JP2003055677A

JP2003055677A - ガスハイドレートの製造方法および製造装置

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Publication number: JP2003055677A
Application number: JP2001247625A
Authority: JP
Inventors: Yuichi Kato; 裕一加藤; Takashi Arai; 新井　　敬; Shigeru Nagamori; 茂永森; Junji Ono; 純二小野; Tomoharu Okui; 智治奥井; Tatsuji Kawasaki; 達治川崎; Taiji Yokoi; 泰治横井
Original assignee: Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd; Tokyo Gas Co Ltd
Current assignee: Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd; Tokyo Gas Co Ltd
Priority date: 2001-08-17
Filing date: 2001-08-17
Publication date: 2003-02-26

Abstract

(57)【要約】【課題】輸送や貯蔵の際の利便性に優れた高濃度のガ
スハイドレートを製造する方法およびそのための装置を
提供すること。【解決手段】所定圧力および所定温度の下で水と原料
ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガスハ
イドレートの製造装置１００は、水に原料ガスを気泡と
して導入する多孔板１３を備えた第１の生成槽１１と、
第１の生成槽１１における多孔板１３よりも径の大きな
気泡を導入する多孔板２３を備えた第２の生成槽２１
と、第１の生成槽１１で生成した細粒ガスハイドレート
５５および第２の生成槽２１で生成した粗粒ガスハイド
レート５６を混合する混合槽３１とを備えており、粒径
の異なるガスハイドレートの混合物５７を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスハイドレート
の製造方法および製造装置に関し、より詳細には、例え
ば、天然ガス、メタンガス、炭酸ガス等からガスハイド
レートを製造する方法およびそのための装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ガスハイドレートは、水分子とガス分子
からなる氷状の固体物質であり、水分子により形成され
るかご状構造の内部にガス分子を取り込んだ構造の水和
物である。このガスハイドレートは、高いガス包蔵性、
大きな生成・解離熱、小さな温度変化による高い圧力の
発生、ハイドレート化ガスの選択性等の性質を有するた
め、例えば天然ガス等の輸送・貯蔵手段や、蓄熱システ
ム、アクチュエータ、ガスの分離回収等多様な用途での
利用が注目されており、研究が行われている。

【０００３】このガスハイドレートの輸送、貯蔵は、バ
ルク（粉状）やスラリーの形態で行われるが、ガスハイ
ドレートの粒径が非常に小さいこと、および粒径が比較
的均一であることから、バルクの場合には充填密度が小
さくなり、スラリーの場合には流動性を確保するための
体積濃度が約０．１５以下となって輸送や貯蔵の効率が
非常に低いという問題があった。

【０００４】このため、特開２０００−３０２７０２号
公報では、原料ガスと水等を第１の圧力容器に供給し、
高速攪拌してメタンハイドレートの微結晶を生成させ、
また、原料ガスと水等を第２の圧力容器に供給し、遅い
攪拌速度で攪拌して粒径の大きいメタンハイドレート結
晶を析出させ、次いで両者を混合するガスハイドレート
の製造方法の発明が記載されている。この特開２０００
−３０２７０２号公報の技術は、粒径の異なる２種のガ
スハイドレートを製造して混合するものであり、輸送等
に好適なガスハイドレートを提供する優れた方法である
が、攪拌速度によって粒径の制御を行うものであるた
め、特に高速攪拌には相応の動力を必要とし、また生成
槽となる圧力容器も最低二つ以上必要となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、輸送や貯蔵
の際の利便性に優れた高濃度のガスハイドレートを製造
する方法およびそのための装置を提供することを目的と
するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１に記載のガスハイドレートの製造方法の発
明は、所定圧力および所定温度の下、生成槽内で水と原
料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造するガス
ハイドレートの製造方法であって、前記生成槽内の水に
原料ガスを気泡として導入するとともに、該気泡を異な
る２つ以上の径に制御することにより異なる２つ以上の
粒径のガスハイドレートを生成させて、該異なる２つ以
上の粒径のガスハイドレートを均一に混合することを特
徴とする。この特徴によれば、水中に導入する原料ガス
の気泡径を制御することにより、簡易な機構で異なる粒
径のガスハイドレートを容易に生成させることができる
とともに、粒径の異なるガスハイドレートを均一に混合
することによって、輸送や貯蔵に適した高密度のガスハ
イドレートを製造することができる。

