JP2003084412A

JP2003084412A - 感光材料処理装置

Info

Publication number: JP2003084412A
Application number: JP2001279208A
Authority: JP
Inventors: Tomoyoshi Hyodo; 知義兵藤
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-09-14
Filing date: 2001-09-14
Publication date: 2003-03-19
Anticipated expiration: 2021-09-14
Also published as: US20030053808A1; JP4359410B2; US6652168B2

Abstract

(57)【要約】【課題】構造が簡単で、処理液の逆流の生じない迅速
処理の可能な感光材料処理装置を提供すること。【解決手段】水洗槽２６には区画部材５２が挿入され
ており、夫々独立した第１処理室９０、第２処理室９
２、第３処理室９４等が形成されている。ペーパーの処
理がある程度進むと、第１処理室９０の水洗水は、漂白
定着槽から持ち込まれた漂白定着液により劣化し、漂白
定着液の成分によって比重が大きくなり、比重の大きい
第１処理室９０の劣化した水洗水が比重の小さい水洗水
の入った下方の第２処理室９２に流れ込もうとするが、
隔壁面に水洗水よりも比重の大きな弁体１０２が水洗水
に沈んで貫通孔１００を閉塞しているため、第２処理室
９２の水洗水の劣化を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料を処理槽
の処理液に浸漬して処理する感光材料処理装置に係り、
特に、処理のため連続した処理室に補充液を安定に逐次
オーバーフローさせ、安定した処理性能を維持可能で、
かつ感光材料を迅速に処理可能な感光材料処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、感光材料、例えば、カラーペー
パーは、露光後、発色現像、漂白定着、水洗等の工程で
処理される。

【０００３】発色現像には発色現像液、漂白定着には漂
白定着液、水洗には水道水、イオン交換水等が使用され
る。

【０００４】このような処理は、通常、自動現像機等の
感光材料処理装置によって行われている。

【０００５】自動現像機は、通常、発色現像槽、漂白定
着槽、複数（４槽前後）の水洗槽等を備えており、次槽
に搬送する際に、感光材料を一旦処理槽から出し、空中
を搬送してから次槽へ搬送する、所謂クロスオーバータ
イプのものが一般的であった。

【０００６】近年、市場では、感光材料の迅速な処理が
望まれており、感光材料を空中で搬送することなく、複
数の処理槽を順次搬送するタイプの感光材料処理装置が
提案されている。

【０００７】複数の処理槽を順次搬送するタイプの感光
材料処理装置として、例えば、特開平９−０１５８１２
号公報に提案されている感光材料処理装置があり、公報
の図４には、複数の水洗槽を縦横に配置し、これら複数
の水洗槽に感光材料を順次通過させるタイプの感光材料
処理装置が示されている。

【０００８】感光材料の搬送方向に隣接する各槽間の隔
壁には、弾性体からなるブレードの取り付けられたスリ
ット状の通路が設けられており、感光材料はブレードを
弾性変形させて下流側の水洗槽へ搬送され、感光材料が
通過した後は、ブレードがスリット状の通路を閉鎖する
ように構成されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
９−０１５８１２号公報に開示の感光材料処理装置で
は、最上部の水洗槽以外は、外気に触れる開口部が無
く、自由水面が無いため、オーバーフローによる既存の
水洗槽のように感光材料の処理の流れと逆に水洗水を向
流に流す、所謂カスケードができないため、各水洗槽へ
水洗水を順次送液するポンプを複数設ける必要があり、
構造が複雑化し、コスト高となっている。

【００１０】一方、ＵＳ特許６０７１０２０号には、処
理槽間にバイパスを設けることで、ポンプの数を少なく
できる感光材料処理装置が開示されている。

【００１１】しかしながら、処理感材によって持ちこま
れる付着液（定着液等）により上流側の第１室目の水洗
槽の水洗液が最も汚れて液の比重が大きい。

【００１２】このため、ＵＳ特許６０７１０２０号に開
示されているような常に液が連続するようなバイパスで
は、連続的に感光材料を処理しているときは目的を達成
するが、感材処理が停止すると、水洗液の比重差によっ
て好ましくない逆流が生じることが判明した。

【００１３】本発明は、上記事実を考慮し、構造が簡単
で、処理液の逆流の生じない迅速処理の可能な感光材料
処理装置を提供することが目的である。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の感光材
料処理装置は、通路により順次連結され、少なくとも２
個以上が上下に配置された複数の処理室と、前記通路に
設けられ、前記感光材料の非通過時には前記処理室の処
理液の通過を遮断し、前記感光材料の通過時には弾性変
形して前記感光材料の通過を許容するブレードと、前記
感光材料の処理量に応じて感光材料搬送方向下流側の処
理室に処理液を補充する補充装置と、前記複数の処理室
に前記感光材料を順次通過させる搬送装置と、感光材料
搬送方向下流側の前記処理室と、感光材料搬送方向上流
側の前記処理室とを連通し、前記処理液が通過可能とさ
れたバイパス通路と、前記バイパス通路に設けられ、感
光材料搬送方向下流側の前記処理室の処理液が感光材料
搬送方向上流側の前記処理室へ向けて流れる前記処理液
の流れを阻止せず、感光材料搬送方向上流側の前記処理
室の処理液が感光材料搬送方向下流側の前記処理室へ向
けて流れる前記処理液の流れを阻止する逆止弁と、を備
え、前記逆止弁を構成する弁体は、前記処理液との比重
差によって生じる力によって弁座に付勢されている、こ
とを特徴としている。

