JP2003048903A - 光学異方体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明性に優れ、かつ光学位相差（リタデーシ
ョン）の値の減少が少ない光学異方体を得る製造方法を
提供する。 【解決手段】 重合性官能基を有する液晶を含有し、２
０℃以下であっても液晶状態を示す重合性液晶組成物
を、基板上に塗布して液膜を形成するかもしくは基板間
に挟持した後、液晶を配向させた状態で、２０℃以下で
且つ液晶相を保持した状態で光重合させることを特徴と
する光学異方体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学、表示、記録
材料、液晶ディスプレイの光学補償板や偏光プリズム材
料として利用される、重合性官能基を有する液晶を含有
する重合性液晶組成物を用いた光学異方体の製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶物質はＴＮ（ツイステッド・
ネマチック）型やＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネ
マチック）型に代表されるディスプレイ素子等の液晶分
子の可逆的運動を利用した表示媒体への応用以外にも、
その配向性と屈折率、誘電率、磁化率等の物理的性質の
異方性を利用して、位相差板、偏光板、偏光プリズム、
各種光フィルター等の光学異方体への応用が検討されて
いる。

【０００３】このような液晶物質を構成材料とする光学
異方体には、安定で均一な光学特性が必要とされ、その
ためには、液晶状態における液晶分子の配向状態構造を
半永久的に固定化することが必須である。

【０００４】液晶状態における液晶分子の配向状態構造
を半永久的に固定化する手段としては、重合性官能基を
有する液晶性化合物又はこのような化合物を含有する重
合性液晶組成物を、液晶状態で配向させた後、その状態
で紫外線等のエネルギー線を照射することによって高分
子化させる方法が知られている。

【０００５】このような技術に適用できる重合性官能基
を有する液晶材料が、特開昭５８−１０２２０５号公
報、特開昭６２−７０４０６号公報、特公平８−３５８
６号公報、特開平４−２２７６１１号公報、ドイツ公開
特許ＤＥ４２２６９９４号等に開示されている。

【０００６】しかしながら、これらの材料は、液晶相を
呈する温度が高いため、配向工程において、望ましくな
い熱重合が誘起され、均一性に優れた光学異方体を作製
できないという問題、もしくは作製した光学異方体の耐
熱性が充分でないという問題があった。

【０００７】また、２つ又は２つ以上の重合性官能基を
有し、かつ、室温で液晶相を呈する液晶材料が、ドイツ
公開特許ＤＥ４４０８１７１号公報、ＰＣＴ国際公開Ｗ
Ｏ９７／１４６７４公報、特開平８−２４５５２０号公
報、特開平８−１０４８７０号公報等に開示されてい
る。

【０００８】しかしながら、これらの材料のほとんど
は、液晶骨格中にベンゼン環やシクロヘキサン環等の６
員環を３つ以上有しており、分子量の平均値が約５００
〜１０００程度と大きいという問題を有していた。すな
わち、液晶ディスプレイの分野で使用されている非重合
性の液晶材料の分子量の平均値は約２５０〜４５０程度
であるのに対して、このように分子量の平均値が大きい
と、粘度を増大させ、均一な配向状態を得るのに時間が
かかるという問題を生じてしまう。特に、配向状態を領
域毎に変える配向分割技術を用いる場合には、粘度が高
いと配向が安定するまでに３０分以上の時間が必要な場
合があるため、光学異方体の製造プロセスの効率を著し
く悪化させてしまうという問題があった。

【０００９】一方、特開平８−３１１１号公報には、室
温で液晶相を呈し、重合後の耐熱性に優れ、かつ分子量
の平均値が約２５０〜４５０程度と小さい液晶材料が開
示されている。この材料は室温における液晶相が安定で
ある上に粘度も低いので、室温での光学異方体製造が容
易であるという特長を有する。しかしながらこれらを室
温もしくは室温付近で重合して得られた光学異方体の透
明性は悪く、光学素子として用いるには不充分であっ
た。

【００１０】以上の問題を解決するものとして、室温で
液晶相を呈し、重合後の光学異方体の耐熱性に優れ、か
つ、分子量の平均値が約２５０〜４５０程度と小さい重
合性の液晶材料が、特開２０００−１７８２３３号公報
に開示されている。しかしながら、該公報に開示されて
いる重合条件、すなわち、この重合性液晶材料を室温も
しくは室温付近で重合するという条件で得た光学異方体
の透明度は、従来よりかなり改善されたものの、未だ充
分なものではなかった。また、実用的な透明度を得るた
めに、開示された三官能重合性液晶化合物の組成割合を
大きくする必要があり、このため、液晶材料の室温にお
ける保存安定性が低下するという問題があった。

