JP2003015276A - Radiation sensitive composition for protrusion material of perpendicular alignment type color liquid crystal display panel - Google Patents

Radiation sensitive composition for protrusion material of perpendicular alignment type color liquid crystal display panel

Info

Publication number
JP2003015276A
JP2003015276A JP2001194864A JP2001194864A JP2003015276A JP 2003015276 A JP2003015276 A JP 2003015276A JP 2001194864 A JP2001194864 A JP 2001194864A JP 2001194864 A JP2001194864 A JP 2001194864A JP 2003015276 A JP2003015276 A JP 2003015276A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
sensitive composition
acrylate
liquid crystal
radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001194864A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4660985B2 (en
Inventor
Shigeru Abe
慈 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2001194864A priority Critical patent/JP4660985B2/en
Priority to TW091114072A priority patent/TWI255835B/en
Priority to SG200203910A priority patent/SG94877A1/en
Priority to KR1020020035873A priority patent/KR20030004057A/en
Publication of JP2003015276A publication Critical patent/JP2003015276A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4660985B2 publication Critical patent/JP4660985B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive composition for a protrusion material of a perpendicular alignment type color liquid crystal display panel having high film hardness and excellent smoothness of the surfaces of protrusions, less liable to produce residue and surface stain on a substrate in an unexposed area and less liable to cause seizing and defective display such as uneven display. SOLUTION: The radiation sensitive composition gives a cured body having <=10<12> Ω.cm electric resistance and preferably contains (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、垂直配向型カラー
液晶表示パネルの突起材に用いられる感放射線性組成物
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation-sensitive composition used as a protruding material for a vertical alignment type color liquid crystal display panel.

【０００２】[0002]

【従来の技術】カラー液晶表示パネルはフラットパネル
ディスプレーの中で今日最も広く使用されているが、特
に、ＴＦＴ（薄膜トランジスター）方式のカラー液晶表
示パネル（ＴＦＴ−ＬＣＤ）が、パソコン、ワープロ等
のＯＡ機器や、液晶テレビ等の普及に伴って、表示品質
に対する要求性能がますます厳しくなっている。2. Description of the Related Art A color liquid crystal display panel is most widely used today in a flat panel display. Especially, a color liquid crystal display panel (TFT-LCD) of a TFT (thin film transistor) type is used in a personal computer, a word processor and the like. With the spread of office automation equipment, liquid crystal televisions, etc., the performance required for display quality is becoming more and more severe.

【０００３】ＴＦＴ−ＬＣＤの中で現在最も利用されて
いる方式はＴＮ（Twisted Nematic)型ＬＣＤであり、こ
の方式は、２枚の透明な電極の外側に配向方向が９０度
異なる偏光膜をそれぞれ配置し、２枚の透明な電極の内
側に配向膜を配置するとともに、両配向膜間にネマチッ
ク型液晶を配置して、液晶の配向方向が一方の電極側か
ら他方の電極側にかけて９０度捩じれるようにしたもの
である。この状態で無偏光の光が入射すると、一方の偏
光板を透過した直線偏光が液晶中を偏光方向がずれなが
ら透過するため他方の偏光板を透過できて、明状態とな
る。次に、両電極に電圧を印加して液晶分子を直立させ
ると、液晶に達した直線偏光がそのまま透過するため他
方の偏光板を透過できず、暗状態となる。その後、再び
電圧を印加しない状態にすると、明状態に戻ることにな
る。The most widely used TFT-LCD is a TN (Twisted Nematic) type LCD, which is a method in which two transparent electrodes each have a polarizing film having an orientation direction different by 90 degrees. And the alignment film is placed inside the two transparent electrodes, and the nematic liquid crystal is placed between both alignment films, and the alignment direction of the liquid crystal is twisted by 90 degrees from one electrode side to the other electrode side. It was done so. When unpolarized light enters in this state, the linearly polarized light that has passed through one of the polarizing plates passes through the liquid crystal while its polarization direction is shifted, and therefore can pass through the other polarizing plate, resulting in a bright state. Next, when a voltage is applied to both electrodes to erect the liquid crystal molecules, the linearly polarized light reaching the liquid crystal is transmitted as it is and cannot be transmitted through the other polarizing plate, resulting in a dark state. After that, if the voltage is not applied again, the bright state is restored.

【０００４】このようなＴＮ型ＬＣＤは、近年における
技術改良により、正面でのコントラストや色再現性など
はＣＲＴと同等あるいはそれ以上となっている。しかし
ながら、ＴＮ型ＬＣＤには視野角が狭いという大きな問
題がある。Due to technical improvements in recent years, such a TN type LCD has a front contrast and color reproducibility which are equal to or higher than those of a CRT. However, the TN LCD has a big problem that the viewing angle is narrow.

【０００５】このような問題を解決するものとして、Ｓ
ＴＮ（Super Twisted Nematic)型ＬＣＤやＭＶＡ（Mult
i-domain Vertically Aligned)型ＬＣＤ（垂直配向型カ
ラー液晶表示パネル）が開発されている。これらのうち
ＳＴＮ型ＬＣＤは、ＴＮ型ＬＣＤのネマチック型液晶中
に光活性物質であるカイラル剤をブレンドして、液晶分
子の配向軸が２枚の電極間で１８０度以上捩じれるよう
にしたものである。またＭＶＡ型ＬＣＤは、「液晶」Vo
l.3,No.2,117(1999)および特開平１１−２５８６０５号
公報に記載されているように、負の誘電率異方性を有す
るネガ型液晶と垂直方向の配向膜を組み合わせて、ＴＮ
型ＬＣＤの旋光モードではなく複屈折モードを利用した
ものであり、電圧を印加していない状態でも、配向膜に
近い位置にある液晶の配向方向がほぼ垂直に維持される
ため、コントラスト、視野角などに優れ、また液晶を配
向させるためのラビング処理を行なわなくてもよいなど
製造工程の面でも優れている。To solve such a problem, S
TN (Super Twisted Nematic) type LCD and MVA (Mult
An i-domain Vertically Aligned) LCD (vertically aligned color liquid crystal display panel) has been developed. Among them, the STN type LCD is a nematic type liquid crystal of the TN type LCD in which a chiral agent which is a photoactive substance is blended so that the alignment axis of liquid crystal molecules is twisted by 180 degrees or more between two electrodes. Is. The MVA LCD is a "liquid crystal" Vo
l.3, No. 2,117 (1999) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-258605, a negative liquid crystal having a negative dielectric anisotropy and a vertical alignment film are combined to form a TN.
Since the birefringence mode is used instead of the optical rotation mode of the liquid crystal type LCD, the alignment direction of the liquid crystal in the position close to the alignment film is kept almost vertical even when no voltage is applied, so that the contrast and viewing angle are It is also excellent in terms of manufacturing process, such as not requiring rubbing treatment for aligning liquid crystal.

【０００６】ＭＶＡ型ＬＣＤにおいては、１つの画素領
域で液晶が複数の配向方向をとりうるようにするため
に、ドメイン規制手段として、表示側の電極を１つの画
素領域内にスリットを有するものとするとともに、光の
入射側の電極上の同一画素領域内に、電極のスリットと
位置をずらして、斜面を有する突起（例えば、三角錐状
等）を形成している。しかしながら、従来の突起材で
は、表示パネルとしたときの焼き付きや表示ムラなどの
ような表示性能への悪影響が問題となっており、このよ
うな悪影響を回避できる突起材用の材料が強く望まれて
いる。In the MVA type LCD, in order to allow the liquid crystal to have a plurality of alignment directions in one pixel area, the display side electrode has a slit in one pixel area as a domain regulating means. At the same time, in the same pixel area on the electrode on the light incident side, a projection (for example, a triangular pyramid shape) having an inclined surface is formed by being displaced from the slit of the electrode. However, the conventional projection material has a problem of adverse effects on display performance such as image sticking and display unevenness when used as a display panel, and a material for the projection material capable of avoiding such an adverse effect is strongly desired. ing.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高い
膜硬度を有し、突起表面の平滑性に優れるとともに、未
露光部の基板上に残渣や地汚れを生じ難く、しかも焼き
付きや表示ムラなどの表示不良が起こり難い垂直配向型
カラー液晶表示パネルの突起材用感放射線性組成物を提
供することにある。An object of the present invention is to have a high film hardness and an excellent smoothness of the surface of protrusions, and to prevent residue or scumming on the substrate in the unexposed area, and to prevent burn-in or display. Another object of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition for a projection material of a vertical alignment type color liquid crystal display panel, which is unlikely to cause display defects such as unevenness.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明によると、前記課
題は、第一に、硬化物の電気抵抗値が１０12Ω・ｃｍ以
下であることを特徴とする垂直配向型カラー液晶表示パ
ネルの突起材用感放射線性組成物、によって達成され
る。According to the present invention, the first object is to provide a vertical alignment type color liquid crystal display panel characterized in that an electric resistance of a cured product is 10 12 Ω · cm or less. And a radiation-sensitive composition for a projection material.

【０００９】本発明によると、前記課題は、好ましく
は、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を含
有することを特徴とする垂直配向型カラー液晶表示パネ
ルの突起材用感放射線性組成物、によって達成される。According to the present invention, the above-mentioned problems are preferably (A) conductive particles, (B) alkali-soluble resin,
A radiation-sensitive composition for a projection material of a vertical alignment type color liquid crystal display panel, which comprises (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator.

【００１０】本発明でいう「放射線」とは、可視光線、
紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等を含むものである。In the present invention, "radiation" means visible light,
It includes ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X-rays and the like.

