JPH10293397A - Radiation sensitive composition for color filter - Google Patents

Radiation sensitive composition for color filter

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JPH10293397A
JPH10293397A JP10405997A JP10405997A JPH10293397A JP H10293397 A JPH10293397 A JP H10293397A JP 10405997 A JP10405997 A JP 10405997A JP 10405997 A JP10405997 A JP 10405997A JP H10293397 A JPH10293397 A JP H10293397A
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JP
Japan
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radiation
acid
sensitive composition
bis
weight
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Application number
JP10405997A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Iijima
孝浩 飯島
Tomio Nagatsuka
富雄 長塚
Hiroaki Nemoto
宏明 根本
Koji Kumano
厚司 熊野
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form an image forming material having high resolution and surface smoothness, and restrain the occurrence of projections from the surface of the image forming material by specifying the angle of contact of methylene iodide for a hardened film cured under exposure to a radiation. SOLUTION: This radiation sensitive composition used for a color filter is prepared so as to contain a coloring agent A, a binder polymer B, a multifunctional monomer C, a photochemical polymerization initiator D, a solvent E and a surface active agent F, and to have an angle equal to or less than 55 degrees as the angle of contact of methylene iodide for a hardened film cured under exposure to a radiation. In other words, the angle of contact of methylene iodide for the hardened film cured under exposure to a radiation is equal to or less than 55 degrees and in particular, when a red coloring agent is used as an A-component, the angle of contact of methylene iodide for the obtained hardened film is preferably taken at 45 degrees or less. Also, when a green or blue coloring agent is used as the A-component, the angle of contact of methylene iodide for the obtained hardened film is preferably taken at 50 degrees or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置やカラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルター
を製造するためのカラーフィルター用感放射線性組成物
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter for producing a color filter used for a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、カラー液晶表示装置やカラー固
体撮像管素子などにおいては、赤色、緑色および青色の
三原色の画素アレイが配置されてなるカラーフィルター
が用いられている。このようなカラーフィルターを製造
する方法としては、例えばネガ型の感放射線性組成物を
用い、フォトリソグラフィーの手法により、基板上に画
素パターンに従って赤色、緑色および青色の各々の画素
アレイを形成するフォトリソグラフィー法、基板上に画
素パターンに従って透明電極を形成した後、この透明電
極に着色剤が含有されたアニオン型ポリマーを電着する
電着法、スクリーン印刷、オフセット印刷などにより、
基板上に画素パターンに従って赤色、緑色および青色の
各々のインクを塗布する印刷法などが知られている。ま
た、フォトリソグラフィー法としては、着色剤が分散さ
れたネガ型の感放射線性組成物を用いる方法(以下、
「着色剤分散法」という。)、感放射線性組成物を用い
て基板上に画素パターンに従って染料受容層を形成した
後、当該染料受容層を染色する染色法が知られている。
これらの中では、得られる画素形成体の分光特性、解像
性、平坦性、堅牢性(耐熱性、耐光性、耐薬品性等)、
製造コストなどのバランスが良好である点で、主として
着色剤分散法が利用されている。
2. Description of the Related Art Generally, a color filter having a pixel array of three primary colors of red, green and blue is used in a color liquid crystal display device or a color solid-state image pickup tube device. As a method of manufacturing such a color filter, for example, using a negative-type radiation-sensitive composition, a photolithography technique is used to form a red, green and blue pixel array on a substrate in accordance with a pixel pattern. Lithography method, after forming a transparent electrode according to the pixel pattern on the substrate, by electrodeposition method of electrodepositing an anionic polymer containing a colorant on the transparent electrode, screen printing, offset printing, etc.
A printing method of applying each of red, green and blue inks on a substrate according to a pixel pattern is known. As a photolithography method, a method using a negative-type radiation-sensitive composition in which a coloring agent is dispersed (hereinafter, a method using a negative-type radiation-sensitive composition)
It is called "colorant dispersion method". A dyeing method is known in which a dye-receiving layer is formed on a substrate according to a pixel pattern using a radiation-sensitive composition, and then the dye-receiving layer is dyed.
Among these, the spectral characteristics, resolution, flatness, and robustness (heat resistance, light resistance, chemical resistance, etc.) of the obtained pixel formed body,
The colorant dispersion method is mainly used because the production cost and the like are well balanced.

【0003】このような着色剤分散法によれば、次のよ
うにしてカラーフィルターが製造される。先ず、基板の
表面上に画素形成部を区画するよう遮光層を形成し、こ
の基板上に例えば赤色顔料が分散された感放射線性組成
物を塗布する。次いで、得られる塗膜にフォトマスクを
介して硬化用放射線を照射して放射線照射処理を行った
後、例えばアルカリ現像液を用いて現像処理を行って塗
膜における放射線が照射されていない部分を除去するこ
とにより、赤色の画素形成体が特定のパターンに従って
配置された赤色の画素アレイを形成する。さらに、緑色
顔料が分散された感放射線性組成物および青色顔料が分
散された感放射線性組成物のそれぞれを用い、上記と同
様に当該感放射線性組成物の塗布、放射線照射処理およ
び現像処理を行うことにより、緑色の画素アレイおよび
青色の画素アレイを同一の基板上に形成し、これによっ
て、カラーフィルターが製造される。
According to such a colorant dispersion method, a color filter is manufactured as follows. First, a light-shielding layer is formed on a surface of a substrate so as to partition a pixel formation portion, and a radiation-sensitive composition in which, for example, a red pigment is dispersed is applied on the substrate. Next, the obtained coating film is irradiated with curing radiation through a photomask to perform a radiation irradiation treatment, and then, for example, is subjected to a development treatment using an alkali developer to remove a portion of the coating film where the radiation is not irradiated. The removal forms a red pixel array in which the red pixel formers are arranged according to a particular pattern. Further, using each of the radiation-sensitive composition in which the green pigment is dispersed and the radiation-sensitive composition in which the blue pigment is dispersed, coating, irradiation, and development of the radiation-sensitive composition are performed in the same manner as described above. By doing so, a green pixel array and a blue pixel array are formed on the same substrate, whereby a color filter is manufactured.

【0004】しかしながら、カラーフィルターの製造に
用いられる従来の感放射線性組成物においては、解像性
および得られる画素形成体の表面平滑性が十分なもので
はなく、また、画素形成体の表面に突起が発生しやすく
て高い歩留りが得られない、という問題がある。
However, in the conventional radiation-sensitive composition used for the production of a color filter, the resolution and the surface smoothness of the obtained pixel forming body are not sufficient, and the surface of the pixel forming body has an insufficient resolution. There is a problem that projections are likely to occur and a high yield cannot be obtained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
解像性が高く、表面平滑性に優れた画素形成体を形成す
ることができ、しかも、画素形成体の表面に突起が発生
することが抑制されて、高い歩留りでカラーフィルター
を製造することができるカラーフィルター用感放射線性
組成物を提供することにある.
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above circumstances, and its object is to provide:
A pixel forming body having high resolution and excellent surface smoothness can be formed, and furthermore, the occurrence of projections on the surface of the pixel forming body is suppressed, so that a color filter can be manufactured with a high yield. To provide a radiation-sensitive composition for a color filter that can be used.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ー用感放射線性組成物は、(A)着色剤と、(B)バイ
ンダーポリマーと、(C)多官能性モノマーと、(D)
光重合開始剤と、(E)溶剤と、(F)界面活性剤とを
含有してなり、放射線の照射により硬化して得られる硬
化膜に対するヨウ化メチレンの接触角が55゜以下であ
ることを特徴とする。
The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention comprises (A) a colorant, (B) a binder polymer, (C) a polyfunctional monomer, and (D)
It contains a photopolymerization initiator, (E) a solvent, and (F) a surfactant, and the contact angle of methylene iodide to a cured film obtained by curing by irradiation of radiation is 55 ° or less. It is characterized by.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルター
用感放射線性組成物について詳細に説明する。本発明の
カラーフィルター用感放射線性組成物においては、着色
剤よりなる(A)成分と、バインダーポリマーよりなる
(B)成分と、多官能性モノマーよりなる(C)成分
と、光重合開始剤よりなる(D)成分と、溶剤よりなる
(E)成分と、界面活性剤よりなる(F)成分とが必須
の成分として用いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention will be described in detail. In the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention, a component (A) composed of a colorant, a component (B) composed of a binder polymer, a component (C) composed of a polyfunctional monomer, and a photopolymerization initiator Component (D), component (E) composed of a solvent, and component (F) composed of a surfactant are used as essential components.

【0008】〔着色剤〕(A)成分として用いられる着
色剤は、その色調が特に限定されるものではなく、カラ
ーフィルターの用途に応じて適宜選定され、有機着色剤
および無機着色剤のいずれか一方または両方を(A)成
分として用いることができる。ここで、「有機着色剤」
とは、有機物よりなる着色剤を意味し、具体的には染
料、有機顔料、天然色素等が含まれる。また、「無機着
色剤」とは、無機物よりなる着色剤を意味し、具体的に
は無機顔料のほか、体質顔料と呼ばれる無機塩が含まれ
る。これらの中では、カラーフィルターに必要な発色性
が得られる点で、有機着色剤を用いることが好ましく、
特に、カラーフィルターに必要な耐熱性が得られる点
で、有機顔料を用いることが好ましい。
[Colorant] The colorant used as the component (A) is not particularly limited in its color tone, and is appropriately selected depending on the use of the color filter. One or both can be used as component (A). Here, "organic colorant"
The term “colorant” means a colorant made of an organic substance, and specifically includes a dye, an organic pigment, a natural pigment, and the like. Further, the “inorganic colorant” means a colorant made of an inorganic substance, and specifically includes an inorganic pigment called an extender pigment in addition to an inorganic pigment. Among these, it is preferable to use an organic colorant in that the color developing property required for the color filter is obtained,
In particular, it is preferable to use an organic pigment in that the heat resistance required for a color filter can be obtained.

