JP2002543957A - 半導体製造排ガスの酸化処理のために実用性を持っている排ガス流処理システム - Google Patents
半導体製造排ガスの酸化処理のために実用性を持っている排ガス流処理システムInfo
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Abstract
(57)【要約】
半導体製造工程からの廃物のガスのようなガスの廃水の処理のための排ガス流処理システム。システムが、エネルギー（例えば、サーマルが電気の頻度をラジオで放送するマイクロ波、その他）のインプットで、オゾンのような酸素含有ガスが加えられるかもしれない酸化ユニットを含む排ガス流処理が、その廃水の中の酸化可能な種の、ハロ成分（例えば、クロロフルオロカーボン（パーフルオロカーボン））、CO、NF3、窒素酸化物及び硫黄酸化物のような酸化を生じる）。その排ガス流処理システムは、そのガス流の中で処理の間、酸化可能な種の除去を改良するためにそのガス流がその酸素含有ガスでその湿式洗浄処理の間、接触されるために、酸素含有ガス・ソースと関連した湿式洗浄器を含むかもしれない。
Description
発明の属する技術分野 現在の発明は、半導体製造工程（光電池の処理、その他）の中で生産された排
ガスのような工場廃水流体の処理のために、システムに関連がある。そのような
システムは、酸化、ガス洗浄、微粒子の固体除去及び他のユニット操作を排ガス
処理のためにいろいろに含むかもしれない。その発明の改良に従って、オゾンか
他の酸素-含んでいる試薬は、ハロゲン化物、ハロゲン化炭素、NOx、水素化物、
SOx、NF3及び他の有機的な及び非有機的な混合物のような酸化可能な種の除去の
ために、排水処理プロセスの効率を改良するために使用される。 背景技術 産業の流体のゴミの流れの処理の中で、多種多様なユニット操作及び対応する
離散的な処理装置は、その廃水の処理のために上流のプロセス設備から統合され
た。 例えば、いろいろな統合化された熱システムは、廃水及び光電池の処理オフガ
スを製作している半導体の処理のために市販である。これらの統合化されたシス
テムは、使用のためにCVD、金属エッチング、エッチング及びイオン注入ツール
で、典型的に目標とされる。商用の統合化されたシステムは、Delatech Control
led Decomposition Oxidizer（CDO）、Dunnschicht Anlagen Systeme（DAS）Esc
apeシステム及びエドワーズThermal Processing Unit（TPU）を含む。これらの
市販のシステムの各々は、排ガス（そのオフガスの温度調節のために熱い酸化セ
クションから湿った急冷と組み合わせられる）の酸化性の分解及び酸性のガスの
除去及び酸化プロセスの中で作り上げられた微粒子のために、システムを洗浄し
ている湿気のために、熱処理ユニットの統合から成る。 Delatech CDOの中で、熱システムは、特に除去困難な化合物の破壊のためにそ
の排ガス流から選択的にフレームベースの導入可能なHydrogen Injection Syste
m（HIS）と組み合わせられるかもしれない電気的に熱いチューブを含む。その酸
化剤及びメタンとしてのO2か水素をその燃料として使って、前記のDAS Escapeシ
ステムの中で、熱酸化剤は、フレームベースである。TPUの中で、熱酸化剤は、
空気かO2を酸化剤及びメタンとして燃料として使うフレームベースの表面燃焼ユ
ニットを含む。 これらの統合化された商用のシステムに加えて、また、いろいろな市販の独立
型一つのユニット使用できるシステムが、排ガス流（含むこと）の処理のために
ある：a)熱がないphysisorptiveは、ベッド乾いたガス洗浄装置、b)熱がないche
misorptiveな包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、c)熱い化学的に反応している
包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、d)熱いcatalyticallyな反応している包ま
れたベッド乾いたガス洗浄装置、e)湿式洗浄器及びf)フレームベースの熱処理ユ
ニットを包んだ。処理を経ているガス流の性質に依存して、これらのユニット操
作技術の各々は、ある応用にふさわしい。 一般に、これらのそれぞれの技術の各々は、特定の排出流構成要素のために除
去メカニズムのはっきりしたセットに基づく。これらの技術が、優秀な減少を提
供することができる‖どちらでも：一つの除去技術がそのガスを除去することが
できる除去メカニズム歩道で、除去が十分に類似しているのを必要としている排
出流構成要素がかかわるa)かガス流組成の種が出口を与えられることができるそ
のようなキャラクタの中で、その特別な除去メカニズムに反応しないガス流組成
の種の特別なサブセットが減少であるb)。 機会の上で、前記の独立型一つのユニット操作上ベースのシステムのエンド・
ユーザは、そのシステムに通されていたいろいろなガスのカテゴリーの各々のた
めに、処理シーケンスを提供するためにこれらのいろいろな処理ユニットのうち
の少なくとも2つを結合するほうを選ぶかもしれない。それでもなお、そのよう
なまとめられた設備アプローチの実行は、明らかに、そのOEMが一つの小さいあ
る大きさに作られた処理システムの中で、その一審の中でいろいろな使用できる
処理ユニットの統合を提供することができてからそのOEMのためにそのエンド・
ユーザにより便利でない。対照によって、エンド・ユーザはまとめられた組立部
品及び操作のために実質的に成分独立型ユニットを修正しなければならない。 その上に、これらのOEM-統合化された排ガス流処理システムが明らかに、ある
応用の中で、一つのユニット使用できるシステムに対する優位を持つことができ
る間、例えば酸化静まる及びスクラブすることの操作がいろいろな不足で苦しむ
ユニットを実行するかもしれないシステムを典型的に、これらは統合した：酸化
剤セクションの入口地域だけでなく、酸化セクションの中の微粒子の生成だけで
なく、ガス洗浄装置セクションの中の酸性のガス、酸性のガスのための水の高い
消費及び微粒子の中で、スクラブすることを洗浄している貧しい者だけでなく及
びそのガス洗浄装置からの飽和したオフガスの濃縮だけでなくそれぞれのセクシ
ョンの中で詰まっている微粒子は、酸との水の混合のコレクション及び濃度にな
ることを区分する。 詰まっている入口は、いくつかのソース含むこと起こることができる：酸化剤
セクション（BCl3のような入って来る水に敏感なガスをもつ異質であるか均一な
流行かWF6の中で、加水解離反応を引き起こす）の燃焼製品としての水蒸気の(a)
後ろの移動；入って来る熱的に敏感なガスの（b）熱低下；及びそのシステムの
中の転移温度のための入って来るガスの（c）濃縮。問題をじゃましているこれ
らの入口は、突入者メカニズムか他の固形物除去手段の編入にそのシステムにそ
の入口を固形物蓄積、しかしこれらの機械のフィックス追加かなりの費用及び労
働から自由にしておくことを要求するかもしれない。他の例の中で、問題をじゃ
ましている入口は、体系的かもしれない及び周期的な予防的なメンテナンスにそ
の入口を固体蓄積から自由にしておくことを要求するかもしれない。しかし、そ
のようなメンテナンスは、そのシステムの操業停止及び生産性を失うことを製作
している施設で必要とする。 また、彼らの湿った洗浄しているプロセスからその廃水を扱うことが困難なプ
ラント施設で、使用ガス排水処理システムの既存の統合化された点は、問題を経
験するかもしれない。たくさんのプラントは、使用システムのこれらの点からま
たはより一般に処理廃水の中で生成された廃水の中で、その弗素（F-）種を処理
している困難を本質的にガス排水処理システムから生じるようにするかもしれな
い。 プロセス施設に利用できるフィード水の品質が貧しいとき、また、統合化され
たシステムの水ガス洗浄装置及び急冷部分は詰まることにまつわる問題を持つこ
とができる、西南アメリカ合衆国の典型的な条件。また、容易に利用できる水の
不足、高い水コスト及び射出された廃水のための高い配置コストは多くの地方性
の中の重要な問題である。いくらかのケースの中で、これらの要因は、プロセス
施設で問題をじゃまするのを妨げるために高品質脱イオン水の使用を必要とする
。そのガス洗浄装置を及び急冷宣伝することを防ぐことに効果的な間、そのよう
な溶液は高品質脱イオン水の相当なコストと関連した所有権の非常に高いコスト
を含む。 洗浄している操作の中で、貧しい酸性のガスの中でガス洗浄装置塔で洗浄する
ことは、これらのシステムを通して処理される小さい流率によることがありえる
。そのような小さい流率を処理しているガス洗浄装置塔の直径は対応して小さい
、そしてそれは、化合されるとき、パックしている従来の大きい直径の使用は過
度に高いコラム直径及び結果に、大きい壁効果の中でガス洗浄装置塔で包んでい
る要素直径になることができる。そのようなガス洗浄装置塔は、この結果順番に
チャネリング殺到する及び処理されていないプロセス・ガス通過のポケットで、
ガス洗浄装置システムを通して強打するを引き起こすことができる大きい水流れ
を必要とする。貧しい者のためにこれらのシステムの中でこれらのシステムのダ
クトで送っているダウンストリームの中で腐食を洗浄することは一般に観察され
ること、そしてそれは‖そのガス洗浄装置からの非処理のオフガスの濃縮により
ある。ハロゲン化物ガスがその排出流の中で扱われているとき、ガス洗浄装置塔
からのオフガスはそのガス洗浄装置のパフォーマンスを洗浄している貧しい者の
結果、アンスクラブされたハロゲン含有量を含む。アンスクラブされたハロゲン
含有量が、VLE露点条件で凝縮された非常に集中された酸のプールの形成になる
かもしれない‖及び‖予想された酸/水混合より実質的に高く。 産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明
の目的である。 その排ガス流の水洗浄すること及び酸化処理を利用して、システムを処理して
いる改善された統合化された廃水を提供することは、現在の発明の目的である。 詰まることへのかかりやすいこと及び固形物蓄積をそのシステムの中で減らす
産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明の
更なる目的である。 スクラブすることは、水を利用している排ガス処理システムを提供する発明の
静かな更なる目的である、そしてそれは‖実質的に、その先行技術のガス洗浄装
置システムと関係がある洗浄している操作の中で必要だった水を減らす。 あるようなものは半導体、光電池の処理、などの製造の中で、生産した、先行
技術システムの上記の論議された不足を克服する排ガスの処理のためにそのよう
なシステムを提供することは、その発明のもう一つの目的である。 他の目的及び利点は、引き続いて述べられる発表から充分により明白である。 発明の概要 現在の発明は、例えば造られるかもしれない及び産業のガス廃水の使用処理の
点のために、例えば半導体材料及び装置の製造の中で生産されたそれらを配置し
たガス処理システムに関連がある。 1つの面の中で、その発明は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うため
にガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガ
ス流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するために配置さ
れた酸化ユニット；選択的に、そのガス流から洗浄可能な成分を除去する及びそ
のガスを射出するための前段酸化洗浄ユニットが、酸化ユニットに流れる；選択
的に、そのガスから洗浄可能な成分を除去するために酸化ユニットからそのガス
流を受け取っている後段酸化洗浄ユニットが、流れる；及びそのガス流の酸化成
分の削減の向上のために、そのシステムの中で酸素含有ガスを提供するために配
置された酸素含有ガス・ソース。 ここで使われるように、「酸素含有ガス」の中の語「酸素」は分子の２価の酸
素だけでなく原子の酸素を含む。その酸素含有ガスは、酸素か、オゾンか、空気
（酸素濃縮空気か一重項酸素）かそのような種のうちの少なくとも1つと互換性
を持つ混合を好んで含む。 そのような酸素含有ガス・ソースは、そのガス流自体であるかもしれない、例
えば、酸化ユニットに導入されたガス流が酸素含有ガスを含むその点で。そのガ
ス流の成分としてオゾン。そのガス流のそのような酸素-含んでいる成分は、半
導体製造工程（オゾンが他の酸化剤ガス種で生成されるその点で）の中のプラズ
マ処理のような上流のプロセスから生じるかもしれない。そのガス流それから、
そのシステムのユニットが利用するかもしれない酸化剤の中の、必要であるかそ
の発明の与えられた応用の中で望ましいように、外に供給された酸素含有ガスに
よって選択的に増やされるその酸化を実行するガス流のそのような固有の酸化剤
ガス種が処理する条件を酸化させることを受ける。供給関連の中でガス処理シス
テムの酸化ユニットに結びつけられて、酸素かオゾン・ジェネレーターのような
、代わりに、それについて、その酸素含有ガスは、もっぱら外部のソースからプ
ロセス・システムまで供給されるかもしれない。 その発明の面がそのガス流の中で水の洗浄媒体（どの点で酸素含有ガス）で、
例えばオゾンを洗浄することによって酸化成分を含むガス流を扱うためにガス処
理システムと関係づけるAnotherは、その洗浄媒体にそのガスの中で水の洗浄媒
体で流れを洗浄することに先立ち導入される。水の洗浄媒体は、オゾンが加えら
れる補給水や再循環水を例えば含むかもしれない、そのガス流の酸化成分の液体
のフェーズ破壊を提供する以降の洗浄しているそのオゾンを含んでいる水の洗浄
媒体か他の酸素含有ガスによるガスすること。そのような液体の「酸素強化され
た」スクラブすることは、酸化剤ユニット処理と関連して、ガス流の前段洗浄や
後段洗浄のための発明かスクラブすることは独立型操作として運ばれるかもしれ
ない酸素強化されたに従って使われるかもしれない。 その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うために
ガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するために配置され
た酸化ユニット；酸化ユニットに結びつけられたオゾン源；及びそのガス流及び
そのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソースを含む酸化ユニ
ット。 それでも、その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を
扱うためにガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件
をそのガス流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するため
に配置された酸化ユニット；湿式洗浄器上流にそれの酸化処理に先立ち酸化ユニ
ットの中でそのガス流を洗浄するための酸化ユニットの；そのガス流にand/orそ
の湿式洗浄器及び酸化ユニットのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供
しているオゾン源；及びそのガス流及びそのオゾンに、エネルギーを供給するた
めのエネルギー・ソースを含む酸化ユニット。 更なる面の中で、その発明は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うため
にプロセスに関連がある：そのガス流の酸化成分を減らすために酸化ユニット及
び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそこにそのガス流を導入すること；そこか
ら上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するためにそのガス流を洗浄
する選択的に；そこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するた
めにそのガス流を洗浄する選択的に；及び酸素含有ガスでそのガス流の酸化成分
の削減の向上のためにそのガス流と接触すること。 その発明の更なる面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためにプロ
セスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそれに
ついてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；酸化ユニットに
オゾンを導入すること；及びそのガス流及びそのオゾンにエネルギーを供給する
こと。 それでも、その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を
扱うためにプロセスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；
湿った洗浄ユニットの中でそれの酸化処理に先立ち酸化ユニットの中でそのガス
流を洗浄することを濡らす；そのガス流にand/orその湿式洗浄器及び酸化ユニッ
トのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供すること；及びそのガス流及
びそのオゾンに酸化ユニットの中でエネルギーを供給すること。 追加の面の中で、その発明は、少くとも1つの酸化可能な種を含むことはクロ
ロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン及び窒素酸化物から成っている群か
ら、選んだ、そのようなものが含むことを処理する酸化成分を含むガスを扱うた
めにプロセスに関連がある：燃焼ユニットにそのガスを導入すること；燃焼ユニ
ットにオゾンを導入すること；及び、そのガス及びそのオゾンに燃焼ユニットの
中で酸化可能な種及びそのオゾンの間の反応を促進するためにエネルギーにそれ
を供給することは、そのガスの中で酸化可能な種を減らす。 その発明の静かな更なる面は、酸化処理が酸化条件で超強力酸化剤のそのガス
流への追加で、そのガス流の酸化成分の酸化のために実行されるその点でをガス
流処理システムと関係づける。語「超強力酸化剤」は、そのガス流を扱うために
対応して使われるとき成し遂げられたそれに対してオゾン（O3）によって最少の
同等にあるガス流の中で、ガス流の酸化処理の中の酸化可能な種の酸化性の除去
を成し遂げる酸化している材料に言及する。このように、超強力酸化剤はオゾン
、酸素含有ガスと協力した弗素及びガス処理操作の中のオゾンと少くとも同じく
らい酸化的に有効（扱われていたガス流に対する関心の酸化可能なガス成分の酸
化性の除去範囲に関して）である他の酸化剤種を含む。 酸化している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って、その発明の特定の
面は、クロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処理に関連がある。 他の面、特徴及び実施例は、引き続いて起こる発表から充分に明白である。 発明の実施の形態及び好まれた実施例 現在の発明の目的は、多種多様な排ガス流対応して多様な産業のプロセスから
生じるを扱うために利用されるかもしれない改善されたガス排水処理システムを
提供することになっている。 現在の発明の統合化された排ガス処理システムは、使用装置のコンパクトな点
としての単位のハウジングの中の例のために、以下のシステム成分のいくつかか
全てを含むためにいろいろに構成されるかもしれない： (i) 酸性のガス及び微粒子の除去（例えば（pre)scrubber）；のための処理
前のユニット (ii) 電熱の酸化剤か他の酸化剤ユニット； (iii) ユニットを消している酸化剤排気ガス； (iv) 酸性のガス洗浄ユニット； (v) 活発な行動を起こさせる流れ手段（ブロワー、ファン、ポンプ、その他
）か受動の流れ手段（引き出すもの、エジェクタ、抱負ノズル、その他）のよう
なガス流れ-誘発している手段；及び (vi) 例えば流入液ガス温度調節手段（例えば、熱-たどられたforelineか、
熱交か他の手段をそのガスの該当する熱特徴が統合化されたシステムの中を流れ
たことを確実にするために含んでいる）を含むかもしれない連合した制御手段が
、供給手段（サージ保護、邪魔されない電力供給（UPS）接続または専用のUPS成
分（その他）。）及び、その操作の間のシステムの中のプロセス条件（温度、圧
力、流れ率及び構成）をモニターする及び選択的に調節するためにもう一方は制
御要素及びサブアセンブリーを処理する。に動力を供給する 上流のプロセス設備からその組立部品まで流体の流れを導入するための詰まり
