JP2003071261A - 単分散複合型エマルションの製造装置 - Google Patents
単分散複合型エマルションの製造装置Info
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- B01F23/40—Mixing liquids with liquids; Emulsifying
- B01F23/41—Emulsifying
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- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/30—Injector mixers
- B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
- B01F25/314—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit
- B01F25/3142—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows wherein additional components are introduced at the circumference of the conduit the conduit having a plurality of openings in the axial direction or in the circumferential direction
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- B01F33/00—Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
- B01F33/30—Micromixers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】Ｗ／Ｏ／Ｗ型、Ｏ／Ｗ／Ｏ型、Ｅ／Ｏ／Ｗ型等
の各種複合型エマルションを効率よく製造できる装置を
提供する。 【解決手段】 第２スペース１２内に供給口６５を介し
て連続相を供給した状態で、第１スペース１１内に供給
口６４を介して分散相を供給する。また、これと同時に
第３スペース１３内に供給口６６を介して連続相を供給
する。上記の状態から、第１スペース１１内に供給する
分散相の圧を高めることで、分散相が第１マイクロチャ
ネル２１を介して第２スペース１２内の連続相内に分散
してエマルションが生成される。そして、第２スペース
１２内の圧力を高めることで第２スペース１２内に形成
されたエマルションは第２マイクロチャネル２２を介し
て第３スペース１３内の連続相内に分散し、目的とする
複合型エマルションが生成される。
の各種複合型エマルションを効率よく製造できる装置を
提供する。 【解決手段】 第２スペース１２内に供給口６５を介し
て連続相を供給した状態で、第１スペース１１内に供給
口６４を介して分散相を供給する。また、これと同時に
第３スペース１３内に供給口６６を介して連続相を供給
する。上記の状態から、第１スペース１１内に供給する
分散相の圧を高めることで、分散相が第１マイクロチャ
ネル２１を介して第２スペース１２内の連続相内に分散
してエマルションが生成される。そして、第２スペース
１２内の圧力を高めることで第２スペース１２内に形成
されたエマルションは第２マイクロチャネル２２を介し
て第３スペース１３内の連続相内に分散し、目的とする
複合型エマルションが生成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品、医薬品或い
は化粧品などに広く利用される複合型エマルションに関
する。
は化粧品などに広く利用される複合型エマルションに関
する。
【０００２】
【従来の技術】製品の保存期間を延ばすとともに食べや
すさや使用しやすさを向上するため、多くの製品がエマ
ルションとして製造・販売されている。例えば、食品と
してはマーガリンやアイスクリーム、医薬品としては軟
膏、化成品としては化粧クリームなどが挙げられる。
すさや使用しやすさを向上するため、多くの製品がエマ