【００１５】次に、請求項１に記載の感光材料処理装置
の作用を説明する。

【００１６】請求項１に記載の感光材料処理装置では、
感光材料は、搬送装置により複数の処理室を順次搬送さ
れ、各処理室内の処理液にて搬送されながら処理され
る。

【００１７】感光材料は次の処理室に移動する際、先端
部分がブレードに当接して弾性変形させ、これにより感
光材料は幅狭通路を通過して次の処理室へ侵入すること
ができる。

【００１８】ここで、感光材料は、ブレードにしごかれ
ながら（摺動しながら）搬送されるので、感光材料に付
着した下流側の処理液が、上流側の処理室へ持ち込まれ
ることが防止される。

【００１９】なお、感光材料の非通過時は、ブレードが
処理液の通過を遮断する。

【００２０】また、補充装置は、感光材料の処理量（即
ち、処理液の劣化）に応じて感光材料搬送方向下流側の
処理室に処理液を補充する。

【００２１】感光材料搬送方向下流側の処理室に処理液
を補充することにより、処理液は、バイパス通路を介し
て感光材料搬送方向上流側の処理室に順次補充される。

【００２２】なお、弁体は、処理液との比重差によって
生じる力によって弁座へ付勢されているが、処理液を強
制的に補充することによって生じる圧力により弁体は弁
座から離れるので補充による処理液の流れは阻止されな
い。

【００２３】一方、処理液の補充が行われていない場合
においては、弁体は、処理液との比重差によって生じる
力によって弁座へ付勢されており、これによってバイパ
ス通路を閉鎖して処理液の逆流を阻止する。

【００２４】なお、感光材料に付着して持ち込まれた他
の処理液により、感光材料搬送方向上流側の上側の処理
室の処理液の比重が、感光材料搬送方向下流側の下側の
処理室の処理液の比重よりも大きくなる場合があるが、
この場合においても、弁体は、処理液との比重差がある
ので、その比重差によって生じる力によって弁座へ付勢
されてバイパス通路を閉鎖する。

【００２５】したがって、感光材料搬送方向上流側の比
重の大きな処理液、即ち、汚れた処理液が感光材料搬送
方向下流側の処理室へ流れ込むことが無い。

【００２６】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の感光材料処理装置において、前記処理液を補充した際
に、前記処理液が上向きに流れるバイパス通路に設けら
れる前記弁体の比重をＡ、このバイパス通路の感光材料
搬送方向上流側の前記処理室に貯留された前記処理液の
比重をＢとしたときに、Ａ／Ｂを１以上１．５未満に設
定したことを特徴とする請求項２に記載の感光材料処理
装置。

【００２７】次に、請求項２に記載の感光材料処理装置
の作用を説明する。

【００２８】請求項２に記載の感光材料処理装置では、
処理液を補充した際に処理液が上向きに流れるバイパス
通路においては、感光材料搬送方向上流側の処理室に貯
留された処理液が下向きに流れようとする。したがっ
て、弁体の比重を処理液の比重よりも大きく設定し、処
理液を補充していない場合においては、処理液に対して
弁体が沈む方向とし、弁体が沈む際に生まれる力（浮力
と逆方向の力）によってバイパス通路を閉塞する。

【００２９】なお、Ａ／Ｂを１以上１．５未満としたの
は、Ａ／Ｂを１以上１．５以上にすると、バイパス通路
を閉塞する力は大きくなるが、処理液を補充した際に大
きな圧力差を与えないと弁体が動かず、感光材料搬送方
向上流側の処理室へと処理液を補充できなくなるからで
ある。

【００３０】請求項３に記載の発明は、請求項１または
請求項２に記載の感光材料処理装置において、前記処理
液を補充した際に、前記処理液が下向きに流れるバイパ
ス通路に設けられる前記弁体の比重をＡ、このバイパス
通路の感光材料搬送方向上流側の前記処理室に貯留され
た前記処理液の比重をＢとしたときに、Ａ／Ｂを０．８
以上１未満に設定したことを特徴としている。

【００３１】次に、請求項３に記載の感光材料処理装置
の作用を説明する。

【００３２】請求項３に記載の感光材料処理装置では、
弁体の比重を処理液の比重よりも小さく設定し、処理液
を補充していない場合においては、処理液に対して弁体
が浮く方向とし、弁体が浮く際に生まれる力（浮力）に
よってバイパス通路を閉塞する。

【００３３】なお、Ａ／Ｂを０．８以上としたのは、Ａ
／Ｂが０．８未満になると、バイパス通路を閉塞する力
は大きくなるが、処理液を補充した際に大きな圧力差を
与えないと弁体が動かず、感光材料搬送方向上流側の処
理室へと処理液を補充できなくなるからである。

【００３４】請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請
求項３の何れか１項に記載の感光材料処理装置におい
て、前記弁体には、付近の前記処理液の流れによって前
記弁体を回転させる回転手段を有することを特徴として
いる。

