JP2003064165A - 導電性高分子用ドーパント剤 - Google Patents
導電性高分子用ドーパント剤Info
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Abstract
に、高温・高湿度環境下においても高い導電性を維持で
きるドーパント剤を提供する。 【解決手段】 下記の一般式[1]で表されるスルファ
ニル酸誘導体を導電性高分子用ドーピング剤として適用
する。 【化1】 [1]式中、Xは対陽イオンを有するスルホン酸基であ
り、R1〜R9は、互いに同一でも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭素数20以下のアルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基であり、またR1〜R9の任意の
2つ以上で芳香族炭化水素または脂環式炭化水素を形成
してもよい。
Description
導体からなる導電性高分子用ドーパント剤に関する。
ともなって、新しいエレクトロニクス材料が開発されて
いる。特に機能性有機材料の分野においてめざましい技
術革新が進み、導電性材料に限ってみても、ポリアセチ
レン、ポリパラフェニレン、ポリピロール、ポリアニリ
ンなどの電子共役系高分子物質に、電子受容性化合物を
ドーパントとしてドープした導電性高分子材料が開発さ
れ、例えば、キャパシタ電極材料、電池電極材料、帯電
防止材料等として既に実用化されている例もある。
実用性を拡大するためには、電気伝導度のさらなる向上
を図るとともに、耐熱性や耐湿性といった環境安定性が
大きな課題となっている。
わけ環境安定性に関して、本発明者は特開2000−2
04074号公報において、m-スルホベンズアミド類を
ドーパント剤として用いたπ共役系高分子化合物が、高
導電性と高耐熱性を兼ね備える材料であることを開示し
ている。
ングしたポリピロールでは、150℃の空気中で保持し
た場合でも電気伝導度の低下は極めて緩やかで、100
S/cm以上の高い導電性を保ち続けることを見出して
いる。惜しむらくは、m-スルホベンズアミドでドープし
たポリピロールには、高温度に加え水分が共存した場合
導電性が低下するという問題点がある。従って導電性高
分子材料の実用性拡大には、高温下で水分の共存する条
件すなわち高湿度下での安定性向上が不可欠といえる。
分子化合物に、高い導電性とともに、高温・高湿度環境
下においても高い導電性を維持できるドーパント剤の提
供を目的とする。
一般式[1]で表されるスルファニル酸誘導体からなる
ことを特徴とする導電性高分子用ドーパント剤が提供さ
れる。
り、R1〜R9は、互いに同一でも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭素数20以下のアルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基であり、またR1〜R9の任意の
2つ以上で芳香族炭化水素または脂環式炭化水素を形成
してもよい。
ト剤に用いられるスルファニル酸誘導体は、下記一般式
[1]で表される。
り、R1〜R9は、互いに同一でも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭素数20以下のアルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基であり、またR1〜R9の任意の
2つ以上で芳香族炭化水素または脂環式炭化水素を形成
してもよい。
ルホン酸基の対陽イオンが、水素イオン、アルカリ金属
イオン、アルカリ土類金属イオンおよび周期律表第VIII
族の遷移金属イオンからなる群より選ばれるイオンであ
ることが好ましい。さらには、前記一般式[1]のスル
ホン酸基の対陽イオンが、水素イオン、ナトリウムイオ
ン、カリウムイオンおよび鉄(III)イオンからなる群
より選ばれるイオンであることが好ましい。
体的例としては、4-ベンゾイルアミノベンゼンスルホン
酸、4-ベンゾイルアミノ-3-メチルベンゼンスルホン
酸、4-ベンゾイルアミノ-2-メチルベンゼンスルホン
酸、4-ベンゾイルアミノ-3-メトキシベンゼンスルホン
酸、4-ベンゾイルアミノ-3-クロロベンゼンスルホン
酸、4-ベンゾイルアミノ-1-ナフタレンスルホン酸、4-
(4-メチルベンゾイルアミノ)-ベンゼンスルホン酸、4-
(4-メチルベンゾイルアミノ)-3-メチルベンゼンスルホ
ン酸、4-(4-メチルベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼ
ンスルホン酸、4-(4-メチルベンゾイルイアミノ)-3-メ
トキシベンゼンスルホン酸、4-(4-メチルベンゾイルア
ミノ)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(4-メチルベン
ゾイルアミノ)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(2-メチル
ベンゾイルアミノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(2-メチル
ベンゾイルアミノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(2
-メチルベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン
酸、4-(2-メチルベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼ
ンスルホン酸、4-(2-メチルベンゾイルアミノ)-3-クロ
ロベンゼンスルホン酸、4-(2-メチルベンゾイルアミノ)
-1-ナフタレンスルホン酸、4-(4-エチルベンゾイルアミ
ノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-エチルベンゾイルアミ
ノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-エチルベンゾ
イルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-エチ
ルベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホン酸、
4-(4-エチルベンゾイルアミノ)-3-クロロベンゼンスル
ホン酸、4-(4-エチルベンゾイルアミノ)-1-ナフタレン
スルホン酸、4-(4-n-ブチルベンゾイルアミノ)-ベンゼ
ンスルホン酸、4-(4-n-ブチルベンゾイルアミノ)-3-メ
チルベンゼンスルホン酸、4-(4-n-ブチルベンゾイルア
ミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-n-ブチルベ
ンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(4
-n-ブチルベンゾイルアミノ)-3-クロロベンゼンスルホ
ン酸、4-(4-n-ブチルベンゾイルアミノ)-1-ナフタレン
スルホン酸、4-(4-tert-ブチルベンゾイルアミノ)-ベン
ゼンスルホン酸、4-(4-tert-ブチルベンゾイルアミノ)-
3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-tert-ブチルベンゾ
イルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-tert-
ブチルベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホン
酸、4-(4-tert-ブチルベンゾイルアミノ)-3-クロロベン
ゼンスルホン酸、4-(4-tert-ブチルベンゾイルアミノ)-
1-ナフタレンスルホン酸、4-(4-n-オクチルベンゾイル
アミノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-n-オクチルベンゾ
イルアミノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-n-オ
クチルベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン
酸、4-(4-n-オクチルベンゾイルアミノ)-3-メトキシベ
ンゼンスルホン酸、4-(4-n-オクチルベンゾイルアミノ)
-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(4-n-オクチルベンゾ
イルアミノ)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(2,6-ジメチ
ルベンゾイルアミノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジ
メチルベンゾイルアミノ)-3-メチルベンゼンスルホン
酸、4-(2,6-ジメチルベンゾイルアミノ)-2-メチルベン
ゼンスルホン酸、4-(2,6-ジメチルベンゾイルアミノ)-3
-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジメチルベンゾ
イルアミノ)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジ
メチルベンゾイルアミノ)-1-ナフタレンスルホン酸、4-
(2,4,6-トリイソプロピルベンゾイルアミノ)-ベンゼン
スルホン酸、4-(2,4,6-トリイソプロピルベンゾイルア
ミノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(2,4,6-トリイ
ソプロピルベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホ
ン酸、4-(2,4,6-トリイソプロピルベンゾイルアミノ)-3
