JP2003062901A

JP2003062901A - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム

Info

Publication number: JP2003062901A
Application number: JP2001255800A
Authority: JP
Inventors: Ieyasu Kobayashi; 家康小林; Hirobumi Murooka; 博文室岡
Original assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Current assignee: Toyobo Film Solutions Ltd
Priority date: 2001-08-27
Filing date: 2001-08-27
Publication date: 2003-03-05

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】リニアトラック方式の大容量デジタルデータ
ストレージ用途において、テープ幅の寸法変化によるト
ラックずれによるエラーが発生し難く、出力特性を向上
させた磁気記録媒体のベースフィルムとして有用な二軸
配向ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】（１）フィルムが、エステル形成官能基
を有するスルホン酸４級ホスホニウム塩を重合体鎖中に
含有し、かつフィルム状溶融物の交流体積抵抗率の値が
６．５×１０⁸Ω・ｃｍ以下であるポリエステルにより
形成され、（２）フィルムの幅方向の温度膨張係数αｔ
が＋１０×１０^-6〜−１０×１０^-6／℃、湿度膨張係数
αｈが＋１５×１０^-6〜＋５×１０^-6／％ＲＨで、
（３）フィルムの縦方向に２２ＭＰａの荷重をかけ、４
９℃、９０％ＲＨで７２時間処理したときの処理前後の
幅方向寸法変化が０．３５％以下であることを特徴とす
る磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用二軸
配向ポリエステルフィルムに関する。更に詳しくは、生
産性に優れ、幅方向の厚み斑が小さく、加工歩留まりが
高く、かつ寸法安定性に優れた磁気記録媒体用二軸配向
ポリエステルフィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気テープのベースフィルムには、従
来、二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムが用
いられている。しかし、このベースフィルムでは、記録
再生の長時間化を図るためにテープ厚みを薄くすると、
テープの走行性や耐久性が悪化するという問題を生じ
る。

【０００３】そこで、このような問題点を解消するため
に、高ヤング率の二軸配向ポリエチレン２，６ナフタレ
ートフィルムを磁気テープのベースフィルムとして用い
ることが提案されている。

【０００４】しかしながら、高ヤング率の二軸配向ポリ
エチレン２，６ナフタレートフィルムを用いた磁気テー
プでも、記録再生のさらなる長時間化を図るためにはテ
ープ厚みをさらに薄くする必要があり、かつ延伸による
分子配向を上げてフィルムのヤング率をさらに向上させ
る必要があるが、そのときにいくつかの問題が顕在化し
てくる。

【０００５】即ち、フィルムは厚みを薄くするほど生産
性が低下する。これを補うため製膜速度を速くすると、
フィルムの幅方向の厚み斑が大きくなり、磁性層またバ
ックコート層を塗布するとき、均一に塗布できず、電磁
変換特性が悪化する。また、コーティッドウェブをロー
ル状に巻いたとき、ロール形状（巻き姿）が悪くなり、
スリット時、スリット幅の変動原因となり、これが後述
のトラックズレの原因ともなる。この問題は、塗布型磁
気記録媒体、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体において、
共に生じる。特に、ポリエチレン２，６ナフタレート
は、溶融状態での電気抵抗が大きいので冷却ドラム（キ
ャスティングドラムともいう）に静電密着させるときに
電荷の乗りが悪く、ドラムへの密着性が弱いために高速
製膜を行なうのがより一層難しい。従って、この問題の
解決への要望は、高記録密度の磁気記録媒体に用いるフ
ィルムほど強い。

【０００６】一方、ＱＩＣ、ＤＬＴ、更に高容量のスー
パーＤＬＴ、ＬＴＯ等、リニアトラック方式を採用する
データストレージ用途では、テープの高容量化を実現す
るために、トラックピッチを非常に狭くしており、この
ためにテープ幅方向の寸法変化によって、トラックずれ
を引き起こし、エラーが発生するという問題をかかえて
いる。この寸法変化は、温湿度変化によるものと、高張
力下で高温高湿の状態で繰返し走行させたときに生じる
幅方向の経時収縮によるものとがある。この寸法変化が
大きいと、トラックずれを引起こし、電磁変換時のエラ
ーが発生する。特に、後者の場合、テープ記録高容量化
に伴ってテープ厚みを薄くすることにより顕著となり、
この寸法変化の改善が新たな課題となっている。この幅
方向の経時収縮は、ベースフィルムの縦方向ヤング率を
大きくすることで良化できるが、他方ではポリマー特性
と製膜性の点から、縦方向のヤング率を大きくすればす
る程、横方向のヤング率は小さくなり、結果として、前
者の温湿度変化による寸法変化が大きくなり、両者を両
立させることが難しい状況にある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る問題を解消し、フィルムの薄膜化、高生産性、厚みの
均一性を確保しながら、特にリニアトラック方式の大容
量デジタルデータストレージ用途において、テープ幅の
寸法変化によるトラックずれによるエラーが発生し難
く、出力特性を向上させた磁気記録媒体のベースフィル
ムとして有用な二軸配向ポリエステルフィルムを提供す
ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、（１）フィルムが、ポリマーの全酸成分に対
して０．１〜４５ｍｍｏｌ％のエステル形成官能基を有
するスルホン酸４級ホスホニウム塩を重合体鎖中に含有
し、かつフィルム状溶融物の交流体積抵抗率の値が６．
５×１０⁸Ω・ｃｍ以下であるポリエステルにより形成
され、（２）フィルムの幅方向の温度膨張係数αｔが＋
１０×１０^-6〜−１０×１０^-6／℃）、湿度膨張係数α
ｈが＋１５×１０^-6〜＋５×１０^-6／％ＲＨで、かつ
（αt＋２αh）の値が４５×１０^-6以下であり、（３）
フィルムの縦方向に２２ＭＰａの荷重をかけ、４９℃、
９０％ＲＨで７２時間処理したときの処理前後の幅方向
寸法変化が０．３５％以下であり、かつ（４）フィルム
の厚みが２〜７μｍである、ことを特徴とする磁気記録
媒体用二軸配向ポリエステルフィルムによって達成され
る。

