JP2003031487A - 現像装置および現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型化、省スペース化および生産効率の向上
を可能とする現像装置および現像方法を提供することで
ある。 【解決手段】 現像液ノズルアーム９、管状部材２０ａ
および管状部材２７ａがアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられ、現像液ノズルアーム９にはスリット状吐
出口を有する現像液吐出ノズル１１が取り付けられてい
る。この現像液吐出ノズル１１には現像停止用のリンス
液吐出ノズル１６が取り付けられており、走査方向Ａの
後方側にガス噴出ノズル１２が取り付けられている。制
御部はアーム駆動部１０による現像液吐出ノズル１１、
リンス液吐出ノズル１６およびガス噴出ノズル１２の走
査、現像液吐出ノズル１１からの現像液の吐出、リンス
液吐出ノズル１６からのリンス液の吐出およびガス噴出
ノズル１２からのガスの噴出を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置および現像
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】例えば、特開平１０―３４０８３６号公報
には、低コストで均一な現像処理を行うことができる現
像装置および現像方法について開示されている。

【０００４】図１７は特開平１０−３０８３６号公報の
現像装置を用いた現像処理工程の一例を示す模式図であ
る。

【０００５】図１７（ａ）に示すように、基板１００が
基板保持部１に保持された状態で現像液吐出ノズル１１
がリンス液吐出ノズル１６とともに静止した基板１００
外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１０
０外の他方側の位置まで移動する。ここで、現像液吐出
ノズル１１を基板に対して走査方向Ａと反対方向に傾け
ているが、これは基板１００の表面において走査方向Ａ
への現像液の流動を抑制するとともに、走査方向Ａとは
逆方向への現像液の流動を誘起することにより、現像の
均一性を向上させ、かつ現像欠陥の発生を防止するため
である。

【０００６】次に、図１７（ｂ）に示すように、基板保
持部１に保持された基板１００を１８０°回転させ、図
１７（ｃ）に示すように、現像液吐出ノズル１１が、リ
ンス液吐出ノズル１６とともに移動しつつ、リンス液吐
出ノズル１６により基板１００上にリンス液を供給する
ことにより現像を停止させる。そして、図１７（ｄ）に
示すように純水吐出ノズル１２により、基板１００上の
レジスト等を洗浄する。その後、図１７（ｅ）に示すよ
うに、基板１００を鉛直軸周りに水平な姿勢で回転さ
せ、乾燥を行う。

【０００７】このように、現像液吐出ノズル１１により
基板１００上に現像液を供給した後、リンス液吐出ノズ
ル１６により基板１００上にリンス液を供給することに
より現像を停止させることができるので、基板１００上
での現像時間を均一にすることが可能となる。また、現
像液吐出ノズル１１がリンス液吐出ノズル１６とともに
基板１００上を移動するので、移動手段の構成が簡単か
つ小型となり、省スペース化が図られる。これらの結
果、低コストで均一な現像処理を行うことが可能とな
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
現像装置では、基板の乾燥を行うために基板を回転させ
るモータ（回転駆動装置）が必要となり、現像装置の小
型化または省スペース化を妨げる要因となっている。ま
た、この乾燥を行うため基板を回転させる工程に要する
時間が１０秒程費やされており、現像処理のスループッ
トの低下を招く要因ともなっている。

【０００９】本発明の目的は、小型化、省スペース化お
よび生産効率の向上を可能とする現像装置および現像方
法を提供することである。

【００１０】

【発明を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る現像装置は、基板を保持する基板保持手段
と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、現像を停止
させるための処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、基
板上の現像液および処理液を除去しかつ基板を乾燥させ
るための気体を噴出する気体噴出ノズルと、基板保持手
段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置から基
板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐出ノ
ズル、処理液吐出ノズルおよび気体噴出ノズルを移動さ
せる移動手段とを備えたものである。

【００１１】第１の発明に係る現像装置においては、現
像液吐出ノズル、処理液吐出ノズルおよび気体噴出ノズ
ルが静止した基板外の一方側の位置から基板上を通過し
て基板外の他方側の位置まで移動する。

【００１２】この場合、現像液吐出ノズルにより基板上
に現像液を供給した後、処理液吐出ノズルにより基板上
に処理液を供給することにより現像を停止させ、気体噴
出ノズルにより気体を基板上に噴出させることにより基
板上の現像液および処理液を除去しかつ基板を乾燥させ
ることができる。

【００１３】それにより、基板の乾燥のために基板を回
転させる必要がなくなるので、基板を回転させる回転駆
動装置（モータ）が不要となる。また、基板を回転させ
る工程に要する時間がなくなるので、現像処理のスルー
プットが向上する。これらの結果、小型化、省スペース
化および生産効率の向上が可能となる。

【００１４】第２の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、移動手段は、基板保持
手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置から
基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐出
ノズルおよび処理液吐出ノズルを一体的に移動させる移
動機構を含むものである。

【００１５】この場合、現像液吐出ノズルおよび処理液
吐出ノズルが同じ移動機構により駆動されるので、移動
手段の小型化および低コスト化を図ることができる。そ
れにより、現像装置のさらなる小型化、省スペース化お
よび低コスト化が可能となる。

【００１６】第３の発明に係る現像装置は、第２の発明
に係る現像装置の構成において、移動機構は、基板保持
手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置から
基板上を通過して基板外の他方側の位置まで気体噴出ノ
ズルを現像液吐出ノズルおよび処理液吐出ノズルととも
に一体的に移動させるものである。

【００１７】この場合、現像液吐出ノズル、処理液吐出
ノズルおよび気体噴出ノズルが同じ移動機構により駆動
されるので、移動手段のさらなる小型化および低コスト
化を図ることができる。したがって、現像装置のさらな
る小型化、省スペース化および低コスト化が可能とな
る。

【００１８】第４の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、移動手段は、基板保持
手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置から
基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐出
ノズルを移動させる第１の移動機構と、基板保持手段に
静止状態で保持された基板外の一方側の位置から基板上
を通過して基板外の他方側の位置まで処理液吐出ノズル
を現像液吐出ノズルとは独立に移動させる第２の移動機
構を含むものである。

【００１９】この場合、第１の移動機構および第２の移
動機構により現像液吐出ノズルおよび処理液吐出ノズル
がそれぞれ独立に駆動されるので、現像液吐出ノズルの
移動速度および処理液吐出ノズルの移動速度をそれぞれ
容易に制御することができる。したがって、現像液吐出
ノズルの移動速度および処理液吐出ノズルの移動速度を
それぞれ最適に制御することにより、均一な現像処理が
可能となる。