【０００７】請求項２に記載のガスハイドレート製造装
置の発明は、所定圧力および所定温度の下、水と原料ガ
スとを反応させてガスハイドレートを製造する１つまた
は２つ以上の生成槽と、前記生成槽内の水に原料ガスを
導入して、異なる２つ以上の径の気泡を発生させる散気
手段と、該異なる２つ以上の径の気泡からそれぞれ生成
する、異なる２つ以上の粒径のガスハイドレートを均一
に混合する混合手段と、を備えたことを特徴とする。こ
の特徴によれば、それぞれ発生させる気泡径が異なる２
つ以上の散気手段により粒径の異なるガスハイドレート
を生成させて混合するものであるため、比較的簡易な装
置構成で輸送や貯蔵に適した高密度のガスハイドレート
を効率的に製造することができる。

【０００８】請求項３に記載のガスハイドレート製造装
置の発明は、請求項２において、２つ以上の生成槽に、
発生させる気泡径が異なる散気手段をそれぞれ配備した
ことを特徴とする。この特徴によれば、２つ以上の生成
槽に、発生させる気泡径が異なる散気手段を別々に配備
したので、生成槽ごとに別々の粒径のガスハイドレート
を生成させた後に混合することが可能であり、粒径の異
なるガスハイドレートの混合比などの調整を容易に行う
ことができる。

【０００９】請求項４に記載のガスハイドレート製造装
置の発明は、請求項２または３において、前記散気手段
が前記生成槽下部に設けられた多孔板であることを特徴
とする。この特徴によれば、散気手段として生成槽下部
に多孔板を設けたことにより、簡易な機構で効率よくガ
スハイドレート粒径の制御を行うことができる。

【００１０】請求項５に記載のガスハイドレート製造装
置の発明は、所定圧力および所定温度の下、生成槽内で
水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造す
るガスハイドレートの製造装置であって、水に原料ガス
を所定径の気泡として導入する散気手段を備えた第１の
生成槽と、前記第１の生成槽における散気手段よりも径
の大きな気泡を導入する散気手段を備えた第２の生成槽
と、前記生成槽でそれぞれ生成した粒径の異なるガスハ
イドレートを混合するための混合手段と、を備えたこと
を特徴とする。この特徴によれば、第１の生成槽、第２
の生成槽および混合手段を備えた構成とすることによ
り、例えば細粒と粗粒などの大小粒径の異なるガスハイ
ドレート混合物を効率よく製造することができる。

【００１１】請求項６に記載のガスハイドレート製造装
置の発明は、さらに、前記第２の生成槽における散気手
段よりも径の大きな気泡を導入する散気手段を備えた第
３の生成槽を備えたことを特徴とする。この特徴によれ
ば、さらに第３の生成槽を備えた構成とすることによ
り、例えば細粒と中粒と粗粒などの粒径の異なる３種の
ガスハイドレート混合物を効率よく製造することができ
る。

【００１２】請求項７に記載のガスハイドレート製造装
置の発明は、請求項５または６において、前記散気手段
が前記生成槽下部に設けられた多孔板であることを特徴
とする。この特徴によれば、散気手段として生成槽下部
に多孔板を設けたことにより、簡易な機構で効率よくガ
スハイドレート粒径の制御を行うことができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明方法でガスハイドレートの
製造に用いる原料ガスの種類は所定の圧力、温度条件で
ガスハイドレートを形成するものであれば特に限定され
ず、例えばメタン、天然ガス（メタン、エタン、プロパ
ン、ブタン等の混合ガス）、炭酸ガス（二酸化炭素）等
を挙げることができる。本発明では、上記原料ガスを水
中に気泡として導入し、所定圧力および所定温度の下で
ガスハイドレートを生成させる。ここで、ガスハイドレ
ート生成に必要な圧力や温度条件はガスの種類により異
なるが、いずれも既知の条件で実施できる。

