JP2000292920A - Radiation sensitive composition for color filter - Google Patents

Radiation sensitive composition for color filter

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JP2000292920A
JP2000292920A JP9696299A JP9696299A JP2000292920A JP 2000292920 A JP2000292920 A JP 2000292920A JP 9696299 A JP9696299 A JP 9696299A JP 9696299 A JP9696299 A JP 9696299A JP 2000292920 A JP2000292920 A JP 2000292920A
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JP
Japan
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liquid crystal
color filter
pigment
bis
pigment red
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JP9696299A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Miyaji
正昭 宮路
Shigeru Abe
慈 阿部
Takeshi Watanabe
毅 渡邉
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make suppressible the lowering of the performance of a liquid crystal display device due to the contamination of a liquid crystal by components and impurities contained in a radiation sensitive composition, and to obtain a liquid crystal display device having high reliability. SOLUTION: The radiation sensitive composition for a color filter contains a colorant, an alkali-soluble resin, a polyfunctional monomer and a photopolymerization initiator and has a contamination degree of <=0.15 calculated by the equation (contamination degree)=(X-Y)/X, wherein X is the voltage retentivity of a liquid crystal display device using a substrate obtained by forming an ITO film on a glass substrate and containing an injected nematic liquid crystal and Y is the voltage retentivity of a liquid crystal display device using a substrate obtained by forming an ITO film on a glass substrate after applying and baking the radiation sensitive composition on the substrate and containing an injected nematic liquid crystal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの
製造に使用されるカラーフィルタ用感放射線性組成物に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter used for producing a color filter used for a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラー液晶表示装置、カラー撮像管素子
等に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、従
来、感放射線性樹脂の塗膜にフォトマスクを介し放射線
を照射(以下、「露光」という。)して、露光部を硬化
させ、その後現像処理を行なって、塗膜の未露光部を除
去してパターンを形成したのち、染色する方法(染色
法)や、感放射線性樹脂に着色剤を分散した組成物を用
い、前記と同様に塗膜形成、露光および現像処理を行う
フォトリソグラフィー法等が知られているが、近年で
は、耐熱性や耐光性の観点から、着色剤に顔料を用いた
顔料分散型の感放射線性組成物を用いたフォトリソグラ
フィー法が一般に採用されている。 しかしながら、カ
ラーフィルターに用いられる感放射線性組成物は、顔料
に代表される着色剤以外にも、通常、顔料用分散剤や各
種の添加剤等を含有しており、これら成分やそれらに含
まれる不純物が液晶中に溶出ないしブリードすることに
より、電圧保持率の低下、表示ムラの発生、配向不良等
を生じ、液晶表示素子としての性能を低下させる原因と
なっている。また、このような性能低下は、カラーフィ
ルタを形成するまでの処理過程でカラーフィルタ用感放
射線性組成物中に外部から混入した不純物に起因する場
合もある。そこで、カラーフィルタ用感放射線性組成物
中に含まれる成分や不純物による液晶の汚染に起因する
液晶表示素子の性能低下を回避しうる技術の開発が望ま
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a color filter used in a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, etc., conventionally, a coating film of a radiation-sensitive resin is irradiated with radiation through a photomask (hereinafter referred to as "exposure"). ) To cure the exposed portion, and then perform a developing process to remove the unexposed portion of the coating film to form a pattern, and then dye (a dyeing method) or a coloring agent to the radiation-sensitive resin. A photolithography method or the like of performing a coating film formation, exposure, and development treatment in the same manner as described above using a composition in which is dispersed is known.In recent years, from the viewpoint of heat resistance and light resistance, a pigment is added to a colorant. A photolithography method using the used pigment-dispersed radiation-sensitive composition is generally employed. However, the radiation-sensitive composition used in the color filter, in addition to the colorant represented by the pigment, usually contains a pigment dispersant, various additives, and the like, and is included in these components and those components When the impurities are eluted or bleed into the liquid crystal, the voltage holding ratio is reduced, display unevenness is generated, alignment failure is caused, and the performance as a liquid crystal display element is reduced. In addition, such performance deterioration may be caused by impurities mixed into the radiation-sensitive composition for a color filter from the outside during a process until a color filter is formed. Therefore, there is a demand for the development of a technology capable of avoiding a decrease in the performance of a liquid crystal display element due to contamination of the liquid crystal by components and impurities contained in the radiation-sensitive composition for a color filter.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑みてなされたものであり、その課題は、カラ
ーフィルタ用感放射線性組成物中に含まれる成分や不純
物による液晶の汚染に起因する液晶表示素子の性能低下
を抑制でき、高度の信頼性を有する液晶表示素子をもた
らすことができるカラーフィルタ用感放射線性組成物を
提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to contaminate a liquid crystal by components and impurities contained in a radiation-sensitive composition for a color filter. An object of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition for a color filter, which can suppress a decrease in performance of a liquid crystal display element caused by the above and can provide a liquid crystal display element having high reliability.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明によると、前記課
題は、(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、
(C)多官能性単量体および(D)光重合開始剤を含有
し、下記式〔I〕で定義される不純物残留度が0.15
以下であることを特徴とするカラーフィルター用感放射
線性組成物、 不純物残留度=(X−Y)/X ...〔I〕 (但し、Xは、ガラス基板の片面上にITO膜を形成し
た基板を用いてネマティック型液晶を注入した液晶表示
素子の測定温度60℃およびフレーム周期500ミリ秒
における電圧保持率であり、Yは、ガラス基板の片面上
に感放射線性組成物を塗布してベークしたのち、さらに
ITO膜を形成した基を用いて、同じネマティック型
液晶を注入した液晶表示素子の測定温度60℃およびフ
レーム周期500ミリ秒における電圧保持率である。)
によって達成される。ここで、「ITO膜」とは、酸化
錫をドープした酸化インジュウム膜であり、液晶表示素
子の透明電極をなすものである。
According to the present invention, the object is to provide (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin,
It contains (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and has an impurity residual degree defined by the following formula [I] of 0.15.
The radiation-sensitive composition for a color filter is characterized by the following: Impurity residualness = (XY) / X ... [I] (where X is an ITO film formed on one surface of a glass substrate) Is the voltage holding ratio at a measurement temperature of 60 ° C. and a frame period of 500 milliseconds of a liquid crystal display element in which a nematic liquid crystal is injected using the substrate obtained above, and Y is obtained by applying the radiation-sensitive composition on one surface of a glass substrate. After baking, further using a board of an ITO film was formed, the voltage holding ratio at a measurement temperature of 60 ° C. and the frame period 500 ms of the liquid crystal display device was injected the same nematic liquid crystal.)
Achieved by Here, the "ITO film" is an indium oxide film doped with tin oxide, and forms a transparent electrode of a liquid crystal display device.

【0005】以下に、本発明について詳細に説明する。(A)着色剤 本発明における着色剤は、色調が特に限定されるもので
はなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選
定され、顔料、染料あるいは天然色素の何れでもよい。
カラーフィルタには高精細な発色と耐熱性が求められる
ことから、第1発明における着色剤としては、発色性が
高く、かつ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高い
着色剤が好ましく、通常、顔料、特に好ましくは有機顔
料が用いられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. (A) Colorant The colorant in the present invention is not particularly limited in color tone, and is appropriately selected depending on the use of the obtained color filter, and may be any of a pigment, a dye, and a natural pigment.
Since the color filter is required to have high-definition color development and heat resistance, as the colorant in the first invention, a colorant having a high color development property and a high heat resistance, particularly a colorant having a high thermal decomposition resistance is preferable, Usually, pigments, particularly preferably organic pigments, are used.

【0006】前記有機顔料としては、例えば、カラーイ
ンデックス(C.I.;The Society ofDyers and Colouris
ts 社発行) においてピグメント(Pigment)に分類され
ている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデ
ックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることが
できる。C.I.ピグメントイエロー1、C.I.ピグメントイ
エロー3、C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメン
トイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピ
グメントイエロー15、C.I.ピグメントイエロー16、
C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー
20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイ
エロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメ
ントイエロー60、C.I.ピグメントイエロー61、C.I.
ピグメントイエロー65、C.I.ピグメントイエロー7
1、C.I.ピグメントイエロー73、C.I.ピグメントイエ
ロー74、C.I.ピグメントイエロー81、C.I.ピグメン
トイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピ
グメントイエロー95、C.I.ピグメントイエロー97、
C.I.ピグメントイエロー98、C.I.ピグメントイエロー
100、C.I.ピグメントイエロー101、C.I.ピグメン
トイエロー104、C.I.ピグメントイエロー106、C.
I.ピグメントイエロー108、C.I.ピグメントイエロー
109、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメン
トイエロー113、C.I.ピグメントイエロー114、C.
I.ピグメントイエロー116、C.I.ピグメントイエロー
117、C.I.ピグメントイエロー119、C.I.ピグメン
トイエロー120、C.I.ピグメントイエロー126、C.
I.ピグメントイエロー127、C.I.ピグメントイエロー
128、C.I.ピグメントイエロー129、C.I.ピグメン
トイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.
I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー
151、C.I.ピグメントイエロー152、C.I.ピグメン
トイエロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.
I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー
156、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメン
トイエロー168、C.I.ピグメントイエロー175、C.
I.ピグメントイエロー180、 C.I.ピグメントイエロ
ー185;
Examples of the organic pigment include a color index (CI; The Society of Dyers and Coloris).
Compounds which are classified as Pigment (published by ts Co., Ltd.), specifically, those having a color index (CI) number as shown below. CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 15, CI Pigment Yellow 16,
CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 60, CI Pigment Yellow 61, CI
Pigment Yellow 65, CI Pigment Yellow 7
1, CI Pigment Yellow 73, CI Pigment Yellow 74, CI Pigment Yellow 81, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 95, CI Pigment Yellow 97,
CI Pigment Yellow 98, CI Pigment Yellow 100, CI Pigment Yellow 101, CI Pigment Yellow 104, CI Pigment Yellow 106, C.I.
I. Pigment Yellow 108, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 113, CI Pigment Yellow 114, C.I.
Pigment Yellow 116, CI Pigment Yellow 117, CI Pigment Yellow 119, CI Pigment Yellow 120, CI Pigment Yellow 126, C.I.
CI Pigment Yellow 127, CI Pigment Yellow 128, CI Pigment Yellow 129, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, C.I.
Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 151, CI Pigment Yellow 152, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, C.I.
I. Pigment Yellow 155, CI Pigment Yellow 156, CI Pigment Yellow 166, CI Pigment Yellow 168, CI Pigment Yellow 175, C.I.
I. Pigment Yellow 180, CI Pigment Yellow 185;

【0007】C.I.ピグメントオレンジ1、C.I.ピグメン
トオレンジ5、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグ
メントオレンジ14、C.I.ピグメントオレンジ16、C.
I.ピグメントオレンジ17、C.I.ピグメントオレンジ2
4、C.I.ピグメントオレンジ34、C.I.ピグメントオレ
ンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメン
トオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピ
グメントオレンジ46、C.I.ピグメントオレンジ49、
C.I.ピグメントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ
61、C.I.ピグメントオレンジ63、C.I.ピグメントオ
レンジ64、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメ
ントオレンジ73;C.I.ピグメントバイオレット1、C.
I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイオ
レット23、C.I.ピグメントバイオレット29、C.I.ピ
グメントバイオレット32、C.I.ピグメントバイオレッ
ト36、C.I.ピグメントバイオレット38;
CI Pigment Orange 1, CI Pigment Orange 5, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Orange 14, CI Pigment Orange 16, C.I.
I. Pigment Orange 17, CI Pigment Orange 2
4, CI Pigment Orange 34, CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 38, CI Pigment Orange 40, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 46, CI Pigment Orange 49,
CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 63, CI Pigment Orange 64, CI Pigment Orange 71, CI Pigment Orange 73; CI Pigment Violet 1, C.I.
I. Pigment Violet 19, CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29, CI Pigment Violet 32, CI Pigment Violet 36, CI Pigment Violet 38;

【0008】C.I.ピグメントレッド1、C.I.ピグメント
レッド2、C.I.ピグメントレッド3、C.I.ピグメントレ
ッド4、C.I.ピグメントレッド5、C.I.ピグメントレッ
ド6、C.I.ピグメントレッド7、C.I.ピグメントレッド
8、C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド1
0、C.I.ピグメントレッド11、C.I.ピグメントレッド
12、C.I.ピグメントレッド14、C.I.ピグメントレッ
ド15、C.I.ピグメントレッド16、C.I.ピグメントレ
ッド17、C.I.ピグメントレッド18、C.I.ピグメント
レッド19、C.I.ピグメントレッド21、C.I.ピグメン
トレッド22、C.I.ピグメントレッド23、C.I.ピグメ
ントレッド30、C.I.ピグメントレッド31、C.I.ピグ
メントレッド32、C.I.ピグメントレッド37、C.I.ピ
グメントレッド38、C.I.ピグメントレッド40、C.I.
ピグメントレッド41、C.I.ピグメントレッド42、C.
I.ピグメントレッド48:1、C.I.ピグメントレッド4
8:2、C.I.ピグメントレッド48:3、C.I.ピグメン
トレッド48:4、C.I.ピグメントレッド49:1、C.
I.ピグメントレッド49:2、C.I.ピグメントレッド5
0:1、C.I.ピグメントレッド52:1、C.I.ピグメン
トレッド53:1、C.I.ピグメントレッド57、C.I.ピ
グメントレッド57:1、C.I.ピグメントレッド58:
2、C.I.ピグメントレッド58:4、C.I.ピグメントレ
ッド60:1、C.I.ピグメントレッド63:1、C.I.ピ
グメントレッド63:2、C.I.ピグメントレッド64:
1、C.I.ピグメントレッド81:1、C.I.ピグメントレ
ッド83、C.I.ピグメントレッド88、C.I.ピグメント
レッド90:1、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグ
メントレッド101、C.I.ピグメントレッド102、C.
I.ピグメントレッド104、C.I.ピグメントレッド10
5、C.I.ピグメントレッド106、C.I.ピグメントレッ
ド108、C.I.ピグメントレッド112、C.I.ピグメン
トレッド113、C.I.ピグメントレッド114、C.I.ピ
グメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、
C.I.ピグメントレッド144、C.I.ピグメントレッド1
46、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレ
ッド150、C.I.ピグメントレッド151、C.I.ピグメ
ントレッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.
ピグメントレッド170、C.I.ピグメントレッド17
1、C.I.ピグメントレッド172、C.I.ピグメントレッ
ド174、C.I.ピグメントレッド175、C.I.ピグメン
トレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピ
グメントレッド178、C.I.ピグメントレッド179、
C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド1
85、C.I.ピグメントレッド187、C.I.ピグメントレ
ッド188、C.I.ピグメントレッド190、C.I.ピグメ
ントレッド193、C.I.ピグメントレッド194、C.I.
ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド20
6、C.I.ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッ
ド208、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメン
トレッド215、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピ
グメントレッド220、C.I.ピグメントレッド224、
C.I.ピグメントレッド226、C.I.ピグメントレッド2
42、C.I.ピグメントレッド243、C.I.ピグメントレ
ッド245、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメ
ントレッド255、C.I.ピグメントレッド264、C.I.
ピグメントレッド265;
[0008] CI Pigment Red 1, CI Pigment Red 2, CI Pigment Red 3, CI Pigment Red 4, CI Pigment Red 5, CI Pigment Red 6, CI Pigment Red 7, CI Pigment Red 8, CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 1
0, CI Pigment Red 11, CI Pigment Red 12, CI Pigment Red 14, CI Pigment Red 15, CI Pigment Red 16, CI Pigment Red 17, CI Pigment Red 18, CI Pigment Red 19, CI Pigment Red 21, CI Pigment Red 22, CI Pigment Red 23, CI Pigment Red 30, CI Pigment Red 31, CI Pigment Red 32, CI Pigment Red 37, CI Pigment Red 38, CI Pigment Red 40, CI
Pigment Red 41, CI Pigment Red 42, C.I.
I. Pigment Red 48: 1, CI Pigment Red 4
8: 2, CI Pigment Red 48: 3, CI Pigment Red 48: 4, CI Pigment Red 49: 1, C.I.
I. Pigment Red 49: 2, CI Pigment Red 5
0: 1, CI Pigment Red 52: 1, CI Pigment Red 53: 1, CI Pigment Red 57, CI Pigment Red 57: 1, CI Pigment Red 58:
2, CI Pigment Red 58: 4, CI Pigment Red 60: 1, CI Pigment Red 63: 1, CI Pigment Red 63: 2, CI Pigment Red 64:
1, CI Pigment Red 81: 1, CI Pigment Red 83, CI Pigment Red 88, CI Pigment Red 90: 1, CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 101, CI Pigment Red 102, C.I.
I. Pigment Red 104, CI Pigment Red 10
5, CI Pigment Red 106, CI Pigment Red 108, CI Pigment Red 112, CI Pigment Red 113, CI Pigment Red 114, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123,
CI Pigment Red 144, CI Pigment Red 1
46, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 150, CI Pigment Red 151, CI Pigment Red 166, CI Pigment Red 168, CI
Pigment Red 170, CI Pigment Red 17
1, CI Pigment Red 172, CI Pigment Red 174, CI Pigment Red 175, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 178, CI Pigment Red 179,
CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 1
85, CI Pigment Red 187, CI Pigment Red 188, CI Pigment Red 190, CI Pigment Red 193, CI Pigment Red 194, CI
Pigment Red 202, CI Pigment Red 20
6, CI Pigment Red 207, CI Pigment Red 208, CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 216, CI Pigment Red 220, CI Pigment Red 224,
CI Pigment Red 226, CI Pigment Red 2
42, CI Pigment Red 243, CI Pigment Red 245, CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 255, CI Pigment Red 264, CI
Pigment Red 265;

【0009】C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメン
トブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.
I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー6
0;C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリー
ン36;C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメント
ブラウン25;C.I.ピグメントブラック1、ピグメント
ブラック7。これらの有機顔料は、単独でまたは2種以
上を混合して使用することができる。また、前記有機顔
料は、例えば、硫酸再結晶法、溶剤洗浄法や、これらの
組み合わせ等により精製して使用することができる。
CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, C.I.
I. Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Blue 6
0: CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36; CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25; CI Pigment Black 1, Pigment Black 7. These organic pigments can be used alone or in combination of two or more. The organic pigment can be used after being purified by, for example, a sulfuric acid recrystallization method, a solvent washing method, or a combination thereof.