【００２０】第５の発明に係る現像装置は、第４の発明
に係る現像装置の構成において、移動手段は、基板保持
手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置から
基板上を通過して基板外の他方側の位置まで気体噴出ノ
ズルを現像液吐出ノズルおよび処理液吐出ノズルとは独
立に移動させる第３の駆動機構をさらに含むものであ
る。

【００２１】この場合、第１の移動機構、第２の移動機
構および第３の移動機構により現像液吐出ノズル、処理
液吐出ノズルおよび気体噴出ノズルがそれぞれ独立に駆
動されるので、現像液吐出ノズルの移動速度、処理液吐
出ノズルおよび気体噴出ノズルの移動速度をそれぞれ容
易に制御することができる。したがって、現像液吐出ノ
ズルの移動速度、処理液吐出ノズルおよび気体噴出ノズ
ルの移動速度をそれぞれ最適に制御することにより、均
一な現像処理が可能となる。

【００２２】第６の発明に係る現像装置は、第１〜第５
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出時の現像液吐出ノズルの移動速度と処理液吐出時
の処理液吐出ノズルの移動速度とがほぼ同一であるもの
である。

【００２３】この場合、基板の全域において現像液吐出
ノズルによる現像液の供給から処理液吐出ノズルによる
処理液の供給までの時間が同一となる。それにより、基
板の全域において現像時間がほぼ同一となる。したがっ
て、基板の全域にわたって均一な現像処理が可能とな
る。

【００２４】第７の発明に係る現像装置は、第１〜第６
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、処理
液吐出ノズルから処理液を吐出させかつ気体噴出ノズル
から気体を噴出させながら移動手段により処理液吐出ノ
ズルおよび気体噴出ノズルを基板保持手段に静止状態で
保持された基板外の一方側の位置から基板上を通過して
基板外の他方側の位置まで移動させる制御手段をさらに
備えるものである。

【００２５】この場合、基板上の現像液による現像が処
理液により停止されつつ気体により現像液および処理液
が除去されかつ基板が乾燥される。それにより、現像の
停止、現像液および処理液の除去および基板の乾燥を短
時間で行うことができる。したがって、現像処理のスル
ープットがさらに向上する。

【００２６】第８の発明に係る現像装置は、第１〜第７
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直径以上
の領域にわたって形成された現像液吐出口を有し、処理
液吐出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直径以上
の領域にわたって形成された処理液吐出口を有し、気体
噴出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直径以上の
領域にわたって形成された気体噴出口を有するものであ
る。

【００２７】この場合、１回の走査で現像液吐出ノズル
から基板の全域に現像液を供給し、１回の走査で処理液
吐出ノズルから基板の全域に処理液を供給し、１回の走
査で気体噴出ノズルから基板の全域に気体を噴出するこ
とができる。

【００２８】第９の発明に係る現像装置は、第１〜第８
のいずれかの発明に係る現像装置の構成において、現像
液吐出ノズルは、移動手段による移動方向とほぼ垂直な
方向に直線状に現像液を吐出し、処理液吐出ノズルは、
移動手段による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に処
理液を吐出するものである。

【００２９】この場合、移動方向とほぼ垂直な方向に直
線状に現像液および処理液を吐出することにより、基板
上に均一に現像液および処理液を供給することができ
る。

【００３０】第１０の発明に係る現像方法は、基板保持
手段に静止状態で保持された基板上に現像液吐出ノズル
から現像液を吐出供給する現像方法であって、現像液吐
出ノズルから基板上に現像液を吐出させつつ現像液吐出
ノズルを基板外の一方側の位置から基板上を通過して基
板外の他方側の位置まで移動させる工程と、処理液吐出
ノズルから基板上に処理液を吐出させつつ処理液吐出ノ
ズルを基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板
外の他方側の位置まで移動させる工程と、気体噴出ノズ
ルから気体を噴出させるとともに気体噴出ノズルを基板
外の一方側または他方側の位置から基板上を通過して基
板外の他方側または一方側の位置まで移動させる工程と
を含むものである。

【００３１】第１０の発明に係る現像方法においては、
現像液吐出ノズル、処理液吐出ノズルおよび気体噴出ノ
ズルが静止した基板外の一方側の位置から基板上を通過
して基板外の他方側の位置まで移動する。

【００３２】この場合、現像液吐出ノズルにより現像液
を基板上に現像液を供給した後、処理液吐出ノズルによ
り基板上に処理液を供給することにより現像を停止さ
せ、気体噴出ノズルにより気体を基板上に噴出させるこ
とにより基板上の現像液および処理液を除去しかつ基板
を乾燥させることができる。

【００３３】それにより、基板の乾燥のために基板を回
転させる必要がなくなるので、基板を回転させる回転駆
動装置（モータ）が不要となる。また、基板を回転させ
る工程に要する時間がなくなるので、現像処理のスルー
プットが向上する。これらの結果、小型化、省スペース
化および生産効率の向上が可能となる。

【００３４】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施の形態
における現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主
要部のＸ−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部
のＹ−Ｙ線断面図である。

【００３５】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、保持部材３の先端部に固定
されている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取
り囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けら
れている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外
側カップ５が設けられている。

【００３６】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、現像液ノズルアーム９、管状部材２０ａおよび管
状部材２７ａがアーム駆動部１０によりガイドレール８
に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設け
られている。

【００３７】現像液ノズルアーム９には、下端部にスリ
ット状吐出口１５（図３参照）を有する現像液吐出ノズ
ル１１がガイドレール８と垂直に取り付けられている。
この現像液吐出ノズル１１には、走査方向Ａの前方側に
現像停止用のリンス液吐出ノズル１６が取り付けられて
おり、走査方向Ａの後方側に気体噴出ノズル１２が取り
付けられている。これにより、現像液吐出ノズル１１
は、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２
とともに待機ポット６の位置から基板１００上を通過し
て待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に
平行移動可能となっている。

【００３８】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系２により現像液が供給される。ま
た、リンス液吐出ノズル１６には、リンス液供給系１７
により現像停止用のリンス液が供給され、気体噴出ノズ
ル１２には、気体供給系１４により基板表面乾燥用の気
体が供給される。本実施の形態では、現像停止用のリン
ス液として純水が用いられ、乾燥用の気体として窒素
（Ｎ₂ ）が用いられる。

【００３９】制御部１３は、アーム駆動部１０による現
像液吐出ノズル１１、リンス液吐出ノズル１６および気
体噴出ノズル１２の走査、現像液吐出ノズル１１からの
現像液の吐出、リンス液吐出ノズル１６からのリンス液
の吐出および気体噴出ノズル１２からの気体の噴出を制
御する。