ルションとして製造・販売されている。例えば、食品と
してはマーガリンやアイスクリーム、医薬品としては軟
膏、化成品としては化粧クリームなどが挙げられる。
【０００３】また、エマルションの形態としては、水を
連続相とし油を分散相とした水中油滴（oil-in-water
(Ｏ／Ｗ)）型、油中水滴（water-in-oil(Ｗ／Ｏ)型の他
に、(water-in-oil-in-water(Ｗ／Ｏ／Ｗ)型や(oil-in-
water-in-oil(Ｏ／Ｗ／Ｏ)型などの複合型エマルション
が知られている。この複合型エマルションはＤＤＳ（薬
理送達システム）やＦＤＳ（機能性食餌成分送達システ
ム）などへの応用が期待されている。
連続相とし油を分散相とした水中油滴（oil-in-water
(Ｏ／Ｗ)）型、油中水滴（water-in-oil(Ｗ／Ｏ)型の他
に、(water-in-oil-in-water(Ｗ／Ｏ／Ｗ)型や(oil-in-
water-in-oil(Ｏ／Ｗ／Ｏ)型などの複合型エマルション
が知られている。この複合型エマルションはＤＤＳ（薬
理送達システム）やＦＤＳ（機能性食餌成分送達システ
ム）などへの応用が期待されている。
【０００４】上記の複合エマルションを製造する方法と
しては、２段階乳化法と転相乳化法が知られている。２
段階乳化法は、比較的多量の親油性界面活性剤を用いて
Ｗ／Ｏエマルションを調製し、Ｗ／Ｏエマルションを比
較的希薄な非イオン界面活性剤水溶液に投入して複合エ
マルションとする方法であり、一般的な製造法として利
用されている。転相乳化法は、油に水相を添加してＷ／
Ｏエマルションを作り、そこに糖や塩、酢酸などを含む
水相を加えて転相させることにより複合エマルションを
得る方法である。この方法では使用する界面活性剤や油
相、添加物の組み合わせが限定される。
しては、２段階乳化法と転相乳化法が知られている。２
段階乳化法は、比較的多量の親油性界面活性剤を用いて
Ｗ／Ｏエマルションを調製し、Ｗ／Ｏエマルションを比
較的希薄な非イオン界面活性剤水溶液に投入して複合エ
マルションとする方法であり、一般的な製造法として利
用されている。転相乳化法は、油に水相を添加してＷ／
Ｏエマルションを作り、そこに糖や塩、酢酸などを含む
水相を加えて転相させることにより複合エマルションを
得る方法である。この方法では使用する界面活性剤や油
相、添加物の組み合わせが限定される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】複合型エマルションの
生体内での挙動をコントロールするには複合エマルショ
ンのサイズをコントロールできるようにすることが必要
である。しかしながら、前記２段階乳化法では複合エマ
ルションのサイズをコントロールすることは困難であ
る.一方、転相乳化法によれば複合エマルションのサイ
ズをコントロールすることは可能であるが、界面活性剤
と油相との組み合わせが限定されてしまう。
生体内での挙動をコントロールするには複合エマルショ
ンのサイズをコントロールできるようにすることが必要
である。しかしながら、前記２段階乳化法では複合エマ
ルションのサイズをコントロールすることは困難であ
る.一方、転相乳化法によれば複合エマルションのサイ
ズをコントロールすることは可能であるが、界面活性剤
と油相との組み合わせが限定されてしまう。
【０００６】また、本発明者らは均一の粒径のエマルシ
ョンを効率よく製造できるマイクロチャネル式の装置
を、特許第２９８１５４７号、特許第３０１２６０８号
或いは特許第３０８９２８５号等として提案している
が、これらの装置では複合タイプのエマルションを一連
の操作で製造することはできない。
ョンを効率よく製造できるマイクロチャネル式の装置
を、特許第２９８１５４７号、特許第３０１２６０８号
或いは特許第３０８９２８５号等として提案している
が、これらの装置では複合タイプのエマルションを一連
の操作で製造することはできない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決すべく
本発明に係る単分散複合型エマルションの製造装置は、
分散相が供給される第１スペースと、この第１スペース
に隣接するとともに連続相が供給される第２スペース
