JP2003046182A - 光源装置、レーザダイオードチップ及びレーザダイオードチップの製造方法 - Google Patents
光源装置、レーザダイオードチップ及びレーザダイオードチップの製造方法Info
- Publication number
- JP2003046182A JP2003046182A JP2001228799A JP2001228799A JP2003046182A JP 2003046182 A JP2003046182 A JP 2003046182A JP 2001228799 A JP2001228799 A JP 2001228799A JP 2001228799 A JP2001228799 A JP 2001228799A JP 2003046182 A JP2003046182 A JP 2003046182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser diode
- diode chip
- chip
- light source
- source device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000007017 scission Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 10
- 238000012216 screening Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 38
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 上下の面に対して垂直な面から傾斜した方向
に二次劈開されるレーザダイオードチップを精度良く位
置決め可能な光源装置を提案すること。 【解決手段】 光ピックアップ装置の光源装置9におい
て、第1および第2のレーザダイオードチップ61、6
2は、サブマウント基板70に形成された位置決め突起
である第1、第2、第3の凸部81、82、83により
位置決めされている。二次劈開によって下面621に対
して垂直方向から傾斜した方向に劈開される第2のレー
ザダイオードチップ62は、劈開に先立ってダイシング
により形成した上下の面に垂直な垂直面部分625a
と、二次劈開による劈開面部分625bとによってその
側面625が形成されている。垂直面部分625aが形
成されているので、これを第2の凸部82の位置決め面
82bに面接触状態で押付けて、レーザダイオードチッ
プ62を位置決めできる。
に二次劈開されるレーザダイオードチップを精度良く位
置決め可能な光源装置を提案すること。 【解決手段】 光ピックアップ装置の光源装置9におい
て、第1および第2のレーザダイオードチップ61、6
2は、サブマウント基板70に形成された位置決め突起
である第1、第2、第3の凸部81、82、83により
位置決めされている。二次劈開によって下面621に対
して垂直方向から傾斜した方向に劈開される第2のレー
ザダイオードチップ62は、劈開に先立ってダイシング
により形成した上下の面に垂直な垂直面部分625a
と、二次劈開による劈開面部分625bとによってその
側面625が形成されている。垂直面部分625aが形
成されているので、これを第2の凸部82の位置決め面
82bに面接触状態で押付けて、レーザダイオードチッ
プ62を位置決めできる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学機器のレーザ
光源として用いるのに適した光源装置に関するものであ
る。更に詳しくは、光源装置におけるレーザダイオード
チップの位置決め技術に関するものである。
光源として用いるのに適した光源装置に関するものであ
る。更に詳しくは、光源装置におけるレーザダイオード
チップの位置決め技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザ光を利用した光学機器としては、
例えば、CDやDVDなど種類の異なる光記録ディスク
の再生を行なう光ピックアップ装置がある。このような
光ピックアップ装置では、DVDの再生には650nm
波長のレーザ光が必要であり、CD−Rは650nm波
長帯域での反射率が低いので、その再生、記録のために
は780nm波長のレーザ光が必要となる。
例えば、CDやDVDなど種類の異なる光記録ディスク
の再生を行なう光ピックアップ装置がある。このような
光ピックアップ装置では、DVDの再生には650nm
波長のレーザ光が必要であり、CD−Rは650nm波
長帯域での反射率が低いので、その再生、記録のために
は780nm波長のレーザ光が必要となる。
【0003】そこで、CD−R再生互換DVD光ピック
アップ装置では、CD再生用に使用する波長780nm
帯AlGaAs系レーザダイオードと、DVD再生用に
使用する波長650nm帯AlGaInP系レーザダイ
オードとの2つのレーザ光源を備えた光源装置が搭載さ
れたものが知られている。
アップ装置では、CD再生用に使用する波長780nm
帯AlGaAs系レーザダイオードと、DVD再生用に
使用する波長650nm帯AlGaInP系レーザダイ
オードとの2つのレーザ光源を備えた光源装置が搭載さ
れたものが知られている。
【0004】このような光ピックアップ装置に用いる光
源装置としては、1つの半導体チップに2つのレーザダ
イオードを形成したモノリシックタイプと呼ばれるも
の、および2つのレーザダイオードチップを1つの基板
上に搭載したハイブリットタイプと呼ばれるものが知ら
れている。
源装置としては、1つの半導体チップに2つのレーザダ
イオードを形成したモノリシックタイプと呼ばれるも
の、および2つのレーザダイオードチップを1つの基板
上に搭載したハイブリットタイプと呼ばれるものが知ら
れている。
【0005】モノリシックタイプは、1つのGaAs基
板上にAlGaAs系レーザダイオードと、AlGaI
nP系レーザダイオードとをウエハプロセスにより作り
込んでしまうため、各波長のレーザ発光点間隔が精度良
く設定される。しかし、どちらか一方のレーザダイオー
ドが不良となった場合には、他方の良品であるレーザダ
イオードも無駄になってしまうので経済的でない。
板上にAlGaAs系レーザダイオードと、AlGaI
nP系レーザダイオードとをウエハプロセスにより作り
込んでしまうため、各波長のレーザ発光点間隔が精度良
く設定される。しかし、どちらか一方のレーザダイオー
ドが不良となった場合には、他方の良品であるレーザダ
イオードも無駄になってしまうので経済的でない。
【0006】これに対して、ハイブリットタイプは、各
波長のレーザダイオードチップを別々に基板に配置す
る。このため、予めレーザダイオードチップを選別して
おくことにより、モノリシックタイプのように、どちら
か一方のレーザダイオードチップが不良となった場合に
はそれを交換すればよいので、他方の良品であるレーザ
ダイオードチップが無駄になることがない。しかしなが
ら、レーザ発光点間隔は、2つのレーザダイオードチッ
プを基板に配置する精度により設定されるため、高価な
高精度チップ実装設備を必要とする。
波長のレーザダイオードチップを別々に基板に配置す
る。このため、予めレーザダイオードチップを選別して
おくことにより、モノリシックタイプのように、どちら
か一方のレーザダイオードチップが不良となった場合に
はそれを交換すればよいので、他方の良品であるレーザ
ダイオードチップが無駄になることがない。しかしなが
ら、レーザ発光点間隔は、2つのレーザダイオードチッ
プを基板に配置する精度により設定されるため、高価な
高精度チップ実装設備を必要とする。
【0007】このようなハイブリットタイプの光源装置
において、高精度チップ実装設備を使用すること無く、
レーザ発光点間隔の精度を高める方法として、特開平8