【００１１】以下、本発明について詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【００１２】本発明における「硬化物の電気抵抗値が１
０12Ω・ｃｍ以下である垂直配向型カラー液晶表示パネ
ルの突起材用感放射線性組成物」としては、例えば導電
性粒子を配合するなどにより硬化物の電気抵抗値が１０
12Ω・ｃｍ以下となるように調製され、かつ垂直配向型
カラー液晶表示パネルの突起としての十分な強度および
基板への密着性を有し、後述するリソグラフィプロセス
により所定の突起を形成しうる感放射線性組成物である
限り特に限定されるものではないが、特に、（Ａ）導電
性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モ
ノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有する垂直配向型
カラー液晶表示パネルの突起材用感放射線性組成物（以
下、「突起材用感放射線性組成物（α）」ともいう。）
が好ましい。In the present invention, "the electric resistance value of the cured product is 1
The “radiation-sensitive composition for a projection material of a vertical alignment type color liquid crystal display panel having a resistance of 0 12 Ω · cm or less” has a electric resistance of a cured product of 10 by mixing conductive particles, for example.
It is prepared to have a resistance of 12 Ω · cm or less, and has sufficient strength as a protrusion of a vertical alignment type color liquid crystal display panel and adhesion to a substrate so that a predetermined protrusion can be formed by a lithography process described later. It is not particularly limited as long as it is a radioactive composition, but particularly contains (A) conductive particles, (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer and (D) photopolymerization initiator. Radiation-sensitive composition for protrusion material of vertical alignment type color liquid crystal display panel (hereinafter, also referred to as "radiation-sensitive composition for protrusion material (α)").
Is preferred.

【００１３】以下、本発明について詳細に説明する。（Ａ）導電性粒子 本発明における導電性粒子は、感放射線性組成物の抵抗
値を下げるためのものであり、その例としては、カーボ
ンブラック、金属粒子、金属酸化物粒子等を挙げること
ができ、中でもカーボンブラックが好ましい。The present invention will be described in detail below. (A) Conductive particles The conductive particles in the present invention are for reducing the resistance value of the radiation-sensitive composition, and examples thereof include carbon black, metal particles, metal oxide particles and the like. Of these, carbon black is preferable.

【００１４】前記カーボンブラックとしては、例えば、
ＳＡＦ、ＳＡＦ−ＨＳ、ＩＳＡＦ、ＩＳＡＦ−ＬＳ、Ｉ
ＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ、ＨＡＦ−ＬＳ、ＨＡＦ−ＨＳ、
ＮＡＦ、ＦＥＦ、ＦＥＦ−ＨＳ、ＳＲＦ、ＳＲＦ−Ｌ
Ｍ、ＳＲＦ−ＬＳ、ＧＰＦ、ＥＣＦ、Ｎ−３３９、Ｎ−
３５１等のファーネスブラック；ＦＴ、ＭＴ等のサーマ
ルブラック；アセチレンブラック等を挙げることができ
る。As the carbon black, for example,
SAF, SAF-HS, ISAF, ISAF-LS, I
SAF-HS, HAF, HAF-LS, HAF-HS,
NAF, FEF, FEF-HS, SRF, SRF-L
M, SRF-LS, GPF, ECF, N-339, N-
Furnace black such as 351; thermal black such as FT and MT; acetylene black.

【００１５】また、前記金属粒子としては、例えば、Ｃ
ｕ、Ｆｅ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃ
ｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｂ等の粒子を挙げ
ることができる。The metal particles include, for example, C
u, Fe, Ag, Au, Pt, Mg, Cr, Mn, C
Particles of o, W, Al, Mo, Sn, Zn, Pb and the like can be mentioned.

【００１６】さらに、前記金属酸化物粒子としては、例
えば、ＩＴＯ（錫をドープした酸化インジウム）粒子、
五酸化アンチモン粒子、酸化錫粒子等を挙げることがで
きる。Further, as the metal oxide particles, for example, ITO (tin-doped indium oxide) particles,
Examples thereof include antimony pentoxide particles and tin oxide particles.

【００１７】これらの導電性粒子の直径は、通常、０．
００１〜１０μｍ、好ましくは０．０１〜５μｍ、さら
に好ましくは０．１〜２μｍである。また、導電性粒子
の体積抵抗率は１０6 Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０4
Ω・ｃｍ以下である。The diameter of these conductive particles is usually 0.
001 to 10 μm, preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 2 μm. The volume resistivity of the conductive particles is 10 6 Ω · cm or less, preferably 10 4
Ω · cm or less.

【００１８】本発明において、導電性粒子は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。In the present invention, the conductive particles may be used alone or in combination of two or more.

【００１９】突起材用感放射線性組成物（α）における
導電性粒子の含有量は、導電性粒子の種類や感放射線性
組成物中の他の成分の種類と使用量等に応じて適宜調整
されるが、感放射線性組成物中の全固形分に対して、好
ましくは０．１〜３０重量％、さらに好ましくは０．５
〜２０重量％、特に好ましくは１〜１５重量％である。
この場合、導電性粒子の含有量が０．１重量％未満で
は、得られる硬化物の電気抵抗値が１０12Ω・ｃｍを超
えるおそれがあり、一方３０重量％を超えると、基板と
の密着性が損なわれたり、現像残渣が発生したりするお
それがある。The content of the conductive particles in the radiation-sensitive composition (α) for the projection material is appropriately adjusted according to the kind of the conductive particles and the kind and amount of other components in the radiation-sensitive composition. However, the total solid content in the radiation-sensitive composition is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 0.5.
-20% by weight, particularly preferably 1-15% by weight.
In this case, if the content of the conductive particles is less than 0.1% by weight, the electric resistance of the obtained cured product may exceed 10 12 Ω · cm, while if it exceeds 30% by weight, the adhesion to the substrate may be reduced. There is a possibility that the property may be impaired and a development residue may be generated.

【００２０】本発明において、導電性粒子は、場合によ
り、分散剤と共に使用することができる。In the present invention, the conductive particles can be optionally used together with a dispersant.

【００２１】このような分散剤としては、例えば、カチ
オン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン
系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。Examples of such a dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, and fluorine surfactants.

【００２２】前記界面活性剤の具体例としては、ポリオ
キシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンス
テアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオ
キシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテル類；ポリエチレング
リコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステ
アレート等のポリエチレングリコールジエステル類；ソ
ルビタン脂肪酸エステル類；脂肪酸変性ポリエステル
類；３級アミン変性ポリウレタン類；ポリエチレンイミ
ン類のほか、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）
製）、ポリフロー（共栄社油脂化学工業（株）製）、エ
フトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック
（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友
スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（旭
硝子（株）製）等を挙げることができる。Specific examples of the surfactant include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether and other polyoxyethylene alkyl ethers; polyoxyethylene n-octylphenyl ether, polyoxy. Polyoxyethylene alkylphenyl ethers such as ethylene n-nonylphenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid modified polyesters; tertiary amine modified polyurethanes; polyethylene In addition to imines, KP (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.), F Top (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), Megafac (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.), Florard (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi. Examples thereof include guards and surflons (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).

【００２３】これらの界面活性剤は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。These surfactants may be used alone or in admixture of two or more.

【００２４】界面活性剤の使用量は、導電性粒子１００
重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは０
〜３０重量部である。（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ）導
電性粒子に対してバインダーとして作用し、かつ突起を
形成する際に用いられる現像液、特に好ましくはアルカ
リ現像液に可溶性である限り、適宜の樹脂を使用するこ
とができる。The amount of the surfactant used is 100
Usually 50 parts by weight or less, preferably 0 parts by weight
~ 30 parts by weight. (B) Alkali-Soluble Resin The alkali-soluble resin in the present invention is (A) soluble in a developing solution, particularly preferably an alkaline developing solution, which acts as a binder for conductive particles and is used when forming protrusions. As long as there is a suitable resin can be used.

【００２５】本発明における好ましいアルカリ可溶性樹
脂は、カルボキシル基を含有する樹脂であり、特に、１
個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量
体（以下、単に「カルボキシル基含有不飽和単量体」と
いう。）と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体
（以下、単に「他の不飽和単量体」という。）との共重
合体（以下、単に「カルボキシル基含有共重合体」とい
う。）が好ましい。The preferred alkali-soluble resin in the present invention is a resin containing a carboxyl group, and particularly 1
Ethylenically unsaturated monomer having at least 4 carboxyl groups (hereinafter, simply referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”) and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter, simply “ A copolymer with another unsaturated monomer ") (hereinafter, simply referred to as" carboxyl group-containing copolymer ") is preferable.

【００２６】カルボキシル基含有不飽和単量体として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボ
ン酸類；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコ
ン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸（無水物）
類；３価以上の不飽和多価カルボン酸（無水物）類；こ
はく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸
モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ
（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−
メタクリロイロキシエチル）等の非重合性ジカルボン酸
のモノ（２−アクリロイロキシエチル）エステルまたは
モノ（２−アクリロイロキシエチル）エステル類；ω−
カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω
−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート
等を挙げることができる。Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
Unsaturated monocarboxylic acids such as α-chloroacrylic acid and cinnamic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid ( Anhydrous)
Unsaturated polyvalent carboxylic acids (anhydrides) having a valence of 3 or more; mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxyethyl) succinate, mono (2-acryloyl phthalate) Roxyethyl), phthalic acid mono (2-
Ω- Mono (2-acryloyloxyethyl) ester or mono (2-acryloyloxyethyl) ester of non-polymerizable dicarboxylic acid such as methacryloyloxyethyl);
Carboxy-polycaprolactone monoacrylate, ω
-Carboxy-polycaprolactone monomethacrylate etc. can be mentioned.