と、この第２スペースに隣接するとともに前記連続相と
同一または別の連続相が供給される第３スペースと備
え、前記第１スペースと第２スペースは第１マイクロチ
ャネルでつながり、前記第２スペースと第３スペースは
第２マイクロチャネルでつながった構成とした。
本発明に係る単分散複合型エマルションの製造装置は、
分散相が供給される第１スペースと、この第１スペース
に隣接するとともに連続相が供給される第２スペース
と、この第２スペースに隣接するとともに前記連続相と
同一または別の連続相が供給される第３スペースと備
え、前記第１スペースと第２スペースは第１マイクロチ
ャネルでつながり、前記第２スペースと第３スペースは
第２マイクロチャネルでつながった構成とした。
【０００８】前記第１スペース、第２スペース及び第３
スペースは、例えば基板とプレートの間に画成された扁
平なスペースで、また、前記第１マイクロチャネル及び
第２マイクロチャネルは基板に形成する構成とする。こ
のように、マイクロチャネルを基板に形成する場合には
集積回路の形成技術を応用することで、微細且つ正確な
寸法のマイクロチャネルを形成することができ、分散相
の粒径を均一にすることができる。
スペースは、例えば基板とプレートの間に画成された扁
平なスペースで、また、前記第１マイクロチャネル及び
第２マイクロチャネルは基板に形成する構成とする。こ
のように、マイクロチャネルを基板に形成する場合には
集積回路の形成技術を応用することで、微細且つ正確な
寸法のマイクロチャネルを形成することができ、分散相
の粒径を均一にすることができる。
【０００９】また、装置の具体的な構成としては、基板
のプレートと反対側面に、ラバープレートを介して分散
相の供給路、連続相の供給路及びエマルションの回収路
を形成したジョイントブロックを設ける構成が考えられ
る。このような構成とすることで、配管の取り廻し等が
簡略化され、装置全体がコンパクトになる。
のプレートと反対側面に、ラバープレートを介して分散
相の供給路、連続相の供給路及びエマルションの回収路
を形成したジョイントブロックを設ける構成が考えられ
る。このような構成とすることで、配管の取り廻し等が
簡略化され、装置全体がコンパクトになる。
【００１０】また、基板を部分的に疎水性及び親水性に
することで、効率よく単分散複合型エマルションを製造
することができる。
することで、効率よく単分散複合型エマルションを製造
することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。ここで、図１は本発明に係る
単分散複合型エマルションの製造装置を組み込んだモジ
ュールの斜視図、図２は同モジュールを下から見た図、
図３は同単分散複合型エマルションの製造装置の側面
図、図４はジョイントブロックの斜視図、図５はマイク
ロチャネル基板の平面図、図６は同マイクロチャネル基
板の拡大斜視図である。
図面に基づいて詳述する。ここで、図１は本発明に係る
単分散複合型エマルションの製造装置を組み込んだモジ
ュールの斜視図、図２は同モジュールを下から見た図、
図３は同単分散複合型エマルションの製造装置の側面
図、図４はジョイントブロックの斜視図、図５はマイク
ロチャネル基板の平面図、図６は同マイクロチャネル基
板の拡大斜視図である。
【００１２】エマルションの製造モジュールは円盤状ベ
ース１の中央部に開口２が形成され、両サイドに支柱
３、３を設け、この支柱３、３間に支持バー４を架設
し、この支持バー４の中間に複合型エマルションの製造
装置５を固定している。
ース１の中央部に開口２が形成され、両サイドに支柱
３、３を設け、この支柱３、３間に支持バー４を架設
し、この支持バー４の中間に複合型エマルションの製造
装置５を固定している。
【００１３】複合型エマルションの製造装置５は基板６
の一面側にガラスプレート７を、他面側にラバープレー
ト８を介してジョイントブロック９を液密に当接して構
成され、ガラスプレート７は前記円盤状ベース１の開口
２に嵌まり込む。
の一面側にガラスプレート７を、他面側にラバープレー
ト８を介してジョイントブロック９を液密に当接して構
成され、ガラスプレート７は前記円盤状ベース１の開口
２に嵌まり込む。
【００１４】前記基板６のガラスプレート７との対向面