【００１１】また、光学異方体の性能を評価する上で、
光学異方体の複屈折率と光学異方体の厚みの積で表され
る光学位相差（以下、リタデーションと称す）は、目
的、用途に応じて制御可能であることが望ましいが、従
来の重合性液晶材料では、光重合前と後でのリタデーシ
ョン値が変化し、重合前と比べて大幅に値が減少してし
まう。そのため、リタデーションを規定の値に保つため
に、製造過程において、ある程度光学異方体の厚みを厚
くしておくことで対応するなどしているが、完全に制御
することは困難であった。また、厚みを厚くしてしまう
ことにより、透明性が低下するという問題点があった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、重合性官能基を有する液晶を含有する重合
性液晶組成物を用い、透明性に優れ、かつ、光学位相差
（リタデーション）の値の減少が少ない光学異方体を得
る製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は上記課題
を解決するために、重合性官能基を有する液晶を含有
し、２０℃以下であっても液晶状態を示す重合性液晶組
成物を、基板上に塗布して液膜を形成するかもしくは基
板間に挟持した後、液晶を配向させた状態で、２０℃以
下で、かつ、液晶相を保持した状態で光重合させること
を特徴とする光学異方体の製造方法を提供する。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明で使用する重合性液晶組成
物は、重合性官能基を有する液晶を含有し、２０℃以下
であっても液晶状態を示す重合性液晶組成物である。当
該液晶組成物が呈する液晶相は、液晶技術分野で液晶相
と認識される相で有ればよいが、中でも、配向処理を行
い易い液晶相として、ネマチック相、スメクチックＡ
相、スメクチックＣ相、キラルスメクチックＣ相及びコ
レステリック相を発現するものが好ましい。この中で
も、ネマチック相は粘度が低くなる傾向があり、光学異
方体の製造時の配向工程において、安定した配向状態を
迅速に得られる傾向があるため、特に好ましい。また、
スメクチックＣ相またはキラルスメクチックＣ相を示す
場合には、該スメクチックＣ相またはキラルスメクチッ
クＣ相の温度領域より上の温度領域でスメクチックＡ相
を、スメクチックＡ相を示す場合には、該スメクチック
Ａ相の温度領域より上の温度領域でネマチック相を、そ
れぞれ発現する液晶組成物は、良好な一軸の配向特性が
得られるので好ましい。これ以外の相の場合、流動性が
極めて小さいために、配向処理に特別な手法が必要とさ
れ、製造工程の複雑化を招く原因となる。また、重合性
官能基とは、例えばアクリル基、メタアクリル基または
エポキシ基等の重合性を有する官能基を表す。

【００１５】本発明で使用する重合性液晶組成物は、融
点以下の温度状態、即ち過冷却状態にあっても、２０℃
以下で液晶状態を示していればよい。物理あるいは化学
の分野で、融点とは、ある圧力下において固体と液体と
が平衡状態を保つ温度であり、一般的には固体を加熱し
たときに固体が融解して液体状態になる温度と解釈で
き、凝固点と等しい。融点は、単一物質に限らず組成物
（複数の単一物質の混合物）でも見られる。組成物の場
合、混合した単一物質どうしの相互作用により化学ポテ
ンシャルが変化し、融解挙動がより複雑になる。例えば
物質ＡとＢを混合し、単一の融点を示す場合、このよう
な混合物は共融混合物と呼ばれ、その融点は共融点と呼
ばれる。混合物の融点は物質ＡやＢいずれの融点よりも
低い温度になる場合があり、液晶組成物の融点を低下さ
せる方法として、組成物の融点の加成性や線形性が成り
立たないという、共融混合物の性質がよく用いられる。

【００１６】一方、熱力学的な意味を持つ融点（共融
点）は、主に低温から昇温した場合に測定される点であ
るが、降温過程においては熱力学的に非平衡状態を取る
ため、融点以下の温度でも凝固せず液晶状態を保つこと
がある。この状態を過冷却状態といい、光学異方体製造
過程において通常の液晶状態と何ら変わることなく同様
に扱うことが可能である。

【００１７】本発明において光学異方体を製造する場合
は、この過冷却状態を利用して重合、固定化を行うこと
が好ましい。具体的には、高温（等方相状態）から徐々
に降温して液晶相を発現し、液晶を配向させた状態で２
０℃以下で、好ましくは、かつ、過冷却状態で光重合を
行い、配向を固定化する。２０℃を越える範囲では、た
とえ過冷却状態を保っていても、得られる光学異方体の
リタデーションの減少率を押さえることができない。

【００１８】また、過冷却状態は熱力学的に安定な状態
ではないので、長時間経た後では凝固する可能性があ
る。そのため、凝固しにくい製造温度制御を施し、さら
になるべく短い時間で配向処理から重合まで完了させる
ことが望ましい。具体的には、融点から、融点マイナス
１０℃の温度範囲内の過冷却状態で光重合を行うことが
好ましい。融点マイナス１０℃より低い温度範囲では、
重合中に液晶組成物の平衡が崩れやすく、透明性を悪化
する要因である相分離が生じやすくなる。

【００１９】本発明で使用する基板としては、特に限定
されることはなく、公知慣用のものを使用できる。基板
を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用い
ることができ、例えば、有機材料としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポ
リアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロ
ロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホ
ン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテ
ルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料として
は、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられ
る。

【００２０】本発明で使用する重合性液晶組成物を、基
板上に塗布して液膜を形成するかもしくは基板間に挟持
する方法としては、例えば重合性液晶組成物をワイヤー
バーあるいはダイコーターなどを用いて基板上に塗布す
る方法、または液晶ガラスセルに毛細管現象や真空注入
法を用いて重合性液晶組成物を注入する方法が挙げられ
る。

【００２１】本発明の光学異方体製造時における液晶組
成物の、基板へのコーティング工程又は液晶セルへの注
入工程において、均一な配向状態を迅速に得る目的で、
一時的に液晶組成物を等方性液体状態にすることは有効
な手段である。しかし、液晶相−等方性液体への相転移
温度、即ち透明点が９０℃を越えて高くなると等方性液
体状態にした時、望ましくない熱重合が誘起されてしま
い、均一性の良い光学異方体を作製できなくなる危険が
あるので、組成物の液晶温度領域は、アクリレート化合
物もしくはメタクリレート化合物中のアクリル基あるい
はメタクリル基の自己重合開始温度、例えば９０℃より
も低い温度範囲であることが望ましい。特にスメクチッ
クＣ相あるいはキラルスメクチックＣ相で本発明で使用
する液晶組成物は、アクリル基あるいはメタクリル基の
自己重合開始温度よりも低い温度範囲でスメクチックＣ
相もしくはキラルスメクチックＣ相を発現するような組
成とするのが望ましい。そのために、組成割合を調節
し、透明点が９０℃以下となるようにするのは有効であ
る

【００２２】本発明で使用する重合性液晶組成物を配向
させる方法としては、例えば、表面を布等でラビング処
理した基板、もしくは有機薄膜を形成した基板表面を布
等でラビング処理した基板、あるいはＳｉＯ₂を斜方蒸
着した配向膜を有する基板上にコーティング等の手段に
より担持させるか、基板間に挟持させた後、本発明の液
晶を重合させる方法が挙げられる。その他の配向処理方
法としては、液晶組成物の流動配向の利用や、電場又は
磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は
単独で用いても、また組み合わせて用いてもよい。その
中でも基板表面を布等でラビング処理した基板を用いる
方法が、その簡便性から特に好ましい。