【０００９】本発明は、好ましい態様として、フィルム
の縦方向ヤング率が７ＧＰａ以上で、横方向ヤング率よ
り大きく、かつ縦方向ヤング率と横方向ヤング率の和が
１３〜１８ＧＰａであること、フィルムが単層フィルム
であり、その表面の表面粗さ（ＷＲａ）が０．２〜１０
ｎｍであること、フィルムが積層フィルムであり、その
磁性層を設ける側の表面粗さ（ＷＲａ）が０．２〜１０
ｎｍ、非磁性層側の表面粗さ（ＷＲａ）が５〜２０ｎｍ
であること、ポリエステルフィルムの素材がポリエチレ
ン−２，６−ナフタレートであること、フィルムがディ
ジタル記録方式もしくはリニア記録方式の磁気記録媒体
用であること、フィルムが塗布型磁気記録媒体用若しく
は強磁性金属薄膜型磁気記録媒体用であることを包含す
る。

【００１０】[ポリエステル]本発明におけるポリエステ
ルとしては、芳香族ジカルボン酸成分と脂肪族グリコー
ル成分から主としてなる芳香族ポリエステルが好まし
い。ここで、芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば
テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、イソフタル
酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカ
ルボン酸などを挙げることができる。また、脂肪族グリ
コール成分としては、例えばエチレングリコール、トリ
メチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペン
タメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デ
カメチレングリコールなどの炭素数２〜１０のポリメチ
レングリコールあるいはシクロヘキサンジメタノールな
どの脂肪族ジオールなどを挙げることができる。

【００１１】前記ポリエステルのうちでも、特にポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レートをはじめとして、例えば全酸成分の８０モル％以
上がテレフタル酸または２，６−ナフタレンジカルボン
酸であり、全グリコール成分の８０モル％以上がエチレ
ングリコールである共重合体が好ましい。その際、表面
平坦性、乾熱劣化性を損なわない程度であれば、全酸成
分の２０モル％以下は、テレフタル酸または２，６−ナ
フタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸で
あることができ、また例えば、アジピン酸、セバチン酸
などの脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，４−
ジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸などであること
ができる。また、全グリコール成分の２０モル％以下
は、エチレングリコール以外の上記グリコールであるこ
とができ、また例えば、ハイドロキノ、レゾルシン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなど
の芳香族ジオール、１，４−ジヒドロキシジメチルベン
ゼンなどの芳香環を有する脂肪族ジオール、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラ
メチレングリコールなどのポリアルキレングリコール
（ポリオキシアルキレングリコール）などであることも
できる。

【００１２】また、本発明におけるポリエステルには、
本発明の効果を損なわないかぎり、例えばヒドロキシ安
息香酸などの芳香族オキシ酸、−ヒドロキシカプロン酸
などの脂肪族オキシ酸などのオキシカルボン酸に由来す
る成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボン酸成
分の総量に対し、２０モル％以下で共重合あるいは結合
するものも包含される。

【００１３】さらに、本発明におけるポリエステルに
は、実質的に線状である範囲の量であり、かつ、本発明
の効果を損なわないかぎり、例えば全酸成分に対し２モ
ル％以下の量で、３官能以上のポリカルボン酸またはポ
リヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエ
リスリトールなどを共重合したものも包含される。

【００１４】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
上記ポリエステルとしては、−クロロフェノール中の溶
液として３５℃で測定して求めた固有粘度が０．４〜
０．９、さらには０．５〜０．７、特に０．５１〜０．
６５のものが好ましい。

【００１５】本発明において、ポリエステルとしては、
薄膜化したときに高いヤング率が得られること、温度上
昇したときの寸法安定性や強度保持率が高いことなどか
ら、ポリエチレン−２，６−ナフタレート及びその共重
合体が特に好ましく用いられる。

【００１６】[スルホン酸４級ホスホニウム塩]本発明に
おけるポリエステルは、ポリマーの全酸成分に対して
０．１〜４５ｍｍｏ１％のエステル形成官能基を有する
スルホン酸４級ホスホニウム塩を重合体鎖中に含有する
ことを要する。このエステル形成性官能基を有するスル
ホン酸４級ホスホニウム塩としては、例えば下記式

【００１７】

【化２】

【００１８】（ここで、Ａはｎ＋２価の炭素数２〜18の
脂肪族基又は芳香族基であり、Ｘ¹およびＸ²は、同一も
しくは異なり、水素原子又はエステル形成性官能基であ
り、ｎは１または２であり、そして、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
およびＲ⁴は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８の
アルキル基、ベンジル基又は炭素数６〜１２のアリール
基である、但し、Ｘ¹およびＸ²が同時に水素原子である
ことはない。）で表わされる化合物が好ましく用いられ
る。

【００１９】上記式において、Ａは、ｎ＋２価、例えば
３価（ｎ＝１の場合）あるいは４価（ｎ＝２の場合）等
の炭素数２〜１８の脂肪族基又は芳香族基である。この
脂肪族基としては、例えば炭素数２〜１０の、直鎖状又
は分岐鎖状の、飽和又は不飽和の炭化水素基が好まし
い。この芳香族基としては、炭素数６〜１８の芳香族基
が好ましく、例えば３価又は４価のベンゼン骨格、ナフ
タレン骨格あるいはビフェニル骨格をより好ましいもの
として挙げることができる。かかる芳香族基は、Ｘ¹、
Ｘ²およびスルホン酸４級ホスホニウム塩基の他に、例
えば炭素数１〜１２のアルキル基等で置換されていても
よい。

【００２０】Ｘ¹およびＸ²は、同一もしくは異なること
ができ、水素原子又はエステル形成性官能基である。Ｘ
¹およびＸ²が同時に水素原子である場合には、ポリエス
テル鎖中に共重合される基を欠くことになる。Ｘ¹およ
びＸ²が同時に水素原子であることはなく、少なくとも
一方がエステル形成性官能基でなければならない。