−339570号公報に開示されているように、基板に
予めガイド溝を彫っておき、そのガイド溝に2つのレー
ザダイオードチップを搭載することで、双方の間隔を精
度良く規定する方法が知られている。
において、高精度チップ実装設備を使用すること無く、
レーザ発光点間隔の精度を高める方法として、特開平8
−339570号公報に開示されているように、基板に
予めガイド溝を彫っておき、そのガイド溝に2つのレー
ザダイオードチップを搭載することで、双方の間隔を精
度良く規定する方法が知られている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板の
ガイド溝に2つのレーザダイオードチップを搭載する配
置技術では、それらの発光点間隔を精度良く規定できる
が、光軸方向の位置決め精度を改善できないという問題
点がある。
ガイド溝に2つのレーザダイオードチップを搭載する配
置技術では、それらの発光点間隔を精度良く規定できる
が、光軸方向の位置決め精度を改善できないという問題
点がある。
【0009】そこで、本願の出願人は、基板にポリイミ
ドなどで形成した位置決め突起に、レーザダイオードチ
ップの互いに直交する側面を押し当てて位置決めする方
法を特願2000−277393号において提案してい
る。
ドなどで形成した位置決め突起に、レーザダイオードチ
ップの互いに直交する側面を押し当てて位置決めする方
法を特願2000−277393号において提案してい
る。
【0010】この位置決め方法では、図6(a)に示す
ように、第1のレーザダイオードチップ101および第
2のレーザダイオードチップ102は、基板103上に
形成された位置決め突起104に押し当てて固定されて
いる。
ように、第1のレーザダイオードチップ101および第
2のレーザダイオードチップ102は、基板103上に
形成された位置決め突起104に押し当てて固定されて
いる。
【0011】この位置決め突起104は、第1のレーザ
ダイオードチップ101の出射面101aを規定する直
方体の第1の凸部105と、この第1の凸部105と発
光点101bを挟んで反対側で第1のレーザダイオード
チップ101の出射面101aを規定するとともに、第
1のレーザダイオードチップ101と並列配置された第
2のレーザダイオードチップ102の出射面102aを
規定する第2の凸部106と、この第2の凸部106と
発光点102bを挟んで反対側で第2のレーザダイオー
ドチップ102の出射面102aを規定する直方体の第
3の凸部107を備えている。
ダイオードチップ101の出射面101aを規定する直
方体の第1の凸部105と、この第1の凸部105と発
光点101bを挟んで反対側で第1のレーザダイオード
チップ101の出射面101aを規定するとともに、第
1のレーザダイオードチップ101と並列配置された第
2のレーザダイオードチップ102の出射面102aを
規定する第2の凸部106と、この第2の凸部106と
発光点102bを挟んで反対側で第2のレーザダイオー
ドチップ102の出射面102aを規定する直方体の第
3の凸部107を備えている。
【0012】第2の凸部106は、2つの直方体をT字
状にした形状であり、第1のレーザダイオードチップ1
01の出射面101aおよび並列配置された第2のレー
ザダイオードチップ102の出射面102aを規定する
直方体状の第1の位置決め部106aの略中央から、第
1のレーザダイオードチップ101および第2のレーザ
ダイオードチップ102の向い合う側面101cおよび
側面102cの間に直方体状の第2の位置決め部106
bが形成されている。この第2の位置決め部106b
に、側面101cおよび側面102cが押し当てられて
第1のレーザダイオードチップ101および第2のレー
ザダイオードチップ102の発光点間隔が規定される。
状にした形状であり、第1のレーザダイオードチップ1
01の出射面101aおよび並列配置された第2のレー
ザダイオードチップ102の出射面102aを規定する
直方体状の第1の位置決め部106aの略中央から、第
1のレーザダイオードチップ101および第2のレーザ
ダイオードチップ102の向い合う側面101cおよび
側面102cの間に直方体状の第2の位置決め部106
bが形成されている。この第2の位置決め部106b
に、側面101cおよび側面102cが押し当てられて
第1のレーザダイオードチップ101および第2のレー
ザダイオードチップ102の発光点間隔が規定される。
【0013】このように、第1のレーザダイオードチッ
プ101および第2のレーザダイオードチップ102
を、位置決め突起104により、高精度チップ実装設備
を使用しないで、レーザ発光点間隔および光軸方向共に
精度良く位置決めできる。
プ101および第2のレーザダイオードチップ102
を、位置決め突起104により、高精度チップ実装設備
を使用しないで、レーザ発光点間隔および光軸方向共に
精度良く位置決めできる。
【0014】ここで、レーザダイオードチップは、半導
体プロセスにより形成されたウエハを素子サイズに切り
分けることにより製造される。このウェハの切断は、各
チップの前後の出射面に沿って劈開した後に、出射面に
直交する側面を劈開することにより行われる。
体プロセスにより形成されたウエハを素子サイズに切り
分けることにより製造される。このウェハの切断は、各
チップの前後の出射面に沿って劈開した後に、出射面に
直交する側面を劈開することにより行われる。
【0015】側面の劈開面は、AlGaAs系(波長7
80nm帯)のレーザダイオードチップの場合、結晶方
向がレーザダイオードチップの上下面に対して垂直であ
るので、上・下面に対して垂直となる。しかし、AlG
aInP系(波長650nm帯)のレーザダイオードチ
ップは、結晶方向がレーザダイオードチップの上下面に
対して垂直でないために、レーザダイオードチップの上
下の面に垂直な方向から傾斜した方向に劈開されるの
で、上下の面に対して傾斜した傾斜面となる。
80nm帯)のレーザダイオードチップの場合、結晶方
向がレーザダイオードチップの上下面に対して垂直であ
るので、上・下面に対して垂直となる。しかし、AlG
aInP系(波長650nm帯)のレーザダイオードチ
ップは、結晶方向がレーザダイオードチップの上下面に
対して垂直でないために、レーザダイオードチップの上
下の面に垂直な方向から傾斜した方向に劈開されるの
で、上下の面に対して傾斜した傾斜面となる。
【0016】このため、図6(b)、(c)に示すよう
に、例えば、第1のレーザダイオードチップ101がA
lGaAs系(波長780nm帯)のレーザダイオード
チップの場合、その側面101cは下面101dに対し
て垂直であるので、囲み部分K1で示すように、位置決
め突起104の第2の位置決め部106bに面接触し、
確実に位置決めされた状態で実装される。
に、例えば、第1のレーザダイオードチップ101がA
lGaAs系(波長780nm帯)のレーザダイオード
チップの場合、その側面101cは下面101dに対し
て垂直であるので、囲み部分K1で示すように、位置決
め突起104の第2の位置決め部106bに面接触し、
確実に位置決めされた状態で実装される。
【0017】しかしながら、図6(d)、(e)に示す
ように、第1のレーザダイオードチップ101がAlG
aInP系(波長650nm帯)のレーザダイオードチ
ップの場合、その側面101cは、下面101dに垂直
な方向に対して傾斜した傾斜面となっている。このた
め、囲み部分K2で示すように、位置決め突起104の
第2の位置決め部106bには、側面101cと下面1
01dで形成される鋭角部分101eが線接触するのみ
である。これでは、面接触に比べ確実に位置決めするこ
とができず、また、位置決めされた状態に確実に保持す
ることが困難である。さらに、チップ実装時において
は、鋭角部分101eが欠けるなどのチッピングなどを
発生させてしまう可能性がある。