【００１４】本発明のガスハイドレート製造方法におい
ては、水中に導入される原料ガスの気泡径（気泡の大き
さ）を制御することにより、異なる粒径のガスハイドレ
ートを生成させるものである。気泡径は、例えば多孔板
や散気管を介して散気させる方法であれば、孔の大きさ
により調節することができる。気泡径を制御することに
より、異なる粒径のガスハイドレートを生成させること
が可能になる理由は、以下のとおりである。

【００１５】一般に、所定条件の下で水と接触したガス
は、水に溶解した後水和してガスハイドレートを生成す
る。水中に導入された気泡の場合は、水との接触面（す
なわち気泡表面）で水に溶解して気泡周囲に一定のガス
溶存領域を形成すると考えられる。図３に示すように、
気泡５１の径が大きい場合［図３（ａ）］には気泡周囲
の溶存領域５３も大きくなるため、ガスハイドレート生
成反応は比較的広範囲で同時に進行することになる。一
方、気泡５１の径が小さい場合［図３（ｂ）］には、気
泡周囲の溶存領域５３は小さくなるため、ガスハイドレ
ート生成反応が進行する範囲も小さいものとなる。ここ
で、気泡５１は浮力により水中を上昇していくため、溶
存領域の大きな大径の気泡の周囲では、ガスハイドレー
ト生成が溶存領域全体に渡り短時間で行われるため、粒
径の大きなガスハイドレートが生成するが、小径の気泡
の周囲では、ガス溶存領域が小さいため、粒径の小さな
ガスハイドレートが生成することになる。このように、
本発明の製造方法では、気泡径の大小による溶存領域の
差異を利用して、生成するガスハイドレートの粒径を制
御するものである。従って、例えば、気泡の径を大、
中、小に調節すれば、ガスハイドレートの粒径もそれぞ
れ大径、中径、小径に制御できる。ここで、ガスハイド
レートの製造においては完全な粒径の制御は不可能であ
り、一定範囲の粒径分布をとることから、製造過程で不
可避に生成してしまう所定粒径以外の粒径のものも含
め、上記粒径の相違は平均粒径を基準とした比較で区別
できればよい。

【００１６】異なる粒径のガスハイドレートを組み合わ
せて混合物とする場合の例としては、粗粒の平均半径を
Ｒ_Ｌとした場合の細粒の平均半径を０．４Ｒ_Ｌ〜０．６
Ｒ_Ｌに制御することが挙げられ、特に、Ｒ_Ｓ（細粒の平
均半径）／Ｒ_Ｌ（粗粒の平均半径）を０.５２〜０．５
３程度にすることが好ましい。粗粒と細粒との粒径の比
を上記の範囲とすることにより、混合物とした場合のガ
スハイドレート粒子間の無駄な空隙を極少とすることが
でき、密度の高い混合物が得られる。また、この場合の
粗粒と細粒との混合比は、例えば、粗粒８０〜９０重量
％程度で、細粒１０〜２０重量％程度であり、好ましく
は粗粒８６〜８８重量％で、細粒１２〜１４重量％であ
る。前記粒径比の下で粗粒と細粒との配合比を上記の範
囲とすることにより、粒径制御の効果が十分に発揮さ
れ、ガスハイドレートを高密度化することができる。