にはドライエッチング技術などにより枠部６１と境界壁
６２、６３が他の部分よりも高く形成され、基板６とガ
ラスプレート７とを合わせた状態で、扁平な第１スペー
ス１１、第２スペース１２及び第３スペース１３が画成
される。
にはドライエッチング技術などにより枠部６１と境界壁
６２、６３が他の部分よりも高く形成され、基板６とガ
ラスプレート７とを合わせた状態で、扁平な第１スペー
ス１１、第２スペース１２及び第３スペース１３が画成
される。
【００１５】また、前記境界壁６２にはドライエッチン
グ技術などにより第１マイクロチャネル２１が形成さ
れ、前記境界壁６３には第２マイクロチャネル２２が形
成され、第１マイクロチャネル２１により第１スペース
１１と第２スペース１２とが連通し、第２マイクロチャ
ネル２２により第２スペース１２と第３スペース１３と
が連通している。
グ技術などにより第１マイクロチャネル２１が形成さ
れ、前記境界壁６３には第２マイクロチャネル２２が形
成され、第１マイクロチャネル２１により第１スペース
１１と第２スペース１２とが連通し、第２マイクロチャ
ネル２２により第２スペース１２と第３スペース１３と
が連通している。
【００１６】本発明にあっては、第２マイクロチャネル
２２の幅を第１マイクロチャネル２１の幅よりも大きく
している。具体的には、第１マイクロチャネル２１の最
も狭くなっている個所の寸法は約５μｍ、第２マイクロ
チャネル２２の最も狭くなっている個所の寸法は約１５
μｍである。
２２の幅を第１マイクロチャネル２１の幅よりも大きく
している。具体的には、第１マイクロチャネル２１の最
も狭くなっている個所の寸法は約５μｍ、第２マイクロ
チャネル２２の最も狭くなっている個所の寸法は約１５
μｍである。
【００１７】また、前記基板６の第１スペース１１を画
成する面には分散相の供給口６４、６４が開口し、第２
スペース１２を画成する面には連続相の供給口６５、６
５が開口し、第３スペース１３を画成する面には連続相
の供給口６６と複合型エマルションの回収口６７が開口
している。
成する面には分散相の供給口６４、６４が開口し、第２
スペース１２を画成する面には連続相の供給口６５、６
５が開口し、第３スペース１３を画成する面には連続相
の供給口６６と複合型エマルションの回収口６７が開口
している。
【００１８】また、前記ジョイントブロック９はアクリ
ル樹脂などの透明材料からなるキュービック状をなし、
このジョイントブロック９には前記分散相の供給口６
４、６４につながる分散相の供給路９１，９１、前記連
続相の供給口６５、６５につながる連続相の供給路９
２，９２及び前記連続相の供給口６６につながる連続相
の供給路９３と複合型エマルションの回収口６７につな
がる回収路９４が形成されている。なお、分散相の供給
路９１にはシリンジポンプを介して分散相が供給され、
連続相の供給路９２,９３にはペリスタポンプを介して
連続相が供給される。
ル樹脂などの透明材料からなるキュービック状をなし、
このジョイントブロック９には前記分散相の供給口６
４、６４につながる分散相の供給路９１，９１、前記連
続相の供給口６５、６５につながる連続相の供給路９
２，９２及び前記連続相の供給口６６につながる連続相
の供給路９３と複合型エマルションの回収口６７につな
がる回収路９４が形成されている。なお、分散相の供給
路９１にはシリンジポンプを介して分散相が供給され、
連続相の供給路９２,９３にはペリスタポンプを介して
連続相が供給される。
【００１９】ところで、マイクロチャネル装置でエマル
ションを作る場合、基板６及びガラスプレート７は連続
相のみに濡れている必要がある。つまり、Ｗ／Ｏ型エマ
ルションを作成する場合には、基板６及びガラスプレー
ト７は表面が疎水性を呈する必要があり、Ｏ／Ｗ型エマ
ルションを作成する場合には、基板６及びガラスプレー
ト７は表面が親水性を呈する必要がある。
ションを作る場合、基板６及びガラスプレート７は連続
相のみに濡れている必要がある。つまり、Ｗ／Ｏ型エマ
ルションを作成する場合には、基板６及びガラスプレー
ト７は表面が疎水性を呈する必要があり、Ｏ／Ｗ型エマ
ルションを作成する場合には、基板６及びガラスプレー
ト７は表面が親水性を呈する必要がある。
