JP2003059341A - 導電性シリコーンゴム組成物 - Google Patents
導電性シリコーンゴム組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
カーボンにニッケルを被覆した粒子をオルガノポリシロ
キサンに配合することにより、導電性シリコーンゴム組
成物が得られる。 【課題】有機過酸化物化合物による加硫が、可能であり
安定的な電気的に低抵抗の部材となり、長期の使用に耐
え得ることができる導電性接点部材、コネクター、事務
機用ロール部材、電磁波シールドガスケット材を得る。 【解決手段】 ａ）平均組成式ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２（ここにＲは、同一または異種の、非 置換又は置換された１価炭化水素基。ａは1.90〜2.05の正数である）で示される オルガノポリシロキサン 100重量部 ｂ）カーボンに対してＮｉを被覆した導電性粒子 50〜500重量部 、および ｃ）有機過酸化物 0.1〜10重量部 を含有することを特徴とする導電性シリコーンゴム組成
物。
キサンに配合することにより、導電性シリコーンゴム組
成物が得られる。 【課題】有機過酸化物化合物による加硫が、可能であり
安定的な電気的に低抵抗の部材となり、長期の使用に耐
え得ることができる導電性接点部材、コネクター、事務
機用ロール部材、電磁波シールドガスケット材を得る。 【解決手段】 ａ）平均組成式ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２（ここにＲは、同一または異種の、非 置換又は置換された１価炭化水素基。ａは1.90〜2.05の正数である）で示される オルガノポリシロキサン 100重量部 ｂ）カーボンに対してＮｉを被覆した導電性粒子 50〜500重量部 、および ｃ）有機過酸化物 0.1〜10重量部 を含有することを特徴とする導電性シリコーンゴム組成
物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機過酸化物加硫
型導電性シリコーンゴム組成物に関するものであり、特
に、電磁波シールドガスケット材、導電性接点部材、コ
ネクター、事務機用ロール部材等に好適な導電性シリコ
ーンゴム組成物に関する。
型導電性シリコーンゴム組成物に関するものであり、特
に、電磁波シールドガスケット材、導電性接点部材、コ
ネクター、事務機用ロール部材等に好適な導電性シリコ
ーンゴム組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、低い電気抵抗率のシリコーンゴム
を得る方法として、電気伝導度の大きい金属粉末を添加
した、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物、縮合反応
硬化型シリコーンゴム組成物、過酸化物加硫型シリコー
ンゴム組成物等のシリコーンゴム組成物が知られてい
る。しかしながら導電性粉末として銀粉末やニッケル粉
末等の金属を用いた場合、金属粉末の凝集性が高くシリ
コーンゴム中に均一に分散しないこと、また環境安定性
に乏しく特に高温高湿雰囲気下では金属表面が酸化劣化
してしまうという問題点があった。また、導電性カーボ
ンブラックやグラファイト等のカーボンを分散させた導
電性シリコーンゴムは、耐熱性は比較的良好であるが、
体積抵抗率が１×１０−３Ω・ｍ以下というような導電
性に優れた材料を得ることは困難であった。
を得る方法として、電気伝導度の大きい金属粉末を添加
した、付加反応硬化型シリコーンゴム組成物、縮合反応
硬化型シリコーンゴム組成物、過酸化物加硫型シリコー
ンゴム組成物等のシリコーンゴム組成物が知られてい
る。しかしながら導電性粉末として銀粉末やニッケル粉
末等の金属を用いた場合、金属粉末の凝集性が高くシリ
コーンゴム中に均一に分散しないこと、また環境安定性
に乏しく特に高温高湿雰囲気下では金属表面が酸化劣化
してしまうという問題点があった。また、導電性カーボ
ンブラックやグラファイト等のカーボンを分散させた導
電性シリコーンゴムは、耐熱性は比較的良好であるが、
体積抵抗率が１×１０−３Ω・ｍ以下というような導電
性に優れた材料を得ることは困難であった。
【０００３】従来技術としては、特開昭59−199756号公
報に、ニッケル被覆カーボンを配合した付加反応硬化型
の導電性シリコーン樹脂組成物が提案されている。しか
し、付加反応硬化型のものは白金系触媒を用いることが
一般的であり、触媒毒の影響を受けやすいことや、ま
た、ポットライフが短い等の問題点があった。
報に、ニッケル被覆カーボンを配合した付加反応硬化型
の導電性シリコーン樹脂組成物が提案されている。しか
し、付加反応硬化型のものは白金系触媒を用いることが
一般的であり、触媒毒の影響を受けやすいことや、ま
た、ポットライフが短い等の問題点があった。
【０００４】本発明者らは、上記問題点を解決するため
に鋭意研究した結果、ラジカルを発生する有機過酸化物
化合物を用いたシリコーンゴム組成物においても、何ら
遜色のない導電性シリコーンゴムが得られることを見出
し、本発明に到達した。
に鋭意研究した結果、ラジカルを発生する有機過酸化物
化合物を用いたシリコーンゴム組成物においても、何ら
遜色のない導電性シリコーンゴムが得られることを見出
し、本発明に到達した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、本発明の目
的は、十分なポットライフがあり触媒毒の影響を受け
ず、分散性に優れ、常圧熱気加硫（ＨＡＶ）可能で、引
