JP2003002965A - エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、及び、金属張積層板 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、及び、金属張積層板Info
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Abstract
サイドの反応率がより高いエポキシ樹脂組成物、及び、
このエポキシ樹脂組成物を用いたプリプレグ、金属張積
層板を提供する。 【解決手段】 エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂
と、ポリフェニレンオキサイドとフェノール化合物を反
応開始剤の存在下で再分配反応させて得られた数平均分
子量が1000〜4000のフェノール変成してなるポ
リフェニレンオキサイドと、硬化剤とを含有するエポキ
シ樹脂組成物であって、上記反応開始剤が分解してアル
コールを生成するものである。
Description
ポリフェニレンオキサイドとフェノール化合物を反応開
始剤の存在下で再分配反応させて得られるフェノール変
成してなるポリフェニレンオキサイドと、硬化剤とを含
有するエポキシ樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、
及びそのプリプレグを用いた金属張積層板に関し、具体
的には、プリント配線基板等の絶縁基板の材料として用
いられるエポキシ樹脂組成物、それを用いたプリプレ
グ、及びそのプリプレグを用いた金属張積層板に関する
ものである。
しては、エポキシ樹脂組成物が汎用されている。半導体
等の電子部品の高集積化に伴い、優れた誘電率等の高周
波特性や高いガラス転移温度を有する絶縁基板の材料と
して、エポキシ樹脂に、ポリフェニレンオキサイドとフ
ェノール化合物を反応開始剤の存在下で再分配反応させ
て得られた数平均分子量が1000〜3000のフェノ
ール変成してなるポリフェニレンオキサイドと、硬化剤
とを含有させたエポキシ樹脂組成物が、特開平9−29
1148号公報等で知られている。上記フェノール変成
してなるポリフェニレンオキサイドは、数平均分子量が
10000〜30000の高分子のポリフェニレンオキ
サイドを再分配反応させて数平均分子量が1000〜3
000に調製されるものである。
においては、反応開始剤の反応によって、反応性が低い
変成ポリフェニレンオキサイドが生成されることがあ
る。この変成ポリフェニレンオキサイドが存在すると、
得られる製品の品質にばらつきを生じる恐れがある。そ
のため、エポキシ樹脂組成物の反応率がより向上するこ
とが望まれている。
ポキシ樹脂組成物が用いられるプリント配線板は、ます
ます多層化されている。多層化したプリント配線板の作
製にあたっては、熱処理を行うため、より良好なガラス
転移温度の材料やより低膨張率の材料が求められてい
る。
で、その目的とするところは、エポキシ樹脂と、フェノ
ール変成してなるポリフェニレンオキサイドと、硬化剤
とを含有するエポキシ樹脂組成物において、硬化反応時
の反応率がより高いエポキシ樹脂組成物、及び、このエ
ポキシ樹脂組成物を用いたプリプレグ、及び金属張積層
板を提供することにある。
は、ガラス転移温度がより良好な金属張積層板を得るこ
とのできるエポキシ樹脂組成物を提供することにある。
は、より低膨張率な金属張積層板を得ることのできるエ
ポキシ樹脂組成物を提供することにある。
は、金属張積層板において、より低誘電率、低誘電正接
を実現できるエポキシ樹脂組成物を提供することにあ
る。
達成するために鋭意研究を重ねた結果、式(1)、式
(2)、式(3)等で表される特定の反応開始剤を用い
ることによって、エポキシ樹脂組成物の反応率が向上す
ること、また、この反応開始剤を用いたフェノール変成
してなるポリフェニレンオキサイドを構成材料としたエ
ポキシ樹脂組成物で作製した絶縁基板は、ガラス転移温
度がより良好であると共に、より低膨張率、低誘電特性
であることを見出し、それを基に本発明の完成に至った
ものである。さらに、本発明者は、研究を重ねた結果、
式(1)、式(2)、式(3)等で表される特定の反応
開始剤の存在下で再分配反応させて得られたフェノール
変成してなるポリフェニレンオキサイドは、数平均分子
量が4000以下であればプリント配線基板を作製した
際に特性の低下を招かないことを見出し、それを基に本
