(2
H, d, J=8.5Hz), 8.23(1H, d, J=8.5Hz), 8.60(1H, d,
J=8.5Hz), 9.50(1H, s) FAB-MS m/z :338(M+H)+
【0030】実施例2と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例4 2,3-ジヒドロ-10-(6-メトキシピリジン-3-イル)-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3)δ:1.42(3H, t, J=7.3Hz), 3.06(3H,
s), 4.00(3H, s), 4.40(2H, q, J=7.3Hz), 5.07(2H,
s), 6.86(1H, d, J=8.5Hz), 7.41(1H, d, J=8.5Hz),7.8
6(1H, dd, J=8.5Hz, J=2.4Hz), 8.12(1H, d, J=8.5Hz),
8.46(1H, d, J=2.4Hz), 8.49(1H,s)
を合成した。実施例4 2,3-ジヒドロ-10-(6-メトキシピリジン-3-イル)-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3)δ:1.42(3H, t, J=7.3Hz), 3.06(3H,
s), 4.00(3H, s), 4.40(2H, q, J=7.3Hz), 5.07(2H,
s), 6.86(1H, d, J=8.5Hz), 7.41(1H, d, J=8.5Hz),7.8
6(1H, dd, J=8.5Hz, J=2.4Hz), 8.12(1H, d, J=8.5Hz),
8.46(1H, d, J=2.4Hz), 8.49(1H,s)
【0031】実施例3と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例5 2,3-ジヒドロ-10-(6-メトキシピリジン-3-イル)-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.59(3H, s), 4.63(3H, s), 5.
68(2H, s), 7.93(1H, d,J=9.3Hz), 8.35(1H, d, J=8.5H
z), 8.73(1H, d, J=8.5Hz), 9.12(1H, s), 9.13(1H, d,
J=9.3Hz), 9.63(1H, s) FAB-MS m/z :354(M+H)+
を合成した。実施例5 2,3-ジヒドロ-10-(6-メトキシピリジン-3-イル)-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.59(3H, s), 4.63(3H, s), 5.
68(2H, s), 7.93(1H, d,J=9.3Hz), 8.35(1H, d, J=8.5H
z), 8.73(1H, d, J=8.5Hz), 9.12(1H, s), 9.13(1H, d,
J=9.3Hz), 9.63(1H, s) FAB-MS m/z :354(M+H)+
【0032】実施例2と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例6 2,3-ジヒドロ-10-[4-(ヒドロキシメチル)フェニル]-3-
メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベン
ズオキサジアジン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3)δ:1.43(3H, t, J=7.1Hz), 1.84(1H,
m), 3.07(3H, s), 4.41(2H, q, J=7.1Hz), 4.79(2H,
d, J=3.7Hz), 5.06(2H, s), 7.43-7.63(5H, m), 8.11(1
H, d, J=8.3Hz), 8.49(1H,s)
を合成した。実施例6 2,3-ジヒドロ-10-[4-(ヒドロキシメチル)フェニル]-3-
メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベン
ズオキサジアジン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3)δ:1.43(3H, t, J=7.1Hz), 1.84(1H,
m), 3.07(3H, s), 4.41(2H, q, J=7.1Hz), 4.79(2H,
d, J=3.7Hz), 5.06(2H, s), 7.43-7.63(5H, m), 8.11(1
H, d, J=8.3Hz), 8.49(1H,s)
【0033】実施例3と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例7 2,3-ジヒドロ-10-[4-(ヒドロキシメチル)フェニル]-3-
メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベン
ズオキサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD)δ:3.65(3H, s), 5.28(2H, s), 5.65
(2H, brs), 7.90-7.95(2H, m), 8.07-8.12(2H, m), 8.4
3-8.47(1H, m), 8.73-8.76(1H, m), 8.65-9.66(1H, m) FAB-MS m/z :353(M+H)+
を合成した。実施例7 2,3-ジヒドロ-10-[4-(ヒドロキシメチル)フェニル]-3-
メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベン
ズオキサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD)δ:3.65(3H, s), 5.28(2H, s), 5.65
(2H, brs), 7.90-7.95(2H, m), 8.07-8.12(2H, m), 8.4
3-8.47(1H, m), 8.73-8.76(1H, m), 8.65-9.66(1H, m) FAB-MS m/z :353(M+H)+
【0034】実施例1と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例8 10-(4-シアノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD)δ:3.57(3H, s), 5.58(2H, brs), 8.