【００２３】これらの基板を布等でラビングすることに
よって適当な配向性を得られない場合、公知の方法に従
ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の
有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングし
てもよい。また、通常のツイステッド・ネマチック（Ｔ
Ｎ）素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック（Ｓ
ＴＮ）素子で使用されているプレチルト角を与えるポリ
イミド薄膜は、光学異方体内部の分子配向構造を更に精
密に制御することができることから、特に好ましい。

【００２４】また、電場によって配向状態を制御する場
合には、電極層を有する基板を使用する。この場合、電
極上に前述のポリイミド薄膜等の有機薄膜を形成するの
が好ましい。

【００２５】さらに、ラビングに代わる配向処理方法と
して、光配向法を用いることもできる。この方法は、ポ
リビニルシンナメート等の分子内に光二量化反応する官
能基を有する有機薄膜、光で異性化する官能基を有する
有機薄膜又はポリイミド等の有機薄膜に、偏光した光、
好ましくは偏光した紫外線を照射することによって、配
向膜を形成するものである。この光配向法に光マスクを
適用することにより配向のパターン化が容易に達成でき
るので、光学異方体内部の分子配向も精密に制御するこ
とが可能となる。

【００２６】本発明で使用する重合性液晶組成物を重合
させる方法としては、迅速な重合の進行が望ましいの
で、紫外線又は電子線等のエネルギー線を照射すること
によって光重合を行う方法が好ましい。光重合を行う際
の光源としては、偏光光源を用いても良いし、非偏光光
源を用いても良い。強度と照射時間、および全エネルギ
ー量は、照射される組成物の膜厚、表面積、及び該組成
物中のアクリル基及びメタクリル基等の重合性官能基濃
度により最適値が異なるが、一般的に強度を大きくし、
短時間で重合を完結することによって、透明性に優れた
光学異方体を得ることができる。

【００２７】このとき、光重合反応性を向上させること
を目的として、各種光重合開始剤を添加することもでき
る。光重合開始剤としては公知慣用のものが使用できる
が、例えば、大阪有機社製「ＢＥＥ」、黒金化成社製
「ソルバスロンＢＩＰＥ」、精工化学社製「セイクオー
ルＢＢＩ」などのベンゾインエーテル類、日本化薬社製
「カヤキュアーＢＰ」、日本油脂社製「ＢＴＴＢ」など
のベンゾフェノン類、メルク社製「ダロキュアー１１１
６」、チバガイギー社製「イルガキュアー１８４」など
のアセトフェノン類、チバガイギー社製「イルガキュア
ー６５１」、ＢＡＳＦ社製「Ｌｕｃｉｒｉｎ ＢＤＫ」
などのベンジルケタール類等が挙げられる。光重合開始
剤を添加する場合の添加量は、液晶組成物に対して１０
重量％以下が好ましく、５重量％以下が特に好ましく、
０．５〜１．５重量％の範囲が更に好ましい。

【００２８】重合を迅速に行うには、生長ラジカルとの
付加反応を容易に起こし重合を抑制する酸素の影響を避
けるため、窒素などの不活性雰囲気で行うことが望まし
いが、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させた状態で重
合を行う場合には必ずしもその必要はない。後者の場
合、光重合を行うには少なくとも照射面側の基板は適当
な透明性が与えられていなければならない。

【００２９】重合性液晶性組成物を配向させた状態で、
光重合により製造された光学異方体は、より透明性をあ
げるために、熱処理を施すことが好ましい。熱処理の温
度は５０〜２５０℃の範囲で、また熱処理時間は３０秒
〜１２時間の範囲が好ましい。このような方法によって
製造される本発明の光学異方体は、基板から剥離して用
いても、剥離せずに用いても良い。

【００３０】重合性官能基を有する液晶を含有し、２０
℃以下であっても液晶状態を示す重合性液晶組成物を、
基板上に塗布して液膜を形成するかもしくは基板間に挟
持した後、液晶を配向させた状態で、２０℃以下で且つ
液晶相を保持した状態で光重合させることで、得られる
光学異方体の透明性が向上し、かつ、光学位相差または
リタデーション値の減少が少ない理由は必ずしも明らか
ではないが、何らかの形で重合に起因する相分離あるい
は配向の乱れを抑制している結果と考えられる。以下、
考えうる機構を仮説として説明するが、これにより本発
明は何らの限定を受けるものではない。透明性が低下す
る原因としては、重合時における相分離によって、屈折
率の異なる微小部分（ドメイン）が生成することが挙げ
られる。互いに接触している屈折率を異にするドメイン
界面では、光は反射・散乱を起こすので、これがヘイズ
を発生させると考えられる。本発明で透明性が改善され
た原因の一つとして、低温で重合するが故に屈折率を異
にするドメインの大きさが、光の散乱要因になる大きさ
まで成長しなかったことが考えられる。

【００３１】例えばモノマーの状態にある重合性液晶組
成物がネマチック相である場合、通常、その重合過程に
おいて、重合性液晶組成物がスメクチック相類似の構造
を有するドメインを生成し、これが光を散乱させ、得ら
れる光学異方体が不透明化するものと考えられる。これ
に対し、本発明の製造方法は、重合性液晶組成物を通常
よりも低温領域、即ち過冷却状態で重合することで、高
温領域よりも重合速度が大きくなり、ゲル化による網目
構造が迅速に形成され、ドメインが光を散乱させる大き
さにまで成長できなかった可能性が考えられる。また、
低温領域にすることにより、組成物の粘度がより高い状
態のまま迅速な重合を行うことができ、重合に伴う液晶
分子の配向乱れも抑制できる可能性が考えられる。