【0009】かかる有機顔料としては、例えばカラーイ
ンデックス(C.I.;The Society of
Dyers and Colourists社発行)
においてピグメント(Pigment)に分類されてい
る種々の化合物を用いることができ、その具体例をカラ
ーインデックス(C.I.)番号で示すと、C.I.ピ
グメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー1
3、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメ
ントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、
C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメント
イエロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.
I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエ
ロー93、C.I.ピグメントイエロー109、C.
I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイ
エロー139、C.I.ピグメントイエロー150、
C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメン
トイエロー154、C.I.ピグメントイエロー15
5、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグ
メントイエロー168;C.I.ピグメントオレンジ3
6、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメ
ントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ71;
C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッ
ド97、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピ
グメントレッド123、C.I.ピグメントレッド14
9、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメ
ントレッド177、C.I.ピグメントレッド180、
C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメント
レッド254;C.I.ピグメントバイオレット19、
C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメ
ントバイオレット29;C.I.ピグメントブルー1
5、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグ
メントブルー15:6;C.I.ピグメントグリーン
7、C.I.ピグメントグリーン36;C.I.ピグメ
ントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;
C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7
などを挙げることができる。
Such organic pigments include, for example, a color index (CI; The Society of).
(Published by Dysers and Colorists)
And various compounds classified as Pigment can be used. Specific examples of the compounds are indicated by color index (CI) numbers. I. Pigment Yellow 12, C.I. I. Pigment Yellow 1
3, C.I. I. Pigment Yellow 14, C.I. I. Pigment Yellow 17, C.I. I. Pigment Yellow 20,
C. I. Pigment Yellow 24, C.I. I. Pigment Yellow 31, C.I. I. Pigment yellow 55, C.I.
I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment Yellow 93, C.I. I. Pigment yellow 109, C.I.
I. Pigment yellow 110, C.I. I. Pigment Yellow 139, C.I. I. Pigment Yellow 150,
C. I. Pigment yellow 153, C.I. I. Pigment yellow 154, C.I. I. Pigment Yellow 15
5, C.I. I. Pigment yellow 166, C.I. I. Pigment Yellow 168; I. Pigment Orange 3
6, C.I. I. Pigment Orange 43, C.I. I. Pigment Orange 51, C.I. I. Pigment orange 71;
C. I. Pigment Red 9, C.I. I. Pigment Red 97, C.I. I. Pigment Red 122, C.I. I. Pigment Red 123, C.I. I. Pigment Red 14
9, C.I. I. Pigment red 176, C.I. I. Pigment Red 177, C.I. I. Pigment Red 180,
C. I. Pigment Red 215, C.I. I. Pigment Red 254; I. Pigment Violet 19,
C. I. Pigment Violet 23, C.I. I. Pigment Violet 29; I. Pigment Blue 1
5, C.I. I. Pigment Blue 15: 3, C.I. I. Pigment Blue 15: 6; C.I. I. Pigment Green 7, C.I. I. Pigment Green 36; I. Pigment Brown 23, C.I. I. Pigment Brown 25;
C. I. Pigment Black 1, Pigment Black 7
And the like.

【0010】また、無機着色剤としては、具体的には、
例えば酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄
色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウ
ム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバ
ー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を
挙げることができる。これらの着色剤は、単独でまたは
2種以上を適宣組み合わせて使用することができる。
[0010] As the inorganic colorant, specifically,
For example, titanium oxide, barium sulfate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (III), cadmium red, ultramarine, navy blue, chromium oxide green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron Black, carbon black and the like can be mentioned. These colorants can be used alone or in an appropriate combination of two or more.

【0011】本発明においては、顔料粒子の表面がポリ
マーによって改質された着色剤を適宜使用することもで
きる。顔料粒子の表面を改質するためのポリマーとして
は、例えば、特開平8−259876号公報などに記載
されているポリマーや、市販の各種分散用ポリマーまた
はオリゴマーを挙げることができる。
In the present invention, a colorant in which the surface of the pigment particles is modified by a polymer may be used as appropriate. Examples of the polymer for modifying the surface of the pigment particle include a polymer described in JP-A-8-259876 and various commercially available dispersing polymers or oligomers.

【0012】〔バインダーポリマー〕(B)成分として
用いられるバインダーポリマーは、(A)成分として用
いられる着色剤に対してバインダーとして作用し、かつ
カラーフィルターを製造する際に、その現像処理工程に
おいて用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像
液に対して可溶性を有するものであれば、特に限定され
るものではないが、本発明においては、カルボキシル基
を含有するポリマー、特に、1個以上のカルボキシル基
を有するエチレン性不飽和単量体(以下、単に「カルボ
キシル基含有不飽和単量体」という。)と、このカルボ
キシル基含有不飽和単量体と共重合可能なエチレン性不
飽和単量体(以下、単に「共重合性不飽和単量体」とい
う。)とからなる単量体混合物を重合することにより得
られる共重合体(以下、単に「カルボキシル基含有共重
合体」とう。)であることが好ましい。
[Binder Polymer] The binder polymer used as the component (B) acts as a binder with respect to the colorant used as the component (A), and is used in the development process when producing a color filter. No particular limitation is imposed on the developing solution, particularly preferably as long as it has solubility in an alkali developing solution. In the present invention, a polymer containing a carboxyl group, particularly one or more carboxyl groups (Hereinafter simply referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”) and an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the carboxyl group-containing unsaturated monomer ( Hereinafter, a copolymer (hereinafter simply referred to as “copolymerizable unsaturated monomer”) obtained by polymerizing a monomer mixture comprising Under simply "carboxyl group-containing copolymer" Tou.) Is preferably.

【0013】前記カルボキシル基含有不飽和単量体の具
体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカ
ルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シト
ラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸類または
その無水物;3価以上の不飽和多価カルボン酸類または
その無水物等を挙げることができる。これらのカルボキ
シル基含有不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を組
み合わせて使用することができる。
Specific examples of the unsaturated monomer containing a carboxyl group include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid; maleic acid, maleic anhydride , Fumaric acid,
Unsaturated dicarboxylic acids such as itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid or anhydrides thereof; and tri- or higher unsaturated polycarboxylic acids or anhydrides thereof. These carboxyl group-containing unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0014】また、前記共重合性不飽和単量体の具体例
としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトル
エン、クロルスチレン、メトキシスチレン、下記式
(1)で表される化合物、下記式(2)で表される化合
物等の芳香族ビニル化合物;
Specific examples of the copolymerizable unsaturated monomer include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, chlorostyrene, methoxystyrene, a compound represented by the following formula (1), Aromatic vinyl compounds such as the compounds represented by 2);

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】[0016]

【化2】 Embedded image

【0017】メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルア
クリレート、ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルア
クリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、ア
リルアクリレート、アリルメタクリレート、フェニルメ
タクリレートート、シクロヘキシルメタクリレート、ベ
ンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレ
ート、イソボロニルメタクリレート、ジシクロペンタジ
エニルメタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル
類;アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリ
レート、アミノプロピルアクリレート、アミノプロピル
メタクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエ
ステル類;グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香
酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;ビニルメチ
ルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジル
エーテル、メタリルグリシジルエーテル等の不飽和エー
テル類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−
クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシア
ン化ビニル化合物;アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、α−クロロアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル
アクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミ
ド、マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロ
ヘキシルマレイミド等の不飽和アミドあるいは不飽和イ
ミド類;1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ン等の脂肪族共役ジエン類;ポリスチレン、ポリメチル
アクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリブチル
アクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリシリコ
ーン等の重合体分子鎖末端にモノアクリロイル基あるい
はモノメタクリロイル基を有するマクロモノマー類等を
挙げることができる。これらの共重合性不飽和単量体
は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用すること
ができる。
Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate , 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, phenyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadi Enyl methacrylate And unsaturated carboxylic acid esters such as aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate, and aminopropyl methacrylate; and unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate. ;
Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether and methallyl glycidyl ether; acrylonitrile, methacrylonitrile, α-
Vinyl cyanide compounds such as chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like. Saturated amides or unsaturated imides; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; polymer molecules such as polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polybutyl acrylate, polybutyl methacrylate, and polysilicone Macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the chain end can be exemplified. These copolymerizable unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0018】また、カルボキシル基含有共重合体として
は、アクリル酸およびメタクリル酸の中から選ばれる少
なくとも一種のカルボキシル基含有不飽和単量体と、メ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、ポリ
スチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレー
トマクロモノマーの中から選ばれる少なくとも1種の共
重合性不飽和単量体との共重合体が好ましい。好ましい
カルボキシル基含有共重合体の具体例としては、(メ
タ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合
体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート
共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アク
リレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリ
メチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポリス
チレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/
メチル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合
体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等を挙
げることができる。
The carboxyl group-containing copolymer includes at least one unsaturated monomer having a carboxyl group selected from acrylic acid and methacrylic acid, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl. A copolymer with at least one copolymerizable unsaturated monomer selected from methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, styrene, polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer is preferable. Specific examples of preferred carboxyl group-containing copolymers include (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, and (meth) acrylic acid / benzyl (Meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer Coalescing, (meth) acrylic acid /
Methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-
Hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, etc. Can be mentioned.