にくい入口構造と協力して現在の発明の統合化された排ガス処理システムは、前
段洗浄器、酸化剤及びガス洗浄装置組立部品を利用するかもしれない。 1つの実施例の中のそのような障害物に抵抗力がある入口構造が、第一の及び
二番目の一般に垂直に配置された流れ通過セクションをお互いに関連をそのよう
な連続的なつながれた関連の中で一般に垂直な流れ通過を定義することに結びつ
けられたシリアルに含む‖微粒子の流体のsolids-containingが、流れ出させる
、流体の流れを受ける関係の中で入口構造に配置された下流の流体の処理システ
ムに流体の微粒子のsolids-containingの上流の源から流すかもしれない。 第一の流れ通過セクションは、入口構造の上のセクションである及び穴の多い
金属の中で作り上げられるかもしれない内のガス透過性の壁か構造（流れ通過の
第一の上の部分を囲む）の穴の多いセラミックであるか他の適当な材料を含む。
ガス透過性の内の壁は、流れ通過の上の部分をはずませている内部の表面を持つ
。 ガス透過性の壁は、ガス透過性の内の壁との間隔をあけられた別々の関係の中
で、包むように外の壁に囲まれている。外の壁は、キャラクタの中で穴の多くな
いで、低い圧力ガス流れポートを備えている。そのような配置によって、内部の
環状のボリュームは、それぞれの内のガス透過性の壁及び外の囲んでいる壁の間
で作り上げられる。 流れ通過への内部の環状のボリュームからの低い圧力ガスの以降の流れのため
に内部の環状のボリュームに低い圧力ガス流れポートは、流れ関連の中であらか
じめ決められた低い率でそのようなガスを流すための低い圧力ガスの例えば適当
な弁による源及び制御手段に、順番に結びつけられるかもしれない。また、高圧
ガス流れポートは、第一の流れ通過セクション（流れ関連の中でそのようなガス
の中で内部の環状のボリューム（内のそれの（第一の流れ通過セクションの中で
流れ通過をはずませること）表面で沈澱したかもしれないどんな微粒子でもの内
のガス透過性の壁をきれいにするのに役立っているそのような高圧ガス流れ）に
、断続的に注ぐために高圧ガスの源に結びつけられる）の外の壁の中で、選択的
に提供されるかもしれない。高圧ガスは、同様に要求された圧力で適当な弁及び
制御手段によって、制御可能に流されるかもしれない。 微粒子の固体含有の流体の中で下方へ第一の流れ通過セクションから、二番目
の流れ通過セクションに注ぐために二番目の流れ通過セクションは、順番に第一
の流れ通過セクションに結びつけられる。二番目の流れ通過は、そこに水か他の
プロセスのような液体の源に結びつけられるかもしれない液体の注入ポートを液
体にしている外の壁を含む。外の壁は、第一の及び二番目の流れのそれぞれの外
の壁の上のmatableなフランジのような通過セクション第一の流れ通過セクショ
ンで結合可能である。流れ通過が間隔をあけられた別々の関連の中でその間で内
部の環状のボリュームを定義する外の壁に、内の堰壁で内の堰壁を含む瞬間第一
の流れの内のガス透過性の壁の短絡をやめること以外の通過セクションの方へ広
がって、そのようなそれぞれのインナーの間のギャップを提供することは第一の
及び二番目の流れ通過の中で、セクション（堰を定義する）を壁で囲う。それに
ついて、液体が二番目の流れ通過セクション及び内の壁の外の壁の間の内部の環
状のボリュームに流されるとき、導入された液体はその堰及び流れから二番目の
流れ通過セクションの内の壁の内部の表面の下へあふれ出る。内の壁の下の液体
のそのような流れは、その壁からのどんな微粒子の固体でも洗う及び固体のその
堆積か形成を内の壁の内部の壁表面で抑制するのに役立つ。 入口構造のそれぞれの第一の及び二番目の流れ通過セクションの手早い分解を
適応させるために第一の及び二番目の流れ通過セクションのお互いとの広がられ
た接続は、クイックリリース・クランプ組立部品を含むかもしれない。 さらに、入口構造の第一の流れ通過セクションは、同様に清掃及びメンテナン
ス目的のために容易に分解されるかもしれない最上の入口構造クイック分離入口
セクションにつながれるかもしれない。 もう一つの面の中で、その発明は、酸性のガス及び微粒子の排ガス（その排ガ
ス流の中の酸化成分の酸化処理及びそれについて酸化処理の後に続く排ガス流を
洗浄するための以降の水ガス洗浄装置のための酸化剤）からの除去のために、前
段洗浄器を含んでいる排ガス処理システムに関連がある。そのような前段洗浄／
酸化／洗浄システムの中で、ガス／液体インタフェース構造が使用されるかもし
れないこと、そしてそれは‖固体の詰まっている堆積及びその酸化剤によって射
出されるように、腐食性の成分を含んでいる熱い、微粒子の荷を積んだガス流が
そのようなガス／液体インタフェース構造によって受けられる腐食に抵抗しある
。そのようなガス／液体インタフェース構造は、以下を含む： 第一のガス流流れパスtherewithinを定義している第一の垂直に広がっている
入口流れ通過メンバー。ガス流流れパスへのガス流及び下部の出口終わりの導入
のために、そのガス流の排出のためにそこからガス流流れパスを通して入口流れ
通過メンバーの範囲内で、上の入口をそのガス流の流れの後に続くようにしてい
るそのような入口流れ通過メンバー； 1秒、第一の流れ通過メンバーの回りに境界線を引いている通過メンバーを流
す及び、その間で環状のボリュームを定義するために、それに外見上関連に中で
間隔をあけた下方へ第一の流れ通過メンバーのより低い出口終わりの下で、下部
の出口終わりに及んでいるそのような二番目の流れ通過メンバー。第一の流れ通
過メンバー及び下部の液体不透過性の部分のより低い出口終わりより上に位置し
た上の液体透過性の部分を二番目の流れ通過メンバーのガス流流れパスを定義す
るようにしているそのような二番目の流れ通過メンバー； 包むように、二番目の流れ通過メンバーの回りに境界線を引いている及びそれ
とともに囲まれた内部の環状のボリュームを定義している外の壁メンバー；及び 液体の流れは、そのような外の壁メンバーの中で外の壁メンバー及び二番目の
流れ通過メンバーの間の囲まれた内部の環状のボリュームに、液体を導入するた
めにポートをはめ込んだ； 液体の流れ入口ポートを通して、外の壁メンバーの中で導入された液体が、囲
まれた内部の環状のボリューム及びしたたる流れを二番目の流れ通過メンバー。
の上の液体透過性の部分を通して入れるそれによっること二番目の流れ通過メン
バー。の液体不透過性の部分の内部の表面の下の以降の流れのためにそのような
内部の表面で下方へ流れる液体のフィルムを提供するために二番目の流れ通過メ
ンバー。の液体不透過性の部分の微粒子の固体の及びそのガス流をもつ堆積及び
蓄積にその上に抵抗することは、ガス／液体インタフェース構造からそれについ
て、二番目の流れ通過メンバーの流れパスを通しての流れのために、より低い出
口終わりで射出されていた第一の流れ通過メンバー及び以降の排出まで流れた。 そのような配置によって、そのガス流は、直接構造（ガス流流れパスが二番目
の流れ通過メンバーの内部の壁表面のそばで制限する）のより低い部分の中で、
その壁と接触することを防ぐ。二番目の流れ通過メンバーの上の部分が抵抗する
「したたる堰」からのその室内でたまっている微粒子の固体が壁で囲う水の落ち
ているフィルムは、二番目の流れ通過メンバーの中で浮上する。そのような壁表
面の行動を起こさせる液体の流れは、水フィルムと接触しているガス流の中に、
下方へ排出のためにガス／液体インタフェース構造からその微粒子を運ぶ。その
上に、そのガス流の中の腐食性の種は、落ちている水フィルムによってそのイン
タフェース構造のより低い部分の中で保護されている壁と接触することを防ぐ。 液体透過性の高い方の部分が、メンバーがいるかもしれない二番目の流れ通過
の中で、適当な穴の多い構造を分ける及び、例えばだいたい30ミクロンへのだい
たい0.5ミクロンか平らなより大きい気孔の直径範囲にあるかもしれない気孔サ
イズで穴の多い焼結された金属壁か穴の多いセラミックの壁を含むかもしれない
。 まだ、現在の発明のもう一つの面は、排ガス流の処理のためにシステムに関連
がある、そのシステムは、前段洗浄器ユニット（酸化剤/急冷ユニット及び洗浄
ユニット）をどれに含むか前段洗浄器ユニットが反現在のガス／液体接触塔（水
が下方へその塔の上の部分から流れる及びその塔の下部の部分で導入されたガス
と接触するその点で）を利用する及びその排ガス流が一般に水平に整列する第一
の管状の通過を含んでいる入口構造を通して導入される及びシールド・ガスの導
入のためにその中にシールド・ガス・ポートを持っている外の回りに境界線を引
いている管状のメンバーに関して、同心で配置される。その排ガスを受けている
内の管状のメンバーは、外の管状のメンバーの範囲内で終わる。前段洗浄塔のよ
り低い部分の中で配置された斜めに切られた開いた終わりを持っている外の管状
のメンバーと外の管状のメンバーは、一般に水平に前段洗浄塔のより低い部分に
達する。それについて、最大長さ周囲の部分が最も短い周囲の長さの上に横たわ
るために正反対に配置されるために、外の管状のメンバーの斜めに切られた終わ
りが配置されて外の管状のメンバー。の部分そのガス流が外の管状のメンバーの
内部のボリュームへの内の管状のメンバーから射出される及び外の管状のメンバ
ーの斜めに切られた開いた終わりから、前段洗浄塔のより低い部分に射出される
ために。外の管状のメンバーの最小限の長さ周囲の部分より上に、外の管状のメ
ンバーの最大長さ周囲の部分を正しい位置に置くことによって、外の管状のメン
バーは、前段洗浄塔で流れ落ち液体がそのような管状のメンバーを入れるのを妨
げるために配置される。さらに、斜めに切られた終わりのそのような配置は、前
段洗浄塔に導入されていたガス流れ流れがそのエントリの間際にその流れ落ちで
そこに液体と接触するためにその塔へ発達させられるのを許す。 現在の発明の追加の面は、いろいろに以下の特徴を含むかもしれない： 1. 目詰まりしない入口を含む単位のキャビネット構成の中の全く統合化され
たガス排出流処理システム、前段洗浄器、酸化剤、湿／乾インタフェース、急冷
、後段洗浄器及び行動を起こさせる手段の準備。 2. 処理前のサブシステムの水素弗化物吸収の用途。すばらしい微粒子を除去
しようとすること微粒子の前駆体を除去すること微粒子のプレ除去システムが酸
化プロセスの間、形をなしたように、そのような処理前のサブシステムは本質に
おいて利用される。 3 切れ込み/穴注入型のまたは実質的に水使用を減らすことができる及び水平
になっている制度を不必要にすることができる穴の多い型インタフェースの湿／
乾インタフェースの準備。 4. シェルの準備及びチューブ熱交は、働く「流体」としてそのシェルの上で
光を発する流動を横に扱っている酸化剤をタイプする。 5. 非濃縮性であるか最小限の濃縮を生んでいる水ガス洗浄装置（以下に他の
特徴と共により充分に、記述される）の中の副冷却の準備は、thermophoreticな
酸性のガスを及び微粒子の洗浄することを設計する及び改良した；その上に、流
体の排出のためのエジェクタは排ガス処理システムを処理システムの排出ライン
に「見えなく」するために使用されるかもしれない、あるいは、そのような排出
手段は上流のプロセス・ユニット（例えば、ツールを製作している半導体）の上
で、必要に応じてその引くことを増やすために使用されるかもしれない。 6. ガス洗浄装置コラムの中の包んでいる要素としてのデフロスター・メッシ
ュの使用。そのようなデフロスター・メッシュは、小さい直径のガス洗浄装置コ
ラムの中で実質的に壁効果を減らすことができる。ガス洗浄装置コラムの中の移
転及び熱移転がこの結果匹敵する質量か標準の市販のランダムなパッキン及びデ
フロスター・メッシュ採用のガス洗浄装置をもつガス洗浄装置コラム・パフォー
マンスよりよくコラムは、比較的低い圧力低下を成し遂げる。また、ガス洗浄装
置コラムの最上位の無効な一部分は、よい粒子としてガス洗浄装置コラムをコレ
クターと指令するためにしなやかに設計されることができる；ランダムなパッキ
ンが、曲げやすいものとしてない及びデフロスター・メッシュ採用のガス洗浄装
置コラムで容易に達成可能な柔軟性を許さない。 7. 熱移転向上の使用は、仕立てる酸化剤の中でそのシステムの全面操作の中
で熱流動を変えることを必要としている応用に、その排ガス流処理システムを挿
入する。 8. 酸化剤ユニットの入口への排ガス処理システムの中の酸化剤ユニットの急
冷からの飽和したH2O/排出流れのリサイクルは、酸化のためのパーフルオロカー
ボン（PFCs）の低コスト水素源を提供する。 9. その前段洗浄器への化学物質の追加が、その特徴を変えるために使用され
るかもしれない 洗浄された材料の。それによって高い溶解性をもつそれについ
て除去を洗浄することのための材料を生んで、実例となる例は、NH3の形式アン
モニウム・ウォルフラム酸塩へのタングステン・ヘキサフルオライド廃水への追
加である。 10. 酸化ステップの中で反応物/製品固体の壁蓄積を除去する酸化剤ユニット
のための蒸発チューブ・リアクター計画の使用。 11. 二重の流体の使用が酸化剤ユニットから熱い排出流を受け取っている急
冷ユニットの中で、ノズルを原子にして、順序で、急冷ユニット・サイズかその
選択肢を最小にすることは超音波のノズルのような手段を原子にしている他の小
さい小滴か圧電気のノズルの中で、その急冷の中でユニットを使う。 12. プロセス・ツールを製作している特定の半導体をもつ現在の発明のガス
排水処理システムの統合。 13. より充分に以下に記述された耐−目詰まり入口構造の展開による例に関
しては詰まることを避ける排ガス導入（入口）手段の使用。 14. 電気であるかフレーム（メタン、プロパン、水素及びブタン）ベースの
酸化を利用する酸化剤ユニットや空気かO2を使う能力の中の柔軟性。 15. 湿式洗浄器の使用か前段洗浄及び後段洗浄手段としての乾いたガス洗浄
装置。 16. 流動床熱酸化剤ユニットの使用。 17. その排ガス流処理システムの中のＰＦＣ非破壊のＰＦＣ再生／回収ユニ
ットの使用。 18. ガス流れ流れ層流境界層の中断のために、挿入物を使用している障害物
のない酸化剤ユニットの準備。 現在の発明は、そのような廃水（酸化及び洗浄しているプロセスがその排ガス
流の中で危険であるか一方望まれていない種を減らすために実行される）を生成
している上流のプロセス・ユニットから生じている排ガス流の酸化処理のために
、システムを熟考する。 特別な面の中で、その排ガス流処理システムは、酸化及び洗浄しているユニッ
ト操作を含むかもしれない、そのシステムが造られる及び配置される最小にする
反対のガス流（その一審の中で上流のプロセスから生じるかもしれないようなも
ので）の中の固体の微粒子の、生じる、あるいは、その場で排水処理システムの
中で生成されるかもしれない例えば排ガス流（微粒子の反応製品になる）するこ
と。 その発明は、その上に排ガス処理システム（ガス／液体インタフェース構造が
流体の流体力学的な動作の反対の効果を最小にする及び微粒子の固形物蓄積を最
小にする及び固体の蓄積にそのシステムの中で出来事をじゃますることを抑制す
るために使用される）に関連がある。 もう一つの面（発明がそれが競争的な統合化された熱処理システム及び目上を
熟考する贈り物）の中で、もう一方は熱市場に出ている処理システムを統合した
。そのような統合化されたガス処理システムは、フロントエンド熱処理を排気ガ
ス条件付けと組み合わせる及びそのエンド・ユーザに所有権の低コストを提供す
る。 その発明の統合化された排ガス流処理システムは、電気的にベースの熱酸化処
理ユニットを利用するかもしれない。その発明の引き続いて起こる記述がここで
主に電気の熱処理ユニットを使用している排ガス流処理システムに向けられる間
、その発明の処理システムが代わりに他の熱処理成分を含むために構成されるこ
とができた、例えばフレームベースである認められて処理、流動床処理、プラズ
マ処理、その他‖ 柔軟なユニット-操作ベースのモジュール式のプラットホームを提供すること
によって、その発明の排ガス処理システムが多種多様な排ガス流に容易に仕立て
られることができること例えば半導体製作が、放射に工具を備えつける及び過度
の努力なしで他のユニット操作処理を取り入れるために容易に修正されるかもし
れない。 それについて、いろいろな実施例の中の発明が先行技術処理システムに対する
重要な優位を提供する贈り物の排ガス流処理システム組成の排ガス処理ユニット
及び連合した流れ笛を吹く及びチャネル。の範囲内で詰まることに対する抵抗効
率的なガス／液体インタフェース構造の結果、腐食に対する抵抗を改良した。メ
ンテナンスの前の拡張した操業中の操作の時間は、必要である、低い水使用は、
処理を洗浄することは使用される時の評価を得る、除去レベルでTLVの下の洗浄
可能な種及び削減がHCl、Cl2及びHFのようなハロゲン種のために、均一化する廃
水の重さによる99.99 %を超える、優れた洗浄している効率TLVレベル（プロセス
・ラインの中の酸の腐食性の濃縮の除去）の下の危険な種の酸化性の破壊下流に
酸化剤ユニットの排ガス処理システムの中の組成の処理ユニットの柔軟な配置。
及び上流のプロセス設備からの排ガスの親切な複数の源の資格。 排ガス処理の中で酸化剤ユニットをその発明のシステムとみなして、その酸化
剤は電気の電力源を排ガス種の電熱の酸化のために利用するかもしれない、ある
いは、その酸化剤は水素及びメタンのような燃料を利用するかもしれない。その
システムが酸化処理の中でパーフルオロカーボンの破壊を実行するために配置さ
れるならば、そのシステムはH+根本的なソースとして水蒸気をそのパーフルオロ
カーボンの破壊を生じることのために利用するために配置されるかもしれない。
そのような酸化処理の酸化剤媒体は、空気か、酸素か、オゾンか他の酸素含有ガ
スを含むかもしれない。アトマイザー・スプレー・ノズルによるそのような接触
か小滴サイズ及び水消費を排ガス処理システムの操作の中で最小にする他の適当
な分散させるもののために分散させられる接触することはガスのためにその酸化
剤からの及びスクラブするための排ガス流が決意する、給水するホットの消失に
従事するかもしれない。重要な多量のシリカ粒子を含む酸化剤からの流れの処理
の中で、それが急冷媒体として腐肉性の溶液を利用するために望ましいかもしれ
ないことために‖シリカ粒子の除去を生じる。 その先行技術の排ガス処理システムと関係があり、現在の発明のシステムは、
抵抗及び腐食抵抗をじゃまする観点からのいろいろな利点、水使用の最小化及び
柔軟性を処理システムの排ガス・プロセス・ユニットの配置の中で、コンパクト
な、効率的な形態の中で成し遂げる。 それによって下流の設備の義務必要条件を単純化して、彼らがある熱い酸化部
屋及び間に、彼らが低温を得る前に、処理前のユニットはプロセス流れから微粒
子の及び酸性のガスを除去するためにその発明の排ガス処理システムに従事する
かもしれない。 先行技術システムがメカニズムの特別に栓を抜く導入をじゃまするかもしれな
い及び必要とするかもしれない間、現在の発明のシステムはそのシステムがその
一審をプラグインするのを妨げるために実質的に固有の流体の力学に頼る。 現在の発明の排ガス流処理システムは適当な小さい足跡を持っているコンパク
トな単位のキャビネットの中で配置されるかもしれないので、床スペース・エリ
アがそのキャビネットによってプロセス施設で要求したことは最小にされる。 その発明の排ガス処理システムが酸化ユニットをその排ガス流の中で種を酸化
させることのために利用するとき、酸化剤媒体はきれいな乾いた空気か、酸素か
、オゾンか、酸素濃縮空気か適当なキャラクタの他のどの酸素含有ガスでもある
かもしれない。そのような酸素含有ガスは扱われていた排ガス流に、その酸素含
有ガスの外部の源から加えられるかもしれない、あるいは、その酸素含有ガスは
その排ガス流の中でそれについて、上流の処理操作から生じている成分としてあ
るかもしれない。そのようなプラズマ処理を利用して、半導体製品の製造の中で
、例えば、オゾンはその排ガス流の中でオゾンを含む酸素-含んでいる種が生成
される上流のプラズマ処理部屋から生じている成分としてあるかもしれない。そ
のような例の中で、それについて、その排ガス流の中のオゾン贈り物は、例えば
気相や液体のフェーズ酸化反応によって、CO及び有機的な種のような成分で、減
少のために酸化条件でその流れの他の成分と相互に作用してもよい。 現在の発明の排ガス処理システムは排ガスを生成している一つの上流のプロセ
ス・ユニットの処理のために利用されるかもしれない、あるいは、代わりに、複
数の排ガス・ソースは贈り物（そのような成分の中で枯渇させられた放流水を生
むためにそのようなガス流の危険であるか一方望ましくない成分の減少のために
、その発明の排ガス処理システムへ輸送される全面流れに、組成の排ガス流がま
とめられる）であるかもしれない。 いくらかの例の中で、その排ガス流の構成が時間によって実行されていたプロ
セスを生成している違っている排ガスのために変化するならば、時間-変化して
いるモードの中で働くことは、望ましいかもしれない。NF3ガスの成分の生産に
