JP2003050383A - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- JP2003050383A JP2003050383A JP2001238878A JP2001238878A JP2003050383A JP 2003050383 A JP2003050383 A JP 2003050383A JP 2001238878 A JP2001238878 A JP 2001238878A JP 2001238878 A JP2001238878 A JP 2001238878A JP 2003050383 A JP2003050383 A JP 2003050383A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大型基板の場合も処理液を下面全体に供給で
きる回転式基板処理装置を提供する。 【解決手段】 ロータにより支持されて回転する基板１
０の上面に処理液をスプレーする第１のスプレー手段
と、ロータの回転中心部近傍から基板１０の下面に処理
液をスプレーする第２のスプレー手段とを設ける。第２
のスプレー手段として、処理液を水平方向へ扇状に広げ
て噴出する広角ノズル７1 〜７6 と、処理液を直線的に
噴出するストレートノズル８1 〜８4 とを設ける。広角
ノズル７1 〜７6 は基板１０の回転円の中心部近傍に処
理液をスプレーし、ストレートノズル８1 〜８4 は回転
円の外周部に処理液をスプレーする。
きる回転式基板処理装置を提供する。 【解決手段】 ロータにより支持されて回転する基板１
０の上面に処理液をスプレーする第１のスプレー手段
と、ロータの回転中心部近傍から基板１０の下面に処理
液をスプレーする第２のスプレー手段とを設ける。第２
のスプレー手段として、処理液を水平方向へ扇状に広げ
て噴出する広角ノズル７1 〜７6 と、処理液を直線的に
噴出するストレートノズル８1 〜８4 とを設ける。広角
ノズル７1 〜７6 は基板１０の回転円の中心部近傍に処
理液をスプレーし、ストレートノズル８1 〜８4 は回転
円の外周部に処理液をスプレーする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶製造プロセス
におけるガラス基板のエッチング処理、剥離処理、洗浄
処理等に使用される回転式基板処理装置に関する。
におけるガラス基板のエッチング処理、剥離処理、洗浄
処理等に使用される回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶製造プロセスでは、ガラス基板にエ
ッチング、剥離、現像といった各種の化学処理が順番に
施される。この化学処理に使用される基板処理装置とし
て、ガラス基板の大型化に伴い、枚葉式装置が多く使用
されるようになり、そのなかでも、処理効率の高い回転
式基板処理装置が有望視されている。
ッチング、剥離、現像といった各種の化学処理が順番に
施される。この化学処理に使用される基板処理装置とし
て、ガラス基板の大型化に伴い、枚葉式装置が多く使用
されるようになり、そのなかでも、処理効率の高い回転
式基板処理装置が有望視されている。
【０００３】回転式基板処理装置は、処理すべき基板を
処理槽内でロータにより水平に支持し、ロータを駆動し
て基板を回転させながら、基板上方のノズルから上面に
エッチング液等の薬液をスプレーすることにより、その
上面を薬液処理する。薬液処理の後は、別のノズルから
基板上面に純水をスプレーして、その上面をリンスす
る。
処理槽内でロータにより水平に支持し、ロータを駆動し
て基板を回転させながら、基板上方のノズルから上面に
エッチング液等の薬液をスプレーすることにより、その
上面を薬液処理する。薬液処理の後は、別のノズルから
基板上面に純水をスプレーして、その上面をリンスす
る。
【０００４】最近では、リンス時に、ロータの回転中心
部近傍に設けられた下側ノズルから、基板の下面に純水
をスプレーすることも行われている。また、この下面ス
プレーにより、基板の温度制御を行うことも考えられて
いる。ここにおけるノズルとしては、処理液を水平方向
へ扇状に広げて噴出する広角ノズルが使用されている。
より具体的には、処理液を下面全体に均等に供給するた
め、回転中心からの距離が異なる複数位置に処理液が当