発明の完成に至ったものである。
るポリフェニレンオキサイドの数平均分子量は、ゲル浸
透クロマトグラフィーを用いて分子量分布を測定して得
られるものである。
ポキシ樹脂と、ポリフェニレンオキサイドとフェノール
化合物を反応開始剤の存在下で再分配反応させて得られ
た、数平均分子量が1000〜4000のフェノール変
成してなるポリフェニレンオキサイドと、硬化剤とを含
有するエポキシ樹脂組成物であって、上記反応開始剤が
分解してアルコールを生成するものであることを特徴と
する。
求項1記載のエポキシ樹脂組成物において、上記生成す
るアルコールが脂肪族アルコールであることを特徴とす
る。
求項1又は請求項2記載のエポキシ樹脂組成物におい
て、上記生成するアルコールの沸点が150℃以下であ
ることを特徴とする。
求項1乃至請求項3いずれか記載のエポキシ樹脂組成物
において、上記反応開始剤が下記式(1)で表されるも
のであることを特徴とする。
でも異種でもよい。)請求項5記載のエポキシ樹脂組成
物は、請求項1乃至請求項3いずれか記載のエポキシ樹
脂組成物において、上記反応開始剤が下記式(2)で表
されるものであることを特徴とする。
でも異種でもよい。)請求項6記載のエポキシ樹脂組成
物は、請求項5記載のエポキシ樹脂組成物において、式
(2)で表される反応開始剤が、t−ブチルペルオキシ
イソプロピルモノカーボネートであることを特徴とす
る。上記によって、副生成物としてt−ブチルアルコー
ル、イソプロパノール、及び、二酸化炭素を生成する
が、これらは比較的低温で蒸発するので、最終生成物と
して残存しないので、未反応物がより少ないものであ
る。
求項1乃至請求項3いずれか記載のエポキシ樹脂組成物
において、上記反応開始剤が下記式(3)で表されるも
のであることを特徴とする。
3又はHを示す。) 請求項8記載のエポキシ樹脂組成物は、請求項1乃至請
求項7いずれか記載のエポキシ樹脂組成物において、上
記再分配反応が反応開始剤とともに触媒存在下で行われ
ることを特徴とする。
求項8記載のエポキシ樹脂組成物において、上記触媒
が、ナフテン酸コバルトであることを特徴とする。
請求項8又は請求項9記載のエポキシ樹脂組成物におい
て、上記触媒の配合量が、ポリフェニレンオキサイド1
00重量部に対し、0.001〜0.01重量部の範囲
であることを特徴とする。
乃至請求項10いずれか記載のエポキシ樹脂組成物を基
材に含浸し、この組成物を半硬化してなるものである。
11記載のプリプレグと金属箔とが重ねられ、そのプリ
プレグ中の組成物が硬化されているものである。上記に
よって、上述の反応開始剤を用いてフェノール変成して
なるポリフェニレンオキサイドを作製しているため未反
応物が少ないので、上記金属張積層板は、ガラス転移温
度がより良好であると共に、より低膨張率であり、より
低誘電率、低誘電正接となっているものである。
1の実施の形態について説明する。上記エポキシ樹脂組
成物は、エポキシ樹脂と、ポリフェニレンオキサイドと
フェノール化合物を反応開始剤の存在下で再分配反応さ
せて得られた数平均分子量が1000〜4000のフェ
ノール変成してなるポリフェニレンオキサイドと、硬化
剤とを含有するものである。
ノール変成してなるポリフェニレンオキサイドは、数平
均分子量が10000〜30000の高分子のポリフェ
ニレンオキサイドを再分配反応させて数平均分子量が1
000〜4000に調製されるものである。上記フェノ
ール変成してなるポリフェニレンオキサイドの数平均分
子量が、1000未満であると、得られる金属張積層板
の耐熱性が低下し易く、上記数平均分子量が4000を
超えると、プリプレグ中の溶融粘度が高すぎて、金属張
積層板を製造する際にプリプレグの接着不良が生じて金
属張積層板の作製が困難となる恐れがある。また、より
好ましいフェノール変成してなるポリフェニレンオキサ
イドの数平均分子量は、1000〜3000である。
合物としては、ビスフェノール、あるいは、ノボラック
フェノールが挙げられる。
を用いる場合は、ポリフェニレンオキサイドとビスフェ
ノールAを加熱溶融した後に、反応開始剤を配合して再
分配反応させて、フェノール変成ポリフェニレンオキサ
イドを作製することができる。なお、ビスフェノールA
の配合量は、ポリフェニレンオキサイド100重量部に
対して1〜10重量部が適量である。
は、再分配反応時に分解してアルコールを生成するもの
であり、このアルコールは、200℃以下で揮発するも