【００１７】また、別の組み合わせの例として、実質的
に粗粒、中粒および細粒からなる粒径の異なったガスハ
イドレートを均一に混合した混合物を挙げることができ
る。この混合物では、粗粒の平均半径をＲ_Ｌとした場合
の中粒の平均半径を０．４Ｒ _Ｌ〜０．６Ｒ_Ｌ、細粒の平
均半径を０．２Ｒ_Ｌ〜０．３Ｒ_Ｌに制御することが挙げ
られる。特に、Ｒ_Ｍ（中粒の平均半径）／Ｒ_Ｌ（粗粒の
平均半径）を０.４１〜０．４２程度、かつＲ_Ｓ（細粒
の平均半径）／Ｒ_Ｌ（粗粒の平均半径）を０.２２〜
０．２３程度にすることが好ましい。粗粒と中粒と細粒
との平均粒径の比を上記の範囲とすることにより、混合
物とした場合のガスハイドレート粒子間の無駄な空隙を
極少とすることができ、密度の高い混合物が得られる。
また、この場合の粗粒と中粒と細粒との混合比は、粗粒
９０〜９４重量％程度、中粒５〜８重量％程度、細粒１
〜２重量％程度とすることができ、好ましくは粗粒９２
〜９３重量％、中粒６〜７重量％、細粒１〜２重量％で
ある。前記粒径比の下で粗粒と中粒と細粒との配合比を
上記の範囲とすることにより、前記粒径制御の効果が十
分に発揮されガスハイドレートを高密度化することがで
きる。

【００１８】以上のように、本発明では、ガスハイドレ
ートの粒径に加え、配合比率をも制御することによっ
て、より高密度化を図ることが可能になる。

【００１９】本発明において、粒径の異なるガスハイド
レート、例えば粗粒と細粒、または粗粒と中粒と細粒
は、例えば攪拌等の混合手段により全体にわたり均一に
混合される。このように均一に混合することにより、粗
粒ガスハイドレート同士の間隙を中粒や細粒のガスハイ
ドレートが満たすように混合物が高密度化する。

【００２０】本発明のガスハイドレート混合物の形態
は、例えば、バルク状態、スラリー状態等にすることが
できる。バルク状態であれば、粗粒の間隙に細粒や中粒
が充填されることにより、従来４０重量％程度とされて
いた貯槽への充填率を６０重量％以上にすることが可能
になる。また、スラリー状態とした場合には、従来１５
重量％程度が限界とされてきた流動可能な体積濃度を３
０重量％以上まで高めることが可能であることに加え、
必要な流動性を維持したガスハイドレート混合物スラリ
ーとなる。

【００２１】図１は、本発明製造方法によるガスハイド
レート混合物の製造に適したガスハイドレート製造装置
１００であり、主要な構成として細粒生成槽１１、粗粒
生成槽２１、混合槽３１およびガスハイドレート貯槽４
１を備えている。

【００２２】細粒生成槽１１は、熱交換器等の冷却手段
（図示せず）を備え、内部を所定の温度および圧力に調
節できるように設計された耐圧容器により構成されてお
り、槽内の下部に細孔を有する多孔板１３が配備され、
中心部には液相の攪拌を行う混合手段としての攪拌機１
７が設けられている。攪拌機１７は、細粒生成槽１１内
部の熱分布を均一にしてガスハイドレート生成熱を熱交
換器により効率的に除去できるようにする上で設置する
ことが好ましい。

【００２３】細粒径のガスハイドレートを製造する方法
の一例として、細粒生成槽１１では、水供給配管１８か
ら槽内に導入し所定液量で貯留した水に、ガス供給配管
１９からガスを槽内に供給するとともに、多孔板１３の
細孔を介して小気泡として水中に散気させる。小気泡は
浮力によって上昇しながら水と接触して、所定圧力と温
度の下で所望の細粒径のガスハイドレートを生成させ
る。このような条件で生成した細粒ガスハイドレート５
５は、細粒生成槽１１内の水相上部に浮上する。具体的
な温度、圧力、反応時間、多孔板１３の細孔径や気泡
径、ガス流量などの条件は、目的とする細粒の大きさに
応じて設定することができる。