ように、第1のレーザダイオードチップ101がAlG
aInP系(波長650nm帯)のレーザダイオードチ
ップの場合、その側面101cは、下面101dに垂直
な方向に対して傾斜した傾斜面となっている。このた
め、囲み部分K2で示すように、位置決め突起104の
第2の位置決め部106bには、側面101cと下面1
01dで形成される鋭角部分101eが線接触するのみ
である。これでは、面接触に比べ確実に位置決めするこ
とができず、また、位置決めされた状態に確実に保持す
ることが困難である。さらに、チップ実装時において
は、鋭角部分101eが欠けるなどのチッピングなどを
発生させてしまう可能性がある。
【0018】本発明の課題は、このような問題点に鑑み
て、基板に搭載した場合の上下の面に対してその側面が
垂直方向に対して傾斜した劈開面となるレーザダイオー
ドチップを精度良く位置決め可能な光源装置を提案する
ことにある。
て、基板に搭載した場合の上下の面に対してその側面が
垂直方向に対して傾斜した劈開面となるレーザダイオー
ドチップを精度良く位置決め可能な光源装置を提案する
ことにある。
【0019】また、本発明の課題は、かかる光源装置に
用いるのに適したレーザダイオードチップおよびその製
造方法を提案することにある。
用いるのに適したレーザダイオードチップおよびその製
造方法を提案することにある。
【0020】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明は、基板と、この基板の表面に搭載されたレ
ーザダイオードチップと、このレーザダイオードチップ
を位置決めするために前記基板の表面に形成された位置
決め用突起とを有する光源装置において、前記位置決め
用突起は、前記基板の表面から垂直に延びる位置決め面
を備えており、前記レーザダイオードチップの少なくと
も一方の側面は、その上下の面に対して垂直な方向から
傾斜した方向に延びる劈開面部分と、この劈開面部分に
連続していると共に上下の面に対して垂直な垂直面部分
とを備えており、前記垂直面部分を前記位置決め用突起
の前記位置決め面に当接させることにより、前記レーザ
ダイオードチップが位置決めされていることを特徴とし
ている。
め、本発明は、基板と、この基板の表面に搭載されたレ
ーザダイオードチップと、このレーザダイオードチップ
を位置決めするために前記基板の表面に形成された位置
決め用突起とを有する光源装置において、前記位置決め
用突起は、前記基板の表面から垂直に延びる位置決め面
を備えており、前記レーザダイオードチップの少なくと
も一方の側面は、その上下の面に対して垂直な方向から
傾斜した方向に延びる劈開面部分と、この劈開面部分に
連続していると共に上下の面に対して垂直な垂直面部分
とを備えており、前記垂直面部分を前記位置決め用突起
の前記位置決め面に当接させることにより、前記レーザ
ダイオードチップが位置決めされていることを特徴とし
ている。
【0021】本発明では、レーザダイオードチップにお
ける上下の面に対して垂直な方向から傾斜した劈開面と
なるレーザダイオードチップの側面の一部に、上下の面
に対して垂直な垂直面部分を形成している。この垂直面
部分を位置決め部材の位置決め面に面接触させることに
より、レーザダイオードチップを安定した状態で位置決
めすることができる。
ける上下の面に対して垂直な方向から傾斜した劈開面と
なるレーザダイオードチップの側面の一部に、上下の面
に対して垂直な垂直面部分を形成している。この垂直面
部分を位置決め部材の位置決め面に面接触させることに
より、レーザダイオードチップを安定した状態で位置決
めすることができる。
【0022】一般的には、前記垂直面部分を、前記レー
ザダイオードチップの前記下面の側に形成しておけばよ
い。また、前記レーザダイオードチップの双方の側面
に、前記垂直面部分および前記劈開面部分を形成しても
よい。
ザダイオードチップの前記下面の側に形成しておけばよ
い。また、前記レーザダイオードチップの双方の側面
に、前記垂直面部分および前記劈開面部分を形成しても
よい。
【0023】本発明の対象となるレーザダイオードチッ
プとしては、650nm波長帯域のAlGaInP系レ
ーザダイオードチップを挙げることができる。
プとしては、650nm波長帯域のAlGaInP系レ
ーザダイオードチップを挙げることができる。
【0024】次に、本発明はレーザダイオードチップに
おいて、上記のように、その側面に傾斜した劈開面部分
と垂直面部分とが形成されたことを特徴としている。
おいて、上記のように、その側面に傾斜した劈開面部分
と垂直面部分とが形成されたことを特徴としている。
【0025】さらに、本発明は、この構成のレーザダイ
オードチップの製造方法に関するものであり、複数のレ
ーザダイオードチップが作り込まれたウエハを、その一
次劈開面に沿って割ることにより、複数の前記レーザダ
イオードチップが横に一列に並んだチップバーを切り出
す第1の劈開工程と、前記チップバーの下面から、各レ
ーザダイオードチップの間に、当該下面に垂直な所定の
深さの切り込みを入れる切込み工程と、各切り込みの底
から前記チップバーを二次劈開面に沿って割ることによ
り各レーザダイオードチップを切り出す第2の劈開工程
とを備えていることを特徴としている。
オードチップの製造方法に関するものであり、複数のレ
ーザダイオードチップが作り込まれたウエハを、その一
次劈開面に沿って割ることにより、複数の前記レーザダ
イオードチップが横に一列に並んだチップバーを切り出
す第1の劈開工程と、前記チップバーの下面から、各レ
ーザダイオードチップの間に、当該下面に垂直な所定の
深さの切り込みを入れる切込み工程と、各切り込みの底
から前記チップバーを二次劈開面に沿って割ることによ
り各レーザダイオードチップを切り出す第2の劈開工程
とを備えていることを特徴としている。
【0026】ここで、前記切込み工程における各切り込
みを、各レーザダイオードチップの活性層を電気的に分
離可能な深さまで行うことが望ましい。
みを、各レーザダイオードチップの活性層を電気的に分
離可能な深さまで行うことが望ましい。
【0027】このようにすれば、前記切り込み工程後
に、各レーザダイオードチップを切り出すのに先立っ
て、各レーザダイオードチップの特性検査、信頼性検
査、スクリーニングのうち少なくとも一つを行う検査工
程を行うことができる。
に、各レーザダイオードチップを切り出すのに先立っ
て、各レーザダイオードチップの特性検査、信頼性検
査、スクリーニングのうち少なくとも一つを行う検査工
程を行うことができる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して、本発明
を適用した光源装置が搭載された光ピックアップ装置の
一例を説明する。
を適用した光源装置が搭載された光ピックアップ装置の
一例を説明する。
【0029】(全体構成)図1(a)および(b)は、
本例の光ピックアップ装置を示す平面図および断面図で
ある。図2(a)および(b)は、図1に示す光源装置
を示す平面図および斜視図である。
本例の光ピックアップ装置を示す平面図および断面図で
ある。図2(a)および(b)は、図1に示す光源装置
を示す平面図および斜視図である。
【0030】本例の光ピックアップ装置1は、CDある
いはDVDなどの光記録媒体2に対する情報記録、情報
再生を行なうため、波長が650nmのレーザ光と、波
長が780nmのレーザ光とを用いる2波長光ピックア
ップ装置であり、鉄、アルミニウムなどの金属製の配線
基板3を有し、ここに各種部品が搭載されている。この
配線基板3はフレーム4によって支持されている。フレ
ーム4は、その一方の側端に、円形の主軸ガイド孔41
が形成され、他方の側端に、横方に開口したコの字状形
状の副軸ガイド溝42が形成されている。
いはDVDなどの光記録媒体2に対する情報記録、情報
再生を行なうため、波長が650nmのレーザ光と、波