【００４０】本実施の形態では、基板保持部１が基板保
持手段に相当し、現像液吐出ノズル１１が現像液吐出ノ
ズルに相当し、リンス液吐出ノズル１６が処理液吐出ノ
ズルに相当し、気体噴出ノズル１２が気体噴出ノズルに
相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当する。

【００４１】図４は現像液吐出ノズル１１、リンス液吐
出ノズル１６および気体噴出ノズル１２の概略断面図で
ある。また、図５は現像液吐出ノズル１１のスリット状
吐出口１５を示す図、図６はリンス液吐出ノズル１６の
正面図、図７は気体噴出ノズル１２の正面図である。

【００４２】図４に示すように、現像液吐出ノズル１１
は現像液供給口１９およびスリット状吐出口１５を有す
る。また、現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａ側の前方
側の端面にリンス吐出ノズル１６が配設され、現像液吐
出ノズル１１の走査方向Ａの後方側の端面側に気体噴出
ノズル１２が配設される。

【００４３】図５に示すように、現像液吐出ノズル１１
のスリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜
０．５ｍｍであり、本実施の形態では０．１ｍｍであ
る。また、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは処理対象
となる基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大き
く設定されている。このスリット状吐出口１５は現像液
吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置される。

【００４４】図６に示すように、リンス液吐出ノズル１
６は管状部材２０からなり、その周壁にスリット状吐出
口１８が設けられている。管状部材２０は、図１の管状
部材２０ａに一体的に連結されている。リンス液吐出ノ
ズル１６は、スリット状吐出口１８が下方向を向くよう
に配設される。リンス液は、矢印で示すように、管状部
材２０の両端部から供給される。スリット状吐出口１８
の吐出幅Ｗ１は処理対象となる基板１００の直径と同じ
かまたはそれよりも大きく設定されている。このスリッ
ト状吐出口１８は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと
垂直に配置される。

【００４５】次いで、図７に示すように、気体噴出ノズ
ル１２は管状部材２７からなり、その周壁にスリット状
吐出口２８が設けられている。この管状部材２７は、図
１の管状部材２７ａに一体的に連結されている。気体噴
出ノズル１２は、スリット状吐出口２８が下方を向くよ
うに配設される。気体は、矢印で示すように、管状部材
２７の両端部から供給される。スリット状吐出口２８の
吐出幅Ｗ２は処理対象となる基板１００の直径またはリ
ンス液吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８の吐出幅
Ｗ１と同じかまたはそれよりも大きく設定されている。
このスリット状吐出口２８は現像液吐出ノズル１１の走
査方向Ａと垂直に配置される。

【００４６】また、現像液吐出ノズル１１、リンス液吐
出ノズル１６および気体噴出ノズル１２は、現像液の供
給、リンス液の供給、または気体の供給時にスリット状
吐出口１５が基板１００の上面に対して０．２〜５．０
ｍｍ、より好ましくは０．２〜１．０ｍｍの間隔を保つ
ように走査される。

【００４７】本実施の形態では、現像液吐出ノズル１１
およびスリット状吐出口１５と基板１００の上面との間
隔が０．３±０．１ｍｍに設定される。

【００４８】次に、図８および図９を参照しながら図１
の現像装置の動作の例について説明する。

【００４９】図８は図１の現像装置の動作を示す模式的
工程図である。図９（ａ）は図８の基板上における現像
液吐出ノズル１１の働きを示す模式図であり、図９
（ｂ）は図８の基板上におけるリンス液吐出ノズル１６
および気体噴出ノズル１２の働きを示す模式図である。

【００５０】まず、現像処理時には、基板１００は基板
保持部１により静止状態で保持されている。図８（ａ）
に示すように、待機時には、現像液吐出ノズル１１、リ
ンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２は、待
機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像液の供給
時には、現像液吐出ノズル１１、リンス液吐出ノズル１
６および気体噴出ノズル１２が上昇した後、走査方向Ａ
に移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。

【００５１】その後、現像液吐出ノズル１１、リンス液
吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２は、走査開始
位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この時
点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出は
行わない。本実施の形態では、走査速度は１０〜５００
ｍｍ／秒とする。

【００５２】現像液吐出ノズル１１、リンス液吐出ノズ
ル１６および気体噴出ノズル１２の走査開始後、現像液
吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００上
に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で現
像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。本
実施の形態では、現像液の吐出流量は１．５Ｌ／分とす
る。

【００５３】現像液吐出ノズル１１、リンス液吐出ノズ
ル１６および気体噴出ノズル１２は、現像液を吐出しな
がら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａに
直線状に移動する。これにより、図９（ａ）に示すよう
に、基板１００の全面に現像液が連続的に供給される。
供給された現像液は、表面張力により基板１００上に保
持される。

【００５４】図８（ａ）に示すように、現像液吐出ノズ
ル１１、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル
１２が基板１００上を通過した後、基板１００上から外
れた吐出停止位置Ｐ３で現像液吐出ノズル１１による現
像液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノズル１
１、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２
が、外側カップ５内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点
で現像液吐出ノズル１１、リンス液吐出ノズル１６およ
び気体噴出ノズル１２の走査を停止させる。

【００５５】その後、現像液吐出ノズル１１、リンス液
吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２は、走査停止
位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ５
まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【００５６】待機ポット７内では、現像液吐出ノズル１
１の先端に付着した現像液を水洗洗浄ノズル（図示せ
ず）で水洗洗浄し、その後残留する水滴を吸引ノズル
（図示せず）で吸引して除去する処理が行われる。な
お、これらの処理で発生する水滴の飛沫が処理中の基板
に飛び散らないように、待機ポット６，７は側壁で囲ま
れている（図３参照）。

【００５７】次に、図８（ｂ）に示すように、基板１０
０上に現像液が保持された状態を所定時間（例えば約６
０秒）維持し、基板１００上のフォトレジスト膜等の感
光性膜の現像を進行させる。

【００５８】そして、所定時間内に現像液吐出ノズル１
１、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２
は、待機ポット７内から上昇した後、走査方向Ａと逆方
向に移動し、外側カップ５内の次の走査開始位置Ｒ１で
下降する。この場合、現像液吐出ノズル１１、リンス液
吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２が基板１００
上に保持された現像液に接触しないように、現像液吐出
ノズル１１の下端を基板１００の表面から３ｍｍ程度以
上離した状態で移動させることが望ましい。