【0010】また、無機顔料の具体例としては、例え
ば、酸化チタン、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べ
んがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺
青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラ
ック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることがで
きる。これらの無機顔料は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
Specific examples of the inorganic pigment include, for example, titanium oxide, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (III), cadmium red, ultramarine blue, navy blue, and chromium oxide green. , Cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like. These inorganic pigments can be used alone or in combination of two or more.

【0011】本発明における着色剤は、所望により、そ
の粒子表面をポリマーで改質して使用することができ
る。着色剤の粒子表面を改質するポリマーとしては、例
えば、特開平8−259876号公報等に記載されたポ
リマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオ
リゴマー等を挙げることができる。また、本発明におけ
る着色剤は、所望により、分散剤と共に使用することが
できる。このような分散剤としては、例えば、カチオン
系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フ
ッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。前記界面
活性剤の例としては、ポリオキシエチレンラウリルエー
テル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレン
アルキルエーテル類;ポリオキシエチレンn−オクチル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンn−ノニルフェ
ニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポ
リエチレングリコールジステアレート等のポリエチレン
グリコールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル
類;脂肪酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウ
レタン類;ポリエチレンイミン類等のほか、以下商品名
で、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄
社化学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社
製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)
製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒ
ガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)、Dis
perbyk(ビックケミー・ジャパン(株)製)、ソ
ルスパース(セネカ(株)製)等を挙げることができ
る。これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。界面活性剤の使用量は、
着色剤100重量部に対して、通常、50重量部以下、
好ましくは30重量部以下である。
The colorant in the present invention can be used by modifying its particle surface with a polymer, if desired. Examples of the polymer that modifies the surface of the colorant particles include polymers described in JP-A-8-259876 and various commercially available polymers or oligomers for dispersing pigments. The colorant in the present invention can be used together with a dispersant, if desired. Examples of such a dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, and fluorine-based surfactants. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene n-octylphenyl ether, and polyoxyethylene n-nonyl. Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; In addition, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-top (manufactured by Tochem Products), Mega Akku (Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd.
Manufactured), Florard (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahi Guard, Surflon (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Dis
perbyk (manufactured by BYK Japan KK), Solsperse (manufactured by Seneca Corporation), and the like. These surfactants can be used alone or in combination of two or more. The amount of surfactant used is
Usually 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the coloring agent,
Preferably it is 30 parts by weight or less.

【0012】(B)アルカリ可溶性樹脂 本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、(A)着
色剤に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィ
ルタを製造する際に、その現像処理工程において用いら
れる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に対して可
溶性を有するものであれば、特に限定されるものではな
いが、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が好
ましく、特に、1個以上のカルボキシル基を有するエチ
レン性不飽和単量体(以下、単に「カルボキシル基含有
不飽和単量体」という。)と他の共重合可能なエチレン
性不飽和単量体(以下、単に「共重合性不飽和単量体」
という。)との共重合体(以下、単に「カルボキシル基
含有共重合体」という。)が好ましい。
(B) Alkali-Soluble Resin As the alkali-soluble resin in the present invention, (A) a developer which acts as a binder with respect to a colorant and is used in a development step in producing a color filter; It is particularly preferable to use an alkali-soluble resin having a carboxyl group, as long as it has solubility in an alkali developing solution. Particularly, an ethylenically unsaturated resin having one or more carboxyl groups Monomer (hereinafter simply referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”) and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter simply referred to as “copolymerizable unsaturated monomer”)
That. (Hereinafter, simply referred to as “carboxyl group-containing copolymer”).

【0013】カルボキシル基含有不飽和単量体として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボ
ン酸類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコ
ン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無
水物類;3価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無
水物類;こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエチ
ル)、こはく酸モノ(2−メタクリロイロキシエチ
ル)、フタル酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、
フタル酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)等の2
価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイロ
キシアルキル〕エステル類;ω−カルボキシポリカプロ
ラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシポリカプロ
ラクトンモノメタクリレート等の末端にカルボキシル基
とヒドロキシル基とを有するポリマーのモノ(メタ)ア
クリレート類等を挙げることができる。これらのカルボ
キシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。
Examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
unsaturated monocarboxylic acids such as α-chloroacrylic acid and cinnamic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid; Trihydric or higher unsaturated polycarboxylic acid or its anhydride; mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxyethyl) succinate, mono (2) phthalate -Acryloyloxyethyl),
2 such as mono (2-methacryloyloxyethyl) phthalate
Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of polyhydric carboxylic acids having a valency of equal to or higher than a polymer having a carboxyl group and a hydroxyl group at the terminal such as ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate. Mono (meth) acrylates and the like can be mentioned. These carboxyl group-containing unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0014】また、共重合性不飽和単量体としては、例
えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトル
エン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−
クロルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシ
スチレン、p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジル
メチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、
p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジ
ルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジル
エーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の
芳香族ビニル化合物;インデン、1−メチルインデン等
のインデン類;
Examples of the copolymerizable unsaturated monomer include styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene and p-vinyltoluene.
Chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether,
aromatic vinyl compounds such as p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether and p-vinylbenzyl glycidyl ether; indenes such as indene and 1-methylindene;

【0015】メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−
プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、
i−プロピルアクリレート、i−プロピルメタクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、i−ブチルアクリレート、i−ブチルメタクリレー
ト、sec−ブチルアクリレート、sec−ブチルメタ
クリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタ
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチル
アクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、
3−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、アリルアク
リレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルアクリ
レート、フェニルメタクリレート、2−メトキシエチル
アクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2
−フェノキシエチルアクリレート、2−フェノキシエチ
ルメタクリレート、メトキシジエチレングルコールアク
リレート、メトキシジエチレングルコールメタクリレー
ト、メトキシトリエチレングルコールアクリレート、メ
トキシトリエチレングルコールメタクリレート、メトキ
シプロピレングルコールアクリレート、メトキシプロピ
レングルコールメタクリレート、メトキシジプロピレン
グルコールアクリレート、メトキシジプロピレングルコ
ールメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソ
ボルニルメタクリレート、ジシクロペンタジエニルアク
リレート、ジシクロペンタジエニルメタクリレート、2
−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレー
ト、グリセロールモノアクリレート、グリセロールモノ
メタクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類;
Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-
Propyl acrylate, n-propyl methacrylate,
i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-
Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate,
3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2- Methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2
-Phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxy Dipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate, 2
-Hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate,
Unsaturated carboxylic esters such as 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate;

【0016】2−アミノエチルアクリレート、2−アミ
ノエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノエチルア
クリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、2−アミノプロピルアクリレート、2−アミノプロ
ピルメタクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアク
リレート、2−ジメチルアミノプロピルメタクリレー
ト、3−アミノプロピルアクリレート、3−アミノプロ
ピルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアク
リレート、3−ジメチルアミノプロピルメタクリレート
等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;グリ
シジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の不
飽和カルボン酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカ
ルボン酸ビニルエステル類;ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不
飽和エーテル類;アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン
等のシアン化ビニル化合物;アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル
メタクリルアミド等の不飽和アミド類;マレイミド、N
−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド
等の不飽和イミド類;1,3−ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類;ポリスチレ
ン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリ−n−ブチルアクリレート、ポリ−n−ブチル
メタクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末
端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロイル基
を有するマクロモノマー類等を挙げることができる。こ
れらの共重合性不飽和単量体は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。
2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate, and 3-dimethylaminopropyl methacrylate; unsaturated acids such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate Carboxylic acid glycidyl esters; vinyl carboxylate esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide; acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide Amides such as N, N-2-hydroxyethyl acrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide; maleimide, N
Unsaturated imides such as -phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly And macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of a polymer molecular chain such as n-butyl methacrylate and polysiloxane. These copolymerizable unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0017】本発明におけるカルボキシル基含有共重合
体としては、アクリル酸および/またはメタクリル酸
を必須成分とし、場合により、こはく酸モノ(2−アク
リロイロキシエチル)、こはく酸モノ(2−メタクリロ
イロキシエチル)、ω−カルボキシポリカプロラクトン
モノアクリレートおよびω−カルボキシポリカプロラク
トンモノメタクリレートの群から選ばれる少なくとも1
種をさらに含有するカルボキシル基含有不飽和単量体成
分と、スチレン、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアク
リレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、グリセロールモノアクリ
レート、グリセロールモノメタクリレート、N−フェニ
ルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリ
メチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる
少なくとも1種との共重合体(以下、「カルボキシル基
含有共重合体(B1)」という。)が好ましい。
The carboxyl group-containing copolymer of the present invention contains acrylic acid and / or methacrylic acid as an essential component, and may optionally contain mono (2-acryloyloxyethyl) succinate and mono (2-methacryloyl succinate). Loxyethyl), at least one member selected from the group consisting of ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate.
A carboxyl group-containing unsaturated monomer component further containing a seed, styrene, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate, A copolymer with at least one member selected from the group consisting of N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer (hereinafter, referred to as “carboxyl group-containing copolymer (B1)”) is preferable.

【0018】カルボキシル基含有共重合体(B1)の具
体例としては、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)
アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル
(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共
重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリ
レート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重
合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポ
リスチレンマクロモノマー共重合体、(メタ)アクリル
酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベン
ジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレート
マクロモノマー共重合体、メタクリル酸/スチレン/ベ
ンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド
共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ(2−
(メタ)アクリロイロキシエチル)/スチレン/ベンジ
ル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重
合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ(2−(メ
タ)アクリロイロキシエチル)/スチレン/アリル(メ
タ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体 (メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アク
リレート/N−フェニルマレイミド/グリセロールモノ
(メタ)アクリレート共重合体 (メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アク
リレート/N−フェニルマレイミド/グリセロールモノ
(メタ)アクリレート/ω−カルボキシポリカクロラク
トンモノ(メタ)アクリレート共重合体等を挙げること
ができる。
Specific examples of the carboxyl group-containing copolymer (B1) include (meth) acrylic acid / benzyl (meth)
Acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth)
Acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer Polymer, methacrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / succinic mono (2-
(Meth) acryloyloxyethyl) / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / monosuccinic acid (2- (meth) acryloyloxyethyl) / styrene / allyl ( (Meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / glycerol mono (meth) acrylate copolymer (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) ) Acrylate / N-phenylmaleimide / glycerol mono (meth) acrylate / ω-carboxypolycacrolactone mono (meth) acrylate copolymer.

【0019】カルボキシル基含有共重合体におけるカル
ボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、通常、5
〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。こ
の場合、前記共重合割合が5重量%未満では、得られる
感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低
下する傾向があり、一方50重量%を超えると、アルカ
リ現像液に対する溶解性が過大となり、アルカリ現像液
により現像する際に、画素の基板からの脱落や画素表面
の膜荒れを来たしやすくなるおそれがある。
The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5
5050% by weight, preferably 10-40% by weight. In this case, when the copolymerization ratio is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive composition in an alkali developing solution tends to decrease, while when it exceeds 50% by weight, the solubility in an alkali developing solution becomes poor. When developing with an alkaline developer, there is a possibility that the pixel may easily fall off from the substrate or the pixel surface may be roughened.

【0020】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のゲル
パーミエーションクロマトグラフィー(GPC、溶出溶
媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算
重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、好まし
くは3,000〜300,000、さらに好ましくは
5,000〜100,000である。また、本発明にお
けるアルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー(GPC、溶出溶媒:テトラヒドロフラ
ン)で測定したポリスチレン換算数平均分子量(以下、
「Mn」という。)は、好ましくは3,000〜6,0
000、さらに好ましくは5,000〜25,000で
ある。このような特定のMwあるいはMnを有するアル
カリ可溶性樹脂を使用することによって、現像性に優れ
た感放射線性組成物が得られ、それによりシャープなパ
ターンエッジを有する画素を形成することができるとと
もに、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残
渣、地汚れ、膜残り等が発生し難くなる。また、本発明
におけるアルカリ可溶性樹脂のMwとMnの比(Mw/
Mn)は、好ましくは1〜5、さらに好ましくは1〜4
である。本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter referred to as "Mw") of the alkali-soluble resin measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) in the present invention is preferably from 3,000 to 300, 000, and more preferably 5,000 to 100,000. In addition, the number average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter, referred to as “polycarbonate”) measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin in the present invention.
It is called “Mn”. ) Is preferably from 3,000 to 6,0
000, and more preferably 5,000 to 25,000. By using such an alkali-soluble resin having a specific Mw or Mn, a radiation-sensitive composition excellent in developability can be obtained, whereby a pixel having a sharp pattern edge can be formed, During development, residues, background stains, film residues, and the like hardly occur on the unexposed portion of the substrate and the light-shielding layer. Further, the ratio of Mw and Mn of the alkali-soluble resin in the present invention (Mw /
Mn) is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4
It is. In the present invention, the alkali-soluble resins can be used alone or in combination of two or more.

【0021】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用
量は、(A)着色剤100重量部に対して、通常、10
〜1,000重量部、好ましくは20〜500重量部で
ある。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が10重
量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、
未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが
発生するおそれがあり、一方1,000重量部を超える
と、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目
的とする色濃度を達成することが困難となる場合があ
る。
The amount of the alkali-soluble resin used in the present invention is usually 10 parts by weight per 100 parts by weight of the colorant (A).
1,1,000 parts by weight, preferably 20-500 parts by weight. In this case, when the use amount of the alkali-soluble resin is less than 10 parts by weight, for example, alkali developability is reduced,
There is a risk that background contamination or film residue may occur on the unexposed portion of the substrate or on the light-shielding layer. On the other hand, if it exceeds 1,000 parts by weight, the concentration of the colorant relatively decreases, so that the desired color as a thin film It may be difficult to achieve the concentration.

【0022】(C)多官能性単量体 本発明における多官能性単量体は、2個以上の重合性不
飽和結合を有する単量体である。多官能性単量体の例と
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール等
のアルキレングリコールのジアクリレートまたはジメタ
クリレート類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール等のポリアルキレングリコールのジアクリ
レートまたはジメタクリレート類;グリセリン、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエ
リスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリアク
リレートまたはポリメタクリレート類やそれらのジカル
ボン酸変性物;ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン
樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等
のオリゴアクリレートまたはオリゴメタクリレート類;
両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末端ヒ
ドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロ
ラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジアクリレ
ートまたはジメタクリレート類や、トリス(2−アクリ
ロイロキシエチル)フォスフェート、トリス(2−メタ
クリロイロキシエチル)フォスフェート等を挙げること
ができる。
(C) Polyfunctional Monomer The polyfunctional monomer in the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds. Examples of polyfunctional monomers include diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; diacrylates or dimethacrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; glycerin, trimethylol Polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as propane, pentaerythritol and dipentaerythritol and modified products of dicarboxylic acids thereof; polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins, spirane resins, etc. Oligoacrylate or oligomethacrylates;
Diacrylate or dimethacrylates of hydroxyl-terminated polymers such as hydroxy-terminated poly-1,3-butadiene, hydroxy-terminated polyisoprene, hydroxy-terminated polycaprolactone, and tris (2-acryloyloxyethyl) phosphate And tris (2-methacryloyloxyethyl) phosphate.