長が780nmのレーザ光とを用いる2波長光ピックア
ップ装置であり、鉄、アルミニウムなどの金属製の配線
基板3を有し、ここに各種部品が搭載されている。この
配線基板3はフレーム4によって支持されている。フレ
ーム4は、その一方の側端に、円形の主軸ガイド孔41
が形成され、他方の側端に、横方に開口したコの字状形
状の副軸ガイド溝42が形成されている。
【0031】光ピックアップ装置1が搭載される情報記
録再生装置(図示せず)の側には平行に延びる主軸43
および副軸44が配置されている。光ピックアップ装置
1は、主軸43を主軸ガイド孔41に通すと共に副軸4
4を副軸ガイド溝42に通した状態となるように、主軸
43および副軸44の間に架け渡した状態で情報記録再
生装置の側に搭載される。これら主軸43および副軸4
4に沿って、光ピックアップ装置1が光記録媒体2の半
径方向に往復移動可能になっている。
録再生装置(図示せず)の側には平行に延びる主軸43
および副軸44が配置されている。光ピックアップ装置
1は、主軸43を主軸ガイド孔41に通すと共に副軸4
4を副軸ガイド溝42に通した状態となるように、主軸
43および副軸44の間に架け渡した状態で情報記録再
生装置の側に搭載される。これら主軸43および副軸4
4に沿って、光ピックアップ装置1が光記録媒体2の半
径方向に往復移動可能になっている。
【0032】配線基板3における副軸ガイド溝42の側
の表面部分には、レーザ、受光素子一体型の光源装置9
が搭載されている。この光源装置9は、配線基板3の表
面にAgペースト等の接着剤で積層接着した半導体基板
10と、この半導体基板10の表面に積層接着されたサ
ブマウント基板70と、このサブマウント基板70の上
面に同じく積層接着された第1および第2のレーザダイ
オードチップ61、62を備えている。第1のレーザダ
イオードチップ61は、波長780nmのレーザ光を出
射するAlGaAs系のレーザダイオードチップであ
り、第2のレーザダイオードチップ62は、波長650
nmのレーザ光を出射するAlGaInP系のレーザダ
イオードチップである。
の表面部分には、レーザ、受光素子一体型の光源装置9
が搭載されている。この光源装置9は、配線基板3の表
面にAgペースト等の接着剤で積層接着した半導体基板
10と、この半導体基板10の表面に積層接着されたサ
ブマウント基板70と、このサブマウント基板70の上
面に同じく積層接着された第1および第2のレーザダイ
オードチップ61、62を備えている。第1のレーザダ
イオードチップ61は、波長780nmのレーザ光を出
射するAlGaAs系のレーザダイオードチップであ
り、第2のレーザダイオードチップ62は、波長650
nmのレーザ光を出射するAlGaInP系のレーザダ
イオードチップである。
【0033】半導体基板10には、信号再生用の受光面
13aを備えた受光素子13および信号演算回路が作り
込まれている。サブマウント基板70には、レーザモニ
ター用の受光素子131が作り込まれている。また、光
源装置9の側に形成されている電極端子14と配線基板
3の表面に形成した電極端子15の間がボンディングワ
イヤ16によって接続されている。
13aを備えた受光素子13および信号演算回路が作り
込まれている。サブマウント基板70には、レーザモニ
ター用の受光素子131が作り込まれている。また、光
源装置9の側に形成されている電極端子14と配線基板
3の表面に形成した電極端子15の間がボンディングワ
イヤ16によって接続されている。
【0034】一方、配線基板3の主軸ガイド41側の表
面部分には、磁気式の対物レンズ駆動機構17が搭載さ
れている。この対物レンズ駆動機構17は、対物レンズ
18を保持しているレンズホルダ19と、このレンズホ
ルダ19をトラッキング方向およびフォーカシング方向
に移動可能に支持している支軸20と、レンズホルダ1
9をトラッキング方向およびフォーカシング方向に移動
させる磁力を発生する磁気駆動回路とを備えている。磁
気駆動回路は、折り曲げヨーク板22に形成されている
起立部分22a、22b、22c、22dに取り付けた
磁石23a、23b、23c、23dと、これらに対峙
するレンズホルダ部分に配置した駆動コイル(図示せ
ず)を含んでいる。この構成の軸摺動回動式の対物レン
ズ駆動機構は公知のものである。
面部分には、磁気式の対物レンズ駆動機構17が搭載さ
れている。この対物レンズ駆動機構17は、対物レンズ
18を保持しているレンズホルダ19と、このレンズホ
ルダ19をトラッキング方向およびフォーカシング方向
に移動可能に支持している支軸20と、レンズホルダ1
9をトラッキング方向およびフォーカシング方向に移動
させる磁力を発生する磁気駆動回路とを備えている。磁
気駆動回路は、折り曲げヨーク板22に形成されている
起立部分22a、22b、22c、22dに取り付けた
磁石23a、23b、23c、23dと、これらに対峙
するレンズホルダ部分に配置した駆動コイル(図示せ
ず)を含んでいる。この構成の軸摺動回動式の対物レン
ズ駆動機構は公知のものである。
【0035】第1および第2のレーザダイオードチップ
61、62から対物レンズ18に至る光路上には、第1
の回折格子25、第2の回折格子26、コリメートレン
ズ27および立上げミラー28が配置されている。第1
の回折格子25は、第1のレーザダイオードチップ61
から出射される波長780nmのレーザ光のみを3ビー
ムに分割する波長選択性の回折格子であり、第2の回折
格子26は光記録媒体2からの戻り光の光路を変えて、
全反射ミラー29を経由して受光素子13の受光面13
aに導くための波長選択性ホログラム素子である。立上
げミラー28はコリメートレンズ27により平行光化さ
れた出射レーザ光を直角に反射して対物レンズ18に導
くためのものである。
61、62から対物レンズ18に至る光路上には、第1
の回折格子25、第2の回折格子26、コリメートレン
ズ27および立上げミラー28が配置されている。第1
の回折格子25は、第1のレーザダイオードチップ61
から出射される波長780nmのレーザ光のみを3ビー
ムに分割する波長選択性の回折格子であり、第2の回折
格子26は光記録媒体2からの戻り光の光路を変えて、
全反射ミラー29を経由して受光素子13の受光面13
aに導くための波長選択性ホログラム素子である。立上
げミラー28はコリメートレンズ27により平行光化さ
れた出射レーザ光を直角に反射して対物レンズ18に導
くためのものである。
【0036】ここで、本例では、光源装置9、回折格子
25、26およびコリメートレンズ27は、これらの部
材を位置決めした状態で保持する部品ホルダ30を用い
て、配線基板3に搭載されている。図2(b)に示すよ
うに、部品ホルダ30は、全体として平板をコの字状に
切り欠いた形状の感光性ガラス枠体であり、その内側に
は、光源装置9、回折格子25、26およびコリメート
レンズ27を各々所定の位置に所定の姿勢で保持する凹
凸や窓を備えている。従って、光源装置9、回折格子2
5、26およびコリメートレンズ27については、この
部品ホルダ30に搭載するだけで、これらの部材間での
光軸合わせ、光軸方向の位置調整が自動的に行なわれ
る。
25、26およびコリメートレンズ27は、これらの部
材を位置決めした状態で保持する部品ホルダ30を用い
て、配線基板3に搭載されている。図2(b)に示すよ
うに、部品ホルダ30は、全体として平板をコの字状に
切り欠いた形状の感光性ガラス枠体であり、その内側に
は、光源装置9、回折格子25、26およびコリメート
レンズ27を各々所定の位置に所定の姿勢で保持する凹
凸や窓を備えている。従って、光源装置9、回折格子2
5、26およびコリメートレンズ27については、この
部品ホルダ30に搭載するだけで、これらの部材間での
光軸合わせ、光軸方向の位置調整が自動的に行なわれ
る。
【0037】光源装置9が取り付けられている部品ホル
ダ30の部分にはカバー31が取り付けられ、当該光源