【００５９】そして、図８（ｃ）に示すように、現像液
吐出ノズル１１は、リンス液吐出ノズル１６および気体
噴出ノズル１２とともに走査開始位置Ｒ１から走査方向
Ａに所定の走査速度で走査を開始する。この時点では、
まだリンス液吐出ノズル１６からのリンス液の吐出およ
び気体噴出ノズル１２からの気体の噴出は行わない。そ
して、リンス液吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８
および気体噴出ノズル１２の気体噴出口２８が基板１０
０上に到達する前に吐出開始位置Ｒ２にて、所定の流量
でリンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出および
所定の噴出量で気体噴出ノズル１２による気体の噴出を
開始する。

【００６０】ここで、リンス液の吐出流量は、現像液の
吐出流量と同様またはやや大流量とし、気体の噴出流量
は、基板表面の現像液およびリンス液を除去するのに可
能な流量とする。本実施の形態では、リンス液の吐出流
量は３．０Ｌ／分とし、気体の噴出流量は、現像液およ
びリンス液の吐出流量と同量またはそれよりも多くの噴
出量とする。

【００６１】現像液吐出ノズル１１、リンス液吐出ノズ
ル１６および気体噴出ノズル１２は、リンス液吐出ノズ
ル１６からリンス液を吐出しつつさらに気体噴出ノズル
１２から気体を噴出しながら吐出開始位置Ｒ２から基板
１００上を走査方向Ａに直線状に移動する。これによ
り、図９（ｂ）に示すように、基板１００の全面にリン
ス液が連続的に供給されることにより現像処理が停止さ
れ、その後を追随するように基板１００の全面に気体が
供給されることにより乾燥処理が行われる。

【００６２】ここで、リンス液が基板１００の全面に供
給された時点で現像液の規定度はリンス液で薄められて
速やかに低下する。そのため、基板１００上の現像液に
リンス液が供給されると濃度の変化に敏感なフォトレジ
スト膜等の感光性膜の現像反応は直ちに停止し、さら
に、現像液に溶解しているレジスト成分等が洗浄され
る。

【００６３】この場合、現像液吐出ノズル１１、リンス
液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２と基板１０
０の表面との距離は、特に限定されないが、現像液吐出
ノズル１１、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノ
ズル１２が基板１００上に保持された現像液に接触しな
いように現像液吐出ノズル１１の下端を基板１００から
３ｍｍ以上離すことが望ましい。これにより、基板１０
０上の現像液の汚染が回避される。

【００６４】図８（ｃ）に示すように、現像液吐出ノズ
ル１１、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル
１２が基板１００上を通過した後、リンス液吐出ノズル
１６および気体噴出ノズル１２が基板１００上から外れ
た吐出停止位置Ｒ３でリンス液吐出ノズル１６によるリ
ンス液の吐出および気体噴出ノズル１２による気体の噴
出を停止させる。そして、現像液吐出ノズル１１が外側
カップ５内の走査停止位置Ｒ４に到達した時点で現像液
吐出ノズル１１の走査を停止させる。

【００６５】その後、現像液吐出ノズル１１、リンス液
吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２は、走査停止
位置Ｒ４で上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動し、
待機ポット６の位置で待機ポット６内に下降する。

【００６６】さらに、基板１００上の全面で現像処理時
間の均一化を図るには、図８（ｃ）のリンス液の供給時
において、図８（ａ）の現像液の供給時と同じ速度でリ
ンス液吐出ノズル１６を走査させることが好ましい。し
かしながら、図８（ｃ）におけるリンス液吐出ノズル１
６の走査速度が図８（ａ）における現像液吐出ノズル１
１の走査速度と厳密に同じである必要はなく、現像結果
に応じてリンス液吐出ノズル１６の走査速度を調整して
もよい。

【００６７】なお、図８（ｃ）のリンス液の供給処理に
おける走査開始位置Ｒ１、吐出開始位置Ｒ２、吐出停止
位置Ｒ３および走査停止位置Ｒ４は、それぞれ図８
（ａ）の現像液の供給処理における走査開始位置Ｐ１、
吐出開始位置Ｐ２、吐出停止位置Ｐ３および走査停止位
置Ｐ４と一致しなくてもよく、現像液吐出ノズル１１か
らの現像液およびリンス液吐出ノズル１６からのリンス
液の着液位置を考慮してこれらの位置を必要に応じて調
整してもよい。

【００６８】また、走査開始位置Ｐ１と吐出開始位置Ｐ
２の各位置、吐出停止位置Ｐ３と走査停止位置Ｐ４の各
位置、走査開始位置Ｒ１と吐出開始位置Ｒ２の各位置、
および吐出停止位置Ｒ３と走査停止位置Ｒ４の各位置
は、上記の例に限らず、それぞれ同一の位置としてもよ
い。すなわち、現像液吐出ノズル１１が走査開始位置Ｐ
１から走査を開始すると同時に、または走査開始位置Ｐ
１から走査を開始するよりも前に走査開始位置Ｐ１にお
いて現像液吐出ノズル１１から現像液の吐出を行う構成
としてもよい。同じく、リンス液吐出ノズル１６および
気体噴出ノズル１２が走査開始位置Ｒ１から走査を開始
すると同時に、または走査開始位置Ｒ１から走査を開始
するよりも前に走査開始位置Ｒ１においてリンス液吐出
ノズル１６からリンス液の吐出および気体噴出ノズル１
２から気体の噴出を行う構成としてもよい。また、上記
の実施の形態においてはリンス液吐出ノズル１６および
気体噴出ノズル１２からのリンス液の吐出開始、気体の
噴出開始および吐出停止タイミングおよび噴出停止タイ
ミングを同時とする場合について説明したが、本発明と
してはこれに限定されるものでなく、それぞれのタイミ
ングでずらしてもよい。

【００６９】なお、本実施の形態では、気体噴出ノズル
１２の気体噴出口２８から噴出される気体を窒素（Ｎ
₂ ）として説明したが、これに限らず、基板表面の乾燥
を行うことができる気体であればよく、例えば、圧縮空
気などでもよい。

【００７０】また、本実施の形態では、現像液吐出ノズ
ル１１の走査方向Ａの前方側にリンス液吐出ノズル１６
を配設し、現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａの後方側
に気体噴出ノズル１２を配設しているが、これに限定さ
れず、リンス液吐出ノズル１６が気体噴出ノズル１２に
対して相対的に走査方向Ａの前方側に配設されればよ
く、現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａの前方側に気体
噴出ノズル１２を配設し、気体噴出ノズル１２のさらに
前方側にリンス液吐出ノズル１６を配設してもよい。

【００７１】また、現像液の吐出方向を基板１００の表
面に対して鉛直方向として説明したが、これに限定され
ず、現像液の吐出方向を走査方向Ａと反対方向に傾けて
もよい。これにより、基板１００の表面での走査方向Ａ
への現像液の流動が抑制されるとともに、走査方向Ａと
は逆方向への現像液の流動が誘起され、現像の均一性が
向上し、かつ現像欠陥の発生が防止される。