張強度、伸び等の機械的性質や、低体積抵抗率及び電磁
波シードル性に優れた有機過酸化物加硫型導電性シリコ
ーンゴム組成物、及び、それから得られる導電性シリコ
ーンゴムからなる電磁波シールド材を提供することにあ
る。
的は、十分なポットライフがあり触媒毒の影響を受け
ず、分散性に優れ、常圧熱気加硫（ＨＡＶ）可能で、引
張強度、伸び等の機械的性質や、低体積抵抗率及び電磁
波シードル性に優れた有機過酸化物加硫型導電性シリコ
ーンゴム組成物、及び、それから得られる導電性シリコ
ーンゴムからなる電磁波シールド材を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討を重ねた結果、ニッケルで被覆
されたカーボンを、オルガノポリシロキサンに配合し、
有機過酸化物により加硫させることにより、優れた導電
性シリコーンゴムを得ることが可能であることを見出し
た。すなわち、本発明は、 ａ）平均組成式ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２（ここにＲは、同一または異種の、非 置換又は置換された１価炭化水素基。ａは1.90〜2.05の正数である）で示される オルガノポリシロキサン 100重量部 ｂ）カーボンに対してＮｉを被覆した導電性粒子 50〜500重量部 、および ｃ）有機過酸化物 0.1〜10重量部 を含有することを特徴とする導電性シリコーンゴム組成
物、に係るものでり、また、該組成物から得られる電磁
波シールド材に係るものである。
を達成するため鋭意検討を重ねた結果、ニッケルで被覆
されたカーボンを、オルガノポリシロキサンに配合し、
有機過酸化物により加硫させることにより、優れた導電
性シリコーンゴムを得ることが可能であることを見出し
た。すなわち、本発明は、 ａ）平均組成式ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２（ここにＲは、同一または異種の、非 置換又は置換された１価炭化水素基。ａは1.90〜2.05の正数である）で示される オルガノポリシロキサン 100重量部 ｂ）カーボンに対してＮｉを被覆した導電性粒子 50〜500重量部 、および ｃ）有機過酸化物 0.1〜10重量部 を含有することを特徴とする導電性シリコーンゴム組成
物、に係るものでり、また、該組成物から得られる電磁
波シールド材に係るものである。
【０００７】以下、本発明に係るシリコーンゴム組成物
を構成する各成分について、詳しく説明する。
を構成する各成分について、詳しく説明する。
【０００８】ａ）オルガノポリシロキサン
本発明において、ベース成分として使用されるオルガノ
ポリシロキサンは、下記平均組成式（１）で表されるも
のである。 ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２ …（１） ここで、上記式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘ
キセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等
のアリール基、またはこれらの基の炭素原子に結合した
水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基など
で置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、
シアノエチル基などから選択される同一又は異種の好ま
しくは炭素数１〜10、より好ましくは炭素数１〜８の非
置換又は置換の１価炭化水素基である。さらに好ましく
は、メチル基、フェニル基、ビニル基、トリフルオロプ
ロピル基であり、Ｒの80モル％以上、特に95モル％以上
がメチル基であることが好ましい。また、そのアルケニ
ル基の上基全Ｒ中の含有量は、0.001〜20モル％、特
に、0.025〜５モル％であることが好ましい。0.001 モ
ル％未満だと加硫が不十分となることがあり、20モル％
を超えるとゴムの加工特性、機械的特性が低下すること
がある。また、ａは1.90〜2.05の正数である。
ポリシロキサンは、下記平均組成式（１）で表されるも
のである。 ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２ …（１） ここで、上記式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシ
クロアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘ
キセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等
のアリール基、またはこれらの基の炭素原子に結合した
水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基など
で置換したクロロメチル基、トリフルオロプロピル基、
シアノエチル基などから選択される同一又は異種の好ま
しくは炭素数１〜10、より好ましくは炭素数１〜８の非
置換又は置換の１価炭化水素基である。さらに好ましく
は、メチル基、フェニル基、ビニル基、トリフルオロプ
ロピル基であり、Ｒの80モル％以上、特に95モル％以上
がメチル基であることが好ましい。また、そのアルケニ
ル基の上基全Ｒ中の含有量は、0.001〜20モル％、特
に、0.025〜５モル％であることが好ましい。0.001 モ
ル％未満だと加硫が不十分となることがあり、20モル％
を超えるとゴムの加工特性、機械的特性が低下すること