なって、例のために、半導体製造の中で、タングステン化学気相成長（CVD）の
中で、シラン放射が堆積ステップの中で生成されるかもしれない及びそのような
CVD操作の後に続く、CVDリアクターはきれいにされるかもしれない。CVDステッ
プに由来したシランが激しくステップをきれいにしているCVDリアクターから、N
F3とともに化学反応してから、そのようなガスの成分は単位の処理のために混ぜ
られることができない及びしたがって、排ガス処理システムの中で別々の処理を
必要とすることができない。 現在の発明の一般の実行の中で、排ガス処理システムは、処理前のユニット（
その排ガスが水で上流にその排出流の酸化処理の中で事前の洗浄しているステッ
プを実行するために接触される）を利用するかもしれない。したがって、そのよ
うな前処理は水でスクラブすることを含むかもしれない、あるいは、代わりに、
ユニットがその排ガス流及び同様に廃水で、その酸化からユニットと接触して、
化学の中立化混合を使用することができたそのようなプレ処理は水か化学の中立
化混合を使って洗浄されることができた。それゆえに、処理されていた特定のガ
ス流にふさわしいように、現在の発明の排ガス処理システムの幅広い実行の中で
熟考された洗浄しているユニット操作は、どんな適当な洗浄媒体でも利用するか
もしれない。代わりに、洗浄することは洗浄することを濡らすよりはむしろ、乾
いた洗浄している操作として実行されるかもしれない。そのような目的のために
、多種多様なガス乾いたガス洗浄装置材料は、容易に市販である及びそのような
目的のために現在の発明の幅広い実行及びその技術の技術の範囲内で使用される
かもしれない。現在の発明の実行に従事した洗浄ユニットは、何の中ででも適当
な型であるかもしれない及び彼らの操作の中で問題をじゃましている固体を最小
にするために造られるかもしれない。 このように、現在の発明の排ガス処理システムは、形態及び組成の処理ユニッ
トの中で、広く変えられるかもしれない。そのような組成の処理ユニットは、酸
化成分の酸化を生じるために型を変えることで、熱酸化剤か、触媒作用の酸化剤
か、フレーム酸化剤か、透明酸化剤か、酸化性の湿式洗浄器（水のフェーズの中
で酸化を生じること）か他のプロセス・ユニットのような排ガス流構成の範囲内
であることがありえる酸化剤を含むかもしれない。 また、言及されるように、排ガス処理システムが、処理前のユニットを含むか
もしれない‖上流の設備からのガス流れが水の中間であるか化学の中立化構成で
または代わりに乾いたガス洗浄装置構成で接触される廃水が、その排ガス流の中
でその成分のいくつかの最初の減少を生じる‖以降の酸化及び洗浄している処理
。酸化ユニットは、造られるかもしれない及び以下により充分に記述されるよう
に、主な洗浄しているユニットと統合されるかもしれない急冷地帯への酸化剤ユ
ニットからの排ガスの温度が効率的な以降の処理のために著しく減らされるそれ
によって熱い排ガスを射出するために配置されるかもしれない。そのユニットは
、行動を起こさせる流体の手段（ポンプ（ファン、圧縮器、タービン、その他）
のような活発な手段か引き出す人のような受動の行動を起こさせる流体のドライ
バー、アスピレーター、またはその種の他のもの）を使うかもしれない。 排ガス処理システムの‖現在の発明さらに、使用する、酸性の成分の除去のた
めにそこから、洗浄している、いろいろな中立化プロセスのためのまたは一方、
その排ガス流処理システムからの水の排出の目的のために要求されたpHレベルを
成し遂げるための水のメディアの使用と関連して。 更なる変異株として、その排ガス流の処理の中でその発明の排ガス処理システ
ムは、峡谷/羽制御のためにさらに湿った電気集塵機を含むかもしれない。 そのデザインのいろいろな面及び現在の発明の排ガス処理システムの構造は、
下で記述される。 酸化ユニットの温度被制御動作のために酸化剤ユニットは、適当な温度調節及
び熱追跡を備えているかもしれない。 それによって下流の設備の上で義務必要条件を減少させて、可能であるように
、そのガス流が酸化ユニットを入れる前に、排ガス処理前のユニットは多くの酸
としてガス及び微粒子をそのガス流から除去するために配置されるかもしれない
。言及されるように、そのような処理前のユニットはユニットか代わりに乾いた
洗浄しているユニットを洗浄している湿気か組成の湿った及び乾いた洗浄してい
るユニットを含んでいる組合せ湿った及び乾いた洗浄している組立部品を含むか
もしれない。潜在的に役に立つ湿った洗浄しているシステムは、湿ったサイクロ
ン、湿った包まれた塔及び湿ったスプレー塔を含む。そのような湿った塔は、ど
ちらの共同現在の流れかでも逆の流れ流れ制度の中で働くかもしれない。 排ガス処理システムの処理前のユニットは、例えばその塔の上の部分で、原子
にされた洗浄している水を導入するために窒素によって援助された原子にしてい
るノズルを利用する湿ったスプレー塔を含むかもしれない。化学の追加が要求さ
れるならば、化学の混合は該当する化学の記憶をもつインライン液体のベースの
静的なミキサーのような手段及び測定の使用によって、実行されるかもしれない
。窒素によって援助された水原子化は、排ガス処理システムの水消費を最小にす
る及び排ガス構成要素が上流に酸化ユニットの中で空気とともに化学反応するの
を妨げるために有利に使用される。以下により充分に記述されるように洗浄器／
冷却塔の完全な部分として設計されるかもしれない共通のホールディング貯蔵に
、そのような湿った処理ユニット操作からの液体は、水抜きをされるかもしれな
い。更なるバリエーションとして、処理前のステップがスプレイ供給されたベン
チュリ管ノズルで操作と取り替えられるかもしれない湿ったスプレーが酸性のガ
ス吸収及び微粒子の除去を生じること。 このように、湿った洗浄しているユニットの準備の中の現在の発明は、上流に
酸化ユニットの中で酸化ユニットの中で酸化ユニットの中に存在している条件の
粒子-化成エージェントである排ガス流成分を洗浄することによって微粒子の形
成を制御する能力を提供する。 酸化ユニット先に示される、どんな適当な構成ででも造るかもしれない。例え
ば、酸化ユニットは、広角の2枚貝の貝がらを利用している電熱の酸化剤によっ
て、ヒーター表面及び熱いチューブの間の大きいギャップを持っている電気の光
を発するヒーターと指令されるかもしれない。 特定の実施例の中で、スパージャーを通して導入されていた排ガスで、酸化ユ
ニットは一つの垂直な熱いチューブを含むかもしれない及び、抑制する窒素さや
の中でおおわれていた排ガスで、その排ガスまでの反応が実際に酸化部屋の中で
ある。酸化部屋か、空気か他の酸化剤媒体の範囲内の一度は、同軸におおわれた
排ガス流であふれるために注射されるかもしれない。排ガス導入手段は、再循環
地帯、渦、淀み地帯及び酸化ユニットの操作の中で粒子蓄積を引き起こすことが
できた他の変則の流れ動作を防ぐためにイソ−キネティックの層流をシミュレー
ションするために密接に望ましく造られる。 要求された動作温度制度を成し遂げるためにそのような酸化ユニットの中の熱
いチューブは、適当な熱制御手段によって選択的に制御されるかもしれない。最
小限の温度条件が酸化成分の点火及び破壊を酸化ユニットの中で成し遂げること
を要求されるかもしれない間、また、過度に、高温は粒子アグロメレーション及
び蓄積をチューブ壁表面で促進するかもしれない。それゆえに、熱いチューブ酸
化ユニットは、酸化ユニットを通して流されていた排ガス流の中で、流体の流れ
移行を乱気流に発起することによってチューブ横の壁の上で粒子アグロメレーシ
ョンを防ぐために伝熱-改良しているチューブ挿入物を利用するかもしれない。 代わりに、酸化ユニットは、より高いガス流流れ速さを適応させる熱交チュー
ブの束を含むかもしれない及びそれによってそのチューブの壁表面で、粒子アグ
ロメレーションを抑制するかもしれない。チューブがバンドルするそのような熱
交換では、向上が挿入する熱移転は使用されるかもしれない、そのことは酸化ユ
ニットの一つの垂直な熱いチューブ構成と関連して、上記を記述した。 更なる選択肢として、酸化ユニットは、連続的に螺旋形になっているガス流れ
パスの準備を通してそのガス流の中で粒子の荒れ狂うアグロメレーションを最大
にしている間高いガス流速さ及び長いレジデンス時間を適応させるねじられたチ
ューブの複数のバンクを含むかもしれない。そのような配置は、固体のガス流れ
流れからの以降の除去が容易に実行される点に、粒子サイズの増加を与えるかも
しれない。 処理されていた排ガス流の特定の化学の構成を、妥当に尊重して、構造の酸化
ユニットのための材料は、構造のどんな適当な材料でも含む。HF及びHClと関係
があるよい抵抗特性で適当な材料は、高温酸化に抵抗力がある合金を含むかもし
れない。パーフルオロカーボン成分の破壊を避けるために、酸化ユニットは減じ
ている環境の中で操作されるかもしれない及び、適当な合金はそのような減じて
いる条件に耐えるために構造の材料として雇われるかもしれない。この点で、現
在の発明の排ガス処理システムは、ユニットを、それについてリサイクルか他の
配置のためにその排ガス流のパーフルオロカーボン成分を回復することのために
利用するかもしれない。 更なるバリエーションとして、酸化ユニットは、電気的に燃やされたヒーター
で高温へのその排ガス流と混ざり合うことの空気であるか他の酸化剤媒体の加熱
のために造られるかもしれない。そのような配置はいくらかの例の中でその排ガ
ス流の中で、接触に酸化成分の自己着火を提供するかもしれない及び、酸化剤媒
体及びこれと混ざり合うことは酸化ユニットの全面酸化効率を増やすかもしれな
い。 まだもう一つのバリエーションとして、酸化ユニットは、透明な酸化ユニット
として造られるかもしれない。 酸化ユニットは、高い温度にある酸化させられた排ガス流を生産する。そのよ
うな熱い流れは、静まるために服従させられるか、以降の処理及び最終的な排出
のために、排ガス処理システムからその温度を減らすためにしたがって、涼しく
なっている。 したがって、排ガス処理システムは、下流に酸化ユニットの中で急冷ユニット
を含むかもしれない。急冷ユニットは空気力の水噴霧ノズルで、水と接触するた
めに例えば一つの垂直なチューブを含むかもしれない、あるいは、もう一方は熱
い排ガスで酸化ユニットから媒体を消す。はっきりした熱／冷インタフェースを
提供するために溢流堰インタフェース構造は、急冷セクションの中で提供される
かもしれない。急冷ユニットは、露点耐衝撃性の合金のような適当な合金から造
られるかもしれない。例は、Al6XN、カーペンター20、HaC-22及びHaB合金を含む
。急冷ユニットは、排ガス処理システムの他のプロセス・ユニットに対する反対
の熱効果を最小にするために望ましく造られる。 急冷ユニットは、代わりにシェル側の冷やした水供給で、熱移転を生じるため
にフィルム酸性の吸収コラムを落しているマルチチューブ平行流を含むかもしれ
ない。 酸化ユニット及び急冷ユニットは、一つの垂直なオリエンテーションの中で変
則の流れ動作及び粒子蓄積を最小にする単位の線形のガス流れパスを提供するた
めに整列するかもしれない。 静かな更なる選択肢として、急冷ユニットは、スプレイ供給されたベンチュリ
管急冷装置によって、消失及び粒子除去目的のために構成されるかもしれない。 現在の発明の排ガス処理システムは、下流に酸化ユニットの中でガス洗浄装置
を利用するかもしれない。パックするコラム及びデフロスター・パッドのトップ
か他の霧を除いている手段thereoverの上の液体の注入多様性でそのようなガス
洗浄装置は、一つの垂直な包まれた塔を含むかもしれない。冷やされるかもしれ
ない、該当する温度で、その排ガスに関して酸化ユニットから射出されるかもし
れない及び消失か事前の冷却を上流にそのガス洗浄装置の中で選択的に受けるか
もしれない液体のフィード水で、そのガス洗浄装置は、供給されるかもしれない
。したがって、そのガス洗浄装置は、洗浄することは給水するガス洗浄装置塔及
びプレ冷却の隣に、立っていることができるチラーか他の水の洗浄媒体を取り入
れるかもしれない。残された霧（小さいサイズ水小滴）を最小にするか、除去す
るためにデフロスター・パッドの使用か類似した機械の手段の代わりに、その発
明の実行の中の洗浄ユニットは、より大きい小滴水「ノックダウン」スプレーで
、そのガス流から霧成分を除去するために接触するガス流を服従させることによ
るそのような霧成分を最小にするか、実質的に除去するために流体力学的に造ら
れるかもしれない。 それによって、一般に行われている周囲の関係湿度条件の下で水蒸気の量を減
らすために下記の周囲温度にその排ガス流を冷やすために例えばその排ガス流が
ツールを製作している半導体から生じるとき、操作を製作している半導体の環境
の中で、スクラブする際の冷やした水の使用は、望ましい。また、冷やした水の
使用が、thermophoreticを導入するために望ましい‖酸性のガス吸収及び微粒子
の吸収を包まれたコラムの中で改良するために生じる。 代わりの洗浄ユニットが、冷やした水フィードで落ちているフィルム酸性の吸
収コラムを含む、吸収コラムのシェル側の。そのような洗浄ユニットで、処理前
のユニット、その渇きをいやすもの及びその洗浄ユニットからの液体は、共通の
貯蔵へのガス洗浄装置コラムの底の流出に流されるかもしれない。そのような方
法では、排ガス処理システムからの使われる液体の流れはまとめられる及び、そ
れについて、そのような貯蔵は重力フィード操作のために配置されるかもしれな
い。 代わりに、排ガス処理システムの中の組成のプロセス・ユニットからの洗浄し
ている液体の及び他の液体の流れは、気圧調節をされるかもしれないか、そのシ
ステムから、遠心力のポンプか、臑動ポンプか、空気ポンプか、水-供給された
引き出すものか他の適当な液体の行動を起こさせるドライバー手段のような手段
を適当にポンプで揚げることによって射出した。 包まれたコラム・ガス洗浄装置の中で、デフロスターは使用されるかもしれな
い。そこに処理されていた流体の流れの中で、該当する抵抗するキャラクタのコ
ーティングを腐食性の種と関係があるようにして、排ガス処理システムの他の成
分と同様に、ガス洗浄装置コラムは、金属合金のような、どんな適当な材料かで
もおおわれている構造上の鋼であるか他の金属の中で作り上げられるかもしれな
い。 現在の発明の排ガス処理システムは、どちらでも造られるかもしれないか、使
われる液体の再循環に対する準備なしで流れる。言及されるように、その洗浄ユ
ニットは乾いたガス洗浄装置を含むかもしれない及び、その洗浄ユニット及び渇
きをいやすものユニットを乾いたガス洗浄装置カートリッジ・ユニットと取り替
えることはいくらかの例の中で実行可能かもしれない。また、湿ったか乾いた化
学の注入の使用をその洗浄ユニットに許すためにそのガス洗浄装置は、オプショ
ンの化学の処理前のユニットを備えているかもしれない。 引き出す人は、排ガス処理システムを通してその排ガス流に描く行動を起こさ
せる力を提供するために使用されるかもしれない。そのような引き出すものは、
耐衝撃性の及び耐詰まり性のデザイン（変調している弁及び制御で、きれいな、
乾いた空気であるか他の流体の引き出されたものを利用する）の中で、好んで排
ガス処理システムに要求された圧力レベルで該当する入口圧力を提供することで
ある。処理システムに従事するとき、また、その引き出すものは水ガス洗浄装置
から水蒸気飽和した排出流れまで、熱い乾いた空気の流れを供給するために使用
されるかもしれない。このように、熱い乾いた空気のそのような準備は、周囲の
飽和した条件の下でその排ガス流の関係湿度を下げるのに役立つ。その引き出す
ものは、空気か、窒素か他の適当な引出している媒体を利用するかもしれない。 また、そのような射出されたガスの中のすばらしい微粒子の捕獲のために引き
出すもの排出の濾過法を許すためにその引き出すものは、適当な濾過法モジュー
ルに結びつけられるかもしれない。 現在の発明の排ガス処理システムは、多種多様な上流のプロセス設備から排ガ
ス流の処理のために利用されるかもしれない。例えば、排ガス処理システムの中
で処理された排ガスは、ウェハースが、そのツールの以降の清掃で部屋壁、台要
素及びツール組立部品の電極から、過剰なタングステン沈澱物を除去するために
その上にタングステンを置くために処理されるプラントを製作している半導体の
タングステンCVDツールから、廃水を含むかもしれない。 多種多様なchemistries及び廃水が半導体製造設備の操作の中で生成されるか
もしれないことは、及びその構造、配置及びその発明のシステムが広く変えられ
るかもしれない排ガス処理の操作が上流のプロセス設備のそのツール及び製作し
ている操作から射出されたガスの処理を生じることは、認められる。 今をその図面に委託して、図1-3は発明（投げつけられたライン表現の中で図3
の中でガス排水処理のためにその発明のもう一つの実施例に記載のその流れ図の
バリエーションにシステムを見せる）の1つの実施例に記載のガス排水処理シス
テム10のための概要の流れ図の連続的なセクションである。 引き続いて起こる発表の中で、その図面の中でそのような目的のためにおおま
かに写真入りの形式に翻訳された発明の顕著な特徴の議論を容易にするために弁
、計測及び補助の制御手段は明快さのためにいろいろに省略された。それが、認
められる、笛を吹く、弁で調節する、計測及び制御手段は、いろいろに構成され
るかもしれない及び、その技術の技術の範囲内で現在の発明の幅広い実行の中で
インプリメントされるかもしれない。 熱を含んでいる冷やした水熱交12がそこに通過14を交換する流れ図特徴の水を
冷やした図1つのセクションは、第16行から流される及び第18行の中で射出され
る。 第16行は、そこに弁26を含んでいる第24行の水抜きをするために加わられる。
ライン16及び18は、そのチラーの効果を最大にするために適当に絶縁されるかも
しれない。示されるように、第30行の中の水はチラー12を通して流される及び種
々のライン（その水が1つの部分で流れられていた第34行の中で2つの部分に分割
される）32に、そのシステムを渡される及び、もう一方は第36行の中で導入のた
めに排ガス流処理前のコラム40にスプレー頭38に渡されることを分ける。 排ガスは、第62行の中で導入される及び処理前のコラム40に移った。第62行は
熱追跡64でその長さに沿って絶縁されるかもしれない及び、絶縁された熱たどら
れたキャラクタの、枝ライン66は図2の中で示された流れ図の次のセクションに
移るかもしれない。 第42行がプロセス・システムのためのオキシダント・ガス・フィード・ライン
である、第44行はきれいな乾いた空気のラインである及び、第46行は示された枝
として窒素にその水に処理前のコラム40に流されていた第36行の中で、窒素を導
入するために第47行を供給するかもしれない窒素供給ラインである。オキシダン
ト・ガス・フィード第42行は、酸素か、オゾンか、空気か、酸素濃縮空気か、一
重項酸素か他のオキシダント・ガスのようなオキシダント・ガスの適当な源（示
された）につながれるかもしれない。 その排ガス流は、コラム入口セクション50への第62行の中で導入される及び窒
素の追加によって枝第48行もしもから及び要求された範囲に増やされるかもしれ
ない。その排ガス流は、プレ・コラム40の中で図3の中でその流れ図の部分に渡
される第60行の中で、底を生産するために扱う。図2の中でリアクター90に渡さ
れる第68行の中で、その上の終わり52のコラムは、オーバーヘッドを生産する。
そのオーバーヘッドの部分は第56行の中でそのコラムにリサイクルされるかもし
れない及び、示されるように、更なる還液はその第58行によって適応させられる
かもしれない。 図2の中で、システム116は、結合されていた枝導管108からの第44行からの第4
2行及び選択的にきれいな乾いた空気の中のオキシダント・ガス（例えば、酸素
、オゾン、その他）でそのリアクターの上の終わりに渡される第110行の中で、
酸素-含んでいるオキシダント・ガスを提供するためにその上の終わりでライン4
6から窒素を受け取っている酸化リアクター90を含む。 第34行の中の水は、枝ライン（図3の中で示されたシステムのセクション120に
渡される）96への多様性94で及び枝ライン（流体の流れが第44行の枝ライン97か
らのきれいな乾いた空中のそばで増やされるかもしれない及び酸化リアクター90
の中でノズル102に移った）98に分けられる。きれいな乾いた空気の余りは、第1
12行の中でプロセス・システムの図3つの部分に流される。 また、酸化リアクターは、入口92を通してリアクター容器の中間の部分で、第
100行から水を受け取るために配置される。通過86がそこに送電線（ヒーター88
が第68行の中で酸化リアクターに導入された排ガス流の熱酸化のために、そのリ
アクターの電気の抵抗加熱を提供するために動かされる）80の枝ライン82及び84
に結びつけた熱交換を含んで、そのリアクターは、リアクター・ヒーター88を特
徴とする。示されるように、酸化リアクターはそれについて上の及び下部の終わ
りを相互に連結させている再循環第106行を備えているかもしれない。そのリア