【００７２】さらに、リンス液の吐出方向を基板１００
の表面に対して鉛直方向として説明したが、これに限定
されず、リンス液の吐出方向を走査方向Ａと反対方向に
傾けてもよい。これにより、基板１００の表面での走査
方向Ａへのリンス液の流動が抑制されるとともに、走査
方向Ａとは逆方向へのリンス液の流動が誘起され、現像
停止処理の均一性が向上し、かつリンス効果が向上す
る。

【００７３】これらのことより本実施の形態の現像装置
では、基板１００の乾燥を行うために基板１００を回転
させるモータ（回転駆動装置）が不要となり、現像装置
のさらなる小型化または省スペース化を実現することが
できる。また、基板１００のリンス工程と乾燥工程とを
同時に行い、乾燥を行うため基板１００を回転させる時
間を削減することができるため、生産効率の向上を実現
することができる。

【００７４】図１０（ａ）はリンス液吐出ノズルの他の
例を示す正面図、図１０（ｂ）は気体噴出ノズルの他の
例を示す正面図である。

【００７５】図１０（ａ）に示すリンス液吐出ノズル１
６は、管状部材２１からなり、その側壁に一列に配列さ
れた細孔状の複数の吐出口２２が設けられている。複数
の吐出口２２は、走査方向Ａと垂直な方向に配置され
る。リンス液吐出ノズル１６は、複数の吐出口２２が下
方を向くように配設される。

【００７６】また、図１０（ｂ）に示す気体噴出ノズル
１２は、管状部材２４からなり、その側壁に一列に配列
された細孔状の複数の噴出口２５が設けられている。複
数の噴出口２５は、走査方向Ａと垂直な方向に配置され
る。気体噴出ノズル１２は、複数の噴出口２５が下方を
向くように配設される。

【００７７】図１１（ａ）はリンス液吐出ノズル１６の
さらに他の例を示す図、図１１（ｂ）は気体噴出ノズル
１２のさらに他の例を示す図である。

【００７８】図１１（ａ）に示す例では、リンス液吐出
ノズル１６はリンス液を扇形に吐出する吐出口２３を有
する。図１１（ｂ）に示す例では、気体噴出ノズル１２
は気体を扇形に噴出する噴出口２６を有する。

【００７９】このように、リンス液吐出ノズル１６およ
び気体噴出ノズル１２では、現像液吐出ノズル１１ほど
吐出の均一性が要求されず、温度調整も不要であるの
で、基板１００の直径以上の幅に直線状にリンス液を吐
出および気体を噴出できる構造であればよい。

【００８０】図１２はリンス液吐出ノズルに気体噴出ノ
ズルが一体化された共用ノズルの一例を示す概略断面図
である。

【００８１】図１２の共用ノズル３０においては、ノズ
ル本体３１に気体供給口３２および気体用スリット状噴
出口３３ならびにリンス液供給口３４およびリンス液用
スリット状吐出口３５が設けられている。気体供給口３
２は配管３８を介して図２の気体供給系１４に接続され
る。リンス液供給口３４は配管３９を介して図２のリン
ス液供給系１７に接続される。また、現像液吐出ノズル
１１を、共用ノズル３０の走査方向Ａの前方側に設けて
もよく、または走査方向Ａの後方側に設けてもよい。

【００８２】この共用ノズル３０によれば、リンス液吐
出ノズルと気体噴出ノズルとが一体化されているので、
省スペース化が図ることが可能となる。

【００８３】次に、図１３は本発明の第２の実施の形態
における現像装置の平面図である。本発明の第１の実施
の形態の図１の現像装置と異なるのは以下の点である。

【００８４】図１３に示すように、外側カップ５の両側
にはそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ
５の一方の側部側にはガイドレール８が配設されてい
る。また、現像液ノズルアーム９および管状部材２０ａ
がアーム駆動部１０によりガイドレール８に沿って走査
方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられており、
管状部材２７ａが駆動部４０によりガイドレール８に沿
って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられ
ている。

【００８５】これにより、現像液吐出ノズル１１および
リンス液吐出ノズル１６はアーム駆動部１０により待機
ポット６の位置から基板１００上を通過して待機ポット
７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移動可能
となっており、気体噴出ノズル１２は駆動部４０により
待機ポット６の位置から基板１００上を通過して待機ポ
ット７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移動
可能となっている。

【００８６】本実施の形態では、アーム駆動部１０が移
動機構に相当する。次に、図１４を参照しながら図１３
の現像装置の動作の例について説明する。図１４は図１
３の現像装置の動作を示す模式的工程図である。

【００８７】まず、現像処理時には、基板１００は基板
保持部１により静止状態で保持されている。図１４
（ａ）に示すように、待機時には、現像液吐出ノズル１
１およびリンス液吐出ノズル１６は、待機ポット６内の
位置Ｐ０に待機している。現像液の供給時には、現像液
吐出ノズル１１およびリンス液吐出ノズル１６が上昇し
た後、走査方向Ａに移動し、外側カップ５内の走査開始
位置Ｐ１で下降する。

【００８８】その後、現像液吐出ノズル１１およびリン
ス液吐出ノズル１６は、走査開始位置Ｐ１から所定の走
査速度で走査を開始する。現像液吐出ノズル１１および
リンス液吐出ノズル１６の走査開始後、現像液吐出ノズ
ル１１のスリット状吐出口１５が基板１００上に到達す
る前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で現像液吐出
ノズル１１による現像液の吐出を開始する。

【００８９】現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出
ノズル１６は、現像液吐出ノズル１１から現像液を吐出
しながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向
Ａに直線状に移動する。これにより、基板１００の全面
に現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、
表面張力により基板１００上に保持される。

【００９０】現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出
ノズル１６が基板１００上を通過した後、基板１００上
から外れた吐出停止位置Ｐ３で現像液吐出ノズル１１に
よる現像液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノ
ズル１１およびリンス液吐出ノズル１６が外側カップ５
内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズ
ル１１の走査を停止させる。

【００９１】その後、現像液吐出ノズル１１およびリン
ス液吐出ノズル１６は、走査停止位置Ｐ４で上昇した
後、他方の待機ポット７の位置Ｐ５まで移動し、待機ポ
ット７内に下降する。

【００９２】待機ポット７内では、現像液吐出ノズル１
１の先端に付着した現像液を水洗洗浄ノズル（図示せ
ず）で水洗洗浄し、その後残留する水滴を吸引ノズル
（図示せず）で吸引して除去する処理が行われる。