【0019】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、5
〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。こ
の割合が5重量%未満である場合には、得られる感放射
線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する
傾向がある。一方、この割合が50重量%を超える場合
には、アルカリ現像液に対する溶解性が過大となるた
め、当該アルカリ現像液により現像する際に、画素形成
体が基板から脱落する傾向があり、また、画素形成体の
表面の膜荒れが生じやすくなる傾向がある。
The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5
5050% by weight, preferably 10-40% by weight. When this proportion is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive composition in an alkali developing solution tends to decrease. On the other hand, when this proportion exceeds 50% by weight, the solubility in an alkali developing solution becomes excessively large, so that when developing with the alkali developing solution, the pixel forming body tends to fall off the substrate, and Film roughness on the surface of the pixel formation body tends to occur easily.

【0020】このような(B)成分として用いられるバ
インダーポリマーは、ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー(GPC,溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で
測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単に
「重量平均分子量」ともいう。)が3,000〜30
0,000、特に5,000〜100,000であるこ
とが好ましい。このような特定の重量平均分子量を有す
るバインダーポリマーを(B)成分として用いることに
より、現像性に優れた感放射線性組成物が得られ、これ
により、シャープなパターンエッジを有する画素アレイ
を形成することができると共に、現像処理において基板
上の画素形成部以外の個所における地汚れ、膜残り等が
発生しにくいものとなる。
The binder polymer used as the component (B) is a weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter simply referred to as "weight average molecular weight") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran). ) Is 3,000-30
It is preferably from 000, especially from 5,000 to 100,000. By using such a binder polymer having a specific weight average molecular weight as the component (B), a radiation-sensitive composition having excellent developability can be obtained, thereby forming a pixel array having sharp pattern edges. In addition, it is possible to prevent the occurrence of background contamination, film residue, and the like at locations other than the pixel formation portion on the substrate during the development process.

【0021】(B)成分として用いられるバインダーポ
リマーの使用割合は、(A)成分として用いられる着色
剤100重量部に対して、通常、10〜1000重量
部、好ましくは20〜500重量部である。この割合が
10重量部未満である場合には、例えば、アルカリ現像
性が低下したり、基板上の画素形成部以外の個所におけ
る地汚れや膜残りが発生するおそれがある。一方、この
割合が1000重量部を超える場合には、相対的に着色
剤の濃度が低下するため、カラーフィルターに要求され
る色濃度を有する硬化膜を得ることが困難となる場合が
ある。
The proportion of the binder polymer used as the component (B) is usually 10 to 1000 parts by weight, preferably 20 to 500 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant used as the component (A). . If this ratio is less than 10 parts by weight, for example, alkali developability may be reduced, and background contamination or film residue may occur at portions other than the pixel formation portion on the substrate. On the other hand, when this proportion exceeds 1000 parts by weight, the concentration of the colorant relatively decreases, so that it may be difficult to obtain a cured film having a color density required for a color filter.

【0022】〔モノマー〕(C)成分として用いられる
多官能性モノマーは、少なくとも2個以上のエチレン性
不飽和結合を有するものであり、その具体例としては、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキ
レングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレー
ト類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール等のポリアルキレングリコールのジアクリレートま
たはジメタクリレート類;グリセリン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール等の3価以上の多価アルコールのポリアクリレート
またはポリメタクリレート類;ポリエステル、エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、
スピラン樹脂等のオリゴアクリレートまたはオリゴメタ
クリレート類;両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末
端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカ
プロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ(メ
タ)アクリレート類;、トリスアクリロイルオキシエチ
ルフォスフェート、トリスメタクリロイルオキシエチル
フォスフェート等を挙げることができる。
[Monomer] The polyfunctional monomer used as the component (C) has at least two ethylenically unsaturated bonds, and specific examples thereof include:
Diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; diacrylates or dimethacrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; 3 such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol Polyacrylates or polymethacrylates of polyhydric alcohols having a valency of 3 or more; polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin,
Oligoacrylates or oligomethacrylates such as spirane resin; di (meth) acrylates of hydroxyl-terminated polymers such as hydroxy-terminated polybutadiene, hydroxy-terminated polyisoprene, hydroxy-terminated polyhydroxycaprolactone; trisacryloyloxyethyl phosphate And trismethacryloyloxyethyl phosphate.

【0023】これらの多官能性モノマーのうち、3価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類が好ましく、具体的には、下記式(3)で
表される化合物、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等を挙げ
ることができる。
Of these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols are preferred. Specifically, a compound represented by the following formula (3), trimethylolpropane triacrylate, , Trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate,
Examples thereof include dipentaerythritol hexamethacrylate.

【0024】[0024]

【化3】 Embedded image

【0025】これらの中では、強度が高く、表面の平滑
性に優れた画素形成体が得られ、かつ基板上の画素形成
部以外の個所における地汚れや膜残りが発生しにくくな
る点で、上記式(3)で表される化合物、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートを用いることが好ましい。
Among these, a pixel formed body having high strength and excellent surface smoothness can be obtained, and background stains and film residue at portions other than the pixel formation portion on the substrate are less likely to occur. It is preferable to use the compound represented by the above formula (3), trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

【0026】本発明の感放射線性組成物においては、
(C)成分として用いられる多官能性モノマーと共に、
必要に応じて、単官能性モノマーを用いることができ
る。このような単官能性モノマーの具体例としては、前
述のカルボキシル基含有共重合体を得るためのカルボキ
シル基含有不飽和単量体および共重合体不飽和単量体と
して例示したものを挙げることができ、その他に、ω−
カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレ
ート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリ
レート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−アクリロイロキシエチルコ
ハク酸等を挙げることができる。
In the radiation-sensitive composition of the present invention,
(C) Along with the polyfunctional monomer used as the component,
If necessary, monofunctional monomers can be used. Specific examples of such a monofunctional monomer include those exemplified as the carboxyl group-containing unsaturated monomer and the copolymer unsaturated monomer for obtaining the aforementioned carboxyl group-containing copolymer. Yes, in addition to ω-
Carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, etc. Can be mentioned.

【0027】全モノマー中における多官能性モノマーの
割合は、10〜100重量%、特に50〜100重量%
であることが好ましい。この割合が10重量%未満であ
る場合には、得られる画素形成体の強度あるいは画素形
成体の表面平滑性が不十分なものとなる傾向がある。
The proportion of the polyfunctional monomer in the total monomer is 10 to 100% by weight, especially 50 to 100% by weight.
It is preferred that When this ratio is less than 10% by weight, the strength of the obtained pixel forming body or the surface smoothness of the pixel forming body tends to be insufficient.

【0028】(C)成分として用いられる多官能性モノ
マーおよび必要に応じて用いられる単官能性モノマーの
使用割合は、(B)成分として用いられるバインダーポ
リマー100重量部に対して、通常、モノマーの合計が
5〜500重量部、好ましくは20〜300重量部であ
る。この割合が5重量部未満である場合には、得られる
画素形成体の強度あるいは画素形成体の表面の平滑性が
不十分となる傾向がある。一方、この割合が500重量
部を超える場合には、例えば、アルカリ現像性が低下し
たり、基板上の画素形成部以外の個所における地汚れや
膜残りが発生しやすくなる傾向がある。
The proportion of the polyfunctional monomer used as the component (C) and the monofunctional monomer used as needed is usually based on 100 parts by weight of the binder polymer used as the component (B). The total is 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight. If this ratio is less than 5 parts by weight, the strength of the resulting pixel formed body or the smoothness of the surface of the pixel formed body tends to be insufficient. On the other hand, when this ratio exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability tends to be reduced, and background stains and film residues in portions other than the pixel formation portion on the substrate tend to occur.

【0029】〔光重合開始剤〕本発明の感放射線性組成
物には、(D)成分として光重合開始剤が含有されてい
る。ここに、光重合開始剤とは、可視光線、紫外線、遠
紫外線、電子線、X線等の放射線の照射により分解また
は結合が解裂し、前記(C)成分として用いられる多官
能性モノマーおよび必要に応じて用いられる単官能性モ
ノマーの重合反応を開始させるラジカル種、カチオン
種、アニオン種等の活性種を発生する化合物を意味す
る。このような光重合開始剤としては、下記式(4)、
式(5)または式(6)で表される主要骨格を少なくと
も1種有するビイミダゾール系化合物のほか、ベンゾイ
ン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン
系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合
物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、トリアジン
系化合物等を用いることができ、これらの中では、ビイ
ミダゾール系化合物が好ましい。
[Photopolymerization Initiator] The radiation-sensitive composition of the present invention contains a photopolymerization initiator as the component (D). Here, the photopolymerization initiator refers to a polyfunctional monomer used as the component (C), which is decomposed or broken by irradiation with radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, and X-ray. A compound that generates an active species such as a radical species, a cationic species, or an anionic species that initiates a polymerization reaction of a monofunctional monomer used as needed. As such a photopolymerization initiator, the following formula (4):
In addition to biimidazole compounds having at least one main skeleton represented by the formula (5) or (6), benzoin compounds, acetophenone compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, Xanthone compounds, diazo compounds, triazine compounds and the like can be used, and among these, biimidazole compounds are preferred.