【００３５】次に、請求項４に記載の感光材料処理装置
の作用を説明する。

【００３６】例えば、上側の処理室の処理液の比重が下
側の処理室の処理液の比重よりも大きくなって、上側の
処理室の処理液がバイパス通路を介して下側の処理室へ
流れようとするとき、弁体は、この処理液の流れを阻止
しなければならないが、比重差によって弁体を動かそう
とする力は小さいため、弁体がバイパス通路に接触して
引っ掛かり、動かない場合が考えられる。

【００３７】しかしながら、請求項４に記載の感光材料
処理装置では、付近の処理液の流れによって弁体に回転
力が生じて回転するため、弁体がバイパス通路に引っ掛
かってバイパス通路を閉塞できなくなる虞が無くなる。

【００３８】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請
求項４の何れか１項に記載の感光材料処理装置におい
て、前記バイパス通路は、感光材料搬送方向下流側の前
記処理室と、感光材料搬送方向上流側の前記処理室とを
区画する隔壁に形成された貫通孔である、ことを特徴と
している。

【００３９】次に、請求項５に記載の感光材料処理装置
の作用を説明する。

【００４０】バイパス通路を、感光材料搬送方向下流側
の処理室と、感光材料搬送方向上流側の処理室とを区画
する隔壁に形成された貫通孔としたので、配管等を処理
室の外側で引き回すことがなく、感光材料処理装置の部
品点数が増加せず、コストを抑えることが出来る。

【００４１】請求項６に記載の感光材料処理装置は、通
路により順次連結される複数の処理室と、前記通路に設
けられ、前記感光材料の非通過時には前記処理室の処理
液の通過を遮断し、前記感光材料の通過時には弾性変形
して前記感光材料の通過を許容するブレードと、前記感
光材料の処理量に応じて感光材料搬送方向下流側の処理
室に処理液を補充する補充装置と、前記複数の処理室
に、前記感光材料を順次通過させる搬送装置と、感光材
料搬送方向下流側の前記処理室と、感光材料搬送方向上
流側の前記処理室とを連通し、前記処理液が通過可能と
されたバイパス通路と、前記バイパス通路に設けられ、
感光材料搬送方向下流側の前記処理室の処理液が感光材
料搬送方向上流側の前記処理室へ向けて流れる前記処理
液の流れを阻止せず、感光材料搬送方向上流側の前記処
理室の処理液が感光材料搬送方向下流側の前記処理室へ
向けて流れる前記処理液の流れを阻止する逆止弁と、を
備え、前記複数の処理室は、前記感光材料が上方から下
方へ２以上の前記処理室を通過し、かつ下方へ搬送され
た前記感光材料が下方から上方へ２以上の前記処理室を
通過するように配置され、前記感光材料が上方から下方
へ搬送される処理室間に設けられる前記逆止弁において
は、弁座は弁体よりも下方に配置され、前記弁体は前記
処理液よりも比重が大きく、前記処理との比重差によっ
て生じる力によって前記弁座に付勢されており、前記感
光材料が下方から上方へ搬送される処理室間に設けられ
る前記逆止弁においては、弁座は弁体よりも上方に配置
され、前記弁体は前記処理液よりも比重が小さく、前記
処理液との比重差によって生じる力によって前記弁座に
付勢されていることを特徴としている。

【００４２】次に、請求項６に記載の感光材料処理装置
の作用を説明する。

【００４３】請求項６に記載の感光材料処理装置では、
感光材料は、搬送装置により複数の処理室を順次搬送さ
れ、各処理室内の処理液にて搬送されながら処理され
る。

【００４４】感光材料は次の処理室に移動する際、先端
部分がブレードに当接して弾性変形させ、これにより感
光材料は幅狭通路を通過して次の処理室へ侵入すること
ができる。

【００４５】ここで、感光材料は、ブレードにしごかれ
ながら（摺動しながら）搬送されるので、感光材料に付
着した下流側の処理液が、上流側の処理室へ持ち込まれ
ることが防止される。

【００４６】なお、感光材料の非通過時は、ブレードが
処理液の通過を遮断する。

【００４７】通常時、即ち、処理液の補充が行われてい
ない場合においては、感光材料が上方から下方へ搬送さ
れる処理室間に設けられる逆止弁においては、弁体は処
理液よりも比重が大きいので、処理との比重差によって
生じる力によって下側の弁座に付勢されてバイパス通路
を閉鎖している。

【００４８】一方、感光材料が下方から上方へ搬送され
る処理室間に設けられる逆止弁においては、弁体は処理
液よりも比重が小さいので、処理液との比重差によって
生じる力によって上方の弁座に付勢されてバイパス通路
を閉鎖している。

【００４９】処理が進むと、感光材料に付着して持ち込
まれた他の処理液により、感光材料搬送方向上流側の上
側の処理室の処理液の比重が、感光材料搬送方向下流側
の下側の処理室の処理液の比重よりも大きくなる場合が
あるが、この場合においても、弁体は、処理液との比重
差があるので、その比重差によって生じる力によって弁
座へ付勢されてバイパス通路の閉鎖を維持する。

【００５０】したがって、感光材料搬送方向上流側の汚
れた比重の大きな処理液の入った処理室が、汚れが少な
く比重の小さな処理液の入った処理室よりも上側に位置
しているような場合であっても、汚れが大きく比重の大
きな処理液が感光材料搬送方向下流側の下側に配置され
る処理室へ流れ込むことが無い。