【００２７】これらのカルボキシル基含有エチレン性不
飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。These carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomers may be used alone or in admixture of two or more.

【００２８】また、他の不飽和単量体としては、例え
ば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエ
ン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−ク
ロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシス
チレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ビニルベンジルメ
チルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル
等の芳香族ビニル化合物；インデン、１−メチルインデ
ン等のインデン（誘導体）類；メチルアクリレート、メ
チルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタ
クリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピル
メタクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロ
ピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブ
チルメタクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブ
チルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓ
ｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレー
ト、ｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアク
リレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒドロ
キシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタク
リレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレー
ト、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、メト
キシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジエ
チレングリコールメタクリレート、メトキシトリエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリ
コールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコー
ルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタ
クリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロ
ールモノメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル
類；２−アミノエチルアクリレート、２−アミノエチル
メタクリレート、２−ジメチルアミノエチルアクリレー
ト、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−ア
ミノプロピルアクリレート、２−アミノプロピルメタク
リレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレート、
２−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、３−アミ
ノプロピルアクリレート、３−アミノプロピルメタクリ
レート、３−ジメチルアミノプロピルアクリレート、３
−ジメチルアミノプロピルメタクリレート等の不飽和カ
ルボン酸アミノアルキルエステル類；グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン
酸グリシジルエステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニ
ルエステル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシ
ジルエーテル等の不飽和エーテル類；アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリ
ル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物；ア
クリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリル
アミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ
−２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド
等の不飽和アミド類；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニル
マレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、
Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メチ
ルフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メチルフェニルマレイ
ミド、Ｎ−ｐ−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−メ
トキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−メトキシフェニル
マレイミド、Ｎ−ｐ−メトキシフェニルマレイミド等の
Ｎ−置換マレイミド類；１，３−ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；ポリスチレ
ン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリ−ｎ−ブチルアクリレート、ポリ−ｎ−ブチル
メタクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖末端
にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロイル基を
有するマクロモノマー類等を挙げることができる。Examples of the other unsaturated monomer include styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene and m. -Aromatic vinyl compounds such as methoxystyrene, p-methoxystyrene, p-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether; indene (derivatives) such as indene and 1-methylindene; methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl Acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate sec- butyl acrylate, s
ec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate,
2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2
-Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate,
Unsaturated carvone such as phenyl acrylate, phenyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate, etc. Acid esters; 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate,
2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate, 3
-Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as dimethylaminopropyl methacrylate; unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; vinyl carboxylic acid esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether and methacryl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethylacrylamide, N
Unsaturated amides such as 2-hydroxyethyl methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide; N-cyclohexyl maleimide,
N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide,
N-p-hydroxyphenylmaleimide, N-o-methylphenylmaleimide, Nm-methylphenylmaleimide, Np-methylphenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, N- N-substituted maleimides such as p-methoxyphenylmaleimide; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene; polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n Examples include macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain such as -butyl methacrylate and polysiloxane.

【００２９】これらの他の不飽和単量体は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。These other unsaturated monomers may be used alone or in admixture of two or more.

【００３０】カルボキシル基含有共重合体としては、特
に、アクリル酸および／またはメタクリル酸を必須成
分とし、場合により、こはく酸モノ（２−アクリロイロ
キシエチル）および／またはこはく酸モノ（２−メタク
リロイロキシエチル）を含有するカルボキシル基含有不
飽和単量体と、スチレン、メチルアクリレート、メチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリ
レート、フェニルメタクリレート、グリセロールモノア
クリレート、グリセロールモノメタクリレート、Ｎ−フ
ェニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよび
ポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ば
れる少なくとも１種との共重合体（以下、「カルボキシ
ル基含有共重合体（Ｉ）」という。）が好ましい。As the carboxyl group-containing copolymer, acrylic acid and / or methacrylic acid are essential components, and in some cases, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate and / or mono (2-methacrylic acid succinate). (Royloxyethyl) -containing unsaturated monomer and styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, glycerol At least one selected from the group of monoacrylate, glycerol monomethacrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethylmethacrylate macromonomer Polymer (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer (I)".) Are preferred.

【００３１】カルボキシル基含有共重合体（Ｉ）の具体
例としては、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）ア
クリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／
ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アク
リル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジ
ル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマ
クロモノマー共重合体等の二元ないし三元共重合体（以
下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｉａ）」とい
う。）；（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／
ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ス
チレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニル
マレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／
フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミ
ド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセロールモノ
（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイ
ミド共重合体等の四元共重合体（以下、「カルボキシル
基含有共重合体（Ｉｂ）」という。）；（メタ）アクリ
ル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−
フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メ
タ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリメチ
ルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）ア
クリル酸／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／
Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー
共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／フェニル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセロールモノ（メタ）アクリレー
ト／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセ
ロールモノ（メタ）アクリレート／スチレン／２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレ
イミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グリセロールモ
ノ（メタ）アクリレート／スチレン／ベンジル（メタ）
アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メ
タ）アクリル酸／グリセロールモノ（メタ）アクリレー
ト／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フ
ェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／こは
く酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／グ
リセロールモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−
フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／グ
リセロールモノ（メタ）アクリレート／スチレン／Ｎ−
フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロモノマー共重
合体、（メタ）アクリル酸／グリセロールモノ（メタ）
アクリレート／スチレン／Ｎ−フェニルマレイミド／ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等の五
元共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｉ
ｃ）」という。）；（メタ）アクリル酸／スチレン／２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル
（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸
／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレ
イミド／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重
合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート／フェニル（メタ）アクリ
レート／Ｎ−フェニルマレイミド／ポリスチレンマクロ
モノマー共重合体あるいは（メタ）アクリル酸／スチレ
ン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／フェ
ニル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／
ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等の
六元共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体
（Ｉｄ）」という。）等を挙げることができる。Specific examples of the carboxyl group-containing copolymer (I) include (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / styrene /
Benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, etc. Binary or ternary copolymer (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer (Ia)"); (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer Copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate /
Benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / styrene /
A quaternary copolymer such as a phenyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, a (meth) acrylic acid / glycerol mono (meth) acrylate / styrene / N-phenylmaleimide copolymer (hereinafter referred to as "containing a carboxyl group"). Copolymer (Ib) "); (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-
Phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / phenyl (meth) Acrylate /
N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / phenyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / glycerol mono (meth ) Acrylate / styrene / methyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / glycerol mono (meth) acrylate / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer , (Meth) acrylic acid / glycerol mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth)
Acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / glycerol mono (meth) acrylate / styrene / phenyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / succinic acid mono [2 -(Meth) acryloyloxyethyl] / glycerol mono (meth) acrylate / styrene / N-
Phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / glycerol mono (meth) acrylate / styrene / N-
Phenyl maleimide / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / glycerol mono (meth)
A quaternary copolymer such as acrylate / styrene / N-phenylmaleimide / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer (hereinafter referred to as “carboxyl group-containing copolymer (I
c) ”. ); (Meth) acrylic acid / styrene / 2
-Hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / N -Phenylmaleimide / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / polystyrene macromonomer copolymer or (meth ) Acrylic acid / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide /
Hexane copolymers such as polymethylmethacrylate macromonomer copolymer (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer (Id)") and the like can be mentioned.

【００３２】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、５
〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％である。こ
の場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合
が５重量％未満では、得られる感放射線性組成物のアル
カリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方
５０重量％を超えると、アルカリ現像液による現像時
に、形成された突起の基板からの脱落や突起表面の膜荒
れを来たしやすくなる傾向がある。The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5
˜50 wt%, preferably 10-40 wt%. In this case, if the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer is less than 5% by weight, the solubility of the resulting radiation-sensitive composition in an alkaline developer tends to decrease, while if it exceeds 50% by weight. During the development with an alkaline developer, the formed protrusions tend to fall off the substrate or the surface of the protrusions become rough.

【００３３】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のゲル
パーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ；溶出溶媒
テトラヒドロフラン）で測定したポリスチレン換算重量
平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは
１，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは
５，０００〜１００，０００である。The polystyrene-reduced weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") of the alkali-soluble resin measured by gel permeation chromatography (GPC; elution solvent tetrahydrofuran) in the present invention is preferably 1,000 to 1,000, 000, more preferably 5,000 to 100,000.

【００３４】本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、
単独でまたは２種以上を混合して使用することができ
る。In the present invention, the alkali-soluble resin is
They can be used alone or in combination of two or more.