【0023】これらの多官能性単量体のうち、3価以上
の多価アルコールのポリアクリレートまたはポリメタク
リレート類やそれらのジカルボン酸変性物、具体的に
は、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート、下記式(1)
Among these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols and modified products of dicarboxylic acids thereof, specifically, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane Trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, the following formula ( 1)

【0024】[0024]

【化1】 Embedded image

【0025】で表される化合物等が好ましく、特に、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートおよびジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートが、画素強度が高く、画素表
面の平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層
上に地汚れや膜残りを発生し難い点で好ましい。本発明
において、多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を
混合して使用することができる。
Compounds represented by the following formulas are preferred. In particular, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate have high pixel strength, excellent pixel surface smoothness, and unexposed areas. This is preferable in that background contamination and film residue hardly occur on the substrate and the light-shielding layer. In the present invention, the polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0026】本発明における多官能性単量体の使用量
は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、
通常、5〜500重量部、好ましくは20〜300重量
部である。この場合、多官能性単量体の使用量が5重量
部未満では、画素の強度や表面平滑性が低下する傾向が
あり、一方500重量部を超えると、例えば、アルカリ
現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層
上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。
The amount of the polyfunctional monomer used in the present invention is based on 100 parts by weight of (B) the alkali-soluble resin.
Usually, it is 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight. In this case, if the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the pixel tend to decrease, while if it exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability decreases In addition, background contamination, film residue, and the like tend to easily occur on the unexposed portion of the substrate or the light-shielding layer.

【0027】また、本発明においては、場合により、前
記多官能性単量体の一部を単官能性単量体で置き換える
こともできる。このような単官能性単量体の例として
は、前記カルボキシル基含有共重合体について例示した
カルボキシル基含有不飽和単量体や共重合性不飽和単量
体、N−アクリロイルモルフォリン、N−メタクリロイ
ルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−
ε−カプロラクタム等のほか、市販品として、M−53
00、M−5400、M−5600(商品名、東亞合成
(株)製)等を挙げることができる。これらの単官能性
単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。単官能性単量体の使用割合は、多官能性単
量体と単官能性単量体との合計に対して、通常、90重
量%以下、好ましくは50重量%以下である。この場
合、単官能性単量体の使用割合が90重量%を超える
と、得られる画素の強度や表面平滑性が低下する傾向が
ある。
In the present invention, a part of the polyfunctional monomer may be replaced with a monofunctional monomer, if necessary. Examples of such a monofunctional monomer include carboxyl group-containing unsaturated monomers and copolymerizable unsaturated monomers exemplified for the carboxyl group-containing copolymer, N-acryloyl morpholine, N- Methacryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl-
In addition to ε-caprolactam, M-53 is commercially available.
00, M-5400, M-5600 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more. The usage ratio of the monofunctional monomer is usually 90% by weight or less, preferably 50% by weight or less, based on the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. In this case, when the use ratio of the monofunctional monomer exceeds 90% by weight, the strength and surface smoothness of the obtained pixel tend to decrease.

【0028】(D)光重合開始剤 本発明における光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠
紫外線、電子線、X線等の露光により、前記(C)多官
能性単量体および場合により使用される単官能性単量体
の重合しうる活性種を発生することができる化合物であ
る。このような光重合開始剤としては、例えば、アセト
フェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジ
ン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化
合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キ
サントン系化合物、ジアゾ系化合物等を挙げることがで
きる。本発明において、光重合開始剤は、単独でまたは
2種以上を混合して使用することができるが、本発明に
おける光重合開始剤としては、アセトフェノン系化合
物、ビイミダゾール系化合物およびトリアジン系化合物
の群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
(D) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator according to the present invention may be prepared by subjecting the polyfunctional monomer (C) and optionally the It is a compound capable of generating a polymerizable active species of the monofunctional monomer used. Such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds And the like. In the present invention, the photopolymerization initiator can be used alone or as a mixture of two or more, and as the photopolymerization initiator in the present invention, an acetophenone-based compound, a biimidazole-based compound and a triazine-based compound are used. At least one selected from the group is preferred.

【0029】本発明における光重合開始剤の一般的な使
用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合
計100重量部に対して、通常、0.01〜80重量
部、好ましくは1〜60重量部である。この場合、光重
合開始剤の使用量が0.01重量部未満では、露光によ
る硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従
って配置された画素アレイを得ることが困難となるおそ
れがあり、一方80重量部を超えると、形成された画素
が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。
In the present invention, the photopolymerization initiator is generally used in an amount of 0.01 to 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer (C) and the monofunctional monomer. 80 parts by weight, preferably 1 to 60 parts by weight. In this case, if the amount of the photopolymerization initiator is less than 0.01 part by weight, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel array in which a pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement, On the other hand, if it exceeds 80 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.

【0030】本発明における好ましい光重合開始剤のう
ち、アセトフェノン系化合物の具体例としては、2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2
−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)
ブタノン−1、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタ
ン−1−オン等を挙げることができる。これらのアセト
フェノン系化合物のうち、特に、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタ
ノン−1が好ましい。前記アセトフェノン系化合物は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。
Among the preferred photopolymerization initiators in the present invention, specific examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 2-methyl-1- [4- ( Methylthio) phenyl]
-2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2
-Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)
Butanone-1, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one and the like can be mentioned. Among these acetophenone-based compounds, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 is particularly preferred. The acetophenone-based compound,
They can be used alone or in combination of two or more.

【0031】本発明において、光重合開始剤としてアセ
トフェノン系化合物を使用する場合の使用量は、(C)
多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部
に対して、通常、0.01〜80重量部、好ましくは1
〜60重量部、さらに好ましくは1〜30重量部であ
る。この場合、アセトフェノン系化合物の使用量が0.
01重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、
画素パターンが所定の配列に従って配置された画素アレ
イを得ることが困難となるおそれがあり、一方80重量
部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落
しやすくなる傾向がある。
In the present invention, when an acetophenone-based compound is used as a photopolymerization initiator, the amount used is (C)
Usually, 0.01 to 80 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer.
6060 parts by weight, more preferably 1-30 parts by weight. In this case, the amount of the acetophenone-based compound used is 0.
If the amount is less than 01 parts by weight, curing by exposure becomes insufficient,
It may be difficult to obtain a pixel array in which the pixel patterns are arranged according to a predetermined arrangement. On the other hand, if it exceeds 80 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.

【0032】また、前記ビイミダゾール系化合物の具体
例としては、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェ
ノキシカルボニルフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4
−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキ
ス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,2’−
ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリク
ロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4
−メトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキ
シカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカル
ボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′
-Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′
-Bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)
-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4
-Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2'-
Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4
-Methoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)- 1,2′-biimidazole,
2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,

【0033】2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェ
ノキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4
−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキ
ス(4−フェノキシカルボニルフェニル)−1,2’−
ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリブ
ロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4
−メトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェ
ニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキ
シカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカル
ボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2'-bis (2-bromophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′
-Bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′ -Bis (2,4-dibromophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′
-Bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)
-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4
-Dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2'-
Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4
-Methoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,
2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,

【0034】2,2’−ビス(2−シアノフェニル)−
4,4’,5.5’−テトラキス(4−メトキシカルボ
ニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2−シアノフェニル)−4,4’,5.5’−
テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−シアノフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェ
ノキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2−メチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボニル
フェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビ
ス(2−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テト
ラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−メチルフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキ
シカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラキス(4−メトキシカルボニルフェニ
ル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2
−エチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス
(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカル
ボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(2−フェニルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラキス(4−メトキシカルボニルフェニル)
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−フ
ェニルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス
(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2−フェニルフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラキス(4−フェノキシカ
ルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2'-bis (2-cyanophenyl)-
4,4 ′, 5.5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′
-Bis (2-cyanophenyl) -4,4 ', 5.5'-
Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,
2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-cyanophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2 ′ -Bis (2-methylphenyl) -4,
4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis ( 4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2 '
-Biimidazole, 2,2'-bis (2-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,
2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ′,
5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2
-Ethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-ethylphenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,
2'-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl)
-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, , 2'-bis (2-phenylphenyl)
-4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,

【0035】2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリ
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−
ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,
4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−シアノフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジシアノフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリシアノ
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−メチ
ルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェ
ニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリメチルフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−エチルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ル、2,2’−ビス(2,4−ジエチルフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリエチル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−フェ
ニルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4
−ジフェニルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4,6−トリフェニルフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。
2,2'-bis (2-chlorophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1, 2 '
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2 −
Bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,
4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2-cyanophenyl) -4,4 ′,
5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dicyanophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tricyanophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-
Dimethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trimethylphenyl) -4,4 ′, 5
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ′,
5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-diethylphenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-triethylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl −
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 , 4
-Diphenylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-triphenylphenyl) -4,4',
5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole and the like can be mentioned.

【0036】これらのビイミダゾール系化合物のうち、
好ましい化合物は、2,2’−ビス(2−クロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシ
カルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニ
ル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2
−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェ
ニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス
(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−
テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’
−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビ
イミダゾールおよび2,2’−ビス(2,4,6−トリ
ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾールであり、さらに好ましい
化合物は、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’
−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリ
クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ
ル−1,2’−ビイミダゾールであり、特に好ましい化
合物は、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビ
イミダゾールである。これらビイミダゾール系化合物
は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の
異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエ
ネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとと
もに、コントラストが高く、未露光部で硬化反応が生じ
ることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不
溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する
未硬化部分とに明確に区分され、これにより、アンダー
カットのない画素パターンが所定の配列に従って配置さ
れた高精細な画素アレイを形成することができる。前記
ビイミダゾール系化合物は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
Of these biimidazole compounds,
Preferred compounds are 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,
2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′,
5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2
-Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-
Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2 '
-Bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,
4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5,5'- Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, and a more preferred compound is 2,2'-bis (2-chlorophenyl)-
4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1, 2 '
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, and particularly preferred compound is 2 , 2'-bis (2,4-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole. These biimidazole-based compounds have excellent solubility in solvents, do not generate foreign matters such as undissolved substances and precipitates, and have high sensitivity. High, no curing reaction occurs in the unexposed areas, so that the exposed coating film clearly shows a cured part insoluble in the developing solution and an uncured part having high solubility in the developing solution. As a result, a high-definition pixel array in which pixel patterns without undercuts are arranged according to a predetermined arrangement can be formed. The biimidazole compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0037】本発明において、光重合開始剤としてビイ
ミダゾール系化合物を使用する場合の使用量は、(C)
多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部
に対して、通常、0.01〜40重量部、好ましくは1
〜30重量部、さらに好ましくは1〜20重量部であ
る。この場合、ビイミダゾール系化合物の使用量が0.
01重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、
画素パターンが所定の配列に従って配置された画素アレ
イを得ることが困難となるおそれがあり、一方40重量
部を超えると、現像する際に、形成された画素の基板か
ら脱落や画素表面の膜あれを来しやすくなる傾向があ
る。
In the present invention, when a biimidazole compound is used as a photopolymerization initiator, the amount used is (C)
Usually, 0.01 to 40 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer.
It is 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, the amount of the biimidazole-based compound used is 0.1.
If the amount is less than 01 parts by weight, curing by exposure becomes insufficient,
It may be difficult to obtain a pixel array in which the pixel patterns are arranged according to a predetermined arrangement. On the other hand, when the amount exceeds 40 parts by weight, during development, the formed pixels may fall off the substrate of the formed pixels or the film on the pixel surface may be roughened. Tends to come easily.

【0038】−水素供与体− 本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール
系化合物を用いる場合、下記する水素供与体を併用する
ことが、感度をさらに改良することができる点で好まし
い。ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミ
ダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素
原子を供与することができる化合物を意味する。第1発
明における水素供与体としては、下記で定義するメルカ
プタン系化合物、下記で定義するアミン系化合物等が好
ましい。前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環ある
いは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプ
ト基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましく
は1〜2個有する化合物(以下、「メルカプタン系水素
供与体」という。)からなる。また、前記アミン系化合
物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に
直接結合したアミノ基を1個以上、好ましくは1〜3
個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下「ア
ミン系水素供与体」という。)からなる。なお、これら
の水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有
することもできる。
-Hydrogen Donor- In the present invention, when a biimidazole compound is used as the photopolymerization initiator, it is preferable to use a hydrogen donor described below in combination, since the sensitivity can be further improved. The term "hydrogen donor" as used herein means a compound capable of donating a hydrogen atom to a radical generated from a biimidazole compound upon exposure. As the hydrogen donor in the first invention, a mercaptan compound defined below and an amine compound defined below are preferable. The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, referred to as “ Mercaptan hydrogen donor ”). The amine compound has a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus, and has one or more amino groups, preferably 1 to 3, amino groups directly bonded to the mother nucleus.
, More preferably 1 to 2 compounds (hereinafter referred to as “amine-based hydrogen donor”). In addition, these hydrogen donors can have a mercapto group and an amino group simultaneously.

【0039】以下、これらの水素供与体について、より
具体的に説明する。メルカプタン系水素供与体は、ベン
ゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することが
でき、またベンゼン環と複素環との両者を有することが
でき、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成
しても形成しなくてもよい。また、メルカプタン系水素
供与体は、メルカプト基を2個以上有する場合、少なく
とも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残り
のメルカプト基の1個以上がアルキル、アラルキルまた
はアリール基で置換されてもよく、さらに少なくとも1
個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、2個の硫黄
原子がアルキレン基等の2価の有機基を介在して結合し
た構造単位、あるいは2個の硫黄原子がジスルフィドの
形で結合した構造単位を有することができる。さらに、
メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所
で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換ア
ルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換
フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換さ
れていてもよい。このようなメルカプタン系水素供与体
の具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、
2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベ
ンゾイミダゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4
−チアジアゾール、2−メルカプト−2,5−ジメチル
アミノピリジン等が挙げることができる。これらのメル
カプタン系水素供与体のうち、2−メルカプトベンゾチ
アゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾールが好まし
く、特に2−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
Hereinafter, these hydrogen donors will be described more specifically. The mercaptan-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or one or more heterocycles, or can have both a benzene ring and a heterocycle. It may or may not be formed. Further, when the mercaptan-based hydrogen donor has two or more mercapto groups, as long as at least one free mercapto group remains, one or more of the remaining mercapto groups is substituted with an alkyl, aralkyl, or aryl group. And at least one more
As long as two free mercapto groups remain, a structural unit in which two sulfur atoms are bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or a structural unit in which two sulfur atoms are bonded in a disulfide form Can be provided. further,
The mercaptan-based hydrogen donor may be substituted with a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like at a position other than the mercapto group. Specific examples of such mercaptan-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole,
2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4
-Thiadiazole, 2-mercapto-2,5-dimethylaminopyridine and the like. Among these mercaptan hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

【0040】次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環
あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、
またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、
これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても
形成しなくてもよい。また、アミン系水素供与体は、ア
ミノ基の1個以上がアルキル、置換アルキル基で置換さ
れてもよく、アミノ基以外の箇所でカルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、
フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル
基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。この
ようなアミン系水素供与体の具体例としては、4,4’
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチル
アミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフ
ェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメ
チルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノベンゾニトリ
ル等が挙げることができる。これらのアミン系水素供与
体のうち、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノンが好ましく、特に4,4’−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノンが好ましい。前記アミン系水素供与
体はまた、後述する(E)成分と同様の作用を有するも
のである。
Next, the amine-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or one or more heterocycles, respectively.
Can have both a benzene ring and a heterocyclic ring,
When having two or more of these rings, a condensed ring may or may not be formed. Further, in the amine hydrogen donor, one or more of the amino groups may be substituted with an alkyl or substituted alkyl group, and at a position other than the amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group,
It may be substituted by a phenoxycarbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group or the like. Specific examples of such an amine hydrogen donor include 4,4 ′
-Bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-
Bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like can be mentioned. Among these amine hydrogen donors, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable. The amine-based hydrogen donor has the same action as the component (E) described below.

【0041】本発明において、水素供与体は、単独でま
たは2種以上混合して使用できるが、1種以上のメルカ
プタン系水素供与体と1種以上のアミン系水素供与体と
を組み合わせて使用することが、形成された画素が現像
時に基板から脱落し難く、また画素強度および感度も高
い点で好ましい。メルカプタン系水素供与体とアミン系
水素供与体の組み合わせの具体例としては、2−メルカ
プトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾチアゾール
/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベ
ンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい
組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,
4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メ
ルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチ
ルアミノ)ベンゾフェノンであり、特に好ましい組み合
わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンである。メルカ
プタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わ
せにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供
与体との重量比は、通常、1:1〜1:4、好ましくは
1:1〜1:3である。
In the present invention, the hydrogen donors can be used alone or as a mixture of two or more, but one or more mercaptan-based hydrogen donors and one or more amine-based hydrogen donors are used in combination. This is preferable because the formed pixels are less likely to fall off the substrate during development, and the pixel strength and sensitivity are high. Specific examples of the combination of a mercaptan-based hydrogen donor and an amine-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis ( Diethylamino) benzophenone,
2-mercaptobenzoxazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4'-bis (diethylamino)
Benzophenone and the like can be mentioned, and a more preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,
4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-
Bis (diethylamino) benzophenone. The weight ratio of the mercaptan hydrogen donor to the amine hydrogen donor in the combination of the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor is usually 1: 1 to 1: 4, preferably 1: 1 to 1: 4. 3.