がある。また、ａは1.90〜2.05の正数である。
【０００９】上記式（１）のオルガノポリシロキサンは
基本的には直鎖状であることが好ましいが、分子構造の
異なる１種又は２種以上の混合物であってもよい。分子
鎖末端はジメチルビニルシリル基、メチルジビニルシリ
ル基、トリビニルシリル基等のビニル基含有シリル基で
封鎖されていることが好ましい。さらに、上記オルガノ
ポリシロキサンは平均重合度が100〜20,000、特に3,000
〜10.000であることが好ましい。100 未満では良好な機
械的性質が得られないことがあり、20,000を超えると導
電性粒子の添加・配合が困難になることがある。
基本的には直鎖状であることが好ましいが、分子構造の
異なる１種又は２種以上の混合物であってもよい。分子
鎖末端はジメチルビニルシリル基、メチルジビニルシリ
ル基、トリビニルシリル基等のビニル基含有シリル基で
封鎖されていることが好ましい。さらに、上記オルガノ
ポリシロキサンは平均重合度が100〜20,000、特に3,000
〜10.000であることが好ましい。100 未満では良好な機
械的性質が得られないことがあり、20,000を超えると導
電性粒子の添加・配合が困難になることがある。
【００１０】ｂ）成分のカーボンに対してＮｉを被覆し
た導電性粒子は、シリコーンゴムに良好な導電性や電磁
波シールド性を付与するために特に重要な成分である。
Ｎｉ被覆する基材のカーボンとしては、通常のカーボン
ブラック、人造グラファイト、天然グラファイト、造粒
カーボン等でよく、特に好ましくは、人造グラファイト
である。その平均粒子径は10〜300μｍのものが好まし
く、特に好ましくは20〜150μｍのものが用いられる。
平均粒子径が10μｍ未満だとＮｉ被覆が困難となること
があり、300 μｍを超えると導電性シリコーンゴムの機
械的強度が低下することがある。また、被覆するＮｉの
量はカーボンに対して20〜90重量％、好ましくは50〜80
重量％である。20重量％以下だと初期の導電性が十分で
ないことがあり、90重量％を超えると高温における導電
性の経時変化が大きくなることがある。Ｎｉ被覆する方
法としては、通常の化学メッキ法、電解法、カルボニル
法等があり、特に不純物の混入がないという点からカル
ボニル法が好ましい。
た導電性粒子は、シリコーンゴムに良好な導電性や電磁
波シールド性を付与するために特に重要な成分である。
Ｎｉ被覆する基材のカーボンとしては、通常のカーボン
ブラック、人造グラファイト、天然グラファイト、造粒
カーボン等でよく、特に好ましくは、人造グラファイト
である。その平均粒子径は10〜300μｍのものが好まし
く、特に好ましくは20〜150μｍのものが用いられる。
平均粒子径が10μｍ未満だとＮｉ被覆が困難となること
があり、300 μｍを超えると導電性シリコーンゴムの機
械的強度が低下することがある。また、被覆するＮｉの
量はカーボンに対して20〜90重量％、好ましくは50〜80
重量％である。20重量％以下だと初期の導電性が十分で
ないことがあり、90重量％を超えると高温における導電
性の経時変化が大きくなることがある。Ｎｉ被覆する方
法としては、通常の化学メッキ法、電解法、カルボニル
法等があり、特に不純物の混入がないという点からカル
ボニル法が好ましい。
【００１１】ｂ）成分の添加量としては、ａ）成分のオ
ルガノポリシロキサン100重量部あたり、50〜500重量
部、好ましくは150〜300重量部用いられる。50重量部以
下では十分な導電性、電磁波シールド性は得られず、ま
た500重量部を超えると導電性粒子の添加等の作業性が
著しく悪化する。
ルガノポリシロキサン100重量部あたり、50〜500重量
部、好ましくは150〜300重量部用いられる。50重量部以
下では十分な導電性、電磁波シールド性は得られず、ま
た500重量部を超えると導電性粒子の添加等の作業性が
著しく悪化する。
【００１２】ｃ）成分の有機過酸化物としては、例えば
ベンゾイルパーオキサイド、ジ（2,4−ジクロロベンゾ
イル）パーオキサイド、ジ（4−メチルベンゾイル）パ
ーオキサイド、ジ（ 2−メチルベンゾイル）パーオキサ
イド等の低温分解型有機過酸化物や、ジクミルパーオキ
サイド、2,5−ジメチル-ビス（ 2,5−ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−
ブチルパーベンゾエートなどの高温分解型有機過酸化物
が挙げられ、これらは２種以上併用してもよい。この有
機過酸化物の添加量は、ａ）成分のオルガノポリシロキ
サン100 重量部に対して0.1〜10 重量部、好ましくは0.
2〜５重量部とすればよい。特に、ジ（2,4−ジクロロベ
ンゾイル）パーオキサイド、ジ（4−メチルベンゾイ
ル）パーオキサイド、ジ（ 2−メチルベンゾイル）パー
オキサイド等の低温分解型有機過酸化物を使用すること
により常圧熱気加硫（ＨＡＶ）も可能となる。これらは
高温分解型有機過酸化物と併用してもよい。
ベンゾイルパーオキサイド、ジ（2,4−ジクロロベンゾ
イル）パーオキサイド、ジ（4−メチルベンゾイル）パ
ーオキサイド、ジ（ 2−メチルベンゾイル）パーオキサ
イド等の低温分解型有機過酸化物や、ジクミルパーオキ
サイド、2,5−ジメチル-ビス（ 2,5−ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−
ブチルパーベンゾエートなどの高温分解型有機過酸化物
が挙げられ、これらは２種以上併用してもよい。この有
機過酸化物の添加量は、ａ）成分のオルガノポリシロキ
サン100 重量部に対して0.1〜10 重量部、好ましくは0.