【００５１】また、補充装置は、感光材料の処理量（即
ち、処理液の劣化）に応じて感光材料搬送方向下流側の
処理室に処理液を補充する。

【００５２】感光材料搬送方向下流側の処理室に処理液
を補充すると、補充することによって生じる圧力により
弁体は弁座から離れるので補充による処理液の流れは阻
止されない。

【００５３】したがって、処理液は、バイパス通路を介
して感光材料搬送方向上流側の処理室に順次補充され
る。

【００５４】

【発明の実施の形態】本発明の感光材料処理装置の一実
施形態を図１乃至図８にしたがって説明する。

【００５５】図２に示すように、本実施形態の感光材料
処理装置１０には、矢印Ｌ方向側の側面に感光材料とし
ての露光済みのペーパーＰを供給する供給部１４が設け
られている。

【００５６】供給部１４の矢印Ｒ方向側には、発色現像
液の貯留される発色現像槽２２、漂白定着液の貯留され
る漂白定着槽２４、水洗水の貯留される水洗槽２６、ペ
ーパーＰを温風乾燥する乾燥装置２８が順に設けられて
いる。

【００５７】なお、感光材料処理装置１０の矢印Ｒ方向
側の側壁には、乾燥の終了したペーパーＰを排出する排
出口３０と、排出されたペーパーＰを受け取る製品スト
ック部３２が設けられている。（発色現像槽）図２に示すように、発色現像槽２２の上
方には、ペーパーＰを発色現像槽２２内へ搬送する搬送
ローラ３８及び、発色現像処理されたペーパーＰを漂白
定着槽２４側へ搬送する搬送ローラ４０が設けられてお
り、発色現像槽２２の内部にはペーパーＰを槽内で略Ｕ
字状に搬送する複数のローラからなる搬送装置４２が設
けられている。

【００５８】発色現像用の補充剤としては、例えば、４
−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−〔β−（メタンス
ルホンアミド）エチル〕アニリン硫酸塩、ポリエチレン
グリコール、Ｎ−ラウロイルアラニンナトリウム、ジス
ルホエチルヒドロキシルアミン２ナトリウム塩、チノパ
ールＳＦＰ（チバガイギー社製）、亜硫酸ナトリウム、
臭化カリウム、ジエチレントリアミン５酢酸、ｐ−トル
エンスルホン酸ナトリウム、水酸化カリウム、マンニト
ール、炭酸カリウム等が含まれるが、これら以外の成分
であっても良い。（漂白定着槽）漂白定着槽２４の上方には、ペーパーＰ
を漂白定着槽２４内へ搬送する搬送ローラ４４及び、漂
白定着処理されたペーパーＰを水洗槽２６側へ搬送する
搬送ローラ４６が設けられており、漂白定着槽２４の内
部にはペーパーＰを槽内で略Ｕ字状に搬送する複数のロ
ーラからなる搬送装置４８が設けられている。

【００５９】漂白定着用の補充剤としては、例えば、ジ
エチレントリアミン５酢酸第２鉄アンモニウム１水塩、
エチレンジアミン４酢酸、マレイン酸、パインフロー
（松谷化学）、Ｎ−ラウロイルサルコシンナトリウム、
チオ硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、臭化カリウ
ム、ｐ−トルエンスルフィン酸、Ｎ−ラウロイルサルコ
シンナトリウム等が含まれるが、これら以外の成分であ
っても良い。（水洗槽２６）図１、３、４に示すように、水洗槽２６
は、上部が開放され、縦長に形成されている。

【００６０】水洗槽２６の内部には、底部側の一部分を
除き、槽内を上流側と下流側とに区分する隔壁５０が設
けられている。

【００６１】水洗槽２６には、隔壁５０の上流側及び下
流側に夫々区画部材５２が上部より着脱自在に挿入され
ている。

【００６２】区画部材５２は、互いに平行に設けられた
垂直方向に延びる縦壁５２Ａ及び縦壁５２Ｂと、縦壁５
２Ａと縦壁５２Ｂとを連結する水平方向に延びる横壁５
２Ｃ及び横壁５２Ｄを備えている。

【００６３】横壁５２Ｃ及び横壁５２Ｄの中央部には、
各々ブロック状のブレード保持部材５８が取り付けられ
ている。

【００６４】ブレード保持部材５８には、ペーパーＰが
通過するスリット孔５８Ａが形成されている。スリット
孔５８Ａは、ペーパーＰの搬送方向上流側がテーパー状
に広がっている。

【００６５】スリット孔５８Ａの一方の内壁面には弾性
体からなるブレード６０の基部が取り付けられており、
感光材料の非通過時では、ブレード６０の先端が他方の
内壁面に弾性的に接触している。

【００６６】区画部材５２には、横壁５２Ｃの上方に３
つのローラ対６２が、横壁５２Ｃと横壁５２Ｄとの間に
２つのローラ対６２が、横壁５２Ｄの下方に２つのロー
ラ対６２が配置されている。