07-8.37(5H, m), 8.68(1H, d, J=8.8Hz), 9.60(1H, s) FAB-MS m/z :348(M+H)+
を合成した。実施例8 10-(4-シアノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD)δ:3.57(3H, s), 5.58(2H, brs), 8.
07-8.37(5H, m), 8.68(1H, d, J=8.8Hz), 9.60(1H, s) FAB-MS m/z :348(M+H)+
【0035】実施例9
2,3-ジヒドロ-10-[4-(ヒドロキシメチル)フェニル]- 3-
メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベン
ズオキサジアジン-6-カルボン酸エチル123mgをジクロロ
メタン4mlに溶解し、これに四臭化炭素155mgを加え、0
℃に冷却し、トリフェニルホスフィン145mgを加えた
後、1時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製して、10-[4-(ブ
ロモメチル)フェニル] -2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸エチル46.1mgを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ:1.42(3H, t, J=7.1Hz), 3.06(3H,
s), 4.40(2H, q, J=7.1Hz), 4.56(2H, s), 5.07(2H,
s), 7.42-7.59(5H, m), 8.11(1H, d, J=7.3Hz), 8.49(1
H, s)
メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベン
ズオキサジアジン-6-カルボン酸エチル123mgをジクロロ
メタン4mlに溶解し、これに四臭化炭素155mgを加え、0
℃に冷却し、トリフェニルホスフィン145mgを加えた
後、1時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;
ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製して、10-[4-(ブ
ロモメチル)フェニル] -2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸エチル46.1mgを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ:1.42(3H, t, J=7.1Hz), 3.06(3H,
s), 4.40(2H, q, J=7.1Hz), 4.56(2H, s), 5.07(2H,
s), 7.42-7.59(5H, m), 8.11(1H, d, J=7.3Hz), 8.49(1
H, s)
【0036】実施例10
10-[4-(ブロモメチル)フェニル]-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸エチル46.1 mgをテトラヒド
ロフラン2mlに溶解し、これに2.0M メチルアミンのテト
ラヒドロフラン溶液0.1mlを加え10時間攪拌した。反応
液を減圧下濃縮し、得られた残渣を1N塩酸に溶解し、酢
酸エチルで洗浄した。水層を減圧濃縮した後、残渣をメ
タノール2mlに溶解し、これに1N水酸化ナトリウム水溶
液1mlを加え50℃で1時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加
えて酸性にし、析出する結晶を得て、2,3-ジヒドロ-3-
メチル-10- [4-(メチルアミノメチル)フェニル]-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸8.1mgを得た。1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.36(3H, s), 3.66(3H, s), 4.78
(2H, s), 5.66(2H, s),7.99(2H, d, J=6.9Hz), 8.17(2
H, d, J=6.9Hz), 8.42(1H, d, J=8.5Hz), 8.76(1H, d,
J=8.5Hz), 9.67(1H, s)
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸エチル46.1 mgをテトラヒド
ロフラン2mlに溶解し、これに2.0M メチルアミンのテト
ラヒドロフラン溶液0.1mlを加え10時間攪拌した。反応
液を減圧下濃縮し、得られた残渣を1N塩酸に溶解し、酢
酸エチルで洗浄した。水層を減圧濃縮した後、残渣をメ
タノール2mlに溶解し、これに1N水酸化ナトリウム水溶
液1mlを加え50℃で1時間攪拌した。反応液に1N塩酸を加
えて酸性にし、析出する結晶を得て、2,3-ジヒドロ-3-
メチル-10- [4-(メチルアミノメチル)フェニル]-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸8.1mgを得た。1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.36(3H, s), 3.66(3H, s), 4.78
(2H, s), 5.66(2H, s),7.99(2H, d, J=6.9Hz), 8.17(2
H, d, J=6.9Hz), 8.42(1H, d, J=8.5Hz), 8.76(1H, d,
J=8.5Hz), 9.67(1H, s)
【0037】実施例1と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例11 10-[4-(2-アミノ-2-カルボキシエチル)フェニル]-2,3-
ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e]
[1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.70(3H, s), 3.81(1H, dd, J=9.
3,14.9Hz), 4.12(1H, dd, J=4.4,14.9Hz), 5.13(1H, d
d, J=4.4,9.3Hz), 5.70(2H, s), 7.91(2H, d, J=8.3H
z), 8.17(2H, d, J=8.3Hz), 8.47(1H, d, J=8.8Hz), 8.