のが好ましい。また、アルコールの沸点は、より好まし
くは150℃以下、特に好ましくは100℃以下であ
る。このアルコールは、最終生成物として残存すること
が少ないものである。上記アルコールとしては、例え
ば、脂肪族アルコールが挙げられる。
が、再分配反応時に分解してアルコールを生成するの
で、後工程で加熱をしたときにアルコールが蒸発し易
く、エポキシ樹脂の架橋性を損なうことがなく、反応率
が向上し、架橋密度が高くなるものである。一方、反応
開始剤が、ベンゾイルパーオキサイドのように再分配反
応時に分解してアルコールを生成するものでない場合、
この分解生成物は、一般に沸点が高い。例えば、ベンゾ
イルパーオキサイドは、分解生成物として沸点が約24
9℃の安息香酸を生成する。このようなエポキシ樹脂組
成物は、後工程で加熱されたときに分解生成物が蒸発し
にいため、エポキシ樹脂組成物の硬化反応時にエポキシ
基と分解生成物が反応してしまい、エポキシ樹脂の架橋
性が低下して、反応率が低下したり、架橋密度が低下し
てしまう。
表される化合物、上記式(2)で表される化合物、及
び、上記式(3)で表される化合物を好ましく挙げるこ
とができる。上記式(1)、式(2)、及び、式(3)
において、R、R'、R1、R3、R4におけるアルキル基
としては、炭素数1〜12のアルキル基が好ましく、よ
り好ましくは炭素数3〜6のアルキル基である。
存在下で行われることが好ましい。上記式(2)で表さ
れる反応開始剤としては、具体的には、下記式(4)で
表されるt−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボ
ネートが挙げられる。t−ブチルペルオキシイソプロピ
ルモノカーボネートを用いた場合、副生成物としてt−
ブチルアルコール、イソプロパノール、及び、二酸化炭
素を生成するが、これらは比較的低温で蒸発するため、
最終生成物として残存しないので、未反応物がより少な
いものである。このフェノール変成してなるポリフェニ
レンオキサイドを用いると、エポキシ樹脂組成物の反応
率は向上し、また、このエポキシ樹脂組成物を用いた金
属張積層板のガラス転移温度が上昇する。
応開始剤の再分配反応時の配合量は、ポリフェニレンオ
キサイド100重量部に対して1〜10重量部が適量で
ある。
は、ナフテン酸、ステアリン酸、酢酸等の有機酸の金属
塩(例えば、Co、Mn、Zn)が挙げられる。触媒と
して、具体的には、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸
マンガン、酢酸コバルト等の有機酸金属塩が挙げられ
る。上記触媒の配合量は、ポリフェニレンオキサイド1
00重量部に対し、0.001〜0.01重量部の範囲
であることが好適である。
フェノールを用いた変成ポリフェニレンオキサイドは、
ポリフェニレンオキサイドとノボラックフェノールを加
熱溶融した後に、反応開始剤を配合して再分配反応させ
て、作製することができる。なお、ノボラックフェノー
ルの配合量は、ポリフェニレンオキサイド100重量部
に対して5〜10重量部が適量である。上記反応開始剤
としては、上述と同様のものを用いることができる。ま
た、上記反応開始剤の配合量も上述と同様に使用するこ
とが好ましい。
を製造する再分配反応の条件としては、例えば、トルエ
ン、ベンゼン、キシレン等の有機溶媒を用い、上記ポリ
フェニレンオキサイドと、ビスフェノールA又はノボラ
ックフェノール等のフェノール化合物と、反応開始剤を
撹拌しながら、80〜100℃で10〜100分程度加
熱して行う。
キシ樹脂としては、金属張積層板に用いられる各種のエ
ポキシ樹脂が用いられ、例えば、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、イ
ソシアヌレート型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキ
シ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹
脂、多官能エポキシ樹脂、及び、これらエポキシ樹脂を
ブロム化したエポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹
脂の組成物中の配合量は、変成ポリフェニレンオキサイ
ドとエポキシ樹脂の合計100重量部に対して40〜7
0重量部が適量である。
剤としては、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレ
ンジアミン、トリレンジアミン、アンモニア、トリエチ
ルアミン、ジエチルアミン等のアミン系硬化剤が挙げら
れる。硬化剤の組成物中の配合量は、変成ポリフェニレ
ンオキサイドとエポキシ樹脂の合計100重量部に対し
て1〜5重量部が適量である。
進するために、硬化促進剤の添加が現実的である。上記
硬化促進剤としては、例えば、2−メチルイミダゾー
ル、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニ
ルイミダゾール等のイミダゾール類、1,8−ジアザ−
ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、トリエチレン
ジアミン、ベンジルジメチルアミン等の三級アミン類等
が挙げられる。硬化促進剤の組成物中の配合量は、変成
ポリフェニレンオキサイドとエポキシ樹脂の合計100
重量部に対して0.1〜1重量部が適量である。
の実施の形態について説明する。上記エポキシ樹脂組成
物と異なる点のみ説明する。エポキシ樹脂組成物は、フ
ェノール変成してなるポリフェニレンオキサイドが、ポ
リフェニレンオキサイドとフェノール化合物を反応開始
剤の存在下で再分配反応させて得られた数平均分子量が
1000〜4000のフェノール変成してなるものであ
り、さらに、この再分配反応に用いられる反応開始剤
が、上記式(3)で表されるものである。上記式(3)
で表される反応開始剤としては、具体的には、下記式
(5)で表される1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキ
シ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサンが挙げられ
る。上記1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)3,
3,5−トリメチルシクロヘキサンを用いた場合、2メ
チル―2―ペンタノールが生成される。この2メチル―
2―ペンタノールは、沸点が121℃と比較的低温で蒸
発するアルコールであるため、最終生成物に残存しない
ので、未反応物がより少ないものである。
ると、エポキシ樹脂組成物は、反応率が向上し、また、
このエポキシ樹脂組成物を用いた絶縁基板のガラス転移
温度が上昇する。
は、フェノール変成してなるポリフェニレンオキサイド
が特定の反応開始剤(好ましくは、上記式(1)〜
(3)で示される化合物)の存在下で再分配反応をさせ
て得られたものであるので、反応率の高いものである。
樹脂組成物を基材に含浸させ、この含浸したエポキシ樹
脂組成物を半硬化させたものである。
織布等のガラス基材が挙げられる。上記プリプレグを得
る方法としては、例えば、トルエン等の溶剤で希釈した
エポキシ樹脂組成物中に基材を浸漬して含浸させた後、
加熱して溶剤の除去や、エポキシ樹脂組成物を80〜1
80℃の温度で加熱して半硬化させて製造することがで
きる。基材に含浸する樹脂量は、特に限定しないが、乾
燥後の樹脂含有量が、プリプレグの重量に対して30〜
70重量%となるように含浸することが好適である。な
お、含浸時にエポキシ樹脂組成物を25〜50℃に保つ
と、基材への含浸性を安定させることができ、金属張積
層板の特性を良好にすることができる。また、エポキシ
樹脂組成物を含浸後、乾燥するに当たっては、80〜1
80℃の温度が好ましい。
レグと金属箔とが重ねられ、そのプリプレグ中の組成物
が硬化されているものである。上記金属張積層板は、上
記プリプレグの所定枚数と銅箔等の金属箔を重ねて被圧
体とし、この被圧体を加熱・加圧して積層板を製造する
ことができる。上記金属箔としては、銅箔、アルミニウ
ム箔等が用いられる。ここで、変成ポリフェニレンオキ
サイドとエポキシ樹脂とエポキシ樹脂の硬化剤の架橋反
応は、主としてエポキシ樹脂の硬化剤の反応温度に依
存」するため、エポキシ樹脂の硬化剤の種類に応じて、
加熱温度、加熱時間を選ぶとよい。また、加圧は、得ら
れる金属張積層板中に気泡が残留しない程度の圧力に適
宜調整して行うとよい。なお、製造条件としては、例え
ば、温度150〜300℃、圧力1〜6MPa、時間1
0〜120分程度の条件が挙げられる。
特定の反応開始剤を用いたフェノール変成してなるポリ
フェニレンオキサイドを構成材料とするエポキシ樹脂組
成物で作製しているので、ガラス転移温度がより良好
で、且つ、より低膨張率であり、低誘電率及び低誘電正
接を有する積層板となっている。
量の検討実験)フェノール変成してなるポリフェニレン
オキサイドを作製するに際し、反応開始剤の種類と再分
配反応させて得られる数平均分子量について、以下のよ
うな検討をした。これは、ポリフェニレンオキサイド
(数平均分子量20000)を36質量部(以下部と記
す)とビスフェノールAを4部と、反応開始剤を所定量
(表1に記す)と溶媒にトルエン70部とを用いて、9
0℃で90分再分配反応させた場合で検討したものであ
る。反応開始剤は、上記式(4)で表されるt−ブチル
ペルオキシイソプロピルモノカーボネート[t―But
yl peroxyisopropyl monoca
rbonate]、上記式(5)で表される1,1−ビ
ス(t−ヘキシルペルオキシ)3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン[1,1−Bis(t―hexylpe
roxy)3,3,5−trimethylcyclo
hexane]、下記式(6)で表される1,1―ビス
(tブチルペルオキシ)2,―メチルシクロヘキサン
[1,1―Bis―(t―butylperoxy)―
2―methylcyclohexane]、下記式
(7)で表されるtブチルペルオキシベンゾエイト[t
―Butyl peroxy benzoate]、下
記式(8)で表されるジクミルペルオキサイド[DiC
umyl peroxide]、下記式(9)で表され
るジt―ブチルペルオキサイド[Di―t―butyl
peroxide]、下記式(10)で表されるクメ
ンヒドロペルオキサイド[Cumene hydrop
eroxide]を用いた。また、反応生成物の数平均
分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー[HLC−81
20:東ソー株式会社製]を用いて測定した。表1中で
未反応物は、数平均分子量が10000以上のものを示
す。
件で行う場合、反応開始剤は、上記式(4)で表される
t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、
上記式(5)で表される1,1−ビス(t−ヘキシルペ
ルオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、上
記式(6)で表される1,1―ビス(tブチルペルオキ
シ)2,―メチルシクロヘキサン、上記式(7)で表さ
れるtブチルペルオキシベンゾエイトが好適である。な
かでも、上記式(4)で表されるt−ブチルペルオキシ
イソプロピルモノカーボネート、上記式(5)で表され
る1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、は、副生成物が比較的低
温で蒸発すること、及び、反応後の分子量の制御が容易
であることから好適なものであるという結果が得られ
た。上記式(8)〜(10)で示される化合物は、半減
期温度が高いので、本実験の条件では反応しなかった
が、反応時間を延ばし、反応温度を上げれば反応するも
のである。
のような実施例及び比較例を行って、本発明の効果を確
認した。
るポリフェニレンオキサイドを作製した。ポリフェニレ
ンオキサイド[日本G.E.プラスチック株式会社製]
(数平均分子量:20000)を100部、ビスフェノ
ールA[ブロモケム株式会社製]を8部配合して加熱溶
融した後に、上記式(2)で表される反応開始剤として
上記式(4)で表されるt−ブチルペルオキシイソプロ
ピルモノカーボネート[日本油脂株式会社製]を4部
と、触媒としてナフテン酸コバルト[ナカライテスク株
式会社製]を0.007部添加して加熱しながら攪拌し
(温度90℃、時間90分)、再分配反応させた。この
反応生成物の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ
ィー[HLC−8120:東ソー株式会社製]を用いて
測定したところ、1900であった。
ェニレンオキサイドを100部、エポキシ樹脂としてブ
ロム化したビスフェノールA型エポキシ樹脂[日本化薬
株式会社製、品名BREN−S]を190部、硬化剤と
してアミン化合物[エタキュア:油化シェル株式会社
製]を3部、硬化促進剤として2−エチル−4−メチル
イミダゾール[四国化成株式会社製]を1部配合し、室
温で30分攪拌してエポキシ樹脂組成物を得た。
ル変成してなるポリフェニレンオキサイドを作製した。