【００９３】次に、図１４（ｂ）に示すように、基板１
００上に現像液が保持された状態を所定時間（例えば約
６０秒）維持し、基板１００上のフォトレジスト膜等の
感光性膜の現像を進行させる。

【００９４】そして、所定時間内に現像液吐出ノズル１
１およびリンス液吐出ノズル１６は、待機ポット７内か
ら上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動し、外側カッ
プ５内の次の走査開始位置Ｒ１で下降する。この場合、
現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出ノズル１６
は、基板１００上に保持された現像液に接触しないよう
に、現像液吐出ノズル１１の下端を基板１００の表面か
ら３ｍｍ程度以上離した状態で移動させることが望まし
い。

【００９５】そして、図１４（ｃ）に示すように、現像
液吐出ノズル１１およびリンス液吐出ノズル１６は、走
査開始位置Ｒ１から走査方向Ａに所定の走査速度で走査
を開始する。この時点では、まだリンス液吐出ノズル１
６からのリンス液の吐出は行わない。そして、リンス液
吐出ノズル１６のスリット状吐出口１８が基板１００上
に到達する前に吐出開始位置Ｒ２にて、所定の流量でリ
ンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出を開始す
る。現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出ノズル１
６は、リンス液吐出ノズル１６からリンス液を吐出しつ
つ吐出開始位置Ｒ２から基板１００上を走査方向Ａに直
線状に移動する。これにより、基板１００の全面にリン
ス液が連続的に供給されることにより現像処理が停止さ
れる。そして、現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐
出ノズル１６が基板１００上を通過した後、リンス液吐
出ノズル１６が基板１００上から外れた吐出停止位置Ｒ
３でリンス液吐出ノズル１６によるリンス液の吐出を停
止させる。

【００９６】続いて、図１４（ｄ）に示すように、気体
噴出ノズル１２が、現像液吐出ノズル１１およびリンス
液吐出ノズル１６を追いかけるように、走査開始位置Ｒ
１から走査方向Ａに駆動部４０により所定の走査速度で
走査を開始する。この時点では、まだ、気体噴出ノズル
１２からの気体の噴出は行わない。一方、現像液吐出ノ
ズル１１およびリンス液吐出ノズル１６は、走査停止位
置Ｒ４で上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動し、待
機ポット６の位置で待機ポット６内に下降する。

【００９７】そして、気体噴出ノズル１２は、スリット
状噴出口２８が基板１００上に到達する前に吐出開始位
置Ｒ２にて、所定の流量で気体噴出ノズル１２による気
体の噴出を開始する。気体噴出ノズル１２は、気体噴出
口２８から気体を噴出しつつ吐出開始位置Ｒ２から基板
１００上を走査方向Ａに直線状に移動する。これによ
り、基板１００の全面に気体が供給され基板１００の乾
燥処理が行われる。

【００９８】そして、図１４（ｅ）に示すように、気体
噴出ノズル１２は、走査停止位置Ｒ４で上昇した後、走
査方向Ａと逆方向に移動し、待機ポット６の位置で待機
ポット６内に下降する。

【００９９】このように、リンス液吐出ノズル１６によ
るリンス液が基板１００の表面を洗浄し、任意の時間経
過後に気体噴出ノズル１２により乾燥処理を行うことが
できる。また、気体噴出ノズル１２を駆動部４０により
駆動させることにより、気体噴出ノズル１２の走査速度
を現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出ノズル１６
の走査速度と独立に制御することができる。すなわち、
基板１００上の全面で現像処理時間の均一化を図るため
に、現像液の供給時と同じ速度でリンス液吐出ノズル１
６を走査させることが好ましいため、気体噴出ノズル１
２を、現像液吐出ノズル１２およびリンス液吐出ノズル
１６と一体的に走査させる場合には、気体噴出量の制御
を行うことにより基板の乾燥を行う。しかし、本実施の
形態では、気体噴出ノズル１２の走査速度を調整するこ
とにより基板１００の表面の乾燥を確実に行うことがで
きる。この結果、気体を効率よく基板に供給することが
できるため、生産効率の向上が可能となる。

【０１００】なお、走査開始位置Ｐ１と吐出開始位置Ｐ
２の各位置、吐出停止位置Ｐ３と走査停止位置Ｐ４の各
位置、走査開始位置Ｒ１と吐出開始位置Ｒ２の各位置、
および吐出停止位置Ｒ３と走査停止位置Ｒ４の各位置
は、上記の例に限らず、それぞれ同一の位置としてもよ
い。すなわち、現像液吐出ノズル１１が走査開始位置Ｐ
１から走査を開始すると同時に、または走査開始位置Ｐ
１から走査を開始するよりも前に走査開始位置Ｐ１にお
いて現像液吐出ノズル１１から現像液の吐出を行う構成
としてもよい。同じく、リンス液吐出ノズル１６および
気体噴出ノズル１２が走査開始位置Ｒ１から走査を開始
すると同時に、または走査開始位置Ｒ１から走査を開始
するよりも前に走査開始位置Ｒ１においてリンス液吐出
ノズル１６からリンス液の吐出および気体噴出ノズル１
２から気体の噴出を行う構成としてもよい。

【０１０１】また、本実施の形態では、気体噴出ノズル
１２の気体噴出口２８から噴出される気体を窒素（Ｎ
₂ ）として説明したが、これに限らず、基板表面の乾燥
を行うことができる気体であればよく、例えば、圧縮空
気などでもよい。

【０１０２】次に、図１５は本発明の第３の実施の形態
における現像装置の平面図である。本発明の第１の実施
の形態の図１の現像装置と異なるのは以下の点である。

【０１０３】図１５に示すように、外側カップ５の両側
にはそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ
５の一方の側部側にはガイドレール８が配設されてい
る。また、現像液ノズルアーム９がアーム駆動部１０に
よりガイドレール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方
向に移動可能に設けられており、管状部材２０ａが駆動
部４１によりガイドレール８に沿って走査方向Ａおよび
その逆方向に移動可能に設けられており、さらに管状部
材２７ａが駆動部４０によりガイドレール８に沿って走
査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられてい
る。

【０１０４】これにより、現像液吐出ノズル１１は、ア
ーム駆動部１０により待機ポット６の位置から基板１０
０上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿
って直線状に平行移動可能となっており、リンス液吐出
ノズル１６は、駆動部４１により待機ポット６の位置か
ら基板１００上を通過して待機ポット７の位置まで走査
方向Ａに沿って直線状に平行移動可能となっており、気
体噴出ノズル１２は駆動部４０により待機ポット６の位
置から基板１００上を通過して待機ポット７の位置まで
走査方向Ａに沿って直線状に平行移動可能となってい
る。