【0030】[0030]

【化4】 Embedded image

【0031】前記ビイミダゾール系化合物の具体例とし
ては、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
フェノキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロ
ロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
フェノキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,
6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−フェノキシカルボニルフェニル)ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2−シアノフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−シア
ノフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
フェノキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2−メチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)
ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−メチルフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシ
カルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
キス(4−フェノキシカルボニルフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボニル
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−エチ
ルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
エトキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−フェノキシカルボニルフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−フェニルフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−メト
キシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,2’−
ビス(2−フェニルフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)ビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(2−フェニルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカル
ボニルフェニル)ビイミダゾール、
Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-
Phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,
2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ',
5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-
Phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,
2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2,4,
6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-cyanophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-cyanophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-
Phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,
2'-bis (2-methylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl)
Biimidazole, 2,2'-bis (2-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-methylphenyl)- 4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-ethylphenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-
Ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,
2'-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ', 5
5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2'-
Bis (2-phenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-phenylphenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole,

【0032】2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(2,4.6−トリクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4.6−トリブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジシアノフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4.6−トリシアノフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(2,4.6−トリメチルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(2,4−ジエチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4.6−トリエチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4−ジフェニルフェニル)−4,4’,5,5’
−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4.6−トリフェニルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等を挙げるこ
とができる。
2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4.6-trichlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (2,4.6-tribromophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole,
2,2′-bis (2,4-dicyanophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (2,4.6-tricyanophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,
2′-bis (2,4-dimethylphenyl) -4,4 ′,
5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-
Bis (2,4.6-trimethylphenyl) -4,4 ′,
5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-
Bis (2,4-diethylphenyl) -4,4 ′, 5
5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4.6-triethylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-diphenylphenyl) -4,4 ', 5,5'
-Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4.6-triphenylphenyl) -4,4 ',
5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like can be mentioned.

【0033】これらのビイミダゾール系化合物のうち、
特に2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニル
フェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロ
モフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−
エトキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4.6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾールおよび2,2’−
ビス(2,4.6−トリブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾールが好ましい。
前記ビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に
優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、
しかも感度が高く、少ないエネルギー量の放射線照射に
より硬化反応を十分進行させるとともに、コントラスト
が高く、放射線の未照射部分において硬化反応が生じる
ことがないため、放射線を照射した後における塗膜は、
現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高
い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、これ
により、アンダーカットのない画素形成体を得ることが
できると共に、当該画素形成体が所要のパターンに従っ
て配置されてなる画素アレイを形成することができる。
Of these biimidazole compounds,
In particular, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-
Ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,
2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ',
5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-
Bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5
5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4.6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-
Bis (2,4.6-tribromophenyl) -4,4 ',
5,5'-Tetraphenylbiimidazole is preferred.
The biimidazole-based compound has excellent solubility in a solvent, and does not generate foreign matters such as undissolved substances and precipitates.
Moreover, the sensitivity is high, and the curing reaction is sufficiently advanced by irradiating a small amount of energy, and the contrast is high, and the curing reaction does not occur in the non-irradiated portion.
A hardened portion that is insoluble in the developer and an unhardened portion that has a high solubility in the developer are clearly divided, whereby a pixel forming body without undercut can be obtained, and the pixel concerned can be obtained. A pixel array in which the formed bodies are arranged according to a required pattern can be formed.

【0034】前記ベンゾイン系化合物の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインi−プロピルエーテル、
ベンゾインi−ブチルエーテル、4,4’−ビス(ジメ
チルアミノ)ベソフェノン、メチル−2−ベンゾイルベ
ンゾエート等を挙げることができる。
Specific examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin i-propyl ether,
Benzoin i-butyl ether, 4,4′-bis (dimethylamino) besophenone, methyl-2-benzoylbenzoate and the like can be mentioned.

【0035】前記アセトフェノン系化合物の具体例とし
ては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−
(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキ
シ−2−プロピル)ケトン、2,2−ジメトキシアセト
フェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メ
チル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノ
−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチ
ルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−
1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、1−アジドアセトフェノン、4−アジドベンザルア
セトフェノン等を挙げることができる。
Specific examples of the acetophenone compound include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-i-propylphenyl). ) -2
-Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-
(2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1 -Propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-
Examples thereof include 1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 1-azidoacetophenone, and 4-azidobenzalacetophenone.

【0036】前記ベンゾフェノン系化合物の具体例とし
ては、ベンソフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシ
ベンゾフェノン等を挙げることができる。前記α−ジケ
トン系化合物の具体例としては、ジアセチル、ジベンゾ
イル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることがで
きる。前記多核キノン系化合物の具体例としては、アン
トラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチ
ルアントラキノン、1,4−ナフトキノン等を挙げるこ
とができる。前記キサントン系化合物の具体例として
は、キサントン、チオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン、2−クロロチオキサントン等を挙げるこ
とができる。前記ジアゾ系化合物の具体例としては、4
−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−4’−メトキ
シジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メトキシジフェ
ニルアミン等を挙げることができる。
Specific examples of the benzophenone compound include benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, and 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone. Can be mentioned. Specific examples of the α-diketone compound include diacetyl, dibenzoyl, methylbenzoyl formate and the like. Specific examples of the polynuclear quinone compound include anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, and 1,4-naphthoquinone. Specific examples of the xanthone-based compound include xanthone, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2-chlorothioxanthone. Specific examples of the diazo compound include 4
-Diazodiphenylamine, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine and the like.

【0037】前記トリアジン系化合物の具体例として
は、2−(2’−フリルエチリデン)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3’,
4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−メトキシナ
フチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−(2’−ブロモ−4’−メチルフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(2’−チオフェニルエチリデン)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等を挙げ
ることができる。
Specific examples of the triazine compound include 2- (2′-furylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ′,
4'-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2 '-Bromo-4'-methylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2'-thiophenylethylidene) -4,6
-Bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like.

【0038】さらに、前記以外の光重合開始剤として、
4−アジドベンズアルデヒド、アジドピレン、ビス
(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリ
メチルペンチルフォスフィンオキサイド、N−フェニル
チオアクリドン、トリフェニルピリリウムパークロレー
ト等を使用することもできる。これらの光重合開始剤
は、単独でまたは2種以上を組み合わせて(D)成分と
して用いることができる。
Further, as a photopolymerization initiator other than the above,
4-azidobenzaldehyde, azidopyrene, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, N-phenylthioacridone, triphenylpyrylium perchlorate and the like can also be used. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more as the component (D).

【0039】(D)成分として用いられる光重合開始剤
の使用割合は、(C)成分として用いられる多官能性モ
ノマーおよび必要に応じて用いられる単官能性モノマー
の合計100重量部に対して、通常、0.01〜200
重量部、好ましくは1〜120重量部、特に好ましくは
1〜50重量部である。この割合が0.01重量部未満
の場合には、放射線の照射によって十分に硬化されず、
所要のパターンに従って画素アレイを形成することが困
難となることがあり、また、画素形成体にアンダーカッ
トが生じるおそれがある。一方、この割合が200重量
部を超える場合には、形成されたパターンが現像時に基
板から脱落しやすく、また、基板上の画素形成部以外の
個所における地汚れや膜残りが生じやすくなる。
The proportion of the photopolymerization initiator used as the component (D) is based on 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer used as the component (C) and the monofunctional monomer used as required. Usually 0.01 to 200
It is preferably 1 to 120 parts by weight, particularly preferably 1 to 50 parts by weight. If this proportion is less than 0.01 parts by weight, it is not sufficiently cured by irradiation with radiation,
It may be difficult to form a pixel array according to a required pattern, and an undercut may occur in a pixel formation body. On the other hand, if this ratio exceeds 200 parts by weight, the formed pattern is likely to fall off the substrate during development, and background stains and film residues are likely to occur at portions other than the pixel formation portion on the substrate.

【0040】本発明においては、前記光重合開始剤と共
に、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、光架橋剤また
は光増感剤として機能し得る官能基を主鎖または側鎖中
に有する高分子化合物(以下、これらを総称して「硬化
助剤」ともいう。)の1種以上を併用することもでき
る。
In the present invention, a functional group capable of functioning as a sensitizer, a curing accelerator, a photocrosslinking agent or a photosensitizer may be added to the main chain or the side chain, if necessary, together with the photopolymerization initiator. One or more kinds of polymer compounds (hereinafter, these may be collectively referred to as “curing aid”) may be used in combination.

【0041】前記増感剤の具体例としては、4−ジエチ
ルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオ
フェノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、
2−エチルヘキシル−1,4−ジメチルアミノベンゾエ
ート、2,5−ビス(4’−ジエチルアミノベンザル)
シクロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジ
エチルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルア
ミノ)カルコン等を挙げることができる。これらの増感
剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。
Specific examples of the sensitizer include 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate,
2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4′-diethylaminobenzal)
Examples thereof include cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, and 4- (diethylamino) chalcone. These sensitizers can be used alone or in combination of two or more.

【0042】前記硬化促進剤の具体例としては、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチ
アゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5
−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メ
ルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン等を挙げる
ことができる。これらの硬化促進剤は、単独でまたは2
種以上を組み合わせて使用することができる。
Specific examples of the curing accelerator include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2,5
-Dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine and the like. These curing accelerators can be used alone or in combination.
More than one species can be used in combination.

【0043】前記光架橋剤または光増感剤として機能し
うる官能基を主鎖または側鎖中に有する高分子化合物の
具体例としては、4−アジドベンズアルデヒドとポリビ
ニルアルコールとの縮合物、4−アジドベンズアルデヒ
ドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、4−アクリ
ロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重合体ある
いは共重合体、1,4−ポリブタジエン、1,2−ポリ
ブタジエン等を挙げることができる。これらの高分子化
合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用する
ことができる。
Specific examples of the polymer compound having a functional group capable of functioning as a photocrosslinking agent or a photosensitizer in a main chain or a side chain thereof include a condensate of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, Examples thereof include a condensate of azidobenzaldehyde and a phenol novolak resin, a homopolymer or copolymer of 4-acryloylphenylcinnamoyl ester, 1,4-polybutadiene, and 1,2-polybutadiene. These polymer compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0044】このような硬化助剤の使用割合は、(D)
成分として用いられる光重合開始剤100重量部に対し
て、通常、300重量部以下、好ましくは5〜200重
量部、さらに好ましくは10〜100重量部である。
The use ratio of such a curing assistant is (D)
The amount is usually 300 parts by weight or less, preferably 5 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerization initiator used as a component.

