JP2003073900A5 - - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、人工骨，集電体，コンデンサ用電極等として好適なタンタルやニオブ材料を粗面化する方法に関する。
【産業上の利用分野】
本発明は、人工骨，集電体，コンデンサ用電極等として好適なタンタルやニオブ材料を粗面化する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
タンタル，ニオブ及びそれらの合金は、腐食性の雰囲気でも優れた耐食性を呈することから、生体内に埋め込まれる人工骨，人工歯根等やリチウム二次電池の正極集電体等に使用されている。また、酸化物の誘電率が大きなことを活用し、タンタル電解コンデンサとして使用される材料でもある。以下の説明では、金属単体の他にＴａ，Ｎｂを主成分とする合金や複合材を総称する意味で「タンタル材料」，「ニオブ材料」を使用する。
【従来の技術】
タンタル，ニオブ及びそれらの合金は、腐食性の雰囲気でも優れた耐食性を呈することから、生体内に埋め込まれる人工骨，人工歯根等やリチウム二次電池の正極集電体等に使用されている。また、酸化物の誘電率が大きなことを活用し、タンタル電解コンデンサとして使用される材料でもある。以下の説明では、金属単体の他にＴａ，Ｎｂを主成分とする合金や複合材を総称する意味で「タンタル材料」，「ニオブ材料」を使用する。
優れた耐食性は、反面、タンタル材料やニオブ材料がエッチングによって粗面化しがたい材料であることを意味する。
ところが、生体内に埋め込まれる人工骨や人工歯根では生体組織との密着性を向上させ、リチウム二次電池の正極集電体では正極合材との密着性を向上させるため、粗面化処理が要求される。
また、アルミニウム電解コンデンサのようにエッチングによってタンタル材料の実効表面積を大きくできないため、タンタル電解コンデンサでは粉末焼結による拡面処理が採用されている。粉末焼結で使用する金属粉末の粒径が小さいほどタンタル電極の実効表面積が大きくなるが、微粒金属粉末の使用は、製造現場における取扱い性の低下や危険度の増大を招くばかりでなく、後工程で厚い酸化皮膜の成長を困難にする原因でもある。酸化皮膜の成長が不十分な電極では、電解コンデンサの耐電圧特性が不足しがちとなる。
ところが、生体内に埋め込まれる人工骨や人工歯根では生体組織との密着性を向上させ、リチウム二次電池の正極集電体では正極合材との密着性を向上させるため、粗面化処理が要求される。
また、アルミニウム電解コンデンサのようにエッチングによってタンタル材料の実効表面積を大きくできないため、タンタル電解コンデンサでは粉末焼結による拡面処理が採用されている。粉末焼結で使用する金属粉末の粒径が小さいほどタンタル電極の実効表面積が大きくなるが、微粒金属粉末の使用は、製造現場における取扱い性の低下や危険度の増大を招くばかりでなく、後工程で厚い酸化皮膜の成長を困難にする原因でもある。酸化皮膜の成長が不十分な電極では、電解コンデンサの耐電圧特性が不足しがちとなる。
【００１９】
【発明の効果】
以上に説明したように、酸素供給源にならないアニオンが添加された有機電解液中でタンタル材料，ニオブ材料をアノード分極することにより、強固な酸化皮膜の生成なくエッチング反応を進行させることによって、タンタル材料，ニオブ材料を粗面化している。粗面化されたタンタル材料，ニオブ材料は、生体組織や正極合材に対する密着性が改善されているため、人工骨，人工歯根，正極集電体等として好適に使用される。
【発明の効果】
以上に説明したように、酸素供給源にならないアニオンが添加された有機電解液中でタンタル材料，ニオブ材料をアノード分極することにより、強固な酸化皮膜の生成なくエッチング反応を進行させることによって、タンタル材料，ニオブ材料を粗面化している。粗面化されたタンタル材料，ニオブ材料は、生体組織や正極合材に対する密着性が改善されているため、人工骨，人工歯根，正極集電体等として好適に使用される。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001261247A JP2003073900A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | タンタル又はニオブ材料の粗面化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001261247A JP2003073900A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | タンタル又はニオブ材料の粗面化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003073900A JP2003073900A (ja) | 2003-03-12 |
| JP2003073900A5 true JP2003073900A5 (ja) | 2005-04-07 |
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ID=19088321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001261247A Pending JP2003073900A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | タンタル又はニオブ材料の粗面化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003073900A (ja) |
Families Citing this family (4)
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| JP4275044B2 (ja) | 2004-02-04 | 2009-06-10 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサおよびその製造方法 |
| JPWO2007026931A1 (ja) * | 2005-09-02 | 2009-03-12 | 株式会社荏原製作所 | 電解加工方法及び電解加工装置 |
| DE112007001100T5 (de) * | 2006-05-05 | 2009-05-14 | Cabot Corp., Boston | Tantalpulver mit glatter Oberfläche und Verfahren zur Herstellung desselben |
| CN115312330B (zh) * | 2022-10-12 | 2022-12-30 | 江苏国泰超威新材料有限公司 | 一种超级电容器电解液及使用该电解液的超级电容器 |
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2001
- 2001-08-30 JP JP2001261247A patent/JP2003073900A/ja active Pending
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