2〜５重量部とすればよい。特に、ジ（2,4−ジクロロベ
ンゾイル）パーオキサイド、ジ（4−メチルベンゾイ
ル）パーオキサイド、ジ（ 2−メチルベンゾイル）パー
オキサイド等の低温分解型有機過酸化物を使用すること
により常圧熱気加硫（ＨＡＶ）も可能となる。これらは
高温分解型有機過酸化物と併用してもよい。
【００１３】また本発明の組成物には、加工性を向上さ
せるために重合度が100 以下、好ましくは20以下の水酸
基含有有機珪素化合物を0.1〜20重量部、特に0.2〜10重
量部添加することが好ましい。具体的には、下記式で表
される水酸基含有有機珪素化合物が用いられる。
せるために重合度が100 以下、好ましくは20以下の水酸
基含有有機珪素化合物を0.1〜20重量部、特に0.2〜10重
量部添加することが好ましい。具体的には、下記式で表
される水酸基含有有機珪素化合物が用いられる。
【００１４】
【化１】
（式中、ｎは１〜100の整数、Ｒ１は上記Ｒと同様の基
でメチル基、ビニル基、フェニル基、トリフロロプロピ
ル基が好ましく、特に、メチル基、ビニル基が好まし
い。Ｒ２は水酸基、または、上記Ｒと同様の基である
が、好ましいのは水酸基である。）
でメチル基、ビニル基、フェニル基、トリフロロプロピ
ル基が好ましく、特に、メチル基、ビニル基が好まし
い。Ｒ２は水酸基、または、上記Ｒと同様の基である
が、好ましいのは水酸基である。）
【００１５】本発明に係る導電性シリコーンゴム組成物
には、上記必須成分に加え、任意成分として本発明の効
果を妨げない範囲で必要に応じ、補強性シリカ粉末を添
加してもよい。補強性シリカ粉末は、機械的強度の優れ
たシリコーンゴム組成物を得るために添加されるもので
あるが、この目的のためには比表面積が50ｍ２／ｇ以
上、好ましくは100〜400ｍ２／ｇである。比表面積が50
ｍ２／ｇに満たないと硬化物への補強効果が十分でない
ことがある。このような補強性シリカとしては、例えば
煙霧質シリカ、沈降シリカ等が挙げられ、またこれらの
表面をクロロシランやヘキサメチルジシラザンなどの反
応性有機珪素化合物で疎水化したものも好適に用いられ
る。補強性シリカ粉末の添加量は、（ａ）成分のオルガ
ノポリシロキサン100 重量部に対して３〜70重量部、特
に10〜50重量部とすることが好ましく、３重量部未満で
は添加量が少なすぎて補強効果が得られないことがあ
り、70部を超えると加工性が悪くなり、また機械的強度
が低下してしまうことがある。
には、上記必須成分に加え、任意成分として本発明の効
果を妨げない範囲で必要に応じ、補強性シリカ粉末を添
加してもよい。補強性シリカ粉末は、機械的強度の優れ
たシリコーンゴム組成物を得るために添加されるもので
あるが、この目的のためには比表面積が50ｍ２／ｇ以
上、好ましくは100〜400ｍ２／ｇである。比表面積が50
ｍ２／ｇに満たないと硬化物への補強効果が十分でない
ことがある。このような補強性シリカとしては、例えば
煙霧質シリカ、沈降シリカ等が挙げられ、またこれらの
表面をクロロシランやヘキサメチルジシラザンなどの反
応性有機珪素化合物で疎水化したものも好適に用いられ
る。補強性シリカ粉末の添加量は、（ａ）成分のオルガ
ノポリシロキサン100 重量部に対して３〜70重量部、特
に10〜50重量部とすることが好ましく、３重量部未満で
は添加量が少なすぎて補強効果が得られないことがあ
り、70部を超えると加工性が悪くなり、また機械的強度
が低下してしまうことがある。
【００１６】またＮｉを被覆したカーボン粒子と併用し
て、従来から知られている導電性カーボンブラック、導
電性ＺｎＯ、導電性ＴｉＯ２等の他の導電性無機酸化物
などの導電材や、増量剤としてシリコーンゴムパウダ
ー、ベンガラ、粉砕石英、炭酸カルシウムなどの充填剤
を添加してもよい。
て、従来から知られている導電性カーボンブラック、導
電性ＺｎＯ、導電性ＴｉＯ２等の他の導電性無機酸化物
などの導電材や、増量剤としてシリコーンゴムパウダ
ー、ベンガラ、粉砕石英、炭酸カルシウムなどの充填剤
を添加してもよい。
【００１７】さらには、発泡・多孔質構造体を成形する
ために無機質ないし有機質の発泡剤を添加してもよい。
この発泡剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、ジ
ニトロペンタメチレンテトラミン、ベンゼンスルフォン
ヒドラジド、アゾジカルボンアミドなどが例示され、そ
の添加量は本発明の組成物100重量部に対し0.5〜20重量
部、特に１〜10重量部の範囲が好適である。このよう
に、本発明の組成物に発泡剤を添加すると、発泡・多孔
質構造のシリコーンゴムを得ることができる。
ために無機質ないし有機質の発泡剤を添加してもよい。
この発泡剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、ジ
ニトロペンタメチレンテトラミン、ベンゼンスルフォン
ヒドラジド、アゾジカルボンアミドなどが例示され、そ
の添加量は本発明の組成物100重量部に対し0.5〜20重量
部、特に１〜10重量部の範囲が好適である。このよう
に、本発明の組成物に発泡剤を添加すると、発泡・多孔
質構造のシリコーンゴムを得ることができる。
【００１８】また、本発明に係る導電性シリコーンゴム
組成物には要に応じて着色剤、耐熱性向上剤などの各種
添加剤や反応抑制剤、離型剤などを添加することは任意
とされる。ジフェニルシラン、各種アルコキシシラン、
カーボンファンクショナルシラン、等を添加してもよ
い。
組成物には要に応じて着色剤、耐熱性向上剤などの各種
添加剤や反応抑制剤、離型剤などを添加することは任意
とされる。ジフェニルシラン、各種アルコキシシラン、
カーボンファンクショナルシラン、等を添加してもよ
い。
【００１９】さらに、難燃性・耐火性のシリコーンゴム