-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(2,4,6-トリイソプロ
ピルベンゾイルアミノ)-3-クロロベンゼンスルホン酸、
4-(2,4,6-トリイソプロピルベンゾイルアミノ)-1-ナフ
タレンスルホン酸、4-[(ビフェニル-4-カルボニル)-ア
ミノ]-ベンゼンスルホン酸、4-[(ビフェニル-4-カルボ
ニル)-アミノ]-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-[(ビフ
ェニル-4-カルボニル)-アミノ]-2-メチルベンゼンスル
ホン酸、4-[(ビフェニル-4-カルボニル)-アミノ]-3-メ
トキシベンゼンスルホン酸、4-[(ビフェニル-4-カルボ
ニル)-アミノ]-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-[(ビフ
ェニル-4-カルボニル)-アミノ]-1-ナフタレンスルホン
酸、4-[(ナフタレン-1-カルボニル)-アミノ]-ベンゼン
スルホン酸、4-[(ナフタレン-1-カルボニル)-アミノ]-3
-メチルベンゼンスルホン酸、4-[(ナフタレン-1-カルボ
ニル)-アミノ]-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-[(ナフ
タレン-1-カルボニル)-アミノ]-3-メトキシベンゼンス
ルホン酸、4-[(ナフタレン-1-カルボニル)-アミノ]-3-
クロロベンゼンスルホン酸、4-[(ナフタレン-1-カルボ
ニル)-アミノ]-1-ナフタレンスルホン酸、4-[(ナフタレ
ン-2-カルボニル)-アミノ]-ベンゼンスルホン酸、4-
[(ナフタレン-2-カルボニル)-アミノ]-3-メチルベンゼ
ンスルホン酸、4-[(ナフタレン-2-カルボニル)-アミノ]
-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-[(ナフタレン-2-カル
ボニル)-アミノ]-3-メトキシベンゼンスルホン酸、4-
[(ナフタレン-2-カルボニル)-アミノ]-3-クロロベンゼ
ンスルホン酸、4-[(ナフタレン-2-カルボニル)-アミノ]
-1-ナフタレンスルホン酸、4-[(アントラセン-9-カルボ
ニル)-アミノ]-ベンゼンスルホン酸、4-[アントラセン-
9-カルボニル)-アミノ]-3-メチルベンゼンスルホン酸、
4-[(アントラセン-9-カルボニル)-アミノ]-2-メチルベ
ンゼンスルホン酸、4-[(アントラセン-9-カルボニル)-
アミノ]-3-メトキシベンゼンスルホン酸、4-[(アントラ
セン-9-カルボニル)-アミノ]-3-クロロベンゼンスルホ
ン酸、4-[(アントラセン-9-カルボニル)-アミノ]-1-ナ
フタレンスルホン酸、4-(4-メトキシベンゾイルアミノ)
-ベンゼンスルホン酸、4-(4-メトキシベンゾイルアミ
ノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-メトキシベン
ゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-メ
トキシベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホン
酸、4-(4-メトキシベンゾイルアミノ)-3-クロロベンゼ
ンスルホン酸、4-(4-メトキシベンゾイルアミノ)-1-ナ
フタレンスルホン酸、4-(2-メトキシベンゾイルアミノ)
-ベンゼンスルホン酸、4-(2-メトキシベンゾイルアミ
ノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(2-メトキシベン
ゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(2-メ
トキシベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホン
酸、4-(2-メトキシベンゾイルアミノ)-3-クロロベンゼ
ンスルホン酸、4-(2-メトキシベンゾイルアミノ)-1-ナ
フタレンスルホン酸、4-(4-エトキシベンゾイルアミノ)
-ベンゼンスルホン酸、4-(4-エトキシベンゾイルアミ
ノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-エトキシベン
ゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-エ
トキシベンゾイルイアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホ
ン酸、4-(4-エトキシベンゾイルアミノ)-3-クロロベン
ゼンスルホン酸、4-(4-エトキシベンゾイルアミノ)-1-
ナフタレンスルホン酸、4-(4-ブトキシベンゾイルアミ
ノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-ブトキシベンゾイルア
ミノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-ブトキシベ
ンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-
ブトキシベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホ
ン酸、4-(4-ブトキシベンゾイルアミノ)-3-クロロベン
ゼンスルホン酸、4-(4-ブトキシベンゾイルアミノ)-1-
ナフタレンスルホン酸、4-(4-イソプロポキシベンゾイ
ルアミノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-イソプロポキシ
ベンゾイルアミノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4
-イソプロポキシベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼン
スルホン酸、4-(4-イソプロポキシベンゾイルアミノ)-3
-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(4-イソプロポキシベ
ンゾイルアミノ)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(4-
イソプロポキシベンゾイルアミノ)-1-ナフタレンスルホ
ン酸、4-(3,5-ジメトキシベンゾイルアミノ)-ベンゼン
スルホン酸、4-(3,5-ジメトキシベンゾイルアミノ)-3-
メチルベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジメトキシベンゾ
イルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジ
メトキシベンゾイルアミノ)-3-メトキシベンゼンスルホ
ン酸、4-(3,5-ジメトキシベンゾイルアミノ)-3-クロロ
ベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジメトキシベンゾイルア
ミノ)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(2,6-ジメトキシベ
ンゾイルアミノ)-ベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジメト
キシベンゾイルアミノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、
4-(2,6-ジメトキシベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼ
ンスルホン酸、4-(2,6-ジメトキシベンゾイルアミノ)-3
-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジメトキシベン
ゾイルアミノ)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(2,6-
ジメトキシベンゾイルアミノ)-1-ナフタレンスルホン
酸、4-(2,4,6-トリメトキシベンゾイルアミノ)-ベンゼ
ンスルホン酸、4-(2,4,6-トリメトキシベンゾイルアミ
ノ)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(2,4,6-トリメト
キシベンゾイルアミノ)-2-メチルベンゼンスルホン酸、
4-(2,4,6-トリメトキシベンゾイルアミノ)-3-メトキシ
ベンゼンスルホン酸、4-(2,4,6-トリメトキシベンゾイ
ルアミノ)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(2,4,6-ト
リメトキシベンゾイルアミノ)-1-ナフタレンスルホン
酸、4-[(ベンゾ[1,3]ジオキソール-5-カルボニル)-アミ
ノ]-ベンゼンスルホン酸、4-[(ベンゾ[1,3]ジオキソー
ル-5-カルボニル)-アミノ]-3-メチルベンゼンスルホン
酸、4-[(ベンゾ[1,3]ジオキソール-5-カルボニル)-アミ
ノ]-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-[(ベンゾ[1,3]ジ
オキソール-5-カルボニル)-アミノ]-3-メトキシベンゼ
ンスルホン酸、4-[(ベンゾ[1,3]ジオキソール-5-カルボ
ニル)-アミノ]-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-[(ベン
ゾ[1,3]ジオキソール-5-カルボニル)-アミノ]-1-ナフタ
レンスルホン酸、4-(4-トリフルオロメチルベンゾイル)
-ベンゼンスルホン酸、4-(4-トリフルオロメチルベンゾ
イル)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-トリフルオ