79(1H, d, J=8.8Hz),9.69(1H, s)
を合成した。実施例11 10-[4-(2-アミノ-2-カルボキシエチル)フェニル]-2,3-
ジヒドロ-3-メチル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e]
[1,3,4] ベンズオキサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.70(3H, s), 3.81(1H, dd, J=9.
3,14.9Hz), 4.12(1H, dd, J=4.4,14.9Hz), 5.13(1H, d
d, J=4.4,9.3Hz), 5.70(2H, s), 7.91(2H, d, J=8.3H
z), 8.17(2H, d, J=8.3Hz), 8.47(1H, d, J=8.8Hz), 8.
79(1H, d, J=8.8Hz),9.69(1H, s)
【0038】実施例2と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例12 10-(3-アミノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3) δ:1.42(3H, t, J=7.3Hz), 3.05(3H,
s), 4.40(2H, q, J=7.3Hz), 5.05(2H, s), 6.72-6.75(1
H, m), 6.91-6.92(1H, m), 6.97-6.99(1H, m), 7.23-7.
27(1H, m), 7.41(1H, d, J=8.5Hz), 8.07(1H, d, J=8.5
Hz), 8.48(1H, s)
を合成した。実施例12 10-(3-アミノフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オキ
ソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジアジ
ン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3) δ:1.42(3H, t, J=7.3Hz), 3.05(3H,
s), 4.40(2H, q, J=7.3Hz), 5.05(2H, s), 6.72-6.75(1
H, m), 6.91-6.92(1H, m), 6.97-6.99(1H, m), 7.23-7.
27(1H, m), 7.41(1H, d, J=8.5Hz), 8.07(1H, d, J=8.5
Hz), 8.48(1H, s)
【0039】実施例3と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例13 10-(3-アミノフェニル)- 2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オ
キソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジア
ジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.69(3H, s), 5.71(2H, s), 8.02
(1H, d, J=7.8Hz), 8.10-8.14(1H, m), 8.25(1H, d, J=
7.8Hz), 8.33(1H, s), 8.43(1H, d, J=8.8Hz), 8.80(1
H, d, J=8.8Hz), 9.71(1H, s)
を合成した。実施例13 10-(3-アミノフェニル)- 2,3-ジヒドロ-3-メチル-7-オ
キソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオキサジア
ジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:3.69(3H, s), 5.71(2H, s), 8.02
(1H, d, J=7.8Hz), 8.10-8.14(1H, m), 8.25(1H, d, J=
7.8Hz), 8.33(1H, s), 8.43(1H, d, J=8.8Hz), 8.80(1
H, d, J=8.8Hz), 9.71(1H, s)
【0040】実施例2と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例14 10-(3-アミノ-4-メチルフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3) δ:1.41(3H, t, J=7.1Hz), 2.22(3H,
s), 3.04(3H, s), 3.75(2H, brs), 4.39(2H, q, J=7.1H
z), 5.05(2H, s), 6.92-6.95(2H, m), 7.14(1H, d, J=
7.8Hz), 7.39(1H, d, J=8.3Hz), 8.05(1H, d, J=8.3H
z), 8.45(1H, s)
を合成した。実施例14 10-(3-アミノ-4-メチルフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸エチル1 H-NMR(CDCl3) δ:1.41(3H, t, J=7.1Hz), 2.22(3H,
s), 3.04(3H, s), 3.75(2H, brs), 4.39(2H, q, J=7.1H
z), 5.05(2H, s), 6.92-6.95(2H, m), 7.14(1H, d, J=
7.8Hz), 7.39(1H, d, J=8.3Hz), 8.05(1H, d, J=8.3H
z), 8.45(1H, s)
【0041】実施例3と同様の方法により以下の化合物
を合成した。実施例15 10-(3-アミノ-4-メチルフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:2.92(3H, s), 3.67(3H, s), 5.68
(2H, brs), 7.95(1H, d,J=8.1Hz), 8.14(1H, d, J=8.1H
z), 8.28(1H, s), 8.41(1H, d, J=8.8Hz), 8.76(1H, d,
J=8.8Hz), 9.67(1H, s)