【0042】本発明において、水素供与体をビイミダゾ
ール系化合物と併用する場合の使用量は、(C)多官能
性単量体と単官能性単量体の合計100重量部に対し
て、通常、0.01〜40重量部、好ましくは1〜30
重量部、さらに好ましくは1〜20重量部である。この
場合、水素供与体の使用量が0.01重量部未満では、
感度の改良効果が低下する傾向があり、一方40重量部
を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落し
やすくなる傾向がある。
In the present invention, when the hydrogen donor is used in combination with the biimidazole compound, the amount used is usually based on 100 parts by weight of the total of (C) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. , 0.01 to 40 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight
Parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, if the amount of the hydrogen donor used is less than 0.01 part by weight,
The effect of improving sensitivity tends to decrease. On the other hand, when the amount exceeds 40 parts by weight, formed pixels tend to fall off the substrate during development.

【0043】また、前記トリアジン系化合物の具体例と
しては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフ
ラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2
−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミ
ノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−
(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4
−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
Specific examples of the triazine compound include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s
-Triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine, 2- [2- (furan-2
-Yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2- [2-
(3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-
Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4
-Methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl)
-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

【0044】下記式(2)で表される化合物、A compound represented by the following formula (2):

【化2】 Embedded image

【0045】下記式(3)で表される化合物、A compound represented by the following formula (3):

【化3】 Embedded image

【0046】等のハロメチル基を有するトリアジン系化
合物を挙げることができる。これらのトリアジン系化合
物のうち、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)
エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、前記式(2)で表される化合物、前記式
(3)で表される化合物等が好ましい。前記トリアジン
系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。
And triazine compounds having a halomethyl group. Among these triazine compounds, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl)
Ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-
Preferred are triazine, the compound represented by the formula (2), the compound represented by the formula (3), and the like. The triazine compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0047】本発明において、光重合開始剤としてトリ
アジン系化合物を使用する場合の使用量は、(C)多官
能性単量体と単官能性単量体の合計100重量部に対し
て、通常、0.01〜40重量部、好ましくは1〜30
重量部、さらに好ましくは1〜20重量部である。この
場合、トリアジン系化合物の使用量が0.01重量部未
満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターン
が所定の配列に従って配置された画素アレイを得ること
が困難となるおそれがあり、一方40重量部を超える
と、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくな
る傾向がある。
In the present invention, when a triazine compound is used as a photopolymerization initiator, the amount used is usually based on 100 parts by weight of the total of (C) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. , 0.01 to 40 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight
Parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, if the amount of the triazine-based compound is less than 0.01 part by weight, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel array in which pixel patterns are arranged according to a predetermined arrangement. If it exceeds 40 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.

【0048】さらに、本発明においては、前記光重合開
始剤と共に、増感剤、硬化促進剤、高分子光架橋・増感
剤等を併用することもできる。前記増感剤としては、例
えば、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、4−ジメチルアミノ安息香
酸エチル、1,4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチル
ヘキシル、2,5−ビス(4’−ジエチルアミノベンザ
ル)シクロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4
−ジエチルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチ
ルアミノ)カルコン等を挙げることができる。これらの
増感剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。前記増感剤はまた、後述する(E)成分と
同様の作用を有するものである。また、前記硬化促進剤
としては、例えば、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプト
ベンゾオキサゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,
4−チアジアゾール、2−メルカプト−4,6−ジメチ
ルアミノピリジン等の連鎖移動剤を挙げることができ
る。これらの硬化促進剤は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。さらに、前記高分子光架
橋・増感剤は、露光により架橋剤および/または増感剤
として作用しうる少なくとも1種の官能基を主鎖および
/または側鎖中に有する高分子化合物であり、その例と
しては、4−アジドベンズアルデヒドとポリビニルアル
コールとの縮合物、4−アジドベンズアルデヒドとフェ
ノールノボラック樹脂との縮合物、けい皮酸4−(メ
タ)アクリロイルフェニルの単独重合体あるいは共重合
体、1,4−ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン
等を挙げることができる。これらの高分子光架橋・増感
剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することが
できる。本発明における増感剤、硬化促進剤および高分
子光架橋・増感剤の合計使用量は、光重合開始剤100
重量部に対して、通常、300重量部以下、好ましくは
5〜200重量部、さらに好ましくは10〜100重量
部である。
Further, in the present invention, a sensitizer, a curing accelerator, a polymer photocrosslinking / sensitizer and the like can be used together with the photopolymerization initiator. Examples of the sensitizer include 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 1,4-dimethylaminobenzoate, and 2,5-bis (4 ′ -Diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4
-Diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone and the like. These sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The sensitizer has the same action as the component (E) described below. Examples of the curing accelerator include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2,5-dimercapto-1,3.
Chain transfer agents such as 4-thiadiazole and 2-mercapto-4,6-dimethylaminopyridine can be exemplified. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer photocrosslinking / sensitizer is a polymer compound having at least one kind of functional group capable of acting as a crosslinking agent and / or a sensitizer upon exposure in a main chain and / or a side chain, Examples thereof include a condensate of 4-azidobenzaldehyde and polyvinyl alcohol, a condensate of 4-azidobenzaldehyde and a phenol novolak resin, and a homopolymer or copolymer of 4- (meth) acryloylphenyl cinnamate; , 4-polybutadiene, 1,2-polybutadiene and the like. These polymer photocrosslinking / sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The total used amount of the sensitizer, the curing accelerator and the polymer photocrosslinking / sensitizer in the present invention is 100 photopolymerization initiators.
It is usually 300 parts by weight or less, preferably 5 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight with respect to parts by weight.

【0049】(E)成分 本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物には、
(E)エポキシ基含有化合物、オキセタン環含有化合
物、アミノ基含有化合物、アミノ基置換カルボン酸化合
物、イソシアネート基含有化合物、クラウンエーテル化
合物、前記以外の有機キレート化剤、ポリビニルアルコ
ール、ポリエチレングリコールまたはポリイミドからな
る有機化合物並びに体質顔料、充填剤またはポリりん酸
からなる無機化合物の群から選ばれる少なくとも1種の
成分(以下、単に「(E)成分」という。)をさらに含
有することが好ましい。即ち、本発明のカラーフィルタ
用感放射線性組成物は、(E)成分を含有することによ
って、前記式〔I〕で定義される汚染度(以下、「汚染
度〔I〕」という。)を容易かつ確実に0.15以下に
抑えることができる。その理由は未だ明確ではないが、
(E)成分が、カラーフィルタ用感放射線性組成物の構
成成分である顔料、顔料用分散剤、添加剤等や、これら
に含まれる不純物のほか、カラーフィルタを形成するま
での処理過程でカラーフィルタ用感放射線性組成物中に
外部から混入した不純物(以下、これらの成分および不
純物をまとめて「汚染物質」という。)等の、液晶に悪
影響を及ぼすおそれがある有機物質あるいは無機物質と
化学的あるいは物理的に、結合、吸着もしくは配位する
か、あるいはこれらの2以上の作用が複合的に生じる結
果、該有機物質や無機物質が液晶中に拡散され難くなる
ものと考えられる。
(E) Component The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention includes:
(E) Epoxy group-containing compounds, oxetane ring-containing compounds, amino group-containing compounds, amino group-substituted carboxylic acid compounds, isocyanate group-containing compounds, crown ether compounds, other organic chelating agents, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol or polyimide It is preferable that the composition further contains at least one component selected from the group consisting of an organic compound and an inorganic compound composed of an extender, a filler, or polyphosphoric acid (hereinafter, simply referred to as “component (E)”). That is, the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention contains the component (E), and thereby has a contamination degree defined by the above formula (I) (hereinafter, referred to as “contamination degree [I]”). It can be easily and reliably suppressed to 0.15 or less. The reason is not clear yet,
The component (E) is a component of the radiation-sensitive composition for a color filter, a pigment, a dispersant for a pigment, an additive, and the like, and impurities contained therein. Organic and inorganic substances that may adversely affect the liquid crystal, such as impurities (hereinafter collectively referred to as "contaminants") externally mixed into the radiation-sensitive composition for filters, and chemicals It is considered that the organic substance or the inorganic substance is hardly diffused into the liquid crystal as a result of binding, adsorption, or coordination, or a combination of two or more of these actions.

【0050】(E)成分のうち、前記エポキシ基含有化
合物の例としては、ビスフェノールA系エポキシ樹脂、
水素化ビスフェノールA系エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルF系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールF系エポキ
シ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、他の芳香族系エポ
キシ樹脂、脂環族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹
脂、グリシジルエステル系樹脂、グリシジルアミン系樹
脂、エポキシ化油等のエポキシ樹脂や、これらのエポキ
シ樹脂の臭素化誘導体;エポキシ樹脂およびその臭素化
誘導体以外の脂肪族、脂環族または芳香族のエポキシ化
合物;ブタジエンの(共)重合体のエポキシ化物、イソ
プレンの(共)重合体のエポキシ化物、グリシジル(メ
タ)アクリレートの(共)重合体、アリルグリシジルエ
ーテルの(共)重合体等の他のエポキシ基含有有機高分
子化合物等を挙げることができ、より具体的には、下記
式(4)〜(11)で表される化合物や、トリグリシジ
ルイソシアヌレート等を挙げることができる。
Among the components (E), examples of the epoxy group-containing compound include bisphenol A epoxy resin,
Hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, novolak epoxy resin, other aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, glycidyl ester Resins, glycidylamine resins, epoxy resins such as epoxidized oils and brominated derivatives of these epoxy resins; aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and their brominated derivatives; butadiene Other epoxy group-containing organic compounds such as epoxidized (co) polymers, epoxidized (co) polymers of isoprene, (co) polymers of glycidyl (meth) acrylate, and (co) polymers of allyl glycidyl ether Molecular compounds and the like can be mentioned, and more specifically, the following formulas (4) to (11) In and represented by compound include triglycidyl isocyanurate.

【0051】[0051]

【化4】 Embedded image

【0052】[0052]

【化5】 Embedded image

【0053】[0053]

【化6】 Embedded image

【0054】[0054]

【化7】 (但し、iは1〜300の整数である。)Embedded image (However, i is an integer of 1 to 300.)

【0055】[0055]

【化8】 (但し、iは1〜300の整数である。)Embedded image (However, i is an integer of 1 to 300.)

【0056】[0056]

【化9】 (但し、各Rは相互に独立に水素原子、ハロゲン原子ま
たはメチル基を示し、jは1〜100の整数である。)
Embedded image (However, each R independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, and j is an integer of 1 to 100.)

【0057】[0057]

【化10】 Embedded image

【0058】[0058]

【化11】 (但し、kは0〜50の整数である。)Embedded image (However, k is an integer of 0 to 50.)

【0059】また、前記オキセタン環含有化合物の例と
しては、オキセタン、3−メチルオキセタン、3−エチ
ルオキセタン、3−n−プロピルオキセタン、3−n−
ブチルオキセタン、3−ビニルオキセタン、3−アリル
オキセタン、3−ベンジルオキセタン、3,3−ジメチ
ルオキセタン、3,3−ジエチルオキセタン、3−メチ
ル−3−エチルオキセタン、3−メチル−3−n−プロ
ピルオキセタン、3−メチル−3−n−ブチルオキセタ
ン等のオキセタン環含有有機低分子化合物や、3−ビニ
ルオキセタンの(共)重合体等のオキセタン環含有有機
高分子化合物等を挙げることができる。
Examples of the oxetane ring-containing compound include oxetane, 3-methyloxetane, 3-ethyloxetane, 3-n-propyloxetane, and 3-n-
Butyl oxetane, 3-vinyl oxetane, 3-allyl oxetane, 3-benzyl oxetane, 3,3-dimethyl oxetane, 3,3-diethyl oxetane, 3-methyl-3-ethyl oxetane, 3-methyl-3-n-propyl Examples thereof include an oxetane ring-containing organic low molecular weight compound such as oxetane and 3-methyl-3-n-butyloxetane, and an oxetane ring-containing organic high molecular compound such as a (co) polymer of 3-vinyloxetane.

【0060】また、前記アミノ基含有化合物(アミノ基
含有化合物からなるキレート化剤を含む。)の例として
は、n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブ
チルアミン、i−ブチルアミン、t−ブチルアミン、n
−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−へプチル
アミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−
デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルア
ミン、シクロヘキシルアミン、o−メチルシクロヘキシ
ルアミン、m−メチルシクロヘキシルアミン、p−メチ
ルシクロヘキシルアミン、o−エチルシクロヘキシルア
ミン、m−エチルシクロヘキシルアミン、p−エチルシ
クロヘキシルアミン等のモノ(シクロ)アルキルアミン
類;メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルn−
プロピルアミン、エチルn−プロピルアミン、ジ−n−
プロピルアミン、ジ−i−プロピルアミン、ジ−n−ブ
チルアミン、ジ−i−ブチルアミン、ジ−t−ブチルア
ミン、ジ−n−ペンチルアミン、ジ−n−ヘキシルアミ
ン、メチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロヘキシ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ(シクロ)ア
ルキルアミン類;ジメチルエチルアミン、メチルジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ジメチルn−プロピルア
ミン、ジエチルn−プロピルアミン、メチルジ−n−プ
ロピルアミン、エチルジ−n−プロピルアミン、トリ−
n−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、トリ
−n−ブチルアミン、トリ−i−ブチルアミン、トリ−
t−ブチルアミン、トリ−n−ペンチルアミン、トリ−
n−ヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、
ジエチルシクロヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシ
ルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロ
ヘキシルアミン等のトリ(シクロ)アルキルアミン類;
Examples of the amino group-containing compound (including a chelating agent comprising an amino group-containing compound) include n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine and t-butylamine. , N
-Pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-
Decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, o-methylcyclohexylamine, m-methylcyclohexylamine, p-methylcyclohexylamine, o-ethylcyclohexylamine, m-ethylcyclohexylamine, p-ethylcyclohexyl Mono (cyclo) alkylamines such as amines; methylethylamine, diethylamine, methyl n-
Propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-
Propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di-t-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, Di (cyclo) alkylamines such as dicyclohexylamine; dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyln-propylamine, diethyln-propylamine, methyldi-n-propylamine, ethyldi-n-propylamine, tri-
n-propylamine, tri-i-propylamine, tri-n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-
t-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-
n-hexylamine, dimethylcyclohexylamine,
Tri (cyclo) alkylamines such as diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine and tricyclohexylamine;

【0061】2−アミノエタノール、3−アミノ−1−
プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−ア
ミノ−1−ブタノール、5−アミノ−1−ペンタノー
ル、6−アミノ−1−ヘキサノール、4−アミノ−1−
シクロヘキサノール等のモノ(シクロ)アルカノールア
ミン類;ジエタノールアミン、ジ−n−プロパノールア
ミン、ジ−i−プロパノールアミン、ジ−n−ブタノー
ルアミン、ジ−i−ブタノールアミン、ジ−n−ペンタ
ノールアミン、ジ−n−ヘキサノールアミン、ビス(4
−シクロヘキサノール)アミン等のジ(シクロ)アルカ
ノールアミン類;トリエタノールアミン、トリ−n−プ
ロパノールアミン、トリ−i−プロパノールアミン、ト
リ−n−ブタノールアミン、トリ−i−ブタノールアミ
ン、トリ−n−ペンタノールアミン、トリ−n−ヘキサ
ノールアミン、トリス(4−シクロヘキサノール)アミ
ン等のトリ(シクロ)アルカノールアミン類;
2-aminoethanol, 3-amino-1-
Propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino-1-
Mono (cyclo) alkanolamines such as cyclohexanol; diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine, di-i-butanolamine, di-n-pentanolamine, Di-n-hexanolamine, bis (4
Di (cyclo) alkanolamines such as -cyclohexanol) amine; triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine, tri-i-butanolamine, tri-n Tri (cyclo) alkanolamines such as -pentanolamine, tri-n-hexanolamine and tris (4-cyclohexanol) amine;

【0062】3−アミノ−1,2−プロパンジオール、
2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−
1,2−ブタンジオール、4−アミノ−1,3−ブタン
ジオール、4−アミノ−1,2−シクロヘキサンジオー
ル、4−アミノ−1,3−シクロヘキサンジオール、3
−ジメチルアミノ−1,2−プロパンジオール、3−ジ
エチルアミノ−1,2−プロパンジオール、2−ジメチ
ルアミノ−1,3−プロパンジオール、2−ジエチルア
ミノ−1,3−プロパンジオール等のアミノ(シクロ)
アルカンジオール類;1−アミノシクロペンタンメタノ
ール、4−アミノシクロペンタンメタノール、1−アミ
ノシクロヘキサンメタノール、4−アミノシクロヘキサ
ンメタノール、4−ジメチルアミノシクロペンタンメタ
ノール、4−ジエチルアミノシクロペンタンメタノー
ル、4−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、4
−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノール等のアミノ
基含有シクロアルカンメタノール類;
3-amino-1,2-propanediol,
2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-
1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3
Amino (cyclo) such as -dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol
Alkanediols; 1-aminocyclopentanemethanol, 4-aminocyclopentanemethanol, 1-aminocyclohexanemethanol, 4-aminocyclohexanemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanemethanol, 4-diethylaminocyclopentanemethanol, 4-dimethylaminocyclohexane Methanol, 4
Amino-containing cycloalkanemethanols such as diethylaminocyclohexanemethanol;

【0063】アニリン、o−メチルアニリン、m−メチ
ルアニリン、p−メチルアニリン、p―エチルアニリ
ン、p−n−プロピルアニリン、p−i−プロピルアニ
リン、p−n−ブチルアニリン、p−t−ブチルアニリ
ン、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、N,N
−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、p−
メチル−N,N−ジメチルアニリン等の芳香族アミン
類;o−アミノベンジルアルコール、m−アミノベンジ
ルアルコール、p−アミノベンジルアルコール、p−ジ
メチルアミノベンジルアルコール、p−ジエチルアミノ
ベンジルアルコール等のアミノベンジルアルコール類;
o−アミノフェノール、m―アミノフェノール、p―ア
ミノフェノール、p−ジメチルアミノフェノール、p−
ジエチルアミノフェノール等のアミノフェノール類;エ
チレンジアミン、フェナントロリン、ビピリジン、オキ
シン、フタロシアニン等のアミノ基含有キレート化剤等
のアミノ基含有低分子化合物や、ポリビニルアミン、2
−アミノエチル(メタ)アクリレートの(共)重合体、
2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートの
(共)重合体、スチレンの(共)重合体のアミノ化物ま
たはアミノメチル化物等のアミノ基含有有機高分子化合
物等を挙げることができる。
Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, pi-propylaniline, pn-butylaniline, pt- Butylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N
-Dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-
Aromatic amines such as methyl-N, N-dimethylaniline; aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol Kind;
o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-
Aminophenols such as diethylaminophenol; low molecular weight compounds containing amino groups such as chelating agents containing amino groups such as ethylenediamine, phenanthroline, bipyridine, oxine and phthalocyanine; polyvinylamine;
A (co) polymer of aminoethyl (meth) acrylate,
Examples thereof include an amino group-containing organic polymer compound such as a (co) polymer of 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, an aminated (co) polymer of styrene, or an aminomethylated product.