【００２１】前記スルホン酸４級ホスホニウム塩の好ま
しい具体例としては、３，５−ジカルボキシベンゼンス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３，５−ジカル
ボキシベンゼンスルホン酸エチルトリブチルホスホニウ
ム塩、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸ベンジ
ルトリブチルホスホニウム塩、３．５−ジカルボキシベ
ンゼンスルホン酸フェニルトリブチルホスホニウム塩、
３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラフェニ
ルホスホニウム塩、３，５−ジカルボキシベンゼンスル
ホン酸エチルトリフェニルホスホニウム塩、３，５−ジ
カルボキシベンゼンスルホン酸ブチルトリフェニルホス
ホニウム塩、３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸
ベンジルトリフェニルホスホニウム塩、３，５−ジカル
ボメトキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウ
ム塩、３，５−ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸エ
チルトリブチルホスホニウム塩、３，５−ジカルボメト
キシベンゼンスルホン酸ベンジルトリブチルホスホニウ
ム塩、３，５−ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸フ
ェニルトリブチルホスホニウム塩、３，５−ジカルボメ
トキシベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム
塩、３，５−ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸エチ
ルトリフェニルホスホニウム塩、３．５−ジカルボメト
キシベンゼンスルホン酸ブチルトリフェニルホスホニウ
ム塩、３．５−ジカルボメトキシベンゼンスルホン酸ベ
ンジルトリフェニルホスホニウム塩、３−カルボキシベ
ンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、３−カ
ルボキシベンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウ
ム塩、３−カルボメトキシベンゼンスルホン酸テトラブ
チルホスホニウム塩、３−カルボメトキシベンゼンスル
ホン酸テトラフェニルホスホニウム塩、３，５−ジ（β
−ヒドロキシエトキシカルボニル）ベンゼンスルホン酸
テトラブチルホスホニウム塩、３，５−ジ（β−ヒドロ
キシエトキシカルボニル）ベンゼンスルホン酸テトラフ
ェニルホスホニウム塩、３−（β−ヒドロキシエトキシ
カルボニル）ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニ
ウム塩、３−（β−ヒドロキシエトキシカルボニル）ベ
ンゼンスルホン酸テトラフェニルホスホニウム塩・４−
ヒドロキシエトキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホ
スホニウム塩、ビスフェノールＡ−３，３’−ジ（スル
ホン酸テトラブチルホスホニウム塩）、２，６−ジカル
ボキシナフタレン−４−スルホン酸テトラブチルホスホ
ニウム塩、α−テトラブチルホスホニウムスルホコハク
酸等を挙げることができる。かかるスルホン酸４級ホス
ホニウム塩は単独で用いても二種以上を併用してもよ
い。

【００２２】このようなスルホン酸４級ホスホニウム塩
は、一般に、対応するスルホン酸とホスフィン類とのそ
れ自体公知の反応又は対応するスルホン酸金属塩と４級
ホスホニウムハライド類とのそれ自体公知の反応によ
り、容易に製造することができる。

【００２３】前記スルホン酸４級ホスホニウム塩の含有
量は、ポリエステルの全酸成分に対して０．１〜４５ｍ
ｍｏｌ％であり、好ましくは０．５〜１０ｍｍｏ１％、
特に好ましくは１〜５ｍｍｏ１％である。この量が０．
１ｍｍｏｌ％より少ないと、溶融ポリマーと冷却ドラム
（キャスティングドラムともいう）との静電密着性が小
さくなり、厚み斑の大きいフィルムとなってしまう。一
方、４５ｍｍｏ１％よりも多いと、スルホン酸４級ホス
ホニウム塩の一部が昇華して冷却ドラム表面に付着し、
冷却効果を妨げ、洗浄休止のため生産性が低下、またフ
ィルムに転写異物となって付着し、電磁変換特性を悪化
させるなど好ましくない。

【００２４】積層フィルムの場合、前記スルホン酸４級
ホスホニウム塩は、通常、各層を形成するポリエステル
に含有させるが、２層積層のフィルムでかつ一方の層厚
が著しく厚い場合には、層厚の厚い層のみに含有させる
ことも可能である。

【００２５】[溶融フィルムの交流体積抵抗率]本発明に
おける二軸配向ポリエステルフィルムは、ポリマー溶融
時の交流体積抵抗率が６．５×１０⁸Ωｃｍ以下である
ことを要し、好ましくは３．２×１０⁸〜５．６×１０⁶
Ωｃｍの範囲にある。この値を満足するポリエステルに
は、比較的早く回転する冷却ドラム上にも密着するに十
分な電荷量を付与することができるため、フィルム厚み
の均一性を低下させることなく、安定に高速製膜ができ
る。前述のスルホン酸４級ホスホニウム塩を含有してい
ない場合は、ポリマー溶融時の交流体積抵抗率が６．５
×１０⁸Ωｃｍを超え、ダイから押出されたフィルム状
溶融物と冷却ドラムとの密着位置が安定せず、厚み斑を
生じる。

【００２６】[膨張係数]本発明における二軸配向ポリエ
ステルフィルムは、フィルムの幅方向の温度膨張係数α
ｔが＋１０×１０^-6〜−１０×１０^-6／℃、好ましくは
＋８×１０^-6〜−５×１０^-6／℃で、更に好ましくは＋
５×１０^-6〜−５×１０^-6／℃で、湿度膨張係数αｈが
＋１５×１０^-6〜＋５×１０^-6／％ＲＨ、好ましくは＋
１３×１０^-6〜＋７×１０^-6／％ＲＨであり、更に好ま
しくは＋１２×１０^-6〜＋８×１０^-6／％ＲＨで、かつ
（αt＋２αh）の値が４５×１０^-6以下、好ましくは４
０×１０^-6以下、特に好ましくは３５×１０^-6以下であ
る。膨張係数αｔが＋１０×１０^-6／℃より大きいと、
温度変化によるフィルム幅方向の寸法変化が大きくなり
トラックずれを引き起こし、記録・再生のエラーを発生
させるようになる。一方、膨張係数αｔが−１０×１０
^-6／℃より小さくなると、フィルムの幅方向のヤング率
をかなり高くする必要があり、製膜時、フィルム破断が
頻発し、生産性が著しく悪化する。

【００２７】また、湿度膨張係数αｈが＋１５×１０^-6
／％ＲＨより大きいと、湿度変化によるフィルム幅方向
の寸法変化が大きくなりトラックずれを引き起こし、記
録・再生のエラーを発生させるようになる。一方、湿度
膨張係数αｈが＋５×１０^-6／％ＲＨより小さくなる
と、フィルムの幅方向のヤング率をかなり高くする必要
があり、製膜時、フィルム破断が頻発し、生産性が著し
く悪化する。

【００２８】さらにまた、（αｔ＋２αｈ）の値が４５
×１０^-6より大きいと、温湿度変化による寸法変化が大
きくなり、トラックずれを引き起こし、記録・再生のエ
ラーを発生させるようになる。