たるように、複数の広角ノズルが配置されている。
部近傍に設けられた下側ノズルから、基板の下面に純水
をスプレーすることも行われている。また、この下面ス
プレーにより、基板の温度制御を行うことも考えられて
いる。ここにおけるノズルとしては、処理液を水平方向
へ扇状に広げて噴出する広角ノズルが使用されている。
より具体的には、処理液を下面全体に均等に供給するた
め、回転中心からの距離が異なる複数位置に処理液が当
たるように、複数の広角ノズルが配置されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
傾向として、歩留り改善のために、ガラス基板の大型化
が進んでいる。基板の下面は上面と異なり、スプレーさ
れた処理液が重力により直ちに落下するため、下面に供
給された処理液を遠心力によって外周側へ拡散流動させ
るのが困難である。このため、複数の広角ノズルがスプ
レー距離を変えて配置されるが、広角ノズルのスプレー
距離が短いこともあって、大型基板の場合は角部まで処
理液を供給するのが困難であり、その結果として、処理
ムラ等が生じる。
傾向として、歩留り改善のために、ガラス基板の大型化
が進んでいる。基板の下面は上面と異なり、スプレーさ
れた処理液が重力により直ちに落下するため、下面に供
給された処理液を遠心力によって外周側へ拡散流動させ
るのが困難である。このため、複数の広角ノズルがスプ
レー距離を変えて配置されるが、広角ノズルのスプレー
距離が短いこともあって、大型基板の場合は角部まで処
理液を供給するのが困難であり、その結果として、処理
ムラ等が生じる。
【０００６】本発明の目的は、大型基板の場合も処理液
を下面全体に供給できる回転式基板処理装置を提供する
ことにある。
を下面全体に供給できる回転式基板処理装置を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、基板をロータにより支持して回転させる回転機構
と、ロータにより支持されて回転する基板の上面に処理
液をスプレーする第１のスプレー手段と、前記ロータの
回転中心部近傍から前記基板の下面に処理液をスプレー
する第２のスプレー手段とを備えており、第２のスプレ
ー手段として、処理液を水平方向へ扇状に広げて噴出す
る広角ノズルと、処理液を直線的に噴出するストレート
ノズルとを設けたものである。
に、基板をロータにより支持して回転させる回転機構
と、ロータにより支持されて回転する基板の上面に処理
液をスプレーする第１のスプレー手段と、前記ロータの
回転中心部近傍から前記基板の下面に処理液をスプレー
する第２のスプレー手段とを備えており、第２のスプレ
ー手段として、処理液を水平方向へ扇状に広げて噴出す
る広角ノズルと、処理液を直線的に噴出するストレート
ノズルとを設けたものである。
【０００８】前記広角ノズルは、前記基板の回転中心部
近傍に処理液をスプレーするように配置し、前記ストレ
ートノズルは、前記回転中心部近傍の外側に処理液をス
プレーするように配置するのが好ましい。
近傍に処理液をスプレーするように配置し、前記ストレ
ートノズルは、前記回転中心部近傍の外側に処理液をス
プレーするように配置するのが好ましい。
【０００９】ストレートノズルは、遠距離に処理液を噴
出できる。広角ノズルと組み合わせることにより、大型
基板の場合も角部まで処理液を供給でき、下面全体への
供給が可能になる。
出できる。広角ノズルと組み合わせることにより、大型
基板の場合も角部まで処理液を供給でき、下面全体への
供給が可能になる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は本発明の一実施形態を示す回
転式基板処理装置の主要部の構造を示す平面図、図２は
図１中のＡ−Ａ線矢示図、図３は図１中のＢ−Ｂ線矢示
図、図４はノズルの構造を示す縦断面図である。
基づいて説明する。図１は本発明の一実施形態を示す回
転式基板処理装置の主要部の構造を示す平面図、図２は
図１中のＡ−Ａ線矢示図、図３は図１中のＢ−Ｂ線矢示
図、図４はノズルの構造を示す縦断面図である。
【００１１】本実施形態の回転式基板処理装置は、例え
ば液晶製造プロセスにおけるガラス基板のエッチング処
理に使用される。この基板処理装置は、図示されない処
理槽内に設けられたロータ１を備えている。ロータ１
は、複数本の垂直なピン２により基板１０を水平に支持