組成物を得るためには、本発明に係る導電性シリコーン
ゴム組成物に、白金含有材料、白金化合物と二酸化チタ
ンの混合物、白金と炭酸マンガンの混合物、白金とγ−
Ｆｅ２Ｏ３の混合物、フェライト、マイカ、ガラス繊
維、ガラスフレークなどの公知の添加剤を添加してもよ
い。
組成物を得るためには、本発明に係る導電性シリコーン
ゴム組成物に、白金含有材料、白金化合物と二酸化チタ
ンの混合物、白金と炭酸マンガンの混合物、白金とγ−
Ｆｅ２Ｏ３の混合物、フェライト、マイカ、ガラス繊
維、ガラスフレークなどの公知の添加剤を添加してもよ
い。
【００２０】本発明に係る導電性シリコーンゴム組成物
は、上記した成分を２本ロール、バンバリーミサー、ド
ゥミキサ−（ニーダー）などのゴム混練り機を用いて均
一に混合して、必要に応じ加熱処理を施すことにより得
ることができる。このようにして得られたシリコーンゴ
ム材料は、金型加圧成形、押し出し成形、カレンダー成
型などの種々の成形法によって必要とされる用途に成形
することができる。なお、加硫・硬化は加硫方法、成形
物の肉厚により適宜選択することができるが、通常80〜
400℃の温度で10秒〜30日間の加熱条件にて行うことが
できる。特に、常圧熱気加硫の場合は200〜400℃で行う
ことが好ましい。また、必要に応じて150℃〜250℃の温
度で１〜10時間程度二次加熱加硫・硬化（ポストキュ
ア）してもよい。
は、上記した成分を２本ロール、バンバリーミサー、ド
ゥミキサ−（ニーダー）などのゴム混練り機を用いて均
一に混合して、必要に応じ加熱処理を施すことにより得
ることができる。このようにして得られたシリコーンゴ
ム材料は、金型加圧成形、押し出し成形、カレンダー成
型などの種々の成形法によって必要とされる用途に成形
することができる。なお、加硫・硬化は加硫方法、成形
物の肉厚により適宜選択することができるが、通常80〜
400℃の温度で10秒〜30日間の加熱条件にて行うことが
できる。特に、常圧熱気加硫の場合は200〜400℃で行う
ことが好ましい。また、必要に応じて150℃〜250℃の温
度で１〜10時間程度二次加熱加硫・硬化（ポストキュ
ア）してもよい。
【００２１】得られたシリコーンゴム組成物の硬化物体
積抵抗率は、１×10−1Ω・ｍ以下であり、さらに好ま
しくは１×10−３ Ω・ｍ以下であるので、コネクター
や、電磁波シールド材等に適したものとして使用するこ
とができる。
積抵抗率は、１×10−1Ω・ｍ以下であり、さらに好ま
しくは１×10−３ Ω・ｍ以下であるので、コネクター
や、電磁波シールド材等に適したものとして使用するこ
とができる。
【００２２】
【実施例】以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
【００２３】
実施例１
（１）ジメチルシロキサン単位99.825モル％、メチルビニルシロキサン単位0.15
モル％、ジメチルビニルシロキサン単位0.025モル％からなり、平均重合度が8,0
00であるオルガノポリシロキサン 100重量部
（２）比表面積が、200ｍ２／ｇであるヒュームドシリカ（日本アエロジル（株
）製） 25重量部
（３）両末端シラノール基を有し、平均重合度15であるジメチルポリシロキサン
３重量部
（４）Ｎｉを被覆した人造グラファイト（ＷＥＳＴＡＩＭ社製、NICKEL CLAD GR
APHITE 75Ｎ：／Ｃ25）（平均粒子径：50μｍ、Ｎｉの被覆量：75重量％）
200重量部
上記（１）〜（４）をニーダーにて混練りしベースコン
パウンドを得た。
パウンドを得た。
【００２４】これに、二本ロールを用いて、2,5−ジメ
チル−2,5−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）ヘキ
サンの0.5重量部を添加した後、170℃で10分間加熱・加
圧成形し１ｍｍのシートを得た。その後150 ℃で１時間
ポストキュアーしたのち、得られたゴムシートの機械的
強度、導電率等を、ＪＩＳ ＳＲＩＳ−２３０１に従っ
て測定した。結果を、表１に示す。以下、同様。なお、
前記測定法を以下の実施例・比較例でも用いた。
チル−2,5−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）ヘキ
サンの0.5重量部を添加した後、170℃で10分間加熱・加
圧成形し１ｍｍのシートを得た。その後150 ℃で１時間
ポストキュアーしたのち、得られたゴムシートの機械的
強度、導電率等を、ＪＩＳ ＳＲＩＳ−２３０１に従っ
て測定した。結果を、表１に示す。以下、同様。なお、
前記測定法を以下の実施例・比較例でも用いた。
【００２５】実施例２
過酸化物として、ジ（4−メチルベンゾイル）パーオキ
サイドを0.7 重量部用いる以外は、実施例１と同様な方
法により、ゴムシートを作成した。
サイドを0.7 重量部用いる以外は、実施例１と同様な方
法により、ゴムシートを作成した。
【００２６】実施例３
過酸化物として、ジ（2,4−ジクロロベンゾイル）パー
オキサイドを用いる以外は、実施例２と同様な方法によ
り、ゴムシートを作成した。
オキサイドを用いる以外は、実施例２と同様な方法によ
り、ゴムシートを作成した。
【００２７】実施例４
実施例２で得られたベースコンパウンドを、２本ロール
を用いて１ｍｍ厚のシートとした後、200℃で10分間加
熱した。その後、150℃で１時間ポストキュアーしてゴ
ムシートを得た。実施例１〜４のゴムシートについて、
機械的強度、導電率を測定した。
を用いて１ｍｍ厚のシートとした後、200℃で10分間加
熱した。その後、150℃で１時間ポストキュアーしてゴ
ムシートを得た。実施例１〜４のゴムシートについて、
機械的強度、導電率を測定した。
【００２８】比較例１
Ｎｉ被覆グラファイトの添加量が30重量部である以外は