クターからの廃水は、第104行の中でプロセス・システムの図3つの部分に流され
る。 図3は、プロセス・システムの部分120を含む及び一列に並んで導入される水で
ノズル126に96を洗浄するために内部のボリューム128を定義しているガス洗浄装
置124を含む。その排ガス流は、そのガス洗浄装置に第104行の中で導入される。
第132行の中のガス洗浄装置蒸留残渣は、ライン60の中の排ガス流プレ処理から
の液体でつながれる、そのシステムから射出される及びそのような液体の廃水処
理か他の終わり使用配置に渡される。 おおまかに示されるように、第112行から処理システム廃水を生産するために
きれいな乾いた空気を供給される引き出すもの144への流れられる第130行の中で
、洗浄されたオーバーヘッドは排出150に第146行を渡される。その廃水が、その
追加によってそれにライン66からのバイパス蒸気及びそのような第66行の中で増
やされるかもしれない‖言及される、heat-tracedする及び絶縁する。 ポンプ136が第132行の中で入口を通して液体の底をリサイクルするために展開
されるその点では、排出液体のライン（液体のリサイクルの処理によってそこに
洗浄している操作を改良するために液体のリサイクルがライン96の中で洗浄して
いる水でつながれる）134に、第138行をポンプで揚げる。と、図3が投げつけら
れたライン表現の中で修正に明らかにする。それから、扱われた液体は、そのシ
ステムからそこに弁142を含んでいる第140行の中で射出される。 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の
流れ図である。このシステムの中で、ガス排出流は、ライン160、162、164及び1
66の中で導入される及びそれから通過180がライン178に接続した熱交換を含んで
いる両替商182が生じる熱に、まとめられた流れの熱交換を渡されるライン184の
中で、結合された排ガス流を形式につないだ。それから、熱-交換された排ガス
流は、第212行の中で排ガス流前処理コラム210に渡されるかもしれない。代わり
に、希望する場合、その排ガス流の一部または全体は、処理システムから迂回さ
れるかもしれない及び第186行の中で排出256までたれた。 冷やした水熱交174は、ライン168の中の冷やした水フィードを受ける及び帰り
の冷える水をリターン第172行の中で射出する。第170行の中の水は、そのチラー
を通り抜ける及び第224行の中で主な窒素フィード・ライン216からの枝第222行
の中の窒素でつながれる及び処理前のコラム210の中でノズル226を通して射出さ
れる。追加の窒素は、処理前のコラム210に第220行の中で主な窒素フィード第21
6行から導入されるかもしれない。 きれいな乾いた空気はそのシステムにライン176の中で導入される及び、それ
についてそれについて、部分は第240行の中で上の終わりで、窒素と共に第216行
の中でリアクター198に渡されるかもしれない。オゾンのような酸素か他のオキ
シダント・ガスは、そのリアクターに第214行の中で導入される。そのリアクタ
ーは、第230行の中で処理前のコラム210からそのオーバーヘッドを受け取る。示
されるように、送電線218はリアクター198の電気の抵抗ヒーター200に、エネル
ギーを提供する。 その上の終わりで酸化リアクター198を含んでいる容器の急冷部分は入口208で
第202行から水を受け取る及び、水及びきれいな乾いた空気と混合は第204行の中
でノズル206にその容器の急冷部分の中で導入される。その容器の急冷部分は、
ガス洗浄装置194と通信する。その上の終わりのガス洗浄装置は、ノズル196で第
192行から水を受け取る。 そのガス洗浄装置からのオーバーヘッド・ガスは、第250行の中で第250行の中
で引き出すもの252に渡される。その引き出すものは、第259行の中で第240行か
らきれいな乾いた空気を受け取る。それから、第254行の中の引出された流れは
、第186行からのどんな迂回された排ガスででもつながれる及び第258行の中で処
理システムの排出256に流される。 排ガス流処理前のコラム210からの底及びライン236の中のガス洗浄装置194か
らの底は、第238行の中で加わられる及び廃物の液体の排出か他の処理に渡され
るかもしれない。 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要の流れ図である。
その排ガス流は、第312行の中で処理前のコラム308に、窒素と共に第310行及び
水の中でノズル306を通して導入された第302行の中で導入される。ノズル306へ
の水流れは、リサイクルされた液体で第304行から増やされるかもしれない。 第314行の中の処理前のコラム・オーバーヘッドは、また、オゾンのような酸
素か他のオキシダント・ガスを第330行及び窒素の中で第328行の中で受ける酸化
リアクター334に渡される。リアクター334を含んでいる容器は電気の抵抗ヒータ
ー332を備えている及び、急冷水は容器333の下部の急冷部分に、第324行の中で
導入される。給水される、さもないと、空気/水混合は容器333の急冷部分の中で
、ノズル322でライン（希望する場合リサイクル液体によって第318行から増やさ
れる）320から注射される。 第341行の中でポンプ342でポンプで揚げられた容器338から、化学物質340を扱
って、第344行の中で流されていた及び接続されていた水を洗浄することで、ガ
ス洗浄装置336の排出は、ライン356の中でガスを洗浄しう形式にとって、洗浄し
ている液体は、第346行の中で流れる及びガス洗浄装置336にノズル350の中で導
入された洗浄媒体を提供するためにリサイクル液体と第348行で結び付いた。そ
のガス洗浄装置からの蒸留残渣は第304行の中で廃水熱交352に流される及び、熱
は冷やした水で第354行の中で交換した。 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つの流れ図の中
で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要の流れ図である。この図
6つの実施例の中で、ガス洗浄装置400は洗浄されたオーバーヘッドをライン402
及び底の中で第404行の中で射出する。第430行及び熱の中で導入された水を含ん
でいる洗浄している液体のための構成が熱交416の中で本線410のライン412及び4
18の中を流れている冷やした水によって交換したように、液体の底の部分がライ
ン（熱交414の中で冷やした水によってライン410の中で交換された熱）408の中
でリサイクルされるかもしれない及び使われるかもしれない。結果として生ずる
洗浄している液体は、ポンプ426で第424行から第428行までポンプでくみ出され
た容器420から、化学物質422を液体に扱う追加によって、さらに増やされる及び
第430行からの洗浄している液体といっしょに行動する及び第406行の中でガス洗
浄装置400の中でそのノズルに移った。 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要の流れ図である
。 図7の中で、その蒸気は第442行の中で処理前のコラム438に、水とともに導入
される、あるいは、ライン（その蒸気が液体でライン446からオーバーヘッドを
生産するために接触される）440の中の水/窒素混合は第443行の中で酸化リアク
ター450に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダント
・ガスを第454行及び窒素の中で第452行の中で受ける。リアクター450を含んで
いる容器のより低い部分は、第458行の中の空気及びライン456の中の水と共に、
急冷セクションの中でノズル460でライン448の中でリサイクル急冷液体を導入で
受けている急冷セクションである。 示されるように、第468行の中の処理前のコラムの底及びそれとともに第470行
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、464が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン472から第478行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第472行の中のリサイクル液体は、熱交472の中で冷やした水によっ
て第476行の中で交換された熱であるかもしれない。 第478行の中の洗浄している液体は、追加によってそれに化学の液体の中で第4
94行から増やされるかもしれない。そのような目的のための化学の液体は、容器
480に第484行の中で導入された第482行及び乾いた化学物質に、容器4809を混入
することに導入された水でできている。代わりにまたはその上に、容器486の中
の液体の化学物質は、第488行の中でポンプ490で化学の液体がそのようなライン
の中で導入された水で薄められるかもしれない第492行にポンプで揚げられるか
もしれない。このように、図7の中で示されたシステムは洗浄している液体の中
で湿ったか乾いた化学の追加を利用するために構成される、必要かもしれないか
与えられた終わりで望ましいかもしれないように、その発明の処理システムの応
用を使う。 図8の中で、その排ガス流は、第498行の中で処理前のコラム500に、水か水/窒
素混合とともに第496行の中で導入される。そのような流体の部分は、ライン504
の中で楽しむかもしれない、ライン506からのリサイクル液体と化合する及び処
理前の容器の中でそのノズルに移った。 処理前のコラム500の中で、第502行の中でリアクター510に渡されたオーバー
ヘッドを生産するためにその排ガス流は、液体で接触される。そのリアクターは
、オゾンのような酸素か他のオキシダント・ガスを第516行及び窒素の中で第518
行の中で受ける。リアクター450を含んでいる容器のより低い部分は、ライン512
及び514の中の水と共にライン508の中でリサイクル急冷液体を受けている急冷セ
クションである。 それが熱交538の中で冷やした水によって第530行の中で交換された熱であった
あと、520が以前に造られるガス洗浄装置はライン540の中の洗浄している液体を
記述する及び受ける。第524行の中のガス洗浄装置蒸留残渣はライン526から処理
前のコラム底と組み合わせられる及び、第506行の中でリサイクルされていた結
合された底液体の部分で第529行の中の結合された流れは廃水に廃物の液体の処
理か他の配置を渡されるかもしれない。洗浄された排ガス・オーバーヘッドは、
そのガス洗浄装置から第522行の中で射出される。 図9の中で、その排ガス流は第546行の中で処理前のコラム542に、水とともに
導入される、あるいは、ライン（その排ガス流が液体でライン548からオーバー
ヘッドを生産するために接触される）544の中の水/窒素混合は第550行の中でリ
アクター560に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダ
ント・ガスを第562行及び窒素の中で第564行の中で受ける。リアクター560を含
んでいる容器のより低い部分は、第556行の中の空気及びライン554の中の水と共
に、そのノズルでの急冷セクションの中の導入のためのライン558の中の液体が
そこに内側に配置したリサイクル急冷を受けている急冷セクションである。 示されるように、第552行の中の処理前のコラムの底及びそれとともに第558行
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、556が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン560から第582行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第560行の中のリサイクル液体は、熱交564の中で冷やした水によっ
て第568行の中で交換された熱であるかもしれない。 第572行の中で導入されて、その水をもつ熱交換のために、第568行の中の冷や
した水の部分は、第570行の中で引っ込められる及び熱交580に移った。第582行
の中の化学物質/水溶液を混ぜ合わせられる及びそのノズルにガス洗浄装置556の
上の終わりで、その後導入されるようにライン560からのリサイクル液体との以
降の組合せのためにライン572の中で洗浄している水を増やすために化学の添加
物は、貯蔵574から第576行の中でポンプ578の動きの下で加えられるかもしれな
い。このようにその排ガス流の中で洗浄することはそのガス洗浄装置から第562
行の中で射出された洗浄されたオーバーヘッドを生産するために実行される。 処理前のユニット、酸化ユニット及びガス洗浄装置を利用して、図10はまだそ
の発明のもう一つの実施例に記載の排ガス処理システムの概要の表現である、そ
のガス洗浄装置及び酸化ユニットが急冷部屋を通してつながれるその点で。 排ガス処理システムの入口606を入れる第604行の中で、上流のプロセス・ユニ
ット602は、排ガス流を射出する。入口606は、ガス流れ通信の中で開いた排出終
わり610を持っている内の管状のメンバー608でつながれる。その間で内部の環状
のボリューム612を提供するために管状のメンバー608は、外の管状のメンバー61
8の中で同心で配置される。外の管状のメンバー618は管状の拡張（供給容器624
からのガスが管状の拡張622に第626行の中で流れのために内部の環状のボリュー
ム612を通して、内の及び外の管状のメンバーの間で、適当に流される）622によ
って定義されたガス入口ポート620を備えているので、その排ガス流が内の管状
のメンバーの開いた排出終わり610で射出したことはガス供給624から供給された
ガスの中でさやに納められる。 ガス供給624からガスの流れを調整する目的のために、第626行はフロー制御弁
か他のフロー制御手段を管状の拡張622にガスのあらかじめ決められた流れ率を
生じるために含むかもしれない。 入口構造の外の管状のメンバー618が、斜めに切られた排出終わり630を持つ、
そしてそれは‖そう配置する外の円筒形のメンバー618の最大長さ周囲の部分が
、そのような管状のメンバーの最小限の長さ周囲の部分より上にある。このよう
に、最大長さ周囲の部分は、排ガス流（そのようなさやに納められた排ガス流の
中でその流れ落ちで処理前の塔634で液体632と尚早に接触することなく保護する
ガスの中でガス供給624からさやに納められる）の流れの開発を許すために「突
出」構造の役目を果たす。 コレクション及び排水のその塔から液体を洗浄する導管638の中で準備をして
、下部の穴貯蔵636で、おおまかに示されるように、処理前の塔634は造られる。
スプレー・ノズル642が前段洗浄液体で液体の供給646から供給された導管644及
び導管644に結びつけられた第648行から供給されたならば640がある上の部分で
、その塔は、造られる。第648行は、適当なフロー制御弁か他の手段を塔634に前
段洗浄液体の流れを調整するために含むかもしれない。このように、上流のプロ
セス設備602からの排ガス流は、塔634の下部の部分650への入口構造を通して導
入される及び流れに対向してスプレー・ノズル642から射出された前段洗浄液体6
32と接触する。このように、その排ガス流は、微粒子を除去する前段洗浄ベッド
及びそのガスの酸性の成分である。そこから伴出された水を除去するデフロスタ
ー・パッド652を通して、それから、導管654を入口ユニット（被覆を受けている
高圧670と通信している導管668がガス・ソース672から第674行までガスを供給す
るより大きい同心円に関して、導管654が同心で配置される）666に伝えている霧
を除かれた排ガス混合で通過して、それから、前段洗浄ベッド排ガスは、塔634
の上の端を通り抜ける。外の導管668は、中間の供給678が第680行によって高圧6
76につないだオキシダントから、空気か、オゾンか、酸素か、酸素濃縮空気か他
の酸素含有ガスのような、オキシダント媒体を受け取っている高圧676によって
、順番に回りに境界線を引かれる。それぞれのガスの流れを調整するためにその
第674行及び680はフロー制御弁か他のフロー制御手段をそこに含むかもしれない
。そのような入口構造666によって、その排ガス流は、導管654の中で入る、供給
672からの窒素か他の不活発なガスの中でさやに納められる及び酸化剤ユニット6
82に酸化剤媒体で供給678から生じている高圧676から、流れと同方向に導入され
る。 酸化ユニット682は、そこにガス流れパス686を定義しているガス流れ通過684
で、部屋がヒーター688によって回りに境界線を引いたマルチ-地帯酸化反応であ
るかもしれない。ヒーター688が、電熱のユニットであるかもしれないか、適当
な加熱が意味する、ガス流れ道686のガスが適当に高さに温度を熱されるそれに
よってもう一方がその酸化成分の酸化を生じる何でも含むかもしれない‖そのガ
ス流。 以下により大きい詳細の中で記述されるように、それから、酸化させられた排
ガス流は導管684の中でしたたる堰ガス／液体インタフェース構造690に移る。し
たたる堰ガス／液体インタフェース構造は、液体のフィード第694行を通して液
体の供給692から液体を受け取る。したたる堰ガス／液体インタフェースは、導
管684のそのような内部の壁表面が酸化ユニット682の中で扱われた排ガス流の中
で、熱い、腐食性の反応製品から分離されるために、急冷部屋696への近接の中
で、導管684のより低い壁を保護するために作動する。同時に、微粒子を伴出す
る及び彼らの蓄積及び癒着を導管684の内部の壁表面で防ぐためにしたたる堰ガ
ス／液体インタフェース構造は、導管684のそのような内部の壁表面で、インタ
フェース構造690の下で水の落ちているフィルムを供給する。 その排ガス流の中で涼しくなって、同時に部屋（結果として生ずる空気／水の
流れが急冷部屋696でノズル708によって射出される）706を溶け込ませることへ
の704が生じるラインを通しての供給702が消す水からの急冷水の流れで、急冷部
屋696では、急冷空気は、急冷空気の供給698から第700行まで急冷部屋に流され
る。 それから、それについてそれについて上の部分714への下部の部分712から、包
まれたベッド716及びデフロスター・パッド718を通して、静まられた排ガスは、
洗浄ユニット710に注ぐ、その洗浄ユニットからオーバーヘッド導管720の中で引
き出すもの722の動きの下で射出される扱われた排ガス流を生産するために、排
出第724行の中の排水処理システムからの最終的な排出のために。 フィード導管728によって供給貯蔵730から洗浄媒体を供給されて、洗浄ユニッ
ト710はそこにスプレー・ノズル726を持つ。その洗浄ユニットの洗浄している効
力を改良するために化学のアジュバントを含んで、選択的に、その洗浄媒体は、
水か他の水の媒体であるかもしれない。 また、第638行の中で処理前のユニットから底液体を受け取るタンク754に、急
冷部屋には、液体の急冷及び洗浄している液体のコレクション及び流れのために
、排出導管752の中でそこに下部の穴部分750がある。システムが、該当する酸か
ベースの追加のような処理戦車756の中の試薬、一つ以上の処理化学物質が加え
られるかもしれないそれによってそのような目的のために、ポート758、760及び
762を以降にしている戦車754で、おごられるかもしれない排水処理の中のプロセ
ス・ユニットからの最終的な扱われた液体がそのシステムから射出されるかもし
れないそのような「液体の底」は、導管764を射出する。 あることはキャビネット800の範囲内で横になったように、代理をされて、お
おまかに、図11は現在の発明のもう一つの実施例に記載の処理システムの概要の
表現である。 図11の排ガス流処理システムは、その廃水を輸送しているフィード第804行が
ガスを供給する廃水から、廃水を受け取っている導管802が、半導体製造設備の
ような上流のプロセス・ユニット806から、流れ出させる排ガス流入口を特徴と
する。入口導管802は、第818行の中で貯蔵816からガスを受け取っている入口ポ
ート814を持っている円筒形の壁812を含んでいる構造810を覆っているガスと通
信する。壁812は、内部のガス透過性の壁820で貯蔵816から導入されたガスがガ
ス透過性の壁820の中を流れる及び入口導管802から導入されていた排ガス流れ流
れを覆う内部の環状のボリューム822を定義する。それから、排ガス流れ流れは
、下方へ処理前のユニット826の第一の足824の中を流れる。処理前のユニットの
第一の足824は、順番に空気及び水（示された）の適当な源につながれるフィー
ド導管830に接続していたスプレー・ノズル828を備えている。そのような方法で
、ガス流れがその空気／水スプレイで接触される下方へ流れる廃水がそのガスを
前もって処理する及びノズル828からその排ガス流から水のフェーズの中で微粒
子を伴出するために導入されているのと、同じくらいよくその酸性度を減らすこ
と。種々の導管842によって洗浄ユニット（この後より充分に、記述される）の
穴840と通信して、それから、結果として生ずる液体は、処理前のユニット及び
流れの下部のU形の部分832の中で、導管834によって穴836に集まる。 それからその空気／水スプレイでプレ処理の第一の足の中で、ユニットと接触
することの後に続く排ガス流は、上方へそのようなユニット（その排ガス流が流
れ落ち水スプレーで適当なソースへの液体のうちの848が例えば給水する導管か
他の洗浄媒体（示された）によってつながれたノズル846から、流れに対向して
接触される）の二番目の足844の中を流れる。処理前のユニット826から、十分な
温度にそのガス流の有害な酸化成分を酸化させる及び破壊するために熱されてい
る間、熱酸化ユニット（その排ガス流がある内部のボリューム856を通して、排
ガス流れパイプ854を含む）852への導管850の中のプレ扱われた排ガス流通過は
流れた。それから、酸化させられた排ガス流は、熱酸化ユニット852から、した
たる堰ガス／液体インタフェース構造860まで、以下に、急冷の導入のためにフ
ィード・ポート864を備えていた急冷部屋を、水か、ガス洗浄装置塔870に空気／
水スプレイのような媒体と指令する導管862の中で、それからその排ガス流であ
ふれる充分により記述するように、射出される。ガス洗浄装置塔には、下水管87
6を通して穴（その液体が多様性842及び連合した下水管を通して水抜きをされる
かもしれない）840に、蓄積された液体の水抜きをする底貯蔵874を含む下部の部
分872がある。フィード導管880を通して洗浄媒体（示された）の適当な源に結び
つけられる、水か他の水であるか洗浄している媒体を含むかもしれないその上の
部分で、ガス洗浄装置塔870は、ガス洗浄装置中間のスプレー・ノズル878を備え
ている。洗浄されたガスのその湿気か液体の含有量を減らすためにガス洗浄装置
塔は、ノズル878より上にデフロスターか他の液体のディス−エントレイメント
手段（示された）を適当に含む。洗浄されたガスが、ガス洗浄装置塔の上の端89
0に上がる及びライン894を通してのオーバーヘッド導管892の中で射出される、
外面的に排水処理システムの中で内閣である‖800。 図11の中で示された配置によって、その排ガス流は、上流に下流に射出された
排ガス流の中で熱酸化ユニットを洗浄することが続いた熱酸化剤ユニットの後に
、処理を洗浄している二進数を受ける。 熱酸化剤ユニットは、例えば温度で最高2000ーFその排ガス流の高い温度処理
を提供しているかもしれないか、どんな適当な型の中ででもより高い。 酸化ユニット及び処理前の（すなわち、前段酸化処理）洗浄している及び後段
酸化洗浄しているユニットを一つの単位のキャビネット。の中で提供することに
よって小さい足跡（便利に半導体製造の範囲内でその排ガス流処理システムの展
開を適応させる）かその発明のシステムによって扱われていた排ガス流が位置す
る他のプロセス能力を持つコンパクトな装置形態は、提供される。 言及されるように、その排ガス流からの他の可溶化できるか一方スクラブによ
り取り外し可能な成分と同じくらいよく、現在の発明の排ガス流処理システムの
中の洗浄しているユニットは他の湿ったか乾いたガス洗浄装置か他の処理ユニッ
トと、微粒子及び酸性の成分を除去するために取り替えられるかもしれない。 図12は、第907行の中のキャビネット903を入れる及び処理ユニット905の中で
酸性の成分の除去及び微粒子の固体の除去のために処理される上流のプロセス90
1からの排ガスの処理のためのプロセス・システムの概要の表現である。それか
ら処理ユニット905の中で扱われたガス流は、第911行の中で酸化処理ユニット（
その排ガス流がその排ガス流の浄化のためにそのガス流の有害であるか望まれて
いない酸化成分を除去することによって酸化条件を受ける）913に流される。そ
れから、酸化させられた排ガスは、第915行の中で、行動を起こさせる流体のド
ライバー921の運動量の下で排水処理システムからライン919の中で射出される最
終的な扱われたガス流を生産するためにそのガスの処理を洗浄するためにユニッ
ト917を洗浄することに流される。言及されるように、行動を起こさせる流体の
ドライバーはファンか、ポンプか、タービンか、圧縮器か、その他か引き出す人
（アスピレーター、またはその種の他のもの）のような受動の装置のような活発
な装置であるかもしれない。 図12の排水処理システムは、それについて酸化処理の後に続く排ガス流の隠れ
ている熱を抽出するために及び該当する温度に酸化処理廃水を冷やすためにその
洗浄ユニットの中で917を効果的に洗浄するためにさらに急冷ユニット923を含む
かもしれない。 酸性の成分及び微粒子除去ユニット905は、水素弗化物吸収（そのような成分
の除去に捧げられる）のために、適当に処理前のサブシステムを含むかもしれな
い。 排水処理システムのいろいろな処理ステップの中で、水使用を最小にするため
にシステムが適当に湿って扱うかもしれない排水処理/乾いたインタフェース構
造の中のそれぞれの処理ユニットの、切れ込み/穴のような入口は、型か穴の多
い型インタフェースに注射する。 どんな適当な加熱手段かでも方法を利用するかもしれない酸化装置として、酸
化処理ユニット913は、シェル及びチューブ熱交を含むかもしれない。例えば、
該当する温度にその酸化成分の酸化のためにそこにその排ガスを熱するために光
を発する流動は、その熱交のシェル側面に携わっているかもしれない。 ユニット917を洗浄している後段酸化は、そのガスの中で濃縮を限定する及び
洗浄しているプロセスの効力を改良するために涼しくなるために熱交換手段を取
り入れるかもしれない。排水処理システムの中で操作を洗浄することは、洗浄さ
れた排ガス流の中でデフロスター・メッシュを水のディ−エントレインメントの
ために利用しているガス洗浄装置コラムの中で、実行されるかもしれない。その
コラムのオーバーヘッド内部のボリュームは、無効なボリュームとして微粒子の
固体のその排ガス流からの除去を改良することに対して用意されているかもしれ
ない。 現在の発明の排ガス流処理システムの更なる修正として、そのシステムは、ク
ロロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、その他の回復のために、ハロゲ
ン化炭素回復ユニット927を使用するかもしれない。発表されるように、そのよ
うなクロロ−フルオロカーボン回復ユニット（CRU）は造られるかもしれない及
び働いた出願中のグレンM.Tom（ほか）の08/395162 No.が1995年2月27日「METHO
D AND APPARATUS FOR CONCENTRATION AND RECOVERY OF HALOCARBONS FROM EFFLU
ENT GAS STREAMS」のためにファイルに入れたU.S.Patent Applicationの中で及
びGlenn M. Tom（ほか）のアメリカPatent Application No. 08/474517は、「PR
OCESS FOR REMOVING AND RECOVERING HALOCARBONS FROM EFFLUENT PROCESS STRE
AMS」のために1995年6月7日をファイルに入れた、その発表どれのこれによって
ここで彼らの全部の中のリファレンスによって取り入れる。このように、ハロゲ
ン化炭素回復ユニット927は、第925行の中で処理ユニット905の中でそのガス流
の洗浄しているか他の前段酸化処理の後に続く第911行から、排ガスを受け取る
かもしれない。要求されるように、それから、回復されたハロゲン化炭素はライ
ン929の中のCRUユニット927から射出されるか及びリサイクルされるかもしれな
いか、一方利用される。更なる選択肢として、そのハロゲン化炭素は、下流にそ
の排ガス流の酸化処理の中で回復されるかもしれない。 酸化処理ユニット913示される、熱交を含む及びより充分に記述されるように
、そのような熱交はそれの熱移転通過の中で挿入物を改良している熱移転を利用
するかもしれないU.S.Patent Application No. 08/602 ,134の中で、マークR.Ho
lst（「POINT-OF-USE CATALYTIC OXIDATION APPARATUS AND METHOD OF TREATMEN
T OF VOC-CONTAINING GAS STREAMS」のために、ほか）の名前の中で、1996年2月
15日をファイルに入れたその発表どれのこれによってここでリファレンスによっ
て完全に取り入れる。 おおまかに、図12の中で示された排ガス処理システムの更なる修正として、そ
れについて、パーフルオロカーボンの破壊が要求されるならば、回復よりもむし
ろ酸化のためのパーフルオロカーボンの低コスト水素源を提供するために急冷ユ
ニット923からの飽和した水/排出流れは、第931行の中で酸化ユニット913の入口
にリサイクルされるかもしれない。 前段酸化ユニット905が、化学物質が洗浄されていた材料の特徴を変えるため
に例えばアンモニアの追加を導入されるかもしれない前段洗浄器を含むかもしれ
ない、アンモニウム・ウォルフラム酸塩を生むためにタングステン・ヘキサフル
オライド廃水。アンモニウム・ウォルフラム酸塩は、それについて除去を洗浄す
るためによい溶解性特徴を持つ。 酸化ユニット913は、そのようなステップの中で反応物/製品固体の壁蓄積を除
去するために輸送チューブ・リアクターを含むかもしれない。 ユニット923が利用するかもしれない急冷が例えば水及び空気であるか他のガ
スの中で、複数の流体のインプットを使用するノズルを原子にして、減じること
はユニット・サイズを消す。そのような急冷ユニットは、代わりに消失操作を成
し遂げるために超音波のノズルか、ネブライザーか圧電気のノズルのような手段
を原子にすることを含むかもしれない。 他のどの適当な酸化設備も及び方法によって酸化ユニット913は電気の熱酸化
を利用するかもしれないか、フレームベースの酸化を通して一方酸化にも影響を
及ぼすかもしれない。フレームベースの酸化ユニットが、例えばメタン（プロパ
ン、水素、ブタン、その他及び一般に酸化ユニットに従事した酸化させている媒
体）が含むかもしれないどんな適当な燃料でも利用するかもしれない‖空気、オ
ゾン、酸素、酸素濃縮空気または他のどの酸素含有媒体。また、そのような処理
ステップの実行の幅広い範囲の範囲内で酸化ユニットは、流動床熱酸化剤ユニッ
トを含むかもしれない。 言及されるように、前段酸化処理ユニット905及び後段酸化処理ユニット917は
他のどの適当な前段酸化だけでなくも及び後段酸化処理手段だけでなくどんな適
当な型（乾いただけでなく湿ったガス洗浄装置）でものガス洗浄装置を含むかも
しれない。 したがって、発明が適している贈り物の排ガス流処理システムが多種多様な組
成の処理成分構成に表現されることは、及び、プラントを製作している半導体の
ようなプロセス施設の使用のためにそのような処理ユニットが単位のキャビネッ
トかハウジングに、簡明に表現されるかもしれないことは、見られる。 一般に、現在の発明の処理システムは、ガス／液体及びガス/ガス・インタフ
ェース構造の回りに境界線を引いている層をもつ排ガス流かガスか液体のさやを
「覆う」ことの用途を熟考する。その排ガス流のそのような被覆は、例えば、そ
のガス流のそのような被覆がない場合、起こる固形物蓄積及び堆積に関して、ガ
ス流れ通過の壁を含むことを保護するのを要求されるかもしれないまた、特に液
体のフィルムをさやに納めることの場合、微粒子のエントレインメント及びその
ガス流からの有害な成分の可溶化として。 そのようなアプローチの特定の構造上の特徴及び実施例の代理をして、それゆ
えに、実例となる種類のインタフェース構造は、この後記述される。 有効に現在の発明の排ガス流処理システムに従事するように、図13は現在の発
明の実例となる実施例に記載の詰まりにくい入口構造の概要の表現である。 図13の中で示された詰まりにくい入口構造は、その排ガス流処理システムの中
で、カップリングのためにそのガス流の源でそのような入口構造を吹いているプ
ロセスに接続可能である。上流にそのような入口構造の中で笛を吹いているプロ
セス・システムは、適当に、その配管の中で十分なエネルギーをそのガス流に加
えるために凝結するか、入口構造の中で高尚になるのをそのガス流の成分が妨げ
るために従来の方法の中のheat-tracedであるかもしれない。その配管か、導管
か、流れ通過か現在の発明の処理システムの中の流体の接触している構造の何で
も、そのような目的のために、たどられた熱であるかもしれないことは、認めら
れる‖そうでないもの‖プロセス・システムのパフォーマンスを改善する。 図13の中で示された入口構造1060は、入口フランジ1016を含む入口セクション
1007を含む。入口フランジは、その上の終わりでそのようなフランジの中で終わ
る上の環状のセクション1008のフランジ1018で、matablyに結合可能である。入
口セクションは、例えばツールを製作している半導体として設備1090を生成して
いる上流の微粒子の固体含有の流れに結びつけられるかもしれない。 環状のセクション1008は、ガス透過性の該当する気孔率の中で合っている内の
穴の多い壁1006及びその間で環状の内部のボリューム1020を定義している外の固
体の壁1009を含む。このように、内の穴の多い壁1006の内部の表面は、上の環状
のセクション1008の中で、流れ通過1066をはずませる。終わり壁1040及び1042に
よって環状の内部のボリュームを囲むためにその上の及び下部の終わりの外の固
体の壁1009は、内の壁1006に関して囲まれる。低い圧力ガスで、1022がある入口
ポートが低い圧力ガス・フィード第1024行をつないだならば、外の壁1009がある
。低い圧力ガス・フィード第1024行は、その外の終わりで低い圧力ガスの源1004
に接続している。環状の内部のボリューム1020に、低い圧力ガスの流れを適応さ
せるためにチェック弁1014は、低い圧力ガス・フィード・ライン1024の中で配置
される。また、フィード第1024行は、選択的に、そのシステムの操作の中でソー
ス1004から環状の内部のボリューム1020に、要求された量の中で及び要求された
流れ率で低い圧力ガスを供給するために他のフロー制御手段（示された）を備え
ているかもしれない。 上の環状のセクション1008も、1050が加わられた高圧ガス・フィード第1052行
である注入ポートがターンの中で高圧ガス供給1005につないだ高圧ガスを備えて
いる。そこにあらかじめ決められたシーケンスに従ってフロー制御弁1051を操作
するために流れコントローラー手段（示された）につながれるかもしれないフロ
ー制御弁1051で、ガス・フィード・ラインは、示される。 下部の環状のセクション1030のフランジ1028で、matablyに結合可能なフラン
ジ1026の中で、上の環状のセクション1008は、その下部の終わりで終わる。フラ
ンジ1026及び1028は、図13の中で示されたオーリング1010のような封じている手
段の準備によって封じられるかもしれない。 下部の環状のセクション1030は、その上の終わりでフランジ1028の中で終わっ
ている外の壁1012を含む。終わりが内の堰壁1011につながれるそのそれ以下での
外の壁は、終わり壁1044の中で、形式に外の壁1012及び内の堰壁1011の間で、環
状の内部のボリューム1032を意味する。消滅以外の間隔をあけられた関係の中の
上の環状のセクション1008の、そう形式に関する内の穴の多い壁1006のより低い
終わりの上の終わり1046で、その間で、下部の環状のセクション1030のために、
溢流堰を定義しているギャップ1036を見せられるように、内の堰壁1011は垂直に
上方へ広がる。 下部の環状のセクション1030の外の壁1012は、1048が下部の環状のセクション
1030に、液体の要求された流れ率を維持して、そこに有効に他のフロー制御手段
に結びつけられるかもしれない液体のフロー制御弁1081を持っている水供給1003
につながれた水フィード第1080行に加わられるかもしれない水入口ポートを備え
ている。 その下部の終わりで、下部の環状のセクション1030は、適当に水ガス洗浄装置
1013のハウジングにつながれるかもしれない。水ガス洗浄装置は、従来の方法で
微粒子の減少及びプロセス流れの可溶化できる成分を洗浄することを実施するた
めに造られるかもしれない。代わりに、入口構造1060は処理のために他のどの処
理設備にも結びつけられるかもしれない、あるいは、それについて、入口終わり
から排出終わりまでそのガス流の処理は入口構造を通り抜けた。 このように、流入液ガスがその方向で流れるかもしれないガス流れパス1066が
指示を出した入口構造1060によって、示された方向の排出終わりへの図13の中の
矢「1001」は、矢「1002」によって図13の中で提供される。 操作の中で、微粒子の固体含有のガスが、適当な接続している配管によってツ
ール（示された）を製作している半導体のような、上流のソースから導入される
こと、そしてそれは‖先に言及される、ガス流成分の有害な昇華か濃縮を入口構
造の中で抑制するheat-tracedにあるかもしれない。その流れは、矢「1001」に
よって示された流れ方向の入口構造1060を入れる及び入口セクション1007を通り
抜ける及び上の環状のセクション1008を入れる。窒素か他のガスのような、低い
圧力ガスは、ソース1004から港1022に接続していた低い圧力ガス・フィード第10
24行まで流される及び環状の内部のボリューム1020を入れる。環状の内部のボリ
ューム1020から、内部のガス流れ通過1066に導入された低い圧力ガスは、ガス透
過性の壁1006の中を流れる。このように、ガス・フィード第1024行からの低い圧
力ガスが環状の内部のボリューム1020に及びガス透過性の壁1006を通して流れる
ように、微粒子の含んでいるガスは、内部のガス流れ通過1066を通して及び水ガ
ス洗浄装置1013に流れる。 このように、環状の内部のボリューム1020は、低い圧力ガスでソース1004から
気圧調節をされる。そのような圧力は、穴の多い壁を通して内部のガス流れ通過
1066に、低い圧力ガスの低い、安定した流れを確実にする。ガス透過性の壁を通
してのガスのそのような低い流れ率及び安定した流れは、その微粒子を離れて入
口構造の内部の壁表面からの内部のガス流れ引用文1066の中を流れているガス流
の面で支える。さらに、内部の流れ通過1066の中のガス流れ流れで現在のどんな
ガスでも、同様に入口構造の内部の壁表面から遠ざけられる。 低い圧力ガス・フィード第1024行は、希望する場合たどられた熱でありえる。
入口構造の中を流れているガス流がそれが凝縮するかもしれないか、昇華させる
かもしれない種及び沈澱物を入口構造の壁の上で含むならば、そのような熱追跡
は望ましいかもしれない。 同時に、高圧ガス供給1005からの高圧ガスは、環状の内部のボリューム1020へ
の高圧ガス注入ポート1050を通しての定期的に流れられたすっかり高い圧力ガス
・フィード第1052行であるかもしれない。この目的のために、高圧ガスのパルス
された導入を適応させるためにその第1052行は、そこにフロー制御弁（示された
）を持つかもしれない。このように、ガス透過性の壁1006の内の表面で、どんな
粒子強化でも取り壊すために高圧ガスは、指定されたかあらかじめ決められた間
隔で環状の内部のボリュームに注射される。高圧ガスのパルスされた導入のその
持続及び時間シークエンシングが、その技術の技術の範囲内の過度の実験なしで
決定されるかもしれない、要求された壁を成し遂げるために容易に汚れが落ちて
いるかもしれない‖生じる、ガス透過性の壁表面で固形物蓄積を防ぐ。必要であ
るならば、入口構造がツールを製作している半導体にサービスしている水ガス洗
浄装置と関連して使用されるとき、そのような高圧注入はツール・バッチ・サイ
クルの間、制御手段の適当な統合による排出ポートが有効にツール制御システム
にリンクしたツールで、圧力変動を除去するために中断されるかもしれない。こ
の目的のために、ソレノイド弁のような制御弁は、適切にツール組立部品の制御
手段に結びつけられるかもしれない。 示された入口構造実施例の中で、フランジ1026及び1028はお互いに下部の環状
のセクション1030から、上の環状のセクション1008の速い切断を許すために締め
つけられるかもしれない。そのような目的のために、クイック分離クランプは、
使用されるかもしれない。フランジ1026及び1028の間の封じているガスケット10
10は、抵抗する腐食のような適当な材料の中で作り上げられるかもしれない、高
温エラストマー材料。この弾性的なガスケットは、上の環状のセクションから入
口構造（特にその発明の熱たどられた実施例の中で重要な特徴）の下部の環状の
セクションまで、熱移転を最小にするためにその上に熱バリアの機能を果たす。 例えば耐衝撃性のハステロイ276が鋼をかぶせるどんな適当な材料の中ででも