すると共に、円筒状の駆動軸３により周方向に回転駆動
される。駆動軸３の上方には固定ヘッド４が同心状に設
けられている。固定ヘッド４は、リンス液としての純水
を一時的に蓄えるジャケット構造であり、駆動軸３の内
側を貫通する管状の支持軸５により支持されている。支
持軸５内には、固定ヘッド４内に純水を供給する給水管
が設けられている。
ば液晶製造プロセスにおけるガラス基板のエッチング処
理に使用される。この基板処理装置は、図示されない処
理槽内に設けられたロータ１を備えている。ロータ１
は、複数本の垂直なピン２により基板１０を水平に支持
すると共に、円筒状の駆動軸３により周方向に回転駆動
される。駆動軸３の上方には固定ヘッド４が同心状に設
けられている。固定ヘッド４は、リンス液としての純水
を一時的に蓄えるジャケット構造であり、駆動軸３の内
側を貫通する管状の支持軸５により支持されている。支
持軸５内には、固定ヘッド４内に純水を供給する給水管
が設けられている。
【００１２】固定ヘッド４の上面は、中心部から外周部
へ向かって緩やかに下降する円錐状の傾斜面になってい
る。この傾斜面の中心部にはガスノズル６が垂直に設け
られている。ガスノズル６は、基板１０の下面の回転中
心部に乾燥用の窒素ガスをパージするものであり、固定
ヘッド４内及び支持軸５内に貫通して配設されたガス管
を通じて窒素ガスを供給される。
へ向かって緩やかに下降する円錐状の傾斜面になってい
る。この傾斜面の中心部にはガスノズル６が垂直に設け
られている。ガスノズル６は、基板１０の下面の回転中
心部に乾燥用の窒素ガスをパージするものであり、固定
ヘッド４内及び支持軸５内に貫通して配設されたガス管
を通じて窒素ガスを供給される。
【００１３】固定ヘッド４の傾斜した上面には、リンス
液としての純水を噴射する２種類のノズル７1 〜７6 及
び８1 〜８4 が、回転中心回りに所定の間隔をあけて取
り付けられている。第２のスプレー手段であるこれらの
ノズルのうち、第１のノズル７1 〜７6 は、純水を水平
方向へ扇形に広げて噴出する広角ノズルである。第２の
ノズル８1 〜８4 は、純水を直線状に噴出するストレー
トノズルである。
液としての純水を噴射する２種類のノズル７1 〜７6 及
び８1 〜８4 が、回転中心回りに所定の間隔をあけて取
り付けられている。第２のスプレー手段であるこれらの
ノズルのうち、第１のノズル７1 〜７6 は、純水を水平
方向へ扇形に広げて噴出する広角ノズルである。第２の
ノズル８1 〜８4 は、純水を直線状に噴出するストレー
トノズルである。
【００１４】各広角ノズル７は、図４（ａ）に示すよう
に、上部に切り込み７ａが設けられた垂直ノズルであ
る。切り込み７ａの上面は、所定の曲率でほぼ直角に湾
曲している。広角ノズル７の上部を除く本体部には、通
液孔７ｂが垂直に設けられ、その最上部は小径の噴出孔
７ｃである。本体部の下端部分は、ねじ込み部７ｄ、そ
の上は六角形のナット部７ｅである。
に、上部に切り込み７ａが設けられた垂直ノズルであ
る。切り込み７ａの上面は、所定の曲率でほぼ直角に湾
曲している。広角ノズル７の上部を除く本体部には、通
液孔７ｂが垂直に設けられ、その最上部は小径の噴出孔
７ｃである。本体部の下端部分は、ねじ込み部７ｄ、そ
の上は六角形のナット部７ｅである。
【００１５】広角ノズル７のねじ込み部７ｄを固定ヘッ
ド４の上面に設けられたねじ孔にねじ込むことにより、
固定ヘッド４内から広角ノズル７の通液孔７ｂに純水が
供給され、噴出孔７ｃから上方の切り込み７ａ内へ噴出
される。切り込み７ａ内へ噴出された純水は、切り込み
７ａの湾曲した上面に衝突し、その上面で整流されるこ
とにより、水平方向両側へ所定角度で広がった扇形の膜
流となり、所定の仰角で前方へ噴出される。
ド４の上面に設けられたねじ孔にねじ込むことにより、
固定ヘッド４内から広角ノズル７の通液孔７ｂに純水が
供給され、噴出孔７ｃから上方の切り込み７ａ内へ噴出
される。切り込み７ａ内へ噴出された純水は、切り込み
７ａの湾曲した上面に衝突し、その上面で整流されるこ
とにより、水平方向両側へ所定角度で広がった扇形の膜
流となり、所定の仰角で前方へ噴出される。
【００１６】そして６個の広角ノズル７1 〜７6 は、基
板１０の下面の回転中心から異なる距離のところに向け
て取り付けられており、具体的には７1 及び７2 につい