を合成した。実施例15 10-(3-アミノ-4-メチルフェニル)-2,3-ジヒドロ-3-メチ
ル-7-オキソ-7H-ピリド[1,2,3-d,e] [1,3,4] ベンズオ
キサジアジン-6-カルボン酸1 H-NMR(CF3COOD) δ:2.92(3H, s), 3.67(3H, s), 5.68
(2H, brs), 7.95(1H, d,J=8.1Hz), 8.14(1H, d, J=8.1H
z), 8.28(1H, s), 8.41(1H, d, J=8.8Hz), 8.76(1H, d,
J=8.8Hz), 9.67(1H, s)
【0042】次に処方例を示すが、本発明はこれらのみ
に限定されるものではない。処方例1 各々が、次の成分を含有する錠剤を常法により作った。 実施例3の化合物 100mg コーンスターチ 50mg カルボキシメチルセルロースカルシウム 25mg 結晶セルロース 20mg ステアリン酸マグネシウム 5mg 計 200mg 本発明により提供される化合物のインビトロの抗菌活性
はCHEMOTHERAPY Vol.29, 76-79,1981 記載の寒天平板
希釈法を用いる日本化学療法学会標準法及び嫌気性菌に
ついてはCHEMOTHERAPY Vol.27,559-590,1979記載の方法
により試験し、菌の発育が阻止された最小濃度をもって
MIC(μg/ml)とした。その結果を表1〜3に示す。なお、
レボフロキサシンを比較する抗菌剤とした。レボフロキ
サシンは、キノロン系の市販抗菌剤であり、広く処方さ
れている。レボフロキサシンの構造式を以下に示す。
に限定されるものではない。処方例1 各々が、次の成分を含有する錠剤を常法により作った。 実施例3の化合物 100mg コーンスターチ 50mg カルボキシメチルセルロースカルシウム 25mg 結晶セルロース 20mg ステアリン酸マグネシウム 5mg 計 200mg 本発明により提供される化合物のインビトロの抗菌活性
はCHEMOTHERAPY Vol.29, 76-79,1981 記載の寒天平板
希釈法を用いる日本化学療法学会標準法及び嫌気性菌に
ついてはCHEMOTHERAPY Vol.27,559-590,1979記載の方法
により試験し、菌の発育が阻止された最小濃度をもって
MIC(μg/ml)とした。その結果を表1〜3に示す。なお、
レボフロキサシンを比較する抗菌剤とした。レボフロキ
サシンは、キノロン系の市販抗菌剤であり、広く処方さ
れている。レボフロキサシンの構造式を以下に示す。
【0043】
【化5】
【0044】
【表1】
【0045】
【発明の効果】上記表1に示された結果から分るよう
に、本発明によれば、新規な構造を有する強い抗菌活性
を有するキノロン系抗菌剤が提供される。
に、本発明によれば、新規な構造を有する強い抗菌活性
を有するキノロン系抗菌剤が提供される。
【図1】反応図式1を示す。
【図2】反応図式2を示す。
フロントページの続き
(72)発明者 ツー ツォン
千葉県千葉市美浜区高洲3−15−6−803
(72)発明者 木村 博明
東京都荒川区西尾久2−13−27
(72)発明者 長沢 考
東京都葛飾区東新小岩1−5−15−201
(72)発明者 柳原 智
神奈川県川崎市宮前区有馬4−3−16−
410
(72)発明者 廣澤 知里
東京都大田区久が原6−6−6
(72)発明者 石塚 誠治
東京都八王子市台町4−39−4−604
Fターム(参考) 4C072 AA01 AA06 BB02 BB06 CC02
CC11 EE05 FF07 GG09 HH02
HH08
4C086 AA01 AA02 AA03 CB22 MA01
MA04 NA14 ZB35
Claims (2)
- 【請求項1】 次式(I): 【化1】 (I)(式中、R1は、水素原子又はカルボキシル保護基を
示し、R2は、水素原子又はハロゲン原子を示し、 R3は、ピリジニル又はフェニル基から選ばれる、6員
環の芳香族置換基を示し、かつ水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ
基、アシル基、カルバモイル基、ウレイド基、ハロゲン
原子、ヒドロキシル基及びカルボキシル基から成る群よ
り選ばれる置換基を含有する。)で表される化合物又は
その塩。 - 【請求項2】 請求項1に記載の化合物又はその薬理学
的に許容し得る塩を有効成分として含有することを特徴
とする抗菌剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001299089A JP2003104988A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 抗菌剤として有用なキノロン誘導体 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001299089A JP2003104988A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 抗菌剤として有用なキノロン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003104988A true JP2003104988A (ja) | 2003-04-09 |
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ID=19119894
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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2001
- 2001-09-28 JP JP2001299089A patent/JP2003104988A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014525420A (ja) * | 2011-08-31 | 2014-09-29 | 大塚製薬株式会社 | キノロン化合物 |
JP2018150324A (ja) * | 2011-08-31 | 2018-09-27 | 大塚製薬株式会社 | キノロン化合物 |
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