実施例１と同様に行って、ゴムシートを得た。その機械
的強度、導電率を測定した。
実施例１と同様に行って、ゴムシートを得た。その機械
的強度、導電率を測定した。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【発明の効果】本発明に係る導電性シリコーンゴム組成
物は、十分なポットライフがあり、触媒毒の影響も受け
ず、常圧熱気加硫可能であり、その硬化物は低体積抵抗
率であると共に電磁波シールド性に優れるため、電磁波
シールドガスケット材、導電性接点部材、コネクター、
事務機用ロール部材等に好適な導電性シリコーンゴムを
得ることができる。
物は、十分なポットライフがあり、触媒毒の影響も受け
ず、常圧熱気加硫可能であり、その硬化物は低体積抵抗
率であると共に電磁波シールド性に優れるため、電磁波
シールドガスケット材、導電性接点部材、コネクター、
事務機用ロール部材等に好適な導電性シリコーンゴムを
得ることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１４年７月１８日（２００２．７．１
８）
８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】
【化１】
（式中、ｎは１〜100の整数、Ｒ１は上記Ｒと同様の基
でメチル基、ビニル基、フェニル基、トリフロロプロピ
ル基が好ましく、特に、メチル基、ビニル基が好まし
い。Ｒ２は水酸基、または、上記Ｒと同様の基である
が、好ましいのは水酸基である。）
でメチル基、ビニル基、フェニル基、トリフロロプロピ
ル基が好ましく、特に、メチル基、ビニル基が好まし
い。Ｒ２は水酸基、または、上記Ｒと同様の基である
が、好ましいのは水酸基である。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】本発明に係る導電性シリコーンゴム組成物
には、上記必須成分に加え、任意成分として本発明の効
果を妨げない範囲で必要に応じ、補強性シリカ粉末を添
加してもよい。補強性シリカ粉末は、機械的強度の優れ
たシリコーンゴム組成物を得るために添加されるもので
あるが、この目的のためには比表面積が50ｍ２／ｇ以
上、好ましくは100〜400ｍ２／ｇである。比表面積が50
ｍ２／ｇに満たないと硬化物への補強効果が十分でない
ことがある。このような補強性シリカとしては、例えば
煙霧質シリカ、沈降シリカ等が挙げられ、またこれらの
表面をクロロシランやヘキサメチルジシラザンなどの反
応性有機珪素化合物で疎水化したものも好適に用いられ
る。補強性シリカ粉末の添加量は、（ａ）成分のオルガ
ノポリシロキサン100 重量部に対して３〜70重量部、特
に10〜50重量部とすることが好ましく、３重量部未満で
は添加量が少なすぎて補強効果が得られないことがあ
り、70重量部を超えると加工性が悪くなり、また機械的
強度が低下してしまうことがある。
には、上記必須成分に加え、任意成分として本発明の効
果を妨げない範囲で必要に応じ、補強性シリカ粉末を添
加してもよい。補強性シリカ粉末は、機械的強度の優れ
たシリコーンゴム組成物を得るために添加されるもので
あるが、この目的のためには比表面積が50ｍ２／ｇ以
上、好ましくは100〜400ｍ２／ｇである。比表面積が50
ｍ２／ｇに満たないと硬化物への補強効果が十分でない
ことがある。このような補強性シリカとしては、例えば
煙霧質シリカ、沈降シリカ等が挙げられ、またこれらの
表面をクロロシランやヘキサメチルジシラザンなどの反
応性有機珪素化合物で疎水化したものも好適に用いられ
る。補強性シリカ粉末の添加量は、（ａ）成分のオルガ
ノポリシロキサン100 重量部に対して３〜70重量部、特
に10〜50重量部とすることが好ましく、３重量部未満で
は添加量が少なすぎて補強効果が得られないことがあ
り、70重量部を超えると加工性が悪くなり、また機械的
強度が低下してしまうことがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２０】本発明に係る導電性シリコーンゴム組成物
は、上記した成分を２本ロール、バンバリーミキサー、
ドゥミキサ−（ニーダー）などのゴム混練り機を用いて
均一に混合して、必要に応じ加熱処理を施すことにより
得ることができる。このようにして得られたシリコーン
ゴム材料は、金型加圧成形、押し出し成形、カレンダー
成型などの種々の成形法によって必要とされる用途に成
形することができる。なお、加硫・硬化は加硫方法、成
形物の肉厚により適宜選択することができるが、通常80
〜400℃の温度で10秒〜30日間の加熱条件にて行うこと
ができる。特に、常圧熱気加硫の場合は200〜400℃で行
うことが好ましい。また、必要に応じて150℃〜250℃の
温度で１〜10時間程度二次加熱加硫・硬化（ポストキュ
ア）してもよい。
は、上記した成分を２本ロール、バンバリーミキサー、
ドゥミキサ−（ニーダー）などのゴム混練り機を用いて
均一に混合して、必要に応じ加熱処理を施すことにより
得ることができる。このようにして得られたシリコーン
ゴム材料は、金型加圧成形、押し出し成形、カレンダー
成型などの種々の成形法によって必要とされる用途に成
形することができる。なお、加硫・硬化は加硫方法、成
形物の肉厚により適宜選択することができるが、通常80
〜400℃の温度で10秒〜30日間の加熱条件にて行うこと
ができる。特に、常圧熱気加硫の場合は200〜400℃で行
うことが好ましい。また、必要に応じて150℃〜250℃の
温度で１〜10時間程度二次加熱加硫・硬化（ポストキュ
ア）してもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２３】
実施例１
（１）ジメチルシロキサン単位99.825モル％、メチルビニルシロキサン単位0.15