【００２４】粗粒生成槽２１は、前記細粒生成槽１１と
同様に熱交換器等の冷却手段（図示せず）を備え、内部
を所定の温度および圧力に調節できるように設計された
耐圧容器により構成されており、槽内の下部に前記多孔
板１３よりも大きな孔径を有する多孔板２３が配備さ
れ、中心部には液相の攪拌を行う混合手段としての攪拌
機２７が設けられている。この攪拌機２７は、粗粒生成
槽２１内部の熱分布を均一にしてガスハイドレート生成
熱を熱交換器により効率的に除去できるようにする上で
設置することが好ましく、攪拌速度は細粒生成槽１１に
おける攪拌器１７と同じ程度でよい。

【００２５】粗粒径のガスハイドレートを製造する方法
の一例として、粗粒生成槽２１では、水供給配管２８か
ら槽内に導入し所定液量で貯留した水中に、ガス供給配
管２９からガスを槽内に供給するとともに、多孔板２３
の孔（多孔板１３よりも孔径が大きい）を介して前記小
気泡より大きな気泡として水中に散気させる。この大き
めの気泡は、浮力によって上昇しながら水と接触して、
所定圧力と温度の下で所望の粗粒径のガスハイドレート
を生成させる。このような条件で生成した粗粒ガスハイ
ドレート５６は、生成容器内の水相上部に浮上する。具
体的な温度、圧力、反応時間、気泡径や多孔板２３の孔
径、ガス流量などの条件は、目的とする粗粒の大きさに
応じて設定することができる。

【００２６】生成した細粒ガスハイドレート５５および
粗粒ガスハイドレート５６は、抜出ポンプ１４、２４の
作用によりそれぞれ排出して所定比率で混合槽３１へ導
入する。この混合槽３１は、混合手段として攪拌機３２
を備えており、細粒ガスハイドレート５５および粗粒ガ
スハイドレート５６は均一に、すなわち、全体にわたり
粗粒ガスハイドレート同士の間隙を細粒ガスハイドレー
トが埋めるように混合される。これによって、高密度充
填型のガスハイドレート混合物５７が得られ、バルク状
態での取り扱いにおいては高密度充填型のガスハイドレ
ートとなり、スラリー化した場合は高濃度のガスハイド
レートスラリーとなる。

【００２７】図１の装置では、粗粒と細粒とを混合・攪
拌した後のガスハイドレート混合物５７を、ポンプ３４
により貯槽４１へ流送する構成になっており、貯槽４１
において安定した状態で貯蔵される。必要に応じて貯槽
４１には、製造したガスハイドレート混合物５７を均一
な状態に維持するための攪拌機４２を設けることもでき
る。

【００２８】図１の装置では、細粒生成槽１１および粗
粒生成槽２１は、別々の容器としたが、圧力等の条件が
許す場合には、例えば一体型容器に隔壁を介して細粒生
成槽１１と粗粒生成槽２１を隣接配置する構成にするこ
とも可能である。

【００２９】また、粗粒、中粒、細粒の三成分系の場合
でも、上記に準じた装置構成および方法により、高濃度
のガスハイドレート混合物５７を製造することができ
る。

【００３０】図２は、本発明の第２実施形態に係るガス
ハイドレート製造装置１０１を示す図面であり、主要な
構成としてガスハイドレート混合物生成槽６１およびガ
スハイドレート貯槽４１を備えている。ここでは、ガス
ハイドレート混合物生成槽６１に、第１実施形態の製造
装置における細粒生成槽１１、粗粒生成槽２１および混
合槽３１の役割を持たせることにより、装置構成を著し
く簡素なものとすることが可能になった。

【００３１】ガスハイドレート混合物生成槽６１は、熱
交換器等の冷却手段（図示せず）を備え、内部を所定の
温度および圧力に調節できるように設計された耐圧容器
により構成されており、槽内の下部に第１の散気手段と
して細孔を有する多孔板１３および第２の散気手段とし
て前記多孔板１３よりも大きな孔径を有する多孔板２３
が、生成槽６１の断面を所定の面積比率で占めるように
区分して配備されている。この多孔板１３と多孔板２３
の面積の比率は、例えば細粒ガスハイドレート５５と粗
粒ガスハイドレート５６が好適な比率で生成されるよう
に設定することができる。ガスハイドレート混合物生成
槽６１の中心部には液相の上部および下部に当る位置に
攪拌翼を備えた混合手段としての攪拌機６７が設けられ
ている。この攪拌機６７は、ガスハイドレート混合物生
成槽６１内部の熱分布を均一にしてガスハイドレート生
成熱を熱交換器により効率的に除去できるようにすると
ともに、液相上部では生成した細粒ガスハイドレート５
５および粗粒ガスハイドレート５６を攪拌して均一に混
合する機能を有するものである。