【００３２】（メタ）アクリレート組成物等のラジカル
重合性組成物の重合反応は、重合開始反応、生長反応、
連鎖移動反応、停止反応の総和である。一般に、非晶性
の（メタ）アクリレート組成物は高温になるほど重合速
度が大きい。これは、モノマーが３次元的にランダムに
移動できるため、高温になるほどモノマーとラジカル種
が衝突して反応する確率が高くなるためである。一方、
ネマチック相を呈する液晶性の（メタ）アクリレート組
成物の場合、分子がある方向性をもってパッキングして
いるので、反応点が互いに近接して存在すると考えら
れ、成長反応が進行し易い環境といえる。さらに、低温
側では分子の運動性がさらに制限されるため、ラジカル
を失活させる因子がラジカル反応を停止させる確率も低
いと推測される。一方、高温になると、ラジカルを失活
させる因子の移動も活発になるため、ラジカル重合の停
止反応が促進されると考えられる。これらの理由から、
液晶性モノマーは低温では成長反応が停止反応に対して
優勢であり、高温になれば停止反応が優勢であるため、
過冷却を示すような低温では重合速度が大きくなったと
考えられる。光反応熱量計や赤外吸収測定の実験結果か
らも、液晶性の（メタ）アクリレート化合物では低温で
の反応速度が大きいことが示唆されている。

【００３３】本発明で使用する、重合性官能基を有する
液晶を含有し、２０℃以下であっても液晶状態を示す重
合性液晶組成物としては、例えば、下記一般式（Ｉ）で
表される液晶性（メタ）アクリレート化合物、及び、下
記一般式（II）で表される液晶性（メタ）アクリレート
化合物とを含有する重合性液晶組成物が挙げられる。

【００３４】

【化５】

【００３５】一般式（１）中、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞ
れ独立に水素原子又はメチル基を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³
として水素原子を選択した方が、メチル基を選択した場
合よりも、反応性が高い。従って、光重合が迅速に進行
する材料が必要な時には水素原子を選択するのが好まし
く、反応性を低く調節する必要があるときには、Ｌ¹、
Ｌ²、Ｌ³のうち、１〜２つ、もしくは全部にメチル基を
選択するのが好ましい。

【００３６】６員環Ａ、Ｂ、Ｃはそれぞれ独立に、ベン
ゼン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、又はヘ
テロ原子として一つ又は二つの窒素、酸素、硫黄を有す
る複素環を表す。これらの６員環Ａ、Ｂ及びＣは、さら
に炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アル
カノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で１つ以上置
換されていてもよい。

【００３７】複屈折率が大きな化合物が必要な場合に
は、共役系が分子の長軸方向に伸びている必要があるの
で、６員環Ａ、Ｂ及びＣとしては、無置換の芳香環、芳
香族複素環もしくは炭素原子数１〜７のアルキル基、ア
ルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン
原子で１つ以上置換基を有する芳香環または芳香族複素
環が好ましい。逆に複屈折率が小さな化合物が必要な場
合には、６員環Ａ、Ｂ及びＣとしては、無置換の環状脂
肪族あるいは脂肪族複素環、もしくは炭素原子数１〜７
のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ
基、又はハロゲン原子で１つ以上置換された環状脂肪族
あるいは脂肪族複素環が好ましい。特に、光学異方体の
複屈折率と膜厚の積で表されるリタデーションを制御す
るには、複屈折率を左右する重合性液晶の複屈折率の制
御を、目的に応じて適宜行うことが好ましい。

【００３８】Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ
₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ
−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−ＯＣＯ−ＣＯＯ−を表
し、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³はそれぞれ独立に単結合、−Ｏ−、
−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表す。リタデーションの
大きな光学異方体を製造する場合複屈折率が大きな化合
物が好ましいので、共役系が分子の長軸方向に伸びてい
ることが望ましい。この場合、Ｙ¹、Ｙ²は単結合、−Ｃ
ＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又
は−ＣＦ＝ＣＦ−を選択するのが好ましい。逆に、リタ
デーションが小さな光学異方体を製造する場合、複屈折
率が小さな化合物が好ましいので、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−
ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−（ＣＨ ₂）₄−、−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂Ｏ−、又は−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−を選択する
のが望ましい。

【００３９】Ｓｐ¹、Ｓｐ²、Ｓｐ³はそれぞれ独立に、
炭素原子数１〜２０のアルキレン鎖、又は炭素原子数１
から２０のアルキレン鎖が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣ
Ｏ−で結合された鎖を表す。これらの化学基は、重合性
液晶の相転移点や粘度、さらに光学異方体のリタデーシ
ョンや透明性にも影響を与える。また、これらの化学基
中の水素原子は、フッ素原子等のハロゲン原子で置換さ
れていても良い。化学基としては粘度の低減という観点
から、炭素原子数１から２０のアルキレン鎖を選択する
のが好ましい。炭素原子数は、２〜１２が好ましく、２
〜８がさらに好ましく、３〜６が特に好ましい。炭素原
子数が多くなると、分子量が増大し、粘度が高くなって
しまう傾向があり、炭素原子数が少なくなると、化合物
の液晶温度の高温化、あるいは重合後の透明性やリタデ
ーションの低下などを起こす可能性がある。

【００４０】Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³はそれぞれ独立に単結合、
−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−を表す。化合物の
加水分解による劣化を最低限に抑制するためには、−Ｏ
−を選択するのが好ましい。本発明で使用する、上記に
挙げたような液晶性（メタ）アクリレート化合物は、具
体的には、特開２０００−１７８２３３号公報に開示さ
れている化合物を挙げることができ、これらの化合物
も、同公報に開示されている方法で得ることが出来る。