【0064】また、前記アミノ基置換カルボン酸化合物
(アミノ基置換カルボン酸化合物からなるキレート化剤
を含む。)の例としては、β−アラニン、2−アミノ酪
酸、3−アミノ酪酸、4−アミノ酪酸、2−アミノイソ
酪酸、3−アミノイソ酪酸、2−アミノ吉草酸、5−ア
ミノ吉草酸、6−アミノカプロン酸、1−アミノシクロ
プロパンカルボン酸、1−アミノシクロヘキサンカルボ
ン酸、4−アミノシクロヘキサンカルボン酸等のアミノ
基置換脂肪族カルボン酸またはアミノ基置換脂環族カル
ボン酸類;m−アミノ安息香酸、p―アミノ安息香酸、
p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジエチルアミノ安息
香酸等のアミノ基置換芳香族カルボン酸類;エチレンジ
アミン四酢酸、グリシン等のアミノ基置換カルボン酸化
合物からなるキレート化剤等のアミノ基置換カルボン酸
低分子化合物や、(メタ)アクリル酸/2−アミノ(メ
タ)アクリレート共重合体等のアミノ基とカルボキシル
基とを含有する有機高分子化合物等を挙げることができ
る。
Examples of the amino-substituted carboxylic acid compound (including a chelating agent comprising an amino-substituted carboxylic acid compound) include β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, and 4-aminobutyric acid. Butyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, 4-aminocyclohexanecarboxylic acid Amino-substituted aliphatic carboxylic acids or amino-substituted alicyclic carboxylic acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid,
Amino group-substituted aromatic carboxylic acids such as p-dimethylaminobenzoic acid and p-diethylaminobenzoic acid; amino-substituted carboxylic acid low-molecular compounds such as chelating agents comprising amino-substituted carboxylic compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid and glycine And organic polymer compounds containing an amino group and a carboxyl group, such as a (meth) acrylic acid / 2-amino (meth) acrylate copolymer.

【0065】また、前記イソシアネート基含有化合物の
例としては、エチレンジイソシアネート、テトラメチレ
ン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサメチレン−1,
6−ジイソシアネート、ドデカメチレン−1,12−ジ
イソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート化合物;
シクロペンタン−1,3−ジイソシアネート、シクロヘ
キサン−1,3−ジイソシアネート、シクロヘキサン−
1,4−ジイソシアネート、1−メチルシクロヘキサン
−2,4−ジイソシアネート、1−メチルシクロヘキサ
ン−2,6−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタ
ン−2,4’−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメ
タン−4,4’−ジイソシアネート、シクロヘキサン−
1,3,5−トリイソシアネート、ジシクロヘキシルメ
タン−2,4,2’−トリイソシアネート、ジシクロヘ
キシルメタン−2,4,4’−トリイソシアネートの脂
環族ポリイソシアネート化合物;
Examples of the isocyanate group-containing compound include ethylene diisocyanate, tetramethylene-1,4-diisocyanate, hexamethylene-1,
Aliphatic polyisocyanate compounds such as 6-diisocyanate and dodecamethylene-1,12-diisocyanate;
Cyclopentane-1,3-diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, cyclohexane-
1,4-diisocyanate, 1-methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, 1-methylcyclohexane-2,6-diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4'-diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, cyclohexane-
Alicyclic polyisocyanate compounds of 1,3,5-triisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4,2'-triisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4,4'-triisocyanate;

【0066】フェニレン−1,3−ジイソシアネート、
フェニレン−1,4−ジイソシアネート、1−メトキシ
フェニレン−2,4−ジイソシアネート、1−エトキシ
フェニレン−2,4−ジイソシアネート、2,4−トリ
レンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネ
ート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−
キシリレンジイソシアネート、ビフェニレン−4,4’
−ジイソシアネート、3,3’−ジメトキシビフェニレ
ン−4,4’−ジイソシアネート、3,3’−ジメチル
ビフェニレン−4,4’−ジイソシアネート、ジフェニ
ルメタン−2,4’−ジイソシアネート、ジフェニルメ
タン−4,4’−ジイソシアネート、3,3’−ジメト
キシジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、
3,3’−ジメチルジフェニルメタン−4,4’−ジイ
ソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネー
ト、フェニル−1,3,5−トリイソシアネート、ジフ
ェニルメタン−2,4,4’−トリイソシアネート、ジ
フェニルメタン−2,5,4’−トリイソシアネート、
トリフェニルメタン−2,4’,4”−トリイソシアネ
ート、トリフェニルメタン−4,4’,4”−トリイソ
シアネート、ジフェニルメタン−2,4,2’,4’−
テトライソシアネート、ジフェニルメタン−2,5,
2’,5’−テトライソシアネート等の芳香族ポリイソ
シアネート化合物;これらのポリイソシアネート化合物
の化学量論的過剰量と2官能以上の多官能性活性水素含
有化合物との反応により得られる末端イソシアネートプ
レポリマー等のイソシアネート基含有低分子化合物や、
(メタ)アクリル酸メチル/スチレン/ビニルイソシア
ネート共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/2−
(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート共重
合体、トルエンジイソシアネートとジエチレングリコー
ルとを重縮合したポリウレタン等のイソシアネート基含
有有機高分子化合物等を挙げることができる。
Phenylene-1,3-diisocyanate,
Phenylene-1,4-diisocyanate, 1-methoxyphenylene-2,4-diisocyanate, 1-ethoxyphenylene-2,4-diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3- Xylylene diisocyanate, 1,4-
Xylylene diisocyanate, biphenylene-4,4 '
-Diisocyanate, 3,3'-dimethoxybiphenylene-4,4'-diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenylene-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-2,4'-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate 3,3′-dimethoxydiphenylmethane-4,4′-diisocyanate,
3,3′-dimethyldiphenylmethane-4,4′-diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, phenyl-1,3,5-triisocyanate, diphenylmethane-2,4,4′-triisocyanate, diphenylmethane-2, 5,4′-triisocyanate,
Triphenylmethane-2,4 ', 4 "-triisocyanate, triphenylmethane-4,4', 4" -triisocyanate, diphenylmethane-2,4,2 ', 4'-
Tetraisocyanate, diphenylmethane-2,5
Aromatic polyisocyanate compounds such as 2 ', 5'-tetraisocyanate; terminal isocyanate prepolymers obtained by reacting a stoichiometric excess of these polyisocyanate compounds with a bifunctional or higher polyfunctional active hydrogen-containing compound Isocyanate group-containing low molecular compounds such as,
Methyl (meth) acrylate / styrene / vinyl isocyanate copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / 2-
(Meth) acryloyloxyethyl isocyanate copolymer, isocyanate group-containing organic polymer compound such as polyurethane obtained by polycondensation of toluene diisocyanate and diethylene glycol, and the like.

【0067】また、クラウンエーテル化合物の例として
は、12−クラウン−4、15−クラウン−5、18―
クラウン−6、ジベンゾ−24−クラウン−8、パーヒ
ドロジベンゾ−24−クラウン−8等を挙げることがで
きる。また、前記以外の有機キレート化剤の例として
は、クエン酸、ジメチルグリオキシム、アセチルアセト
ン、ポリヒドラジド等を挙げることができる。なお、前
記アミノ基置換カルボン酸化合物以外の有機化合物から
なる(E)成分は、エポキシ基、オキセタン環、アミノ
基またはイソシアネート基の群から選ばれる基を2種以
上有することができる。
Examples of the crown ether compound include 12-crown-4, 15-crown-5, and 18-crown-5.
Crown-6, dibenzo-24-crown-8, perhydrodibenzo-24-crown-8 and the like can be mentioned. Examples of the organic chelating agent other than the above include citric acid, dimethylglyoxime, acetylacetone, polyhydrazide and the like. The component (E) composed of an organic compound other than the amino group-substituted carboxylic acid compound can have two or more groups selected from the group consisting of an epoxy group, an oxetane ring, an amino group and an isocyanate group.

【0068】また、前記体質顔料の例としては、硫酸バ
リウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸マ
グネシウム、シリカ、アルミナ、グロス白、サタン白、
ハイドロタルサイト等を挙げることができる。また、前
記充填剤の例としては、活性炭、塩化カルシウム等を挙
げることができる。
Examples of the extender include barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, basic magnesium carbonate, silica, alumina, gloss white, satan white, and the like.
Hydrotalcite and the like can be mentioned. Examples of the filler include activated carbon, calcium chloride, and the like.

【0069】本発明における(E)成分としては、エポ
キシ基含有化合物、オキセタン環含有化合物、有機キレ
ート化剤が好ましい。前記好ましい(E)成分のうち、
エポキシ基含有化合物としては、前記式(4)、式
(5)、式(6)または式(10)で表される化合物等
がさらに好ましく、特に、式(5)で表される化合物が
好ましい。また、オキセタン環含有化合物としては、オ
キセタン、3−ビニルオキセタン、3−ベンジルオキセ
タン、3−ビニルオキセタンの(共)重合体等がさらに
好ましい。また、有機キレート化剤としては、エチレン
ジアミン四酢酸、ビピリジン、クエン酸、ジメチルグリ
オキジム等がさらに好ましく、特に、エチレンジアミン
四酢酸が好ましい。そのほか、ポリビニルアミン、イソ
シアネート基含有有機高分子化合物、ポリイミド等も、
(E)成分として好ましく使用される。なお、有機高分
子化合物からなる(E)成分のMwは、特に限定される
ものではないが、通常、1,000〜500,000、
好ましくは3,000〜100,000である。
As the component (E) in the present invention, an epoxy group-containing compound, an oxetane ring-containing compound, and an organic chelating agent are preferable. Among the preferred components (E),
As the epoxy group-containing compound, a compound represented by the formula (4), (5), (6) or (10) is more preferable, and a compound represented by the formula (5) is particularly preferable. . Further, as the oxetane ring-containing compound, a (co) polymer of oxetane, 3-vinyloxetane, 3-benzyloxetane, 3-vinyloxetane, and the like are more preferable. Further, as the organic chelating agent, ethylenediaminetetraacetic acid, bipyridine, citric acid, dimethylglyoxydim and the like are more preferable, and ethylenediaminetetraacetic acid is particularly preferable. In addition, polyvinylamine, isocyanate group-containing organic polymer compounds, polyimides, and the like,
It is preferably used as the component (E). The Mw of the component (E) composed of an organic polymer compound is not particularly limited, but is usually 1,000 to 500,000,
Preferably it is 3,000-100,000.

【0070】本発明における(E)成分の使用量は、感
放射線性組成物中の全固形分100重量部に対して、通
常、0.1〜50重量部、好ましくは0.2〜30重量
部、さらに好ましくは0.3〜20重量部である。
The amount of component (E) used in the present invention is generally 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.2 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solids in the radiation-sensitive composition. Parts, more preferably 0.3 to 20 parts by weight.

【0071】本発明におけるカラーフィルタ用感放射線
性組成物の汚染度〔I〕は、0.15以下、好ましくは
0.10以下、さらに好ましくは0.08以下、特に好
ましくは0.05以下である。この汚染度〔I〕は、
(E)成分の種類と使用量並びにカラーフィルタ用感放
射線性組成物を構成する各成分の種類と使用量に依存す
るものであり、これらの条件を適切に調節することによ
り、本発明における所定の汚染度〔I〕が達成される。
The degree of contamination [I] of the radiation-sensitive composition for a color filter in the present invention is 0.15 or less, preferably 0.10 or less, more preferably 0.08 or less, and particularly preferably 0.05 or less. is there. This pollution degree [I]
(E) It depends on the kind and use amount of the component and the kind and use amount of each component constituting the radiation-sensitive composition for a color filter. Is achieved.

【0072】添加剤 本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、必要に
応じて、種々の添加剤を含有することもできる。本発明
のカラーフィルタ用感放射線性組成物において、(E)
成分がオキセタン環含有化合物を含有する場合、(B)
アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基を有するとき、該
組成物を単に加熱することにより架橋(硬化)すること
ができるが、(B)アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル
基を有するか否かに係わらず、オキセタン環含有化合物
を開環重合させうる架橋(硬化)剤をさらに含有するこ
とができる。
Additives The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention may contain various additives, if necessary. In the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention, (E)
When the component contains an oxetane ring-containing compound, (B)
When the alkali-soluble resin has a carboxyl group, the composition can be cross-linked (cured) by simply heating the composition. A crosslinking (curing) agent capable of ring-opening polymerization of the compound may be further contained.

【0073】前記架橋(硬化)剤としては、例えば、多
価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、露光により酸を
発生する感放射線性酸発生剤等を用いることができる。
前記多価カルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット
酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
等の芳香族多価カルボン酸類;こはく酸、グルタル酸、
アジピン酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン
酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の脂肪族多価
カルボン酸類;ヘキサヒドロフタル酸、1,2−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1,2,4−シクロヘキサント
リカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラ
カルボン酸等の脂環族多価カルボン酸類等を挙げること
ができる。
Examples of the crosslinking (curing) agent include polycarboxylic acids, polycarboxylic anhydrides, and radiation-sensitive acid generators that generate an acid upon exposure.
Examples of the polycarboxylic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid,
Aromatic polycarboxylic acids such as 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid; succinic acid, glutaric acid,
Aliphatic polycarboxylic acids such as adipic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid; hexahydrophthalic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2,2 Examples include alicyclic polycarboxylic acids such as 4-cyclohexanetricarboxylic acid and 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid.

【0074】また、前記多価カルボン酸無水物の例とし
ては、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメ
リット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の芳
香族多価カルボン酸無水物類;無水イタコン酸、無水こ
はく酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルこはく酸、
無水トリカルバリル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒ
ドロフタル酸、無水ジメチルテトラヒドロフタル酸、無
水ハイミック酸、無水ナジン酸等の脂肪族ジカルボン酸
無水物または脂環族ジカルボン酸無水物類;1,2,
3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等の
脂肪族多価カルボン酸二無水物または脂環族多価カルボ
ン酸二無水物類;エチレングリコールビストリメリテイ
ト、グリセリントリストリメリテイト等のエステル基含
有酸無水物等を挙げることができる。
Examples of the polycarboxylic anhydrides include aromatic polycarboxylic anhydrides such as phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic anhydride; Acid, succinic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride,
Aliphatic or alicyclic dicarboxylic anhydrides such as tricarballylic anhydride, maleic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, hymic anhydride, and nadic anhydride;
3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,2
Aliphatic polycarboxylic dianhydrides or alicyclic polycarboxylic dianhydrides such as 3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride; esters such as ethylene glycol bis trimellitate and glycerin tristrimellitate Examples of the acid anhydride include a group-containing acid anhydride.

【0075】また、架橋(硬化)剤として、カルボン酸
無水物からなる市販のエポキシ樹脂硬化剤も好適に用い
ることができ、その例としては、商品名で、アデカハー
ドナーEH−700(旭電化工業(株)製)、リッカシ
ードHH、MH−700(新日本理化(株)製)、エピ
キニア126、YH−306、DX−126(油化シェ
ルエポキシ(株)製)等を挙げることができる。
As the crosslinking (curing) agent, a commercially available epoxy resin curing agent composed of a carboxylic anhydride can also be suitably used. For example, a trade name of Adeka Hardener EH-700 (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) Co., Ltd.), Rikka Seed HH, MH-700 (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), Epikinia 126, YH-306, DX-126 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), and the like.

【0076】また、感放射線性酸発生剤の例としては、
4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム p−ト
ルエンスルホナート、4−ヒドロキシフェニルジメチル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−アセ
トキシフェニルジメチルスルホニウム p−トルエンス
ルホナート、4−アセトキシフェニルメチルベンジルス
ルホニウムヘキサフルオロアンチモネートトリフェニル
スルホニウム p−トルエンスルホナート、トリフェニ
ルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェ
ニルヨードニウム p−トルエンスルホナート、ジフェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のオ
ニウム塩類や、ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイ
ントシレート類等を挙げることができる。
Examples of the radiation-sensitive acid generator include:
4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-acetoxyphenylmethylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate triphenylsulfonium p -Onium salts such as toluene-sulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium p-toluenesulfonate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, nitrobenzyl tosylate, and benzoin tosylate.

【0077】これらの架橋(硬化)剤のうち、芳香族多
価カルボン酸類、芳香族多価カルボン酸無水物類、オニ
ウム塩類等が好ましい。前記架橋(硬化)剤は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。架橋
(硬化)剤の使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂10
0重量部に対して、通常、25重量部以下、好ましくは
15重量部以下である。この場合、架橋(硬化)剤の使
用量が25重量部を超えると、形成された画素が現像時
に基板から脱落しやすくなるおそれがある。
Among these crosslinking (curing) agents, aromatic polycarboxylic acids, aromatic polycarboxylic anhydrides, onium salts and the like are preferable. The crosslinking (curing) agents can be used alone or in combination of two or more. The amount of the crosslinking (curing) agent used is (B) alkali-soluble resin 10
It is usually at most 25 parts by weight, preferably at most 15 parts by weight, based on 0 parts by weight. In this case, if the amount of the cross-linking (curing) agent exceeds 25 parts by weight, the formed pixels may easily fall off the substrate during development.

【0078】また、架橋(硬化)剤以外の添加剤として
は、例えば、銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導
体や黄色顔料誘導体等の分散助剤;ガラス等の前記以外
の充填剤;ポリ(フロロアルキルアクリレート)類等の
前記以外の高分子添加剤;ノニオン系、カチオン系、ア
ニオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキ
シエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピル・メチル・ジメトキシシラン、N−(2
−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシド
キシプロピル・メチル・ジメトキシシラン、2−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、3−クロロプロピル・メチル・ジメトキシシラン、
3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チ
オビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;2
−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベ
ンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;ポリアクリル酸ナト
リウム等の凝集防止剤;1,1′−アゾビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)、2−フェニルアゾ−4
−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル等の熱ラ
ジカル発生剤等を挙げることができる。
Examples of additives other than the crosslinking (curing) agent include, for example, a dispersing aid such as a blue pigment derivative or a yellow pigment derivative such as a copper phthalocyanine derivative; a filler other than the above such as glass; Acrylate) and other polymer additives; nonionic, cationic, anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane;
Vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-
Aminopropyl methyl dimethoxysilane, N- (2
-Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3
4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane,
Adhesion promoters such as 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol);
Antioxidants such as 2,6-di-t-butylphenol; 2
UV absorbers such as-(3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones; aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate; 1,1'-azobis ( Cyclohexane-1-carbonitrile), 2-phenylazo-4
Thermal radical generators such as -methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile;

【0079】溶媒 本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、前記
(A)〜(D)成分を必須成分とし、好ましくは前記
(E)成分を含有し、場合により前記添加剤成分を含有
するが、好ましくは溶媒を配合して液状組成物として調
製される。前記溶媒としては、感放射線性組成物を構成
する(A)〜(E)成分や添加剤成分を分散または溶解
し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有す
るものである限り、適宜に選択して使用することができ
る。このような溶媒の具体例としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレ
ングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキル
エーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキル
エーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等
のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−
ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステ
ル類;炭酸ジメチルカーボネート、炭酸ジエチル等の炭
酸ジアルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチル
プロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチ
ル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプ
ロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、
エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒド
ロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチ
ルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテ
ート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネー
ト、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ
酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチ
ル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−
プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−
オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリド
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド等のアミド類等を挙げることができる。
Solvent The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention contains the above components (A) to (D) as essential components, preferably contains the above component (E), and optionally contains the above additive components. However, it is preferably prepared as a liquid composition by mixing a solvent. As the solvent, as long as it disperses or dissolves the components (A) to (E) and the additive components constituting the radiation-sensitive composition, and does not react with these components and has appropriate volatility. Can be appropriately selected and used. Specific examples of such a solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol mono-ethyl. n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n -Butyl ether, dipropylene glycol monomethyl acrylate Le, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono -
n-propyl ether, dipropylene glycol mono-
(Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate; and other such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran Ether compounds; methyl ethyl ketone,
Ketones such as cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate;
Alkyl lactates such as ethyl hydroxypropionate; dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate; -Methyl ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate,
Ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, acetic acid n-butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate,
Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-pyruvate
Propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-
Other esters such as ethyl oxobutanoate; toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene; amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide;

【0080】これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散
性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘ
キサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸
エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキ
シプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテー
ト、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−
メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−
ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−ア
ミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−
プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル、トルエ
ン、N−メチルピロリドン等が好ましい。前記溶媒は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。
Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, from the viewpoints of solubility, pigment dispersibility, coatability and the like.
Diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3 -Methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-
Methyl-3-methoxybutyl propionate, n-acetic acid
Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-butyrate
Preferred are propyl, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate, toluene, N-methylpyrrolidone and the like. The solvent is
They can be used alone or in combination of two or more.

【0081】さらに、前記溶媒と共に、ベンジルエチル
エーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセ
トン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オク
タノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸
ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイ
ン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
前記高沸点溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。
Further, together with the solvent, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, High boiling solvents such as diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and ethylene glycol monophenyl ether acetate can also be used in combination.
The high boiling point solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0082】溶媒の使用量は、特に限定されるものでは
ないが、得られる感放射線性組成物の塗布性、安定性等
の観点から、組成物溶液の溶媒を除いた各成分の合計濃
度が、好ましくは5〜50重量%、さらに好ましくは1
0〜40重量%となる量が望ましい。
The amount of the solvent used is not particularly limited, but from the viewpoint of the coating properties and stability of the radiation-sensitive composition obtained, the total concentration of each component excluding the solvent in the composition solution is preferably , Preferably 5 to 50% by weight, more preferably 1 to 50% by weight.
An amount of 0 to 40% by weight is desirable.

【0083】カラーフィルタの形成方法 次に、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物を用
いて、カラーフィルタを形成する方法について説明す
る。まず、透明基板の表面上の画素パターンを形成する
部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、
例えば赤色の有機顔料が分散された感放射線性組成物の
液状組成物を塗布したのち、プリベークを行って溶剤を
蒸発させて、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォ
トマスクを介して露光したのち、アルカリ現像液により
現像処理を行い、塗膜の未露光部を溶解除去することに
よって、赤色の画素が所定のパターンで配置された画素
アレイを形成する。その後、緑色または青色の有機顔料
が分散された各感放射線性組成物の液状組成物を順次用
い、前記と同様にして、各組成物の塗布、プリベーク、
露光および現像処理を行うことにより、赤色、緑色およ
び青色の三原色の画素アレイが同一基板上に形成された
カラーフィルタを得る。カラーフィルタを形成する際に
使用される透明基板としては、例えば、ガラス、シリコ
ン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミ
ド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることがで
きる。これらの透明基板には、所望により、シランカッ
プリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプ
レーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着
等の適宜の前処理を施しておくこともできる。本発明の
カラーフィルタ用感放射線性組成物を透明基板に塗布す
る際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の
塗布法を採用することができる。塗布厚さは、乾燥後の
膜厚として、通常、0.1〜10μm、好ましくは0.
2〜6.5μmである。カラーフィルタを形成する際に
使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外
線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が
190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。露
光エネルギー量は、好ましくは1〜1000mJ/cm
2 である。また、現像処理に用いられるアルカリ現像液
としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.
0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−
[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。前
記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール
等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加すること
もできる。なお、アルカリ現像液による現像処理後は、
通常、水洗する。アルカリ現像液による現像法として
は、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸
漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用すること
ができ、現像条件は、常温で5〜300秒が好ましい。
このようにして形成されたカラーフィルタは、カラー液
晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極
めて好適に使用することができる。
Method for Forming a Color Filter Next, a method for forming a color filter using the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention will be described. First, a light-shielding layer is formed so as to partition a portion where a pixel pattern is formed on the surface of a transparent substrate, and on this substrate,
For example, after applying a liquid composition of a radiation-sensitive composition in which a red organic pigment is dispersed, prebaking is performed to evaporate the solvent, thereby forming a coating film. Next, after this coating film is exposed through a photomask, a developing process is performed with an alkali developing solution, and an unexposed portion of the coating film is dissolved and removed, whereby a pixel array in which red pixels are arranged in a predetermined pattern. To form Thereafter, using a liquid composition of each radiation-sensitive composition in which a green or blue organic pigment is dispersed sequentially, in the same manner as described above, application of each composition, pre-baking,
By performing exposure and development processing, a color filter in which pixel arrays of three primary colors of red, green, and blue are formed on the same substrate is obtained. Examples of the transparent substrate used when forming a color filter include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamide imide, and polyimide. These transparent substrates may be subjected to an appropriate pretreatment such as a chemical treatment with a silane coupling agent or the like, a plasma treatment, an ion plating, a sputtering, a gas phase reaction method, or a vacuum deposition, if desired. When applying the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention to a transparent substrate, an appropriate coating method such as spin coating, casting coating, and roll coating can be employed. The coating thickness is usually 0.1 to 10 μm, preferably 0.1 to 10 μm, as the thickness after drying.
2 to 6.5 μm. As the radiation used when forming the color filter, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, an electron beam, X-ray, or the like can be used, and radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable. Exposure energy amount is preferably 1 to 1000 mJ / cm
2 Examples of the alkaline developer used for the development treatment include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, and 1,8-diazabicyclo- [5.4.
0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo-
An aqueous solution such as [4.3.0] -5-nonene is preferred. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like can be added to the alkali developer. In addition, after the development processing with an alkali developer,
Usually, wash with water. As a developing method using an alkali developing solution, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method, or the like can be applied. preferable.
The color filter thus formed can be used very suitably for a color liquid crystal display device, a color image pickup tube element, a color sensor and the like.

【0084】このようにして本発明のカラーフィルタ用
感放射線性組成物から形成されたカラーフィルタは、電
圧保持率の低下および焼き付き・配向不良を生じること
がなく、かつ通電後の表示状態も優れており、信頼性の
高い液晶表示素子をもたらすことができる。
The color filter thus formed from the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention does not cause a reduction in voltage holding ratio, image sticking or poor orientation, and has an excellent display state after energization. Thus, a highly reliable liquid crystal display device can be provided.

【0085】[0085]

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタ用感放射
線性組成物は、(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹
脂、(C)多官能性単量体および(D)光重合開始剤を
必須成分とし、好ましくは(E)成分を含有するもので
あるが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下
記(イ)〜(リ)のとおりである。 (イ) (B)成分がカルボキシル基含有共重合体(B
1)を含み、(D)光重合開始剤がアセトフェノン系化
合物、ビイミダゾール系化合物およびトリアジン系化合
物の群から選ばれる少なくとも1種を含むカラーフィル
タ用感放射線性組成物。 (ロ) (B)成分がカルボキシル基含有共重合体(B
1)を含み、(D)光重合開始剤がビイミダゾール系化
合物および水素供与体を含むカラーフィルタ用感放射線
性組成物。 (ハ) 水素供与体がメルカプタン系水素供与体および
/またはアミン系水素供与体からなる前記(ロ)のカラ
ーフィルタ用感放射線性組成物。 (ニ) (D)成分がさらにアセトフェノン系化合物お
よびトリアジン系化合物の群から選ばれる少なくとも1
種を含む前記(ロ)または(ハ)のカラーフィルタ用感
放射線性組成物。 (ホ) (D)成分がさらに増感剤、硬化促進剤および
高分子光架橋・増感剤の群から選ばれる少なくとも1種
を含む前記(イ)、(ロ)、(ハ)または(ニ)のカラ
ーフィルタ用感放射線性組成物。 (ヘ) (C)成分がトリメチロールプロパントリアク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの群
から選ばれる少なくとも1種を含む前記(イ)、
(ロ)、(ハ)、(ニ)または(ホ)のカラーフィルタ
用感放射線性組成物。 (ト) (E)成分がエポキシ基含有化合物、オキセタ
ン環含有化合物、キレート化剤、ポリビニルアミン、イ
ソシアネート基含有有機高分子化合物およびポリイミド
の群から選ばれる少なくとも1種を含む前記(イ)、
(ロ)、(ハ)、(ニ)、(ホ)または(ヘ)のカラー
フィルタ用感放射線性組成物。 (チ) (A)成分が有機顔料である前記(イ)、
(ロ)、(ハ)、(ニ)、(ホ)、(ヘ)または(ト)
のカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (リ) 汚染度〔I〕が0.10以下、さらに好ましく
は0.08以下、特に好ましくは0.05以下である前
記(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)、(ホ)、(ヘ)、
(ト)または(チ)のカラーフィルタ用感放射線性組成
物。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photopolymerization initiator. Is an essential component, and preferably contains the component (E). Particularly preferred examples of the composition include the following (A) to (I). (A) Component (B) is a carboxyl group-containing copolymer (B
(D) A radiation-sensitive composition for a color filter, wherein the photopolymerization initiator comprises at least one selected from the group consisting of an acetophenone-based compound, a biimidazole-based compound, and a triazine-based compound. (B) Component (B) is a carboxyl group-containing copolymer (B
(1) A radiation-sensitive composition for a color filter, wherein (D) the photopolymerization initiator contains a biimidazole compound and a hydrogen donor. (C) The radiation-sensitive composition for a color filter according to (b), wherein the hydrogen donor is a mercaptan-based hydrogen donor and / or an amine-based hydrogen donor. (D) at least one component (D) selected from the group consisting of acetophenone compounds and triazine compounds;
The radiation-sensitive composition for a color filter according to the above (b) or (c), comprising a seed. (E) The component (D) further comprises at least one selected from the group consisting of a sensitizer, a curing accelerator and a polymer photocrosslinking / sensitizer, (a), (b), (c) or (d). A) a radiation-sensitive composition for a color filter. (F) The component (C) wherein the component (C) contains at least one selected from the group consisting of trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate.
(B) The radiation-sensitive composition for a color filter according to (c), (d) or (e). (G) The component (E) wherein the component (E) contains at least one selected from the group consisting of an epoxy group-containing compound, an oxetane ring-containing compound, a chelating agent, polyvinylamine, an isocyanate group-containing organic polymer compound, and polyimide.
(B), (c), (d), (e) or (f), a radiation-sensitive composition for a color filter. (H) The component (A) wherein the component (A) is an organic pigment.
(B), (c), (d), (e), (f) or (g)
Radiation-sensitive composition for color filters. (I) The above (A), (B), (C), (D), (E) wherein the degree of contamination [I] is 0.10 or less, more preferably 0.08 or less, particularly preferably 0.05 or less. ), (F),
(G) or (h) the radiation-sensitive composition for a color filter.

【0086】以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形
態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これら
の実施例に何ら制約されるものではない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these embodiments.

【実施例】実施例および比較例において、電圧保持率、
汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態は、次のよう
にして評価した。電圧保持率の評価 液晶:フルオロビフェニルの誘導体からなるネマティッ
ク型液晶(商品名ZLI−5081、メルクジャパン
(株)製)を用いた。 液晶表示素子の作製: ガラス基板の片面に、パターニングされた1cm2
のITO膜を形成したのち、該ITO膜上に、スピンナ
ーを用いて、市販のアクティブマトリックス用液晶配向
剤を塗布したのち、180℃で1時間乾燥して、膜厚8
00Åの塗膜を形成した。 各実施例の液状組成物を用いて形成したカラーフィ
ルタ上に、パターニングされた1cm2 のITO膜を形
成したのち、該ITO膜上に、と同様にして、液晶配
向剤の塗膜を形成した。 各比較例の液状組成物を用いて形成したカラーフィ
ルタ上に、パターニングされた1cm2 のITO膜を形
成したのち、該ITO膜上に、と同様にして、液晶配
向剤の塗膜を形成した。 ガラス基板の片面にITO膜(連続膜)を形成した
のち、該ITO膜上に、と同様にして、液晶配向剤の
塗膜を形成した。 次いで、〜で得た各基板上の塗膜の表面に、レ
ーヨン製の布を巻き付けたロールを備えたラビングマシ
ーンを用いてラビング処理を行なって、液晶配向膜を形
成した。その際のラビング条件は、ロール回転数400
rpm、ステージの移動速度3cm/秒、毛足の押し込
み長さ0.4mmであった。 このようにして液晶配向膜が形成された基板のう
ち、、またはの処理を経たそれぞれの基板をの
処理を経た基板と組み合わせて2枚一組とし、各組毎
に、2枚の基板の外縁部に、直径18μmの酸化アルミ
ニウム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤をスクリーン
印刷により塗布したのち、各液晶配向膜のラビング方向
が逆となるように、2枚の基板を間隙を開けて対向配置
し、各基板の外縁部同士が当接するように圧着して、接
着剤を硬化させた。 次いで各組毎に、2枚の基板の内表面と接着剤の硬
化層とにより区画されたセルギャップ内に、ネマティッ
ク型液晶「ZLI−5081」を注入充填したのち、注
入孔を封止して液晶セルを作製した。その後、液晶セル
の外表面に偏光板を、その偏光方向が各基板上の液晶配
向膜のラビング方向と一致するように貼り合わせて、液
晶表示素子を作製した。 電圧保持率の測定:60℃の恒温槽内に保持した液晶表
示素子に、DC5Vの電圧を6×10-5秒間印加したの
ち、電圧の印加を解除してから0.5秒経過後の電圧保
持率を、電圧保持率測定装置「VHR−1」(商品名、
(株)東陽テクニカ製)を用いて測定した。汚染度の評価 以上のようにして測定した電圧保持率から、汚染度を前
記式〔I〕により算出した。
EXAMPLES In Examples and Comparative Examples, the voltage holding ratio,
The degree of contamination, burn-in, and the state of display after energization were evaluated as follows. Evaluation of voltage holding ratio Liquid crystal: A nematic liquid crystal (trade name: ZLI-5081, manufactured by Merck Japan Ltd.) composed of a fluorobiphenyl derivative was used. Production of liquid crystal display element: 1 cm 2 patterned on one side of a glass substrate
Is formed, a commercially available liquid crystal aligning agent for active matrix is applied on the ITO film by using a spinner, and then dried at 180 ° C. for 1 hour to obtain a film thickness of 8
A 00 ° coating was formed. After a patterned 1 cm 2 ITO film was formed on a color filter formed using the liquid composition of each example, a coating film of a liquid crystal aligning agent was formed on the ITO film in the same manner as described above. . After a patterned 1 cm 2 ITO film was formed on a color filter formed using the liquid composition of each comparative example, a coating film of a liquid crystal aligning agent was formed on the ITO film in the same manner as described above. . After forming an ITO film (continuous film) on one side of a glass substrate, a coating film of a liquid crystal aligning agent was formed on the ITO film in the same manner as described above. Next, a rubbing treatment was performed on the surface of the coating film on each of the substrates obtained by using a rubbing machine provided with a roll wound with a rayon cloth to form a liquid crystal alignment film. The rubbing conditions at that time were as follows:
rpm, the stage moving speed was 3 cm / sec, and the push-in length of the hair foot was 0.4 mm. Of the substrates on which the liquid crystal alignment film has been formed in this manner, or each of the substrates that have been subjected to the processing, are combined with the substrates that have undergone the processing to form a pair, and the outer edge of the two substrates is provided for each pair. After applying an epoxy resin-based adhesive containing 18 μm diameter aluminum oxide spheres by screen printing, the two substrates are opposed to each other with a gap between them so that the rubbing directions of the liquid crystal alignment films are reversed. Then, the substrates were pressed so that the outer edges of the substrates were in contact with each other to cure the adhesive. Next, for each set, a nematic liquid crystal “ZLI-5081” is injected and filled into a cell gap defined by the inner surface of the two substrates and the cured layer of the adhesive, and then the injection hole is sealed. A liquid crystal cell was manufactured. Thereafter, a polarizing plate was attached to the outer surface of the liquid crystal cell so that the polarization direction of the polarizing plate coincided with the rubbing direction of the liquid crystal alignment film on each substrate, thereby producing a liquid crystal display device. Measurement of voltage holding ratio: After applying a voltage of 5 V DC for 6 × 10 −5 seconds to the liquid crystal display element held in a thermostat at 60 ° C., a voltage 0.5 seconds after the application of the voltage was released. The holding ratio was measured using a voltage holding ratio measuring device “VHR-1” (trade name,
(Manufactured by Toyo Corporation). Evaluation of Pollution Degree From the voltage holding ratio measured as described above, the pollution degree was calculated by the above formula [I].

【0087】焼き付きの評価 液晶:フルオロビフェニルの誘導体からなるネマティッ
ク型液晶(商品名ZLI− 5081、メルクジャパン(株)製)を用いた。液晶表
示素子の作製: ガラス基板の片面に、パターニングされた1cm2
のITO膜を形成したのち、該ITO膜上に、スピンナ
ーを用いて、市販のアクティブマトリックス用液晶配向
剤を塗布したのち、180℃で1時間乾燥して、膜厚6
00Åの塗膜を形成した。 各実施例の液状組成物を用いて形成したカラーフィ
ルタ上に、パターニングされた1cm2 のITO膜を形
成したのち、該ITO膜上に、と同様にして、液晶配
向剤の塗膜を形成した。 各比較例の液状組成物を用いて形成したカラーフィ
ルタ上に、パターニングされた1cm2 のITO膜を形
成したのち、該ITO膜上に、と同様にして、液晶配
向剤の塗膜を形成した。 ガラス基板の片面にITO膜(連続膜)を形成した
のち、該ITO膜上に、と同様にして、液晶配向剤の
塗膜を形成した。 次いで、〜で得た各基板上の塗膜の表面に、レ
ーヨン製の布を巻き付けたロールを備えたラビングマシ
ーンを用いてラビング処理を行なって、液晶配向膜を形
成した。その際のラビング条件は、ロール回転数400
rpm、ステージの移動速度3cm/秒、毛足の押し込
み長さ0.4mmであった。 このようにして液晶配向膜が形成された基板のう
ち、、またはの処理を経たそれぞれの基板をの
処理を経た基板と組み合わせて2枚一組とし、各組毎
に、2枚の基板の外縁部に、直径5.5μmのシリカゲ
ル柱状スペーサーを含有するエポキシ樹脂系接着剤をス
クリーン印刷により塗布したのち、各液晶配向膜のラビ
ング方向が90度に交差するように、2枚の基板を間隙
を開けて対向配置し、各基板の外縁部同士が当接するよ
うに圧着して、接着剤を硬化させた。 次いで各組毎に、2枚の基板の内表面と接着剤の硬
化層とにより区画されたセルギャップ内に、ネマティッ
ク型液晶「ZLI−5081」を注入充填したのち、注
入孔を封止して液晶セルを作製した。その後、液晶セル
の外表面に偏光板を、その偏光方向が各基板上の液晶配
向膜のラビング方向と一致するように貼り合わせて、液
晶表示素子を作製した。焼き付きの評価方法: 液晶表示素子にファンクションジェネレーターWAVE
FACTRY(NF ELECTRONIC INSTRUMENT社製)を接続して、
AC3V、DC1Vの矩形波電圧を印加し、その状態で
液晶表示素子を70℃で1時間加熱する。 加熱後の液晶表示素子を、矩形波電圧を切って、5
分間放冷したのち、前記ファンクションジェネレーター
により、30Hz、中間調電圧の矩形波電圧を印加す
る。 LCD EVALUATION SYSTEM(Photal社製) を用いて、液
晶表示素子の表示に関するフリッカー出現パルスのデー
タから得られるフリッカー波形を、オシロスコープ5460
0A OSCILLOSCOPE(HEWLETT PACKARD 社製)に取り込み、
FFTアナライザーR9211C FFT SERVO ANALYZER(ADVANTES
T 社製) により、フリッカー強度を測定する。 前記ファンクションジェネレーターによりオフセッ
ト電圧を印加し、フリッカー波形が完全になくなる点の
オフセット電圧を測定して、フリッカー消去電圧(即
ち、焼き付き除去電圧)とする。 焼き付きを、下記基準で評価する。 ○ : フリッカー消去電圧が50mV未満 × : フリッカー消去電圧が50mV以上 (注) 焼き付きの程度はフリッカー消去電圧が大きい
ほど著しくなり、フリッカー消去電圧が50mV未満で
あれば、焼き付きは発生しないが、50mV以上である
と、液晶表示素子を長期使用した場合に、焼き付きが発
生する。フリッカー消去電圧は、20mV以下であるの
がより好ましい。
Evaluation of Burn-in Liquid Crystal: A nematic liquid crystal (trade name: ZLI-5081, manufactured by Merck Japan Ltd.) composed of a fluorobiphenyl derivative was used. Production of liquid crystal display element: 1 cm 2 patterned on one side of a glass substrate
After forming an ITO film, a commercially available liquid crystal aligning agent for active matrix was applied on the ITO film by using a spinner, and then dried at 180 ° C. for 1 hour to form a film having a thickness of 6 μm.
A 00 ° coating was formed. After a patterned 1 cm 2 ITO film was formed on a color filter formed using the liquid composition of each example, a coating film of a liquid crystal aligning agent was formed on the ITO film in the same manner as described above. . After a patterned 1 cm 2 ITO film was formed on a color filter formed using the liquid composition of each comparative example, a coating film of a liquid crystal aligning agent was formed on the ITO film in the same manner as described above. . After forming an ITO film (continuous film) on one side of a glass substrate, a coating film of a liquid crystal aligning agent was formed on the ITO film in the same manner as described above. Next, a rubbing treatment was performed on the surface of the coating film on each of the substrates obtained by using a rubbing machine provided with a roll wound with a rayon cloth to form a liquid crystal alignment film. The rubbing conditions at that time were as follows:
rpm, the stage moving speed was 3 cm / sec, and the push-in length of the hair foot was 0.4 mm. Of the substrates on which the liquid crystal alignment film has been formed in this manner, or each of the substrates that have been subjected to the processing, are combined with the substrates that have undergone the processing to form a pair, and the outer edge of the two substrates for each set After applying an epoxy resin-based adhesive containing a silica gel columnar spacer with a diameter of 5.5 μm to the part by screen printing, the gap between the two substrates is adjusted so that the rubbing directions of the liquid crystal alignment films cross at 90 degrees. The substrates were opened and opposed to each other, and were pressed so that the outer edges of the substrates were in contact with each other to cure the adhesive. Next, for each set, a nematic liquid crystal “ZLI-5081” is injected and filled into a cell gap defined by the inner surface of the two substrates and the cured layer of the adhesive, and then the injection hole is sealed. A liquid crystal cell was manufactured. Thereafter, a polarizing plate was attached to the outer surface of the liquid crystal cell so that the polarization direction of the polarizing plate coincided with the rubbing direction of the liquid crystal alignment film on each substrate, thereby producing a liquid crystal display device. Burn-in evaluation method: Function generator WAVE on liquid crystal display
FACTRY (NF ELECTRONIC INSTRUMENT) is connected,
A rectangular wave voltage of AC 3 V and DC 1 V is applied, and the liquid crystal display element is heated at 70 ° C. for 1 hour in that state. The liquid crystal display element after heating is turned off for 5
After cooling for 30 minutes, a rectangular wave voltage of 30 Hz and a halftone voltage is applied by the function generator. Using an LCD EVALUATION SYSTEM (Photal), the flicker waveform obtained from the flicker appearance pulse data related to the display of the liquid crystal display element was converted to an oscilloscope 5460.
0A OSCILLOSCOPE (made by HEWLETT PACKARD)
FFT analyzer R9211C FFT SERVO ANALYZER (ADVANTES
(Company T) to measure the flicker strength. An offset voltage is applied by the function generator, and an offset voltage at a point where the flicker waveform completely disappears is measured to obtain a flicker elimination voltage (that is, a burn-in removal voltage). The image sticking is evaluated according to the following criteria. : Flicker erasing voltage is less than 50 mV ×: Flicker erasing voltage is 50 mV or more (Note) The degree of burn-in becomes more significant as the flicker erasing voltage becomes larger. Then, when the liquid crystal display element is used for a long time, burn-in occurs. The flicker erasing voltage is more preferably 20 mV or less.

【0088】通電後の表示状態の評価 液晶表示素子を作製する際に、液晶配向剤を塗布する前
の基板の片面に、膜厚2.0μmのカラーフィルタを形
成し、このカラーフィルタ上に液晶配向剤を塗布したの
ち、前記液晶表示素子の作製方法と同様にして、ネマテ
ィック型液晶「ZLI−5081」を用い、カラーフィ
ルタ付き液晶表示素子を作製した。次いで、この液晶表
示素子を100℃の恒温槽内に保持し、5Vの電圧を1
ヶ月間通電して、通電後の液晶表示素子の表示状態(表
示むらの有無)を、肉眼および偏光顕微鏡にて観察し、
下記基準で評価した。 ○ : 表示むらなし × : 表示むらあり
Evaluation of display state after energization When manufacturing a liquid crystal display element, a color filter having a thickness of 2.0 μm was formed on one surface of the substrate before applying a liquid crystal aligning agent. After applying the alignment agent, a liquid crystal display device with a color filter was manufactured using the nematic liquid crystal “ZLI-5081” in the same manner as in the method of manufacturing the liquid crystal display device. Next, the liquid crystal display device was held in a thermostat at 100 ° C.
After energizing for months, observe the display state of the liquid crystal display element after the energization (the presence or absence of display unevenness) with the naked eye and a polarizing microscope,
Evaluation was made according to the following criteria. ○: No display unevenness ×: Display unevenness

【0089】実施例1 (A)成分としてC.I.ピグメントレッド177を120
重量部、(B)成分としてメタクリル酸/ベンジルメタ
クリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共
重合重量比=25/65/10、Mw=55,000)
50重量部、(C)成分としてジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート40重量部、(D)成分として2,
2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール10
重量部と4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン10重量部、(E)成分として前記式(5)で表さ
れるエポキシ基含有化合物15重量部、および溶媒とし
てエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート8
00重量部を混合して、液状組成物を調製した。次い
で、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するシリカ(S
iO2)膜が形成されたソーダガラス製透明基板の表面上
に、画素パターンを形成する部分を区画するように遮光
層を設け、スピンコーターを用いて前記液状組成物を塗
布したのち、80℃で2分間プリベークを行なって、膜
厚1.5μmの塗膜を形成した。次いで、基板を冷却し
たのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介し
て、塗膜に波長365nm、405nmおよび436n
mの光を含む100mJ/cm2 の紫外線を1秒間露光
した。その後、基板を25℃の0.1重量%テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド水溶液中に1分間浸漬して
現像処理を行い、超純水で洗浄し、風乾して、各辺10
0μm×300μmの大きさの赤色の画素パターンが形
成された画素アレイを作製した。その後、220℃のク
リーンオーブン内で1時間ポストベークを行って、画素
パターンを硬化させて、赤色の画素パターンが形成され
たカラーフィルタを形成した。得られたカラーフィルタ
を用いて作製した液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、
焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結果を、表1に
示す。また、得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観
察したところ、画素パターンに欠落および欠損が認めら
れず、かつ基板上の画素パターンが形成されていない領
域に未溶解物の残存が認められなかった。また、得られ
た画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡で観察したと
ころ、アンダーカットは認められなかった。さらに、得
られた画素パターンの硬度を鉛筆硬度測定法により測定
したところ、3H以上であり、カラーフィルタとして充
分な硬度を有していた。
Example 1 CI Pigment Red 177 was used as the component (A).
Parts by weight, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer as component (B) (copolymerization weight ratio = 25/65/10, Mw = 55,000)
50 parts by weight, 40 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate as the component (C), 2,2 as the component (D)
2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole 10
Parts by weight, 10 parts by weight of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 15 parts by weight of the epoxy group-containing compound represented by the formula (5) as the component (E), and ethylene glycol monoethyl ether acetate 8 as a solvent
The liquid composition was prepared by mixing 00 parts by weight. Then, silica (S
iO 2 ) On a surface of a soda glass transparent substrate on which a film is formed, a light-shielding layer is provided so as to partition a portion where a pixel pattern is to be formed, and the liquid composition is applied using a spin coater, and then 80 ° C. For 2 minutes to form a coating film having a thickness of 1.5 μm. Next, after the substrate was cooled, wavelengths of 365 nm, 405 nm and 436 nm were applied to the coating film using a high-pressure mercury lamp through a photomask.
It was exposed to ultraviolet light of 100 mJ / cm 2 containing 1 m of light for 1 second. Thereafter, the substrate is immersed in a 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 25 ° C. for 1 minute to perform a developing treatment, washed with ultrapure water, air-dried, and dried on each side.
A pixel array in which a red pixel pattern having a size of 0 μm × 300 μm was formed. Thereafter, post-baking was performed in a clean oven at 220 ° C. for 1 hour to cure the pixel pattern, thereby forming a color filter on which a red pixel pattern was formed. Voltage holding ratio, pollution degree, of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter,
Table 1 shows the evaluation results of the display state after the burn-in and the energization. In addition, when the obtained color filter was observed with an optical microscope, no omission and no omission were observed in the pixel pattern, and no undissolved substance remained in a region where the pixel pattern was not formed on the substrate. When the cross section of the obtained pixel pattern was observed with a scanning electron microscope, no undercut was observed. Further, when the hardness of the obtained pixel pattern was measured by a pencil hardness measurement method, it was 3H or more, which was sufficient for a color filter.