【００３２】ガスハイドレート混合物５７を製造する方
法の一例として、ガスハイドレート混合物生成槽６１で
は、水供給配管６８から槽内に導入し所定液量で貯留し
た水に、ガス供給配管６９からガスを槽内に供給すると
ともに、多孔板１３の細孔より小さな気泡として、同時
に多孔板２３の粗孔より大きな気泡として、それぞれ水
中に散気させる。小さな気泡は浮力によって上昇しなが
ら水と接触して、所定圧力と温度の下で所望の細粒ガス
ハイドレート５５を生成させ、同様に大きな気泡は粗粒
ガスハイドレート５６を生成させる。このような条件で
生成した細粒ガスハイドレート５５および粗粒ガスハイ
ドレート５６は、生成容器内の水相上部に分散し、ここ
で攪拌混合されて均一なガスハイドレート混合物５７が
得られる。具体的な温度、圧力、反応時間、多孔板１
３、２３の径や気泡径、ガス流量などの条件は、目的と
する細粒および粗粒の大きさに応じて設定することがで
きる。生成したガスハイドレート混合物５７は、抜出ポ
ンプ６４の作用により槽外へ排出して回収する。粗粒、
中粒および細粒のガスハイドレート混合物を製造する場
合には、前記多孔板として、大、中および小の孔を有す
るものを所定面積比率で設置すればよい。

【００３３】このように、本第２実施形態では、ガスハ
イドレート混合物生成槽６１内に孔径の異なる多孔板１
３、２３を配備することにより、細粒ガスハイドレート
５５、粗粒ガスハイドレート５６を同時に所望の比率で
生成させて混合物として回収することができるととも
に、装置構成を著しく簡素化できる。第２実施形態にお
ける他の構成は、第１実施形態と同様であるため、同一
の構成には同一の符号を付して説明を省略する。

【００３４】

【実施例】次に実施例等を挙げ、本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれによって何ら制約されるもので
はない。

【００３５】実施例１図１に示す構成のガスハイドレート製造装置により、天
然ガスと水とを原料にして天然ガスハイドレート混合物
を製造した。

【００３６】粗粒の製造においては、温度、圧力および
気泡径を調整することによって、平均半径が約０．５ｍ
ｍになるように制御した。同様に、細粒の製造において
は、平均半径が約０．２５ｍｍになるように制御した。
粗粒と細粒との平均半径の比（Ｒ_Ｓ／Ｒ_Ｌ）は、約０.
５であった。

【００３７】得られた天然ガスハイドレートの粗粒と細
粒とを８５：１５の混合比で混合することにより、本発
明天然ガスハイドレート混合物スラリーを製造した。こ
のガスハイドレート混合物は、貯蔵槽における充填密度
が、３０％であった。

【００３８】比較例１実施例１で製造した粗粒の天然ガスハイドレートを以っ
て比較例１とした。この天然ガスハイドレートは貯蔵槽
における充填密度が２０〜２５％であった。

【００３９】比較例２実施例１で製造した細粒の天然ガスハイドレートを以っ
て比較例２とした。この天然ガスハイドレートは貯蔵槽
における充填密度が１０〜１５％であった。

【００４０】

【発明の効果】本発明によれば、大きさの異なるガスハ
イドレートを所望の粒径比および混合比で均一に混合し
てなる高密度で輸送や貯蔵に便利なガスハイドレート混
合物を簡易な装置構成で容易に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明ガスハイドレート製造装置の第１実施形
態の説明に供する図面。