【００３５】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用
量は、（Ａ）導電性粒子１００重量部に対して、通常、
３００〜１００，０００重量部、好ましくは１００〜１
０，０００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹
脂の使用量が３００重量部未満では、例えば、アルカリ
現像性が低下したり、突起が形成される部分以外の領域
での地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１０
０，０００重量部を超えると、相対的に導電性粒子濃度
が低下するため、表示パネルとしたときに焼き付きやム
ラなどの表示不良を発生するおそれがある。（Ｃ）多官能性モノマー 本発明における多官能性モノマーとしては、例えば、エ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジアクリレートまた
はジメタクリレート類；グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル等の３価以上の多価アルコールのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート類やそれらのジカルボン酸変性
物；ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴア
クリレートまたはオリゴメタクリレート類；両末端ヒド
ロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレートまたは
ジメタクリレート類や、トリス（２−アクリロイルオキ
シエチル）フォスフェート、トリス（２−メタクリロイ
ルオキシエチル）フォスフェート等を挙げることができ
る。The amount of the alkali-soluble resin used in the present invention is usually about 100 parts by weight of the conductive particles (A).
300 to 100,000 parts by weight, preferably 100 to 1
It is 10,000 parts by weight. In this case, if the amount of the alkali-soluble resin used is less than 300 parts by weight, for example, the alkali developability may be deteriorated, or scumming or film residue may occur in a region other than the portion where the protrusion is formed. 10
If the amount exceeds 10,000 parts by weight, the concentration of the conductive particles is relatively lowered, and thus a display defect such as burn-in or unevenness may occur when the display panel is used. (C) Polyfunctional Monomer As the polyfunctional monomer in the present invention, for example, diacrylate or dimethacrylate of alkylene glycol such as ethylene glycol or propylene glycol; diacrylate of polyalkylene glycol such as polyethylene glycol or polypropylene glycol, or Dimethacrylates; polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and their dicarboxylic acid modified products; polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins , Silicone resins, oligosilanes such as spirane resins, oligomethacrylates; hydroxy-poly-1,3-butadiene at both ends, hydro-ends at both ends Examples include diacrylates or dimethacrylates of hydroxylated polymers at both ends such as xypolyisoprene and hydroxypolycaprolactone at both ends, tris (2-acryloyloxyethyl) phosphate, and tris (2-methacryloyloxyethyl) phosphate. be able to.

【００３６】これらの多官能性モノマーのうち、３価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好まし
く、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリトール
トリメタクリレートのこはく酸変性物、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が好まし
く、特にトリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートが、突起の強度が高く、突
起表面の平滑性に優れ、かつ突起が形成される部分以外
の領域での地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好まし
い。Of these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols and their dicarboxylic acid modified products are preferable. Specifically, trimethylolpropane triacrylate and trimethylolpropane are preferred. Trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, succinic acid modification of pentaerythritol triacrylate, succinic acid modification of pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, di Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol Preferred is oxamethacrylate and the like, and particularly trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate have high protrusion strength, excellent smoothness of the protrusion surface, and in a region other than the portion where the protrusion is formed. It is preferable in that it is less likely to cause scumming and film residue.

【００３７】前記多官能性モノマーは、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。The polyfunctional monomer may be used alone or
A mixture of two or more species can be used.

【００３８】本発明における多官能性モノマーの使用量
は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
通常、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量
部である。この場合、多官能性モノマーの使用量が５重
量部未満では、突起の強度や突起表面の平滑性が不十分
となる傾向があり、一方５００重量部を超えると、例え
ば、アルカリ現像性が低下したり、突起が形成される部
分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやすくなる傾
向がある。The amount of the polyfunctional monomer used in the present invention is 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (B).
Usually, it is 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight. In this case, if the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the strength of the protrusions and the smoothness of the surface of the protrusions tend to be insufficient, while if it exceeds 500 parts by weight, for example, the alkali developability decreases. However, there is a tendency that scumming and film residue occur easily in the area other than the area where the protrusion is formed.

【００３９】また、本発明においては、前記多官能性モ
ノマーの一部を単官能性モノマーで置き換えることもで
きる。Further, in the present invention, a part of the polyfunctional monomer may be replaced with a monofunctional monomer.

【００４０】このような単官能性モノマーとしては、例
えば、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を構成するカルボキシ
ル基含有不飽和単量体あるいは他の不飽和単量体や、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレー
トのほか、市販品として、Ｍ−５３００（商品名、東亜
合成化学工業（株）製）等を挙げることができる。As such a monofunctional monomer, for example, (B) a carboxyl group-containing unsaturated monomer or other unsaturated monomer constituting the alkali-soluble resin, or 2
-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate,
In addition to 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, M-5300 (trade name, manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and the like can be mentioned as commercially available products.

【００４１】これらの単官能性モノマーのうち、こはく
酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ
（２−メタクリロイロキシエチル）、メトキシトリエチ
レングリコールアクリレート、メトキシトリエチレング
リコールメタクリレート、メトキシジプロピレングリコ
ールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールメ
タクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモ
ノアクリレート（Ｍ−５３００）、ω−カルボキシ−ポ
リカプロラクトンモノメタクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキ
シ−３−フェノキシプロピルメタクリレート等が好まし
い。Among these monofunctional monomers, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxyethyl) succinate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxydi Propylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, ω-carboxy-polycaprolactone monoacrylate (M-5300), ω-carboxy-polycaprolactone monomethacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy. Propyl methacrylate and the like are preferred.

【００４２】前記単官能性モノマーは、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。The monofunctional monomer may be used alone or in combination with 2.
A mixture of two or more species can be used.

【００４３】単官能性モノマーの使用割合は、多官能性
モノマーと単官能性モノマーの合計量に対して、通常、
０〜９０重量％、好ましくは０〜５０重量％である。（Ｄ）光重合開始剤 本発明における光重合開始剤とは、放射線の照射（以
下、「露光」という。）により分解または結合の開裂を
生じ、ラジカル、アニオン、カチオン等の、前記（Ｃ）
多官能性モノマーや場合により使用される単官能性モノ
マーの重合を開始することができる活性種を発生する化
合物を意味する。The ratio of the monofunctional monomer to be used is usually, based on the total amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer,
It is 0 to 90% by weight, preferably 0 to 50% by weight. (D) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator in the present invention is a radical, anion, cation or the like (C), which undergoes decomposition or bond cleavage upon irradiation with radiation (hereinafter referred to as “exposure”).
By a compound that generates active species capable of initiating the polymerization of polyfunctional monomers and optionally monofunctional monomers.

【００４４】このような光重合開始剤としては、例え
ば、ビイミダゾール系化合物、アセトフェノン系化合
物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有する
化合物等を挙げることができる。Examples of such photopolymerization initiators include biimidazole compounds, acetophenone compounds, other photoradical generators, compounds having a trihalomethyl group, and the like.

【００４５】前記ビイミダゾール系化合物の具体例とし
ては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’
−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール等を挙げることができる。Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis ( 4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2 '
-Biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,
6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4', 5,5'- Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'
-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,
2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole etc. can be mentioned.

【００４６】これらのビイミダゾール系化合物は、溶剤
に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生
じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー
量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、コ
ントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じることが
ないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不溶性の硬
化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化部
分とに明確に区分され、欠落、欠損やアンダーカットの
ない優れた突起を形成することができる。These biimidazole compounds are excellent in solubility in a solvent, do not generate foreign matters such as undissolved substances and precipitates, have high sensitivity, and allow a curing reaction to sufficiently proceed by exposure with a small amount of energy. At the same time, since the contrast is high and the curing reaction does not occur in the unexposed area, the exposed coating film is a cured area that is insoluble in the developer and an uncured area that has high solubility in the developer. It is possible to form excellent projections which are clearly divided into and without any missing, missing or undercut.

【００４７】また、前記アセトフェノン系化合物の具体
例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−
ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，
２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−
〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプ
ロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ
−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン
等を挙げることができる。Specific examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl. Propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-
Hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2
-Phenylacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,
2-diphenylethan-1-one, 2-methyl-1-
[4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and the like can be mentioned.

【００４８】また、前記他の光ラジカル発生剤の具体例
としては、ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−
メトキシベンゾフェノン、２，４−ジエチルチオキサン
トン、４−アジドベンズアルデヒド、４−アジドアセト
フェノン、４−アジドベンザルアセトフェノン、アジド
ピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４−ジアゾ−
４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジアゾ−３−メ
トキシジフェニルアミン、ビス（２，６−ジメトキシベ
ンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾインイソブチル
エーテル、Ｎ−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート等を挙げることができる。Specific examples of the other photo-radical generators include benzophenone and 3,3'-dimethyl-4-.
Methoxybenzophenone, 2,4-diethylthioxanthone, 4-azidobenzaldehyde, 4-azidoacetophenone, 4-azidobenzalacetophenone, azidopyrene, 4-diazodiphenylamine, 4-diazo-
4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, dibenzoyl, benzoin isobutyl ether, N-phenylthioacridone, Examples thereof include triphenylpyrylium perchlorate.

【００４９】さらに、前記トリハロメチル基を有する化
合物の具体例としては、１，３，５−トリス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロ
ロメチル）−５−（２−クロロフェニル）−ｓ−トリア
ジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４−
クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（ト
リクロロメチル）−５−（２−メトキシフェニル）−ｓ
−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５
−（４−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げ
ることができる。Further, specific examples of the compound having a trihalomethyl group include 1,3,5-tris (trichloromethyl) -s-triazine and 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2-chlorophenyl). ) -S-Triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4-
Chlorophenyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2-methoxyphenyl) -s
-Triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5
Examples thereof include-(4-methoxyphenyl) -s-triazine.

【００５０】これらのアセトフェノン系化合物、他の光
ラジカル発生剤およびトリハロメチル基を有する化合物
のうち、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチ
オ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が、形成され
た突起が現像時に基板から脱離し難く、突起の強度およ
び感度も高い点で好ましい。Among these acetophenone compounds, other photoradical generators and compounds having a trihalomethyl group, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 2-methyl-1- [4 -(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, etc. are formed, and the formed protrusions are formed during development. It is preferable because it is difficult to detach from the substrate, and the strength and sensitivity of the protrusions are high.