【００６７】これらのローラ対６２は、シャフト６２Ａ
が縦壁５２Ａ及び縦壁５２Ｂを貫通して回転可能に支持
されている。

【００６８】縦壁５２Ａから突出した各シャフト６２Ａ
には、各々ギア６４が取り付けられており、ローラ対６
２の一方のシャフト６２Ａに取り付けられたギア６４
と、他方のシャフト６２Ａに取り付けられたギア６４と
が噛み合っている。

【００６９】一方、縦壁５２Ｂから突出したローラ対６
２の一方のシャフト６２Ａには、べべルギア６６が取り
付けられている。

【００７０】縦壁５２Ｂの外側には、垂直方向に延びる
主軸６８が横壁５２Ｃ及び横壁５２Ｄに回転可能に支持
されている。

【００７１】主軸６８には、シャフト６２Ａのベベルギ
ア６６と噛み合うベベルギア７０が取り付けられてい
る。

【００７２】なお、主軸６８の上端は、装置本体側に設
けた図示しないローラ駆動用モータにカップリングを介
して接続される。

【００７３】また、区画部材５２には、最上部のローラ
対６２上方及び下方、最下部のローラ対６２の上方に、
ペーパーＰをガイドするガイド部７２Ａ〜Ｃが設けられ
ている。

【００７４】なお、上流側の区画部材５２と下流側の区
画部材５２とは、ブレード保持部材５８の取り付け位置
が異なっている点を除けば、略左右対称形状である。

【００７５】水洗槽２６の内部には、隔壁５０の両側に
各々第１の段部７４及び第２の段部７６が形成されてい
る。

【００７６】ここで、隔壁５０の上流側の水洗槽２６内
において、第１の段部７４の下側の幅寸法(図面の紙面
左右方向の寸法）及び奥行き寸法(図面の紙面裏表方向
の寸法）は第１の段部７４の上側の幅寸法及び奥行き寸
法よりも小さく設定されており、第２の段部７６の下側
の幅寸法及び奥行き寸法は第２の段部７６の上側の幅寸
法及び奥行き寸法よりも小さく設定されている。

【００７７】なお、第１の段部７４及び第２の段部７６
は、本実施形態では各々水平であり、各段部には弾性体
からなる一定厚さのシール部材８２がネジ止め等で固定
されている。

【００７８】区画部材５２の横壁５２Ｃ（横壁５２Ｄも
同様）は、水洗槽２６の内壁面に設けられた位置決め部
材９１により保持されており、横壁５２Ｃの下面が第１
の段部７４のシール部材８２に、横壁５２Ｄの下面が第
２の段部７６のシール部材８２に密着している。

【００７９】図１に示すように、２つの区画部材５２が
水洗槽２６に挿入され保持されると、水洗槽２６内に
は、夫々独立した第１処理室９０、第２処理室９２、第
３処理室９４、第４処理室９６及び第５処理室９８が形
成される。

【００８０】図３乃至図５に示すように、横壁５２Ｃ及
び横壁５２Ｄには、上下に貫通する貫通孔１００が形成
されている。なお、壁面の貫通孔１００付近が逆止弁の
弁座となる。

【００８１】第１処理室９０と第２処理室９２とを連通
する貫通孔１００、及び第２処理室９２と第３処理室９
４とを連通する貫通孔１００には、逆止弁を構成する合
成樹脂製の弁体１０２が設けられている。

【００８２】この弁体１０２は、水洗水の比重よりも大
きく設定されている。この弁体１０２の比重をＡ、この
貫通孔１００の感光材料搬送方向上流側の処理室に貯留
された水洗水の比重をＢとしたときに、Ａ／Ｂは１以上
１．５未満に設定されている。

【００８３】弁体１０２の材質としては、例えば、塩化
ビニル（比重１．４０〜１．４１）、アクリル（比重
１．２）、ポリカーボネート（比重１．２）等を用いる
ことができる。

【００８４】なお、弁体１０２は、全体を単一の材質で
形成しても良いが、複数の材質で形成しても良い。例え
ば、比重を調整するために、内部に比重の大きな部材
（金属等）を埋設しても良い。

【００８５】本実施形態では、弁体１０２の材質を、ポ
リプロピレンと塩化ビニルをほぼ１対１で混ぜたもの
（比重１．１７）を用いている。

【００８６】図６に示すように、この弁体１０２は、貫
通孔１００の上側に配置される円盤状の弁本体１０２Ａ
と、この弁本体１０２Ａの中央に立設されて貫通孔１０
０に挿入される軸部１０２Ｂを備えている。

【００８７】また、軸部１０２Ｂには、貫通孔１００の
下側に突出した部分の両側に三角形のストッパ１０２Ｃ
が形成されており、ストッパ１０２Ｃとストッパ１０２
Ｃとの間には溝１０２Ｄが形成されている。

【００８８】弁本体１０２Ａの外径Ｄは、貫通孔１００
を閉塞可能なように貫通孔１００の内径ｄ₁よりも十分
に大きく設定されている。

【００８９】貫通孔１００を水洗水が容易に流れるよう
に、軸１０２Ｂの外径ｄ₂は貫通孔１００の内径ｄ₁より
も小さく設定されている。

【００９０】一方のストッパ１０２Ｃの最外端と他方の
ストッパ１０２Ｃの最外端との距離Ｗは、貫通孔１００
の内径ｄ₁よりも若干大きく設定されており、弁体１０
２が貫通孔１００からの抜けを防止している。