モル％、ジメチルビニルシロキサン単位0.025モル％からなり、平均重合度が8,0
00であるオルガノポリシロキサン 100重量部
（２）比表面積が、200ｍ２／ｇであるヒュームドシリカ（日本アエロジル（株
）製） 25重量部
（３）両末端シラノール基を有し、平均重合度15であるジメチルポリシロキサン
３重量部
（４）Ｎｉを被覆した人造グラファイト（ＷＥＳＴＡＩＭ社製、NICKEL CLAD GR
APHITE 75Ｎｉ／Ｃ25）（平均粒子径：50μｍ、Ｎｉの被覆量：75重量％）
200重量部
上記（１）〜（４）をニーダーにて混練りしベースコン
パウンドを得た。
パウンドを得た。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｅ
Ｘ
(72)発明者 小池 義明
群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10
信越化学工業株式会社シリコーン電子材料
技術研究所内
(72)発明者 柳沼 篤
群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10
信越化学工業株式会社シリコーン電子材料
技術研究所内
(72)発明者 中村 勉
群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10
信越化学工業株式会社シリコーン電子材料
技術研究所内
Ｆターム(参考） 4J002 CP031 DA036 EK00 EK02
EK04 EK05 FB076 FD01
FD116 FD16 FD32 GQ00
GQ02
5E321 AA03 BB32 BB44 BB60 GG05
5G301 DA10 DA19 DA42 DD06 DD10
DE01
Claims (5)
- 【請求項１】 ａ）平均組成式ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２（ここにＲは、同一または異種の、非 置換又は置換された１価炭化水素基。ａは1.90〜2.05の正数である）で示される オルガノポリシロキサン 100重量部 ｂ）カーボンに対してＮｉを被覆した導電性粒子 50〜500重量部 、および ｃ）有機過酸化物 0.1〜10重量部 を含有することを特徴とする導電性シリコーンゴム組成
物。 - 【請求項２】ｂ）のカーボンが、グラフアイトである請
求項１記載の組成物。 - 【請求項３】ａ）、ｂ）、ｃ）成分に加えて、さらに、
ｄ）重合度が100以下の水酸基含有有機珪素化合物を、
0.1〜20重量部含有する請求項１又は２記載の組成物。 - 【請求項４】ｃ）の有機過酸化物化合物が、ジ（2,4−
ジクロロベンゾイル）パーオキサイド、ジ（4−メチル
ベンゾイル）パーオキサイド、ジ（2−メチルベンゾイ
ル）パーオキサイドから選ばれる１種であり、常圧熱気
加硫（ＨＡＶ）可能である請求項１〜３のいずれか一項
記載の組成物。 - 【請求項５】請求項１〜４のいずれか一項記載の組成物
から得られる導電性シリコーンゴムからなる電磁波シー
ルド材。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244799A JP2003059341A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 導電性シリコーンゴム組成物 |
| US10/214,555 US6706799B2 (en) | 2001-08-10 | 2002-08-09 | Conductive silicone rubber composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244799A JP2003059341A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 導電性シリコーンゴム組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003059341A true JP2003059341A (ja) | 2003-02-28 |
Family
ID=19074676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001244799A Pending JP2003059341A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 導電性シリコーンゴム組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6706799B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003059341A (ja) |
Cited By (6)
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|---|---|---|---|---|
| JP2006007537A (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-12 | Kitagawa Ind Co Ltd | 導電性シート及びその製造方法 |
| WO2006064782A1 (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Kabushiki Kaisha Fine Rubber Kenkyuusho | 誘電性素材、アンテナ装置、携帯電話機及び電磁波遮蔽体 |
| CN102276988A (zh) * | 2011-06-08 | 2011-12-14 | 北京工业大学 | 一种单组份Ni-C填充型FIP热硫化高导电硅橡胶及其制备方法 |