【００２０】例えば、第１マイクロチャネル２１でＷ／
Ｏ型エマルションを作成し、第２マイクロチャネル２２
でＷ／Ｏ／Ｗ型の複合エマルションを作成する場合に
は、第１及び第２スペース１１、１２を画成する基板６
及びガラスプレート７の部分は疎水性とし、第２マイク
ロチャネル２２及び第３スペース１３を画成する基板６
及びガラスプレート７の部分は親水性とする必要があ
る。
Ｏ型エマルションを作成し、第２マイクロチャネル２２
でＷ／Ｏ／Ｗ型の複合エマルションを作成する場合に
は、第１及び第２スペース１１、１２を画成する基板６
及びガラスプレート７の部分は疎水性とし、第２マイク
ロチャネル２２及び第３スペース１３を画成する基板６
及びガラスプレート７の部分は親水性とする必要があ
る。
【００２１】上記のように１枚の基板６及びガラスプレ
ート７に部分的に疎水性および親水性の表面特性を与え
るため、本発明は図７に示す処理を施した。尚、図７で
は基板６に対する処理を示すが、ガラスプレート７に対
する処理も同様である。
ート７に部分的に疎水性および親水性の表面特性を与え
るため、本発明は図７に示す処理を施した。尚、図７で
は基板６に対する処理を示すが、ガラスプレート７に対
する処理も同様である。
【００２２】先ず、基板６の表面は（ａ）に示すように
元来親水性を呈する。この親水性を呈する基板６の表面
全体にシランカップリング剤であるオクタデシルトリク
ロロシラン−トルエン溶液を用いてシランカップリング
反応を行い、（ｂ）に示すように基板６の表面全体を疎
水化する。次いで、（ｃ）に示すように、疎水性を残し
ておきたい部分つまり第１マイクロチャネル２１よりも
上流側になる部分にホトレジストでマスキングし、更に
（ｄ）に示すように基板６全面に酸素プラズマを３分程
照射し、マスキングされていない部分を親水化せしめ、
この後マスキングを除去することで、トリオレイン−水
系での接触角が４９.８°の親水性を呈する部分と,１５
４.４°の疎水性を呈する部分を有する基板が得られ
た。
元来親水性を呈する。この親水性を呈する基板６の表面
全体にシランカップリング剤であるオクタデシルトリク
ロロシラン−トルエン溶液を用いてシランカップリング
反応を行い、（ｂ）に示すように基板６の表面全体を疎
水化する。次いで、（ｃ）に示すように、疎水性を残し
ておきたい部分つまり第１マイクロチャネル２１よりも
上流側になる部分にホトレジストでマスキングし、更に
（ｄ）に示すように基板６全面に酸素プラズマを３分程
照射し、マスキングされていない部分を親水化せしめ、
この後マスキングを除去することで、トリオレイン−水
系での接触角が４９.８°の親水性を呈する部分と,１５
４.４°の疎水性を呈する部分を有する基板が得られ
た。
【００２３】以上の製造装置を用いて単分散複合型エマ
ルションを製造するには、第２スペース１２内にジョイ
ントブロック９の連続相供給路９２、供給口６５を介し
て連続相を供給した状態で、ジョイントブロック９の分
散相供給路９１及び供給口６４を介して第１スペース１
１内に分散相を供給する。また、これと同時に第３スペ
ース１３内にジョイントブロック９の連続相供給路９
３、供給口６６を介して連続相を供給する。ここで、第
２スペース１２および第３スペース１３に供給する連続
相は同一でも或いは異なっていてもよい。
ルションを製造するには、第２スペース１２内にジョイ
ントブロック９の連続相供給路９２、供給口６５を介し
て連続相を供給した状態で、ジョイントブロック９の分
散相供給路９１及び供給口６４を介して第１スペース１
１内に分散相を供給する。また、これと同時に第３スペ
ース１３内にジョイントブロック９の連続相供給路９
３、供給口６６を介して連続相を供給する。ここで、第
２スペース１２および第３スペース１３に供給する連続
相は同一でも或いは異なっていてもよい。
【００２４】上記の状態から、第１スペース１１内に供
給する分散相の圧を高めることで、分散相が第１マイク
ロチャネル２１を介して第２スペース１２内の連続相内
に分散してエマルションが生成される。そして、第２ス
ペース１２内の圧力を高めることで第２スペース１２内
に形成されたエマルションは第２マイクロチャネル２２
を介して第３スペース１３内の連続相内に分散し、目的
とする複合型エマルションが生成される。