【図２】本発明ガスハイドレート製造装置の第２実施形
態の説明に供する図面。

【図３】水中における原料ガスの気泡の状態を説明に供
する模式図であり、（ａ）は大気泡、（ｂ）は小気泡に
それぞれ溶存領域が生じている状態を示す。

【符号の説明】

１１細粒生成槽１４抜出ポンプ１５駆動部１７攪拌機１８水供給配管１９ガス供給配管２１粗粒生成槽２３多孔板２４抜出ポンプ２５駆動部２７攪拌機２８水供給配管２９ガス供給配管３１混合槽３２攪拌機３４抜出ポンプ３５駆動部３６攪拌軸３７攪拌翼４１貯槽４２攪拌機４５モーター４６攪拌軸４７翼５１気泡５３ガス溶存領域５５細粒ガスハイドレート５６粗粒ガスハイドレート５７ガスハイドレート混合物６１ガスハイドレート混合物生成槽６４抜出ポンプ６５駆動部６７攪拌機６８水供給配管６９ガス供給配管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｃ 7/20 Ｃ０７Ｃ 9/04 9/04 Ｃ１０Ｌ 3/00 Ａ (72)発明者新井敬千葉県市原市八幡海岸通１番地三井造船株式会社千葉事業所内 (72)発明者永森茂東京都中央区築地５丁目６番４号三井造船株式会社内 (72)発明者小野純二東京都中央区築地５丁目６番４号三井造船株式会社内 (72)発明者奥井智治東京都港区海岸１丁目５番20号東京瓦斯株式会社内 (72)発明者川崎達治東京都港区海岸１丁目５番20号東京瓦斯株式会社内 (72)発明者横井泰治東京都港区海岸１丁目５番20号東京瓦斯株式会社内Ｆターム(参考） 4G046 JA04 JB03 4H006 AA02 AA04 AC93 BD81 BE60

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定圧力および所定温度の下、生成槽内
で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造
するガスハイドレートの製造方法であって、前記生成槽内の水に原料ガスを気泡として導入するとと
もに、該気泡を異なる２つ以上の気泡径に制御すること
により、異なる２つ以上の粒径のガスハイドレートを生
成させて、該異なる２つ以上の粒径のガスハイドレートを均一に混
合することを特徴とするガスハイドレートの製造方法。
【請求項２】所定圧力および所定温度の下、水と原料
ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する１つま
たは２つ以上の生成槽と、前記生成槽内の水に原料ガスを導入して、２つ以上の異
なる径の気泡を発生させる散気手段と、該２つ以上の異なる径の気泡からそれぞれ生成する、２
つ以上の異なる粒径のガスハイドレートを均一に混合す
る混合手段と、を備えたガスハイドレートの製造装置。
【請求項３】請求項２において、２つ以上の生成槽
に、発生させる気泡径が異なる散気手段をそれぞれ配備
したことを特徴とする、ガスハイドレート製造装置。
【請求項４】請求項２または３において、前記散気手
段が前記生成槽下部に設けられた多孔板であることを特
徴とする、ガスハイドレート製造装置。
【請求項５】所定圧力および所定温度の下、生成槽内
で水と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造
するガスハイドレートの製造装置であって、水に原料ガスを所定径の気泡として導入する散気手段を
備えた第１の生成槽と、前記第１の生成槽における散気手段よりも径の大きな気
泡を導入する散気手段を備えた第２の生成槽と、前記生成槽でそれぞれ生成した粒径の異なるガスハイド
レートを混合するための混合手段と、を備えたことを特
徴とする、ガスハイドレート製造装置。
【請求項６】さらに、前記第２の生成槽における散気
手段よりも径の大きな気泡を導入する散気手段を備えた
第３の生成槽を備えたことを特徴とする、ガスハイドレ
ート製造装置。
【請求項７】請求項５または６において、前記散気手
段が前記生成槽下部に設けられた多孔板であることを特
徴とする、ガスハイドレート製造装置。