【００２９】[荷重下温湿度処理による幅寸法変化]本発
明における二軸配向ポリエステルフィルムは、１２．６
５ｍｍ幅のフィルムの縦方向に２２ＭＰaの荷重をか
け、温度４９℃、湿度９０％ＲＨで７２ｈｒ処理したと
き、処理前後の幅方向の寸法変化が０．３５％以下であ
ることを要する。この寸法変化は、好ましくは０．３０
％以下、特に好ましくは０．２５％以下である。この寸
法変化が０．３５％より大きいと、高張力下かつ高温高
湿の状態で、磁気テープを繰返し走行させたとき、幅方
向の寸法変化が大きくなり、トラックずれを引起こし、
記録・再生のエラーを発生させるようになる。

【００３０】荷重下温湿度処理による幅寸法変化を上記
の範囲に収めるためには、十分な延伸配向を特に縦方向
に与え、十分な結晶化処理を行う必要がある。

【００３１】［フィルムの厚み］本発明における二軸配
向ポリエステルフィルムは、単層フィルムでも積層フィ
ルムでも良いが、フィルム全体の厚みが２〜７μｍ、好
ましくは３〜７μｍ、さらに好ましくは４〜６μｍであ
る。この厚みが７μｍを超えると、テープ厚みが厚くな
りすぎ、例えばカセットに入れるテープ長さが短くな
り、十分な磁気記録容量が得られない。一方、２μｍ未
満では、フィルム厚みが薄いが故に、製膜時にフィルム
破断が多発し、またフィルム巻取り性が不良となり、良
好なフィルムロールが得られない。

【００３２】［フィルムの表面粗さ］本発明における二
軸配向ポリエステルフィルムは、単層フィルムでも積層
フィルムでも良いが、フィルムの磁性層を設ける側の表
面粗さＷＲａ（中心面平均粗さ）は０．２〜１０ｎｍ、
さらには１〜８ｎｍ、特に１〜５ｎｍであることが好ま
しい。また、ＷＲｚ（１０点平均粗さ）は５〜３００ｎ
ｍ、さらには１０〜２００ｎｍ、特に１０〜１００ｎｍ
であることが好ましい。この表面粗さＷＲａが１０ｎｍ
より大きい、あるいはＷＲｚが３００ｎｍより大きい
と、磁性層の表面が粗くなり、満足し得る電磁変換特性
が得られなくなる。一方、この表面粗さＷＲａが０．２
ｎｍ未満、あるいはＷＲｚが５ｎｍより未満であると、
表面が平坦になりすぎ、パスロールまたカレンダーでの
滑りが悪くなり、しわが発生し、磁性層の均一な塗布が
できなくなったり、また均一にカレンダーをかけられな
くなってしまう。

【００３３】前記二軸配向ポリエステルフィルムの非磁
性層側（例えば、バックコート層塗布側）の表面粗さＷ
Ｒａ（中心面平均粗さ）、ＷＲｚ（１０点平均粗さ）
は、単層フィルムの場合、前記した磁性層を設ける側の
表面粗さＷＲａ、ＷＲｚと実質的に同じであるが、積層
フィルムの場合、非磁性層側の表面粗さＷＲａ（中心面
平均粗さ）は５〜２０ｎｍ、さらには５〜１５ｎｍ、特
に１０〜１５ｎｍであることが好ましい。また、ＷＲｚ
（１０点平均粗さ）は５０〜３００ｎｍ、さらには１０
０〜２５０ｎｍ、特に１００〜２００ｎｍであることが
好ましい。この非磁性層側の表面粗さＷＲａが２０ｎｍ
より大きい、あるいはＷＲｚが３００ｎｍより大きい
と、平坦層（磁性層）側表面への突起の突き上げ、また
磁気テープ巻取り時の磁性層表面への表面凹凸の転写が
大きくなり、磁性層面が粗面化し、満足し得る電磁変換
特性が得られなくなる。一方、この表面粗さＷＲａが５
ｎｍ未満、あるいはＷＲｚが５０ｎｍ未満であると、フ
ィルムの滑りが悪くなったり、あるいはエアースクイズ
性の悪くなり、フィルムスリット時、ブツが発生した
り、あるいは縦シワが発生し、満足し得る巻取り性が得
られない。

【００３４】前記表面粗さＷＲａ、ＷＲｚは、ポリエス
テル中に不活性微粒子、例えば周期律表第IIＡ、第II
Ｂ、第IVＡ、第IVＢの元素を含有する無機微粒子（例え
ば、カオリン、アルミナ、酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、二酸化ケイ素など）、架橋シリコーン樹脂、架橋ポ
リスチレン、架橋アクリル樹脂粒子等の如き耐熱性の高
いポリマーよりなる微粒子などを含有させることで、あ
るいはフィルム表面に微細凹凸を形成する表面処理例え
ば、易滑塗剤のコーティング処理によって調整すること
ができる。不活性微粒子を含有させる場合、該微粒子の
平均粒径は、好ましくは０．０５〜０．８μｍ、さらに
好ましくは０．１〜０．６μｍ、特に好ましくは０．１
〜０．４μｍである。また、この量は、ポリエステルに
対し、好ましくは０．００１〜１．０重量％、さらに好
ましくは０．０１〜０．５重量％、特に好ましくは０．
０２〜０．４重量％である。また、ポリエステル中に含
有させる不活性粒子は単成分系でも多成分系でも良い
が、特に非磁性層側のポリエステルには、磁気テープの
電磁変換特性とフィルムの巻取り性の両立から、二成分
系あるいは、それ以上の多成分系の不活性粒子を含有さ
せることが好ましい。フィルム表面のＷＲａ、ＷＲｚの
調整は、微粒子の平均粒径、添加量を上記の範囲から適
宜選択することで行うと良い。

【００３５】本発明における二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、単層フィルムでも積層フィルムでも良いが、磁
気テープの電磁変換特性とフィルムの巻取り性を両立さ
せるのが容易であるという点からは、積層フィルムの方
がより好ましい。この積層フィルムとしては、２種以上
のポリエステルを積層したものがあげられ、各々の層の
ポリエステルは同じものでも違ったものでもよいが、同
じものの方がより好ましい。