給する分散相の圧を高めることで、分散相が第１マイク
ロチャネル２１を介して第２スペース１２内の連続相内
に分散してエマルションが生成される。そして、第２ス
ペース１２内の圧力を高めることで第２スペース１２内
に形成されたエマルションは第２マイクロチャネル２２
を介して第３スペース１３内の連続相内に分散し、目的
とする複合型エマルションが生成される。
【００２５】上記の分散相として油相（Ｏ）、第２スペ
ース１２に供給する連続相として水相（Ｗ）、第３スペ
ース１３に供給する連続相として油相（Ｏ）を用いた場
合には、Ｏ／Ｗ／Ｏ型の複合型エマルションが生成さ
れ、分散相として水相（Ｗ）、第２スペース１２に供給
する連続相として油相（Ｏ）、第３スペース１３に供給
する連続相として水相（Ｗ）を用いた場合には、Ｗ／Ｏ
／Ｗ型の複合型エマルションが生成される。
ース１２に供給する連続相として水相（Ｗ）、第３スペ
ース１３に供給する連続相として油相（Ｏ）を用いた場
合には、Ｏ／Ｗ／Ｏ型の複合型エマルションが生成さ
れ、分散相として水相（Ｗ）、第２スペース１２に供給
する連続相として油相（Ｏ）、第３スペース１３に供給
する連続相として水相（Ｗ）を用いた場合には、Ｗ／Ｏ
／Ｗ型の複合型エマルションが生成される。
【００２６】図８は第１スペース１１に供給する分散相
として水相（Ｗ）、第２スペース１２に供給する連続相
として油相（ヒマワリ油）（Ｏ）を用い、界面活性剤と
してＣＲ−３１０を添加した場合の、第１マイクロチャ
ネル２１によるエマルションの生成状況を示す写真であ
る。この写真から本発明装置により平均粒径１０.７μ
ｍのＷ／Ｏエマルションが連続して生成されることが分
る。
として水相（Ｗ）、第２スペース１２に供給する連続相
として油相（ヒマワリ油）（Ｏ）を用い、界面活性剤と
してＣＲ−３１０を添加した場合の、第１マイクロチャ
ネル２１によるエマルションの生成状況を示す写真であ
る。この写真から本発明装置により平均粒径１０.７μ
ｍのＷ／Ｏエマルションが連続して生成されることが分
る。
【００２７】図９は第３スペース１３に連続相として水
相（Ｗ）を供給し、界面活性剤としてＣＲ−３１０を添
加した場合の、第２マイクロチャネル２２による複合型
エマルションの生成状況を示す写真である。この写真か
ら本発明装置により均一な粒径のＷ／Ｏ／Ｗ複合型エマ
ルションが連続して生成されることが分る。
相（Ｗ）を供給し、界面活性剤としてＣＲ−３１０を添
加した場合の、第２マイクロチャネル２２による複合型
エマルションの生成状況を示す写真である。この写真か
ら本発明装置により均一な粒径のＷ／Ｏ／Ｗ複合型エマ
ルションが連続して生成されることが分る。
【００２８】Ｗ／Ｏ／Ｗ複合型エマルションを製造する
際に用いる界面活性剤として、疎水性のＨＧＰＯ、親水
性のＤＧＭＬを用いて同様に実験を行った。結果を以下
の（表）に示す。（表）からは極めて強い疎水性を示す
ＣＲ−３１０が界面活性剤として最も優れていることが
分る。
際に用いる界面活性剤として、疎水性のＨＧＰＯ、親水
性のＤＧＭＬを用いて同様に実験を行った。結果を以下
の（表）に示す。（表）からは極めて強い疎水性を示す
ＣＲ−３１０が界面活性剤として最も優れていることが
分る。
【００２９】
【表１】
【００３０】また、本発明によればＷ／Ｏ／Ｗ複合型エ
マルション、Ｏ／Ｗ／Ｏ複合型エマルションに限らず、
ＷまたはＯの代わりにＥ（エタノールなどのアルコー
ル）を用いた複合型エマルションの製造も可能である。
即ち、水および油に対して不溶性若しくは低溶解性物質
をエマルション分散系として活用する方法はこれまで確
立されていないが本発明によれば各種の機能性エマルシ
ョンの製造が可能になる。
マルション、Ｏ／Ｗ／Ｏ複合型エマルションに限らず、
ＷまたはＯの代わりにＥ（エタノールなどのアルコー
ル）を用いた複合型エマルションの製造も可能である。
即ち、水および油に対して不溶性若しくは低溶解性物質
をエマルション分散系として活用する方法はこれまで確
立されていないが本発明によれば各種の機能性エマルシ
ョンの製造が可能になる。
【００３１】例えば、水および油に対して不溶性もしく
は溶解性の低い物質をアルコールに溶解し、このアルコ
ールを分散相として油中に分散せしめてエマルションと