【0090】実施例2 (A)成分としてC.I.ピグメントグリーン7を120重
量部用いた以外は、実施例1と同様にして、緑色の画素
パターンが形成されたカラーフィルタを形成した。得ら
れたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示素子の電
圧保持率、汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態の
評価結果を、表1に示す。また、得られたカラーフィル
タを光学顕微鏡で観察したところ、画素パターンに欠落
および欠損が認められず、かつ基板上の画素パターンが
形成されていない領域に未溶解物の残存が認められなか
った。また、得られた画素パターンの断面を走査型電子
顕微鏡で観察したところ、アンダーカットは認められな
かった。さらに、得られた画素パターンの硬度を鉛筆硬
度測定法により測定したところ、3H以上であり、カラ
ーフィルタとして充分な硬度を有していた。
Example 2 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that 120 parts by weight of CI Pigment Green 7 was used as the component (A). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter. In addition, when the obtained color filter was observed with an optical microscope, no omission and no omission were observed in the pixel pattern, and no undissolved substance remained in a region where the pixel pattern was not formed on the substrate. When the cross section of the obtained pixel pattern was observed with a scanning electron microscope, no undercut was observed. Further, when the hardness of the obtained pixel pattern was measured by a pencil hardness measurement method, it was 3H or more, which was sufficient for a color filter.

【0091】実施例3 (A)成分としてC.I.ピグメントブルー15:6を12
0重量部用いた以外は、実施例1と同様にして、青色の
画素パターンが形成されたカラーフィルタを形成した。
得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示素子
の電圧保持率、汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状
態の評価結果を、表1に示す。また、得られたカラーフ
ィルタを光学顕微鏡で観察したところ、画素パターンに
欠落および欠損が認められず、かつ基板上の画素パター
ンが形成されていない領域に未溶解物の残存が認められ
なかった。また、得られた画素パターンの断面を走査型
電子顕微鏡で観察したところ、アンダーカットは認めら
れなかった。さらに、得られた画素パターンの硬度を鉛
筆硬度測定法により測定したところ、3H以上であり、
カラーフィルタとして充分な硬度を有していた。
Example 3 CI Pigment Blue 15: 6 was added as a component (A) to 12
A color filter having a blue pixel pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that 0 part by weight was used.
Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter. In addition, when the obtained color filter was observed with an optical microscope, no omission and no omission were observed in the pixel pattern, and no undissolved substance remained in a region where the pixel pattern was not formed on the substrate. When the cross section of the obtained pixel pattern was observed with a scanning electron microscope, no undercut was observed. Further, when the hardness of the obtained pixel pattern was measured by a pencil hardness measurement method, it was 3H or more,
It had sufficient hardness as a color filter.

【0092】実施例4 (E)成分として前記式(4)で表される化合物を用い
た以外は、実施例2と同様にして、緑色の画素パターン
が形成されたカラーフィルタを形成した。得られたカラ
ーフィルタを用いて作製した液晶表示素子の電圧保持
率、汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結
果を、表1に示す。
Example 4 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that the compound represented by the formula (4) was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0093】実施例5 (E)成分として前記式(6)で表される化合物を用い
た以外は、実施例2と同様にして、緑色の画素パターン
が形成されたカラーフィルタを形成した。得られたカラ
ーフィルタを用いて作製した液晶表示素子の電圧保持
率、汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結
果を、表1に示す。
Example 5 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that the compound represented by the formula (6) was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0094】実施例6 (E)成分として前記式(10)で表される化合物を用
いた以外は、実施例2と同様にして、緑色の画素パター
ンが形成されたカラーフィルタを形成した。得られたカ
ラーフィルタを用いて作製した液晶表示素子の電圧保持
率、汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結
果を、表1に示す。
Example 6 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that the compound represented by the formula (10) was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0095】実施例7 (E)成分としてポリ(3−ビニルオキセタン)を用い
た以外は、実施例2と同様にして、緑色の画素パターン
が形成されたカラーフィルタを形成した。得られたカラ
ーフィルタを用いて作製した液晶表示素子の電圧保持
率、汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結
果を、表1に示す。
Example 7 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that poly (3-vinyloxetane) was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0096】実施例8 (E)成分としてエチレンジアミン四酢酸を用いた以外
は、実施例2と同様にして、緑色の画素パターンが形成
されたカラーフィルタを形成した。得られたカラーフィ
ルタを用いて作製した液晶表示素子の電圧保持率、汚染
度、焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結果を、表
1に示す。
Example 8 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that ethylenediaminetetraacetic acid was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0097】実施例9 (E)成分としてポリビニルアミンを用いた以外は、実
施例2と同様にして、緑色の画素パターンが形成された
カラーフィルタを形成した。得られたカラーフィルタを
用いて作製した液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、焼
き付きおよび通電後の表示状態の評価結果を、表1に示
す。
Example 9 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that polyvinylamine was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0098】実施例10 (E)成分としてメタクリル酸/スチレン/2−メタク
リロイルオキシエチルイソシアネート共重合体を用いた
以外は、実施例2と同様にして、緑色の画素パターンが
形成されたカラーフィルタを形成した。得られたカラー
フィルタを用いて作製した液晶表示素子の電圧保持率、
汚染度、焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結果
を、表1に示す。
Example 10 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that a methacrylic acid / styrene / 2-methacryloyloxyethyl isocyanate copolymer was used as the component (E). Formed. The voltage holding ratio of a liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter,
Table 1 shows the evaluation results of the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization.

【0099】実施例11 (E)成分としてクエン酸を用いた以外は、実施例2と
同様にして、緑色の画素パターンが形成されたカラーフ
ィルタを形成した。得られたカラーフィルタを用いて作
製した液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、焼き付きお
よび通電後の表示状態の評価結果を、表1に示す。
Example 11 A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that citric acid was used as the component (E). Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0100】実施例12 (E)成分として18−クラウン−6を用いた以外は、
実施例2と同様にして、緑色の画素パターンが形成され
たカラーフィルタを形成した。得られたカラーフィルタ
を用いて作製した液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、
焼き付きおよび通電後の表示状態の評価結果を、表1に
示す。
Example 12 Except that 18-crown-6 was used as the component (E),
In the same manner as in Example 2, a color filter having a green pixel pattern was formed. Voltage holding ratio, pollution degree, of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter,
Table 1 shows the evaluation results of the display state after the burn-in and the energization.

【0101】実施例13 (E)成分としてシリカゲル(商品名アエロジル200 、
日本アエロジル(株)製) を用いた以外は、実施例2と
同様にして、緑色の画素パターンが形成されたカラーフ
ィルタを形成した。得られたカラーフィルタを用いて作
製した液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、焼き付きお
よび通電後の表示状態の評価結果を、表1に示す。
Example 13 Silica gel (Aerosil 200, trade name) as the component (E)
A color filter having a green pixel pattern was formed in the same manner as in Example 2 except that Nippon Aerosil Co., Ltd. was used. Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0102】実施例14 実施例1と同様にして赤色の画素パターンが形成された
基板の該画素パターン上に、実施例2および実施例3と
同様にして、緑色および青色の画素パターンを順次形成
して、三色の画素パターンが形成されたカラーフィルタ
を形成した。得られたカラーフィルタを用いて作製した
液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、焼き付きおよび通
電後の表示状態の評価結果を、表1に示す。
Embodiment 14 Green and blue pixel patterns are sequentially formed on the substrate on which a red pixel pattern is formed in the same manner as in the first embodiment, in the same manner as in the second and third embodiments. Thus, a color filter on which three-color pixel patterns were formed was formed. Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0103】比較例1 (E)成分を用いなかった以外は、実施例1と同様にし
て、赤色の画素パターンが形成されたカラーフィルタを
形成した。得られたカラーフィルタを用いて作製した液
晶表示素子の電圧保持率、汚染度、焼き付きおよび通電
後の表示状態の評価結果を、表1に示す。
Comparative Example 1 A color filter having a red pixel pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the component (E) was not used. Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0104】比較例2 (E)成分を用いなかった以外は、実施例14と同様に
して、三色の画素パターンが形成されたカラーフィルタ
を形成した。得られたカラーフィルタを用いて作製した
液晶表示素子の電圧保持率、汚染度、焼き付きおよび通
電後の表示状態の評価結果を、表1に示す。
Comparative Example 2 A color filter having a pixel pattern of three colors was formed in the same manner as in Example 14 except that the component (E) was not used. Table 1 shows the evaluation results of the voltage holding ratio, the degree of contamination, the burn-in, and the display state after energization of the liquid crystal display element manufactured using the obtained color filter.

【0105】[0105]

【表1】 [Table 1]

【0106】[0106]

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ用感放射線性組
成物は、電圧保持率の低下および焼き付き・配向不良を
生じることがなく、かつ通電後の表示状態も優れてお
り、信頼性の高い液晶表示素子をもたらすことができ
る。しかも、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成
物を用いて形成されたカラーフィルターは、画素パター
ンの欠落・欠損およびアンダーカットを生じることがな
く、また基板上の画素パターンが形成されていない領域
に未溶解物が残存することがなく、かつ充分な硬度を有
するものである。
EFFECTS OF THE INVENTION The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention does not cause a reduction in voltage holding ratio, image sticking or poor alignment, and has an excellent display state after energization. A display element can be provided. In addition, the color filter formed using the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention does not cause any dropout / deletion or undercut of the pixel pattern, and the area where the pixel pattern is not formed on the substrate. No undissolved matter remains and has sufficient hardness.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 7/032 501 7/032 501 (72)発明者 渡邉 毅 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA04 AA13 AB13 AC01 AC04 AD01 BC12 BC14 BC42 BC43 BC51 BC82 BJ00 CA00 CA02 CA14 CA28 CB06 CB07 CB25 CB43 CB45 CB52 CC08 CC11 CC12 CC17 CC20 2H048 BA45 BA48 4H003 DA12 DA15 DB03 EB30 FA12Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court II (Reference) G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 7/032 501 7/032 501 (72) Inventor Takeshi Watanabe Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo F-term (reference) 2-11-0224 JSR Corporation 2H025 AA00 AA04 AA13 AB13 AC01 AC04 AD01 BC12 BC14 BC42 BC43 BC51 BC82 BJ00 CA00 CA02 CA14 CA28 CB06 CB07 CB25 CB43 CB45 CB52 CC08 CC11 CC12 CC45 DA12 DA15 DB03 EB30 FA12

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹
脂、(C)多官能性単量体および(D)光重合開始剤を
含有し、下記式〔I〕で定義される汚染度が0.15以
下であることを特徴とするカラーフィルター用感放射線
性組成物。 汚染度=(X−Y)/X ...〔I〕 (但し、Xは、ガラス基板の片面上にITO膜を形成し
た基板を用いてネマティック型液晶を注入した液晶表示
素子の測定温度60℃およびフレーム周期500ミリ秒
における電圧保持率であり、Yは、ガラス基板の片面上
に感放射線性組成物を塗布してベークしたのち、さらに
ITO膜を形成した基板を用いて、同じネマティック型
液晶を注入した液晶表示素子の測定温度60℃およびフ
レーム周期500ミリ秒における電圧保持率である。)
1. A pollution degree defined by the following formula [I], comprising (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator. Is 0.15 or less, the radiation-sensitive composition for a color filter. Pollution degree = (X−Y) / X (I) (where X is the measurement temperature 60 of a liquid crystal display element in which a nematic liquid crystal is injected using a substrate having an ITO film formed on one surface of a glass substrate). ° C and a voltage holding ratio at a frame period of 500 milliseconds. Y is the same nematic type using a substrate on which a radiation-sensitive composition is applied on one side of a glass substrate, baked, and then an ITO film is formed. This is the voltage holding ratio at a measurement temperature of 60 ° C. and a frame period of 500 milliseconds of the liquid crystal display element into which liquid crystal is injected.)
【請求項2】 (E)エポキシ基含有化合物、オキセタ
ン環含有化合物、アミノ基含有化合物、アミノ基置換カ
ルボン酸化合物、イソシアネート基含有化合物、クラウ
ンエーテル化合物、前記以外の有機キレート化剤、ポリ
ビニルアルコール、ポリエチレングリコールまたはポリ
イミドからなる有機化合物並びに体質顔料、充填剤また
はポリりん酸からなる無機化合物の群から選ばれる少な
くとも1種の成分をさらに含有する請求項1記載のカラ
ーフィルター用感放射線性組成物。
2. (E) an epoxy group-containing compound, an oxetane ring-containing compound, an amino group-containing compound, an amino group-substituted carboxylic acid compound, an isocyanate group-containing compound, a crown ether compound, an organic chelating agent other than the above, polyvinyl alcohol, The radiation-sensitive composition for a color filter according to claim 1, further comprising at least one component selected from the group consisting of an organic compound composed of polyethylene glycol or polyimide and an inorganic compound composed of an extender, a filler, or polyphosphoric acid.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002365798A (en) * 2001-06-12 2002-12-18 Sumitomo Chem Co Ltd Colored photosensitive resin composition
US6600532B2 (en) 2000-01-25 2003-07-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and liquid crystal display subject to impurity extraction treatment for voltage holding ratio of 80% or more
JP2005221804A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd Method for manufacturing coloring material for color filter,coloring material for color filter manufactured by the method and color filter
JP2005248137A (en) * 2004-03-05 2005-09-15 Shiyoufuu:Kk Hardenable composition containing clathrate compound
JP2006098947A (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Dainippon Printing Co Ltd Color filter and display apparatus using same
JP2007101673A (en) * 2005-09-30 2007-04-19 Nippon Zeon Co Ltd Photosensitive resist composition and method for producing substrate
JP2009116316A (en) * 2007-10-19 2009-05-28 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for colored layer formation, color filter and liquid crystal display element
JP2010537954A (en) * 2007-09-03 2010-12-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Calamitic mesogenic compounds
US7919550B2 (en) 2001-09-14 2011-04-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Encapsulant of epoxy group-containing (meth)acrylic polymer, anhydride and (meth)acrylic monomer
JP2011090313A (en) * 2010-11-11 2011-05-06 Toyo Ink Mfg Co Ltd Method for producing coloring material for color filter, coloring material for color filter produced by the method, and color filter
JP2011100135A (en) * 2010-11-11 2011-05-19 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Method for manufacturing coloring material for color filter, coloring material for the color filter manufactured by the method, and the color filter
WO2012083776A1 (en) * 2010-12-23 2012-06-28 Byd Company Limited Photoresist composition, led device and method of preparing the same
KR20180085927A (en) 2017-01-20 2018-07-30 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and display device having the same
JP2019086555A (en) * 2017-11-02 2019-06-06 東洋インキScホールディングス株式会社 Coloring composition for color filter and color filter

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6600532B2 (en) 2000-01-25 2003-07-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and liquid crystal display subject to impurity extraction treatment for voltage holding ratio of 80% or more
JP2002365798A (en) * 2001-06-12 2002-12-18 Sumitomo Chem Co Ltd Colored photosensitive resin composition
US7919550B2 (en) 2001-09-14 2011-04-05 Sumitomo Chemical Company, Limited Encapsulant of epoxy group-containing (meth)acrylic polymer, anhydride and (meth)acrylic monomer
JP2005221804A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd Method for manufacturing coloring material for color filter,coloring material for color filter manufactured by the method and color filter
JP2005248137A (en) * 2004-03-05 2005-09-15 Shiyoufuu:Kk Hardenable composition containing clathrate compound
JP2006098947A (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Dainippon Printing Co Ltd Color filter and display apparatus using same
JP4531511B2 (en) * 2004-09-30 2010-08-25 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of color filter
JP2007101673A (en) * 2005-09-30 2007-04-19 Nippon Zeon Co Ltd Photosensitive resist composition and method for producing substrate
JP2010537954A (en) * 2007-09-03 2010-12-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Calamitic mesogenic compounds
US8697199B2 (en) 2007-09-03 2014-04-15 Merck Patent Gmbh Calamitic mesogenic compounds
JP2009116316A (en) * 2007-10-19 2009-05-28 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for colored layer formation, color filter and liquid crystal display element
KR101495916B1 (en) 2007-10-19 2015-02-25 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter and liquid crystal display device
JP2011090313A (en) * 2010-11-11 2011-05-06 Toyo Ink Mfg Co Ltd Method for producing coloring material for color filter, coloring material for color filter produced by the method, and color filter
JP2011100135A (en) * 2010-11-11 2011-05-19 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Method for manufacturing coloring material for color filter, coloring material for the color filter manufactured by the method, and the color filter
WO2012083776A1 (en) * 2010-12-23 2012-06-28 Byd Company Limited Photoresist composition, led device and method of preparing the same
CN102540721A (en) * 2010-12-23 2012-07-04 比亚迪股份有限公司 Photoresist composition and method for preparing fluorescent layer on surface of light emitting diode (LED)
KR20180085927A (en) 2017-01-20 2018-07-30 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and display device having the same
JP2019086555A (en) * 2017-11-02 2019-06-06 東洋インキScホールディングス株式会社 Coloring composition for color filter and color filter
JP7030261B2 (en) 2017-11-02 2022-03-07 東洋インキScホールディングス株式会社 Coloring compositions and color filters for color filters

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