【0045】本発明においては、光重合開始剤として、
特にビイミダゾール系化合物を用い、これとベンゾフェ
ノン系化合物および/またはチアゾール系硬化促進剤と
を組み合わせて使用することが、得られる画素形成体が
現像時に基板から脱落しにくく、高い画素強度および高
い感度が得られる点で好ましい。また、光重合開始剤の
一部として、ビイミダゾール系化合物を用いる場合に
は、ビイミダゾール系化合物以外の光重合開始剤の使用
割合が、光重合開始剤全体の80重量%以下であること
が好ましい。
In the present invention, as the photopolymerization initiator,
In particular, using a biimidazole-based compound and using it in combination with a benzophenone-based compound and / or a thiazole-based curing accelerator makes it difficult for the resulting pixel-formed body to fall off the substrate during development, and provides high pixel strength and high sensitivity. Is preferred in that the following is obtained. When a biimidazole compound is used as a part of the photopolymerization initiator, the ratio of the photopolymerization initiator other than the biimidazole compound may be 80% by weight or less of the entire photopolymerization initiator. preferable.

【0046】本発明において、(D)成分として用いら
れる光重合開始剤および硬化助剤の特に好ましい組み合
わせを示すと、以下のとおりである。すなわち、2,
2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)
ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカル
ボニルフェニル)ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン/2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタ
ン−1−オン、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカル
ボニルフェニル)ビイミダゾール/4,4’−ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン、2,2’−ビス(2−クロロ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エ
トキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール/4,4’
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン/2−メルカプトベ
ンゾチアゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミ
ダゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール
/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン/
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフ
ォリノフェニル)ブタン−1−オン、2,2’−ビス
(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニルビイミダゾール/4,4’−ビス(ジエ
チルアミノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、2,2’−ビス(2,4,6−
トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフ
ェニルビイミダゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン/1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン/2−メルカプトベンゾチアゾールなどが
挙げられる。
In the present invention, particularly preferred combinations of the photopolymerization initiator and the curing assistant used as the component (D) are as follows. That is, 2,
2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)
Biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2-chlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl ) Butan-1-one, 2,2′-bis (2-chlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2'-bis (2-chlorophenyl ) -4,4 ′, 5,5′-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole / 4,4 ′
-Bis (diethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone / 2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole / 4 , 4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone /
2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-
Tetraphenylbiimidazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2'-bis (2,4,6-
Trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone / 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone / 2-mercaptobenzothiazole.

【0047】〔溶剤〕(E)成分として用いられる溶剤
は、上記の(A)成分〜(D)成分、後述する(F)成
分および必要に応じて用いられるその他の成分を溶解ま
たは分散し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発
性を有するものであれば、特に限定されるものではな
い。このような溶剤の具体例としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチル
エーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、等
の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル
類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエー
テルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケト
ン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロ
キシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−
メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン
酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エト
キシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロ
キシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸
メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、
3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸
エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸イソアミル、酢
酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピ
ル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピル
ビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチ
ル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の
他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の含窒素(ア
ミド系)溶剤類などを挙げることができる。
[Solvent] The solvent used as the component (E) dissolves or disperses the components (A) to (D), the component (F) described below and other components used as necessary, The material is not particularly limited as long as it does not react with these components and has appropriate volatility. Specific examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, and triethylene glycol monoethyl ether. Ether, propylene glycol monomethyl ether,
(Poly) such as propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, etc. Alkylene glycol monoalkyl ethers; (poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Other ethers such as methyl ethyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; lactic acid such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate Alkyl esters;
Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 3-
Methyl methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3- Methoxybutyl acetate,
3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, butyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, pyruvate Other esters such as propyl acetate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N- Examples thereof include nitrogen-containing (amide-based) solvents such as dimethylacetamide.

【0048】これらの中では、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メト
キシブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸
エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキ
シプロピオン酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸
イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪
酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸
エチル等が好ましい。これらの溶剤は、単独でまたは2
種以上を組み合わせて使用することができる。
Among these, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and cyclohexanone from the viewpoints of solubility, pigment dispersibility, coatability and the like. , 2-heptanone, 3-heptanone, 2-
Ethyl hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, butyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate Butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like are preferred. These solvents can be used alone or
More than one species can be used in combination.

【0049】さらに、前記溶剤と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、
イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノー
ル、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジ
ル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジ
エチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロ
ピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤
を併用することもできる。これらの高沸点溶剤の中で
は、γ−ブチロラクトン等が好ましい。これらの高沸点
溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用する
ことができる。
Further, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone,
Isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, etc. A boiling point solvent can be used in combination. Among these high-boiling solvents, γ-butyrolactone is preferred. These high-boiling solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0050】(E)成分として用いられる溶剤の使用割
合は、特に限定されるものではないが、得られる感放射
線性組成物の塗布性および安定性などの観点から、当該
感放射線性組成物における(E)成分以外の成分の合計
の濃度が5〜50重量%、特に10〜40重量%となる
割合で用いることが好ましい。
The proportion of the solvent used as the component (E) is not particularly limited, but from the viewpoints of the coating properties and stability of the obtained radiation-sensitive composition, It is preferable that the total concentration of the components other than the component (E) be 5 to 50% by weight, particularly 10 to 40% by weight.

【0051】〔界面活性剤〕(F)成分として用いられ
る界面活性剤は、フッ素系界面活性剤、特にポリスチレ
ン換算重量平均分子量が1000〜100000であ
り、かつ、フッ素元素含有量が5〜30重量%であるフ
ッ素系界面活性剤の少なくとも1種以上含むものである
ことが好ましい。フッ素系界面活性剤の重量平均分子量
が1000未満である場合には、本発明の効果が得られ
ず、画素形成体の表面に膜荒れが生じたり、突起が発生
したりすることがある。一方、フッ素系界面活性剤の重
量平均分子量が100000を超える場合には、溶剤に
対する溶解性が低下することがあるため好ましくない。
また、フッ素系界面活性剤のフッ素元素含有量が5重量
%未満である場合には、本発明の効果が得られず、画素
形成体の表面に膜荒れが生じたり、突起が発生したりす
ることがある。一方、フッ素系界面活性剤のフッ素元素
含有量が30重量%を超える場合には、溶剤に対する溶
解性が低下することがあるため好ましくない。
[Surfactant] The surfactant used as the component (F) is a fluorine-based surfactant, particularly a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 1,000 to 100,000 and a fluorine element content of 5 to 30% by weight. % Of at least one fluorine-based surfactant. When the weight average molecular weight of the fluorine-based surfactant is less than 1,000, the effects of the present invention cannot be obtained, and the surface of the pixel forming body may be roughened or a projection may be formed. On the other hand, when the weight average molecular weight of the fluorine-based surfactant exceeds 100,000, the solubility in a solvent may be reduced, which is not preferable.
Further, when the fluorine element content of the fluorine-based surfactant is less than 5% by weight, the effect of the present invention cannot be obtained, and the surface of the pixel forming body is roughened or a projection is formed. Sometimes. On the other hand, when the fluorine element content of the fluorine-based surfactant exceeds 30% by weight, the solubility in a solvent may be reduced, which is not preferable.

【0052】このようなフッ素界面活性剤としては、例
えばメガファックF171、同F172、同F173、
同F177、同F178K、同F178A、同F47
6、同R−08、同R−08H(以上、大日本インキ化
学工業(株)社製)、サーフロンS−381、同S−3
83、同Sー393、同SC−101、同SCー10
5、同KHー40、同SA−100(以上、旭硝子
(株)社製)、フロラードFCー430、FCー431
(以上、住友スリーエム(株)社製)の商品名で市販さ
れているものが挙げられる。
Examples of such a fluorine surfactant include Megafac F171, F172, F173, and F173.
F177, F178K, F178A, F47
6, R-08 and R-08H (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Surflon S-381, S-3
83, S-393, SC-101, SC-10
5, KH-40, SA-100 (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Florard FC-430, FC-431
(Above, manufactured by Sumitomo 3M Limited).

【0053】(F)成分として用いられるフッ素含有界
面活性剤の使用割合は,感放射線性組成物全体(溶剤を
含む)の0.01〜1重量%、特に、0.05〜0.5
重量%であることが好ましい。この割合が0.01重量
%未満である場合には、本発明の効果が十分に得られな
いことがある。一方、この割合が1重量%を超える場合
には、当該組成物の感放射線性能に悪影響を及ぼすこと
がある。
The proportion of the fluorine-containing surfactant used as the component (F) is from 0.01 to 1% by weight, preferably from 0.05 to 0.5% by weight of the whole radiation-sensitive composition (including the solvent).
% By weight. If this ratio is less than 0.01% by weight, the effects of the present invention may not be sufficiently obtained. On the other hand, when this proportion exceeds 1% by weight, the radiation-sensitive performance of the composition may be adversely affected.