【０１０５】本実施の形態では、アーム駆動部１０が第
１の移動機構に相当し、駆動部４１が第２の移動機構に
相当し、駆動部４０が第３の移動機構に相当する。

【０１０６】次に、図１６を参照しながら図１５の現像
装置の動作の例について説明する。図１６は図１５の現
像装置の動作を示す模式的工程図である。

【０１０７】まず、現像処理時には、基板１００は基板
保持部１により静止状態で保持されている。図１６
（ａ）に示すように、待機時には、現像液吐出ノズル１
１、リンス液吐出ノズル１６および気体噴出ノズル１２
は、待機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像液
の供給時には、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走
査方向Ａに移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１
で下降する。

【０１０８】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。現像
液吐出ノズル１１の走査開始後、現像液吐出ノズル１１
のスリット状吐出口１５が基板１００上に到達する前
に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で現像液吐出ノズ
ル１１による現像液の吐出を開始する。

【０１０９】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する。これにより、基板１００の全面に
現像液が連続的に供給される。供給された現像液は、表
面張力により基板１００上に保持される。

【０１１０】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。

【０１１１】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【０１１２】待機ポット７内では、現像液吐出ノズル１
１の先端に付着した現像液を水洗洗浄ノズル（図示せ
ず）で水洗洗浄し、その後残留する水滴を吸引ノズル
（図示せず）で吸引して除去する処理が行われる。

【０１１３】次に、図１６（ｂ）に示すように、基板１
００上に現像液が保持された状態を所定時間（例えば約
６０秒）維持し、基板１００上のフォトレジスト膜等の
感光性膜の現像を進行させる。

【０１１４】リンス液の供給時には、リンス液吐出ノズ
ル１６が上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側カップ
５内の走査開始位置Ｒ１で下降する。

【０１１５】その後、リンス液吐出ノズル１６は、走査
開始位置Ｒ１から所定の走査速度で走査を開始する。リ
ンス液吐出ノズル１６の走査開始後、リンス液吐出ノズ
ル１６のスリット状吐出口１８が基板１００上に到達す
る前に、吐出開始位置Ｒ２にて所定の流量でリンス液吐
出ノズル１６によるリンス液の吐出を開始する。

【０１１６】リンス液吐出ノズル１６は、リンス液を吐
出しながら吐出開始位置Ｒ２から基板１００上を走査方
向Ａに直線状に移動する。これにより、基板１００の全
面にリンス液が連続的に供給される。供給されたリンス
液は、現像液による基板の表面処理を停止させる。そし
て、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上を通過した
後、リンス液吐出ノズル１６が基板１００上から外れた
吐出停止位置Ｒ３でリンス液吐出ノズル１６によるリン
ス液の吐出を停止させる。

【０１１７】一方、所定時間内に現像液吐出ノズル１１
は、待機ポット７内から上昇した後、走査方向Ａと逆方
向に移動し、外側カップ６内の位置Ｐ０で下降する。こ
の場合、現像液吐出ノズル１１は、基板１００上に保持
された現像液に接触しないように、現像液吐出ノズル１
１の下端を基板１００の表面から３ｍｍ程度以上離した
状態で移動させることが望ましい。

【０１１８】そして、図１６（ｃ）に示すように、気体
噴出ノズル１２が、現像液吐出ノズル１１およびリンス
液吐出ノズル１６を追いかけるように、走査開始位置Ｒ
１から走査方向Ａに駆動部４０により所定の走査速度で
走査を開始する。この時点では、まだ、気体噴出ノズル
１２からの気体の噴出は行わない。

【０１１９】一方、リンス液吐出ノズル１６は、走査停
止位置Ｒ４で上昇した後、走査方向Ａと逆方向に移動
し、待機ポット６の位置で待機ポット６内に下降する。

【０１２０】そして、気体噴出ノズル１２は、スリット
状噴出口２８が基板１００上に到達する前に吐出開始位
置Ｒ２にて、所定の流量で気体噴出ノズル１２による気
体の噴出を開始する。気体噴出ノズル１２は、気体噴出
口２８から気体を噴出しつつ吐出開始位置Ｒ２から基板
１００上を走査方向Ａに直線状に移動する。これによ
り、基板１００の全面に気体が供給され基板１００の乾
燥処理が行われる。

【０１２１】そして、図１６（ｄ）に示すように、気体
噴出ノズル１２は、走査停止位置Ｒ４で上昇した後、走
査方向Ａと逆方向に移動し、待機ポット６の位置で待機
ポット６内に下降する。

【０１２２】このように、現像液吐出ノズル１１により
基板表面に現像液を供給し、一定の時間経過後、リンス
液吐出ノズル１６によるリンス液が基板１００の表面を
洗浄し、任意の時間経過後に気体噴出ノズル１２により
乾燥処理を行うことができる。

【０１２３】また、気体噴出ノズル１２を駆動部４０に
より駆動させることにより、気体噴出ノズル１２の走査
速度を現像液吐出ノズル１１およびリンス液吐出ノズル
１６の走査速度と独立に制御することができる。すなわ
ち、基板１００上の全面で現像処理時間の均一化を図る
ために、現像液の供給時と同じ速度でリンス液吐出ノズ
ル１６を走査させることが好ましいため、現像液吐出ノ
ズル１２およびリンス液吐出ノズル１６の走査速度を同
じ速度に調整することができる。さらに、気体噴出ノズ
ル１２の走査速度または気体噴出量の制御を行うことに
より基板１００の表面の乾燥を行うことができる。この
結果、気体を効率よく基板１００に供給することができ
るため、生産効率の向上が可能となる。

【０１２４】なお、走査開始位置Ｐ１と吐出開始位置Ｐ
２の各位置、吐出停止位置Ｐ３と走査停止位置Ｐ４の各
位置、走査開始位置Ｒ１と吐出開始位置Ｒ２の各位置、
および吐出停止位置Ｒ３と走査停止位置Ｒ４の各位置
は、上記の例に限らず、それぞれ同一の位置としてもよ
い。すなわち、現像液吐出ノズル１１が走査開始位置Ｐ
１から走査を開始すると同時に、または走査開始位置Ｐ
１から走査を開始するよりも前に走査開始位置Ｐ１にお
いて現像液吐出ノズル１１から現像液の吐出を行う構成
としてもよい。同じく、リンス液吐出ノズル１６および
気体噴出ノズル１２が走査開始位置Ｒ１から走査を開始
すると同時に、または走査開始位置Ｒ１から走査を開始
するよりも前に走査開始位置Ｒ１においてリンス液吐出
ノズル１６からリンス液の吐出および気体噴出ノズル１
２から気体の噴出を行う構成としてもよい。