【００３６】[塗布層]本発明における二軸配向ポリエス
テルフィルムには、接着性あるいは易滑性向上のため、
片面あるいは両面に塗布層をコーティングしたものも含
まれる。この塗布層としては、ポリエステル系、ポリウ
レタン系あるいはポリアクリル系の水性樹脂（例えば水
溶性樹脂、水分散性樹脂等）を固形分中に５０重量％以
上含有することが好ましい。また、易滑性向上のため
に、塗布層に不活性微粒子を含有させるのが好ましい。
この不活性微粒子としては、コロイダルシリカ等の無機
微粒子、あるいは架橋アクリル樹脂粒子、シリコーン樹
脂粒子、ポリスチレン粒子等の有機微粒子が挙げられる
が、耐削れ性の観点からは無機微粒子より、有機微粒子
の方がより好ましい。この微粒子の平均粒径は、５〜１
００ｎｍ、さらには５〜５０ｎｍ、特に５〜３０ｎｍで
あることが好ましい。また、この微粒子の含有量は、塗
剤固形分中、０．５〜４０重量％、さらには１〜３０重
量％、特に５〜２０重量％であることが好ましい。この
微粒子はその形状が球形に近いのものがより好ましく、
また粒径も揃ったものがより好ましい。また、塗布層に
は、界面活性剤を、固形分中に１〜３０重量％、さらに
は５〜２０重量％、特に５〜１５重量％含有させること
が好ましい。塗布層の厚み（固形分）は１〜５０ｎｍ、
さらには１〜３０ｎｍ、特に３〜２０ｎｍであることが
好ましい。

【００３７】なお、塗布層の形成は、ポリエステルフィ
ルムの製膜工程で一軸延伸後に塗布し、二軸延伸時に乾
燥して形成するインライン塗布方式でも、あるいは二軸
配向フィルムに塗布するオフライン塗布方式でもよい
が、インライン塗布方式の方が塗膜形成の観点からより
好ましい。

【００３８】[ヤング率]本発明における二軸配向ポリエ
ステルフィルムは、縦方向ヤング率が７ＧＰａ以上、さ
らには８ＧＰａ以上、特に９ＧＰａ以上であることが好
ましい。この縦方向ヤング率が７ＧＰａ未満であると、
磁気テープの縦方向強度が弱くなり、記録・再生時に縦
方向に強い力がかかると、容易に永久変形し、破断する
ことがある。また、フィルムの横方向ヤング率は６ＧＰ
ａ以上、さらには６．５ＧＰａ以上、特に７ＧＰａ以上
であることが好ましい。この横方向ヤング率が６ＧＰａ
未満であると、リニアトラック方式の磁気テープとした
場合、温湿度変化時の幅方向の寸法変化が大きくなり、
トラックずれによる記録・再生のエラーが発生しやす
い。

【００３９】前記二軸配向ポリエステルフィルムは、さ
らに、縦方向ヤング率と横方向ヤング率の和が１３〜１
８ＧＰａ、さらには１４〜１８ＧＰａ、特に１５〜１８
ＧＰａであることが好ましい。さらに、二軸配向ポリエ
ステルフィルムをリニアトラック方式の磁気テープに用
いる場合、縦方向の伸びを少なくする点から、縦方向ヤ
ング率が横方向ヤング率より大きいことが好ましい。縦
方向ヤング率と横方向ヤング率の和が１３ＧＰａ未満で
あると、磁気テープの強度が弱くなり、テープが容易に
破断することがあり、また温湿度変化時の寸法変化が大
きくなり、トラックずれによる記録・再生のエラーが発
生し、満足し得る高密度磁気媒体が得られない。一方、
縦方向ヤング率と横方向ヤング率の和が１８ＧＰａを超
えると、フィルム製膜時、延伸倍率が高くなり、フィル
ム破断が多発し、製品歩留りが低下する。

【００４０】[フィルムの製膜法]本発明の二軸配向ポリ
エステルフィルムは、以下の方法にて製膜するのが好ま
しい。すなわち、フィルムが単層の場合、まず、前記エ
ステル形成性官能基を有するスルホン酸４級ホスホニウ
ム塩を所定濃度含有するポリエステルを溶融し、口金よ
りポリマー融点（Ｔｍ：℃）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度
でフィルム状に押出し、１０〜7０℃で急冷固化して未
延伸フィルムを得る。続いて、該未延伸フィルムを常法
に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１
０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリマー
のガラス転移温度）において４．０〜８．０倍の倍率、
好ましくは５．０〜６．０倍の倍率で延伸し、次いで要
すれば塗布層を形成する塗液をフィルムの片面または両
面に塗布し、その後に前記延伸方向とは直角な方向にＴ
ｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度において４．０〜８．０倍
の倍率、好ましくは４．５〜６．０倍の倍率で延伸す
る。更に必要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延
伸してもよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率として２０
〜４５倍、好ましくは２５〜３５倍である。更に引き続
いて、二軸配向フィルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１
０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃、好ましくは２
００〜２３０℃で熱固定結晶化することによって優れた
寸法安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０
秒間が好ましい。

【００４１】共押出し法による積層フィルムの場合、別
々の押出機で磁性層側（Ａ層）用ポリエステルと非磁性
層側（Ｂ層）用ポリエステルをそれぞれ溶融し、両者が
積層されるようにダイ内で積層してからフィルム状に押
出し、好ましくは融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋７
０）℃の温度で押出し、または二種以上の溶融ポリエス
テルをダイから押出した後に積層し、急冷固化して積層
未延伸フィルムとし、続いて単層フィルムの場合と同じ
方法、条件で二軸延伸、熱処理を行って積層二軸配向フ
ィルムとする。要すれば、縦延伸後のフィルムの片面ま
たは両面に塗液を塗布し、皮膜層を形成させることがで
きる。本発明において、積層フィルムにする利点は表裏
の表面粗さを異なるものにすることにある。

【００４２】[磁気記録媒体]本発明の二軸配向ポリエス
テルフィルムは、片側（積層フィルムの場合は磁性層側
の平坦層、Ａ層）の表面に、鉄または鉄を主成分とする
針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニル、塩化ビ
ニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分
散し、磁性層厚みが１ｍ以下、好ましくは０．１〜１ｍ
となるように塗布し、さらに必要により、他の片側（積
層フィルムの場合は非磁性層側の粗面層、Ｂ層）の表面
にバックコート層を設けることにより、特に短波長領域
での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、
ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メ
タル塗布型磁気記録媒体とすることができる。また、磁
性層側（Ａ層）の表面に、上記メタル粉含有磁性層の下
地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性
層を塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録
媒体は、高密度磁気記録媒体、特にＬＴＯ、ＤＬＴ、Ｓ
ｕｐｅｒ−ＤＬＴ等のリニア記録方式の磁気テープに極
めて有効である。