【００４１】

【化６】

【００４２】上記一般式（II）中、Ｌ⁴は水素原子又は
メチル基を表し、ｎは０又は１の整数を表す。粘度上昇
を抑制する観点から、ｎは０であることが特に好まし
い。６員環Ｄ、Ｅ、Ｆはそれぞれ独立に、ベンゼン環、
シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、ヘテロ原子とし
て一つ又は二つの窒素、酸素、硫黄を有する複素環を表
す。これらの６員環Ｄ、Ｅ、Ｆは、さらに炭素原子数１
〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シ
アノ基又はハロゲン原子で１つ以上置換されていても良
い。

【００４３】上記一般式（II）中、Ｙ³、Ｙ⁴はそれぞれ
独立に単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣ
Ｈ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂
ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表
し、中でも単結合、−ＣＨ ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−
ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−
ＣＨ＝ＣＨ−、又は−ＣＦ＝ＣＦ−であることが液晶相
を安定的に呈するという観点から特に好ましい。Ｙ⁵は
単結合、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＯＯ−を表し、Ｚ¹は水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、又は炭素原子１〜２０の炭化水素基を表
す。Ｙ⁵は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、又は−ＣＯＯ
−であることが液晶相を安定的に発現する傾向や、化合
物の光に対する安定性などにおいて特に好ましく、Ｚ¹
はハロゲン原子、シアノ基、又は炭素原子数１〜５の炭
化水素基であることが特に好ましい。

【００４４】中でも、本発明においては、一般式（II）
で表される化合物として、下記一般式（III）で表され
る化合物と、（IV）で表される化合物との混合物である
ことが好ましい。その理由として、当該混合物は室温付
近において安定的にネマチック液晶相を呈することが挙
げられる。ネマチック相は比較的低粘度であるため、室
温での配向処理が容易に行えるなど製造工程が単純化で
きる。その組成割合としては、当該組成物中の一般式
（III）で表される化合物の重量分率が２５％〜７５％
で、且つ一般式（IV）で表される化合物の重量分率は７
５％〜２５％の範囲であることが望ましい。さらに、一
般式（III）及び（IV）で表される化合物の混合比は、
一般式（Ｉ）で表される化合物との混合物を調整し、な
おかつ液晶相を安定的に保つ組成物が必要とされるの
で、当該組成物中の一般式（III）で表される化合物の
重量分率が４０％〜６０％及び一般式（IV）で表される
化合物の重量分率は６０％〜４０％の範囲であることが
望ましい。特に一般式（III）で表される化合物の重量
分率が４５％〜５５％及び一般式（IV）で表される化合
物の重量分率は５５％〜４５％の範囲で含有する混合物
は、好適に用いられる。

【００４５】

【化７】

【００４６】

【化８】

【００４７】上記一般式（Ｉ）と、一般式（II）で表さ
れる化合物の配合割合は、特に制限はないが、液晶相を
示し、液晶相を安定的に呈する必要性から、一般式
（Ｉ）と一般式（II）で表される化合物の配合割合は、
一般式（Ｉ）で表される化合物の重量分率が５％〜５０
％であり、かつ一般式（II）で表される化合物の重量分
率が５０％〜９５％の範囲であることが好ましい。さら
に、重合性液晶組成物の粘度を低くするために、一般式
（Ｉ）と一般式（II）で表される化合物の配合割合とし
て、一般式（Ｉ）で表される化合物の重量分率が５％〜
３０％、かつ一般式（II）で表される化合物の重量分率
が７０％〜９５％であるものが好適に用いられる。

【００４８】さらに、室温でのネマチック相の保存安定
性が特に必要とされる場合、例えば液晶組成物を在庫と
して長期間保存する場合や、液晶組成物の配向処理に長
時間を要する場合、或いは液晶をセルに注入するときに
毛細管現象を利用する方法のみが実施可能であって、液
晶組成物の粘度を特に低く抑える必要がある場合などで
は、一般式（Ｉ）と一般式（II）で表される化合物の配
合割合は、一般式（Ｉ）で表される化合物の重量分率が
５％〜２０％、かつ一般式（II）で表される化合物の重
量分率が８０％〜９５％の範囲であることが好ましい。

【００４９】一般式（Ｉ）で表される化合物の重量分率
は、本来は多い方が透明性に優れ、リタデーションが大
きな光学異方体を得ることができる。例えば、一般式
（Ｉ）で表わされる化合物の濃度が２０重量％の条件で
は、ヘーズは１．６％以下の値となり、リタデーション
値は２．９０マイクロメーター以上になる。また、濃度
が３０％では、ヘーズは１％以下の値となり、リタデー
ション値は３．５０マイクロメーター以上となる。しか
し、本発明の製造方法によれば、一般式（Ｉ）で表され
る化合物の重量分率が上記のように５％〜２０％の範囲
であっても、透明性に優れ、光学位相差（リタデーショ
ン）の値の減少が少ない光学異方体を得ることが可能で
ある。

【００５０】また、本発明で使用する液晶組成物に、重
合性官能基を有していない液晶化合物を用途に応じて添
加した組成物を用いて光学異方体を製造することもでき
る。しかしながら、液晶組成物を用いて作製する光学異
方体の耐熱性を確保する観点から、その添加量は１０重
量％以下にするのが好ましい。

【００５１】また、本発明で使用する液晶組成物中に、
重合性官能基を有する化合物であって、液晶性を示さな
い化合物を補助的に添加した組成物を使って光学異方体
を製造することもできる。このような化合物としては、
通常、この技術分野で高分子形成能を有するモノマーあ
るいは高分子形成能を有するオリゴマーとして認識され
るものであれば特に制限なく使用することができるが、
アクリレート化合物、メタクリレート化合物もしくはビ
ニルエーテル化合物が特に好ましい。

【００５２】その他、本発明で使用する液晶組成物に
は、保存安定性を向上させるために、安定剤を添加する
こともできる。使用できる安定剤としては、例えばラジ
カル重合禁止剤として効果のあるヒドロキノン、ヒドロ
キノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール
等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液
晶組成物に対して１重量％以下が好ましく、０．５重量
％以下が特に好ましい。添加量は製造環境、保存環境に
応じて適宜加減する。