装置9を保護している。このカバー31の裏面には全反
射ミラー29が取付けらている。
ダ30の部分にはカバー31が取り付けられ、当該光源
装置9を保護している。このカバー31の裏面には全反
射ミラー29が取付けらている。
【0038】このように構成された光ピックアップ装置
1では、光記録媒体2としてCD−Rから情報を再生記
録等するときは、第1のレーザダイオードチップ61か
ら波長が780nmのレーザ光が出射され、一方、光記
録媒体2としてDVDから情報を再生等するときは、第
2のレーザダイオードチップ62から波長が650nm
のレーザ光が出射されることにより、異なる種類の光記
録媒体2の情報再生、情報記録等が行われる。
1では、光記録媒体2としてCD−Rから情報を再生記
録等するときは、第1のレーザダイオードチップ61か
ら波長が780nmのレーザ光が出射され、一方、光記
録媒体2としてDVDから情報を再生等するときは、第
2のレーザダイオードチップ62から波長が650nm
のレーザ光が出射されることにより、異なる種類の光記
録媒体2の情報再生、情報記録等が行われる。
【0039】(光源装置の位置決め機構)図3は本例の
光源装置9における2個のレーザダイオードチップ6
1、62の位置決め機構を示すための説明図である。
光源装置9における2個のレーザダイオードチップ6
1、62の位置決め機構を示すための説明図である。
【0040】この図に示すように、第1のレーザダイオ
ードチップ61は略直方体形状をしており、第1のレー
ザ光L1を出射する第1の前方発光点S1が位置してい
る前方出射面612と、後方発光点が位置している後方
出射面614と、左右の側面613、615と、n電極
が形成された上面616と、p電極が形成された下面6
11とを備えている。
ードチップ61は略直方体形状をしており、第1のレー
ザ光L1を出射する第1の前方発光点S1が位置してい
る前方出射面612と、後方発光点が位置している後方
出射面614と、左右の側面613、615と、n電極
が形成された上面616と、p電極が形成された下面6
11とを備えている。
【0041】次に、第2のレーザダイオードチップ62
は、第2のレーザ光L2を出射する第2の前方発光点S
2が位置している前方出射面622と、後方発光点が位
置している後方出射面624と、左右の側面623、6
25と、n電極が形成された上面626と、p電極が形
成された下面621とを備えている。
は、第2のレーザ光L2を出射する第2の前方発光点S
2が位置している前方出射面622と、後方発光点が位
置している後方出射面624と、左右の側面623、6
25と、n電極が形成された上面626と、p電極が形
成された下面621とを備えている。
【0042】ここで、前方出射面622および後方出射
面624は、上下の面621、626に垂直な面である
が、左右の側面623、625は、その下側部分が下面
621に対して垂直な垂直面部分623a、625aと
され、上側部分がこれらの垂直面623a、625bに
対して同一方向に傾斜した傾斜面部分623b、625
bとされている。
面624は、上下の面621、626に垂直な面である
が、左右の側面623、625は、その下側部分が下面
621に対して垂直な垂直面部分623a、625aと
され、上側部分がこれらの垂直面623a、625bに
対して同一方向に傾斜した傾斜面部分623b、625
bとされている。
【0043】サブマウント基板70の上面700には、
レジスト材料を積層して形成された直方体形状の第1の
凸部81と、第2の凸部82と、第3の凸部83が直立
している。これらの凸部が第1および第2のレーザダイ
オードチップ61、62の位置決めをする位置決め用突
起である。
レジスト材料を積層して形成された直方体形状の第1の
凸部81と、第2の凸部82と、第3の凸部83が直立
している。これらの凸部が第1および第2のレーザダイ
オードチップ61、62の位置決めをする位置決め用突
起である。
【0044】ここで、第1の凸部81および第3の凸部
83の後側側面81a、83aは、光軸方向に直交する
同一面上にあると共に、サブマウント基板上面700に
垂直な面である。また、第2の凸部82の左右の側面8
2a、82bは、光軸方向に延びる相互に平行な面であ
ると共に、サブマウント基板上面700に垂直な面であ
る。
83の後側側面81a、83aは、光軸方向に直交する
同一面上にあると共に、サブマウント基板上面700に
垂直な面である。また、第2の凸部82の左右の側面8
2a、82bは、光軸方向に延びる相互に平行な面であ
ると共に、サブマウント基板上面700に垂直な面であ
る。
【0045】したがって、第1および第2の後側側面8
1a、83aに、それぞれ第1および第2のレーザダイ
オードチップ61、62の出射面612、622を面接
触させることにより、当該レーザダイオードチップの光
軸方向の位置を規定できる。また、第2の凸部82の左
右の側面82a、82bに、それぞれ、第1のレーザダ
イオードチップ61の側面613と、第2のレーザダイ
オードチップ62における側面625に形成されている
垂直面部分625aを面接触させることにより、当該レ
ーザダイオードチップの光軸に直交する方向の位置を規
定できる。換言すると、これらの前方発光点S1、S2
の間隔を規定できる。このように、第1および第2の後
側側面81a、83a、および側面82a、82bがレ
ーザダイオードチップの位置決め面として機能する。
1a、83aに、それぞれ第1および第2のレーザダイ
オードチップ61、62の出射面612、622を面接
触させることにより、当該レーザダイオードチップの光
軸方向の位置を規定できる。また、第2の凸部82の左
右の側面82a、82bに、それぞれ、第1のレーザダ
イオードチップ61の側面613と、第2のレーザダイ
オードチップ62における側面625に形成されている
垂直面部分625aを面接触させることにより、当該レ
ーザダイオードチップの光軸に直交する方向の位置を規
定できる。換言すると、これらの前方発光点S1、S2
の間隔を規定できる。このように、第1および第2の後
側側面81a、83a、および側面82a、82bがレ
ーザダイオードチップの位置決め面として機能する。
【0046】なお、サブマウント基板70の上面700
における第1および第2のレーザダイオードチップ6
1、62の後方には、後方出射面614、624からの
後方出射光を受光するモニター用受光素子131が作り
込まれている。
における第1および第2のレーザダイオードチップ6
1、62の後方には、後方出射面614、624からの
後方出射光を受光するモニター用受光素子131が作り
込まれている。
【0047】(レーザダイオードチップの切り出しおよ
び実装工程)次に、図4は、レーザダイオードチップ6
1、62の切り出しおよび実装工程を示す工程図であ
り、図5は、第2のレーザダイオードチップの切り出し
工程を示す説明図である。これらの図を参照して、第1
および第2のレーザダイオードチップ61、62をウエ
ハから切り出す工程および、切り出した後の各レーザダ
イオードチップをサブマウント基板70に実装する工程
を説明する。
び実装工程)次に、図4は、レーザダイオードチップ6
1、62の切り出しおよび実装工程を示す工程図であ
り、図5は、第2のレーザダイオードチップの切り出し
工程を示す説明図である。これらの図を参照して、第1
および第2のレーザダイオードチップ61、62をウエ
ハから切り出す工程および、切り出した後の各レーザダ
イオードチップをサブマウント基板70に実装する工程
を説明する。
【0048】まず、図4に示すように、複数の第1のレ
ーザダイオードチップ61が格子状に作り込まれた第1
のウエハ61Wと、複数の第2のレーザダイオードチッ
プ61が格子状に作り込まれた第2のウエハ62Wを製
作する。
ーザダイオードチップ61が格子状に作り込まれた第1