【００４３】また、本発明の二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、片側（積層フィルムの場合はＡ層）の表面に設
けた塗布層の表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロ
ム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成
る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、
用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設
け、更に反対側の表面（要すれば塗布層を塗設）に公知
のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域
の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロ
ップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型
磁気記録媒体とすることができる。

【００４４】

【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに説明す
る。尚、本発明における種々の物性値及び特性は、以下
のようにして測定されたものであり、かつ定義される。（１）ヤング率フィルムを試料幅１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャ
ック間１００ｍｍにして引張速度１０ｍｍ／分、チャー
ト速度５００ｍｍ／分でインストロンタイプの万能引張
試験装にて引張り、得られる荷重―伸び曲線の立ち上が
り部の接線よりヤング率を計算する。（２）表面粗さ（ＷＲａ、ＷＲｚ）ＷＹＫＯ社製非接触式三次元粗さ計（ＮＴ―２０００）
を用いて測定倍率２５倍、測定面積２４６．６μｍ×１
８７．５μｍ（０．０４６２ｍｍ²）の条件にて、測定
数（ｎ）１０以上で測定を行ない、該粗さ計に内蔵され
た表面解析ソフトにより、中心面平均粗さ（ＷＲａ）、
及び１０点平均粗さ（ＷＲｚ）を求める。

【００４５】（Ａ）中心面平均粗さ（ＷＲａ）

【００４６】

【数１】

【００４７】Ｚ_jkは測定方向（２４６．６μｍ）、それ
と直行する方向（１８７．５μｍ）をそれぞれｍ分割、
ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置におけ
る三次元粗さチャート上の高さである。

【００４８】（Ｂ）１０点平均粗さ（ＷＲｚ）ピーク（ＨＰ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低い方
から５点をとり、その平均粗さをＷＲｚとする。

【００４９】

【数２】

【００５０】（３）温度膨張係数（αｔ）フィルムサンプルをフィルム横方向に長さ１５ｍｍ、幅
５ｍｍに切り出し、真空理工製ＴＭＡ３０００にセッ
トし、窒素雰囲気下、６０℃で３０分前処理し、その後
室温まで降温させる。その後２５℃から７０℃まで２℃
／分で昇温し、各温度でのサンプル長を測定し、次式よ
り温度膨張係数（αｔ）を算出する。

【００５１】

【数３】

【００５２】ここで、Ｌ₁：４０℃時のサンプル長（ｍｍ）Ｌ₂：６０℃時のサンプル長（ｍｍ） ΔＴ：２０（＝６０−４０℃）注：石英ガラスの温度膨張係数である。（４）湿度膨張係数（αｈ）フィルムサンプルをフィルム横方向に長さ１５ｍｍ、幅
５ｍｍに切り出し、真空理工製ＴＭＡ３０００にセット
し、窒素雰囲気下から、湿度３０％ＲＨ、及び湿度７０
％ＲＨの一定に保ち、その時のサンプル長を測定し、次
式にて湿度膨張係数を算出する。

【００５３】

【数４】

【００５４】ここで、Ｌ₁：湿度３０％ＲＨ時のサンプル長（ｍｍ）Ｌ₂：湿度７０％ＲＨ時のサンプル長（ｍｍ） ΔＨ：４０（＝７０−３０％ＲＨ）である。（５）フィルム縦方向荷重下の幅方向の収縮温度２３℃、湿度５０％の雰囲気下において、１２．６
５ｍｍ（１／２インチ）にスリットしたフィルムを図１
に示す通りにセットする。なお、１２．６５ｍｍにスリ
ットしたサンプルは検出器にて幅寸法が測定できるよう
にするため、あらかじめ表面にスパッタによって金を蒸
着しておく。この状態でフィルムの片側（もう一方は固
定）に２２ＭＰａになるように重りをつけ、そのときの
フィルムの幅（Ｌ₁）をキーエンス製レーザー外径測定
器（本体：３１００型、センサー：３０６０型）にて測
定する。

【００５５】その後、４９℃（１２０°Ｆ）×９０％Ｒ
Ｈの高温高湿下で、片側（もう一方は固定）に２２ＭＰ
ａになるように重りをつけ、７２ｈｒ（３日間）処理し
た後、重りを取り外し、温度２３℃、湿度５０％の雰囲
気下で２４ｈｒ調湿した後、再び、フィルムの片側（も
う一方は固定）に２２ＭＰａになるように重りをつけ、
そのときのフィルムの幅（Ｌ₂）をキーエンス製レーザ
ー外径測定器（本体：３１００型、センサー：３０６０
型）にて測定する。

【００５６】上記で測定した温湿度処理前後の寸法よ
り、荷重下温湿度処理前後の幅寸法変化（αＷ）は、次
式より算出する。

【００５７】

【数５】

【００５８】（６）フィルム状溶融物の交流体積抵抗率図１に示す装置を用いて測定する。測定試料１は厚さ約
１５０μｍになるようになるように重ねる。直径２０ｃ
ｍ円柱状下部電極２の上面に測定時１５０μｍの平行な
間隙が保持できる直径５．６ｃｍ、厚さ０．２ｃｍの上
部電極３を配し、この間に測定試料が電極と密着するよ
うにして挿入する。

【００５９】下部電極２は加電装置４と温度検出端５を
内蔵し、下部電極の表面温度の測定面におけるバラツキ
が１℃以内、検出端部分との温度差が昇温速度８℃／分
において２℃以内となるように構成する。なお、検出温
度は読取温度計７で測定する。電極の全体は保温箱１１
中に配置する。

【００６０】電源８はその発生電圧を標準抵抗９を介し
て両電極間に印加するが、該電源はフィルムの直流体積
抵抗率を測定する場合は１００Ｖの直流を発生する電源
であって、フィルムの交流体積抵抗率を測定する場合は
１００Ｖ、５０Ｈｚを発生する電源である。この回路に
流れる電流は標準抵抗９の両端に発生する電圧を、内部
インピーダンスが１００ＭΩ以上のエレクトロンメータ
ー１０で読取る。