【0054】本発明の感放射線性組成物においては、例
えば着色剤の分散剤として、フッ素系界面活性剤以外の
界面活性剤(以下、「他の界面活性剤」という。)、例
えばノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界
面活性剤等の界面活性剤をフッ素系界面活性剤と共に用
いることができる。このような他の界面活性剤の具体例
としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ
オキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエ
チレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコー
ルジステアレート等のポリエチレングリコールジエステ
ル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエ
ステル類;3級アミン変性ポリウレタン類等を挙げるこ
とができる.これらの他の界面活性剤は、単独でまたは
2種以上を組み合わせて使用することができる。また、
他の界面活性剤の使用割合は、例えば着色剤100重量
部に対して、通常、30重量部以下、好ましくは5〜2
0重量部である。
In the radiation-sensitive composition of the present invention, for example, as a dispersant for a colorant, a surfactant other than a fluorine-based surfactant (hereinafter referred to as “other surfactant”), for example, a nonionic surfactant Surfactants such as surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, amphoteric surfactants, and silicone surfactants can be used together with the fluorine-based surfactant. Specific examples of such other surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; . These other surfactants can be used alone or in combination of two or more. Also,
The usage ratio of the other surfactant is, for example, usually 30 parts by weight or less, preferably 5 to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant.
0 parts by weight.

【0055】〔その他の成分〕本発明の感放射線性組成
物においては、アルカリ現像液に対する溶解性をより高
め、かつ、現像処理後における未溶解物の残存をより少
なくするために、有機酸を含有させることができる。こ
のような有機酸としては、分子量が1000以下である
脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸を
用いることが好ましい。
[Other Components] In the radiation-sensitive composition of the present invention, an organic acid is added in order to further increase the solubility in an alkali developing solution and to reduce the remaining undissolved material after the development processing. It can be contained. As such an organic acid, it is preferable to use an aliphatic carboxylic acid having a molecular weight of 1,000 or less or a phenyl group-containing carboxylic acid.

【0056】脂肪族カルボン酸の具体例としては、
(イ)ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバ
ル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリ
ル酸などのモノカルボン酸、(ロ)シュウ酸、マロン
酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、
スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、
メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、
メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シクロヘキサ
ンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン
酸、フマル酸、メサコン酸などのジカルボン酸、(ハ)
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸などの
トリカルボン酸などが挙げられる。
Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include:
(A) monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid, (b) oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, Adipic acid, pimelic acid,
Suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid,
Methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid,
Dicarboxylic acids such as methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, and mesaconic acid;
And tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoronic acid.

【0057】また、フェニル基含有カルボン酸として
は、フェニル基に直接カルボキシル基が結合した芳香族
カルボン酸、およびフェニル基に炭素結合を介してカル
ボキシル基が結合したカルボン酸を用いることができ、
その具体例としては、(イ)安息香酸、トルイル酸、ク
ミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸などの芳香族モノカ
ルボン酸、(ロ)フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピ
ロメリット酸などの芳香族ポリカルボン酸、(ハ)フェ
ニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデ
ル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、シン
ナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸などが挙げられ
る。これらの有機酸は、単独で若しくは2種類以上組み
合わせて用いることができる。
As the phenyl group-containing carboxylic acid, there can be used an aromatic carboxylic acid having a carboxyl group directly bonded to a phenyl group and a carboxylic acid having a carboxyl group bonded to a phenyl group via a carbon bond.
Specific examples thereof include (a) aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid and mesitylene acid, (b) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, Aromatic polycarboxylic acids such as melophanic acid and pyromellitic acid, (c) phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidenic acid, coumaric acid, umbellic acid, etc. Is mentioned. These organic acids can be used alone or in combination of two or more.

【0058】これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン
酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジ
カルボン酸類が、アルカリ溶解性、(E)成分として用
いられる溶剤に対する溶解性、基板における画素形成部
以外の部分における地汚れの防止等の観点から好まし
い。
Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and phthalic acid are alkali-soluble; It is preferable from the viewpoints of solubility in a solvent used as a component, prevention of background fouling in a portion other than the pixel forming portion of the substrate, and the like.

【0059】このような有機酸の使用割合は、組成物全
体に対して、通常、10重量%以下、好ましくは0.0
01〜10重量%、さらに好ましくは0.01〜1重量
%である。この割合が10重量%を超える場合には、得
られる画素形成体は、基板に対する密着性が低いものと
なる傾向がある。
The use ratio of such an organic acid is usually 10% by weight or less, preferably 0.0% by weight, based on the whole composition.
It is from 0.01 to 10% by weight, more preferably from 0.01 to 1% by weight. When this ratio exceeds 10% by weight, the obtained pixel forming body tends to have low adhesion to the substrate.

【0060】さらに、本発明の感放射線性組成物におい
ては、必要に応じて種々の添加剤が含有されていていも
よい。このような添加剤としては、例えば、ガラス、ア
ルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール等の高分子化
合物;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラ
ン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、3−グリシジルプロピルトリメトキ
シシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促
進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の
酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−
ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;ポリ
アクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;エポキシ化合
物、メラミン化合物、ビスアジド化合物等の熱架橋剤な
どを挙げることができる。
Further, the radiation-sensitive composition of the present invention may contain various additives as necessary. Examples of such additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds such as polyvinyl alcohol; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2- Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3
-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidylpropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4- Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane,
An adhesion promoter such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; an antioxidant such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol; t-butyl-5-methyl-2-
Ultraviolet absorbers such as (hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone; aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate; and thermal crosslinking agents such as epoxy compounds, melamine compounds, and bisazide compounds.

【0061】本発明のカラーフィルター用感放射線組成
物は、放射線の照射により硬化して得られる硬化膜に対
するヨウ化メチレンの接触角が55゜以下のものとさ
れ、特に、(A)成分として赤色の着色剤を用いる場合
には、得られる硬化膜に対するヨウ化メチレンの接触角
が45゜以下、(A)成分として緑色の着色剤または青
色の着色剤を用いる場合には、得られる硬化膜に対する
ヨウ化メチレンの接触角が50゜以下であることが好ま
しい。この接触角は、(F)成分として用いられるフッ
素界面活性剤の種類やその使用割合を適宜洗濯すること
により調節することができる。ここで、硬化膜に対する
ヨウ化メチレンの接触角は、次のようにして測定され
る。温度23℃、相対湿度50%のクリーンルーム中に
おいて、感放射線性組成物の硬化膜の表面にシリンジ等
を用いて直径約2mmの液滴を滴下し,当該硬化膜に対す
るヨウ化メチレン接触角を接触角測定器(液滴を拡大し
て分度器で測るもの)を用いて測定する。硬化膜に対す
るヨウ化メチレンの接触角が、55゜を超える場合に
は、解像性および得られる画素形成体の表面平滑性が低
いものとなり、また、画素形成体の表面に突起が発生し
やすくなり、本発明の目的が達成されない。
The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention has a contact angle of methylene iodide of 55 ° or less with respect to a cured film obtained by curing by irradiation with radiation, and particularly, as a component (A), When the colorant is used, the contact angle of methylene iodide with the obtained cured film is 45 ° or less, and when the green colorant or the blue colorant is used as the component (A), the obtained cured film has The contact angle of methylene iodide is preferably 50 ° or less. This contact angle can be adjusted by appropriately washing the type of fluorine surfactant used as the component (F) and the ratio of use thereof. Here, the contact angle of methylene iodide with the cured film is measured as follows. In a clean room at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, a drop having a diameter of about 2 mm is dropped on the surface of the cured film of the radiation-sensitive composition using a syringe or the like, and the contact angle of the methylene iodide with the cured film is brought into contact. The measurement is performed using an angle measuring device (a device in which a droplet is enlarged and measured with a protractor). When the contact angle of methylene iodide to the cured film exceeds 55 °, the resolution and the surface smoothness of the obtained pixel formed body are low, and projections are easily generated on the surface of the pixel formed body. Therefore, the object of the present invention is not achieved.

【0062】〔カラーフィルターの製造方法〕本発明の
感放射線性組成物を用いることにより、例えば次のよう
にしてカラーフィルターが製造される。まず、透明基板
の表面上に画素形成部を区画するよう遮光層を形成し、
この基板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線
性組成物を塗布した後、プリベークを行うことにより、
溶剤を蒸発させて塗膜を形成する。次いで、この塗膜に
フォトマスクを介して硬化用放射線を照射して放射線照
射処理を行い、その後、例えばアルカリ現像液を用いて
現像処理を行って塗膜における放射線が照射されていな
い部分を溶解除去することにより、赤色の画素形成体が
特定のパターンに従って配置された赤色の画素アレイを
形成する。その後、緑色の顔料が分散された感放射線性
組成物および青色の顔料が分散された感放射線性組成物
の各々を用い、上記と同様にして、感放射線性組成物の
塗布、プリベーク、放射線照射処理および現像処理を行
い、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一の
基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青
色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフ
ィルターを得られる。
[Production Method of Color Filter] By using the radiation-sensitive composition of the present invention, a color filter is produced, for example, as follows. First, a light-shielding layer is formed on the surface of the transparent substrate so as to partition the pixel formation portion,
On this substrate, for example, after applying a radiation-sensitive composition in which a red pigment is dispersed, by performing a pre-bake,
The solvent is evaporated to form a coating. Next, the coating film is irradiated with curing radiation through a photomask to perform a radiation irradiation treatment, and then, for example, is subjected to a development treatment using an alkali developing solution to dissolve a portion of the coating film where the radiation is not irradiated. The removal forms a red pixel array in which the red pixel formers are arranged according to a particular pattern. Thereafter, using each of the radiation-sensitive composition in which the green pigment is dispersed and the radiation-sensitive composition in which the blue pigment is dispersed, in the same manner as described above, application of the radiation-sensitive composition, pre-baking, and irradiation. By performing processing and development processing and sequentially forming a green pixel array and a blue pixel array on the same substrate, a color filter in which red, green, and blue pixel arrays are arranged on the substrate can be obtained. .

【0063】以上において、画素アレイを形成するため
に用いられる透明基板の材料としては、例えばガラス、
シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポ
リアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げるこ
とができる。これらの透明基板には、必要に応じて、シ
ランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、
イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、
真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
感放射線性組成物を透明基板に塗布する方法としては、
回転塗布法、流延塗布法、ロール塗布法等の適宜の塗布
法を採用することができる。感放射線性組成物のプリベ
ークの温度は、例えば50〜150℃である。感放射線
性組成物のプリベークによって形成される塗膜の厚み
は、通常、0.1〜10μm、好ましくは0.2〜5.
0μm、特に好ましくは0.2〜3.0μmである。
In the above, as the material of the transparent substrate used for forming the pixel array, for example, glass,
Silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide and the like can be mentioned. For these transparent substrates, if necessary, chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment,
Ion plating, sputtering, gas phase reaction,
Appropriate pretreatment such as vacuum deposition can also be performed.
As a method of applying the radiation-sensitive composition to a transparent substrate,
An appropriate coating method such as a spin coating method, a casting coating method, and a roll coating method can be employed. The prebaking temperature of the radiation-sensitive composition is, for example, 50 to 150C. The thickness of the coating film formed by pre-baking the radiation-sensitive composition is generally 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm.
0 μm, particularly preferably 0.2 to 3.0 μm.

【0064】感放射線性組成物による塗膜を硬化させる
ための硬化用放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫
外線、電子線、X線等を使用することができるが、波長
が190〜450nmの範囲の放射線を含むものを用い
ることが好ましい。放射線の照射エネルギー量は、1〜
1000mJ/cm2 であることが好ましい。
As the curing radiation for curing the coating film of the radiation-sensitive composition, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray and the like can be used. It is preferable to use one containing radiation in the range. The irradiation energy amount of radiation is 1 to
It is preferably 1000 mJ / cm 2 .

【0065】現像処理に用いられるアルカリ現像液とし
ては、例えば炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.
0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−
[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。ま
た、これらのアルカリ現像液には、例えばメタノール、
エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添
加することもできる。
Examples of the alkali developing solution used for the developing treatment include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.
0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo-
An aqueous solution such as [4.3.0] -5-nonene is preferred. Also, these alkali developers include, for example, methanol,
An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as ethanol, a surfactant, or the like can be added.

【0066】現像処理法としては、シャワー現像法、ス
プレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛
り)現像法等を適用することができ、現像条件は、常温
で5〜300秒が好ましい。なお、現像処理後において
は、残留するアルカリ現像液は、通常、水洗により除去
される。
As a developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method and the like can be applied. The developing condition is 5 to 300 seconds at room temperature. preferable. After the development, the remaining alkaline developer is usually removed by washing with water.

【0067】また、現像処理が終了した後、必要に応じ
て、形成した画素アレイに対してポストベークを行うこ
とができる。このようなポストベークは、各画素アレイ
の形成工程ごとに行うこともでき、また、3つの画素ア
レイを形成した後に行うこともできる。このポストベー
クの温度は、例えば150〜300℃である。
After the development process is completed, post-baking can be performed on the formed pixel array as needed. Such post-baking can be performed for each pixel array forming step, or can be performed after forming three pixel arrays. The temperature of this post bake is, for example, 150 to 300 ° C.

【0068】このようにして製造されるカラーフィルタ
ーは、個々の画素形成体の解像性が高く、また、表面平
滑性に優れており、例えばカラー液晶表示装置、カラー
撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。
The color filter manufactured in this manner has high resolution of each pixel forming body and excellent surface smoothness. For example, a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, a color sensor, etc. It is extremely useful.

【0069】[0069]

【実施例】以下、本発明のカラーフィルター用感放射線
性組成物の具体的な実施例について説明するが、本発明
はこれらにに限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, specific examples of the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

【0070】〈実施例1〉(A)成分として緑色顔料
(C.I.Pigment7)100重量部、(B)成
分として、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/2
−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマク
ロモノマー共重合体(共重合重量比:15/60/15
/10、重量平均分子量:28000)60重量部、
(C)成分としてジペンタエリスリトールペンタアクリ
レート60重量部、(D)成分として2,2’−ビス
(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール10重量部および4,4’−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン10重量部、
(E)成分としてプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート800重量部(顔料分散液の分散媒とし
て用いたものを含む)およびシクロヘキサノン100重
量部、並びに(F)成分としてフッ素系界面活性剤「メ
ガファックR−08」(大日本インキ化学工業(株)
製,重量平均分子量約9800,フッ素含有割合約10
重量%)0.02重量部を用い、これらの成分を混合す
ることにより感放射線性組成物(G1)を調製した。
Example 1 100 parts by weight of a green pigment (CI Pigment 7) as the component (A) and methacrylic acid / benzyl methacrylate / 2 as the component (B)
-Hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio: 15/60/15
/ 10, weight average molecular weight: 28000) 60 parts by weight,
60 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate as the component (C), 10 parts by weight of 4,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 4 as the component (D) , 4′-bis (diethylamino) benzophenone 10 parts by weight,
As the component (E), 800 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (including those used as a dispersion medium for the pigment dispersion) and 100 parts by weight of cyclohexanone, and as the component (F), a fluorinated surfactant "Megafac R-08" (Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.)
Made, weight average molecular weight about 9800, fluorine content about 10
(% By weight), and these components were mixed to prepare a radiation-sensitive composition (G1).

【0071】上記の感放射線性組成物(G1)を用い、
以下のようにして硬化膜を形成し、当該硬化膜に対する
ヨウ化メチレンの接触角を測定した。表面にナトリウム
イオンの溶出を防止するシリカ(SiO2 )膜が形成さ
れたソーダガラス製の透明基板の表面上に、スピンコー
ターを用いて感放射線性組成物(G1)を塗布し、80
℃のクリーンオーブンで10分間プリベークを行なうこ
とにより、膜厚2μmの塗膜を形成した。この塗膜が形
成された基板を冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、
基板の塗膜に波長365nm、405nmおよび436
nmの光を含む200mJ/cm 2 の紫外線を照射して
放射線照射処理を行うことにより、緑色の硬化膜を形成
した。温度23℃、相対湿度50%のクリーンルーム中
において、形成した硬化膜の表面にシリンジを用いて直
径約2mmのヨウ化メチレンの液滴を滴下し、当該硬化膜
に対するヨウ化メチレン接触角を、接触角測定器を用い
て測定した。その結果、接触角の値は50°であった。
Using the above radiation-sensitive composition (G1),
Form a cured film as follows, the cured film
The contact angle of methylene iodide was measured. Sodium on surface
Silica (SiO 2) to prevent ion elutionTwo) Film formed
Spin coating on a transparent soda glass substrate.
The radiation-sensitive composition (G1) is applied using a
Pre-bake for 10 minutes in a clean oven at
As a result, a coating film having a thickness of 2 μm was formed. This coating is shaped
After cooling the formed substrate, using a high-pressure mercury lamp,
Wavelength 365 nm, 405 nm and 436
200 mJ / cm including nm light TwoUV light
A green cured film is formed by performing irradiation treatment
did. In a clean room with a temperature of 23 ° C and a relative humidity of 50%
The surface of the formed cured film using a syringe
A methylene iodide droplet having a diameter of about 2 mm is dropped and the cured film is formed.
The contact angle of methylene iodide to
Measured. As a result, the value of the contact angle was 50 °.

【0072】また、(A)成分として、緑色顔料(C.
I.Pigment7)の代わりに赤色顔料(C.I.
Pigment177)および青色顔料(C.I.Pi
gment15)の各々を用いたこと以外は実施例1と
同様にして、感放射線性組成物(R1)および感放射線
性組成物(B1)を調製し、これらの硬化膜に対するヨ
ウ化メチレンの接触角を測定した。その結果、感放射線
性組成物(R1)においては、接触角の値が39゜であ
り、感放射線性組成物(B1)においては、接触角の値
が47゜であった。
As the component (A), a green pigment (C.I.
I. Pigment 7) instead of a red pigment (C.I.
Pigment 177) and a blue pigment (C.I.
gment 15), except that each of the radiation-sensitive composition (R1) and the radiation-sensitive composition (B1) was prepared in the same manner as in Example 1, and the contact angle of methylene iodide with these cured films was measured. Was measured. As a result, in the radiation-sensitive composition (R1), the value of the contact angle was 39 °, and in the radiation-sensitive composition (B1), the value of the contact angle was 47 °.

【0073】〔カラーフィルターの製造〕上記の感放射
線性組成物(G1)、感放射線性組成物(R1)および
感放射線性組成物(B1)を用い、以下のようにして、
透明基板上に緑色の画素アレイ、赤色の画素アレイおよ
び青色の画素アレイを形成することにより、カラーフィ
ルターを製造した。
[Production of Color Filter] Using the above radiation-sensitive composition (G1), radiation-sensitive composition (R1) and radiation-sensitive composition (B1),
A color filter was manufactured by forming a green pixel array, a red pixel array, and a blue pixel array on a transparent substrate.