のウエハ61Wと、複数の第2のレーザダイオードチッ
プ61が格子状に作り込まれた第2のウエハ62Wを製
作する。
【0049】工程ST1において、第1のウエハ61W
および第2のウエハ62Wを、そこに作り込まれている
各レーザダイオードチップの出射面612、622を結
ぶラインに沿って一次劈開を行う。この一次劈開によ
り、第1のウエハ61Wは、レーザダイオードチップが
横に一列に並んだ複数本の第1のチップバー61Bに分
離される。同様に、第2のウエハ62Wもレーザダイオ
ードチップが横に一列に並んだ複数本の第2のチップバ
ー62Bに分離される。
および第2のウエハ62Wを、そこに作り込まれている
各レーザダイオードチップの出射面612、622を結
ぶラインに沿って一次劈開を行う。この一次劈開によ
り、第1のウエハ61Wは、レーザダイオードチップが
横に一列に並んだ複数本の第1のチップバー61Bに分
離される。同様に、第2のウエハ62Wもレーザダイオ
ードチップが横に一列に並んだ複数本の第2のチップバ
ー62Bに分離される。
【0050】工程ST2では、第1のチップバー61B
および第2のチップバー62Bの劈開面に有機膜を蒸着
してコーティングする。この後は、第1のバー61Bお
よび第2のバー62Bを別工程で素子サイズに切り分け
る。
および第2のチップバー62Bの劈開面に有機膜を蒸着
してコーティングする。この後は、第1のバー61Bお
よび第2のバー62Bを別工程で素子サイズに切り分け
る。
【0051】まず、第1のチップバー61Bを構成して
いるレーザダイオードチップ61は、AlGaAs系
(波長780nm帯)のレーザダイオードチップであ
り、結晶方向が上下面611、616に対して垂直であ
る。したがって、工程ST3において、各レーザダイオ
ードチップの側面に沿って二次劈開すると、上下面61
1、616に対して垂直に劈開され、上下面に垂直な側
面(劈開面)613、615を備えたレーザダイオード
チップ61に切り分けられる。
いるレーザダイオードチップ61は、AlGaAs系
(波長780nm帯)のレーザダイオードチップであ
り、結晶方向が上下面611、616に対して垂直であ
る。したがって、工程ST3において、各レーザダイオ
ードチップの側面に沿って二次劈開すると、上下面61
1、616に対して垂直に劈開され、上下面に垂直な側
面(劈開面)613、615を備えたレーザダイオード
チップ61に切り分けられる。
【0052】一方、第2のチップバー62Bを構成して
いる第2のレーザダイオードチップ62は、AlGaI
nP系(波長650nm帯)のレーザダイオードチップ
であり、結晶方向が上下面621、626に垂直な方向
から傾斜している。したがって、各レーザダイオードチ
ップの側面に沿って二次劈開すると、上下の面に対して
垂直方向から傾斜した方向に劈開され、上下面に対して
傾斜した側面(劈開面)を備えたレーザダイオードに切
り分けられる。
いる第2のレーザダイオードチップ62は、AlGaI
nP系(波長650nm帯)のレーザダイオードチップ
であり、結晶方向が上下面621、626に垂直な方向
から傾斜している。したがって、各レーザダイオードチ
ップの側面に沿って二次劈開すると、上下の面に対して
垂直方向から傾斜した方向に劈開され、上下面に対して
傾斜した側面(劈開面)を備えたレーザダイオードに切
り分けられる。
【0053】前述のように、レーザダイオードチップ6
2の側面にはその上下面に垂直な垂直面部分623a、
625aが形成されており、この部分を利用して、レー
ザダイオードチップ62の光軸に直交する方向の位置決
めが行われるようになっている。本例では、次のように
して、かかる垂直面部分を形成している。
2の側面にはその上下面に垂直な垂直面部分623a、
625aが形成されており、この部分を利用して、レー
ザダイオードチップ62の光軸に直交する方向の位置決
めが行われるようになっている。本例では、次のように
して、かかる垂直面部分を形成している。
【0054】すなわち、チップバー62Bから第2のレ
ーザダイオードチップ62を切り出す工程においては、
まず、工程ST4において、チップバー62Bの下面6
21の側からダイシング刃Dにより所定深さの切り込み
を、各レーザダイオードチップ62の間に入れる。この
ダイシングによって垂直面部分623a、625aが形
成される(図5(a))。
ーザダイオードチップ62を切り出す工程においては、
まず、工程ST4において、チップバー62Bの下面6
21の側からダイシング刃Dにより所定深さの切り込み
を、各レーザダイオードチップ62の間に入れる。この
ダイシングによって垂直面部分623a、625aが形
成される(図5(a))。
【0055】ここで、切り込みの深さFは、位置決め用
突起である第2の凸部82に対して十分な幅で面接触す
る垂直面部分を形成できるような寸法とすればよい。さ
らには、第2のレーザダイオードチップ62の活性層を
電気的に分離可能な深さまで切り込みを入れることが望
ましい。このようにすれば、チップバーの状態のまま
で、電気的に各レーザダイオードチップを分離状態にで
きるので、この状態で各レーザダイオードチップに給電
することにより、個々のレーザダイオードチップを独立
して動作させることができる。よって、特性検査、信頼
性検査、スクリーニングなどの検査工程を、個々のレー
ザダイオードチップに分離する前に行うことができる。
突起である第2の凸部82に対して十分な幅で面接触す
る垂直面部分を形成できるような寸法とすればよい。さ
らには、第2のレーザダイオードチップ62の活性層を
電気的に分離可能な深さまで切り込みを入れることが望
ましい。このようにすれば、チップバーの状態のまま
で、電気的に各レーザダイオードチップを分離状態にで
きるので、この状態で各レーザダイオードチップに給電
することにより、個々のレーザダイオードチップを独立
して動作させることができる。よって、特性検査、信頼
性検査、スクリーニングなどの検査工程を、個々のレー
ザダイオードチップに分離する前に行うことができる。
【0056】次に、工程ST5において、チップバー6
2Bを、その下面に入れた各切り込みの先端から二次劈
開する。この結果、各レーザダイオードチップ62が、
それらの下面621に垂直な方向から傾斜した方向に延
びる劈開面Hで切り分けられる(図5(b)参照)。こ
れにより、図5(c)に示すように、各レーザダイオー
ドチップ62の側面623には、垂直面部分623a
と、これに連続した傾斜面部分(劈開面部分)623b
が形成される。同様に、他方の側面625にも、垂直面
部分625aと、これに連続した傾斜面部分(劈開面部
分)625bが形成される。
2Bを、その下面に入れた各切り込みの先端から二次劈
開する。この結果、各レーザダイオードチップ62が、
それらの下面621に垂直な方向から傾斜した方向に延
びる劈開面Hで切り分けられる(図5(b)参照)。こ
れにより、図5(c)に示すように、各レーザダイオー
ドチップ62の側面623には、垂直面部分623a
と、これに連続した傾斜面部分(劈開面部分)623b
が形成される。同様に、他方の側面625にも、垂直面
部分625aと、これに連続した傾斜面部分(劈開面部
分)625bが形成される。
【0057】最後に、図4の工程ST6において、工程
ST3で素子サイズに切り分けられた第1のレーザダイ
オードチップ61と、工程ST5で素子サイズに切り分
けられた第2のレーザダイオードチップ62とをサブマ
ウント70に実装する。実装時には、図3に示したよう
に、第1のレーザダイオードチップ61の出射面612
および側面613を位置決め用突起である第1の凸部8
1および第2の凸部82に押付け、第2のレーザダイオ
ードチップ62の出射面622および側面625におけ
る垂直面部分625aを位置決め用突起である第3の凸
部83および第2の凸部82に押付けて位置決めする。
これらの出射面612、側面613、出射面622およ