【００５１】本発明において、光重合開始剤は、単独で
または２種以上を組み合せて使用することができる。In the present invention, the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more kinds.

【００５２】本発明においては、必要に応じて、前記光
重合開始剤と共に、増感剤、硬化促進剤および高分子化
合物からなる光架橋剤あるいは光増感剤（以下、「高分
子光架橋・増感剤」という。）の群から選ばれる１種以
上をさらに併用することもできる。In the present invention, a photocrosslinking agent or a photosensitizer comprising a sensitizer, a curing accelerator and a polymer compound (hereinafter, referred to as "polymer photocrosslinking / polymerization photopolymerization One or more kinds selected from the group of "sensitizer") can be further used in combination.

【００５３】前記増感剤の具体例としては、４，４’−
ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルア
ミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェ
ノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、２−
エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエー
ト、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シク
ロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチ
ルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミ
ノ）カルコン等を挙げることができる。Specific examples of the sensitizer include 4,4'-
Bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-
Examples include ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone and the like. .

【００５４】また、前記硬化促進剤の具体例としては、
２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベ
ンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、
２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、
２−メルカプト−４，６−ジメチルアミノピリジン、１
−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、３
−メルカプト−４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール等の連鎖移動剤を挙げることができる。Specific examples of the curing accelerator include:
2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole,
2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole,
2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, 1
-Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole, 3
Examples thereof include chain transfer agents such as -mercapto-4-methyl-4H-1,2,4-triazole.

【００５５】さらに、前記高分子光架橋・増感剤は、光
架橋剤および／または光増感剤として機能しうる官能基
を主鎖および／または側鎖中に有する高分子化合物であ
り、その具体例としては、４−アジドベンズアルデヒド
とポリビニルアルコールとの縮合物、４−アジドベンズ
アルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、４
−アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重
合体あるいは共重合体、１，４−ポリブタジエン、１，
２−ポリブタジエン等を挙げることができる。Further, the polymer photocrosslinking / sensitizer is a polymer compound having a functional group capable of functioning as a photocrosslinking agent and / or a photosensitizer in its main chain and / or side chain. Specific examples include a condensate of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, a condensate of 4-azidobenzaldehyde and a phenol novolac resin, 4
-Homopolymers or copolymers of acryloylphenyl cinnamoyl ester, 1,4-polybutadiene, 1,
2-polybutadiene etc. can be mentioned.

【００５６】前記増感剤、硬化促進剤および高分子光架
橋・増感剤のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）
ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベ
ンゾフェノンおよび２−メルカプトベンゾチアゾール
が、形成された突起が現像時に基板から脱落し難く、突
起の強度および感度も高い点で好ましい。Of the above-mentioned sensitizers, curing accelerators and polymer photocrosslinking / sensitizers, 4,4′-bis (dimethylamino)
Benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole are preferable in that the formed protrusions are unlikely to fall off from the substrate during development and the protrusions have high strength and sensitivity.

【００５７】本発明においては、光重合開始剤として、
ビイミダゾール系化合物と、アセトフェノン系化合物、
ベンゾフェノン系の増感剤およびチアゾール系の硬化促
進剤の群から選ばれる１種以上とを組み合わせて使用す
ることが特に好ましい。In the present invention, as the photopolymerization initiator,
A biimidazole compound and an acetophenone compound,
It is particularly preferable to use in combination with one or more selected from the group of benzophenone-based sensitizers and thiazole-based curing accelerators.

【００５８】前記特に好ましい組み合わせの具体例とし
ては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−
ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベ
ンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン／２−メチル−１−〔４
−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパ
ン−１−オン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカル
ボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール／４，
４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン／２−メ
チル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モル
フォリノプロパン−１−オン／２−メルカプトベンゾチ
アゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）
ベンゾフェノン、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−２−ジメチルアミ
ノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オ
ン、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フェノン／２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェ
ニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，
２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン／２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン／２−メル
カプトベンゾチアゾール等を挙げることができる。Specific examples of the particularly preferable combination include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-
Biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1
-(4-morpholinophenyl) butan-1-one,
2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ',
5,5'-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4
-(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,2'-bis (2-chlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,
4'-bis (dimethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one / 2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-bis (2 4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'
-Biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino)
Benzophenone, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,
2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2,2'-bis (2 4-dibromophenyl)-
4,4 ', 5,5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpho Rinopropan-1-one, 2,
2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopro Pan-1-one / 2-mercaptobenzothiazole and the like can be mentioned.

【００５９】本発明において、アセトフェノン系化合
物、他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有する
化合物の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０重量
％以下であることが好ましく、また増感剤および硬化促
進剤の合計使用割合は、光重合開始剤全体の８０重量％
以下であることが好ましく、さらに高分子光架橋・増感
剤の使用割合は、ビイミダゾール系化合物１００重量部
に対して、通常、２００重量部以下、好ましくは０．０
１〜２００重量部、さらに好ましくは５０〜１８０重量
部である。In the present invention, the total use ratio of the acetophenone compound, the other photoradical generator and the compound having a trihalomethyl group is preferably 80% by weight or less based on the total amount of the photopolymerization initiator and the sensitizer. And the total use ratio of the curing accelerator is 80% by weight of the whole photopolymerization initiator.
The amount of the polymer photocrosslinking / sensitizer used is usually 200 parts by weight or less, preferably 0.0 part by weight or less, based on 100 parts by weight of the biimidazole compound.
The amount is 1 to 200 parts by weight, more preferably 50 to 180 parts by weight.

【００６０】本発明における光重合開始剤の使用量は、
（Ｃ）多官能性モノマーと場合により使用される単官能
性モノマーとの合計１００重量部に対して、通常、０．
０１〜５００重量部、好ましくは１〜３００重量部、特
に好ましくは１０〜２００重量部である。この場合、光
重合開始剤の使用量が０．０１重量部未満では、露光に
よる硬化が不十分となり、形成された突起に欠落、欠損
やアンダーカットを生じるおそれがあり、一方５００重
量部を超えると、形成された突起が現像時に基板から脱
落しやすく、また突起が形成される部分以外の領域で地
汚れ、膜残り等を生じやすくなる。添加剤 さらに、突起材用感放射線性組成物（α）には、必要に
応じて、種々の添加剤を配合することもできる。The amount of the photopolymerization initiator used in the present invention is
(C) usually 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyfunctional monomer and optionally used monofunctional monomer.
The amount is 01 to 500 parts by weight, preferably 1 to 300 parts by weight, and particularly preferably 10 to 200 parts by weight. In this case, if the amount of the photopolymerization initiator used is less than 0.01 parts by weight, curing due to exposure will be insufficient, and the projections formed may be chipped, chipped or undercut, while more than 500 parts by weight. Then, the formed protrusions are likely to fall off the substrate during development, and scumming and film residue are likely to occur in a region other than the portion where the protrusions are formed. Additives Further, various additives may be added to the radiation-sensitive composition for protrusions (α), if necessary.

【００６１】このような添加剤としては、例えば、銅フ
タロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導
体等の分散助剤；ポリビニルアルコール、ポリエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類、ポリ（フロロアル
キルアクリレート）類等の高分子化合物；ノニオン系、
カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ
ス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノ
エチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２
−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止
剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコ
キシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；ポリアクリル
酸ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げることができる。Examples of such additives include dispersing aids such as blue pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives and yellow pigment derivatives; polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ethers, poly (fluoroalkyl acrylate) s and the like. Polymer compounds; nonionic,
Cationic or anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- ( 2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2
Adhesion promotion of-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. Agent; 2, 2
-Antioxidants such as thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol; 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5- Examples thereof include ultraviolet absorbers such as chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones; and aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate.

【００６２】また、突起材用感放射線性組成物（α）
は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基を有す
る共重合体である場合、該組成物から形成される塗膜の
アルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像
処理後の未溶解物の残存をより抑制するために、有機酸
を含有するこもできる。Further, the radiation-sensitive composition for protrusions (α)
When (B) the alkali-soluble resin is a copolymer having a carboxyl group, the solubility of the coating film formed from the composition in an alkaline developer is further improved, and the undissolved substance after the development treatment is An organic acid may be contained in order to further suppress the residue.

【００６３】このような有機酸としては、脂肪族カルボ
ン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。As such an organic acid, an aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid is preferable.

【００６４】前記脂肪族カルボン酸の具体例としては、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、
カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等
のモノカルボン酸類；しゅう酸、マロン酸、こはく酸、
グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン
酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく
酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン
酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル
酸、メサコン酸等のジカルボン酸類；トリカルバリル
酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリカルボン酸類
等を挙げることができる。Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include:
Formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid,
Monocarboxylic acids such as caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid,
Glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citracon Examples thereof include dicarboxylic acids such as acids, maleic acid, fumaric acid, and mesaconic acid; tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoronic acid.

【００６５】また、前記フェニル基含有カルボン酸とし
ては、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した芳香
族カルボン酸や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェ
ニル基に結合したカルボン酸を挙げることができ、それ
らの具体例としては、安息香酸、トルイル酸、クミン
酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン
酸類；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香
族ジカルボン酸類；トリメリット酸、トリメシン酸、メ
ロファン酸、ピロメリット酸等の３価以上の芳香族ポリ
カルボン酸類や、フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒ
ドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロ
パ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベ
ル酸等を挙げることができる。Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include an aromatic carboxylic acid having a carboxyl group directly bonded to a phenyl group and a carboxylic acid having a carboxyl group bonded to a phenyl group through a carbon chain, Specific examples thereof include aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid and mesitylene acid; aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid; trimellitic acid and trimesic acid. , Trivalent aromatic polycarboxylic acids such as melophanoic acid and pyromellitic acid, phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidene acid, coumaric acid , Umbellic acid and the like.