【００９１】なお、この弁体１０２は、軸部１０２Ｂに
溝１０２Ｄを形成しているので、ストッパ１０２Ｃを下
方に向けて貫通孔１００の上方から差し入れることによ
り、軸先端部分が弾性変形して、図６（Ａ）に示すよう
に、両ストッパ１０２Ｃを貫通孔１００の下方へ位置さ
せることができる。

【００９２】なお、弁本体１０２Ａの外周部には、軸方
向に対して傾斜した切欠１０２Ｅが一対形成されてい
る。

【００９３】第３処理室９４と第４処理室９６とを連通
する貫通孔１００、及び第４処理室９６と第５処理室９
８とを連通する貫通孔１００には、合成樹脂製の弁体１
０４が設けられている。

【００９４】この弁体１０４は、前述した弁体１０２と
同一形状であるが、その比重が水洗水の比重よりも小さ
く設定されている。なお、この弁体１０４の比重をＡ、
この貫通孔１００の感光材料搬送方向上流側の処理室に
貯留された水洗水の比重をＢとしたときに、Ａ／Ｂは
０．８以上１未満に設定されている。

【００９５】弁体１０４の材質としては、例えば、ポリ
プロピレン（比重０．９１）、ポリエチレン（比重０．
９１）等を用いることができる。

【００９６】なお、比重を調整するために、内部に空間
を設けても良い。

【００９７】本実施形態では、弁体１０４の材質をポリ
プロピレンとし、内部に空気室を設けて比重を０．８に
調整した。

【００９８】第３処理室９４と第４処理室９６とを連通
する貫通孔１００、及び第４処理室９６と第５処理室９
８とを連通する貫通孔１００に取り付けられる弁体１０
４は、前述した弁体１０２とは取り付け方向が逆であ
る。

【００９９】図１に示すように、本実施形態の水洗槽２
６には、新鮮な水洗水を補充する補充装置１０４が設け
られている。

【０１００】なお、補充装置１０４は、水洗水を貯留す
る水洗水タンク１０６、水洗水タンク１０６の水洗水を
第５処理室９８へ補充するポンプ１０８を備えている。

【０１０１】感光材料処理装置１０は、ペーパーＰの幅
とペーパーＰの搬送量とからペーパーＰの処理面積を演
算する図示しない制御装置を備えており、制御装置は、
処理面積に応じてポンプ１０８を駆動し、処理面積に応
じた水洗水が自動的に補充される構成となっている。

【０１０２】また、第１処理室９０には、余剰の水洗水
を図示しない廃液タンクに排出するためのオーバーフロ
ー配管１１０の一端が設けられている。（作用）次に、本実施形態の感光材料処理装置１０の作
用を説明する。

【０１０３】ペーパーマガジン１２から供給され、露光
部によって潜像が形成されたペーパーＰは、スリット３
６を介して発色現像槽２２に進入する。

【０１０４】発色現像槽２２に進入したペーパーＰは、
搬送装置４２によって搬送され、発色現像液によって発
色現像される。

【０１０５】その後、発色現像処理されたペーパーＰ
は、漂白定着槽２４に進入する。

【０１０６】漂白定着槽２４に進入したペーパーＰは、
搬送装置４８によって漂白定着液中を水平に搬送され、
漂白定着液によって漂白定着される。

【０１０７】漂白定着槽２４から出たペーパーＰは、ロ
ーラ対６２によって第１処理室９０内に搬送され、水洗
水によって水洗が行われる。

【０１０８】その後、ペーパーＰは、先端が、ブレード
６０を弾性変形させてブレード６０とスリット孔５８Ａ
の壁面との間を通過して第２処理室９２に進入する。

【０１０９】このとき、ペーパーＰは、ブレード６０の
弾性力によってスリット孔５８Ａの壁面側へ付勢され、
これによってペーパーＰは、ブレード６０とスリット孔
５８Ａの壁面とによって両面がしごかれながら（摺動し
ながら）搬送されるので、ペーパーＰに付着した上流側
の処理室の水洗水が下流側の処理室へ持ち込まれること
は殆どない。

【０１１０】また、ペーパーＰが通過すると、ブレード
６０の先端がスリット孔５８Ａの壁面に弾性的に押圧さ
れ、第１処理室９０と第２処理室９２とを隔離する。

【０１１１】以後同様にして、ペーパーＰは、第３処理
室９４、第４処理室９６及び第５処理室９８を順に通過
し、各々の水洗水によって水洗が行われる。

【０１１２】水洗の終了したペーパーＰは、乾燥装置２
８にて温風乾燥された後、製品ストック部３２に排出さ
れる。

【０１１３】なお、処理がある程度進むと、第１処理室
９０の水洗水は、漂白定着槽２４から持ち込まれた漂白
定着液により劣化し、漂白定着液の成分によって比重が
大きくなる。

【０１１４】そして、上側の第１処理室９０の水洗水の
比重が、下側の第２処理室９２の水洗水よりも大きくな
ると、比重の大きい第１処理室９０の劣化した水洗水が
比重の小さい水洗水の入った下方の第２処理室９２に流
れ込もうとするが、水洗水よりも比重の大きな弁体１０
２は、水洗水中で沈んだままであり、水洗水との比重差
によって生じる力によって処理液の流れを阻止する方
向、即ち、下方へ付勢されて弁本体１０２Ａが貫通孔１
００を閉鎖して水洗水の逆流を阻止する。