し、更にこのエマルションを水中に分散せしめた複合型
エマルションが考えられる。
は溶解性の低い物質をアルコールに溶解し、このアルコ
ールを分散相として油中に分散せしめてエマルションと
し、更にこのエマルションを水中に分散せしめた複合型
エマルションが考えられる。
【００３２】上記水および油に対して不溶性もしくは溶
解性の低い物質としては、食品関連物質としてはカテキ
ン類、アントシアニン、ケルセチンなどのポリフェノー
ルを挙げることができる。カテキン類、アントシアニン
水に僅かに溶けるポリフェノールとして知られており、
またケルセチンなどの多くのポリフェノールは水に殆ど
溶解しない。植物油に僅かに溶解するものもあるが、エ
タノール等のアルコールに対しては、２０〜３０％近く
の高い溶解度を示し、本発明のように当該アルコールを
油中に分散せしめることで安定な高濃度分散系を実現で
きる。また、水や油に対して不溶性もしくは溶解性が低
い物質としては、ステロイドホルモンとして知られるア
ンドロステンジオンや制ガン性テルペノイドであるタキ
ソール、或いは紋枯病防除薬として知られるバリダマイ
シンなどを挙げることができる。
解性の低い物質としては、食品関連物質としてはカテキ
ン類、アントシアニン、ケルセチンなどのポリフェノー
ルを挙げることができる。カテキン類、アントシアニン
水に僅かに溶けるポリフェノールとして知られており、
またケルセチンなどの多くのポリフェノールは水に殆ど
溶解しない。植物油に僅かに溶解するものもあるが、エ
タノール等のアルコールに対しては、２０〜３０％近く
の高い溶解度を示し、本発明のように当該アルコールを
油中に分散せしめることで安定な高濃度分散系を実現で
きる。また、水や油に対して不溶性もしくは溶解性が低
い物質としては、ステロイドホルモンとして知られるア
ンドロステンジオンや制ガン性テルペノイドであるタキ
ソール、或いは紋枯病防除薬として知られるバリダマイ
シンなどを挙げることができる。
【００３３】
【発明の効果】以上に説明したように本発明に係る製造
装置によれば、単分散複合型エマルションを連続して製
造することができ、工業的に極めて有意義である。ま
た、本発明に係る製造装置によれば、マイクロチャネル
の形状を変更することで生成されるエマルションの粒径
をコントロールすることができ、ＤＤＳ（薬理送達シス
テム）やＦＤＳ（機能性食餌成分送達システム）などへ
の応用が期待できる。
装置によれば、単分散複合型エマルションを連続して製
造することができ、工業的に極めて有意義である。ま
た、本発明に係る製造装置によれば、マイクロチャネル
の形状を変更することで生成されるエマルションの粒径
をコントロールすることができ、ＤＤＳ（薬理送達シス
テム）やＦＤＳ（機能性食餌成分送達システム）などへ
の応用が期待できる。
【図１】本発明に係る単分散複合型エマルションの製造
装置を組み込んだモジュールの斜視図
装置を組み込んだモジュールの斜視図
【図２】同モジュールを下から見た図
【図３】同単分散複合型エマルションの製造装置の側面
図
図
【図４】ジョイントブロックの斜視図
【図５】マイクロチャネル基板の平面図
【図６】同マイクロチャネル基板の拡大斜視図
【図７】マイクロチャネル基板の処理方法を説明した図
【図８】第１のマイクロチャネルでのエマルション化を
示す拡大写真
示す拡大写真
【図９】第２のマイクロチャネルでのエマルション化を
示す拡大写真
示す拡大写真
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０１Ｆ 5/08 Ｂ０１Ｆ 5/08 ４Ｇ０３５
// Ａ２３Ｄ 9/02 Ａ２３Ｄ 9/02
Ａ２３Ｇ 9/04 Ａ２３Ｇ 9/04
Ａ６１Ｋ 31/337 Ａ６１Ｋ 31/337
31/568 31/568
(72)発明者 杉浦 慎治
茨城県つくば市二の宮１−10−10サンハイ
ツ石見Ａ−106
(72)発明者 山本 幸司
千葉県習志野市本大久保３−14−２習志野
寮214号
(72)発明者 岩本 悟志
茨城県水戸市新原１−17−43コーポ新原
202号
(72)発明者 菊池 佑二
茨城県龍ヶ崎市久保台４−１−10−２−
506
Ｆターム(参考） 4B014 GB18 GT01
4B026 DP10 DX03