【００６６】これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン
酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジ
カルボン酸類が、アルカリ溶解性、後述する溶剤に対す
る溶解性、突起が形成される部分以外の領域での地汚れ
の防止等の観点から好ましい。Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and phthalic acid are alkali-soluble, and the solvent described later is used. It is preferable from the standpoints of solubility in water, prevention of scumming in areas other than the area where projections are formed, and the like.

【００６７】前記有機酸は、単独でまたは２種以上を混
合して使用することができる。The above organic acids may be used alone or in admixture of two or more.

【００６８】有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体
に対して、通常、１０重量％以下、好ましくは０．００
１〜１０重量％、さらに好ましくは０．０１〜１重量％
である。この場合、有機酸の使用量が１０重量％を超え
ると、形成された突起の基板に対する密着性が低下する
傾向がある。溶媒 突起材用感放射線性組成物（α）は、前記（Ａ）導電性
粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性モノ
マーおよび（Ｄ）光重合開始剤を必須の成分とし、場合
によりさらに前記添加剤を含有するが、通常、適当な溶
媒に（Ａ）成分を分散させるとともに、（Ａ）成分以外
の各成分を溶解させた液状組成物として調製される。The amount of the organic acid used is usually not more than 10% by weight, preferably 0.00, based on the whole radiation-sensitive composition.
1 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 1% by weight
Is. In this case, if the amount of the organic acid used exceeds 10% by weight, the adhesion of the formed protrusions to the substrate tends to decrease. The radiation-sensitive composition (α) for a solvent projection material contains the above-mentioned (A) conductive particles, (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer and (D) photopolymerization initiator as essential components, Although the above-mentioned additive is optionally contained, it is usually prepared as a liquid composition in which the component (A) is dispersed in a suitable solvent and each component other than the component (A) is dissolved.

【００６９】前記溶媒としては、（Ａ）〜（Ｄ）各成分
と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適
宜に選択して使用することができる。The solvent can be appropriately selected and used as long as it does not react with the components (A) to (D) and has appropriate volatility.

【００７０】このような溶媒の具体例としては、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエ
チレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレング
リコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレング
リコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレング
リコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレング
リコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
メチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン
類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキ
シプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキ
シプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢
酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３
−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル
−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢
酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、
酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プ
ロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピ
ル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メ
チル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、ア
セト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソ酪酸エ
チル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のカ
ルボン酸アミド類等を挙げることができる。Specific examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether,
(Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol Jime Other ethers such as ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate, 2-hydroxypropione Lactic acid alkyl esters such as ethyl acid; 2
-Methyl hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethoxy Ethyl acetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutyrate, 3
-Methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate,
I-Butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, pyruvate n -Other esters such as propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutyrate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N- Examples thereof include carboxylic acid amides such as dimethylacetamide.

【００７１】これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができる。These solvents may be used alone or in admixture of two or more.

【００７２】さらに、前記溶媒と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アセトニルアセ
トン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オク
タノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸
ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイ
ン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。Further, together with the above solvent, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, A high boiling point solvent such as diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate and ethylene glycol monophenyl ether acetate can be used in combination.

【００７３】これらの高沸点溶媒は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。These high boiling point solvents may be used alone or in admixture of two or more.

【００７４】前記溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロ
ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、２−ヒ
ドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキ
シブチルプロピオネート、３−メトキシプロピオン酸エ
チル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシ
プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチ
ル、酢酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ
−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブ
チル、ピルビン酸エチル等が好ましく、また高沸点溶媒
としてはγ−ブチロラクトン等が好ましい。Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, cyclohexanone, from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coatability and the like. , 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, acetic acid n-butyl, i-butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, n-propionate
-Butyl, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like are preferable, and γ-butyrolactone and the like are preferable as the high boiling point solvent.

【００７５】溶媒の使用量は、（Ｂ）アルカリ可溶性樹
脂１００重量部に対して、通常、１００〜１０，０００
重量部、好ましくは５００〜５，０００重量部である。突起の作製方法 本発明における突起材用感放射線性組成物を用いて突起
を作製する際には、リソグラフィプロセスが採用され
る。以下、該突起材用感放射線性組成物を用いて突起を
作製する方法について説明する。The amount of the solvent used is usually 100 to 10,000 with respect to 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (B).
Parts by weight, preferably 500 to 5,000 parts by weight. Method for Producing Protrusion When a protrusion is produced using the radiation-sensitive composition for a protrusion material according to the present invention, a lithography process is adopted. Hereinafter, a method for producing projections using the radiation-sensitive composition for projection material will be described.

【００７６】先ず、基板上に、突起材用感放射線性組成
物の液状組成物を塗布したのち、プリベークを行って溶
媒を蒸発させて、塗膜を形成する。次いで、この塗膜に
フォトマスクを介して所定形状に露光して硬化させたの
ち、アルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部
を溶解除去し、その後好ましくはポストベークを行うこ
とにより、所定形状の突起が配置された基板を得ること
ができる。First, a liquid composition of a radiation-sensitive composition for a projection material is applied on a substrate and then prebaked to evaporate the solvent to form a coating film. Then, this coating film is exposed to a predetermined shape through a photomask to be cured, and then developed with an alkali developing solution to dissolve and remove the unexposed portion of the coating film, and then preferably post-baking is performed. As a result, it is possible to obtain a substrate on which protrusions having a predetermined shape are arranged.

【００７７】前記基板としては、例えば、ガラス、シリ
コン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリア
ミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることが
できる。Examples of the substrate include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, and polyimide.

【００７８】また、これらの基板には、所望により、シ
ランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、
イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、
真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。If desired, these substrates may be subjected to chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment,
Ion plating, sputtering, gas phase reaction method,
Appropriate pretreatment such as vacuum deposition may be performed.

【００７９】突起材用感放射線性組成物の液状組成物を
基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗
布等の適宜の塗布法を採用することができる。When the liquid composition of the radiation-sensitive composition for the protrusion material is applied to the substrate, a suitable coating method such as spin coating, cast coating and roll coating can be employed.

【００８０】塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、
０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜５．０μｍ、さ
らに好ましくは０．２〜３．０μｍである。The coating thickness is usually expressed as the film thickness after drying.
The thickness is 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm, and more preferably 0.2 to 3.0 μm.

【００８１】突起を形成する際に使用される放射線とし
ては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、
Ｘ線等を使用することができるが、波長が１９０〜４５
０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。The radiation used for forming the protrusions includes, for example, visible light, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams,
X-rays or the like can be used, but the wavelength is 190 to 45
Radiation in the range of 0 nm is preferred.

【００８２】放射線の照射エネルギー量は、好ましくは
１０〜１０，０００Ｊ／ｍ2 である。The irradiation energy amount of radiation is preferably 10 to 10,000 J / m 2 .

【００８３】また、前記アルカリ現像液としては、例え
ば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コ
リン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−
ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］
−５−ノネン等の水溶液が好ましい。Examples of the alkaline developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-
Undecene, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0]
An aqueous solution such as -5-nonene is preferable.

【００８４】前記アルカリ現像液には、例えばメタノー
ル、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適
量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通
常、水洗する。An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like can be added to the alkaline developer. After the alkali development, it is usually washed with water.

【００８５】現像処理法としては、シャワー現像法、ス
プレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛
り）現像法等を適用することができ、現像条件は、常温
で５〜３００秒が好ましい。As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid pour) developing method and the like can be applied. The developing condition is room temperature at 5 to 300 seconds. preferable.

【００８６】このようにして形成された突起の電気抵抗
値は、硬化物として、１０12Ω・ｃｍ以下、好ましくは
１０10Ω・ｃｍ以下、特に好ましくは１０8 Ω・ｃｍ以
下である。なお、本発明における突起材用感放射線性組
成物から得られる硬化物の電気抵抗値の下限値は、感放
射線性組成物中の導電性粒子や他の成分の種類と使用量
等により変わるが、通常、１０4 Ω・ｃｍ程度である。The electrical resistance value of the protrusion thus formed is, as a cured product, 10 12 Ω · cm or less, preferably 10 10 Ω · cm or less, and particularly preferably 10 8 Ω · cm or less. The lower limit of the electric resistance value of the cured product obtained from the radiation-sensitive composition for a projection material in the present invention varies depending on the type and amount of the conductive particles and other components in the radiation-sensitive composition. Usually, it is about 10 4 Ω · cm.

【００８７】本発明における突起材用感放射線性組成物
から形成された突起は、垂直配向型カラー液晶表示装置
における液晶の配向方向を規制するドメイン規制手段と
して極めて有用である。The protrusion formed from the radiation-sensitive composition for a protrusion material in the present invention is extremely useful as a domain regulating means for regulating the alignment direction of liquid crystal in a vertical alignment type color liquid crystal display device.