ては基板１０の回転中心側の至近位置へ向けて取り付け
られ、７3 及び７4 については外周側の比較的近い位置
へ向けて取り付けられ、７5 及び７6 については外周側
の比較的遠い位置へ向けて取り付けられている。
板１０の下面の回転中心から異なる距離のところに向け
て取り付けられており、具体的には７1 及び７2 につい
ては基板１０の回転中心側の至近位置へ向けて取り付け
られ、７3 及び７4 については外周側の比較的近い位置
へ向けて取り付けられ、７5 及び７6 については外周側
の比較的遠い位置へ向けて取り付けられている。
【００１７】一方、各ストレートノズル８は、図４
（ｂ）に示すように、垂直な通液孔８ａを中心部に有
し、外周部に傾斜した小径の噴出孔８ｂを有している。
垂直な通液孔８ａの上端は閉塞されている。噴出孔８ｂ
は、通液孔８ａの上部に連通し、所定角度で上方へ傾斜
している。噴出孔８ｂの出口近傍は、噴出孔８ｂに対し
て、ほぼ直角に面取りされた傾斜面８ｃになっている。
ストレートノズル８の下部は、ねじ込み部８ｄである。
（ｂ）に示すように、垂直な通液孔８ａを中心部に有
し、外周部に傾斜した小径の噴出孔８ｂを有している。
垂直な通液孔８ａの上端は閉塞されている。噴出孔８ｂ
は、通液孔８ａの上部に連通し、所定角度で上方へ傾斜
している。噴出孔８ｂの出口近傍は、噴出孔８ｂに対し
て、ほぼ直角に面取りされた傾斜面８ｃになっている。
ストレートノズル８の下部は、ねじ込み部８ｄである。
【００１８】ストレートノズル８のねじ込み部８ｄを固
定ヘッド４の上面に設けられたねじ孔にねじ込むことに
より、固定ヘッド４内からストレートノズル８の通液孔
７ａに純水が供給され、噴出孔７ｂから前方へ噴出され
る。この噴出流は、周囲に殆ど広がらない断面円形のス
トレート流であり、広角ノズル７から噴出される扇形の
膜流より勢いが強く、遠方まで到達する。
定ヘッド４の上面に設けられたねじ孔にねじ込むことに
より、固定ヘッド４内からストレートノズル８の通液孔
７ａに純水が供給され、噴出孔７ｂから前方へ噴出され
る。この噴出流は、周囲に殆ど広がらない断面円形のス
トレート流であり、広角ノズル７から噴出される扇形の
膜流より勢いが強く、遠方まで到達する。
【００１９】そして４個のストレートノズル８1 〜８4
は、基板１０の下面の回転中心から異なる距離のところ
に向けて取り付けられており、具体的には、８1 及び８
2 については広角ノズル７5 及び７6 より更に遠い位置
へ向けて取り付けられ、８3及び８4 については、８1
及び８2 より更に遠い位置へ向けて取り付けられてい
る。ちなみに、ストレートノズル８3 及び８4 の狙い位
置は、基板１０の短辺方向の縁部近傍である。
は、基板１０の下面の回転中心から異なる距離のところ
に向けて取り付けられており、具体的には、８1 及び８
2 については広角ノズル７5 及び７6 より更に遠い位置
へ向けて取り付けられ、８3及び８4 については、８1
及び８2 より更に遠い位置へ向けて取り付けられてい
る。ちなみに、ストレートノズル８3 及び８4 の狙い位
置は、基板１０の短辺方向の縁部近傍である。
【００２０】なお、図示されていないが、処理槽内に
は、第１のスプレー手段として、２種類のシャワーユニ
ットがロータ１より上方に位置して設けられている。第
１のシャワーユニットは、ロータ１に支持された基板１
０の上面にエッチング液を供給し、第２のシャワーユニ
ットは、ロータ１に支持された基板１０の上面に純水を
供給する。いずれも、旋回移動により、側方の退避位置
とロータ１上の作動位置との間を往復し、作動位置で
は、基板１０の回転円の半径線に沿って液体を噴射す
る。
は、第１のスプレー手段として、２種類のシャワーユニ
ットがロータ１より上方に位置して設けられている。第
１のシャワーユニットは、ロータ１に支持された基板１
０の上面にエッチング液を供給し、第２のシャワーユニ
ットは、ロータ１に支持された基板１０の上面に純水を
供給する。いずれも、旋回移動により、側方の退避位置
とロータ１上の作動位置との間を往復し、作動位置で
は、基板１０の回転円の半径線に沿って液体を噴射す
る。
【００２１】次に、本実施形態の回転式基板処理装置の
機能について説明する。
機能について説明する。
【００２２】ロータ１上に基板１０を載せ、所定速度で
回転させながら、第１のシャワーユニットからエッチン