【００５３】また、本発明で使用する液晶組成物には、
液晶骨格の螺旋構造を内部に有する光学異方体を得るこ
とを目的として、キラル（光学活性）化合物を添加する
こともできる。そのような目的で使用するキラル化合物
は、それ自体が液晶性を示す必要はなく、また重合性官
能基を有していても、有していなくても良い。また、そ
の螺旋の向きは、光学異方体の使用用途によって適宜選
択することができる。そのようなキラル化合物として
は、例えば、光学活性基としてコレステリル基を有する
ペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロ
ール、光学活性基として２−メチルブチル基を有するビ
ーディーエイチ社（ＢＤＨ社；イギリス国）製の「ＣＢ
−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社（ドイツ国）製の
「Ｓ−１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「Ｃ
Ｍ−２０」、「ＣＭ」；光学活性基として１−メチルヘ
プチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ
社製の「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」等を挙げること
ができる。キラル化合物を添加する場合の好ましい添加
量は、液晶組成物の用途によるが、重合して得られる重
合体の厚み（ｄ）を光学異方体中での螺旋ピッチ（Ｐ）
で除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜２０の範囲となる量が
好ましい。

【００５４】また、特殊用途の光学異方体、例えば偏光
フィルムや配向膜、又塗料等を製造する場合には、その
目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、界面
活性剤、ゲル化剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交
換樹脂、酸化チタンの金属酸化物等を組成物に添加する
ことができる。

【００５５】本発明の製造方法によれば、透明性に非常
に優れ、リタデーション値の減少が少ない光学異方体を
簡単に得ることができる。また、本発明の光学異方体
は、位相差板、偏光板、偏光プリズム、各種光フィルタ
ー等の光機能フィルムの材料として、非常に有用であ
る。

【００５６】

【実施例】以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に
詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施
例の限定されるものではない。なお、透明度はヘーズ値
で表し、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定を行っ
た。

【００５７】（合成例１）液晶性アクリレート化合物の
合成 ４，４’−ビフェノール１２０．０ｇ、６−クロロ−１
−ヘキサノール８８．０ｇ、水酸化ナトリウム２５．７
ｇ、ヨウ化カリウム２５．０ｇ、エタノール４８０ｍｌ
及び水４４０ｍｌから成る混合物を撹拌しながら、８０
℃で４時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却
後、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。
析出した結晶をガラスフィルターを用いて、濾取した
後、結晶を水２０００ｍｌで洗うことにより、粗生成物
９００ｇを得た。この粗生成物を、メタノール９００ｍ
ｌからの再結晶を１回、メタノール３００ｍｌからの再
結晶を２回行うことにより精製し、式（ａ）で表される
化合物を５０．０ｇ得た。

【００５８】

【化９】

【００５９】式（ａ）の化合物４８．０ｇ、アクリル酸
４８．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１５．０ｇ、ヒド
ロキノン２．５ｇ、トルエン２２０ｍｌ、テトラヒドロ
フラン９０ｍｌ、ｎ−ヘキサン１３０ｍｌからなる混合
物を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら４時間
還流させた。反応液を室温まで冷却後、反応液に飽和食
塩水１０００ｍｌ、酢酸エチル７００ｍｌを加えて抽出
を行った。得られた有機層を水洗した後、酢酸エチルを
減圧留去して粗生成物６０．９ｇ得た。得られた粗生成
物をトルエン６０ｍｌとヘキサン１２０ｍｌの混合溶媒
から再結晶を行い、不純物であるアクリル酸の大部分を
除いた粗生成物４１．８ｇを得た。このうちの３１．８
ｇを酢酸エチル及びトルエンからなる混合溶媒（容量比
で酢酸エチル：トルエン＝１：４、Ｒｆ＝０．５２）を
展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを
用いて精製して、下記式（ｂ）で表される化合物を１
９．０ｇ得た。

【００６０】

【化１０】

【００６１】３，４−ジヒドロキシ安息香酸１０．０
ｇ、６−クロロ−１−ヘキサノール１９．４ｇ、水酸化
ナトリウム８．２ｇ、ヨウ化カリウム１．０ｇ、エタノ
ール４５ｍｌ、水４５ｍｌから成る混合物を撹拌しなが
ら、８０℃で３２時間反応させた。得られた反応液を室
温まで冷却後、反応液に飽和食塩水５００ｍｌを加え、
反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。この
反応溶液に酢酸エチル３００ｍｌを加えて抽出を行っ
た。 得られた有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧
留去して下記式（ｃ）の粗生成物２３．２ｇを得た。

【００６２】

【化１１】

【００６３】式（ｃ）の粗生成物２３．２ｇ、アクリル
酸３０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸５．０ｇ、ヒド
ロキノン１．０ｇ、トルエン１００ｍｌ、ｎ−ヘキサン
６０ｍｌ、テトラヒドロフラン４０ｍｌから成る混合物
を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら４時間還
流させた。反応液を室温まで冷却後、反応液に飽和食塩
水５００ｍｌ、酢酸エチル３００ｍｌを加えて抽出を行
った。得られた有機層を水洗した後、有機溶媒を減圧留
去して粗生成物４０．１ｇ得た。次に、この粗生成物に
つき、ヘキサン１００ｍｌとトルエン２０ｍｌの混合物
からの再結晶を２回行い、不純物であるアクリル酸の大
部分を除いた粗生成物１６．５ｇを得た。さらに、酢酸
エチル及びトルエンからなる混合溶媒（容量比で酢酸エ
チル：トルエン＝１：３、Ｒｆ＝０．３１）を展開溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
して、下記式（ｄ）で表される化合物８．０ｇを得た。