ロメチルベンゾイル)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-
(4-トリフルオロメチルベンゾイル)-3-メトキシベンゼ
ンスルホン酸、4-(4-トリフルオロメチルベンゾイル)-3
-クロロベンゼンスルホン酸、4-(4-トリフルオロメチル
ベンゾイル)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(4-クロロベ
ンゾイル)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-クロロベンゾイ
ル)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-クロロベンゾ
イル)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-クロロベン
ゾイル)-3-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(4-クロロ
ベンゾイル)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(4-クロ
ロベンゾイル)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(4-ブロモ
ベンゾイル)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-ブロモベンゾ
イル)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-ブロモベン
ゾイル)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-ブロモベ
ンゾイル)-3-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(4-ブロ
モベンゾイル)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(4-ブ
ロモベンゾイル)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(4-フル
オロベンゾイル)-ベンゼンスルホン酸、4-(4-フルオロ
ベンゾイル)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-フル
オロベンゾイル)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(4-
フルオロベンゾイル)-3-メトキシベンゼンスルホン酸、
4-(4-フルオロベンゾイル)-3-クロロベンゼンスルホン
酸、4-(4-フルオロベンゾイル)-1-ナフタレンスルホン
酸、4-(2,6-ジクロロベンゾイル)-ベンゼンスルホン
酸、4-(2,6-ジクロロベンゾイル)-3-メチルベンゼンス
ルホン酸、4-(2,6-ジクロロベンゾイル)-2-メチルベン
ゼンスルホン酸、4-(2,6-ジクロロベンゾイル)-3-メト
キシベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジクロロベンゾイル)
-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジクロロベンゾ
イル)-1-ナフタレンスルホン酸、4-(2,6-ジフルオロベ
ンゾイル)-ベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジフルオロベ
ンゾイル)-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-(2,6-ジフ
ルオロベンゾイル)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-
(2,6-ジフルオロベンゾイル)-3-メトキシベンゼンスル
ホン酸、4-(2,6-ジフルオロベンゾイル)-3-クロロベン
ゼンスルホン酸、4-(2,6-ジフルオロベンゾイル)-1-ナ
フタレンスルホン酸、4-(3,5-ジフルオロベンゾイル)-
ベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジフルオロベンゾイル)-3
-メチルベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジフルオロベンゾ
イル)-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジフルオ
ロベンゾイル)-3-メトキシベンゼンスルホン酸、4-(3,5
-ジフルオロベンゾイル)-3-クロロベンゼンスルホン
酸、4-(3,5-ジフルオロベンゾイル)-1-ナフタレンスル
ホン酸、4-(3,5-ジクロロベンゾイル)-ベンゼンスルホ
ン酸、4-(3,5-ジクロロベンゾイル)-3-メチルベンゼン
スルホン酸、4-(3,5-ジクロロベンゾイル)-2-メチルベ
ンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジクロロベンゾイル)-3-メ
トキシベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジクロロベンゾイ
ル)-3-クロロベンゼンスルホン酸、4-(3,5-ジクロロベ
ンゾイル)-1-ナフタレンスルホン酸、4-ペンタフルオロ
ベンゾイル-ベンゼンスルホン酸、4-ペンタフルオロベ
ンゾイル-3-メチルベンゼンスルホン酸、4-ペンタフル
オロベンゾイル-2-メチルベンゼンスルホン酸、4-ペン
タフルオロベンゾイル-3-メトキシベンゼンスルホン
酸、4-ペンタフルオロベンゾイル-3-クロロベンゼンス
ルホン酸、4-ペンタフルオロベンゾイル-1-ナフタレン
スルホン酸、及び、上記化合物のナトリウム塩またはカ
リウム塩または鉄(III)塩等を挙げることができる。
ゼンスルホン酸が好ましい。
誘導体は、スルファニル酸類と安息香酸類とを脱水縮合
する方法、スルファニル酸類と安息香酸塩化物類とを脱
塩化水素縮合する方法、ベンズアミド類を適当なスルホ
ン化剤と接触させスルホン化する方法などにより製造す
ることができる。
おいて、反応条件は特に限定されない。例えば、原料を
構成するスルファニル酸類と、安息香酸塩化物類との反
応比率は、通常1:1〜1:5(モル比)の範囲で行わ
れる。また、反応溶媒を使用する場合には、原料である
スルファニル酸類と、安息香酸塩化物を溶解し、かつ溶
媒自体がアミド化されないものであればよく、例えばジ
エチルエーテル、四塩化炭素、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、クロロホルム、ジクロロメタン、ピリジン、
トリエチルアミン、ジブチルエーテル等を挙げることが
できる。
水素の捕捉剤として3級アミン類を共存させることが好
ましく、安息香酸塩化物1モルに対して1〜10モルの
範囲で添加する。3級アミン類としては、トリエチルア
ミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンを例示す
ることができる。
発熱による副反応の進行が避けられ、かつ原料であるス
ルファニル酸類と、安息香酸塩化物類および生成物が分
解しない温度であれば、特に限定されず、通常0〜15
0℃で行われる。このような、反応条件を採用すること
によって、高い収率で、スルファニル酸誘導体を合成す
ることができる。得られたスルファニル酸誘導体は、核
磁気共鳴スペクトル、質量分析スペクトルにより構造を
同定することができる。
電子共役系高分子物質にドーピングするドーパント剤と
して有用であり、長期間に亘って導電性を発現する導電
性高分子材料を与える。電子共役系高分子物質として
は、電子共役系の分子構造を有する高分子化合物であれ
ばいずれをも使用することができ、具体的には例えば、
下記一般式[2]で表されるピロール系、一般式[3]
で表されるチオフェン系、一般式[4]で表されるアニ
リン系のうち少なくとも1つを繰り返し単位として構成
された共役系高分子を挙げることができる。
く、水素原子または炭素原子数1〜20の直鎖状、環
状、分岐状のアルキル基またはアルコキシ基である。ま
た、*は繰り返し単位の結合位置を示す([3]式、
[4]式も同様)。
く、水素原子または炭素原子数1〜20の直鎖状、環
状、分岐状のアルキル基またはアルコキシ基である。
水素原子または炭素原子数1〜20の直鎖状、環状、分
岐状のアルキル基またはアルコキシ基である。
式[2]、[3]、[4]のいずれか1つを繰り返し単
位として構成される共役高分子が好ましく、特に、一般
式[2]を繰り返し単位として構成されるポリピロール
系の共役高分子が好ましい。
ァニル酸誘導体をドーピングする方法としては、該化合
物の溶液に浸漬する方法、該化合物を支持電解質として
電解酸化重合する方法、該化合物の遷移金属塩を用いて
化学酸化重合する方法等の一般的に用いられる方法が使
用できる。
ァニル酸誘導体を溶解する際の溶媒としては、溶解力の
ある溶媒であればいずれをも使用することができ、例え
ば、水、アセトニトリル、プロピレンカーボネート、ニ
トロベンゼン、ベンゾニトリル等を使用することができ
る。
してスルファニル酸誘導体と、前記高分子物質の繰り返
し単位を構成し得る単量体とからなる溶液に、所定の電
流あるいは電位を印加することによりドーピングされ
る。繰り返し単位を構成し得る単量体としては、例え
ば、ピロール、チオフェン、アニリン、trans-1,2-ジ
(2-チエニル)エチレン、trans-1,2-ジ(2−チエニ
ル)ブタジエン、3,4-エチレンジオキシチオフェン等が
挙げられる。
は、スルファニル酸誘導体を溶解し、かつ繰り返し単位
を構成し得る単量体を溶解するものであればよく、例え
ば、水、ジメチルフォルムアミド、アセトニトリル、プ
ロピレンカーボネート、エチレングリコール、ニトロベ
ンゼン、ベンゾニトリル等が挙げられる。電解酸化重合
は、通常、−100〜150℃の温度範囲、好ましくは