【００８８】[0088]

【発明の実施の形態】突起材用感放射線性組成物（α）
は、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を必
須成分として含有するものであるが、特に好ましい組成
物を具体的に例示すると、下記（イ）〜（ヘ）のとおり
である。 （イ） （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基含
有共重合体、さらに好ましくはカルボキシル基含有共重
合体（Ｉ）、特に好ましくはカルボキシル基含有共重合
体（Ｉａ）、カルボキシル基含有共重合体（Ｉｂ）、カ
ルボキシル基含有共重合体（Ｉｃ）およびカルボキシル
基含有共重合体（Ｉｄ）の群から選ばれる少なくとも１
種を含む突起材用感放射線性組成物（α）。 （ロ） （Ｃ）多官能性単量体がトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トの群から選ばれる少なくとも１種からなる前記（イ）
の突起材用感放射線性組成物（α）。 （ハ） （Ｄ）光重合開始剤がビイミダゾール系化合物
と、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系の増感
剤およびチアゾール系の硬化促進剤の群から選ばれる１
種以上との組み合わせからなる前記（イ）または（ロ）
の突起材用感放射線性組成物（α）。 （ニ） （Ｄ）光重合開始剤が２，２’−ビス（２−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４
−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダ
ゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、２，２’−ビス（２−クロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エト
キシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール
／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／
２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２
−モルフォリノプロパン−１−オン、２，２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−
ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベ
ンゾフェノン／２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）
フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン／２
−メルカプトベンゾチアゾール、２，２’−ビス（２，
４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニル−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２’−ビス
（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール／４，４’
−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン／２−ベンジ
ル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェ
ニル）ブタン−１−オン、２，２’−ビス（２，４−ジ
ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ル−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジエ
チルアミノ）ベンゾフェノン／２−メチル−１−〔４−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン
−１−オンおよび２，２’−ビス（２，４，６−トリク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
−１，２’−ビイミダゾール／４，４’−ビス（ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン／２−メチル−１−〔４−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン
−１−オン／２−メルカプトベンゾチアゾールのいずれ
かの組み合わせからなる前記（ハ）の突起材用感放射線
性組成物（α）。 （ホ） （Ａ）導電性粒子がカーボンブラックを含む前
記（イ）、（ロ）、（ハ）または（ニ）の突起材用感放
射線性組成物（α）。 （ヘ） （Ａ）導電性粒子の含有量が、感放射線性組成
物中の全固形分に対して、０．１〜３０重量％である前
記（イ）、（ロ）、（ハ）、（ニ）または（ホ）の突起
材用感放射線性組成物（α）。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Radiation-sensitive composition for projection material (α)
Is (A) conductive particles, (B) alkali-soluble resin,
The polyfunctional monomer (C) and the photopolymerization initiator (D) are contained as essential components, and particularly preferable compositions are as follows (a) to (f). (A) (B) The alkali-soluble resin is a carboxyl group-containing copolymer, more preferably a carboxyl group-containing copolymer (I), particularly preferably a carboxyl group-containing copolymer (Ia), a carboxyl group-containing copolymer ( Ib), at least one selected from the group consisting of carboxyl group-containing copolymer (Ic) and carboxyl group-containing copolymer (Id)
A radiation-sensitive composition (α) for a protrusion material containing a seed. (B) The (C) polyfunctional monomer comprises at least one selected from the group consisting of trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (a).
The radiation-sensitive composition (α) for the projection material. (C) (D) The photopolymerization initiator is selected from the group consisting of a biimidazole compound, an acetophenone compound, a benzophenone sensitizer and a thiazole curing accelerator. 1
The above (a) or (b) consisting of a combination of two or more species
The radiation-sensitive composition (α) for the projection material. (D) (D) The photopolymerization initiator is 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4
-Ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-
2-Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone /
2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2
-Morpholinopropan-1-one, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-
Biimidazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4- (methylthio)
Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one / 2
-Mercaptobenzothiazole, 2,2'-bis (2,2
4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) ) -4,4 ', 5,5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4 '
-Bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ' , 5,5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4-
(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 ′ -Biimidazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone / 2-methyl-1- [4-
(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one / 2-mercaptobenzothiazole A radiation-sensitive composition (α) for a projection material according to (c) above, which comprises any combination thereof. (E) The radiation-sensitive composition (α) for a protrusion material according to (A), (B), (C), or (D), wherein the conductive particles (A) contain carbon black. (F) The content of the conductive particles (A) is 0.1 to 30% by weight based on the total solid content of the radiation-sensitive composition, (a), (b), (c), The radiation-sensitive composition (α) for a protrusion material according to (d) or (e).

【００８９】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実
施例に何ら制約されるものではない。Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

【００９０】[0090]

【実施例】実施例１ （Ａ）導電性粒子としてカーボンブラック（電気抵抗
値：１０2 Ω・ｃｍ）１０重量部と、（Ｂ）アルカリ可
溶性樹脂としてメタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート／ベンジルメタクリレート／ポリスチレン
マクロモノマー共重合体（共重合重量比：１５／１５／
６０／１０、Ｍｗ：２５，０００）５０重量部、（Ｃ）
多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート４０重量部、（Ｄ）光重合開始剤として
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニ
ル）−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４’
−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン１０重量部お
よび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）ブタン−１−オン２０重量部、溶
媒として３−エトキシプロピオン酸エチル１５００重量
部を混合して、感放射線性組成物の液状組成物を調製し
た。Example 1 (A) 10 parts by weight of carbon black (electrical resistance value: 10 2 Ω · cm) as conductive particles, and (B) methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate as an alkali-soluble resin. / Polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio: 15/15 /
60/10, Mw: 25,000) 50 parts by weight, (C)
40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer, (D) 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 'as a photopolymerization initiator,
5,5'-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole 10 parts by weight, 4,4 '
10 parts by weight of bis (diethylamino) benzophenone, 20 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, and 1500 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent are mixed. Then, a liquid composition of the radiation-sensitive composition was prepared.

【００９１】この液状組成物を、表面にナトリウムイオ
ンの溶出を防止するシリカ（ＳｉＯ 2)膜が形成されたソ
ーダガラス製基板の表面上に、スピンコーターを用いて
塗布したのち、９０℃で４分間プリベークを行なって、
膜厚１．３μｍの塗膜を形成した。This liquid composition was treated with sodium ion on the surface.
Silica (SiO) 2) The film-formed
Using a spin coater on the surface of the glass substrate
After applying, pre-bake at 90 ℃ for 4 minutes,
A coating film having a film thickness of 1.3 μm was formed.

【００９２】次いで、基板を室温に冷却したのち、高圧
水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波長
３６５ｎｍの紫外線を２，０００Ｊ／ｍ2 の露光量で露
光して硬化させた。その後、基板を２３℃の０．０４重
量％水酸化カリウム水溶液中に１分間浸漬して現像した
のち、超純水で洗浄し、風乾した。その後、２５０℃で
３０分間ポストベークを行なって、基板上に所定形状の
黒色の突起を形成した。Next, after cooling the substrate to room temperature, the coating film was exposed to ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm at a dose of 2,000 J / m 2 and cured through a photomask using a high pressure mercury lamp. After that, the substrate was immersed in a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 1 minute for development, washed with ultrapure water, and air-dried. Then, post-baking was performed at 250 ° C. for 30 minutes to form black protrusions having a predetermined shape on the substrate.

【００９３】得られた基板には、未露光部の基板上に残
渣が認められず、また突起の剥がれ、欠落および欠損も
認められず、しかも高い膜硬度を有し、突起表面の平滑
性に優れていた。さらに、この基板を使用して垂直配向
型液晶パネルを作製したところ、焼き付きや表示ムラな
どの表示不良は認められなかった。In the obtained substrate, no residue was observed on the substrate in the unexposed area, no peeling, missing or missing of the protrusions was observed, and the film had a high film hardness and had a smooth surface. Was excellent. Furthermore, when a vertical alignment type liquid crystal panel was produced using this substrate, no display defects such as burn-in and display unevenness were observed.

【００９４】また別途、この感放射線性組成物の液状組
成物を用いて硬化物を形成して電気抵抗値を測定したと
ころ、１０8 Ω・ｃｍであった。 比較例１ （Ａ）導電性粒子を使用しなかったこと以外は、実施例
１と同様にして、感放射線性組成物の液状組成物を調製
して、基板上に突起を形成した。Separately, a cured product was formed using the liquid composition of the radiation-sensitive composition and the electric resistance value was measured and found to be 10 8 Ω · cm. Comparative Example 1 (A) A liquid composition of the radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive particles were not used, and projections were formed on the substrate.

【００９５】得られた基板を使用して垂直配向型液晶パ
ネルを作成したところ、焼き付きや表示ムラなどの表示
不良が認められた。When a vertical alignment type liquid crystal panel was prepared using the obtained substrate, display defects such as burn-in and display unevenness were recognized.

【００９６】また別途、この感放射線性組成物の液状組
成物を用いて硬化物を形成して電気抵抗値を測定したと
ころ、１０14Ω・ｃｍであった。Separately, a cured product was formed using the liquid composition of the radiation-sensitive composition, and the electric resistance value was measured and found to be 10 14 Ω · cm.