【００６４】

【化１２】

【００６５】式（ｄ）の化合物７．０ｇ、塩化チオニル
７．０ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
０．０５ｇから成る混合物にジメチルホルムアミド３滴
を加え、４０℃で３０分加熱撹拌した。反応液を減圧乾
燥させた後、これを、式（ｂ）の化合物５．１ｇ、トリ
エチルアミン３．１ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍｌか
らなる混合物に滴下した。この時、混合物の内温が３０
℃以下になるように滴下速度を調節した。滴下終了後、
３時間３０分室温にて撹拌した。これに、飽和食塩水を
２００ｍｌ加えた後、水層が弱酸性になるまで希塩酸を
加えた。さらに、酢酸エチルを１００ｍｌ加えて、抽出
した。得られた有機層を水洗後、有機溶媒を減圧留去し
て粗精製物１２．５ｇを得た。これを酢酸エチル及びト
ルエンからなる混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエ
ン＝１：４、Ｒｆ＝０．５９）を展開溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー及びメタノール１０ｍｌ
からの再結晶２回により精製を行い、式（ｅ）で表され
る液晶性アクリレート化合物（以下、液晶性アクリレー
ト化合物（ｅ）と記す）１．３ｇを得た。

【００６６】

【化１３】

【００６７】（組成物調製例１）化合物（ｆ）の液晶性
アクリレート化合物５０重量部、及び化合物（ｇ）の液
晶性アクリレート５０重量部から成る組成物（Ａ）を調
製した。組成物（Ａ）の融点は１６℃であった。

【００６８】

【化１４】

【００６９】

【化１５】

【００７０】合成例１で合成した液晶性アクリレート化
合物（ｅ）２０重量部、組成物（Ａ）８０重量部から成
る組成物（Ｂ）を調製した。組成物（Ｂ）は、室温（２
５℃）でネマチック液晶相を呈した。Ｎ（ネマチック
相）−Ｉ（等方性液体相）転移温度は４８℃であった。
融点は１５℃であった。また、５８９ｎｍで測定したｎ
_e（異常光の屈折率）は１．６５８２で、ｎｏ（常光の
屈折率）は１．５１２、複屈折率は０．１４６であっ
た。分子量の平均値は、３３６である。Ｂ型粘度計で測
定した組成物（Ｂ）の粘度は７４ｍＰａ・ｓであった。

【００７１】（組成物調製例２）合成例１で合成した液
晶性アクリレート化合物（ｅ）３０重量部、組成物
（Ａ）７０重量部から成る組成物（Ｄ）を調製した。組
成物（Ｄ）は、室温（２５℃）でネマチック液晶相を呈
した。Ｎ（ネマチック相）−Ｉ（等方性液体相）転移温
度は５０℃であった。融点は１６℃であった。また、５
８９ｎｍで測定したｎ _e（異常光の屈折率）は１．６５
６で、ｎｏ（常光の屈折率）は１．５１３、複屈折率は
０．１４３であった。分子量の平均値は、３６１であ
る。Ｂ型粘度計で測定した組成物（Ｂ）の粘度は１２３
ｍＰａ・ｓであった。

【００７２】（保存安定性）重合性液晶組成物のネマチ
ック相の保存安定性は、組成物を封入したサンプル瓶を
室温に放置して、目視により結晶析出の有無を観察して
評価した。組成物調製例１で調製した組成物（Ｂ）の保
存安定性試験では、調製から１年を経た後もネマチック
相を呈し、結晶の析出は見られなかった。一方、組成物
（Ｄ）は調製から３日を経てもネマチック相を呈し、結
晶の析出は見られなかったが、調製から１週間を経たも
のには、結晶の析出が見られた。このことから、組成物
（Ｄ）の保存安定性は３日以上、１週間以下であった。

【００７３】（実施例１）光学異方体の作製（１） 組成物調製例１で調製した組成物（Ｂ）９９重量部、光
重合開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社
製）１重量部からなる組成物（Ｃ）を調製した。セルギ
ャップ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセ
ル（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｃ）を室温にて注入した。注入後、１
分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られている
のが確認できた。次に、セルを７℃までゆっくり冷却し
たところ、過冷却状態であるが配向状態を保ったまま液
晶状態を保持した。次に、目白プレシジョン製超高圧水
銀灯７５０Ｗを用いて１４Ｗ／ｍ²の紫外線（波長３６
６ｎｍ）を２００秒間照射して、組成物（Ｃ）を重合さ
せ、光学異方体を得た。ガラスセルにいれたままの光学
異方体の平行光透過率は８６．８％で、ヘーズは１．３
％であった。リタデーション値は２．９５ミクロンであ
った。

【００７４】（実施例２）光学異方体の作製（２） 組成物調製例２で調製した組成物（Ｄ）９９重量部、光
重合開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社
製）１重量部からなる組成物（Ｅ）を調製した。セルギ
ャップ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセ
ル（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｅ）を等方相を示す温度にて注入し、
液晶状態を示す温度まで徐冷した。液晶状態を発現した
後、１分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られ
ているのが確認できた。次に、次に、セルを１５℃まで
ゆっくり冷却したところ、過冷却状態であるが配向状態
を保ったまま液晶状態を保持した。次に、目白プレシジ
ョン製超高圧水銀灯７５０Ｗを用いて１４Ｗ／ｍ²の紫
外線（波長３６６ｎｍ）を２００秒間照射して、組成物
（Ｅ）を重合させ、光学異方体を得た。ガラスセルにい
れたままの光学異方体の平行光透過率は８７．８％で、
ヘーズは１．０％であった。リタデーション値は３．５
０ミクロンであった。

【００７５】（実施例３）光学異方体の作製（３） 組成物調製例１で調製した組成物（Ｂ）９９重量部、光
重合開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社
製）１重量部からなる組成物（Ｃ）を調製した。セルギ
ャップ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセ
ル（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｃ）を室温にて注入した。注入後、１
分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られている
のが確認できた。次に、セルを１５℃までゆっくり冷却
したところ、過冷却状態であるが配向状態を保ったまま
液晶状態を保持した。次に、目白プレシジョン製超高圧
水銀灯７５０Ｗを用いて１４Ｗ／ｍ²の紫外線（波長３
６６ｎｍ）を２００秒間照射して、組成物（Ｃ）を重合
させ、光学異方体を得た。ガラスセルにいれたままの光
学異方体の平行光透過率は８６．４％で、ヘーズは１．
６％であった。リタデーション値は２．９０ミクロンで
あった。