0〜50℃の温度範囲で行うことができ、定電流電解
法、定電位電解法のいずれの方法であってもよい。ま
た、電解酸化重合は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰
囲気下で行うことが望ましい。
ファニル酸誘導体の共役塩基を配位子とする遷移金属錯
体と、電子共役系の分子構造を有する高分子化合物を形
成する繰り返し単位となる単量体とを溶媒中で接触させ
ることで、重合とともにドーピングが行われる。遷移金
属錯体を構成する中心金属としては、例えば鉄、コバル
ト、ルテニウム等を挙げることができ、これらの中でも
特に鉄が好ましい。遷移金属錯体は、通常単量体1モル
に対して1〜100モルの量で使用される。
は、前記と同様、ピロール、チオフェン、アニリン、tr
ans-1,2-ジ(2-チエニル)エチレン、trans-1,2-ジ(2-
チエニル)ブタジエン、3,4-エチレンジオキシチオフェ
ン等を使用することができる。反応で使用される溶媒
は、上記遷移金属錯体ならびに単量体を溶解するもので
あればよく、例えば、水、ジメチルフォルムアミド、ア
セトニトリル、テトラヒドロフラン、プロピレンカーボ
ネート、エチレングリコール等を挙げることができる。
重合温度は0〜50℃が好ましく、反応時間は1〜48
時間が好ましい。また、重合は窒素やアルゴン等の不活
性ガス雰囲気下で行われることが望ましい。
ル酸誘導体をドーピングした電子共役系高分子物質は、
高い導電性と共に、高温・高湿度環境下においても高い
導電性を維持できるので、固体コンデンサー、帯電防止
フィルム、電磁波シールド材、導電性接着剤、導電性塗
料、配線材料、二次電池用電極材料、表示材料、過電流
保護素子、半導体素子等に好適に用いることができる。
るが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものでは
ない。
にスルファニル酸17.3gとピリジン150mlを加
え混合した。この混合物を攪拌しながら、滴下ロートか
ら塩化ベンゾイル17.6gをゆっくりと滴下した。そ
の後、シリコンオイルバスで内温を70℃にまで加温
し、反応液が均一になってから、さらに2時間攪拌を行
った。その後、反応液を室温まで冷却したところ、白色
固体が析出した。この固形成分を桐山ロート(ろ紙 N
o.5B)でろ別した。得られたろ滓を室温で12時間
真空乾燥した結果、33.5gの固形成分が得られた。
に入れ、ここに濃硫酸100mlを加えて、攪拌、溶解
した後、濃硫酸溶液を氷で冷却しながら100gの氷を
加えて酸析した。析出した白色固体成分をグラスフィル
ター(G3)でろ別した後、ろ滓をアセトン100ml
で洗浄し、室温で12時間真空乾燥した。その結果、1
1.0gの4-ベンゾイルアミノベンゼンスルホン酸が得
られた。
トル(m/z=277)および1H-NMRで行った結果、目
的物が得られたことが確認できた。 7.44(2H,t) 7.51(1H,d) 7.91(4H,m) 7.95(2H,d)
ベンゾイルアミノベンゼンスルホン酸27.7gを50
0mlのビーカー中で純水200mlに溶解した。ここ
に、炭酸ナトリウムを加え、水溶液のpHを7に調整し
た。エバポレーターで水を減圧留去した後、2日間真空
乾燥し、4-ベンゾイルアミノベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム塩25.1gを得た。
(III)9水和物61gを入れ、純水100mlに溶解
した。これに、15%アンモニア水を加え、水溶液のp
Hを12とした。この時、水酸化鉄(III)が生成し褐
色固体が得られた。この褐色固体を桐山ロート(No.
5B)でろ過し、水洗を3回繰り返した後、1晩真空下
で乾燥した。
ミノベンゼンスルホン酸27.7gを純水500mlに
溶解した水溶液を調整し、これに得られた水酸化鉄全量
を加えて6時間攪拌した。水溶液中の不溶物をろ別した
後、ろ液をエバポレーションし溶媒を留去した。さらに
真空下で1晩乾燥し、トリス−(4-ベンゾイルアミノベ
ンゼンスルホニル)鉄(III)塩12.4gを得た。
イルアミノベンゼンスルホン酸5.54gとピロール
1.34gを純水200mlに溶解し電解酸化重合反応
用溶液を調製した。この溶液に窒素ガスを約15分間バ
ブリングし窒素置換した後、4cm四方のステレンス(s
us304)板2枚を1cm間隔で浸漬し作用極および
対極とした。
流(1.25mA/cm2)で40分間通電し、電解酸化重合を行
った。電極上に生成したポリピロールフィルムを純水、
アセトンで洗浄した後、電極から剥離し、真空中で12
時間乾燥した。得られたフィルムの電気伝導度を四探針
法で測定した結果、75S/cmであった。
150℃の高温下で8時間保持した後、電気伝導度を四
探針法で測定した結果、67S/cmであった。
ムを90℃の純水中に8時間浸漬した。次いでポリピロ
ールフィルムを純水中より取り出し、真空乾燥した後に
電気伝導度を四探針法で測定した結果、154S/cm
であった。