【００９７】[0097]

【発明の効果】本発明の垂直配向型カラー液晶表示パネ
ルの突起材用感放射線性組成物は、高い膜硬度を有し、
突起表面の平滑性に優れるとともに、未露光部の基板上
に残渣や地汚れを生じ難く、また現像時の突起の基板へ
の密着性に優れており、突起の剥がれ、欠落および欠損
を生じることがなく、しかも表示パネルとしたときに焼
き付きや表示ムラなどの表示不良を起こし難いものであ
る。The radiation-sensitive composition for a projection material of a vertical alignment type color liquid crystal display panel of the present invention has a high film hardness,
The surface of the protrusions is excellent in smoothness, residues and background stains are not easily generated on the substrate in the unexposed area, and the adhesion of the protrusions to the substrate at the time of development is excellent, resulting in peeling, chipping or chipping of the protrusions. In addition, it is difficult to cause display defects such as burn-in and display unevenness when used as a display panel.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】硬化物の電気抵抗値が１０12Ω・ｃｍ以下
であることを特徴とする垂直配向型カラー液晶表示パネ
ルの突起材用感放射線性組成物。1. A radiation-sensitive composition for a projection material for a vertical alignment type color liquid crystal display panel, characterized in that the cured product has an electric resistance value of 10 12 Ω · cm or less. 【請求項２】 （Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶
性樹脂、（Ｃ）多官能性モノマーおよび（Ｄ）光重合開
始剤を含有することを特徴とする垂直配向型カラー液晶
表示パネルの突起材用感放射線性組成物。2. A vertical alignment type color liquid crystal display panel comprising (A) conductive particles, (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer and (D) photopolymerization initiator. A radiation-sensitive composition for a protrusion material. 【請求項３】 （Ａ）導電性粒子がカーボンブラックを
含む請求項２に記載の垂直配向型カラー液晶表示パネル
の突起材用感放射線性組成物。3. The radiation-sensitive composition for a protruding material of a vertical alignment type color liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the conductive particles (A) contain carbon black. 【請求項４】 （Ａ）導電性粒子の含有量が、全固形分
の０．１〜３０重量％である請求項２または請求項３に
記載の垂直配向型カラー液晶表示パネルの突起材用感放
射線性組成物。4. The protrusion material for a vertical alignment type color liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the content of the conductive particles (A) is 0.1 to 30% by weight based on the total solid content. Radiation-sensitive composition.
JP2001194864A 2001-06-27 2001-06-27 Projection material for vertical alignment color LCD panel Expired - Fee Related JP4660985B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001194864A JP4660985B2 (en) 2001-06-27 2001-06-27 Projection material for vertical alignment color LCD panel
TW091114072A TWI255835B (en) 2001-06-27 2002-06-26 Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels
SG200203910A SG94877A1 (en) 2001-06-27 2002-06-26 Radiation sensitive composition for use as a projection material for vertically aligned color liquid crystal displays panels
KR1020020035873A KR20030004057A (en) 2001-06-27 2002-06-26 Radiation Sensitive Composition for Protrusion Material of Vertically Aligned Color Liquid Crystal Display Panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001194864A JP4660985B2 (en) 2001-06-27 2001-06-27 Projection material for vertical alignment color LCD panel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003015276A true JP2003015276A (en) 2003-01-15
JP4660985B2 JP4660985B2 (en) 2011-03-30

Family

ID=19032925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001194864A Expired - Fee Related JP4660985B2 (en) 2001-06-27 2001-06-27 Projection material for vertical alignment color LCD panel

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4660985B2 (en)
KR (1) KR20030004057A (en)
SG (1) SG94877A1 (en)
TW (1) TWI255835B (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251565A (en) * 2005-03-11 2006-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd Protrusion for liquid crystal alignment control, manufacturing method of the same, and liquid crystal display
JP2006285211A (en) * 2005-03-11 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Liquid crystal alignment control protrusion and method for manufacturing the same, photosensitive resin composition, resin transfer material, substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display element, and liquid crystal display device
JP2006309167A (en) * 2005-03-29 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Projection for liquid crystal alignment control and composition, resin transfer material, method of manufacturing the projection for liquid crystal alignment control, substrate for liquid crystal display, liquid crystal display element, and the liquid crystal display
JP2006309168A (en) * 2005-03-29 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Projection for liquid crystal alignment control and composition, resin transfer material, method of manufacturing the projection for liquid crystal alignment control, substrate for liquid crystal display, liquid crystal display element, the and liquid crystal display
JP2007249113A (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Jsr Corp Radiation-sensitive resin composition for spacer, spacer and liquid crystal display element
JP2008171594A (en) * 2007-01-09 2008-07-24 Hayakawa Rubber Co Ltd Projecting particulate, projecting conductive particulate, and manufacturing method of projecting particulate
JP2011180580A (en) * 2010-02-02 2011-09-15 Toray Ind Inc Photosensitive paste for forming organic-inorganic composite conductive pattern and method for producing organic-inorganic composite conductive pattern
JP2012113212A (en) * 2010-11-26 2012-06-14 Hitachi Displays Ltd Solvent for forming alignment layer, and alignment layer material and method for manufacturing liquid crystal display device using the solvent

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10301114A (en) * 1997-04-30 1998-11-13 Fujitsu Ltd Liquid crystal display device
JPH11249299A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive dispersed matter, photosensitive sheet and manufacture of conductive pattern
JPH11258605A (en) * 1997-06-12 1999-09-24 Fujitsu Ltd Liquid crystal display device
JP2000056305A (en) * 1998-08-05 2000-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display device and its manufacture
WO2000034830A1 (en) * 1998-12-08 2000-06-15 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photocurable anisotropically conductive composition and anisotropically conductive pattern formed by using the same
JP2000227654A (en) * 1998-11-30 2000-08-15 Jsr Corp Radiation sensitive composition for black resist

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10301114A (en) * 1997-04-30 1998-11-13 Fujitsu Ltd Liquid crystal display device
JPH11258605A (en) * 1997-06-12 1999-09-24 Fujitsu Ltd Liquid crystal display device
JPH11249299A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive dispersed matter, photosensitive sheet and manufacture of conductive pattern
JP2000056305A (en) * 1998-08-05 2000-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display device and its manufacture
JP2000227654A (en) * 1998-11-30 2000-08-15 Jsr Corp Radiation sensitive composition for black resist
WO2000034830A1 (en) * 1998-12-08 2000-06-15 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photocurable anisotropically conductive composition and anisotropically conductive pattern formed by using the same

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251565A (en) * 2005-03-11 2006-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd Protrusion for liquid crystal alignment control, manufacturing method of the same, and liquid crystal display
JP2006285211A (en) * 2005-03-11 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Liquid crystal alignment control protrusion and method for manufacturing the same, photosensitive resin composition, resin transfer material, substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display element, and liquid crystal display device
JP4619835B2 (en) * 2005-03-11 2011-01-26 富士フイルム株式会社 Projection for liquid crystal alignment control, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device
JP2006309167A (en) * 2005-03-29 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Projection for liquid crystal alignment control and composition, resin transfer material, method of manufacturing the projection for liquid crystal alignment control, substrate for liquid crystal display, liquid crystal display element, and the liquid crystal display
JP2006309168A (en) * 2005-03-29 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Projection for liquid crystal alignment control and composition, resin transfer material, method of manufacturing the projection for liquid crystal alignment control, substrate for liquid crystal display, liquid crystal display element, the and liquid crystal display
JP2007249113A (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Jsr Corp Radiation-sensitive resin composition for spacer, spacer and liquid crystal display element
JP4715575B2 (en) * 2006-03-20 2011-07-06 Ｊｓｒ株式会社 Radiation sensitive resin composition for spacer, spacer and liquid crystal display element
JP2008171594A (en) * 2007-01-09 2008-07-24 Hayakawa Rubber Co Ltd Projecting particulate, projecting conductive particulate, and manufacturing method of projecting particulate
JP2011180580A (en) * 2010-02-02 2011-09-15 Toray Ind Inc Photosensitive paste for forming organic-inorganic composite conductive pattern and method for producing organic-inorganic composite conductive pattern
JP2012113212A (en) * 2010-11-26 2012-06-14 Hitachi Displays Ltd Solvent for forming alignment layer, and alignment layer material and method for manufacturing liquid crystal display device using the solvent

Also Published As

Publication number Publication date
SG94877A1 (en) 2003-03-18
KR20030004057A (en) 2003-01-14
JP4660985B2 (en) 2011-03-30
TWI255835B (en) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3564836B2 (en) Radiation-sensitive composition for color filter and color filter
KR101134278B1 (en) Radiation sensitive composition and method for the preparation of the same
JP3860806B2 (en) Method for forming colored layer for color filter
JP5176468B2 (en) Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element
JPH10300922A (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP2005316388A (en) Radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display
JP2000227654A (en) Radiation sensitive composition for black resist
JP2009037219A (en) Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element
JP2001356210A (en) Radiation sensitive composition for color filter and color filter
JP4292985B2 (en) Radiation-sensitive composition, microlens and method for forming the same, and liquid crystal display device
JP2006047686A (en) Radiation-sensitive composition for color filter, its preparation method, color filter and color liquid crystal display
JPH11149153A (en) Radiation sensitive composition for black resist
JP4660985B2 (en) Projection material for vertical alignment color LCD panel
JP4075243B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter and color filter
JP3900078B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device
JP2002365795A (en) Radiation sensitive composition for color liquid crystal display
JP3726556B2 (en) Preparation method of radiation sensitive composition for color filter
JP2001147315A (en) Radiation-sensitive composition for blue color filter and color filter
JP2002040225A (en) Radiation sensitive composition for color liquid crystal display device and color liquid crystal display device
JP2006030674A (en) Radiation sensitive composition for color filter, method for preparing the same, color filter and color liquid crystal display
JPH10273525A (en) Alkaline solution-soluble polymer
KR100907594B1 (en) Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device
JP4432506B2 (en) Radiation-sensitive composition for color filter and preparation method thereof, color filter and color liquid crystal display device
JP2001108817A (en) Radiation-sensitive composition for color filter, and color filter
JPH10293397A (en) Radiation sensitive composition for color filter

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080410

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100721

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101207

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101220

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4660985

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees