JPH10274848A - Radiation sensitive composition and radiation sensitive composition for color filter - Google Patents

Radiation sensitive composition and radiation sensitive composition for color filter

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JPH10274848A
JPH10274848A JP8125397A JP8125397A JPH10274848A JP H10274848 A JPH10274848 A JP H10274848A JP 8125397 A JP8125397 A JP 8125397A JP 8125397 A JP8125397 A JP 8125397A JP H10274848 A JPH10274848 A JP H10274848A
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JP
Japan
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formula
group
bis
weight
acid
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Pending
Application number
JP8125397A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Kawamura
繁生 河村
Shigeru Abe
慈 阿部
Hiroaki Nemoto
宏明 根本
Koji Kumano
厚司 熊野
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce production cost by adding a specified compd. having unsatd. groups and carboxyl groups to a radiation sensitive compsn. SOLUTION: This radiation sensitive compsn. contains a compd. having unsatd. groups and carboxyl groups obtd. by allowing tetracarboxylic acid dianhydride represented by formula I to react with a compd. represented by formula II and/or a compd. having unsatd. groups and carboxyl groups obtd. by allowing a compd. represented by formula III to react with an acid anhydride represented by formula IV. In the formula I, R1 is a pentavalent org. group. In the formula II, R2 is a monovalent org. group having at least one radiation polymerizable unsatd. bond. In the formula III, R4 is a divalent org. group and R5 is OH or a monovalent org. amino group. In the formula IV, R6 is a monovalent org. group having at least one radiation polymerizable unsatd. bond.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、特定構造を有する
不飽和基およびカルボキシル基含有化合物を含有する感
放射線性組成物に関する。さらに詳しくは、カラー液晶
表示装置やカラー撮像管素子等に用いられる、前記不飽
和基およびカルボキシル基含有化合物を含有するカラー
フィルター用感放射線性組成物に関する。
The present invention relates to a radiation-sensitive composition containing a compound having an unsaturated group and a carboxyl group having a specific structure. More specifically, the present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter containing the unsaturated group- and carboxyl group-containing compound, which is used for a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, and the like.

【0002】さらには、この組成物を用いたカラーフィ
ルターにも関連する。
[0002] Furthermore, the present invention relates to a color filter using the composition.

【0003】[0003]

【従来の技術】液晶表示素子や固体撮像素子をカラー化
する際には、一般に微細加工された着色画素で構成され
るカラーフィルターが用いられる。このようなカラーフ
ィルターを形成する各画素の着色剤としては、染料また
は顔料が用いられるが、特に近年、耐熱性、耐光性及び
耐薬品性に優れるという理由から、顔料を用いる方法が
主流になりつつある。
2. Description of the Related Art When colorizing a liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, a color filter composed of finely processed colored pixels is generally used. As a colorant for each pixel forming such a color filter, a dye or a pigment is used. In particular, in recent years, a method using a pigment has become mainstream because of its excellent heat resistance, light resistance, and chemical resistance. It is getting.

【0004】また、カラーフィルターを製造する方法と
しては、フォトリソグラフィー法、印刷法、電着法等の
方法があるが、得られる製品の品質の点、及び、製造コ
ストの点等から、フォトリソグラフィー法が主流となっ
ている。
As a method of manufacturing a color filter, there are methods such as a photolithography method, a printing method, and an electrodeposition method. From the viewpoint of the quality of a product to be obtained and the manufacturing cost, a photolithography method is used. The law has become mainstream.

【0005】フォトリソグラフィー法では、感放射線性
の着色組成物を材料として使用するが、これは、一般
に、顔料と分散剤と溶媒とからなる顔料分散液に、バイ
ンダーポリマー、多官能モノマー、光重合開始剤等を添
加して調製したものである。使用されるバインダーポリ
マーとしては、アクリル系のポリマーが主に使用されて
いる。また、多官能モノマーとしては、室温で液体状で
ある多官能アクリル化合物が広く使用されている。
[0005] In the photolithography method, a radiation-sensitive colored composition is used as a material. Generally, a pigment dispersion comprising a pigment, a dispersant and a solvent is added to a binder polymer, a polyfunctional monomer, and a photopolymerizable polymer. It was prepared by adding an initiator and the like. As a binder polymer to be used, an acrylic polymer is mainly used. As the polyfunctional monomer, a polyfunctional acrylic compound which is liquid at room temperature is widely used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】最近、フォトリソグラ
フィー法によるカラーフィルターの製造において、更な
る製造コストの低減を目的として、露光時間の短縮化が
検討されている。しかしながら、従来の感放射線性着色
組成物を使用した場合、フォトリソグラフィー工程にお
ける露光量が少ないと、光架橋が十分に進まず、うまく
パターニングができなかったり、得られるカラーフィル
ターの硬度が不足するという問題点があった。
Recently, in the production of a color filter by a photolithography method, reduction of the exposure time has been studied for the purpose of further reducing the production cost. However, when a conventional radiation-sensitive colored composition is used, if the exposure amount in the photolithography step is small, photocrosslinking does not proceed sufficiently, patterning cannot be performed well, or the hardness of the obtained color filter is insufficient. There was a problem.

【0007】上記問題点に関しては、例えば、光重合成
分である多官能モノマーを増やす等の改良手法がとられ
る。しかしながら、あまり多く導入すると、露光前の膜
にタックが生じ、パターニングするためのフォトマスク
を汚すという問題が新たに生じる。また、通常使用され
る多官能モノマーは、現像液に対する溶解性が低いた
め、現像性の点からも、多官能モノマーの増量は、前述
の問題点に関しては有効な改良方法とはならない。
[0007] Regarding the above problems, for example, an improvement method such as increasing the number of polyfunctional monomers which are photopolymerizable components is taken. However, if too much is introduced, tackiness occurs in the film before exposure, which causes a new problem that the photomask for patterning is soiled. Further, since a commonly used polyfunctional monomer has low solubility in a developing solution, increasing the amount of the polyfunctional monomer is not an effective improvement method in terms of the above-mentioned problems from the viewpoint of developability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、新規な
不飽和基およびカルボキシル基含有化合物含有の感放射
線性組成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel radiation-sensitive composition containing a compound containing an unsaturated group and a carboxyl group.

【0009】本発明の他の目的は、少ない露光量でも硬
度の高いカラーフィルターを製造することが可能な、感
放射線性組成物を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition capable of producing a color filter having high hardness with a small amount of exposure.

【0010】上記問題点につき、鋭意検討した結果、特
定構造を有する不飽和基およびカルボキシル基含有化合
物を感放射線性組成物に加えることで、少ない露光量で
も、パターニング特性が優れ、さらに、硬度の高いカラ
ーフィルターを得ることが可能となることを見いだし
た。
As a result of intensive studies on the above problems, it has been found that, by adding an unsaturated group- and carboxyl group-containing compound having a specific structure to a radiation-sensitive composition, the patterning characteristics are excellent even with a small exposure dose, and the hardness is low. It has been found that high color filters can be obtained.

【0011】すなわち、本発明では、式(1)That is, in the present invention, the expression (1)

【0012】[0012]

【化5】 Embedded image

【0013】[式中、R1 は4価の有機基を示す。]で
表されるテトラカルボン酸二無水物と、式(2)
Wherein R 1 represents a tetravalent organic group. A tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (2):

【0014】[0014]

【化6】 Embedded image

【0015】[式中、R2 は、少なくとも、一つの放射
線重合可能な不飽和結合を有する1価の有機基を示し、
3 は、水酸基およびアミノ基より選ばれる1価の有機
基を示す。]で表される化合物を反応させることにより
得られる、不飽和基およびカルボキシル基含有化合物
(以下、「特定反応物a.」と呼ぶ)、及び/または、
式(3)
[Wherein, R 2 represents at least one monovalent organic group having a radiation-polymerizable unsaturated bond;
R 3 represents a monovalent organic group selected from a hydroxyl group and an amino group. And / or a compound containing an unsaturated group and a carboxyl group (hereinafter, referred to as “specific reactant a.”) Obtained by reacting the compound represented by the formula
Equation (3)

【0016】[0016]

【化7】 Embedded image

【0017】[式中、R4 は2価の有機基を示し、R5
は、水酸基およびアミノ基より選ばれる1価の有機基を
示す。]で表される化合物と、式(4)
[0017] [wherein, R 4 represents a divalent organic group, R 5
Represents a monovalent organic group selected from a hydroxyl group and an amino group. And a compound represented by the formula (4)

【0018】[0018]

【化8】 Embedded image

【0019】[式中、R6 は、少なくとも、一つの放射
線重合可能な不飽和結合を有する、1価の有機基を示
す。]で表される酸無水物を反応させることにより得ら
れる、不飽和基およびカルボキシル基含有化合物(以
下、「特定反応物b.」と呼ぶ)を含む感放射線性組成
物を提供する。
[In the formula, R 6 represents a monovalent organic group having at least one radiation-polymerizable unsaturated bond. The present invention provides a radiation-sensitive composition containing an unsaturated group and a carboxyl group-containing compound (hereinafter, referred to as “specific reactant b.”) Obtained by reacting the acid anhydride represented by the formula (1).

【0020】また、(A)特定反応物a.および/また
は特定反応物b.と、(B)着色剤と、(C)バインダ
ーポリマーおよび多官能性モノマーと、(D)光重合開
始剤と、(E)溶剤と、を含有することを特徴とするカ
ラーフィルター用感放射線性着色組成物を提供する。
Further, (A) a specific reactant a. And / or specific reactants b. And (B) a colorant; (C) a binder polymer and a polyfunctional monomer; (D) a photopolymerization initiator; and (E) a solvent. A coloring composition is provided.

【0021】さらのこの組成物を含むカラーフィルター
にも関連する。
It also relates to a color filter containing this composition.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルター
用感放射線性着色組成物の各成分について詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, each component of the radiation-sensitive coloring composition for a color filter of the present invention will be described in detail.

【0023】(A)不飽和基およびカルボキシル基含有
化合物 「特定反応物a.」本発明に用いられる、特定反応物
a.は、テトラカルボン酸二無水物と、不飽和基含有の
化合物(アルコール、フェノール、およびアミンより選
ばれる化合物)を反応させることで、容易に得ることが
できる。
(A) Compound containing unsaturated group and carboxyl group “Specific reactant a.” The specific reactant a. Can be easily obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a compound containing an unsaturated group (compound selected from alcohol, phenol and amine).

【0024】本発明の特定反応物a.の主体は、実質的
に、式(5)
Specific Reactants of the Invention a. Is essentially the formula (5)

【0025】[0025]

【化9】 Embedded image

【0026】[式中、R7 は4価の有機基を示し、R8
は、−o−、−N(R10)−、より選ばれる2価の有機
基を示し、R9 は、少なくとも一つの放射線重合可能な
不飽和結合を有する、1価の有機基を示す。また、R10
は、水素原子、あるいは、アルキル基を示す。]で表さ
れる化合物である。本発明においては、この化合物を単
離して使用することもできるし、混合物の状態でも使用
できる。また、単離した化合物は、1種単独でまたは2
種以上組み合わせて用いることが可能である。
[0026] In the formula, R 7 represents a tetravalent organic group, R 8
It is, -o -, - N (R 10) -, showed more divalent organic group selected, R 9 has at least one radiation polymerizable unsaturated bond, a monovalent organic group. Also, R 10
Represents a hydrogen atom or an alkyl group. ] It is a compound represented by these. In the present invention, this compound can be used after being isolated, or can be used in the form of a mixture. In addition, the isolated compounds may be used alone or in combination.
It is possible to use a combination of more than one kind.

【0027】かかる、テトラカルボン酸二無水物の具体
例としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,
2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテト
ラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボ
キシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカ
ルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,
4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水
物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3
−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸
二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン
−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,4
−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−
ナフタレンコハク酸無水物、3,4−ジカルボキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロ−6−メチル−1−ナフ
タレンコハク酸無水物、などの脂肪族酸二無水物;ピロ
メリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,
4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、3,3′,4,4′−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3′,
4,4′−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無
水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水
物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4′−ビス
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン二無水物、4,4′−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3′,
4,4′−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二
無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオ
キサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニ
ルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフ
ェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル
酸)−4,4′−ジフェニルエーテル二無水物、ビス
(トリフェニルフタル酸)−4,4′−ジフェニルメタ
ン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物;式
(6)
Specific examples of such tetracarboxylic dianhydride include butanetetracarboxylic dianhydride, 1,
2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride,
1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride Anhydride, 3,5,6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3
4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3
-Methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,4
-Dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-
Naphthalene succinic anhydride, 3,4-dicarboxy-
Aliphatic acid dianhydrides such as 1,2,3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalenesuccinic anhydride; pyromellitic dianhydride; 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetra Carboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-
Biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,
4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenylethertetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic Acid dianhydride, 3,3 ',
4,4'-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ',
4,4'-perfluoroisopropylidene diphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene- Bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4'-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) ) Aromatic tetracarboxylic dianhydride such as -4,4'-diphenylmethane dianhydride; Formula (6)

【0028】[0028]

【化10】 Embedded image

【0029】式(7)Equation (7)

【0030】[0030]

【化11】 Embedded image

【0031】で示される芳香環含有脂肪族テトラカルボ
ン酸二無水物;式(8)
An aromatic ring-containing aliphatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula:

【0032】[0032]

【化12】 Embedded image

【0033】[式中、R11は2価の有機基を示す。];
シリコンを含有する式(9)
Wherein R 11 represents a divalent organic group. ];
Formula (9) containing silicon

【0034】[0034]

【化13】 Embedded image

【0035】を挙げることができる。The following can be mentioned.

【0036】これらのうちでは、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ
フラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オク
ト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無
水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラ
ヒドロ−1−ナフタレンコハク酸無水物、3,4−ジカ
ルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−6−メチル
−1−ナフタレンコハク酸無水物、3,3′,4,4′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
3′,4,4′−パーフルオロイソプロピリデンジフタ
ル酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカ
ルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロ
ブタンテトラカルボン酸、式(6)で表される化合物、
式(8)で示される化合物のうち、式(10)
Among these, butanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene -1,2-
Dicarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4 -Tetrahydro-1-naphthalene succinic anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalene succinic anhydride, 3,3 ', 4,4'
-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-perfluoroisopropylidene diphthalic anhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid A compound represented by the formula (6):
Among the compounds represented by the formula (8), the compound represented by the formula (10)

【0037】[0037]

【化14】 Embedded image

【0038】式(11)Equation (11)

【0039】[0039]

【化15】 Embedded image

【0040】式(12)Equation (12)

【0041】[0041]

【化16】 Embedded image

【0042】式(13)Equation (13)

【0043】[0043]

【化17】 Embedded image

【0044】[式中、Rは水素またはアルキル基を示
す。]で示される化合物および式(9)を好ましい例と
して挙げることができる。
Wherein R represents hydrogen or an alkyl group. ] And the formula (9) can be mentioned as preferred examples.

【0045】さらに好ましい例としては、得られる反応
物の溶剤に対する溶解性を考慮して、ブタンテトラカル
ボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペ
ンチル酢酸二無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,
3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸無水
物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒ
ドロ−6−メチル−1−ナフタレンコハク酸無水物、
3,3′4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物、3,3′,4,4′−パーフルオロイソプロピ
リデンジフタル酸二無水物、1,2,3,4−シクロブ
タンテトラカルボン酸、1,3−ジメチル−1,2,
3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、式(9)、お
よび式(10)を挙げることができる。
More preferred examples include butanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,4-diamine in consideration of the solubility of the obtained reactant in a solvent. Carboxy-1,2,
3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalene succinic anhydride,
3,3'4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-perfluoroisopropylidene diphthalic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid , 1,3-dimethyl-1,2,2
Examples include 3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, Formula (9), and Formula (10).

【0046】一般式(2)で表される不飽和基を含有す
る化合物の中では、アルコール系の化合物が、得られる
反応物の溶解性の点、及び、着色が少ない点で、最も好
ましい。
Among the compounds containing an unsaturated group represented by the general formula (2), alcohol compounds are most preferable in terms of solubility of the obtained reactant and less coloring.

【0047】かかる、アルコール化合物としては、例え
ば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリ
レート、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシ
プロピルフタレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルアクリレート、2−アクリロイロキシエチル−
2−ヒドロキシエチルフタル酸、グリセリンジアクリレ
ート、以上の化合物のメタクリレート物、2−ヒドロキ
シ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、などを好ましい
例として挙げることができる。これらは1種単独でまた
は2種以上組み合わせて用いられる。
Examples of the alcohol compound include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, and 2-hydroxy-3-phenoxy. Propyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl-
Preferred examples include 2-hydroxyethylphthalic acid, glycerin diacrylate, methacrylates of the above compounds, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【0048】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、一般式(2)で表される不飽和基を含有する化合物
の一部を、不飽和基を含有しない同様の化合物で置き換
えることも可能である。
For the purpose of adjusting the degree of crosslinking and the like, a part of the compound containing an unsaturated group represented by the general formula (2) may be replaced with a similar compound containing no unsaturated group. It is possible.

【0049】テトラカルボン酸二無水物と一般式(2)
で表される不飽和基含有化合物の使用割合は、テトラカ
ルボン酸二無水物1当量に対して、0.4〜3.0当量
とするのが好ましく、より好ましくは1.6〜2.4当
量である。 「特定反応物b.」本発明に用いられる、特定反応物
b.は、式(3)で表される化合物と、光重合可能な不
飽和基を含有する酸無水物を反応させることで、容易に
得ることができる。
Tetracarboxylic dianhydride and a compound of the general formula (2)
Is preferably 0.4 to 3.0 equivalents, more preferably 1.6 to 2.4 equivalents to 1 equivalent of tetracarboxylic dianhydride. Is equivalent. "Specific reactant b." Specific reactant b. Used in the present invention. Can be easily obtained by reacting the compound represented by the formula (3) with an acid anhydride containing a photopolymerizable unsaturated group.

【0050】本発明の特定反応物b.の主体は、実質的
に、式(14)
Specific reactants of the invention b. Is substantially the formula (14)

【0051】[0051]

【化18】 Embedded image

【0052】[式中、R12は2価の有機基を示し、R13
は、−o−または−N(R)−を示し、R14は、光重合
性基を少なくとも1つ有する1価の有機基を示す。ま
た、Rは、水素原子またはアルキル基を示す。]で表さ
れる化合物である。本発明においては、この化合物を単
離して使用することもできる。また、単離した化合物
は、1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いること
が可能である。
[0052] In the formula, R 12 represents a divalent organic group, R 13
It is-o-or -N (R) - shows the, R 14 represents a monovalent organic group having at least one photopolymerizable group. R represents a hydrogen atom or an alkyl group. ] It is a compound represented by these. In the present invention, this compound can be isolated and used. The isolated compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0053】式(3)で表される化合物の中では、ジオ
ール、ジアミンが、酸無水物に対する反応性の点で有利
である。
Among the compounds represented by the formula (3), diols and diamines are advantageous in terms of reactivity with acid anhydrides.

【0054】かかる、ジオール化合物としては、通常の
ポリエステルや、ポリカーボネートの原料として使用さ
れる各種ジオールが、特に制限なく適用可能である。
As such a diol compound, ordinary polyesters and various diols used as raw materials for polycarbonate can be used without any particular limitation.

【0055】具体例としては、ヘキサンジオール、オク
タンジオール、3,3−ビス(ヒドロキシメチル)ヘプ
タン、などのアルカンジオール類;エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
などのアルキレングリコール類;ビス(ヒドロキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、
1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、
3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチ
ル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,
5]ウンデカン、などの脂環族含有のジオール類;m−
キシリレングリコール、p−キシリレングリコール、
1,3−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、
1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、ビ
ス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルフ
ォン、ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5
−ブロモフェニル]スルフォン、テレフタル酸ビス(2
−ヒドロキシエチル)エステル、テトラブロモビスフェ
ノールAビス(2−ヒドロキシエチル)エステル、2,
6−ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール、2,
6−ビス(ヒドロキシメチル)ピリジン、9.9−ビス
(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレ
ン、2,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,5−ビス(ヒド
ロキシメチル)イミダゾール、2,3−ビス(ヒドロキ
シメチル)ナフタレン、などの芳香族含有のジオール
類;N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−アミ
ノエタンスルホン酸、N,N−ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−3−アミノプロピオニトリル、N,N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)アニリン、N,N−ビス(2
−ヒドロキシエチル)−3−クロロアニリン、N,N−
ビス(2−ヒドロキシエチル)ジスルフィド、N,N−
ビス(2−ヒドロキシエチル)−n−ドデシルアミン、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチルアミン、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)グリシン、N,
N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)オキサマイド、
1,3−ビス[1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ピ
ペリジル]プロパン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエ
チル)−m−トルイジン、N,N−ビス(2−ヒドロキ
シエチル)−p−トルイジン、N,N−ビス(2−ヒド
ロキシプロピル)アニリンなどの3級アミン含有のジオ
ール類;式(15)
Specific examples include alkanediols such as hexanediol, octanediol, and 3,3-bis (hydroxymethyl) heptane; ethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol,
Alkylene glycols such as bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane, 2,2
-Bis (4-hydroxycyclohexyl) propane,
1,4-bis (hydroxymethyl) cyclohexane,
3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5
5] alicyclic-containing diols such as undecane; m-
Xylylene glycol, p-xylylene glycol,
1,3-bis (2-hydroxyethoxy) benzene,
1,4-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5
-Bromophenyl] sulfone, bis (2) -terephthalate
-Hydroxyethyl) ester, tetrabromobisphenol A bis (2-hydroxyethyl) ester, 2,
6-bis (hydroxymethyl) -p-cresol, 2,
6-bis (hydroxymethyl) pyridine, 9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,5 Aromatic-containing diols such as -bis (hydroxymethyl) imidazole and 2,3-bis (hydroxymethyl) naphthalene; N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2-aminoethanesulfonic acid, N, N -Bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropionitrile, N, N-bis (2-hydroxyethyl) aniline, N, N-bis (2
-Hydroxyethyl) -3-chloroaniline, N, N-
Bis (2-hydroxyethyl) disulfide, N, N-
Bis (2-hydroxyethyl) -n-dodecylamine,
N, N-bis (2-hydroxyethyl) ethylamine,
N, N-bis (2-hydroxyethyl) glycine, N,
N'-bis (2-hydroxyethyl) oxamide,
1,3-bis [1- (2-hydroxyethyl) -4-piperidyl] propane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -m-toluidine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -p Diols containing tertiary amines such as toluidine, N, N-bis (2-hydroxypropyl) aniline; Formula (15)

【0056】[0056]

【化19】 Embedded image

【0057】で表される2重結合を含有するジオール
類;1,2−ビス(2−ヒドロキシエチルチオ)エタ
ン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチル
シロキサン、2,2′−ビス(ヒドロキシメチル)ジフ
ェニルエーテル、3,6−ビス(ヒドロキシメチル)ド
ュレン、2−(2,2−ジエトキシエチル)−1,3−
プロパンジオール、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)
プロピオン酸などを挙げることができる。
Diols containing a double bond represented by the following formulas: 1,2-bis (2-hydroxyethylthio) ethane, 1,3-bis (hydroxypropyl) tetramethylsiloxane, 2,2'-bis ( (Hydroxymethyl) diphenyl ether, 3,6-bis (hydroxymethyl) dulene, 2- (2,2-diethoxyethyl) -1,3-
Propanediol, 2,2-bis (hydroxymethyl)
Propionic acid and the like can be mentioned.

【0058】これらのジオール化合物は、用途、状況に
応じて、適宜選択される。例えば、特定重合体の透明性
を向上させたい場合には、脂肪族、脂環族のジオールが
有効であり、特定重合体の耐熱性アップには、芳香族含
有ジオールが有効である。
These diol compounds are appropriately selected depending on the use and the situation. For example, when it is desired to improve the transparency of the specific polymer, an aliphatic or alicyclic diol is effective, and for improving the heat resistance of the specific polymer, an aromatic-containing diol is effective.

【0059】本発明で使用されるジオールの好ましい例
としては、トリエチレングリコール、ビス(ヒドロキシ
メチル)トリシクロ[5.2.1.02,6 ]デカン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパ
ン、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサ
ン、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシ
エチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカン、m−キシリレングリコール、p
−キシリレングリコール、1,3−ビス(2−ヒドロキ
シエトキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒドロキシ
エトキシ)ベンゼン、テレフタル酸ビス(2−ヒドロキ
シエチル)エステル、テトラブロモビスフェノールAビ
ス(2−ヒドロキシエチル)エステル、2,6−ビス
(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール、9.9−ビス
(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレ
ン、1,3−ビス(ヒドロキシプロピル)テトラメチル
シロキサン、2,2−ビス[4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、式(15)
で表される化合物のうち、式(16)〜(18)
Preferred examples of the diol used in the present invention include triethylene glycol, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane,
2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 1,4-bis (hydroxymethyl) cyclohexane, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -2,4,8,10- Tetraoxaspiro [5,5] undecane, m-xylylene glycol, p
-Xylylene glycol, 1,3-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, 1,4-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, terephthalic acid bis (2-hydroxyethyl) ester, tetrabromobisphenol A bis (2- (Hydroxyethyl) ester, 2,6-bis (hydroxymethyl) -p-cresol, 9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, 1,3-bis (hydroxypropyl) tetramethylsiloxane, 2,2-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] hexafluoropropane, formula (15)
Of the compounds represented by the formulas (16) to (18)

【0060】[0060]

【化20】 Embedded image

【0061】[0061]

【化21】 Embedded image

【0062】[0062]

【化22】 Embedded image

【0063】で表される化合物などを挙げることができ
る。
And the like.

【0064】さらに好ましくは、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートや、シクロヘキサノンな
どの汎用のレジスト溶媒に対する溶解性の点から、フル
オレン骨格を有するものが好ましい。具体例としては、
9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル)フルオレンを挙げることができる。これらは1種単
独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
More preferably, those having a fluorene skeleton are preferable from the viewpoint of solubility in general-purpose resist solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate and cyclohexanone. As a specific example,
9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene can be mentioned. These are used alone or in combination of two or more.

【0065】式(4)で示される、酸無水物としては、
式(19)
As the acid anhydride represented by the formula (4),
Equation (19)

【0066】[0066]

【化23】 Embedded image

【0067】式(20)Equation (20)

【0068】[0068]

【化24】 Embedded image

【0069】で示される化合物を好ましい例として挙げ
ることができる。この形の酸無水物は、通常、不飽和基
を含有するアルコール化合物と、塩化トリメリット酸無
水物を反応させることにより合成される。アルコール化
合物としては、特定反応物a.を製造する際に使用した
前述のアルコールがそのまま使用できるので、バリエー
ションのある類似化合物を得ることが可能である。これ
らは1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いられ
る。
The compounds represented by the following formulas can be mentioned as preferred examples. This form of acid anhydride is usually synthesized by reacting an alcohol compound containing an unsaturated group with trimellitic chloride anhydride. As the alcohol compound, a specific reactant a. Since the above-mentioned alcohol used in the production of the compound can be used as it is, it is possible to obtain a similar compound having a variety. These are used alone or in combination of two or more.

【0070】また、架橋の度合いを調整するなどの目的
で、式(4)で表される不飽和基を含有する酸無水物の
一部を、不飽和基を含有しない酸無水物で置き換えるこ
とも可能である。
For the purpose of adjusting the degree of crosslinking and the like, a part of the acid anhydride containing an unsaturated group represented by the formula (4) is replaced with an acid anhydride containing no unsaturated group. Is also possible.

【0071】一般式(3)の化合物と酸無水物の使用割
合は、式(3)の1当量に対して、酸無水物を0.4〜
3.0当量とするのが好ましく、より好ましくは1.6
〜2.4当量である。
The use ratio of the compound of the formula (3) and the acid anhydride is such that the acid anhydride is used in an amount of 0.4 to 1 equivalent of the formula (3).
It is preferably 3.0 equivalents, more preferably 1.6 equivalents.
22.4 equivalents.

【0072】なお、特定化合物a.、特定化合物b.と
もに、それぞれの原料となる化合物(テトラカルボン酸
二無水物、アルコール、ジオール、およびカルボン酸無
水物など)の分子量を変更することで、特定化合物中の
カルボキシル基濃度(分子中のカルボキシル基の重量
%)が、ある程度制御できるので、アルカリ可溶性をコ
ントロールする上で有効である。
The specific compound a. A specific compound b. In each case, the carboxyl group concentration in the specific compound (the weight of carboxyl group in the molecule) is changed by changing the molecular weight of the compound (tetracarboxylic dianhydride, alcohol, diol, carboxylic acid anhydride, etc.) as each raw material. %) Can be controlled to some extent, which is effective in controlling alkali solubility.

【0073】本発明の特定反応物a.、特定反応物b.
は、前述した各原料を、通常、有機溶媒中で、加熱する
ことで容易に得ることができる。例えば、反応部位が、
酸無水物基と、水酸基の反応の場合は、80〜130
℃、好ましくは90〜120℃の反応温度で、含有する
不飽和基が熱重合しないように注意しながら行われる。
また、酸無水物基と、アミノ基の反応の場合は、0〜1
00℃、好ましくは30〜60℃の反応温度で行われ
る。
Specific Reactants of the Invention a. A specific reactant b.
Can be easily obtained by heating each of the above-mentioned raw materials usually in an organic solvent. For example, if the reaction site is
In the case of a reaction between an acid anhydride group and a hydroxyl group, 80 to 130
C., preferably at a reaction temperature of 90 to 120.degree. C., while taking care not to thermally polymerize the unsaturated groups contained.
In the case of a reaction between an acid anhydride group and an amino group, 0 to 1
The reaction is carried out at a reaction temperature of 00C, preferably 30-60C.

【0074】有機溶媒の使用量は、通常、反応に使用す
る原料の総量が、反応溶液の全量に対して10〜50重
量%になるようにするのが好ましいが、特に制限される
ものではない。
The amount of the organic solvent used is preferably such that the total amount of the raw materials used in the reaction is 10 to 50% by weight based on the total amount of the reaction solution, but is not particularly limited. .

【0075】本発明の特定反応物を得る際の上記反応に
おいて、反応をより低温で、より短い時間で行う目的
で、酸触媒、塩基触媒等を使用することができる。
In the above reaction for obtaining the specific reactant of the present invention, an acid catalyst, a base catalyst or the like can be used for the purpose of conducting the reaction at a lower temperature and in a shorter time.

【0076】また、放射線重合性の不飽和基の熱重合を
防ぐ目的で、ハイドロキノンなどの各種熱重合禁止剤を
使用しても、何ら問題はない。
There is no problem even if various thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone are used for the purpose of preventing thermal polymerization of the radiation-polymerizable unsaturated group.

【0077】このようにして得られた、特定反応物
a.、特定物反応物b.は、適度に堅く、また、光重合
可能な不飽和基を持つため、露光時に光架橋が起こり、
パターニング特性の向上、カラーフィルター膜の硬度ア
ップに有効である。さらに、カルボン酸を同時に含有し
ているため、多量に導入しても現像性を損なうことがな
く、感放射線性組成物の成分として最適である。また、
低分子化合物であるため、ポリマーのように溶解速度に
差が生じにくいという利点もある。
The specific reactant a. A specific reactant b. Is moderately hard, and has a photopolymerizable unsaturated group, so photocrosslinking occurs during exposure,
It is effective for improving the patterning characteristics and increasing the hardness of the color filter film. Furthermore, since it contains a carboxylic acid at the same time, even if it is introduced in a large amount, it does not impair the developability and is optimal as a component of the radiation-sensitive composition. Also,
Since it is a low molecular compound, there is also an advantage that a difference in dissolution rate hardly occurs unlike a polymer.

【0078】本発明のカラーフィルター用感放射線性着
色組成物は、上記の特定反応物a.、及び/または特定
反応物b.を含有することを特徴とする。
The radiation-sensitive colored composition for a color filter of the present invention comprises the specific reactant a. And / or specific reactants b. It is characterized by containing.

【0079】本発明における、この不飽和基およびカル
ボキシル基含有化合物の使用割合は、後述する着色剤1
00重量部に対して、通常5〜500重量部、好ましく
は、10〜300重量部である。
In the present invention, the proportion of the unsaturated group- and carboxyl group-containing compound used is determined by the amount of the colorant 1
The amount is usually 5 to 500 parts by weight, preferably 10 to 300 parts by weight based on 00 parts by weight.

【0080】この場合、不飽和基およびカルボキシル基
含有化合物の使用割合が5重量部未満では、得られるカ
ラーフィルターの硬度が不十分となる傾向があり、一
方、500重量部を越えると、相対的に着色剤濃度が低
下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成するこ
とが困難となる場合がある。
In this case, if the content of the unsaturated group- and carboxyl group-containing compound is less than 5 parts by weight, the hardness of the obtained color filter tends to be insufficient. In some cases, the concentration of the colorant decreases, so that it may be difficult to achieve the desired color density as a thin film.

【0081】(B)着色剤 本発明における着色剤は、色調が特に限定されるもので
はなく、カラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、
また有機着色剤でも無機着色剤でもよい。
(B) Colorant The colorant in the present invention is not particularly limited in color tone, and is appropriately selected according to the use of the color filter.
Further, an organic colorant or an inorganic colorant may be used.

【0082】前記有機着色剤とは、具体的には染料、有
機顔料、天然色素等を意味し、また前記無機着色剤と
は、具体的には無機顔料のほか、体質顔料と呼ばれる無
機塩をも意味するものであるが、カラーフィルタには高
精密な発色と耐熱性が求められることから、本発明にお
ける着色剤としては、発色性が高く、且つ耐熱性の高い
着色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常
有機着色剤、特に有機顔料が好ましい。
The organic colorant specifically means a dye, an organic pigment, a natural pigment, and the like. The inorganic colorant specifically includes an inorganic pigment and an inorganic salt called an extender. However, since color filters are required to have high-precision color development and heat resistance, the colorant in the present invention has a high color development property, and a colorant having high heat resistance, particularly heat-resistant decomposition resistance. Is preferable, and an organic colorant is usually preferable, and an organic pigment is particularly preferable.

【0083】前記有機顔料としては、例えばカラーイン
デックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourist
s 社発行) においてピグメント(Pigment )に分類され
ている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデ
ックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることが
できる。
Examples of the organic pigment include a color index (CI; The Society of Dyers and Colorist).
Compounds classified as Pigment (published by s company), specifically, those having a color index (CI) number as shown below.

【0084】C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメ
ントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.
ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー2
0、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエ
ロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメン
トイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピ
グメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー11
0、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイ
エロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピ
グメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー16
6、C.I.ピグメントイエロー168; C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ
43、C.I.ピグメントオレンジ51; C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド97、
C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド1
23、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレ
ッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメ
ントレッド180、C.I.ピグメントレッド215; C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイ
オレット23、C.I.ピグメントバイオレット29; C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー1
5:3、C.I.ピグメントブルー15:6; C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン3
6; C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン
25; C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7。
CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI
Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 2
0, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 11
0, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 16
6, CI Pigment Yellow 168; CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 51; CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 97,
CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 1
23, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 215; CI Pigment Violet 19, CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29; CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 1
5: 3, CI Pigment Blue 15: 6; CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 3
6; CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25; CI Pigment Black 1, Pigment Black 7.

【0085】また、前記無機着色剤としては、具体的に
は、例えば酸化チタン、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸
鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カ
ドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、
アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラッ
ク等を挙げることができる。
Examples of the inorganic colorant include, for example, titanium oxide, barium sulfate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (III), cadmium red, and ultramarine blue. , Navy blue, chromium oxide green, cobalt green,
Amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like can be mentioned.

【0086】本発明における着色剤は、所望により、分
散剤とともに使用することができる。このような分散剤
としては、具体的に、例えばカチオン系、アニオン系、
ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活
性剤を挙げることができる。
The colorant in the present invention can be used together with a dispersant, if desired. As such dispersants, specifically, for example, cationic, anionic,
Examples of the surfactant include nonionic, amphoteric, silicone-based, and fluorine-based surfactants.

【0087】前記界面活性剤としては、具体的に、例え
ば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレン
グリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジス
テアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;
ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル
類;3級アミン変性ポリウレタン類;等を挙げることが
でき、さらに具体的に商品名で、例えばKP(信越化学
工業製)、ポリフロー(共栄社油脂化学工業製)、エフ
トップ(トーケムプロダクツ製)メガファック(大日本
インキ化学工業製)、フロラード(住友スリーエム
製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子製)等を挙げ
ることができる。
Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octyl phenyl ether; Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as ethylene nonyl phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate;
Sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; and the like, and more specifically, trade names such as KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo), F-Top (manufactured by Tochem Products), Megafac (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Florard (manufactured by Sumitomo 3M), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass), and the like.

【0088】これらの界面活性剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

【0089】前記界面活性剤は、着色剤100重量部に
対して、通常、30重量部以下、好ましくは0〜20重
量部使用する。
The surfactant is used in an amount of usually 30 parts by weight or less, preferably 0 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the colorant.

【0090】さらに本発明における着色剤は、所望によ
り、顔料粒子の表面をポリマーで改質したものを使用す
ることもできる。改質用のポリマーとしては、例えば、
特願平7−66514などに記載されているポリマー
や、市販の各種分散用ポリマー/オリゴマーを挙げるこ
とができる。
Further, as the colorant in the present invention, a pigment particle whose surface is modified with a polymer can be used, if desired. As the modifying polymer, for example,
Examples include polymers described in Japanese Patent Application No. 7-66514 and various commercially available polymers / oligomers for dispersion.

【0091】なお、上記に示した着色剤は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
The coloring agents described above can be used alone or in combination of two or more.

【0092】(C)バインダーポリマーおよび多官能性
モノマー 〈バインダーポリマー〉本発明におけるバインダーポリ
マーとしては、着色剤に対してバインダーとして作用
し、かつカラーフィルタ製造時の現像処理工程において
用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に可
溶性である限り、適宜のポリマーを使用することができ
る。
(C) Binder Polymer and Multifunctional Monomer <Binder Polymer> As the binder polymer in the present invention, a developer which acts as a binder for a colorant and is used in a development step in producing a color filter, Particularly preferably, an appropriate polymer can be used as long as it is soluble in an alkali developer.

【0093】本発明における好ましいバインダーポリマ
ーは、カルボキシル基を含有するポリマーであり、特
に、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽
和単量体(以下、単に「カルボキシル基含有不飽和単量
体」という。)と他の共重合可能なエチレン性不飽和単
量体(以下、単に「他の不飽和単量体」という。)とか
らなる単量体混合物の共重合体(以下、単に「カルボキ
シル基含有共重合体」とう。)が好ましい。
The preferred binder polymer in the present invention is a polymer containing a carboxyl group, particularly an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxyl groups (hereinafter simply referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”). ") And another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter, simply referred to as" other unsaturated monomer "). Carboxyl group-containing copolymer ").

【0094】前記カルボキシル基含有不飽和単量体とし
ては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、α−クロルアクリル酸、エタクリル酸、けい皮酸等
の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコ
ン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカル
ボン酸(無水物)類;3価以上の不飽和多価カルボン酸
(無水物)類等を挙げることができる。
Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, ethacrylic acid, and cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids (anhydrides) such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride and mesaconic acid; trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids (anhydrides) Can be mentioned.

【0095】これらのカルボキシル基含有不飽和単量体
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。
These unsaturated monomers having a carboxyl group can be used alone or in combination of two or more.

【0096】また、前記他の不飽和単量体としては、例
えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
クロルスチレン、メトキシスチレン、式(21)
The other unsaturated monomers include, for example, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene,
Chlorostyrene, methoxystyrene, formula (21)

【0097】[0097]

【化25】 Embedded image

【0098】式(22)Equation (22)

【0099】[0099]

【化26】 Embedded image

【0100】等の芳香族ビニル化合物;メチルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピル
アクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリル
メタクリレート、フェニルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジル
メタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェ
ノキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレ
ート、ジシクロペンタジエニルメタクリレート、等の不
飽和カルボン酸エステル類;アミノエチルアクリレー
ト、アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアク
リレート、アミノプロピルメタクリレート等の不飽和カ
ルボン酸アミノアルキルエステル類;グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン
酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニ
ルエステル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエ
ーテル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシ
ジルエーテル等の不飽和エーテル類;アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリ
ル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;ア
クリルアミド、メタクリルアミド、α−クロロアクリル
アミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルメタクリルアミド、マレイミド、N−フ
ェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の
不飽和アミドあるいは不飽和イミド類;1,3−ブタジ
エン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン
類;ポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリブチ
ルメタクリレート、ポリシリコーン等の重合体分子鎖末
端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロイル基
を有するマクロモノマー類等を挙げることができる。
Aromatic vinyl compounds such as methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl Acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, phenyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate , Dicyclopen Unsaturated carboxylic acid esters such as dienyl methacrylate; unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate and aminopropyl methacrylate; unsaturated carboxylic acids such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate Glycidyl esters; vinyl carboxylate esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether; acrylonitrile, methacrylic acid Vinyl cyanide compounds such as lonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, α-chloro Unsaturated amides or unsaturated imides such as acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-hydroxyethyl methacrylamide, maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide; aliphatics such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene Conjugated dienes; macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at a polymer molecular chain terminal such as polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polybutyl acrylate, polybutyl methacrylate, and polysilicone. .

【0101】これらの他の不飽和単量体は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
These other unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0102】カルボキシル基含有共重合体としては、 アクリル酸および/またはメタクリル酸と メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、
ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリ
レートマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも1種
の他の不飽和単量体との共重合体が好ましい。
As the carboxyl group-containing copolymer, acrylic acid and / or methacrylic acid and methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, styrene,
A copolymer with at least one other unsaturated monomer selected from the group consisting of a polystyrene macromonomer and a polymethyl methacrylate macromonomer is preferred.

【0103】好ましいカルボキシル基含有共重合体の具
体例としては、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル
(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/
ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)
アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポ
リメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、(メ
タ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレン
マクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メ
タ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモ
ノマー共重合体、等を挙げることができる。
Specific examples of the preferred carboxyl group-containing copolymer include (meth) acrylic acid / benzyl (meth)
Acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid /
Benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / methyl (meth)
Acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, and the like.

【0104】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、5
〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。こ
の場合、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合
が5重量%未満では、得られる感放射線性組成物のアル
カリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、また
50重量%を超えると、アルカリ現像液による現像時
に、形成された画素の基板からの脱落や画素表面の膜荒
れを来たしやすくなる傾向がある。
The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5
5050% by weight, preferably 10-40% by weight. In this case, if the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive composition in an alkali developing solution tends to decrease, and if it exceeds 50% by weight. During development with an alkali developer, the formed pixels tend to fall off the substrate and the pixel surface tends to be rough.

【0105】本発明におけるバインダーポリマーの使用
割合は、(B)着色剤100重量部に対して、通常、1
0〜1000重量部、好ましくは20〜500重量部で
ある。
The proportion of the binder polymer used in the present invention is usually 1 to 100 parts by weight of the colorant (B).
0 to 1000 parts by weight, preferably 20 to 500 parts by weight.

【0106】この場合、バインダーポリマーの使用割合
が10重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下
したり、画素が形成される部分以外の領域での地汚れや
膜残りが発生するおそれがあり、一方1000重量部を
超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜と
して目的とする色濃度を達成することが困難となる場合
がある。
In this case, when the use ratio of the binder polymer is less than 10 parts by weight, for example, there is a possibility that the alkali developability may be reduced or background stain or a film residue may occur in a region other than a portion where a pixel is formed. On the other hand, when the amount exceeds 1,000 parts by weight, the concentration of the colorant relatively decreases, so that it may be difficult to achieve the target color concentration as a thin film.

【0107】〈多官能性モノマー〉本発明における多官
能性モノマーとしては、例えば、エチレングリコール、
プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジア
クリレートまたはジメタクリレート類;ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレ
ングリコールのジアクリレートまたはジメタクリレート
類;グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多
価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタクリレ
ート類;ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリ
ゴアクリレートまたはオリゴメタクリレート類;両末端
ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソ
プレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末
端ヒドロキシル化重合体のジ(メタ)アクリレート
類;、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェー
ト、トリスメタクリロイルオキシエチルフォスフェート
等を挙げることができる。
<Polyfunctional Monomer> Examples of the polyfunctional monomer in the present invention include ethylene glycol,
Diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as propylene glycol; diacrylates or dimethacrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; tri- or higher valents such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and dipentaerythritol Polyacrylate or polymethacrylate of polyhydric alcohol; polyester, epoxy resin, urethane resin,
Oligoacrylates or oligomethacrylates such as alkyd resins, silicone resins and spirane resins; di (meth) acrylates of hydroxyl-terminated polymers such as hydroxy-terminated polybutadiene, hydroxy-terminated polyisoprene, hydroxy-terminated polycaprolactone; Trisacryloyloxyethyl phosphate, trismethacryloyloxyethyl phosphate and the like can be mentioned.

【0108】これらの多官能性モノマーのうち、3価以
上の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタ
クリレート類が好ましく、具体的には式(23)
Of these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols are preferred, and specific examples of the formula (23)

【0109】[0109]

【化27】 Embedded image

【0110】で表される化合物、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等
を挙げることができ、特に、上記に示した式(23)、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートが、画素強度が高く、画素表面の平滑性に優
れ、かつ画素が形成される部分以外の領域での地汚れ、
膜残り等を発生し難い点で好ましい。
A compound represented by the formula: trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate,
Pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate and the like can be mentioned. In particular, the formula (23) shown above,
Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate have high pixel strength, excellent smoothness of the pixel surface, and have a low surface area other than where pixels are formed. Dirt,
This is preferred because it is unlikely to cause film residue and the like.

【0111】本発明において使用される多官能性モノマ
ーは、本発明の効果が損なわない限り、その一部が単官
能性モノマーに置き換えられても良い。このような単官
能性モノマーとしては、前述したバインダーポリマーの
原料として使用したモノマーがそのまま適用できるほ
か、更に、例えばω−カルボキシ−ポリカプロラクトン
モノ(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリ
コール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレング
リコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−アクリ
ロイロキシエチルこはく酸、を挙げることができる。
A part of the polyfunctional monomer used in the present invention may be replaced with a monofunctional monomer as long as the effects of the present invention are not impaired. As such a monofunctional monomer, the monomer used as a raw material of the binder polymer described above can be applied as it is, and further, for example, ω-carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, Methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-
Phenoxypropyl (meth) acrylate and 2-acryloyloxyethyl succinic acid can be mentioned.

【0112】前記単官能性モノマーの多官能性モノマー
に対する使用割合は、多官能性モノマーと単官能性モノ
マーの合計100に対して、単官能性モノマーが0〜9
0重量%、好ましくは0〜50重量%である。
The proportion of the monofunctional monomer to the polyfunctional monomer is 0 to 9 for the total of 100 of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer.
0% by weight, preferably 0 to 50% by weight.

【0113】本発明における多官能性モノマーの使用割
合は、上記に示したバインダーポリマー100重量部に
対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20〜3
00重量部である。
The proportion of the polyfunctional monomer used in the present invention is usually 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the binder polymer shown above.
00 parts by weight.

【0114】この場合、多官能性モノマーの使用割合が
5重量部未満では、画素強度あるいは画素表面の平滑性
が不十分となる傾向があり、一方500重量部を超える
と、例えば、アルカリ現像性が低下したり、画素が形成
される部分以外の領域での地汚れや膜残りが発生しやす
くなる傾向がある。
In this case, if the proportion of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the pixel strength or the smoothness of the pixel surface tends to be insufficient. , And there is a tendency for background contamination and film residue to occur easily in a region other than the portion where the pixels are formed.

【0115】(D)光重合開始剤 本発明における光重合開始剤とは、光の照射により分解
又は結合が解裂し、ラジカル種、カチオン種、アニオン
種等の前記多官能性モノマーの重合を開始することがで
きる活性種を発生する化合物を意味する。
(D) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator in the present invention is a compound which decomposes or breaks a bond upon irradiation with light to polymerize the above-mentioned polyfunctional monomer such as a radical species, a cationic species, or an anionic species. A compound that generates an active species that can be initiated is meant.

【0116】このような光重合開始剤としては、イミダ
ゾール環を有する化合物、ベンゾイン結合を有する化合
物、その他の光ラジカル発生剤、トリハロメチル基を有
する化合物等を例示することができる。
Examples of such a photopolymerization initiator include compounds having an imidazole ring, compounds having a benzoin bond, other photoradical generators, compounds having a trihalomethyl group, and the like.

【0117】前記イミダゾール環を有する化合物として
は、例えば、特願平7−66514に記載の化合物が有
効である。
As the compound having an imidazole ring, for example, the compounds described in Japanese Patent Application No. 7-66514 are effective.

【0118】これらのうち、特に2,2′−ビス(2−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラキス
(4−エトキシカルボニルフェニル)ビイミダゾール、
2,2′−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(2,4−ジクロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2′−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾールお
よび2,2′−ビス(2,4,6−トリブロモフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ールが好ましい。
Of these, in particular, 2,2'-bis (2-
(Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ',
5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis ( 2,4-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-Tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole are preferred.

【0119】ベンゾイン結合を有する化合物、その他の
光ラジカル発生剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−
(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−
メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケ
トン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2
−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォ
リノ−1−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタ
ン−1−オン、ベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフ
ェノン、4−アジドベンズアルデヒド、4−アジドアセ
トフェノン、4−アジドベンザルアセトフェノン、アジ
ドピレン、4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メ
トキシジフェニルアミン、ビス(2,6−ジメトキシベ
ンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフ
ィンオキサイド、ジベンゾイル、ベンゾインイソブチル
エーテル、N−フェニルチオアクリドン、トリフェニル
ピリリウムパークロレート、その他、製品名で、チバガ
イギー社製のイルガキュアシリーズ、ダロキュアシリー
ズ等を挙げることができる。
Compounds having a benzoin bond and other photoradical generators include, for example, 2-hydroxy-
2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-
(4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-
Methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone,
2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2
-Methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, benzophenone, 2, 4-diethylthioxanthone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4-azidobenzaldehyde, 4-azidoacetophenone, 4-azidobenzalacetophenone, azidopyrene, 4-diazodiphenylamine, 4-diazo-
4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, dibenzoyl, benzoin isobutyl ether, N-phenylthioacridone, Triphenylpyrylium perchlorate and other product names include Irgacure series and Darocur series manufactured by Ciba-Geigy.

【0120】これらの中では、製品名CGI−369
(チバガイギー社製;(2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−
オン)、製品名CGI−1700(チバガイギー社製)
などが特に好ましい。
Among these, product name CGI-369
(Ciba Geigy; (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-1-
ON), Product name CGI-1700 (manufactured by Ciba-Geigy)
Etc. are particularly preferred.

【0121】前記トリハロメチル基を有する化合物等と
しては、具体的に、例えば、1,3,5−トリス(トリ
クロロメチル)トリアジン、等を挙げることができる。
Specific examples of the compound having a trihalomethyl group include 1,3,5-tris (trichloromethyl) triazine.

【0122】これらの光ラジカル発生剤は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
These photo-radical generators can be used alone or in combination of two or more.

【0123】本発明においては、(D)光重合開始剤成
分として、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン結合を
有する化合物、その他の光ラジカル発生剤またはトリハ
ロメチル基を有する化合物を含有するが必要に応じて、
増感剤、硬化促進剤等や、高分子化合物からなる光架橋
剤あるいは光増感剤(以下、「高分子光架橋・増感剤」
という。)の1種以上を併用することもできる。
In the present invention, the photopolymerization initiator component (B) contains a biimidazole compound, a compound having a benzoin bond, another photoradical generator or a compound having a trihalomethyl group, if necessary. ,
Photosensitizers, curing accelerators, etc., photocrosslinking agents or photosensitizers composed of high molecular compounds (hereinafter, “polymer photocrosslinking / sensitizers”
That. ) May be used in combination.

【0124】前記増感剤としては、例えば、4,4′−
ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルア
ミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェ
ノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−
エチルヘキシル−1,4−ジメチルアミノベンゾエー
ト、2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンザル)シ
クロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエ
チルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルアミ
ノ)カルコン、等を挙げることができる。
As the sensitizer, for example, 4,4'-
Bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 2-
Ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4'-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone, and the like. Can be.

【0125】これらの増感剤は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
These sensitizers can be used alone or in combination of two or more.

【0126】前記硬化促進剤としては、例えば、2−メ
ルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチ
アゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5
−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メ
ルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、1−フェ
ニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、3−メル
カプト−4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール
等を挙げることができる。
Examples of the curing accelerator include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2,5
-Dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine, 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole, 3-mercapto-4-methyl-4H-1,2,4 -Triazole and the like.

【0127】これらの硬化促進剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more.

【0128】さらに、前記高分子光架橋・増感剤等は、
光架橋剤および/または光増感剤として機能しうる官能
基を主鎖および/または側鎖中に有する高分子化合物で
あり、その例としては、4−アジドベンズアルデヒドと
ポリビニルアルコールとの縮合物、4−アジドベンズア
ルデヒドとフェノールノボラック樹脂との縮合物、4−
アクリロイルフェニルシンナモイルエステルの単独重合
体あるいは共重合体、1,4−ポリブタジエン、1,2
−ポリブタジエン等を挙げることができる。
Further, the polymer photocrosslinking / sensitizer and the like are
A polymer compound having a functional group capable of functioning as a photocrosslinking agent and / or a photosensitizer in a main chain and / or a side chain, such as a condensate of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, A condensate of 4-azidobenzaldehyde with a phenol novolak resin,
Acryloylphenylcinnamoyl ester homopolymer or copolymer, 1,4-polybutadiene, 1,2
-Polybutadiene and the like.

【0129】これらの高分子光架橋・増感剤は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。
These polymeric photocrosslinking / sensitizers can be used alone or in combination of two or more.

【0130】前記他の光ラジカル発生剤、増感剤および
硬化促進剤のうち、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−(4−メチ
ルチオフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパン−
1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−
(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、4,
4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンおよび2
−メルカプトベンゾチアゾールなどを組み合わせて使用
するとことが、形成された画素が現像時に基板から脱落
し難く、画素強度および感度も高い点で好ましい。
Among the other photoradical generators, sensitizers and curing accelerators, 2-hydroxy-2-methyl-1-
Phenylpropan-1-one, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propane-
1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-
(4-morpholinophenyl) butan-1-one, 4,
4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,
4'-bis (diethylamino) benzophenone and 2
-It is preferable to use a combination of mercaptobenzothiazole or the like in that the formed pixels are less likely to fall off the substrate during development, and the pixel strength and sensitivity are high.

【0131】本発明における(D)光重合開始剤の使用
割合は、(C)多官能性モノマー100重量部に対し
て、通常、0.01〜200重量部、好ましくは1〜1
20重量部、特に好ましくは1〜50重量部である。
The proportion of the photopolymerization initiator (D) used in the present invention is usually 0.01 to 200 parts by weight, preferably 1 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of the polyfunctional monomer (C).
20 parts by weight, particularly preferably 1 to 50 parts by weight.

【0132】この場合、これらの化合物の合計の使用割
合が0.01重量部未満では、放射線照射による硬化が
不十分となり、パターンに欠落、欠損やアンダーカット
を生じるおそれがあり、一方200重量部を超えると、
形成されたパターンが現像時に基板から脱落しやすく、
またパターンが形成される部分以外の領域で地汚れ、膜
残り等を生じやすくなる。
In this case, if the total use ratio of these compounds is less than 0.01 part by weight, curing by radiation irradiation becomes insufficient, and there is a possibility that a pattern may be dropped, chipped or undercut, while 200 parts by weight may be caused. Exceeds
The formed pattern easily falls off the substrate during development,
In addition, background contamination, film residue, and the like are likely to occur in a region other than the portion where the pattern is formed.

【0133】本発明における他の光ラジカル発生剤の使
用割合は、(D)光重合開始剤全体の80重量%以下で
あることが好ましく、また増感剤および/または硬化促
進剤の使用割合は、(D)光重合開始剤全体の80重量
%以下であることが好ましい。
The proportion of the other photoradical generator used in the present invention is preferably not more than 80% by weight of the entire photopolymerization initiator (D), and the proportion of the sensitizer and / or the curing accelerator is preferably not more than 80% by weight. , (D) is preferably 80% by weight or less of the entire photopolymerization initiator.

【0134】本発明における高分子光架橋・増感剤の使
用割合は、(D)光重合開始剤全体の50重量%以下で
あることが好ましい。
The proportion of the polymer photocrosslinking / sensitizer used in the present invention is preferably not more than 50% by weight of the entire photopolymerization initiator (D).

【0135】(E)溶剤 本発明における溶剤としては、前記(A)、(B)、
(C)および(D)成分や、後述する所望により添加さ
れる他の添加剤成分を溶解または分散し、かつこれらの
成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限
り、適宜に選択して使用することができる。
(E) Solvent The solvent in the present invention includes the above (A), (B),
The components (C) and (D) and other optional components to be added as described below are dissolved or dispersed, and do not react with these components and have appropriate volatility. Can be selected and used.

【0136】このような溶剤としては、例えば、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチル
エーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケ
トン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル
類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、
3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピ
オン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−
エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒ
ドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタ
ン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテー
ト、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸イソアミ
ル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプ
ロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、
ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メ
チル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等
の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等の含窒素
(アミド系)溶剤類;などを挙げることができる。
Examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, and tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene Recall monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate (poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether,
Other ethers such as diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; Ethyl hydroxy-2-methylpropionate,
Methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-
Ethyl ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate,
Ethyl acetate, butyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl pyruvate,
Other esters such as ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide And nitrogen-containing (amide-based) solvents such as N, N-dimethylacetamide and the like.

【0137】これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。
These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0138】さらに、前記溶剤とともに、ベンジルエチ
ルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセト
ン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタ
ノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベ
ンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン
酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸
プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点
溶剤を併用することもできる。
Further, together with the solvent, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, High boiling solvents such as diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate can also be used in combination.

【0139】これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
These high-boiling solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0140】前記溶剤のうち、溶解性、顔料分散性、塗
布性等の観点から、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シク
ロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メト
キシブチルプロピオネート、3−メトキシプロピオン酸
エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキ
シプロピオン酸エチル、酢酸ブチル、ぎ酸アミル、酢酸
イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪
酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸
エチル等が好ましく、また高沸点溶剤としてはγ−ブチ
ロラクトン等が好ましい。
Among the above solvents, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone , 2-heptanone, 3-heptanone, 2-
Ethyl hydroxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, butyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate Butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like, and γ-butyrolactone as the high boiling solvent is preferred.

【0141】本発明における溶剤の使用割合には、特に
制限はないが、通常、(A)、(B)、(C)、
(D)、及び、後述するその他各種添加剤を足し合わせ
た総量が重量%濃度で、5〜50%になるように、さら
には、10〜40%になるように調整するのが、塗布性
の点、組成物の安定性の点などから好ましい。
The proportion of the solvent used in the present invention is not particularly limited, but is usually (A), (B), (C),
(D) and the total amount of the various other additives described later is adjusted to be 5 to 50% by weight, and more preferably to 10 to 40% by weight. And the stability of the composition.

【0142】本発明の感放射線性組成物は、前述した通
り、成分として、(A)〜(E)を含むものであるが、
アルカリ現像液に対する溶解性をより改善し、かつ現像
処理後の未溶解物の残存をより少なくするために、有機
酸を含有するこもできる。
As described above, the radiation-sensitive composition of the present invention contains (A) to (E) as components.
An organic acid may be contained in order to further improve the solubility in an alkali developing solution and to reduce the remaining undissolved matter after the development processing.

【0143】このような有機酸としては、分子量が10
00以下である、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基
含有カルボン酸が好ましい。
Such an organic acid has a molecular weight of 10
An aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid of not more than 00 is preferable.

【0144】これらの有機酸のうち、マロン酸、アジピ
ン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン
酸、フタル酸等の脂肪族ジカルボン酸類および芳香族ジ
カルボン酸類が、アルカリ溶解性、(E)溶剤に対する
溶解性、画素が形成される部分以外の領域での地汚れの
防止等の観点から好ましい。
Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and phthalic acid are alkali-soluble, It is preferable from the viewpoint of solubility in a solvent, prevention of background contamination in a region other than a portion where a pixel is formed, and the like.

【0145】前記有機酸は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
The above-mentioned organic acids can be used alone or in combination of two or more.

【0146】本発明における有機酸の使用割合は、組成
物全体に対して、通常、10重量%以下、好ましくは
0.001〜10重量%、さらに好ましくは0.01〜
1重量%である。
The proportion of the organic acid used in the present invention is usually 10% by weight or less, preferably 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight, based on the whole composition.
1% by weight.

【0147】この場合、有機酸の使用割合が10重量%
を超えると、形成された画素の基板に対する密着性が低
下する傾向がある。
In this case, the use ratio of the organic acid is 10% by weight.
When the value exceeds, the adhesion of the formed pixel to the substrate tends to decrease.

【0148】さらに、本発明の感放射線性組成物は、必
要に応じて種々の添加剤を含有することもできる。
Further, the radiation-sensitive composition of the present invention may contain various additives as necessary.

【0149】このような添加剤としては、例えば、ガラ
ス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ
エチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロ
アルキルアクリレート等の高分子化合物;ノニオン系界
面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエト
キシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−
アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルプロピル
トリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメト
キシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノ
ール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収
剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;エポキ
シ化合物、メラミン化合物、ビスアジド化合物等の熱架
橋剤;を挙げることができる。
Examples of such additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ether and polyfluoroalkyl acrylate; nonionic surfactants and cationic surfactants. And surfactants such as anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-
Aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidylpropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3 Adhesion promoters such as -chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl-6-t
-Butylphenol) and antioxidants such as 2,6-di-t-butylphenol; UV-absorption such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone Agents; aggregation preventing agents such as sodium polyacrylate; thermal crosslinking agents such as epoxy compounds, melamine compounds and bisazide compounds;

【0150】〈カラーフィルターの形成方法〉次に、本
発明の感放射線性組成物を用いて、カラーフィルターを
形成する方法について説明する。
<Method of Forming Color Filter> Next, a method of forming a color filter using the radiation-sensitive composition of the present invention will be described.

【0151】まず、透明基板の表面上の画素パターンを
形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基
板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成
物を塗布したのち、プリベークを行って溶剤を蒸発さ
せ、塗膜を形成する。
First, a light-shielding layer is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is to be formed on the surface of a transparent substrate, and a radiation-sensitive composition in which, for example, a red pigment is dispersed is applied onto the substrate. And pre-baking to evaporate the solvent to form a coating film.

【0152】次いで、この塗膜にフォトマスクを介して
放射線を照射したのち、現像処理を行い、塗膜の放射線
未照射部を溶解除去することによって、赤色の画素が所
定のパターンで配置された画素アレイを形成する。
Next, after this coating film was irradiated with radiation through a photomask, development processing was performed, and the unirradiated portion of the coating film was dissolved and removed, whereby red pixels were arranged in a predetermined pattern. Form a pixel array.

【0153】その後、緑色または青色の顔料が分散され
た各感放射線性組成物を用い、上記と同様にして、各組
成物の塗布、プリベーク、放射線照射および現像処理を
行い、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一
基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青
色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフ
ィルタを得る。
After that, using each radiation-sensitive composition in which a green or blue pigment is dispersed, each composition is applied, prebaked, irradiated with radiation, and developed in the same manner as described above to obtain a green pixel array and By sequentially forming a blue pixel array on the same substrate, a color filter in which red, green, and blue pixel arrays of three primary colors are arranged on the substrate is obtained.

【0154】カラーフィルタを形成する際に使用される
透明基板としては、例えばガラス、シリコン、ポリカー
ボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。これら
の透明基板には、所望により、シランカップリング剤等
による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティン
グ、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の
前処理を施しておくこともできる。
Examples of the transparent substrate used for forming a color filter include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamide imide, and polyimide. These transparent substrates may be subjected to an appropriate pretreatment such as a chemical treatment with a silane coupling agent or the like, a plasma treatment, an ion plating, a sputtering, a gas phase reaction method, or a vacuum deposition, if desired.

【0155】感放射線性組成物を透明基板に塗布する際
には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布
法を採用することができる。
When applying the radiation-sensitive composition to the transparent substrate, an appropriate coating method such as spin coating, casting coating, and roll coating can be employed.

【0156】塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、
0.1〜10μm、好ましくは0.2〜5.0μm、特
に好ましくは0.2〜3.0μmである。
The coating thickness is usually a film thickness after drying.
It is 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm, particularly preferably 0.2 to 3.0 μm.

【0157】カラーフィルタを形成する際に使用される
放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子
線、X線等を使用することができるが、波長が190〜
450nmの範囲にある放射線が好ましい。
As the radiation used for forming the color filter, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray and the like can be used.
Radiation in the range of 450 nm is preferred.

【0158】放射線の照射エネルギー量は、好ましくは
1〜1000mJ/cm2 である。
The irradiation energy amount of the radiation is preferably 1 to 1000 mJ / cm 2 .

【0159】前記アルカリ現像液としては、例えば炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テト
ラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、
1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデ
セン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−
ノネン等の水溶液が好ましい。
Examples of the alkaline developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline,
1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-
An aqueous solution such as nonene is preferred.

【0160】また、前記アルカリ現像液には、例えばメ
タノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤
等を適量添加することもできる。
Further, an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like can be added to the alkali developer.

【0161】なお、アルカリ現像後は、通常、水洗す
る。
After the alkali development, washing is usually carried out with water.

【0162】現像処理法としては、シャワー現像法、ス
プレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛
り)現像法等を適用することができ、現像条件は、常温
で5〜300秒が好ましい。
As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method, and the like can be applied. preferable.

【0163】このようにして形成されたカラーフィルタ
は、例えばカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カ
ラーセンサー等に極めて有用である。
The color filter thus formed is extremely useful for, for example, a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, a color sensor and the like.

【0164】[0164]

【実施例】以下、実施例をもって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0165】〈特定反応物a.の合成例〉 合成例1 500mlの四つ口フラスコ中に、テトラカルボン酸二
無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物69.41g(310mmol)、アル
コール化合物として2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト80.59g(619mmol)、溶媒としてプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート150
g、触媒として、テトラエチルアンモニウムブロマイド
0.62g(2.9mmol)を仕込み、撹拌しなが
ら、110℃で加熱した。この反応液は当初白鐸してい
たが、次第に溶解し、2時間後完全に溶解した。溶解
後、4時間、そのまま反応させることで、目的とする特
定反応物a.(a1)の溶液を得た。
<Specific reactant a. Synthesis Example 1> Synthesis Example 1 In a 500 ml four-necked flask, 69.41 g (310 mmol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 2-hydroxyethyl as an alcohol compound 80.59 g (619 mmol) of methacrylate, propylene glycol monomethyl ether acetate 150 as a solvent
g, 0.62 g (2.9 mmol) of tetraethylammonium bromide was charged as a catalyst, and heated at 110 ° C. with stirring. This reaction solution was initially white dot, but gradually dissolved, and completely dissolved after 2 hours. After dissolution, the reaction is allowed to proceed for 4 hours to obtain the desired specific reactant a. A solution of (a1) was obtained.

【0166】合成例2〜5 原料の化合物を変更した以外は、合成例1に示した方法
で同様に反応させ、目的とする化合物 (a2)〜(a5)を得た。合成結果を表1にまとめ
た。
Synthetic Examples 2 to 5 The same reaction as in Synthetic Example 1 was carried out except that the starting compounds were changed, to obtain the desired compounds (a2) to (a5). Table 1 summarizes the synthesis results.

【0167】[0167]

【表1】 [Table 1]

【0168】〈特定反応物b.の合成例〉 合成例6 500mlの四つ口フラスコ中に、ジオール化合物とし
て、9.9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル)フルオレン64.80g(148mmol)、
酸無水物化合物として、式(19)で示される化合物8
5.20g(296mmol)、溶媒としてプロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート150g、触
媒として、テトラエチルアンモニウムブロマイド0.5
9g(2.8mmol)を仕込み、撹拌しながら、11
0℃で加熱した。この反応液は当初白鐸していたが、次
第に溶解した。完全に溶解してから、4時間、そのまま
反応させることで、目的とする特定反応物b.(b1)
の溶液を得た。
<Specific reactant b. Synthesis Example 6> Synthesis Example 6 In a 500 ml four-necked flask, as a diol compound, 9.9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene 64.80 g (148 mmol),
Compound 8 represented by the formula (19) as an acid anhydride compound
5.20 g (296 mmol), 150 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, 0.5 g of tetraethylammonium bromide as a catalyst
9 g (2.8 mmol) were charged and, with stirring, 11 g
Heated at 0 ° C. This reaction solution was in the form of white dots, but gradually dissolved. After complete dissolution, the reaction is allowed to proceed for 4 hours to obtain the desired specific reactant b. (B1)
Was obtained.

【0169】合成例7 500mlの四つ口フラスコ中に、ジアミン化合物とし
て、9.9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン2
2.60g(65mmol)、酸無水物化合物として、
式(17)で示される化合物37.40g(130mm
ol)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート240g、触媒として、テトラエチル
アンモニウムブロマイド0.26g(1.2mmol)
を仕込み、撹拌しながら、60℃で加熱した。この反応
液は当初白鐸していたが、次第に溶解した。完全に溶解
してから、4時間、そのまま反応させることで、目的と
する特定反応物b.(b2)の溶液を得た。
Synthesis Example 7 In a 500 ml four-necked flask, 9.9-bis (4-aminophenyl) fluorene 2 was added as a diamine compound.
2.60 g (65 mmol) as an acid anhydride compound
37.40 g of a compound represented by the formula (17) (130 mm
ol), 240 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, 0.26 g (1.2 mmol) of tetraethylammonium bromide as a catalyst
And heated at 60 ° C. with stirring. This reaction solution was in the form of white dots, but gradually dissolved. After complete dissolution, the reaction is allowed to proceed for 4 hours to obtain the desired specific reactant b. A solution of (b2) was obtained.

【0170】〈実施例1〉(A)成分として、合成例1
で合成した特定反応物(a1):40重量部の溶解した
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶
液、(B)成分として、赤色顔料(C.I.PigmentRed17
7):100重量部を分散剤を用いて分散させた顔料分散
液、(C)成分として、メタクリル酸/ベンジルメタク
リレート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリ
スチレンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:15
/60/15/10、重量平均分子量:28000):
40重量部、および、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート:40重量部、(D)成分として、2,2′
−ビス(2−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラフェニルビイミダゾール:10重量部と4,4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン:10重量
部、(E)成分として、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート:800重量部(ただし、特定反
応物 a1の溶媒、顔料分散液の溶媒を含む)、シクロ
ヘキサノン:100重量部を混合して感放射線性組成物
を調製した。次いで、表面にナトリウムイオンの溶出を
防止するシリカ(SiO2 )膜が形成されたソーダガラ
ス製透明基板の表面上に、画素パターンを形成する部分
を区画するように遮光層を設けたのち、スピンコーター
を用いて前記感放射線性組成物を塗布し、80℃のホッ
トプレートで2分間プリベークを行ない、膜厚1.5μ
mの塗膜を形成した。
Example 1 Synthesis Example 1 was used as the component (A).
Specific reaction product (a1) synthesized in the above: 40 parts by weight of a dissolved propylene glycol monomethyl ether acetate solution, and as the component (B), a red pigment (CIPigment Red17)
7): A pigment dispersion obtained by dispersing 100 parts by weight of a dispersant, and as a component (C), a methacrylic acid / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio: 15)
/ 60/15/10, weight average molecular weight: 28000):
40 parts by weight, and 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 2,2 ′ as the component (D)
-Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetraphenylbiimidazole: 10 parts by weight and 4,4 '
-Bis (diethylamino) benzophenone: 10 parts by weight, as the component (E), propylene glycol monomethyl ether acetate: 800 parts by weight (including the solvent for the specific reactant a1 and the solvent for the pigment dispersion), cyclohexanone: 100 parts by weight Was mixed to prepare a radiation-sensitive composition. Next, a light-shielding layer is provided on the surface of a transparent substrate made of soda glass having a silica (SiO 2 ) film for preventing elution of sodium ions formed thereon so as to partition a portion where a pixel pattern is to be formed, and then spinning is performed. The radiation-sensitive composition was applied using a coater, and pre-baked on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes to form a film having a thickness of 1.5 μm.
m was formed.

【0171】その後、基板を冷却したのち、高圧水銀ラ
ンプを用い、フォトマスクを介して、塗膜に波長365
nm、405nmおよび436nmの光を含む50mJ
/cm2 の紫外線を照射した。
Then, after cooling the substrate, the wavelength of 365 was applied to the coating film through a photomask using a high-pressure mercury lamp.
50 mJ including nm, 405 nm and 436 nm light
/ Cm 2 of ultraviolet rays.

【0172】次いで、基板を後述する条件で現像処理を
行い、風乾したのち、さらに180℃で30分間ポスト
ベークを行なって、各辺20μm×20μmの大きさの
赤色の画素パターンが形成された画素アレイを作製し
た。
Next, the substrate was developed under the conditions described below, air-dried, and further post-baked at 180 ° C. for 30 minutes to form a pixel having a red pixel pattern of 20 μm × 20 μm on each side. An array was made.

【0173】得られた画素アレイにはパターンの欠落や
欠損は認められず、パターン断面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、アンダーカットは認められなかった。
また画素アレイを光学顕微鏡で観察したところ、基板上
のパターンが形成されていない領域に未溶解物の残存は
認められなかった。また、得られた画素の鉛筆硬度を測
定したところ、5Hであった。
In the obtained pixel array, no missing or missing pattern was observed. When the cross section of the pattern was observed with a scanning electron microscope, no undercut was observed.
When the pixel array was observed with an optical microscope, no undissolved matter was found in a region where no pattern was formed on the substrate. The measured pencil hardness of the obtained pixel was 5H.

【0174】〈現像条件〉 現像液:0.2重量%濃度のテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド水溶液(25℃) 現像装置:シャワー現像装置 現像時間:1分間 リンス時間:1分間(超純水) シャワー圧:0.2kg/cm2 〈実施例2〜7〉(A)成分として、特定反応物(a
1)の代わりに、合成例2〜7で得られた特定反応物
(a2)〜(a5)および(b1)〜(b2)を用いた
以外は、実施例1と同様に、感放射線組成物を調製し、
画素アレイを作製した。評価結果を表2に示した。
<Developing Conditions> Developing solution: 0.2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (25 ° C.) Developing device: Shower developing device Developing time: 1 minute Rinse time: 1 minute (ultra pure water) Shower pressure : 0.2 kg / cm 2 <Examples 2 to 7> As the component (A), the specific reactant (a
In the same manner as in Example 1, except that the specific reactants (a2) to (a5) and (b1) to (b2) obtained in Synthesis Examples 2 to 7 were used instead of 1), the radiation-sensitive composition was used. Is prepared,
A pixel array was prepared. Table 2 shows the evaluation results.

【0175】[0175]

【表2】 [Table 2]

【0176】〈比較例1〉(B)成分として、赤色顔
(C.I.PigmentRed177):100重量部を分散剤を用いて
分散させた顔料分散液、(C)成分として、メタクリル
酸/ベンジルメタクリレート/2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体
(共重合重量比:15/60/15/10、重量平均分
子量:28000):60重量部、および、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート:60重量部、(D)
成分として、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール:
10重量部と4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン:10重量部、(E)成分として、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート:800重量
部(ただし、顔料分散液の溶媒を含む)、シクロヘキサ
ノン:100重量部を混合して感放射線性組成物を調製
した。
<Comparative Example 1> A pigment dispersion in which 100 parts by weight of red face (CIPigment Red177) was dispersed using a dispersant as the component (B), and methacrylic acid / benzyl methacrylate / 2- as the component (C). Hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio: 15/60/15/10, weight average molecular weight: 28000): 60 parts by weight, and dipentaerythritol hexaacrylate: 60 parts by weight, (D)
As a component, 2,2'-bis (2-chlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole:
10 parts by weight and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone: 10 parts by weight, as the component (E), propylene glycol monomethyl ether acetate: 800 parts by weight (including the solvent for the pigment dispersion), cyclohexanone: 100 parts by weight The parts were mixed to prepare a radiation-sensitive composition.

【0177】この感放射線性組成物を用い、実施例1と
同様にして、基板上に赤色の画素パターンが形成された
画素アレイを作製した。得られた画素アレイは、パター
ンの大部分が欠落しており、また、残存した部分の鉛筆
硬度を測定したところ、3Hとカラーフィルター用の硬
化膜としては、かなり柔らかいものであった。
Using this radiation-sensitive composition, a pixel array having a red pixel pattern formed on a substrate was produced in the same manner as in Example 1. Most of the pattern of the obtained pixel array was missing, and the pencil hardness of the remaining portion was measured. As a result, the cured film for 3H and the color filter was considerably soft.

【0178】〈比較例2〉実施例1において、バインダ
ーポリマーとして、メタクリル酸/メチルメタクリレー
ト/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレ
ンマクロモノマー共重合体(共重合重量比:15/60
/15/10、重量平均分子量:29000)を用いた
以外は、比較例1と同様にして感放射線性組成物を調製
し、基板上に赤色の画素パターンが形成された画素アレ
イを作製した。得られた画素アレイはパターンが一部欠
落しており、残存した部分の鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、3Hとカラーフィルター用の硬化膜としては、柔ら
かいものであった。
Comparative Example 2 In Example 1, a methacrylic acid / methyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymer weight ratio: 15/60) was used as the binder polymer.
/ 15/10, weight average molecular weight: 29000), a radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 to prepare a pixel array having a red pixel pattern formed on a substrate. A part of the obtained pixel array was missing a pattern, and the pencil hardness of the remaining part was measured. As a result, the cured film for 3H and the color filter was soft.

【0179】〈比較例3〉比較例1において、(C)成
分の、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモ
ノマー共重合体(共重合重量比:15/60/15/1
0、重量平均分子量:28000)を40重量部、およ
び、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを80
重量部に変更した以外は、比較例1と同様にして感放射
線性組成物を調製した。
<Comparative Example 3> In Comparative Example 1, the component (C), methacrylic acid / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer (copolymerization weight ratio: 15/60/15/1)
0, weight average molecular weight: 28000) and 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate.
A radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount was changed to parts by weight.

【0180】この感放射線性組成物を用い、実施例1と
同様にして、基板上に塗布し、プリベークしたが、塗膜
にタック(粘着性)が生じたため、露光できなかった。
Using this radiation-sensitive composition, it was applied to a substrate and prebaked in the same manner as in Example 1, but exposure could not be performed because tackiness (stickiness) was generated in the coating film.

【0181】[0181]

【発明の効果】本発明によれば、特定構造の不飽和基お
よびカルボキシル基含有化合物を用いることで、少ない
露光量でも、パターニング可能で、かつ、硬度の高いカ
ラーフィルターを得ることが可能な、フォトリソグラフ
ィー用の感放射線性着色組成物が得られる。本発明の感
放射線性着色組成物を用いて形成したカラーフィルター
は、信頼性に優れ、例えば卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピ
ューター、液晶テレビなどの表示装置に有効に用いられ
る。
According to the present invention, by using a compound having an unsaturated group and a carboxyl group having a specific structure, it is possible to obtain a color filter which can be patterned and has high hardness even with a small exposure. A radiation-sensitive colored composition for photolithography is obtained. The color filter formed using the radiation-sensitive coloring composition of the present invention has excellent reliability and is effectively used for display devices such as desktop calculators, watches, clocks, coefficient display boards, word processors, personal computers, and liquid crystal televisions. Can be

【0182】また、本発明の特定構造の不飽和基および
カルボキシル基含有化合物は、感光剤の種類、添加物の
種類を選択すれば、レジスト用、オーバーコート膜用、
感光性スペーサー用などにも、広く適用可能である。
The unsaturated group- and carboxyl group-containing compound having a specific structure according to the present invention can be used for a resist, an overcoat film, etc.
It is widely applicable to photosensitive spacers.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Atsushi Kumano 2--11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Inside Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 式(1) 【化1】 [式中、R1 は4価の有機基を示す。]で表されるテト
ラカルボン酸二無水物と、式(2) 【化2】 [式中、R2 は、少なくとも、一つの放射線重合可能な
不飽和結合を有する1価の有機基を示し、R3 は、水酸
基およびアミノ基より選ばれる1価の有機基を示す。]
で表される化合物を反応させることにより得られる、不
飽和基およびカルボキシル基含有化合物、及び/また
は、式(3) 【化3】 [式中、R4 は2価の有機基を示し、R5 は、水酸基お
よびアミノ基より選ばれる1価の有機基を示す。]で表
される化合物と、式(4) 【化4】 [式中、R6 は、少なくとも、一つの放射線重合可能な
不飽和結合を有する、1価の有機基を示す。]で表され
る酸無水物を反応させることにより得られる、不飽和基
およびカルボキシル基含有化合物を含むことを特徴とす
る感放射線性組成物。
(1) Formula (1) [In the formula, R 1 represents a tetravalent organic group. And a tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (2): [Wherein, R 2 represents at least one monovalent organic group having a radiation-polymerizable unsaturated bond, and R 3 represents a monovalent organic group selected from a hydroxyl group and an amino group. ]
And / or a compound containing an unsaturated group and a carboxyl group, and / or a compound represented by the formula (3): [In the formula, R 4 represents a divalent organic group, and R 5 represents a monovalent organic group selected from a hydroxyl group and an amino group. And a compound represented by the formula (4): [In the formula, R 6 represents a monovalent organic group having at least one radiation-polymerizable unsaturated bond. A radiation-sensitive composition comprising an unsaturated group and a carboxyl group-containing compound, obtained by reacting the acid anhydride represented by the formula (1).
【請求項2】 (A)請求項1に記載の不飽和基および
カルボキシル基含有化合物、(B)着色剤、(C)バイ
ンダーポリマー、及び多官能性モノマー、(D)光重合
開始剤、および(E)溶剤を含有することを特徴とする
カラーフィルター用感放射線性組成物。
2. (A) a compound containing an unsaturated group and a carboxyl group according to claim 1, (B) a colorant, (C) a binder polymer, and a polyfunctional monomer, (D) a photopolymerization initiator, and (E) A radiation-sensitive composition for a color filter, comprising a solvent.
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