ポリフェニレンオキサイド[日本G.E.プラスチック
株式会社製]を100部、ビスフェノールA[ブロモケ
ム株式会社製]を4部配合して加熱溶融した後に、上記
式(2)で表される反応開始剤として上記式(4)で表
されるt−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネ
ート[日本油脂株式会社製]を3部と、触媒としてナフ
テン酸コバルト[ナカライテスク株式会社製]を0.0
07部添加して加熱しながら攪拌し、再分配反応させ
た。この反応生成物の数平均分子量は、3260であっ
た。このフェノール変成したポリフェニレンオキサイド
を用いた以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂組
成物を得た。
ル変成してなるポリフェニレンオキサイドを作製した。
ポリフェニレンオキサイド[日本G.E.プラスチック
株式会社製]を100部、ビスフェノールA[ブロモケ
ム株式会社製]を4部配合して加熱溶融した後に、上記
式(3)で表される反応開始剤として上記式(5)で表
される1,1−ビス(t−ヘキシルペルオキシ)3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン[日本油脂株式会社
製]を10.5部添加して加熱しながら攪拌し、再分配
反応させた。この反応生成物の数平均分子量は、ゲル浸
透クロマトグラフィー[HLC−8120:東ソー株式
会社製]を用いて測定したところ、2900であった。
このフェノール変成したポリフェニレンオキサイドを用
いた以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物
を得た。
パーオキサイドを用いてフェノール変成してなるポリフ
ェニレンオキサイドを作製した。ポリフェニレンオキサ
イド[日本G.E.プラスチック株式会社製]を100
部、ビスフェノールA[ブロモケム株式会社製]を4部
配合して加熱溶融した後に、ベンゾイルパーオキサイド
(BPOと記す)を4部添加して加熱しながら攪拌し
(温度90℃、時間90分)、再分配反応させた。この
反応生成物の数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ
ィー[HLC−8120:東ソー株式会社製]を用いて
測定したところ、3000であった。このフェノール変
成したポリフェニレンオキサイドを用いた以外は、実施
例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物を得た。
[日本G.E.プラスチック株式会社製]を100部、
ビスフェノールA[ブロモケム株式会社製]を20部配
合して加熱溶融した後に、上記式(2)で表される反応
開始剤として上記式(4)で表されるt−ブチルペルオ
キシイソプロピルモノカーボネート[日本油脂株式会社
製]を4.5部と、触媒としてナフテン酸コバルト[ナ
カライテスク株式会社製]を0.01部添加して加熱し
ながら攪拌し、再分配反応させた。この反応生成物の数
平均分子量は、890であった。このフェノール変成し
たポリフェニレンオキサイドを用いた以外は、実施例1
と同様にしてエポキシ樹脂組成物を得た。
[日本G.E.プラスチック株式会社製]を100部、
ビスフェノールA[ブロモケム株式会社製]を1部配合
して加熱溶融した後に、上記式(2)で表される反応開
始剤として上記式(4)で表されるt−ブチルペルオキ
シイソプロピルモノカーボネート[日本油脂株式会社
製]を1.1部と、触媒としてナフテン酸コバルト[ナ
カライテスク株式会社製]を0.003部添加して加熱
しながら攪拌し、再分配反応させた。この反応生成物の
数平均分子量は、8600であった。このフェノール変
成したポリフェニレンオキサイドを用いた以外は、実施
例1と同様にしてエポキシ樹脂組成物を得た。
3のエポキシ樹脂組成物を用いて、プリプレグ、及び、
評価用の金属張積層板を作製した。得られたエポキシ樹
脂組成物を、厚み0.1mmのガラス繊維クロス[旭シ
ュエーベル株式会社製、商品名2116L]に含浸し、
150℃で6分間乾燥して樹脂含有率43重量%のプリ
プレグを得た。上記プリプレグを8枚重ね、両面に18
μmの銅箔[日鉱グールドフォイル株式会社製、商品名
JTC]を配置して被圧体とし、温度200℃、圧力2
MPaの条件で100分加熱・加圧して両面に銅箔が接
着された厚み0.75〜0.80mmの積層板を製造し