【０１２５】また、本実施の形態では、気体噴出ノズル
１２の気体噴出口２８から噴出される気体を窒素（Ｎ
₂ ）として説明したが、これに限らず、基板表面の乾燥
を行うことができる気体であればよく、例えば、圧縮空
気などでもよい。さらに、本実施の形態では、アーム駆
動部１０、駆動部４０および駆動部４１がガイドレール
８を共有しているが、これに限定されず、各々別々にガ
イドレールを設けてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態における現像装置の
平面図である。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズル、リンス液吐出ノズルおよび
気体噴出ノズルの概略断面図である。

【図５】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。

【図６】リンス液吐出ノズルの正面図である。

【図７】気体噴出ノズルの正面図である。

【図８】図１の現像装置の動作を示す模式的工程図であ
る。

【図９】（ａ）は図８の基板上における現像液吐出ノズ
ルの働きを示す模式図であり、（ｂ）は図８の基板上に
おけるリンス液吐出ノズルおよび気体噴出ノズルの働き
を示す模式図である。

【図１０】（ａ）はリンス液吐出ノズルの他の例を示す
正面図、（ｂ）は気体噴出ノズルの他の例を示す正面図
である。

【図１１】（ａ）はリンス液吐出ノズルのさらに他の例
を示す図、（ｂ）は気体噴出ノズルのさらに他の例を示
す図である。

【図１２】リンス液吐出ノズルに気体噴出ノズルが一体
化された共用ノズルの一例を示す概略断面図である。

【図１３】本発明の第２の実施の形態における現像装置
の平面図である。

【図１４】図１３の現像装置の動作を示す模式的工程図
である。

【図１５】本発明の第３の実施の形態における現像装置
の平面図である。

【図１６】図１５の現像装置の動作を示す模式的工程図
である。

【図１７】特開平１０−３０８３６号公報の現像装置を
用いた現像処理工程の一例を示す模式図である。

【符号の説明】

１００ 基板 １ 基板保持部 ２ 現像液供給系 ３ 保持部材 ４ 内側カップ ５ 外側カップ ６，７ 待機ポット ８ ガイドレール ９ 現像液ノズルアーム １０ アーム駆動部 １１ 現像液吐出ノズル １２ 気体噴出ノズル １３ 制御部 １５ スリット状吐出口 １６ リンス液吐出ノズル １７ リンス液供給系 ２０ａ，２７ａ 管状部材 ４０，４１ 駆動部

フロントページの続き (72)発明者 真田 雅和 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 田中 晶子 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 中野 佳代子 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H096 AA24 AA25 AA27 AA28 GA01 GA17 GA21 GA31 GA60 4F035 AA02 AA04 CA01 CA05 CB03 CC01 CD03 CD19 4F041 AA02 AA06 AB02 AB08 BA05 BA12 BA13 BA22 BA54 CA02 CA23 5F046 LA04

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持手段と、 現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、 現像を停止させるための処理液を吐出する処理液吐出ノ
   ズルと、 前記基板上の現像液および処理液を除去しかつ前記基板
   を乾燥させるための気体を噴出する気体噴出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
   の位置まで前記現像液吐出ノズル、前記処理液吐出ノズ
   ルおよび気体噴出ノズルを移動させる移動手段とを備え
   たことを特徴とする現像装置。
2. 【請求項２】 前記移動手段は、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
   の位置まで前記現像液吐出ノズルおよび前記処理液吐出
   ノズルを一体的に移動させる移動機構を含むことを特徴
   とする請求項１記載の現像装置。
3. 【請求項３】 前記移動機構は、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
   の位置まで前記気体噴出ノズルを前記現像液吐出ノズル
   および前記処理液吐出ノズルとともに一体的に移動させ
   ることを特徴とする請求項２記載の現像装置。
4. 【請求項４】 前記移動手段は、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
   の位置まで前記現像液吐出ノズルを移動させる第１の移
   動機構と、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
   の位置まで前記処理液吐出ノズルを前記現像液吐出ノズ
   ルとは独立に移動させる第２の移動機構を含むことを特
   徴とする請求項１記載の現像装置。
5. 【請求項５】 前記移動手段は、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側
   の位置まで前記気体噴出ノズルを前記現像液吐出ノズル
   および前記処理液吐出ノズルとは独立に移動させる第３
   の駆動機構をさらに含むことを特徴とする請求項４記載
   の現像装置。
6. 【請求項６】 現像液吐出時の現像液吐出ノズルの移動
   速度と処理液吐出時の処理液吐出ノズルの移動速度とが
   ほぼ同一であることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
   かに記載の現像装置。
7. 【請求項７】 前記処理液吐出ノズルから処理液を吐出
   させかつ前記気体噴出ノズルから気体を噴出させながら
   前記移動手段により前記処理液吐出ノズルおよび前記気
   体噴出ノズルを前記基板保持手段に静止状態で保持され
   た基板外の一方側の位置から前記基板上を通過して前記
   基板外の他方側の位置まで移動させる制御手段をさらに
   備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載
   の現像装置。
8. 【請求項８】 前記現像液吐出ノズルは、現像処理の対
   象となる基板の直径以上の領域にわたって形成された現
   像液吐出口を有し、 前記処理液吐出ノズルは、現像処理の対象となる基板の
   直径以上の領域にわたって形成された処理液吐出口を有
   し、 前記気体噴出ノズルは、現像処理の対象となる基板の直
   径以上の領域にわたって形成された気体噴出口を有する
   ことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の現像
   装置。
9. 【請求項９】 前記現像液吐出ノズルは、前記移動手段
   による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に現像液を吐
   出し、 前記処理液吐出ノズルは、前記移動手段による移動方向
   とほぼ垂直な方向に直線状に処理液を吐出することを特
   徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の現像装置。
10. 【請求項１０】 基板保持手段に静止状態で保持された
    基板上に現像液吐出ノズルから現像液を吐出供給する現
    像方法であって、 前記現像液吐出ノズルから前記基板上に現像液を吐出さ
    せつつ前記現像液吐出ノズルを前記基板外の一方側の位
    置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側の位置
    まで移動させる工程と、 前記処理液吐出ノズルから前記基板上に処理液を吐出さ
    せつつ前記処理液吐出ノズルを前記基板外の一方側の位
    置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側の位置
    まで移動させる工程と、 前記気体噴出ノズルから気体を噴出させるとともに前記
    気体噴出ノズルを前記基板外の一方側または他方側の位
    置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側または
    一方側の位置まで移動させる工程とを含むことを特徴と
    する現像方法。