【００７６】（比較例１）光学異方体の作製（４） 実施例１と同様にして、組成物（Ｃ）を調製した。セル
ギャップ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラス
セル（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラス
セル）に、組成物（Ｃ）を室温にて注入した。注入後、
１分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られてい
るのが確認できた。次に、セルを２５℃に保って、目白
プレシジョン製超高圧水銀灯７５０Ｗを用いて１４Ｗ／
ｍ²の紫外線（波長３６６ｎｍ）を２００秒間照射し
て、組成物（Ｃ）を重合させ、光学異方体を得た。ガラ
スセルにいれたままの光学異方体の平行光透過率は８
３．４％で、ヘーズは４．７％であった。リタデーショ
ン値は２．７０ミクロンであった。

【００７７】（比較例２）光学異方体の作製（５） 実施例２と同様にして、組成物（Ｅ）を調製した。セル
ギャップ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラス
セル（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラス
セル）に、組成物（Ｃ）を室温にて注入した。注入後、
１分以内に配向が安定し、均一な一軸配向が得られてい
るのが確認できた。次に、セルを２５℃に保って目白プ
レシジョン製の超高圧水銀灯７５０Ｗを用いて１４Ｗ／
ｍ²の紫外線（波長３６６ｎｍ）を２００秒間照射し
て、組成物（Ｅ）を重合させた。ガラスセルにいれたま
までの平行光透過率は８６．１％で、ヘーズは１．８％
であった。リタデーション値は２．９０ミクロンであっ
た。

【００７８】実施例１、２と比較例１、２の結果から、
本発明の製造方法によって、重合性液晶組成物のネマチ
ック相の保存安定性をさほど損なわずに、透明性に優れ
た光学異方体が得られることが判る。なお、実施例１、
３は重合性液晶組成物のネマチック相の保存安定性とし
て長期の保存安定性が要求される場合或いは重合性液晶
組成物として特に低粘度が要求される場合に、その範囲
内で、透明性、リタデーション減少のより少ない光学異
方体とした例であり、実施例２は、保存安定性をある程
度の水準以上に保ち、透明性、リタデーション減少のよ
り少ない光学異方体を得ることを重視した例である。

【００７９】

【発明の効果】本発明の製造方法により、ネマチック相
の保存安定性が良好な重合性液晶組成物を用いて、透明
性に優れ、かつ光学位相差（リタデーション）の値の減
少が少ない光学異方体を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 洋 大阪府池田市緑丘１丁目８番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所 関西センター 内 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BC05 BC09 4J011 CC09 CC10 UA01 4J100 AL08Q AL67P AT08Q BA02P BA11P BA15P BC04P BC04Q BC23P BC43P BC43Q BC52P BC64P BC83P CA04 JA39

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 重合性官能基を有する液晶を含有し、２
   ０℃以下であっても液晶状態を示す重合性液晶組成物
   を、基板上に塗布して液膜を形成するか、もしくは基板
   間に挟持した後、液晶を配向させた状態で、２０℃以下
   で、かつ、液晶相を保持した状態で光重合させることを
   特徴とする光学異方体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記重合性液晶組成物を２０℃以下で且
   つ過冷却状態で光重合させる、請求項１に記載の光学異
   方体の製造方法。
3. 【請求項３】 一般式（Ｉ）で表される液晶性（メタ）
   アクリレート化合物と、一般式（II）で表される液晶性
   （メタ）アクリレート化合物とを含有する重合性液晶組
   成物を、一般式（II）で表される液晶性（メタ）アクリ
   レート化合物のみで構成される組成物成分の融点から、
   融点マイナス１０℃の温度範囲内で、かつ、過冷却状態
   で光重合することを特徴とする、請求項１に記載の光学
   異方体の製造方法。 【化１】 （式中、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³はそれぞれ独立に水素原子又は
   メチル基を表し、６員環Ａ、Ｂはそれぞれ独立に、ベン
   ゼン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、又はヘ
   テロ原子として一つ又は二つの窒素、酸素、硫黄を有す
   る複素環を表し、これらの６員環Ａ、Ｂ、Ｃはそれぞれ
   置換基を有していてもよく、Ｙ¹、Ｙ²は水素原子がそれ
   ぞれ独立に単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−
   ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−
   ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−Ｃ
   Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝
   ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−
   ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は
   −ＯＣＯ−ＣＯＯ−を表し、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³はそれぞれ
   独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を
   表し、Ｓｐ¹、Ｓｐ²、Ｓｐ³は炭素原子数１〜２０のア
   ルキレン鎖、又は炭素原子数１から２０のアルキレン鎖
   が−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−で結合された鎖を表
   す。） 【化２】 （式中、Ｌ⁴は水素原子又はメチル基を表し、ｎは０又
   は１の整数を表し、６員環Ｄ、Ｅ、Ｆはそれぞれ独立
   に、ベンゼン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン
   環、又はヘテロ原子として一つ又は二つの窒素、酸素、
   硫黄を有する複素環を表し、これらの６員環Ｄ、Ｅ、Ｆ
   はそれぞれ置換基を有していてもよく、Ｙ³、Ｙ⁴はそれ
   ぞれ独立に単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−
   ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−
   ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−Ｃ
   Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝
   ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−
   ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を
   表し、Ｙ⁵は単結合、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ
   −、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−を表し、Ｚ¹は水素原
   子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子１〜２０の炭
   化水素基を表す。）
4. 【請求項４】 一般式（II）で表される液晶性（メタ）
   アクリレート化合物が、下記一般式（III）及び、一般
   式（IV）で表される化合物の混合物であることを特徴と
   する、請求項１に記載の光学異方体の製造方法。 【化３】 【化４】