【００６１】本発明におけるフィルム溶融物の交流体積
抵抗率の測定は、上記装置により、下部電極の昇温測速
度が８℃／分、該電極がポリマーのＤＳＣによる融点＋
２０℃の温度（ポリエチレン−２，６−ナフタレートの
場合２９０℃）にて行なう。交流体積抵抗率Ｚ（Ωｃ
ｍ）は、印加電圧Ｅ（ボルト）、電流Ｉ（アンペア）、
電極面積Ｓ（ｃｍ²）、電極間隔ｄ（ｃｍ）より、次式
で求める。

【００６２】

【数６】

【００６３】（７）フィルム幅方向の厚み斑キタノ企画（株）製バルク形状測定器を用いてフィルム
ロールを幅方向にロール形状を測定し、直径の変動を表
す曲線を求める。円周方向に１２０度間隔で３個所測定
し、その曲線の両端を結んで得られた直線に凸部から垂
直に引いた線が交差する最大凸と、また凹部から垂直に
引いた線が交差する最大凹を求め、これらの平均値で表
す。尚、フィルムロールについてはフィルム端面のハイ
エッジの影響を除外するために、両端から０．０１ｍの
データは削除する。最大凸が５００μｍ以下で、最大凹
が３００μｍ以下であるものを合格とする。（８）フィルムロールの表面硬度高分子計器（株）製のハードネステスター、タイプＣを
フィルムロール表面に押しあてて測定する。測定点はフ
ィルムロールの幅方向に５点ずつ（但し、ロール両端部
０．０１０ｍずつは除いた全幅を５等分して、各等分の
中央部を測定する）、円周方向に１２０度間隔で３個
所、合計１５個所の平均で表す。（９）フィルム中の粒子の平均粒径フィルム表面層のポリエステルをプラズマ低温灰化処理
法（例えば、ヤマト科学製、ＰＲ−５０３）で除去し、
粒子を露出させる。処理条件は、ポリエステルは灰化さ
れるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これ
をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて１万倍程度の倍率で
粒子を観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃
淡）をイメージアナライザー（例えば、ケンブリッジイ
ンストルメント製、ＱＴＭ９００）に結び付け、観察箇
所を変えて少なくとも５，０００個の粒子の面積円相当
径（Ｄｉ）を求める。この結果から粒子の粒径分布曲線
を作成し、各ピークの個数割合（各ピークの領域は分布
曲線の谷部を境界として決める。）を算出する。次い
で、各ピークの領域にある粒子の粒径と個数の測定結果
から次式で表される数平均値を求め、これを粒子の平均
粒径（ＤＡ）とする。

【００６４】フィルム中に凝集状態で存在する粒子（例
えばアルミナ粒子）の場合は、凝集状態での粒径（２次
粒径）を測定し平均粒径（ＤＡ）を求める。なお、粒子
種の同定は、ＳＥＭ−ＸＭＡ、ＩＣＰによる金属元素の
定量分析などを使用して行うことができる。（１０）生産性厚み１２μｍのポリエチレン−２，６−ナフタレートフ
ィルムの２４時間当たり平均生産量を１００とし、次の
基準で評価する。今回評価する試料はポリエチレン−
２，６−ナフタレートフィルム（６．０μｍ厚み）であ
る。なお、生産性を低下させる要因は、切断多発、厚み
斑増加に対処するための生産速度減速、冷却ドラム汚れ
に対処する洗浄回数の増加などがある。

【００６５】 ◎：２４時間当たりの生産量が３７以上 ○：２４時間当たりの生産量が３３以上３７未満 △：２４時間当たりの生産量が３０以上３３未満 ×：２４時間当たりの生産量が３０未満（１１）トラックずれ（エラーレート）メディアロジック社製ＭＬ４５００Ｂ、ＱＩＣ用システ
ムを用いて、下記条件にてエラーレートを測定する。

【００６６】Ｃｕｒｒｅｎｔ＝１５．４２ｍＡＦｒｅｑｕｅｎｃｙ：０．２５ＭＨｚＬｏｃａｔｉｏｎ＝０Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ：４０．０Ｂａｄ／Ｇｏｏｄ／ＭＡＸ：１：１：１Ｔｒａｃｋｓ：２８尚、エラーレート数は、測定したトラック数（＝２８）
の平均値で表わす。

【００６７】条件１及び条件２の測定は次のように行
う。

【００６８】条件１：１０℃、１０％ＲＨの温湿度下で
記録した後、４５℃、８０％ＲＨの温湿度下で再生し、
温湿度変化によるトラックずれ量を測定する。

【００６９】条件２：２３℃、５０％ＲＨの温湿度下で
記録した後、４０℃、６０％ＲＨの温湿度下で６０時間
繰り返し走行させ、２３℃、５０％ＲＨの温湿度下に戻
し、２４時間保持した後、記録を再生し、比較的高温高
湿度下での走行による幅収縮によるトラックずれ量を測
定する。

【００７０】評価基準は次の通りである。

【００７１】 ◎：エラーレート無し ○：エラーレートは有るが、実用上問題無し：エラーレートが多く、実用上問題あり［実施例１］平均粒径０．６μｍの炭酸カルシウム(炭
カル)粒子を０．０２重量％、平均粒径０．１μｍの球
状シリカを０．３重量％、および３，５−ジカルボキシ
ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩２ｍｍ
ｏｌ％（ポリマーの全酸成分に対し）を含有したポリエ
チレン−２，６−ナフタレート（３５℃のｏ−クロロフ
ェノール溶液で測定した固有粘度が０．６０ｄｌ／ｇ）
のペレットを、１７０℃で６時間乾燥後、押出機に送り
込み、３００℃で溶融してダイから押出し、静電密着法
で冷却ドラムに接触急冷させて未延伸フィルムを得た。
そして、得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速
・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて５．４倍
に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。続いてステ
ンターに供給し、１５５℃にて横方向に４．９倍に延伸
した。得られた二軸延伸フィルムを、２０５℃の熱風で
４秒間熱固定し、厚み６．０ｍの二軸配向ポリエステル
フィルムを得た。

【００７２】一方、下記に示す組成物をボールミルに入
れ、１６時間混練、分散した後、イソシアネート化合物
（バイエル社製のデスモジュールＬ）５重量部を加え、
１時間高速剪断分散して磁性塗料とした。