び側面625の垂直面部分625aは、各位置決め面に
面接触しているので、第1および第2のレーザダイオー
ドチップ61、62を安定した状態で確実に位置決めで
きる。
ST3で素子サイズに切り分けられた第1のレーザダイ
オードチップ61と、工程ST5で素子サイズに切り分
けられた第2のレーザダイオードチップ62とをサブマ
ウント70に実装する。実装時には、図3に示したよう
に、第1のレーザダイオードチップ61の出射面612
および側面613を位置決め用突起である第1の凸部8
1および第2の凸部82に押付け、第2のレーザダイオ
ードチップ62の出射面622および側面625におけ
る垂直面部分625aを位置決め用突起である第3の凸
部83および第2の凸部82に押付けて位置決めする。
これらの出射面612、側面613、出射面622およ
び側面625の垂直面部分625aは、各位置決め面に
面接触しているので、第1および第2のレーザダイオー
ドチップ61、62を安定した状態で確実に位置決めで
きる。
【0058】以上説明したように、本例の光ピックアッ
プ装置1の光源装置9では、第2のレーザダイオードチ
ップ62の下面に垂直な面に対して傾斜した側面を規定
している二次劈開面の一部に下面に垂直な垂直面部分6
25aを形成してある。よって、この垂直面部分625
aをサブマウント基板70に形成された位置決め突起の
位置決め面に面接触させることができるので、第2のレ
ーザダイオードチップ62を確実に位置決めできる。
プ装置1の光源装置9では、第2のレーザダイオードチ
ップ62の下面に垂直な面に対して傾斜した側面を規定
している二次劈開面の一部に下面に垂直な垂直面部分6
25aを形成してある。よって、この垂直面部分625
aをサブマウント基板70に形成された位置決め突起の
位置決め面に面接触させることができるので、第2のレ
ーザダイオードチップ62を確実に位置決めできる。
【0059】なお、上下の面に垂直な面に対して傾斜し
た劈開面によって側面が規定されているものであれば、
レーザダイオードチップに限らず、フォトダイオードや
発光ダイオードにも本発明を適用して、位置決め用の垂
直面部分を形成することができる。
た劈開面によって側面が規定されているものであれば、
レーザダイオードチップに限らず、フォトダイオードや
発光ダイオードにも本発明を適用して、位置決め用の垂
直面部分を形成することができる。
【0060】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、側面
が上下の面に対して垂直方向から傾斜した劈開面によっ
て規定されているレーザダイオードチップに、上下の面
に垂直な位置決め用の垂直面部分を形成するようにして
いる。したがって、本発明によるレーザダイオードチッ
プを用いれば、基板上に形成された位置決め用突起の位
置決め面に対して垂直面部分を面接触状態で押し付ける
ことができるので、レーザダイオードチップを安定した
状態で位置決めすることができる。
が上下の面に対して垂直方向から傾斜した劈開面によっ
て規定されているレーザダイオードチップに、上下の面
に垂直な位置決め用の垂直面部分を形成するようにして
いる。したがって、本発明によるレーザダイオードチッ
プを用いれば、基板上に形成された位置決め用突起の位
置決め面に対して垂直面部分を面接触状態で押し付ける
ことができるので、レーザダイオードチップを安定した
状態で位置決めすることができる。
【0061】また、本発明のレーザダイオードチップの
製造方法では、レーザダイオードチップが横並び状態で
一列に連結されたチップバーから各レーザダイオードチ
ップを二次劈開により切り出す工程に先立って、チップ
バーの下面にダイシングにより所定の切り込みを入れる
ようにしている。よって、位置決め用の垂直面部分を各
レーザダイオードチップの側面に簡単に形成することが
できる。
製造方法では、レーザダイオードチップが横並び状態で
一列に連結されたチップバーから各レーザダイオードチ
ップを二次劈開により切り出す工程に先立って、チップ
バーの下面にダイシングにより所定の切り込みを入れる
ようにしている。よって、位置決め用の垂直面部分を各
レーザダイオードチップの側面に簡単に形成することが
できる。
【0062】さらに、この切り込み深さをレーザダイオ
ードチップの活性層を電気的に分離可能な寸法とすれ
ば、チップバーの状態において、個々のレーザダイオー
ドチップの性能検査などを行うことができるので便利で
ある。
ードチップの活性層を電気的に分離可能な寸法とすれ
ば、チップバーの状態において、個々のレーザダイオー
ドチップの性能検査などを行うことができるので便利で
ある。
【図1】(a)および(b)は、本発明を適用した光源
装置が搭載される光ピックアップ装置の一例を示す平面
図および断面図である。
装置が搭載される光ピックアップ装置の一例を示す平面
図および断面図である。
【図2】(a)および(b)は、図1に示す光源装置の
平面図および部品ホルダに取り付けられた光学部品を示
す斜視図である。
平面図および部品ホルダに取り付けられた光学部品を示
す斜視図である。
【図3】図1に示す光源装置における第1および第2の
レーザダイオードチップの位置決め機構を示すための斜
視図である。
レーザダイオードチップの位置決め機構を示すための斜
視図である。
【図4】第1および第2のレーザダイオードチップの切
り出し工程および実装工程を示す工程図である。
り出し工程および実装工程を示す工程図である。
【図5】図4における第2のレーザダイオードチップの
切り出し工程を示す説明図である。
切り出し工程を示す説明図である。
【図6】(a)ないし(e)は、それぞれ従来の光源装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
1 光ピックアップ装置
2 光記録媒体
9 光源装置
10 半導体基板
13 受光素子
17 対物レンズ駆動機構
18 対物レンズ
61 第1のレーザダイオードチップ
62 第2のレーザダイオードチップ
70 サブマウント基板
81 第1の凸部(位置決め用突起)
82 第2の凸部(位置決め用突起)
83 第3の凸部(位置決め用突起)
611、621 下面
612、622 前方出射面
614、624 後方出射面
613、615、623、625 側面
623a、625a 垂直面部分
623b、625b 傾斜面部分(劈開面部分)
616、626、700 上面
81a、82a、83a 後側側面(位置決め面)
82a、82b 側面(位置決め面)
L1 第1のレーザ光
L2 第2のレーザ光
S1 第1の前方発光点
S2 第2の前方発光点
F 切り込み深さ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 石原 久寛
長野県諏訪郡原村10801番地の2 株式会
社三協精機製作所諏訪南工場内
Fターム(参考) 5D119 AA39 CA09 FA05 FA17 FA35
5F073 BA05 CA04 CA13 DA32 DA35
EA06 EA29
Claims (8)
- 【請求項1】 基板と、この基板の表面に搭載されたレ
ーザダイオードチップと、このレーザダイオードチップ
を位置決めするために前記基板の表面に形成された位置
決め用突起とを有する光源装置において、 前記位置決め用突起は、前記基板の表面から垂直に延び
る位置決め面を備えており、 前記レーザダイオードチップの少なくとも一方の側面
は、その上下の面に対して垂直な方向から傾斜した方向
に延びる劈開面部分と、この劈開面部分に連続している
と共に上下の面に対して垂直な垂直面部分とを備えてお
り、 前記垂直面部分を前記位置決め用突起の前記位置決め面
に当接させることにより、前記レーザダイオードチップ
が位置決めされていることを特徴とする光源装置。 - 【請求項2】 請求項1において、 前記垂直面部分は、前記レーザダイオードチップの前記