グ液を噴出し、基板１０の上面にエッチング液を供給す
る。これにより、基板１０の上面に所定のエッチング処
理を施す。所定時間のエッチング処理が終わると、第１
のシャワーユニットに代えて、第２のシャワーユニット
をロータ１上へ移動させる。そして、基板１０の回転を
続けながら、第２のシャワーユニットからリンス液とし
ての純水を噴出する。同時に、６個の広角ノズル７1 〜
７6 及び４個のストレートノズル８1 〜８4 からリンス
液としての純水を噴出する。
回転させながら、第１のシャワーユニットからエッチン
グ液を噴出し、基板１０の上面にエッチング液を供給す
る。これにより、基板１０の上面に所定のエッチング処
理を施す。所定時間のエッチング処理が終わると、第１
のシャワーユニットに代えて、第２のシャワーユニット
をロータ１上へ移動させる。そして、基板１０の回転を
続けながら、第２のシャワーユニットからリンス液とし
ての純水を噴出する。同時に、６個の広角ノズル７1 〜
７6 及び４個のストレートノズル８1 〜８4 からリンス
液としての純水を噴出する。
【００２３】第２のシャワーユニットから純水を噴出す
ることにより、基板１０の上面がリンスされる。６個の
広角ノズル７1 〜７6 及び４個のストレートノズル８1
〜８ 4 から純水を噴出することにより、基板１０の下面
がリンスされる。ここで、広角ノズル７1 〜７6 は、基
板１０の下面の回転中心近傍、即ち内周部分に純水をス
プレーするが、純水を外周部分に直接スプレーすること
は困難であり、また内周部分にスプレーされた純水を遠
心力で外周部分へ移動させることも困難である。しかる
に、本実施形態では、広角ノズル７1 〜７6 と共にスト
レートノズル８ 1 〜８4 が使用され、ストレートノズル
８1 〜８4 により純水が外周部分に直接スプレーされ
る。
ることにより、基板１０の上面がリンスされる。６個の
広角ノズル７1 〜７6 及び４個のストレートノズル８1
〜８ 4 から純水を噴出することにより、基板１０の下面
がリンスされる。ここで、広角ノズル７1 〜７6 は、基
板１０の下面の回転中心近傍、即ち内周部分に純水をス
プレーするが、純水を外周部分に直接スプレーすること
は困難であり、また内周部分にスプレーされた純水を遠
心力で外周部分へ移動させることも困難である。しかる
に、本実施形態では、広角ノズル７1 〜７6 と共にスト
レートノズル８ 1 〜８4 が使用され、ストレートノズル
８1 〜８4 により純水が外周部分に直接スプレーされ
る。
【００２４】かくして、基板１０が大型の場合も角部ま
で処理液が供給され、下面全体への供給が可能になる。
で処理液が供給され、下面全体への供給が可能になる。
【００２５】内周部分に対してもストレートノズルを使
用することが考えられるが、その場合はノズル個数が極
端に増える。ここに広角ノズルとストレートノズルを併
用することの意義がある。即ち、外周部分に対しては、
ストレートノズルから噴射された水が強い遠心力により
効果的に広がること、広角ノズルから噴射された水がか
なり遠方まで到達しており、ストレートノズルがカバー
しなければならない領域が広くないことなどにより、比
較的少数のストレートノズルを補助的に設けることで、
所期の目的が達成されるのである。
用することが考えられるが、その場合はノズル個数が極
端に増える。ここに広角ノズルとストレートノズルを併
用することの意義がある。即ち、外周部分に対しては、
ストレートノズルから噴射された水が強い遠心力により
効果的に広がること、広角ノズルから噴射された水がか
なり遠方まで到達しており、ストレートノズルがカバー
しなければならない領域が広くないことなどにより、比
較的少数のストレートノズルを補助的に設けることで、
所期の目的が達成されるのである。
【００２６】リンス処理が終わると、ロータ１を高速回
転させて、基板１０のスピン乾燥を行う。このとき、遠
心力が作用しない回転中心部に窒素ガスをパージし、乾
燥を促進する。
転させて、基板１０のスピン乾燥を行う。このとき、遠
心力が作用しない回転中心部に窒素ガスをパージし、乾
燥を促進する。
【００２７】
【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明の回転式
基板処理装置は、ロータの回転中心部近傍から基板の下
面に処理液をスプレーする第２のスプレー手段として、