、入口構造の上の環状のセクションのガス透過性の壁1006は、作り上げられるか
もしれない。上の環状のセクションの外の壁1009は、薄い壁で囲われたステンレ
ス鋼パイプであるかもしれない。 入口構造の下部の環状のセクション1030は、プラスチックのポリビニルクロラ
イドのようなどんな適当な材料の中ででも作り上げられるかもしれない。水は、
外の壁1012及び内の堰壁1011の間で、水供給1003から第1050行まで環状の内部の
ボリューム1032に注射される。好んで、環状の内部のボリューム1032の中で、そ
の水の角の勢いがその水が堰壁1011の最高の終わり1046の上に及び堰壁の内部の
表面の下へ入口構造の内部の流れ通過1066の中で螺旋形になるようになるのを許
すためにその水は、わずかに触れる程度に注射される。堰壁1011の内部の表面の
下のそのような水流れは、流れ通過1066の下へ入口構造の下でどんな微粒子でも
水ガス洗浄装置1014に流すために使用される。 入口構造を通しての圧力低下は、上流のプロセス・ユニット及びその洗浄ユニ
ットから、下流に排出パイプを入口構造からせびっている圧力によって、容易に
決定されることができる。圧力低下はphotohelicなゲージでモニターされること
ができる及び、読んでいるそのような圧力低下は適当なモニタリング及び制御設
備に、ガス洗浄装置入口の中で詰まっているモニターに送られることができる。 入口構造の使用によって、現在の発明のシステムの中で、インタフェースは水
ガス洗浄装置及びツール排出流れの間で、繰り返して普通のプロセス操作の中で
詰まらない操作を製作している半導体から提供されるかもしれない。そのような
入口構造は、2つの補助のプロセス流れ、安定した低い流れ清め流れ及び高圧パ
ルス流れを、インタフェースに提供する。低い流れ浄化流れが不活発なガスのネ
ット流動をつくって例えば中心の流れ通過1066のセンター・ラインの方の上の環
状のセクションの内の表面を欠席した窒素。高圧ガス流れ流れは、詰まっている
固体に対して自己洗浄能力を提供する。高圧ガス流れは、中心の流れ通過1066の
入口構造上の環状のセクション内部の表面で、どんな粒子強化でも除去するため
に使用される。 それから、水ガス洗浄装置に下流に入口構造の中で下ってフラッシュされるた
めにガス、伴出された粒子及び以前に置かれた粒子はオーバフロー流れに入口構
造の下部の環状のセクションの中で、内の壁表面に向けられる。効果的に微粒子
の運転中の固体の強化を最小にする非常に効率的な入口形態を提供して、このよ
うに、上の環状のセクションのガスpermeableな壁の間の直接のインタフェース
及びその堰はその入口の下部の環状のセクションの中で、構造を壁で囲う。 そのような入口構造は、たくさんの利点を持つ。応用の中で半導体製造設備及
び水ガス洗浄装置処理システムにとって、廃物のガス廃水の処理のためにツール
から半導体プロセス施設では、半導体ツールからの排気ガスは、連続的にずっと
ツール排出ポートから水インタフェースまで水ガス洗浄装置入口構造の中で熱さ
れることができる。入口ラインの上の熱追跡が、対流によってエネルギーを流れ
るガス流へ移す配管に、エネルギーを実施することによってそのラインを熱する
ために使われることができる。プロセス・ガスは、ずっと入口構造の下部の環状
のセクションの溢流堰壁まで、上の環状のセクションに低い圧力ガスを流す低い
圧力ガス流れラインをたどっている熱によって熱されるかもしれない、熱によっ
て高圧ガス流れラインをたどっているのと、同じくらいよく、入口構造の上の環
状のセクションの内部の環状のボリュームに、パルスされた高圧ガスを供給して
いる。熱いガスのそのような流れは、それが一方凝縮するか、昇華させる上流の
プロセス・ユニットから、入口構造までたれているガス流の中で、ガスを作り上
げているどんな微粒子でもの蒸気圧力によって決定される温度及び沈澱物で、入
口構造の壁の上で、入口構造の中心の流れ通過の中を流れているプロセス・ガス
を維持する。 上記の確認された入口構造のもう一つの利点は、そのような構造が容易に分解
されるかもしれないということである。入口構造が運転中の障害物にするイベン
トでは、その構造は、単に入口構造のフランジにお互いを守らせているそのクラ
ンプか他の確保要素を除去すること、簡単に分解される。このように、上の環状
のセクションは、適所にいそれぞれのフランジを保持しているクランプを除去す
ることによって及び上の環状のセクションを供給するそれぞれのガス・フィード
・ラインの接続を断つことによって取り替えられるかもしれない。 そのような入口構造の静かな更なる利点は、それが合っている自己洗浄である
ということである。上流のプロセス・ユニットから入口構造までたれているガス
流の中で伴出された、あるいは、化学の反応によって入口構造の中で作り上げら
れた粒子は、入口構造のガス透過性の壁から、パルスされた高圧ガス注入によっ
て、内部の環状のボリュームに入口構造の上の環状のセクションの中で、容易に
きれいにされることができる。それからそれから、入口構造の上の環状のセクシ
ョンの内部の壁表面から除去される粒子は、そのような微粒子の固体が下流のガ
ス洗浄装置にフラッシュされる堰壁のオーバフロー部分に向けられる。その圧力
、持続及び高圧ガス圧力パルスの定期性は、簡単にそのような固体の一般に行わ
れているシステム微粒子の濃度条件及びキャラクタを適応させるようにされるこ
とができる。パルスされた高圧ガス注入の効果は、微粒子の固体のキャラクタに
依存する。したがって、そのような入口構造は、こする道具の使用か先行技術流
体の処理システムのいわゆる自己洗浄装置を代表する突入者装置なしで自然の中
の自己洗浄である。 入口構造の上の環状のセクションの穴の多い壁要素の材料仕様は、上流のプロ
セス・ユニットから入って来るプロセス・ガスに依存している。そのガス流が酸
性のガス成分を含むならば、そのようなガスは水ガス洗浄装置に吸収される及び
溢流堰壁に入口構造の下部の環状のセクションの中でrecirculatedされる水の中
である。溢流堰壁水のいくつかが入口構造の上の環状のセクションの穴の多い内
の壁の上で、上へはねることは、可能である。そのような例の中の穴の多い壁は
、望ましく構造の耐衝撃性の材料から選ばれる。そのような目的のための好まれ
た金属材料は、低温含水の酸性の条件で優秀な腐食抵抗を展覧するハステロイ27
6の鋼である。 上記の入口構造のもう一つの利点は、入口構造が上流に水ガス洗浄装置の中で
使用されるとき、ここで説明的に記述されるように、それが水ガス洗浄装置のト
ップから、水蒸気の逆流を最小にするということである。この利点の説明を経由
して、微粒子がいくらかの半導体ツールの排出流れの中で、プロセス・ツールか
らのどちらの伴出された微粒子としてでもまたは化学の反応の反応物としてその
ガス流の流れ道の中であるかもしれないことは、認められることになっている。 この微粒子の強化の理由は、その水蒸気が水ガス洗浄装置から下流に入口構造
から逆流しているということである。ガス流れの普通の方向に対してそのガス洗
浄装置から自由にされた水蒸気は、後ろにガス洗浄装置入口からプロセス・ツー
ルの方へ移る。 水蒸気のこの後ろの移動に関係していた1つのメカニズムは、ガス-ガス相互拡
散である。水蒸気後ろの移動のこの源を避ける実際的な方法だけは、拡散境界を
水ガス洗浄装置入口に加えることになっている。水蒸気のそのような後ろの拡散
のためのもう一つのメカニズムは、いわゆるリチャードソン・アニュラー効果で
ある。全ての乾いたポンプは、ガス流れ流れの中で圧力振動のある量をつくる。
これらの圧力振動は、普通のガス流れの方向に対して、ガスをポンプで揚げる向
流輸送メカニズムをつくる。この現象は、そのバウンダリ層アニュラー効果の結
果である。これが、生じることのため、逆流移動速さは小さい距離の中で離れて
壁表面から最も大きい。上記の入口構造は、リチャードソン・アニュラー効果を
最小にするか、除去する。低い圧力ガスの安定したアウトフローのために、入口
構造の上の環状のセクションの穴の多い壁の内の表面で、上の環状のセクション
の内の壁表面での静的な境界層条件は、発達することができない。それによって
リチャードソン・アニュラー効果を避けて、はずんでいる壁からプロセス・ガス
流れを「押しのける」ために入口構造の中心の流れ通過を行う及び静的な境界条
件の存在を避けるガス透過性の壁からの流れるガスのネット流動が、ある。それ
ゆえに、粒子が化学の反応の結果、流れ流れの中で作り上げられるならば、これ
くらい作り上げられた粒子はかたまりになる壁を見つけない。その粒子は、水ガ
ス洗浄装置にその代わりにそのガス流であふれる。同じものは、伴出された粒子
にあてはまる。その粒子がその入口のトップに着くならば、彼らが集まる壁を持
たないので、彼らはガス流れ流れの中で伴出される。 リチャードソン・アニュラー効果を引き起こす条件に反対することによって、
入口構造の上の環状のセクションの中の穴の多い壁は、プロセス・システムの排
出ラインに、水蒸気の後ろの移動に対する効果的な障害の役目を果たす。どんな
後ろの移動でも、非常にゆっくり前記の相互拡散メカニズムによる。ガス洗浄装
置エントリ及び排出ラインがたびたびその入口として現在の発明の構造を詰まら
なくしてから、この要因は、そのガス洗浄装置のために大いにその故障までの平
均時間を増やす。 金属材料から造られているようにその発明の入口構造の上の環状のセクション
の穴の多い壁メンバーがここで記述されたけれども、そのようなガス透過性の壁
が構造のどんな適当な材料の中ででも作り上げられるかもしれないことは認めら
れる。例えば、穴の多い壁は、腐食性の雰囲気に耐える能力を持っている穴の多
いセラミックの材料、温度極端及び現在の発明の入口構造の使用の中であるかも
しれないインプット圧力の中で作り上げられるかもしれない。 図14は、現在の発明の実行の中で利用されるかもしれないガス／液体インタフ
ェース構造の概要のクロス-部門の高さ見方である。 ガス／液体インタフェース構造1110は、円筒形の細長い壁1114によって定義さ
れた第一の垂直に広がっている入口流れ通過メンバー1112を含む。円筒形の壁11
14は、入口流れ通過メンバー1112の範囲内で、囲まれた流れ通過1118の回りに境
界線を引く。円筒形の壁1114の上の終わりで、radiallyな外見上広がっているフ
ランジ1116は、笛を吹いている連合したプロセス流れへのガス／液体インタフェ
ース構造、導管、計測、その他に加わることに対して用意されている。このよう
に、開いた入口及びコンセント終わりが内部のボリュームで流れ通過（第1160行
の中で図14の中で説明的に示されるように上流のプロセス・ユニット1158からの
ガスが流されるかもしれない）1118を含む流れパスを定義するために、第一の入
口流れ通過メンバー1112は、その上の終わり及び対応するコンセント1122で、そ
の下部の終わりで入口1120を持つ。 上流のプロセス・ユニット1158は、例えばツール及び連合した排ガス処理装置
を製作している半導体を含むかもしれない。そのような排水処理装置は、酸化成
分の酸化のためにその排ガスの中で順番に酸化剤を含むかもしれない。適当な酸
化剤が、広く型を変えることである及び触媒作用の酸化によってユニット、熱酸
化ユニット、電熱の酸化剤、その他と例えば指令されるかもしれない。 上流のプロセス・ユニット1158が手段及びガス処理手段を半導体製造工程のた
めに生成しているガスを含むとき、第一の入口流れ通過メンバー1112の入口1120
に導入されたガス流がミクロン以下のサイズ粒子の形で高い温度にあるかもしれ
ない及び例えば微粒子の固体の相当な濃度を含むかもしれない。 インタフェース構造1110は、さらに第一の流れ通過メンバー1112の回りに境界
線を引く及び、その間で環状のボリューム1130を定義するために示されるように
、それに間隔をあけられた関連にある二番目の流れ通過メンバー1124を含む。第
一の流れ通過メンバーの開いたコンセント1122が二番目の流れ通過メンバー1124
の開いた下部の終わり1168との垂直に間隔をあけられた関係にあるために、二番
目の流れ通過メンバー1124は、下方へ第一の流れ通過メンバー1112のより低い終
わりの下で、下部の終わり1168に及ぶ。 二番目の流れ通過メンバー1124は、elevationallyに第一の流れ通過メンバー
のコンセント1122を定義しているより低い終わりより上に、残っている液体不透
過性の部分（下方へ図示されるように液体透過性の部分1126から広がる）1128で
上の液体透過性の部分1126を含む。液体透過性の上の部分1126及び下部の液体不
透過性の部分1128は、どんな適当な方法ででも作り上げられるかもしれない‖真
鍮で造っている、ハンダ付けにしている、溶接している、機械のファスナー確保
によってまたは他のどの適当な方法でも該当する接続している手段及び方法で、
お互いにつながれていたそれぞれの部分で例えば上の穴の多い円筒形の区分1126
の中で、初めに別々の下部の固体の壁で囲われた円筒形の区分1128に接続するこ
とによって。代わりに、二番目の流れ通過メンバー1124が、上の部分を単位の円
筒形の管状のメンバーから作り上げられるかもしれない、水-ジェット機械加工
か、エッチングか、焼結か、ミクロのelectromachiningか気孔率か透過性特徴が
そのような管状のメンバーの上の部分に知らせられることができる他のどの適当
なテクニックのようなも処理によって、キャラクタの中で液体透過性になる。好
んで、二番目の流れ通過メンバーは、一緒に加わられる初めに別々の上の及び下
部の部分及び上の部分が穴の多い焼結された金属マトリックスか穴の多いセラミ
ックの材料によって構成されるその点での中で作り上げられる、その気孔率が十
分な次元のキャラクタの中で、より大きい詳細の中のその後記述された将来とし
てそれを通じて液体の浸透を許すことであるその点で。 ガス／液体インタフェース構造1110は、さらに包むように、二番目の流れ通過
メンバーの回りに境界線を引いている及びそれとともに囲まれた内部の環状のボ
リューム1170を定義している外の壁メンバー1134を含む。外の壁メンバー1134は
、円筒形の横の壁1136、最高の終わり壁1138及び法人として内部の環状のボリュ
ーム1170を囲む底終わり壁1140を含む。横の壁1136は、液体の導入ポート1142を
備えている。そのポートはどんな適当な方法ででも提供されるかもしれない、し
かし、示された実施例は管状の水平なポート拡張1144によって、中で構成される
。代わりに、そのポートは、単に開口部か横の壁か液体が内部の環状のボリュー
ム1170に、外部の液体の供給から導入されることができるそれによって他の液体
の入口構造にできた穴であるかもしれない。 図14の実施例の中で、液体の入口ポート1142は、そこにフロー制御弁1148を含
んでいる液体の導入第1146行に結びつけられる。液体の入口第1146行は、液体の
供給貯蔵1150に接続している。 貯蔵1150から第1146行まで液体の入口港1142に液体のあらかじめ決められたか
一方選ばれた流れを提供するために第1146行の中の液体のフロー制御弁1148は、
適当なコントローラー/中央処理装置（CPU）、マイクロプロセッサー、フロー制
御コンソールや補助のモニタリングを含むタイマー手段及び制御手段に結びつけ
られるかもしれない。これくらい導入された液体は内部の環状のボリューム1170
を満たす及び、そのような液体はどんな適当なプロセス条件ででも導入されるか
もしれない。 熱い微粒子の荷を積んだ排ガス流のようなガス流の処理のために、半導体製造
工程から、内部の環状のボリューム1170の中の液体は、水か他の水の媒体である
かもしれない。 二番目の流れ通過メンバー1124の上の液体のpermeableな部分1126の液体透過
性のキャラクタによって、内部の環状のボリューム1170からの液体は、二番目の
流れ通過メンバーの上の部分1126に広がる及び液体の小滴1154のような上の部分
の内の壁表面1132で表される。そのような出ている液体の小滴‖の結果‖重力の
生じる、落す及び液体不透過性のそれ以下の内の壁表面1172の下方へ流れる液体
のフィルム1156が分ける形式への他の液体の小滴及び集合で、その瞬間、合体す
る流れ通過メンバー。二番目の流れ通過メンバーの下部の開いた終わり1168から
射出している液体のフィルムの中の液体は適当なコレクションに向けられるかも
しれない及び、処理手段（示された）は例えばそれの共同処理のためにそのガス
流がある下流のプロセス・ユニット1164の中で、第1162行の中で二番目の流れ通
過メンバーのガス流れ通過1152から流れた。下流のプロセス・ユニット1164は、
水ガス洗浄装置か、反応部屋か装置か処理地帯（通過1152から第1162行の中で流
されたガス流が最終的な排ガスの排出で下流のプロセス・ユニットから第1166行
の中で更なるプロセス操作を受ける）を処理しているもう一方であるかもしれな
い。 このように、ガス／液体インタフェース構造1110が、及び下方へ二番目の流れ
通過メンバーの液体透過性の上の部分1126の下で広がっている第一の流れ通過メ
ンバー1112と、そう第一の及び二番目の流れ通過メンバーの間の内部の環状のそ
んなに液体のボリューム1130を提供するために造られる‖したたる、落ちている
液体のフィルム1156は、液体透過性の上の部分を通して合体することができる及
び発達する。この配置によって、流れ通過1118から流れ通過1152まで流されたガ
スは、保護する液体のフィルム1156でおおわれる二番目の流れ通過メンバーのよ
り低い部分の内部の壁表面1172に遭遇する。それゆえに、腐食及び二番目の流れ
通過メンバーのそのような内部の壁表面に対する反対の反応効果を最小にするた
めに第一の流れ通過メンバーの下部の開いた終わり1122から射出されたガスの中
のどんな腐食性の種でも、内の壁表面に関して「和らげられる」。 さらに、液体の導入によって二番目の流れ通過メンバー及び外の壁メンバー11
34の間の内部の環状のボリューム1170にとって、液体の貯蔵「ジャケット」構造
は、提供される。それによって、液体が二番目の流れ通過メンバーの穴の多い上
の部分に、浸透のためにそれを通じて及び下方へ提供される‖「したたる」形式
への液体の‖二番目の流れ通過メンバーの内部の壁表面で保護するフィルム。 二番目の流れ通過メンバーの内部の表面1172のそのような落ちているフィルム
も、二番目の流れ通過メンバーの表面を伴出する及びそのような液体のフィルム
がない場合、オンを置くかもしれないガス流及び集合から、その室内でどんな微
粒子でも運び去るために壁で囲うのに役立つ。 それゆえに、落ちている液体のフィルムは、二番目の流れ通過の内部の壁表面
に関して、保護する関数に微粒子の固体及び他のどのガス・フェーズ成分も運び
去るエントレインメント媒体と同じくらいよく蓄積の中で流れ通過メンバーの内
部の壁表面で、一方有害なメンバーを与える。 説明的に、図14の中で示されたこの構造の更なる利点として、液体のpermeabl
eな上の部分1126の使用は、液体の溢流堰（内部の環状のボリューム1170からの
液体が単に壁1126の上の終わりからあふれ出る及び、二番目の流れ通過メンバー
のいっぱいの内部の表面長さ以上下方へフィルムの中でその壁の上で流れる）の
ような構造の準備と関係がある液体の使用を最小にするのに役立つ。それによっ
て操作のために必要だった液体は、現在の発明のしたたる堰構造によって、非常
に低いレベルの面で扶養される。 説明的に、図14の中で示されたガス／液体インタフェース構造のインプリメン
テーションの実例となる例として、そのような構造は、半導体製造工程からのそ
う排ガスを処理している熱酸化剤ユニットのインタフェース構造1110を入れてい
る第1160行の中のガス流が高い温度にある使用されたダウンストリームであるか
もしれない及び微粒子、シリカのようなものを、微粒子の金属、などで、ミクロ
ン以下のサイズとして粒子か平らなより大きい固体に荷を積むかもしれない。そ
のような実施例の中で、二番目の流れ通過メンバーの上の部分1126は、1/16番目
のインチの順序の上で、平均で厚さをだいたい2ミクロンのサイズを読書で使い
すぎてもらっている焼結された金属壁によって構成されるかもしれない。2.5イ
ンチの順序の上の直径で第一の流れ通過メンバー1112の長さが、48インチの順序
の上にあるかもしれない。流れ通過メンバー1124が対応して長さを持つかもしれ
ない対応する瞬間、4.5インチの順序の上の直径で、13.5インチ及び外の壁の順
序の上で、6インチの順序の上の直径でメンバー1134が5.5インチの順序の上で垂
直な長さを持つかもしれないこと。 そのようなシステムの中で、内部の環状のボリューム1170にそのような液体の
漏出のために二番目の流れ通過メンバーの上の液体のpermeableな部分1126の内
部の表面1132の上へ導入される貯蔵1150から、水は液体の媒体として雇われるか