【００７３】磁性塗料の組成：針状Ｆｅ粒子１００重量部塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体１５重量部（積水化学製エスレック７Ａ）熱可塑性ポリウレタン樹脂５重量部酸化クロム５重量部カーボンブラック５重量部レシチン２重量部脂肪酸エステル１重量部トルエン５０重量部メチルエチルケトン５０重量部シクロヘキサノン５０重量部この磁性塗料を上述の二軸配向ポリエチレン―２，６―
ナフタレートフィルムの片面に塗布厚さ０．５μｍとな
るように塗布し、次いで２５００ガウスの直流磁場中で
配向処理を行ない、１００℃で加熱乾燥後、スーパーカ
レンダー処理（線圧２０００Ｎ／ｃｍ、温度８０℃）を
行ない、巻き取った。この巻き取ったロールを５５℃の
オーブン中に３日間放置した。

【００７４】さらに下記組成のバックコート層塗料を磁
性層と反対面に厚さ１μｍに塗布し、乾燥させた後、
６．３５ｍｍ（＝１／４）に裁断し、磁気テープを得
た。

【００７５】バックコート層塗料の組成：カーボンブラック１００重量部熱可塑性ポリウレタン樹脂６０重量部イソシアネート化合物１８重量部（日本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）シリコーンオイル０．５重量部メチルエチルケトン２５０重量部トルエン５０重量部得られたフィルム及びテープの特性を表１に示す。

【００７６】[実施例２、比較例１〜６]表１に示すよう
に添加物および製膜条件を変更した以外は実施例１に準
じて厚み６．０ｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得
た。

【００７７】得られたフィルムを実施例１と同様にして
磁気テープを作成した。得られたフィルム及びテープの
特性を表１に示す。

【００７８】［実施例３］Ａ層用のポリエステルIに、
表１記載のスルホン酸４級ホスホニウム塩と不活性粒子
を含有するポリエチレン−２，６−ナフタレート（３５
℃、o−クロロフェノール溶液での固有粘度：０．６）
を用い、Ｂ層用のポリエステルIIに表１記載のスルホン
酸４級ホスホニウム塩と不活性粒子を含有するポリエチ
レン−２，６−ナフタレート（３５℃、o−クロロフェ
ノール溶液での固有粘度：０．６）を用いた。２台の押
出機でそれぞれのポリマーを溶融し、マルチマニホール
ドダイに送って積層して押出し、静電密着法で冷却ドラ
ムに接触急冷させて未延伸フィルムを得た。得られた未
延伸フィルムを表１に示すように実施例１に準じて行な
って、厚み６．０ｍの二軸配向ポリエステルフィルムを
得た。

【００７９】得られたフィルムを実施例１と同様にして
磁気テープを作成した。得られたフィルム及びテープの
特性を表１に示す。

【００８０】

【表１】

【００８１】

【発明の効果】本発明によれば、生産性に優れ、厚み斑
が小さいので磁気テープを製造する時の歩留まりが高
く、磁気テープを繰返し使用した後の走行耐久性に優
れ、トラックずれによるエラーの発生がなく、出力特性
に優れる大容量デジタルデータストレージテープとして
有用な磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルムを
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１はフィルム状溶融物の交流体積抵抗率を測
定する装置の説明図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 (72)発明者室岡博文神奈川県相模原市小山３丁目37番19号帝人デュポンフィルム株式会社相模原研究センター内Ｆターム(参考） 4F071 AA43 AF20Y AF21Y AF27 AF38Y AF54Y AH14 BB06 BB08 BB11 BC01 4F210 AG01 AG03 AH38 QC05 QC06 QG01 QG18 4J002 CF151 GS01 5D006 CB01 CB07 CB08 FA00 FA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）フィルムが、ポリマーの全酸成分
に対して０．１〜４５ｍｍｏｌ％のエステル形成官能基
を有するスルホン酸４級ホスホニウム塩を重合体鎖中に
含有し、かつフィルム状溶融物の交流体積抵抗率の値が
６．５かける１０⁸Ω・ｃｍ以下であるポリエステルに
より形成され、（２）フィルムの幅方向の温度膨張係数
αｔが＋１０×１０^-6〜−１０×１０^-6／℃、湿度膨張
係数αｈが＋１５×１０^-6〜＋５×１０^-6／％ＲＨで、
かつ（αt＋２αh）の値が４５×１０^-6以下であり、
（３）フィルムの縦方向に２２ＭＰａの荷重をかけ、４
９℃、９０％ＲＨで７２時間処理したときの処理前後の
幅方向寸法変化が０．３５％以下であり、かつ（４）フ
ィルムの厚みが２〜７μｍである、ことを特徴とする磁
気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項２】エステル形成官能基を有するスルホン酸
４級ホスホニウム塩が、下記式【化１】（ここで、Ａはｎ＋２価の炭素数２〜18の脂肪族基又は
芳香族基であり、Ｘ¹およびＸ²は、同一もしくは異な
り、水素原子又はエステル形成性官能基であり、ｎは１
または２であり、そして、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、およびＲ
⁴は、同一もしくは異なり、炭素数１〜１８のアルキル
基、ベンジル基又は炭素数６〜１２のアリール基であ
る、但し、Ｘ¹およびＸ²が同時に水素原子であることは
ない。）で表わされる化合物から選ばれる少なくと1種
である請求項１に記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエ
ステルフィルム。
【請求項３】フィルムが単層フィルムであり、その表
面の表面粗さ（ＷＲａ）が０．２〜１０ｎｍである請求
項１または２に記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフィルム。
【請求項４】フィルムが積層フィルムであり、磁性層
を設ける側の表面粗さ（ＷＲａ）が０．２〜１０ｎｍ、
非磁性層側の表面粗さ（ＷＲａ）が５〜２０ｎｍである
請求項１または２に記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリ
エステルフィルム。
【請求項５】フィルムの縦方向ヤング率が７ＧＰａ以
上で、横方向ヤング率より大きく、かつ縦方向ヤング率
と横方向ヤング率の和が１３〜１８ＧＰａである請求項
１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリ
エステルフィルム。
【請求項６】ポリエステルフィルムの素材がポリエチ
レン−２，６−ナフタレートである請求項１〜５のいず
れかに記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフィ
ルム。
【請求項７】ディジタル記録方式の磁気記録媒体用で
ある請求項１に記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエス
テルフィルム。
【請求項８】リニア記録方式の磁気記録媒体用である
請求項１に記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエステル
フィルム。
【請求項９】塗布型磁気記録媒体用である請求項１、
７または８に記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエステ
ルフィルム。
【請求項１０】強磁性金属薄膜型磁気記録媒体用であ
る請求項１、７または８に記載の磁気記録媒体用二軸配
向ポリエステルフィルム。