イルアミノベンゼンスルホン酸ナトリウム塩5.98g
とピロール1.34gを純水200mlに溶解し電解酸
化重合反応用溶液を調製した。この溶液に窒素ガスを約
15分間バブリングし窒素置換した後、4cm四方のステ
レンス(sus304)板2枚を1cm間隔で浸漬し作
用極および対極とした。
流(1.25mA/cm2)で40分間通電し、電解酸化重合を行
った。電極上に生成したポリピロールフィルムは純水、
アセトンで洗浄した後、電極から剥離し、真空中で12
時間乾燥した。得られたフィルムの電気伝導度を四探針
法で測定した結果、87S/cmであった。
150℃の高温下で7.5時間保持した後、電気伝導度
を四探針法で測定した結果、80S/cmであった。
ムを90℃の純水中に浸漬し、7.5時間保持した。次
いでポリピロールフィルムを純水中より取り出し、真空
乾燥した後に電気伝導度を四探針法で測定した結果、1
15S/cmであった。
(4-ベンゾイルアミノベンゼンスルホニル)鉄(III)
塩1.4gを100mlガラス容器中で純水50mlに
溶解した。この水溶液にピロール0.13gを加え攪拌
を開始した。ピロールを加えてから数秒後に黒色固体が
析出しはじめた。攪拌をさらに1晩継続した後、黒色固
体を桐山ロート(No.5A)でろ別した。得られた固
体をアセトン10mlで洗浄した後、真空下で1晩乾燥
し、重合体41mgを得た。
赤外スペクトルサンプル成型用の錠剤成型器に仕込み、
200kg/cmの荷重で5分間処理したところ、直径
1cm、厚さ180μmの円盤状の板を得ることができ
た。得られた円盤状の板の電気伝導度を四探針法で測定
した結果、43S/cmであった。
℃の高温下で7.5時間保持した後、電気伝導度を四探
針法で測定した結果、18S/cmであった。
純水中に浸漬し、7.5時間保持した。次いで円盤状の
ポリピロール板を純水中より取り出し、真空乾燥した後
に電気伝導度を四探針法で測定した結果、61S/cm
であった。
導電性高分子物質にドーピングして得られた導電性高分
子材料は、高い電気伝導度、耐熱性、耐熱水性を兼ね備
えた材料となる。それにより、導電性高分子材料は、キ
ャパシタ電極材料、電池電極材料等として利用すること
ができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 下記一般式[1]で表されるスルファニ
ル酸誘導体からなることを特徴とする導電性高分子用ド
ーパント剤。 【化1】 [1]式中、Xは対陽イオンを有するスルホン酸基であ
り、R1〜R9は、互いに同一でも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子、炭素数20以下のアルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基であり、またR1〜R9の任意の
2つ以上で芳香族炭化水素または脂環式炭化水素を形成
してもよい。 - 【請求項2】 前記一般式[1]において、スルホン酸
基の対陽イオンが、水素イオン、アルカリ金属イオン、
アルカリ土類金属イオンおよび周期律表第VIII族の遷移
金属イオンからなる群より選ばれるイオンであることを
特徴とする請求項1に記載の導電性高分子用ドーパント
剤。 - 【請求項3】 前記一般式[1]において、スルホン酸
基の対陽イオンが、水素イオン、ナトリウムイオン、カ
リウムイオン、鉄(III)イオンからなる群より選ばれ
るイオンであることを特徴とする請求項2に記載の導電
性高分子用ドーパント剤。 - 【請求項4】 前記一般式[1]において、R1〜R10
が水素原子であることを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の導電性高分子用ドーパント剤。
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JP2001255755A JP4377093B2 (ja) | 2001-08-27 | 2001-08-27 | 導電性高分子用ドーパント剤 |
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JP4377093B2 JP4377093B2 (ja) | 2009-12-02 |
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---|---|---|---|---|
WO2013022046A1 (ja) * | 2011-08-10 | 2013-02-14 | アイシン精機株式会社 | 有機強磁性体及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-08-27 JP JP2001255755A patent/JP4377093B2/ja not_active Expired - Fee Related
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