4C076 AA18 CC27 CC30 GG41
4C083 CC01 DD31 DD34 FF05
4C086 AA01 BA02 DA08 MA22 NA10
NA13 ZB26 ZC03
4G035 AB40 AC26
Claims (4)
- 【請求項１】 エマルションを構成する分散相自体が別
のエマルションとなっている単分散複合型エマルション
を製造する装置であって、この装置は分散相が供給され
る第１スペースと、この第１スペースに隣接するととも
に連続相が供給される第２スペースと、この第２スペー
スに隣接するとともに前記連続相と同一または別の連続
相が供給される第３スペースと備え、前記第１スペース
と第２スペースは第１マイクロチャネルでつながり、前
記第２スペースと第３スペースは第２マイクロチャネル
でつながっていることを特徴とする単分散複合型エマル
ションの製造装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の単分散複合型エマルシ
ョンの製造装置において、前記第１スペース、第２スペ
ース及び第３スペースは基板とプレートの間に画成さ
れ、前記第１マイクロチャネル及び第２マイクロチャネ
ルは基板に形成されていることを特徴とする単分散複合
型エマルションの製造装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の単分散複合型エマルシ
ョンの製造装置において、前記基板のプレートと反対側
面には、ラバープレートを介して分散相の供給路、連続
相の供給路及びエマルションの回収路を形成したジョイ
ントブロックが設けられていることを特徴とする単分散
複合型エマルションの製造装置。 - 【請求項４】 請求項２に記載の単分散複合型エマルシ
ョンの製造装置において、前記基板は部分的に疎水性及
び親水性を呈する処理がなされていることを特徴とする
単分散複合型エマルションの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266001A JP4182195B2 (ja) | 2001-09-03 | 2001-09-03 | 単分散複合型エマルションの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266001A JP4182195B2 (ja) | 2001-09-03 | 2001-09-03 | 単分散複合型エマルションの製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003071261A true JP2003071261A (ja) | 2003-03-11 |
| JP4182195B2 JP4182195B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=19092382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001266001A Expired - Lifetime JP4182195B2 (ja) | 2001-09-03 | 2001-09-03 | 単分散複合型エマルションの製造装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4182195B2 (ja) |
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| US8580165B2 (en) | 2005-03-29 | 2013-11-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing multiple-phase particle and apparatus for manufacturing multiple-phase particle |
-
2001
- 2001-09-03 JP JP2001266001A patent/JP4182195B2/ja not_active Expired - Lifetime
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