た。
は、加熱・加圧したところ、接着不良が生じて金属張積
層板の作製ができなかった。
反応率は、プリプレグより落とした樹脂粉を、200℃
2時間で加熱硬化させた後に、粉砕して熱クロロホルム
で抽出した。この抽出量に基づいて反応率を算出した。
板を用い、熱膨張率(α)、ガラス転移温度(Tg)を
測定した。熱膨張率(α)、及び、ガラス転移温度(T
g)の測定は、JIS−C6481に基づいて行った。
上記熱膨張率(α)は、TMA(TAS100:リガク
株式会社製)を用い、厚み方向(Z方向)の線膨張率を
測定した。この測定条件は、荷重0.005N、昇温速
度5℃/min、温度25℃から250℃までで行い、
得られた線膨張率チャートから75〜125℃間の平均
線膨張率を算出した。また、上記ガラス転移温度(T
g)は、上記線膨張率チャートの変極点から求めた。
張積層板を用い、比誘電率、誘電正接、耐熱性を測定し
た。比誘電率、誘電正接は、JIS―C―6481に基
づいて測定した。耐熱性は、250℃又は260℃のオ
ーブンに30分間放置し、ふくれ等異常がないかを目視
で観察し、異常の無いものを○、ふくれ等が発生したも
のを×とした。
はいずれも、比較例に比べ反応率が高いものであった。
また、実施例はいずれも、比較例に比べ熱膨張率
(α)、及び、ガラス転移温度(Tg)も良好であっ
た。また、実施例1、2は、比較例1、2に比べ低誘電
特性を有するものであった。
ール変成してなるポリフェニレンオキサイドが特定の反
応開始剤の存在下で再分配反応をさせて調製したものを
用いるので、反応率の高いものである。また、このエポ
キシ樹脂組成物を用いると、ガラス転移温度がより良好
であると共に、より低膨張率であり、より低誘電特性を
有する金属張積層板が得られる。
の存在下で再分配反応をさせて調製したフェノール変成
してなるポリフェニレンオキサイドを構成材料とするエ
ポキシ樹脂組成物で作製しているので、ガラス転移温度
がより良好であると共に、より低膨張率であり、より低
誘電特性を有する金属張積層板を得ることができるもの
である。
剤の存在下で再分配反応をさせて調製したフェノール変
成してなるポリフェニレンオキサイドを構成材料とする
エポキシ樹脂組成物で作製したプリプレグを用いるの
で、ガラス転移温度がより良好であると共に、より低膨
張率であり、より低誘電特性を有する基板となってい
る。
Claims (12)
- 【請求項1】 エポキシ樹脂と、ポリフェニレンオキサ
イドとフェノール化合物を反応開始剤の存在下で再分配
反応させて得られた、数平均分子量が1000〜400
0のフェノール変成してなるポリフェニレンオキサイド
と、硬化剤とを含有するエポキシ樹脂組成物であって、
上記反応開始剤が分解してアルコールを生成するもので
あることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項2】 上記生成するアルコールが脂肪族アルコ
ールであることを特徴とする請求項1記載のエポキシ樹
脂組成物。 - 【請求項3】 上記生成するアルコールの沸点が150
℃以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2記
載のエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項4】 上記反応開始剤が下記式(1)で表され
るものであることを特徴とする請求項1乃至請求項3い
ずれか記載のエポキシ樹脂組成物。 【化1】 (式中R、R'はアルキル基を示し、同一でも異種でも
よい。) - 【請求項5】 上記反応開始剤が下記式(2)で表され
るものであることを特徴とする請求項1乃至請求項3い
ずれか記載のエポキシ樹脂組成物。 【化2】 (式中R3、R4はアルキル基を示し、同一でも異種でも
よい。) - 【請求項6】 上記式(2)で表される反応開始剤が、
t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネートで
あることを特徴とする請求項5記載のエポキシ樹脂組成
物。 - 【請求項7】 上記反応開始剤が下記式(3)で表され
るものであることを特徴とする請求項1乃至請求項3い
ずれか記載のエポキシ樹脂組成物。 【化3】 (式中R1はアルキル基を示し、R2はCH3又はHを示
す。) - 【請求項8】 上記再分配反応が反応開始剤とともに触
媒存在下で行われることを特徴とする請求項1乃至請求