処理液を水平方向へ扇状に広げて噴出する広角ノズル
と、処理液を直線的に噴出するストレートノズルとを設
けたことにより、大型基板の場合も処理液を下面全体に
供給することができる。
基板処理装置は、ロータの回転中心部近傍から基板の下
面に処理液をスプレーする第２のスプレー手段として、
処理液を水平方向へ扇状に広げて噴出する広角ノズル
と、処理液を直線的に噴出するストレートノズルとを設
けたことにより、大型基板の場合も処理液を下面全体に
供給することができる。
【図１】本発明の一実施形態を示す回転式基板処理装置
の主要部の構造を示す平面図である。
の主要部の構造を示す平面図である。
【図２】図１中のＡ−Ａ線矢示図である。
【図３】図１中のＢ−Ｂ線矢示図である。
【図４】ノズルの構造を示す縦断面図である。
１ ロータ
２ ピン
３ 駆動軸
４ 固定ヘッド
５ 支持軸
６ ガスノズル
７ 広角ノズル
８ ストレートノズル
１０ 基板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/304 Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４３Ｃ
Ｆターム(参考） 2H088 FA18 FA21 FA30 MA20
2H090 HC18 JC19
3B201 AA02 AB34 BB23 BB34 BB92
BB93 CC01 CC12 CC13
4F033 AA01 AA04 BA03 CA01 DA02
JA02
Claims (2)
- 【請求項１】 基板をロータにより支持して回転させる
回転機構と、ロータにより支持されて回転する基板の上
面に処理液をスプレーする第１のスプレー手段と、前記
ロータの回転中心部近傍から前記基板の下面に処理液を
スプレーする第２のスプレー手段とを備えており、第２
のスプレー手段として、処理液を水平方向へ扇状に広げ
て噴出する広角ノズルと、処理液を直線的に噴出するス
トレートノズルとを設けたことを特徴とする回転式基板
処理装置。 - 【請求項２】 前記広角ノズルは、前記基板の回転中心
部近傍に処理液をスプレーし、前記ストレートノズル
は、前記回転中心部近傍の外側に処理液をスプレーする
請求項１に記載の回転式基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001238878A JP2003050383A (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001238878A JP2003050383A (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | 回転式基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003050383A true JP2003050383A (ja) | 2003-02-21 |
Family
ID=19069728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001238878A Pending JP2003050383A (ja) | 2001-08-07 | 2001-08-07 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003050383A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010192875A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 薬液処理装置および薬液処理方法 |
-
2001
- 2001-08-07 JP JP2001238878A patent/JP2003050383A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010192875A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-09-02 | Tokyo Electron Ltd | 薬液処理装置および薬液処理方法 |
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