もしれない。そのようなシステムの中の水の使用が、分につき0.1-0.3ガロンの
操作の順序の上にあるかもしれない。 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排水処理システム1200
の概要の表現である。 システム1200は、プロセス設備1210から排ガス流を受け取る。その排ガス流は
、一つ以上の酸化可能なガス種を含むかもしれない酸化可能なガス成分を含む。
制限、水素化物（例えば、アルシン、フォスフィン、シラン、ゲルマン、その他
）、有機的な種（塩素化された種、フッ化された種、エタノール、その他）及び
非有機的な種（塩素化された種、NF3、NOx、CO、SOx、その他）なしで種が含む
かもしれないそのような酸化可能なガス。その発明は特にその処理に適応させら
れる及び、塩素化された種のような、ハロゲン化炭素種の排ガス流からの除去は
種、クロロフルオロカーボン及びパーフルオロカーボンのようなパーフルオロ化
合物をフッ化した。その排ガス流は、化学の蒸気堆積リアクターのようなユニッ
ト、フォトリソグラフィー・ユニット、イオン注入法ユニット、エッチング部屋
、化学の機械研摩部屋、プラズマ・ユニット（例えば、プラズマによって援助さ
れたプロセスか、プラズマ・エッチングか、きれいにしているプラズマかプラズ
マが生成されるか、利用される他のどのプロセス・ユニットのためにも）、その
他を含む、半導体ウェハース基板の処理のための半導体製造設備及び半導体装置
構造の製作のようなプロセス設備1210から、その上に射出されるかもしれない。 プロセス設備1210からの排ガス流は、第1212行の中で洗浄ユニット（その排ガ
ス流がその洗浄媒体で例えば接触される）1214までたれる、その洗浄媒体の適当
な源（示された）につながれた洗浄媒体フィード第1216行の中で導入された水の
ような水の洗浄媒体。その洗浄ユニットは、その発明のこの実施例の中の排ガス
処理システムのオプションの成分である及び、減少システムの中で実行された酸
化処理に先立ち酸性のガス及び微粒子の種をその排ガス流の中で減らすために有
効に使用されるかもしれない。その洗浄ユニットは、湿った洗浄ユニットか、乾
いた洗浄ユニット（その排ガス流は、どれの中でスカベンジャーか化学的吸収剤
材料で接触されるか）か熱洗浄ユニットであるかもしれない。 その排ガス流で接触した後の洗浄媒体は、洗浄ユニット1214から排出第1218行
の中で射出される。代わりにまたはその上に、一列に並んで1219として、リサイ
クルのために洗浄媒体フィード第1216行に、水の媒体は、還流させられるかもし
れない。 酸化成分の酸化を生じるために型を変えることで、熱酸化剤か、電熱の酸化剤
か、触媒作用の酸化剤か、フレームベースの酸化剤か、流動床熱酸化剤か、透明
酸化剤か他のプロセス・ユニットのような排ガス流構成の範囲内であるかもしれ
ない酸化剤ユニット1238に、その排ガス流は、第1236行の中で流される。例えば
、以前にここで発明（その熱交がその酸化成分の酸化のためにそこにその排ガス
流の加熱を変えるために一連の熱移転挿入物を備えているその点で）の他の実施
例と関連して記述されるように、酸化剤ユニットは造られるかもしれない及び熱
交で配置されるかもしれない。だいたい900(Cか偶数へのだいたい300(Cのそれ以
上、だいたい1200(Cまでの温度があるその点でが酸化可能な種の酸化性の減少の
ために、その排ガス流の中で使用したフレームベースの熱酸化剤ユニット（すな
わち、火傷-箱型ユニット）として、酸化剤ユニットは、代わりに造られるかも
しれない。 酸化剤ユニットの中の排ガス流の酸化成分の酸化は、第1240行からそのユニッ
トへのオキシダント媒体の導入によって、酸化させている雰囲気の中でand/or第
1208行によってその排ガス流に上流にその排ガス流の導入の中で酸化剤ユニット
1238に実行されるかもしれない。3-way弁1206のオキシダント媒体が流されるか
もしれない選択的な調整もによって、あるいは‖酸化剤ユニット1238へのライン
1240及び1208の両方。 例空気に関しては、酸素、酸素濃縮空気、原子の酸素、過酸化水素で漂白した
種、OHラジカル、その他でオキシダント媒体はどんな適当な型の中ででもあるか
もしれない、しかし、好んで、オキシダント媒体はオゾンを含む。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体を生成するために第1222行（同じものの
適当な源から、示されない）の中でオゾン・ジェネレーター1220に導入されて、
酸素か他の酸素含有ガスで、そのオキシダントとしてオゾンを中間に扱う目的で
、図15の中で説明的に示されるように、排ガス処理システムは配置されるかもし
れない。好んで、オゾン・ジェネレーター1220に第1222行の中で流されたオキシ
ダント中間のソース・ガスは酸素ガスである及び、オゾン・ジェネレーター1220
から第1240行の中で射出された結果として生ずるオキシダント媒体はオゾン及び
酸素ガスと混合である。ライン1240や第1208行の中のオキシダント媒体の流れは
、大量の流れコントローラー1242か他のフロー制御要素によって制御されるかも
しれない。 オキシダント媒体のその排ガス流への追加への酸化剤ユニット出来事の中の酸
化している動きは、高周波エネルギー（電気の排出、電子サイクロトロン共鳴（
ECR）、マイクロ波エネルギー、酸化剤ユニットの中で排ガス流酸化可能な種及
びオキシダント媒体のプラズマを生成するその他）の使用によって、例えば改良
されるかもしれない。代わりに、熱酸化剤は、燃焼酸化剤ユニット（水素か他の
燃料（メタン例えば）が燃焼反応のためにオキシダント媒体の面前で加えられる
）であるかもしれない。静かな更なる選択肢として、酸化剤ユニットは、造られ
る及びキャリーに外へ配置される電熱の酸化剤ユニットか他のどのユニットでも
あるかもしれないか、その排ガス流の中で酸化可能な種の酸化を改良するかもし
れない。 その排ガス流でその酸化剤の中でユニット1220と接触した後のオキシダント媒
体は酸化剤ユニットからライン1244の中で、回復か、処理か他の配置のために射
出される、あるいは、それは再利用のために、必需品として還流させられるかも
しれないか、特定の使用応用の中で要求されるかもしれない。減じられた酸化成
分含有量の、排ガス流はライン1246の中の酸化剤ユニットから射出される及びど
んな適当な型の中ででも排ガス流好んで湿った洗浄ユニットを含まないの処理の
ためにあるかもしれないポスト-処理ユニット1248までたれた。 湿ってスクラブすることによって扱われるとき、例えば、ユニット1248が媒体
を洗浄して接触されるポスト-処理の中で、その排ガスが水（ポスト-処理ユニッ
ト1248に、第1262行の中で洗浄媒体（示された）の適当な源から導入される）の
ような水の洗浄媒体を流れ出させて。ユニット1248がその排ガス流から生成され
たそれらを含むどんな洗浄可能な成分でも除去するのに役立つポスト-処理の中
で、プレ酸化剤洗浄ユニット1214の中で除去されなかった残された洗浄可能な成
分とともに酸化剤ユニット1238を洗浄することを濡らす。使用の後の洗浄媒体は
ポスト-処理ユニットから、ライン1264の中で射出されるかもしれないand/or、
ポスト-処理ユニット1248の中のリサイクル及び再利用のために示されるように
、その洗浄媒体は第1261行の中でrecirculatedされるかもしれない。 受け取る環境か他の最終的な配置にポスト-扱われた排ガス流は、第1270行の
中でポスト-処理ユニット1248から、最後に射出される。 その発明の1つの好まれた実施例に従って、オゾン・ジェネレーター1220が1ま
で選択的に流されるオゾン-含んでいるオキシダント媒体を生産すること、ある
いは‖洗浄ユニット1214及び1248の両方。例えば、ユニット1214及び1248の中で
習慣的に行われることを湿って洗浄することの場合、大量の流れコントローラー
1226でそこに決定された率で、オゾン-含んでいるオキシダント媒体は、ライン1
228の中で流されるかもしれない直接ライン1234の。の中の洗浄ユニット1214に
枝ライン1202による第1212行の中の排ガス流に、と／またはそのような洗浄ユニ
ットにライン1232の中で流された洗浄媒体に、と／または枝ライン1221の。によ
る洗浄媒体再循環第1219行に多くの位置弁1230の位置どりに従い。同時に、ozon
e-containingしているオキシダント媒体は、第1250行の中で大量の流れコントロ
ーラー1252でそこに決定された流れ率で流されるかもしれない、直接ライン1256
の。の中の洗浄ユニット1248に枝ライン1203の。による第1246行の中の排ガス流
にそのような洗浄ユニットにライン1262の中で流された洗浄媒体に、と／または
マルチポジション弁1254の位置どりに従い枝ライン1263による洗浄媒体再循環第
1261行に。後段酸化洗浄ユニットへの酸素含有ガスの流れは、処理システムから
その放流水のキャラクタを改良するために追加の水溶相酸化反応を成し遂げるこ
とに役立つかもしれない。 いろいろなプロセス・ラインが図15の中でおおまかに示されることは、認めら
れる及び写しをとられる、そのようなラインが、適当に弁で調節されるかもしれ
ない、つながれる‖その他、該当する弁（弁作動装置/コントローラー、大量の
流れコントローラーや他の流体のフロー制御（配管、ポンプ、ブロワー、計測、
その技術の技術の範囲内の及び過度の実験のないその他））によって。そのよう
な尊敬の中で、図15の中で示されたシステムがプロセス・モニター、センサ、検
出器、道具、マイクロプロセッサーや他の自動処理成分を含む自動制御システム
で展開されるかもしれないことはその上に認められる、そのシステムが遠くまた
は自動的に働かれるために、あっている排ガス流が減少がそのシステムの中で処
理した要求された廃水を運び出す。 示されたそれと異なって、配置の中で、したがって、また、図15の中で示され
た型の排水処理システムがいろいろに構成されるかもしれないことは、認められ
る。例えばものまたは、説明的に、記述された洗浄ユニット1218及び1248の両方
とも、特別な処理システムの中で省略されるかもしれないか、他の処理ユニット
と取り替えられるかもしれない、酸化剤ユニット1238だけがオゾン-含んでいる
オキシダント媒体を受けるその点で。同様に、そのシステムは、手段からのオゾ
ン・ガスの供給か説明的に、示されたオゾン・ジェネレーター以外のソースのた
めに配置されるかもしれない。 したがって、図15の中で示された型のガス流処理システムの1つの配置は、そ
のガス流を受ける及び酸化条件をそのガス流の上でそれについてその酸化成分を
減らすために強制印加するために配置された酸化ユニットを含むガス流処理シス
テムを取り囲む、酸化ユニットに結びつけられたオゾン源で、及びそのガス流及
びそのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソースを含む酸化ユ
ニットで。エネルギー・ソースは、点火装置のような、燃焼-始めている成分、
燃焼室、バーナー、電気の排出装置、火花ジェネレーター、プラズマ・ジェネレ
ーター、イオン化装置、その他を例えば含むかもしれない。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体のその発明に従うガス洗浄装置への追加
は、その排ガス流の中でそのガス洗浄装置の中で酸化可能な種の減少を改良する
。さらに、オゾン-含んでいるガスがそのガス洗浄装置に上流に酸化剤ユニット1
238の中で導入されるとき、その排ガス流の酸化成分を除去する際の酸化剤ユニ
ットのパフォーマンスは実質的に増やされるかもしれない。 オゾンの特定の参照でオキシダント媒体の成分として、上で記述されるけれど
も、また、他の酸素-含んでいる種は使用されるかもしれない、しかし、オゾン
は、その反応性のためにそのような目的のための好まれた種である。酸素がより
反動的でない及びその排ガス流の酸化成分を減らすために効果的でない所で、オ
ゾンは強力な酸化しているエージェントである及び条件でその排ガス流の多くの
酸化可能な種とともに化学反応する。汚染されたガス流からある種を除去するた
めに加水解離及び熱方法の無能に対比して、現在の発明は、比較的安定した種の
減少を可能にすることによってその技術の相当な改良を成し遂げる。 広く型を変えるオゾン・ジェネレーターは、市販に及び有効に容易にその発明
の実行に従事する。 図15の中で示されるように、オゾン-含んでいるオキシダント媒体は直接その
ガス洗浄装置にまたはその洗浄媒体に上流にその洗浄媒体の導入の中でそのガス
洗浄装置に導入されるかもしれない；代わりに、オゾン-含んでいるオキシダン
ト媒体は、その排ガス流に直ちに上流にその排ガス流の導入の中でその洗浄ユニ
ットに導入されるかもしれない。上流にその洗浄ユニットの中でオキシダント媒
体をその排ガス流に加える利点は、その排ガス流の酸化成分でオゾン（または他
の酸化している種）の直接の反応を含んでいる気相反応の助成である。対応して
、オゾン-含んでいるオキシダント媒体を水の洗浄している液体に加える利点は
、水に関連したラジカル及び中間の種（例えば、OH、HO2、その他）の湿った洗
浄しているメカニズムの破壊効率を改良する促進である。 その発明のもう一つの実施例の中で、図15の中で示された型のシステムが、オ
ゾンか他の酸素含有ガスが扱われていたガス流の中ですでにある上流のソースか
ら、ガス流を扱うために使われるかもしれない。上流のプロセス設備がプラズマ
・プロセス・ユニット（例えば、プラズマによって援助されたCVDユニット、そ
こに沈澱物のプロセス部屋をきれいにするためのプラズマきれいなユニット、ユ
ニットをエッチングで描いているプラズマ、その他）を使っている半導体製造設
備であるとき、これは例えば起こるかもしれない及び、オゾン及び他の酸素に基
づく種（一重項酸素、その他）は生成される及び最終的にそのプロセスの排ガス
に移る。 そのような例の中でオゾンか他の酸素含有ガス種が処理のために下流の排ガス
処理システムに送られた排ガス流の中であるとき、排水処理システムの酸化剤ユ
ニットに導入される及びその排ガス流の、CO及び有機的な種のような酸化成分の
酸化に有利な酸化条件（適当な温度、圧力、流れ率及び構成の条件）にさらされ
るとき、そのようなオゾンか他の酸素含有ガス種はその排ガス流の酸化成分の破
壊を援助するのに役立つ。 その上に。上流のプロセス設備がプラズマ・ユニットを含む前述の状況及びど
の点でパーフルオロカーボンを例えばの中でC2F6及び、CF4はその排ガス流の中
である、その排ガス流は、上流のプロセス・プラズマ部屋から、弗素を含むかも
しれない。そのような排ガス流が酸化条件を受けるとき、その排ガス流の中のパ
ーフルオロカーボン種の不意に高い破壊レベルが成し遂げられることは見つけら
れた。我々が少しの理論もも仮定されたメカニズムによって観察されたパーフル
オロカーボンのこの予想外の減少のために縛られていたくない間、その弗素がパ
ーフルオロカーボン混合物を引き離すために作動することはあるかもしれない、
そのパーフルオロカーボンから生じることは混ぜ合わせる炭素質の部分がそうす
ることができるために、酸化している環境の中で酸素贈り物と化合する。 それゆえに、その発明の1つの面は、酸化条件で、オゾン（オゾンか他の酸素
含有ガスと協力した弗素、そのガス流の酸化成分の酸化のためのその他）のよう
な超強力酸化剤のガス流への追加で、実行された排ガス処理に関連がある。酸化
している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って、そのような方法論は、例
えばクロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処理に役立つかもしれない。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体が説明的に使われ上で記述されるだけ間
、その発明のプロセスが他の方法と協力した使用及び、例えばその排ガス流の紫
外線の放射露出の並列であるか連続した使用、その排ガス流の中で酸化可能な種
の酸化を改良する酸化触媒のさらに使用及び他の化学の種のその排ガス流、その
洗浄媒体やオキシダント媒体（水素過酸化物、塩素、フェントン試薬、その他の
ようなものを）への追加のような処理のテクニックに適用できることは認められ
る。さらに、ヨーロッパ特許出願no. 0861683の中でより充分に記述されるよう
に、上流のプロセスの中で例えば半導体製造設備の中でその発表を使われたオゾ
ンのここでリファレンスによって完全にこれによって取り入れられる源から、排
ガス流処理の中で使われたオゾンが供給されるかもしれないことは、認められる
ことになっている。 そのような排水処理システムはその排ガス流の中で基礎的なだけでなく酸性の
及び中立条件で、酸化可能な種の減少に効果的である、しかし、オゾンが優れた
酸化している種としてオキシダント媒体の中で使われるとき、そのオゾンの活発
な生命は酸性の条件でアルカリ性の条件で長い。 一般に水素化物及びハロゲン化物と同じくらいよく、その発明の排水処理シス
テムは、例えばCF4、C2F6、HF、NF3、CCl4及びNOxを含むクロロフルオロカーボ
ン及びパーフルオロ化合物を含むガス流、SOx、その他の中で、多種多様な成分
種を減らすことに効果的である。種がその排気ガスの中で一般に見つけられるそ
のような廃水は、化学の蒸気のようなユニット操作の結果として、プラントを製
作している半導体によって、堆積、イオン注入法、反動的なイオン・エッチング
、フォトリソグラフィー、化学の機械研摩、拡散／ミグレーション／ドーピング
・プロセス、その他を生産した。全プロセス設備かそのシステムからのまとめら
れた廃水の処理のための大規模なプロセス・システムが構成されるかもしれない
ように、コンパクト（使用処理ユニットの点）が設備のインストールのローカル
なインストールか群と、全面施設で提携したように、その発明の排水処理システ
ムはそのような目的のために構成されるかもしれない。 その発明がガス流に関して上で記述されたけれども、途切れ途切れに、扱われ
ていたガスが間欠的に流されるかもしれないことは認められることになっている
、あるいは、一方バッチか、半バッチか変化する率の中で、あっている全てのそ
のような変異株がその発明の範囲の範囲内で熟考した。 その発明が実例となる実施例に関して記述される間、その発明及びしたがって
、発明のその精神及び範囲の範囲内であることはそのようなバリエーション、修
正及び他の実施例に関して、対応して広く解剖されることになっているように、
その発明のその精神及び範囲の範囲内であっているように、要求されるように、
他のバリエーション、修正及び他の実施例が熟考されることは認められる。
ガスのような工場廃水流体の処理のために、システムに関連がある。そのような
システムは、酸化、ガス洗浄、微粒子の固体除去及び他のユニット操作を排ガス
処理のためにいろいろに含むかもしれない。その発明の改良に従って、オゾンか
他の酸素-含んでいる試薬は、ハロゲン化物、ハロゲン化炭素、NOx、水素化物、
SOx、NF3及び他の有機的な及び非有機的な混合物のような酸化可能な種の除去の
ために、排水処理プロセスの効率を改良するために使用される。 背景技術 産業の流体のゴミの流れの処理の中で、多種多様なユニット操作及び対応する
離散的な処理装置は、その廃水の処理のために上流のプロセス設備から統合され
た。 例えば、いろいろな統合化された熱システムは、廃水及び光電池の処理オフガ
スを製作している半導体の処理のために市販である。これらの統合化されたシス
テムは、使用のためにCVD、金属エッチング、エッチング及びイオン注入ツール
で、典型的に目標とされる。商用の統合化されたシステムは、Delatech Control
led Decomposition Oxidizer（CDO）、Dunnschicht Anlagen Systeme（DAS）Esc
apeシステム及びエドワーズThermal Processing Unit（TPU）を含む。これらの
市販のシステムの各々は、排ガス（そのオフガスの温度調節のために熱い酸化セ
クションから湿った急冷と組み合わせられる）の酸化性の分解及び酸性のガスの
除去及び酸化プロセスの中で作り上げられた微粒子のために、システムを洗浄し
ている湿気のために、熱処理ユニットの統合から成る。 Delatech CDOの中で、熱システムは、特に除去困難な化合物の破壊のためにそ
の排ガス流から選択的にフレームベースの導入可能なHydrogen Injection Syste
m（HIS）と組み合わせられるかもしれない電気的に熱いチューブを含む。その酸
化剤及びメタンとしてのO2か水素をその燃料として使って、前記のDAS Escapeシ
ステムの中で、熱酸化剤は、フレームベースである。TPUの中で、熱酸化剤は、
空気かO2を酸化剤及びメタンとして燃料として使うフレームベースの表面燃焼ユ