項7いずれか記載のエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項9】 上記触媒が、ナフテン酸コバルトである
ことを特徴とする請求項8記載のエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項10】 上記触媒の配合量が、ポリフェニレン
オキサイド100重量部に対し、0.001〜0.01
重量部の範囲であることを特徴とする請求項8又は請求
項9記載のエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項11】 請求項1乃至請求項10いずれか記載
のエポキシ樹脂組成物を基材に含浸し、この組成物を半
硬化してなるプリプレグ。 - 【請求項12】 請求項11記載のプリプレグと金属箔
とが重ねられ、そのプリプレグ中の組成物が硬化されて
いる金属張積層板。
Priority Applications (1)
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ID=27344174
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007097231A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 低分子量ポリフェニレンエーテルの製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09227659A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-02 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、この樹脂組成物を用いたプリプレグ 及びこのプリプレグを用いた積層板 |
JPH10212336A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-11 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、この樹脂組成物を用いたプリプレグ及びこのプリプレグを用いた積層板 |
JPH10324734A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
JPH10324735A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
-
2001
- 2001-07-26 JP JP2001225741A patent/JP2003002965A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09227659A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-09-02 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、この樹脂組成物を用いたプリプレグ 及びこのプリプレグを用いた積層板 |
JPH10212336A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-11 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、この樹脂組成物を用いたプリプレグ及びこのプリプレグを用いた積層板 |
JPH10324734A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
JPH10324735A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007097231A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 低分子量ポリフェニレンエーテルの製造方法 |
US7858726B2 (en) | 2006-02-21 | 2010-12-28 | Asahi Kasei Chemichals Corporation | Process for producing low-molecular polyphenylene ether |
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