【0074】表面にナトリウムイオンの溶出を防止する
シリカ(SiO2 )膜が形成されたソーダガラス製の透
明基板の表面上に、画素形成部を区画するよう遮光層を
形成し、この遮光層が形成された透明基板の表面上に、
スピンコーターにより感放射線性組成物(G1)を塗布
し、80℃のクリーンオーブン中で10分間プリベーク
を行なうことにより、膜厚2μmの塗膜を形成した。こ
の透明基板を冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、透
明基板の塗膜にフォトマスクを介して波長365nm、
405nmおよび436nmの光を含む200mJ/c
2 の紫外線を照射して放射線照射処理を行った。次い
で、この透明基板を0.2重量%濃度のテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド水溶液に1分間浸漬して現像処
理を行い、その後、純水で洗浄して乾燥し、さらに18
0℃で30分間ポストベークを行うことにより、透明基
板上に、各々20μm×20μmの大きさの緑色の画素
形成体が配置されてなる緑色の画素アレイを形成した。
そして、感放射線性組成物(R1)および感放射線性組
成物(B1)の各々を用い、上記の工程を繰り返すこと
により、同一の透明基板上に、各々20μm×20μm
の大きさの赤色の画素形成体が配置されてなる赤色の画
素アレイ、および各々20μm×20μmの大きさの青
色の画素形成体が配置されてなる青色の画素アレイを形
成し、以て赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイ
が配置されてなるカラーフィルターを製造した。
On a surface of a transparent substrate made of soda glass having a silica (SiO 2 ) film for preventing elution of sodium ions formed on the surface, a light-shielding layer is formed so as to partition a pixel forming portion. On the surface of the formed transparent substrate,
The radiation-sensitive composition (G1) was applied by a spin coater, and prebaked in a clean oven at 80 ° C. for 10 minutes to form a coating film having a thickness of 2 μm. After cooling this transparent substrate, the wavelength of 365 nm was applied to the coating film of the transparent substrate through a photomask using a high-pressure mercury lamp.
200 mJ / c including 405 nm and 436 nm light
Irradiation treatment was performed by irradiating ultraviolet rays of m 2 . Next, this transparent substrate is immersed in a 0.2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for 1 minute to perform a developing treatment, and then washed with pure water and dried.
By performing post-baking at 0 ° C. for 30 minutes, a green pixel array in which green pixel forming bodies each having a size of 20 μm × 20 μm were arranged on a transparent substrate was formed.
Then, by using each of the radiation-sensitive composition (R1) and the radiation-sensitive composition (B1) and repeating the above steps, 20 μm × 20 μm each on the same transparent substrate.
A red pixel array in which a red pixel formation having a size of is arranged, and a blue pixel array in which a blue pixel formation having a size of 20 μm × 20 μm are formed, whereby red, A color filter having pixel arrays of three primary colors of green and blue was manufactured.

【0075】このカラーフィルターにおける画素アレイ
の各々を光学顕微鏡によって観察したところ、パターン
の欠落や欠損は認められず、また、画素形成体の断面を
走査型電子顕微鏡によって観察したところ、アンダーカ
ットは認められず、解像性に優れたものであることが確
認された。更に、画素形成体の表面を走査型電子顕微鏡
によって観察したところ、表面平滑性に優れたものであ
り、また、突起の発生も認められなかった。
When each of the pixel arrays in this color filter was observed with an optical microscope, no missing or missing pattern was observed. When a cross section of the pixel formed body was observed with a scanning electron microscope, undercuts were observed. It was confirmed that the composition was excellent in resolution. Further, when the surface of the pixel formed body was observed with a scanning electron microscope, it was found that the surface was excellent in surface smoothness, and no projection was observed.

【0076】〈比較例1〉フッ素系界面活性剤「メガフ
ァックR−08」を用いなかったこと以外は実施例1と
同様にして、感放射線性組成物(G2)および感放射線
性組成物(B2)を調製し、これらの硬化膜に対するヨ
ウ化メチレンの接触角を測定した。その結果、感放射線
性組成物(G2)においては、接触角の値が60゜であ
り、感放射線性組成物(B2)においては、接触角の値
が58゜であった。
<Comparative Example 1> A radiation-sensitive composition (G2) and a radiation-sensitive composition (G2) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the fluorosurfactant “Megafac R-08” was not used. B2) was prepared, and the contact angles of methylene iodide with these cured films were measured. As a result, the radiation-sensitive composition (G2) had a contact angle value of 60 °, and the radiation-sensitive composition (B2) had a contact angle value of 58 °.

【0077】また、感放射線性組成物(G2)および感
放射線性組成物(B2)を用い、実施例1と同様にし
て、透明基板上に緑色の画素アレイおよび青色の画素ア
レイを形成した。そして、画素アレイの各々を光学顕微
鏡によって観察したところ、パターンの欠落が認めら
れ、また、画素形成体の表面を走査型電子顕微鏡によっ
て観察したところ、膜荒れおよび突起の発生が認められ
た。
Using the radiation-sensitive composition (G2) and the radiation-sensitive composition (B2), a green pixel array and a blue pixel array were formed on a transparent substrate in the same manner as in Example 1. Then, when each of the pixel arrays was observed with an optical microscope, a lack of a pattern was observed. When the surface of the pixel formed body was observed with a scanning electron microscope, film roughness and occurrence of projections were observed.

【0078】〈参考例〉フッ素系界面活性剤「メガファ
ックR−08」の代わりに分子量が1000未満のパー
フロロアルキルスルホン酸塩を用いたこと以外は実施例
1と同様にして感放射線性組成物(G3)および感放射
線性組成物(B3)を調製し、これらの硬化膜に対する
ヨウ化メチレンの接触角を測定した。その結果、感放射
線性組成物(G3)においては、接触角の値が51゜で
あり、感放射線性組成物(B2)においては、接触角の
値が49゜であった。
Reference Example A radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that a perfluoroalkyl sulfonate having a molecular weight of less than 1000 was used in place of the fluorosurfactant "Megafac R-08". (G3) and the radiation-sensitive composition (B3) were prepared, and the contact angle of methylene iodide with these cured films was measured. As a result, in the radiation-sensitive composition (G3), the value of the contact angle was 51 °, and in the radiation-sensitive composition (B2), the value of the contact angle was 49 °.

【0079】また、感放射線性組成物(G3)および感
放射線性組成物(B3)を用い、実施例1と同様にし
て、透明基板上に緑色の画素アレイおよび青色の画素ア
レイを形成した。そして、画素アレイの各々における画
素形成体の表面を走査型電子顕微鏡によって観察したと
ころ、比較例1に係る画素アレイに比較して良好なもの
であったが、膜荒れおよび突起の発生が若干認められ
た。
Using the radiation-sensitive composition (G3) and the radiation-sensitive composition (B3), a green pixel array and a blue pixel array were formed on a transparent substrate in the same manner as in Example 1. The surface of the pixel formed body in each of the pixel arrays was observed with a scanning electron microscope. As a result, the surface was better than the pixel array according to Comparative Example 1, but film roughness and the occurrence of projections were slightly observed. Was done.

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明のカラーフィルター用感放射線性
組成物によれば、放射線の照射により硬化して得られる
硬化膜に対するヨウ化メチレンの接触角が55゜以下で
あるので、解像性が高く、表面平滑性に優れた画素形成
体を形成することができ、しかも、画素形成体の表面に
突起が発生することが抑制されて高い歩留まりでカラー
フィルターを製造することができる。
According to the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention, the contact angle of methylene iodide to a cured film obtained by curing by irradiation of radiation is 55 ° or less, so that the resolution is improved. It is possible to form a pixel forming body which is high and has excellent surface smoothness, and furthermore, it is possible to suppress the occurrence of projections on the surface of the pixel forming body and manufacture a color filter with a high yield.

【0081】また、本発明によれば、(A)着色剤と、
(B)バインダーポリマーと、(C)多官能性モノマー
と、(D)光重合開始剤と、(E)溶剤と、(F)界面
活性剤とを含有してなる感放射線性組成物を、透明基板
上に塗布した後、当該感放射線性組成物における溶剤の
除去処理を行うことにより、当該透明基板上に塗膜を形
成し、この塗膜に対して放射線照射処理および現像処理
を行うことにより、ヨウ化メチレンの接触角が55゜以
下である硬化膜を形成する工程を有するカラーフィルタ
ーの製造方法を提供することができる。そして、このよ
うにして製造されるカラーフィルターは、信頼性に優
れ、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、
ワードプロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テ
レビなどの表示装置に有効に用いられる。
Further, according to the present invention, (A) a colorant,
A radiation-sensitive composition comprising (B) a binder polymer, (C) a polyfunctional monomer, (D) a photopolymerization initiator, (E) a solvent, and (F) a surfactant, After coating on a transparent substrate, by performing a removing process of the solvent in the radiation-sensitive composition, a coating film is formed on the transparent substrate, and the coating film is subjected to a radiation irradiation process and a developing process. Accordingly, it is possible to provide a method of manufacturing a color filter including a step of forming a cured film having a contact angle of methylene iodide of 55 ° or less. And the color filter manufactured in this way is excellent in reliability, for example, a desk calculator, a wristwatch, a clock, a coefficient display board,
It is effectively used for display devices such as word processors, personal computers, and liquid crystal televisions.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 155/00 C09D 155/00 (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地2丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI C09D 155/00 C09D 155/00 (72) Inventor Atsushi Kumano 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)着色剤と、 (B)バインダーポリマーと、 (C)多官能性モノマーと、 (D)光重合開始剤と、 (E)溶剤と、 (F)界面活性剤とを含有してなり、 放射線の照射により硬化して得られる硬化膜に対するヨ
ウ化メチレンの接触角が55゜以下であることを特徴と
するカラーフィルター用感放射線性組成物。
1. A colorant, (B) a binder polymer, (C) a polyfunctional monomer, (D) a photopolymerization initiator, (E) a solvent, and (F) a surfactant. A radiation-sensitive composition for a color filter, wherein a contact angle of methylene iodide to a cured film obtained by curing by irradiation of radiation is 55 ° or less.
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