【０１１５】このため、第２処理室９２の水洗水の劣化
を防止することができる。

【０１１６】さらに処理が進むと、第２処理室９２の水
洗水も第３処理室９４の水洗水よりも比重が大きくなる
が、この場合も同様に第２処理室９２と第３処理室９４
との間の弁体１０２の作用により第３処理室９４の劣化
を防止することができる。

【０１１７】なお、第３処理室９４と第４処理室９６と
の間の貫通孔１００に設けられた弁体１０４、及び第４
処理室９６と第５処理室９８との貫通孔１００に設けら
れた弁体１０４は、水洗水の比重よりも小さいので、水
洗水との比重差によって生じる力（浮力）によって処理
液の流れを阻止する方向、即ち、上方へ付勢されて弁体
１０４Ａが貫通孔１００を閉鎖して水洗水の逆流を阻止
している。

【０１１８】なお、第３処理室９４、第４処理室９６、
及び第５処理室９８において、処理が進むと、下側の処
理室の水洗水の比重が上側の処理室の水洗水の比重より
も大きくなるが、比重の大きな水洗水が比重の小さな水
洗水よりも下にある場合には、処理室間で処理液の比重
差が生じても、第１処理室９０、第２処理室９２、及び
第３処理室９４のように水洗水の逆流は生じない。

【０１１９】水洗水の処理能力が低下するころになる
と、制御装置は演算したペーパーＰの処理面積に基づい
てポンプ１０８を駆動し、水洗水を第５処理室９８に補
充する。

【０１２０】これにより、第５処理室９８の液面レベル
が第１処理室９０の液面レベルよりも上がり、第５処理
室９８と第１処理室９０との間で圧力差が生じ、処理室
間の圧力差によって図７に示すように弁体１０２移動し
（なお、弁体１０４は、下方へ移動）、水洗水が貫通孔
１００を図の矢印Ａで示すように流れ、水洗水が第５処
理室９８から第１処理室９０へ順次流れ、水洗水の処理
能力が回復する。

【０１２１】なお、第１処理室９０で余剰となった水洗
水は、オーバーフロー配管１１０を介して図示しない廃
液タンクに排出される。

【０１２２】このように、本実施形態の感光材料処理装
置１０では、処理室毎にポンプを設けて水洗水を補充す
る必要がないので、構造が簡単で済む。

【０１２３】また、処理室間で水洗水の比重差が生じ
て、感光材料搬送方向下流側の処理室へ水洗水が逆流し
ようとすると、弁本体１０２Ａの外周部に設けた軸方向
に対して傾斜した切欠１０２Ｅを流れる軸方向に対して
傾斜した水流の作用によって弁体１０２に回転力が生じ
て回転するので、弁体１０２が貫通孔１００に引っ掛か
って貫通孔１００を閉塞できなくなる虞が無い。なお、
本実施形態では、弁本体１０２Ａの外周部に切欠１０２
Ｅを設けて弁体１０２を回転させるようにしたが、弁本
体１０２Ａに斜めに孔を形成したり、プロペラを取り付
けても同様に弁体１０２を回転させることができる。

【０１２４】また、本実施形態の感光材料処理装置１０
では、補充した水洗水を順次通過させるために処理室間
を貫通孔１００で連通させており、配管等を処理室外側
で引き回すことがないため、感光材料処理装置１０の部
品点数が増加せず、コストを抑えることが出来た。

【０１２５】なお、場合によっては、上下の処理室、例
えば、図８に代表して示すように、第１処理室９０と第
２処理室９２とを配管１１２で連通させ、配管１１２の
途中に貫通孔１００及び弁体１０２を設けた補助室１１
４を設けるようにしても良い。

【０１２６】また、弁体１０２は、図６に示す形状に限
らず、例えば、図９に示すような他の形状であっても良
い。

【０１２７】図９に示す弁体１０２では、軸部１０２Ｂ
の端部に円板状のストッパ１０２Ｆがネジ固定されてい
る。また、軸部１０２Ｂには、水洗水の通路１０２Ｇが
形成されている。

【０１２８】この弁体１０２は、通常は図９（Ａ）に示
すように弁本体１０２Ａが貫通孔１００を塞いでいる
が、水洗水補充時では、図９（Ｂ）に示すように弁本体
１０２Ａが持ち上げられ、通路１０２Ｇを介して水洗水
を流すことができる。

【０１２９】なお、弁体１０４も図９に示す弁体１０２
と同一形状にしても良いのは勿論である。

【０１３０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の感光材料
処理装置は上記の構成としたので、構造が簡単で、処理
液に逆流を生じることなく迅速処理が可能となる、とい
う優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】感光材料の搬送方向に沿った水洗槽の断面図で
ある。

【図２】感光材料の搬送方向に沿った感光材料処理装置
の断面図である。

【図３】第１〜第３処理室の断面図である。

【図４】第３〜第５処理室の断面図である。

【図５】図１の５−５線断面図である。

【図６】（Ａ）は逆止弁の断面図であり、（Ｂ）は逆止
弁の平面図であり、（Ｃ）は逆止弁の下面図である。

【図７】貫通孔に水洗水が流れている様子を示す逆止弁
の断面図である。

【図８】他の実施形態に係る感光材料処理装置の水洗槽
の要部を示す断面図である。

【図９】（Ａ）は他の実施形態に係る感光材料処理装置
の水洗水の流れを止めている状態を示す逆止弁の断面図
であり、（Ｂ）は水洗水を流している状態を示す逆止弁
の断面図である。

【符号の説明】

１０感光材料処理装置２６水洗槽３８搬送ローラ（搬送装置）４０搬送ローラ（搬送装置）４２搬送装置（搬送装置）４４搬送ローラ（搬送装置）４６搬送ローラ（搬送装置）４８搬送装置（搬送装置）５２区画部材５８Ａスリット孔６０ブレード６２ローラ対（搬送装置）６４ギア（搬送装置）６６ベベルギア（搬送装置）６８主軸（搬送装置）７０ベベルギア（搬送装置）９０第１処理室９２第２処理室９４第３処理室９６第４処理室９８第５処理室１００貫通孔１０２弁体（逆止弁）１０４弁体（逆止弁）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】通路により順次連結され、少なくとも２
個以上が上下に配置された複数の処理室と、前記通路に設けられ、前記感光材料の非通過時には前記
処理室の処理液の通過を遮断し、前記感光材料の通過時
には弾性変形して前記感光材料の通過を許容するブレー
ドと、前記感光材料の処理量に応じて感光材料搬送方向下流側
の処理室に処理液を補充する補充装置と、前記複数の処理室に前記感光材料を順次通過させる搬送
装置と、感光材料搬送方向下流側の前記処理室と、感光材料搬送
方向上流側の前記処理室とを連通し、前記処理液が通過
可能とされたバイパス通路と、前記バイパス通路に設けられ、感光材料搬送方向下流側
の前記処理室の処理液が感光材料搬送方向上流側の前記
処理室へ向けて流れる前記処理液の流れを阻止せず、感
光材料搬送方向上流側の前記処理室の処理液が感光材料
搬送方向下流側の前記処理室へ向けて流れる前記処理液
の流れを阻止する逆止弁と、を備え、前記逆止弁を構成する弁体は、前記処理液との比重差に
よって生じる力によって弁座に付勢されている、ことを
特徴とする感光材料処理装置。
【請求項２】前記処理液を補充した際に、前記処理液
が上向きに流れるバイパス通路に設けられる前記弁体の
比重をＡ、このバイパス通路の感光材料搬送方向上流側
の前記処理室に貯留された前記処理液の比重をＢとした
ときに、Ａ／Ｂを１以上１．５未満に設定したことを特
徴とする請求項１に記載の感光材料処理装置。
【請求項３】前記処理液を補充した際に、前記処理液
が下向きに流れるバイパス通路に設けられる前記弁体の
比重をＡ、このバイパス通路の感光材料搬送方向上流側
の前記処理室に貯留された前記処理液の比重をＢとした
ときに、Ａ／Ｂを０．８以上１未満に設定したことを特
徴とする請求項１または請求項２に記載の感光材料処理
装置。
【請求項４】前記弁体には、付近を流れる前記処理液
の流れによって前記弁体を回転させる回転手段を有する
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に
記載の感光材料処理装置。
【請求項５】前記バイパス通路は、感光材料搬送方向
下流側の前記処理室と、感光材料搬送方向上流側の前記
処理室とを区画する隔壁に形成された貫通孔である、こ
とを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記
載の感光材料処理装置。
【請求項６】通路により順次連結される複数の処理室
と、前記通路に設けられ、前記感光材料の非通過時には前記
処理室の処理液の通過を遮断し、前記感光材料の通過時
には弾性変形して前記感光材料の通過を許容するブレー
ドと、前記感光材料の処理量に応じて感光材料搬送方向下流側
の処理室に処理液を補充する補充装置と、前記複数の処理室に、前記感光材料を順次通過させる搬
送装置と、感光材料搬送方向下流側の前記処理室と、感光材料搬送
方向上流側の前記処理室とを連通し、前記処理液が通過
可能とされたバイパス通路と、前記バイパス通路に設けられ、感光材料搬送方向下流側
の前記処理室の処理液が感光材料搬送方向上流側の前記
処理室へ向けて流れる前記処理液の流れを阻止せず、感
光材料搬送方向上流側の前記処理室の処理液が感光材料
搬送方向下流側の前記処理室へ向けて流れる前記処理液
の流れを阻止する逆止弁と、を備え、前記複数の処理室は、前記感光材料が上方から下方へ２
以上の前記処理室を通過し、かつ下方へ搬送された前記
感光材料が下方から上方へ２以上の前記処理室を通過す
るように配置され、前記感光材料が上方から下方へ搬送される処理室間に設
けられる前記逆止弁においては、弁座は弁体よりも下方
に配置され、前記弁体は前記処理液よりも比重が大き
く、前記処理との比重差によって生じる力によって前記
弁座に付勢されており、前記感光材料が下方から上方へ搬送される処理室間に設
けられる前記逆止弁においては、弁座は弁体よりも上方
に配置され、前記弁体は前記処理液よりも比重が小さ
く、前記処理液との比重差によって生じる力によって前
記弁座に付勢されていることを特徴とする感光材料処理
装置。