下面の側に形成されていることを特徴とする光源装置。 - 【請求項3】 請求項2において、 前記レーザダイオードチップの双方の側面が、前記垂直
面部分および前記劈開面部分を備えていることを特徴と
する光源装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のうちのいずれかの項
において、 前記レーザダイオードチップは、650nm波長帯域の
AlGaInP系レーザダイオードチップであることを
特徴とする光源装置。 - 【請求項5】 請求項1ないし4のうちのいずれかの項
に記載のレーザダイオードチップ。 - 【請求項6】 請求項5に記載のレーザダイオードチッ
プの製造方法であって、 複数のレーザダイオードチップが作り込まれたウエハ
を、その一次劈開面に沿って割ることにより、複数の前
記レーザダイオードチップが横に一列に並んだチップバ
ーを切り出す第1の劈開工程と、 前記チップバーの下面から、各レーザダイオードチップ
の間に、当該下面に垂直な所定の深さの切り込みを入れ
る切込み工程と、 各切り込みの底から前記チップバーを二次劈開面に沿っ
て割ることにより各レーザダイオードチップを切り出す
第2の劈開工程とを備えていることを特徴とするレーザ
ダイオードチップの製造方法。 - 【請求項7】 請求項6において、 前記切込み工程における各切り込みを、各レーザダイオ
ードチップの活性層を電気的に分離可能な深さまで行う
ことを特徴とするレーザダイオードチップの製造方法。 - 【請求項8】 請求項7において、 前記切り込み工程後に、各レーザダイオードチップを切
り出すのに先立って、各レーザダイオードチップの特性
検査、信頼性検査、スクリーニングのうち少なくとも一
つを行う検査工程を有していることを特徴とするレーザ
ダイオードチップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001228799A JP2003046182A (ja) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | 光源装置、レーザダイオードチップ及びレーザダイオードチップの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001228799A JP2003046182A (ja) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | 光源装置、レーザダイオードチップ及びレーザダイオードチップの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003046182A true JP2003046182A (ja) | 2003-02-14 |
Family
ID=19061244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001228799A Pending JP2003046182A (ja) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | 光源装置、レーザダイオードチップ及びレーザダイオードチップの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003046182A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111599745A (zh) * | 2020-06-01 | 2020-08-28 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 太赫兹二极管电路装配板及其制备方法 |
JP2020188256A (ja) * | 2019-05-07 | 2020-11-19 | イベオ オートモーティブ システムズ ゲーエムベーハーIbeo Automotive Systems GmbH | 半導体パッケージ及びlidar投光ユニット |
-
2001
- 2001-07-30 JP JP2001228799A patent/JP2003046182A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020188256A (ja) * | 2019-05-07 | 2020-11-19 | イベオ オートモーティブ システムズ ゲーエムベーハーIbeo Automotive Systems GmbH | 半導体パッケージ及びlidar投光ユニット |
CN111599745A (zh) * | 2020-06-01 | 2020-08-28 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 太赫兹二极管电路装配板及其制备方法 |
CN111599745B (zh) * | 2020-06-01 | 2022-12-06 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 太赫兹二极管电路装配板及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006278576A (ja) | 半導体レーザ装置、半導体レーザ装置の製造方法および光ピックアップ装置 | |
KR20020022586A (ko) | 반도체 레이저장치 및 그 제조방법 | |
US20020089913A1 (en) | Light source device for an optical head apparatus and method relating thereto | |
JP2000244060A (ja) | 半導体発光装置およびその製造方法 | |
JPH10149559A (ja) | レーザビーム出射装置 | |
JP2002094166A (ja) | 光源装置 | |
US7414949B2 (en) | Semiconductor laser device and optical pickup device | |
JP2003046182A (ja) | 光源装置、レーザダイオードチップ及びレーザダイオードチップの製造方法 | |
JP2010192882A (ja) | 半導体レーザ素子の製造方法、半導体レーザ素子および光装置 | |
JP2002042365A (ja) | 光ヘッド装置の光源装置 | |
JP3970819B2 (ja) | 光ヘッド装置の製造方法、および光ヘッド装置 | |
JP2007200503A (ja) | 光ヘッド装置およびその製造方法 | |
JP4376578B2 (ja) | 光学的記録再生装置用光学ヘッド | |
JP2002217479A (ja) | レーザ光源装置、レーザ光源装置の製造方法、および光ヘッド装置 | |
CN101789562A (zh) | 半导体激光元件的制造方法、半导体激光元件和光学装置 | |
JP2002312963A (ja) | 光ヘッド装置 | |
US20050162994A1 (en) | Two-wavelength optical element | |
JP3157596B2 (ja) | 光ヘッド | |
US20110051773A1 (en) | Semiconductor laser device | |
JP2006147063A (ja) | 光ヘッド装置 | |
JPH08339570A (ja) | 光学的記録再生装置用光学ヘッド | |
JP3518904B2 (ja) | 光ピックアップ | |
JP2001332797A (ja) | 半導体レーザチップ、半導体レーザ装置及び光ピックアップ | |
JPH09214037A (ja) | 半導体レーザ装置及びその製造方法 | |
JP2005092979A (ja) | 光ヘッド装置 |