| JP2015053412A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 電磁波シールドシートおよびプリント配線板 |
| JP2018074168A (ja) * | 2017-11-24 | 2018-05-10 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 電磁波シールドシートおよびプリント配線板 |
| JP2023509653A (ja) * | 2019-12-31 | 2023-03-09 | エルケム・シリコーンズ・シャンハイ・カンパニー・リミテッド | 導電性シリコーンエラストマー物品の製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4803350B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2011-10-26 | 信越化学工業株式会社 | 圧着性異方導電性樹脂組成物及び微細電極の接続方法 |
| US7527873B2 (en) * | 2006-02-08 | 2009-05-05 | American Standard Circuits | Thermally and electrically conductive interface |
| IT201600129251A1 (it) * | 2016-12-21 | 2018-06-21 | S I C E Srl | Connettore per apparati per ponti radio da esterno |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5910524A (en) * | 1995-01-20 | 1999-06-08 | Parker-Hannifin Corporation | Corrosion-resistant, form-in-place EMI shielding gasket |
| JP3603945B2 (ja) * | 1999-10-06 | 2004-12-22 | 信越化学工業株式会社 | 導電性シリコーンゴム組成物 |
-
2001
- 2001-08-10 JP JP2001244799A patent/JP2003059341A/ja active Pending
-
2002
- 2002-08-09 US US10/214,555 patent/US6706799B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006007537A (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-12 | Kitagawa Ind Co Ltd | 導電性シート及びその製造方法 |
| JP4515836B2 (ja) * | 2004-06-24 | 2010-08-04 | 北川工業株式会社 | 導電性シート及びその製造方法 |
| WO2006064782A1 (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Kabushiki Kaisha Fine Rubber Kenkyuusho | 誘電性素材、アンテナ装置、携帯電話機及び電磁波遮蔽体 |
| JP4699388B2 (ja) * | 2004-12-17 | 2011-06-08 | 株式会社ファインラバー研究所 | 誘電性素材、アンテナ装置、携帯電話機及び電磁波遮蔽体 |
| US8715533B2 (en) | 2004-12-17 | 2014-05-06 | Asahi R&D Co., Ltd. | Dielectric raw material, antenna device, portable phone and electromagnetic wave shielding body |
| CN102276988A (zh) * | 2011-06-08 | 2011-12-14 | 北京工业大学 | 一种单组份Ni-C填充型FIP热硫化高导电硅橡胶及其制备方法 |
| CN102276988B (zh) * | 2011-06-08 | 2012-10-31 | 北京工业大学 | 一种单组份Ni-C填充型FIP热硫化高导电硅橡胶及其制备方法 |
| JP2015053412A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 電磁波シールドシートおよびプリント配線板 |
| JP2018074168A (ja) * | 2017-11-24 | 2018-05-10 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 電磁波シールドシートおよびプリント配線板 |
| JP2023509653A (ja) * | 2019-12-31 | 2023-03-09 | エルケム・シリコーンズ・シャンハイ・カンパニー・リミテッド | 導電性シリコーンエラストマー物品の製造方法 |
| JP7423790B2 (ja) | 2019-12-31 | 2024-01-29 | エルケム・シリコーンズ・シャンハイ・カンパニー・リミテッド | 導電性シリコーンエラストマー物品の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6706799B2 (en) | 2004-03-16 |
| US20030047721A1 (en) | 2003-03-13 |
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