ニットを含む。 これらの統合化された商用のシステムに加えて、また、いろいろな市販の独立
型一つのユニット使用できるシステムが、排ガス流（含むこと）の処理のために
ある：a)熱がないphysisorptiveは、ベッド乾いたガス洗浄装置、b)熱がないche
misorptiveな包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、c)熱い化学的に反応している
包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、d)熱いcatalyticallyな反応している包ま
れたベッド乾いたガス洗浄装置、e)湿式洗浄器及びf)フレームベースの熱処理ユ
ニットを包んだ。処理を経ているガス流の性質に依存して、これらのユニット操
作技術の各々は、ある応用にふさわしい。 一般に、これらのそれぞれの技術の各々は、特定の排出流構成要素のために除
去メカニズムのはっきりしたセットに基づく。これらの技術が、優秀な減少を提
供することができる‖どちらでも：一つの除去技術がそのガスを除去することが
できる除去メカニズム歩道で、除去が十分に類似しているのを必要としている排
出流構成要素がかかわるa)かガス流組成の種が出口を与えられることができるそ
のようなキャラクタの中で、その特別な除去メカニズムに反応しないガス流組成
の種の特別なサブセットが減少であるb)。 機会の上で、前記の独立型一つのユニット操作上ベースのシステムのエンド・
ユーザは、そのシステムに通されていたいろいろなガスのカテゴリーの各々のた
めに、処理シーケンスを提供するためにこれらのいろいろな処理ユニットのうち
の少なくとも2つを結合するほうを選ぶかもしれない。それでもなお、そのよう
なまとめられた設備アプローチの実行は、明らかに、そのOEMが一つの小さいあ
る大きさに作られた処理システムの中で、その一審の中でいろいろな使用できる
処理ユニットの統合を提供することができてからそのOEMのためにそのエンド・
ユーザにより便利でない。対照によって、エンド・ユーザはまとめられた組立部
品及び操作のために実質的に成分独立型ユニットを修正しなければならない。 その上に、これらのOEM-統合化された排ガス流処理システムが明らかに、ある
応用の中で、一つのユニット使用できるシステムに対する優位を持つことができ
る間、例えば酸化静まる及びスクラブすることの操作がいろいろな不足で苦しむ
ユニットを実行するかもしれないシステムを典型的に、これらは統合した：酸化
剤セクションの入口地域だけでなく、酸化セクションの中の微粒子の生成だけで
なく、ガス洗浄装置セクションの中の酸性のガス、酸性のガスのための水の高い
消費及び微粒子の中で、スクラブすることを洗浄している貧しい者だけでなく及
びそのガス洗浄装置からの飽和したオフガスの濃縮だけでなくそれぞれのセクシ
ョンの中で詰まっている微粒子は、酸との水の混合のコレクション及び濃度にな
ることを区分する。 詰まっている入口は、いくつかのソース含むこと起こることができる：酸化剤
セクション（BCl3のような入って来る水に敏感なガスをもつ異質であるか均一な
流行かWF6の中で、加水解離反応を引き起こす）の燃焼製品としての水蒸気の(a)
後ろの移動；入って来る熱的に敏感なガスの（b）熱低下；及びそのシステムの
中の転移温度のための入って来るガスの（c）濃縮。問題をじゃましているこれ
らの入口は、突入者メカニズムか他の固形物除去手段の編入にそのシステムにそ
の入口を固形物蓄積、しかしこれらの機械のフィックス追加かなりの費用及び労
働から自由にしておくことを要求するかもしれない。他の例の中で、問題をじゃ
ましている入口は、体系的かもしれない及び周期的な予防的なメンテナンスにそ
の入口を固体蓄積から自由にしておくことを要求するかもしれない。しかし、そ
のようなメンテナンスは、そのシステムの操業停止及び生産性を失うことを製作
している施設で必要とする。 また、彼らの湿った洗浄しているプロセスからその廃水を扱うことが困難なプ
ラント施設で、使用ガス排水処理システムの既存の統合化された点は、問題を経
験するかもしれない。たくさんのプラントは、使用システムのこれらの点からま
たはより一般に処理廃水の中で生成された廃水の中で、その弗素（F-）種を処理
している困難を本質的にガス排水処理システムから生じるようにするかもしれな
い。 プロセス施設に利用できるフィード水の品質が貧しいとき、また、統合化され
たシステムの水ガス洗浄装置及び急冷部分は詰まることにまつわる問題を持つこ
とができる、西南アメリカ合衆国の典型的な条件。また、容易に利用できる水の
不足、高い水コスト及び射出された廃水のための高い配置コストは多くの地方性
の中の重要な問題である。いくらかのケースの中で、これらの要因は、プロセス
施設で問題をじゃまするのを妨げるために高品質脱イオン水の使用を必要とする
。そのガス洗浄装置を及び急冷宣伝することを防ぐことに効果的な間、そのよう
な溶液は高品質脱イオン水の相当なコストと関連した所有権の非常に高いコスト
を含む。 洗浄している操作の中で、貧しい酸性のガスの中でガス洗浄装置塔で洗浄する
ことは、これらのシステムを通して処理される小さい流率によることがありえる
。そのような小さい流率を処理しているガス洗浄装置塔の直径は対応して小さい
、そしてそれは、化合されるとき、パックしている従来の大きい直径の使用は過
度に高いコラム直径及び結果に、大きい壁効果の中でガス洗浄装置塔で包んでい
る要素直径になることができる。そのようなガス洗浄装置塔は、この結果順番に
チャネリング殺到する及び処理されていないプロセス・ガス通過のポケットで、
ガス洗浄装置システムを通して強打するを引き起こすことができる大きい水流れ
を必要とする。貧しい者のためにこれらのシステムの中でこれらのシステムのダ
クトで送っているダウンストリームの中で腐食を洗浄することは一般に観察され
ること、そしてそれは‖そのガス洗浄装置からの非処理のオフガスの濃縮により
ある。ハロゲン化物ガスがその排出流の中で扱われているとき、ガス洗浄装置塔
からのオフガスはそのガス洗浄装置のパフォーマンスを洗浄している貧しい者の
結果、アンスクラブされたハロゲン含有量を含む。アンスクラブされたハロゲン
含有量が、VLE露点条件で凝縮された非常に集中された酸のプールの形成になる
かもしれない‖及び‖予想された酸/水混合より実質的に高く。 産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明
の目的である。 その排ガス流の水洗浄すること及び酸化処理を利用して、システムを処理して
いる改善された統合化された廃水を提供することは、現在の発明の目的である。 詰まることへのかかりやすいこと及び固形物蓄積をそのシステムの中で減らす
産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明の
更なる目的である。 スクラブすることは、水を利用している排ガス処理システムを提供する発明の
静かな更なる目的である、そしてそれは‖実質的に、その先行技術のガス洗浄装
置システムと関係がある洗浄している操作の中で必要だった水を減らす。 あるようなものは半導体、光電池の処理、などの製造の中で、生産した、先行
技術システムの上記の論議された不足を克服する排ガスの処理のためにそのよう
なシステムを提供することは、その発明のもう一つの目的である。 他の目的及び利点は、引き続いて述べられる発表から充分により明白である。 発明の概要 現在の発明は、例えば造られるかもしれない及び産業のガス廃水の使用処理の
点のために、例えば半導体材料及び装置の製造の中で生産されたそれらを配置し
たガス処理システムに関連がある。 1つの面の中で、その発明は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うため
にガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガ
ス流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するために配置さ
れた酸化ユニット；選択的に、そのガス流から洗浄可能な成分を除去する及びそ
のガスを射出するための前段酸化洗浄ユニットが、酸化ユニットに流れる；選択
的に、そのガスから洗浄可能な成分を除去するために酸化ユニットからそのガス
流を受け取っている後段酸化洗浄ユニットが、流れる；及びそのガス流の酸化成
分の削減の向上のために、そのシステムの中で酸素含有ガスを提供するために配
置された酸素含有ガス・ソース。 ここで使われるように、「酸素含有ガス」の中の語「酸素」は分子の２価の酸
素だけでなく原子の酸素を含む。その酸素含有ガスは、酸素か、オゾンか、空気
（酸素濃縮空気か一重項酸素）かそのような種のうちの少なくとも1つと互換性
を持つ混合を好んで含む。 そのような酸素含有ガス・ソースは、そのガス流自体であるかもしれない、例
えば、酸化ユニットに導入されたガス流が酸素含有ガスを含むその点で。そのガ
ス流の成分としてオゾン。そのガス流のそのような酸素-含んでいる成分は、半
導体製造工程（オゾンが他の酸化剤ガス種で生成されるその点で）の中のプラズ
マ処理のような上流のプロセスから生じるかもしれない。そのガス流それから、
そのシステムのユニットが利用するかもしれない酸化剤の中の、必要であるかそ
の発明の与えられた応用の中で望ましいように、外に供給された酸素含有ガスに
よって選択的に増やされるその酸化を実行するガス流のそのような固有の酸化剤
ガス種が処理する条件を酸化させることを受ける。供給関連の中でガス処理シス
テムの酸化ユニットに結びつけられて、酸素かオゾン・ジェネレーターのような
、代わりに、それについて、その酸素含有ガスは、もっぱら外部のソースからプ
ロセス・システムまで供給されるかもしれない。 その発明の面がそのガス流の中で水の洗浄媒体（どの点で酸素含有ガス）で、
例えばオゾンを洗浄することによって酸化成分を含むガス流を扱うためにガス処
理システムと関係づけるAnotherは、その洗浄媒体にそのガスの中で水の洗浄媒
体で流れを洗浄することに先立ち導入される。水の洗浄媒体は、オゾンが加えら
れる補給水や再循環水を例えば含むかもしれない、そのガス流の酸化成分の液体
のフェーズ破壊を提供する以降の洗浄しているそのオゾンを含んでいる水の洗浄
媒体か他の酸素含有ガスによるガスすること。そのような液体の「酸素強化され
た」スクラブすることは、酸化剤ユニット処理と関連して、ガス流の前段洗浄や
後段洗浄のための発明かスクラブすることは独立型操作として運ばれるかもしれ
ない酸素強化されたに従って使われるかもしれない。 その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うために
ガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するために配置され
た酸化ユニット；酸化ユニットに結びつけられたオゾン源；及びそのガス流及び
そのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソースを含む酸化ユニ
ット。 それでも、その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を
扱うためにガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件
をそのガス流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するため
に配置された酸化ユニット；湿式洗浄器上流にそれの酸化処理に先立ち酸化ユニ
ットの中でそのガス流を洗浄するための酸化ユニットの；そのガス流にand/orそ
の湿式洗浄器及び酸化ユニットのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供
しているオゾン源；及びそのガス流及びそのオゾンに、エネルギーを供給するた
めのエネルギー・ソースを含む酸化ユニット。 更なる面の中で、その発明は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うため
にプロセスに関連がある：そのガス流の酸化成分を減らすために酸化ユニット及
び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそこにそのガス流を導入すること；そこか
ら上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するためにそのガス流を洗浄
する選択的に；そこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するた
めにそのガス流を洗浄する選択的に；及び酸素含有ガスでそのガス流の酸化成分
の削減の向上のためにそのガス流と接触すること。 その発明の更なる面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためにプロ
セスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそれに
ついてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；酸化ユニットに
オゾンを導入すること；及びそのガス流及びそのオゾンにエネルギーを供給する
こと。 それでも、その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を
扱うためにプロセスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；
湿った洗浄ユニットの中でそれの酸化処理に先立ち酸化ユニットの中でそのガス
流を洗浄することを濡らす；そのガス流にand/orその湿式洗浄器及び酸化ユニッ
トのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供すること；及びそのガス流及
びそのオゾンに酸化ユニットの中でエネルギーを供給すること。 追加の面の中で、その発明は、少くとも1つの酸化可能な種を含むことはクロ
ロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン及び窒素酸化物から成っている群か
ら、選んだ、そのようなものが含むことを処理する酸化成分を含むガスを扱うた
めにプロセスに関連がある：燃焼ユニットにそのガスを導入すること；燃焼ユニ
ットにオゾンを導入すること；及び、そのガス及びそのオゾンに燃焼ユニットの
中で酸化可能な種及びそのオゾンの間の反応を促進するためにエネルギーにそれ
を供給することは、そのガスの中で酸化可能な種を減らす。 その発明の静かな更なる面は、酸化処理が酸化条件で超強力酸化剤のそのガス
流への追加で、そのガス流の酸化成分の酸化のために実行されるその点でをガス
流処理システムと関係づける。語「超強力酸化剤」は、そのガス流を扱うために
対応して使われるとき成し遂げられたそれに対してオゾン（O3）によって最少の
同等にあるガス流の中で、ガス流の酸化処理の中の酸化可能な種の酸化性の除去
を成し遂げる酸化している材料に言及する。このように、超強力酸化剤はオゾン
、酸素含有ガスと協力した弗素及びガス処理操作の中のオゾンと少くとも同じく
らい酸化的に有効（扱われていたガス流に対する関心の酸化可能なガス成分の酸
化性の除去範囲に関して）である他の酸化剤種を含む。 酸化している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って、その発明の特定の
面は、クロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処理に関連がある。 他の面、特徴及び実施例は、引き続いて起こる発表から充分に明白である。 発明の実施の形態及び好まれた実施例 現在の発明の目的は、多種多様な排ガス流対応して多様な産業のプロセスから
生じるを扱うために利用されるかもしれない改善されたガス排水処理システムを
提供することになっている。 現在の発明の統合化された排ガス処理システムは、使用装置のコンパクトな点
としての単位のハウジングの中の例のために、以下のシステム成分のいくつかか
全てを含むためにいろいろに構成されるかもしれない： (i) 酸性のガス及び微粒子の除去（例えば（pre)scrubber）；のための処理
前のユニット (ii) 電熱の酸化剤か他の酸化剤ユニット； (iii) ユニットを消している酸化剤排気ガス； (iv) 酸性のガス洗浄ユニット； (v) 活発な行動を起こさせる流れ手段（ブロワー、ファン、ポンプ、その他
）か受動の流れ手段（引き出すもの、エジェクタ、抱負ノズル、その他）のよう
なガス流れ-誘発している手段；及び (vi) 例えば流入液ガス温度調節手段（例えば、熱-たどられたforelineか、
熱交か他の手段をそのガスの該当する熱特徴が統合化されたシステムの中を流れ
たことを確実にするために含んでいる）を含むかもしれない連合した制御手段が
、供給手段（サージ保護、邪魔されない電力供給（UPS）接続または専用のUPS成
分（その他）。）及び、その操作の間のシステムの中のプロセス条件（温度、圧
力、流れ率及び構成）をモニターする及び選択的に調節するためにもう一方は制
御要素及びサブアセンブリーを処理する。に動力を供給する 上流のプロセス設備からその組立部品まで流体の流れを導入するための詰まり
にくい入口構造と協力して現在の発明の統合化された排ガス処理システムは、前
段洗浄器、酸化剤及びガス洗浄装置組立部品を利用するかもしれない。 1つの実施例の中のそのような障害物に抵抗力がある入口構造が、第一の及び
二番目の一般に垂直に配置された流れ通過セクションをお互いに関連をそのよう
な連続的なつながれた関連の中で一般に垂直な流れ通過を定義することに結びつ
けられたシリアルに含む‖微粒子の流体のsolids-containingが、流れ出させる
、流体の流れを受ける関係の中で入口構造に配置された下流の流体の処理システ
ムに流体の微粒子のsolids-containingの上流の源から流すかもしれない。 第一の流れ通過セクションは、入口構造の上のセクションである及び穴の多い
金属の中で作り上げられるかもしれない内のガス透過性の壁か構造（流れ通過の
第一の上の部分を囲む）の穴の多いセラミックであるか他の適当な材料を含む。
ガス透過性の内の壁は、流れ通過の上の部分をはずませている内部の表面を持つ
。 ガス透過性の壁は、ガス透過性の内の壁との間隔をあけられた別々の関係の中
で、包むように外の壁に囲まれている。外の壁は、キャラクタの中で穴の多くな
いで、低い圧力ガス流れポートを備えている。そのような配置によって、内部の
環状のボリュームは、それぞれの内のガス透過性の壁及び外の囲んでいる壁の間
で作り上げられる。 流れ通過への内部の環状のボリュームからの低い圧力ガスの以降の流れのため
に内部の環状のボリュームに低い圧力ガス流れポートは、流れ関連の中であらか
じめ決められた低い率でそのようなガスを流すための低い圧力ガスの例えば適当
な弁による源及び制御手段に、順番に結びつけられるかもしれない。また、高圧
ガス流れポートは、第一の流れ通過セクション（流れ関連の中でそのようなガス
の中で内部の環状のボリューム（内のそれの（第一の流れ通過セクションの中で
流れ通過をはずませること）表面で沈澱したかもしれないどんな微粒子でもの内
のガス透過性の壁をきれいにするのに役立っているそのような高圧ガス流れ）に
、断続的に注ぐために高圧ガスの源に結びつけられる）の外の壁の中で、選択的
に提供されるかもしれない。高圧ガスは、同様に要求された圧力で適当な弁及び
制御手段によって、制御可能に流されるかもしれない。 微粒子の固体含有の流体の中で下方へ第一の流れ通過セクションから、二番目
の流れ通過セクションに注ぐために二番目の流れ通過セクションは、順番に第一
の流れ通過セクションに結びつけられる。二番目の流れ通過は、そこに水か他の
プロセスのような液体の源に結びつけられるかもしれない液体の注入ポートを液
体にしている外の壁を含む。外の壁は、第一の及び二番目の流れのそれぞれの外
の壁の上のmatableなフランジのような通過セクション第一の流れ通過セクショ
ンで結合可能である。流れ通過が間隔をあけられた別々の関連の中でその間で内
部の環状のボリュームを定義する外の壁に、内の堰壁で内の堰壁を含む瞬間第一
の流れの内のガス透過性の壁の短絡をやめること以外の通過セクションの方へ広
がって、そのようなそれぞれのインナーの間のギャップを提供することは第一の
及び二番目の流れ通過の中で、セクション（堰を定義する）を壁で囲う。それに
ついて、液体が二番目の流れ通過セクション及び内の壁の外の壁の間の内部の環
状のボリュームに流されるとき、導入された液体はその堰及び流れから二番目の
流れ通過セクションの内の壁の内部の表面の下へあふれ出る。内の壁の下の液体
のそのような流れは、その壁からのどんな微粒子の固体でも洗う及び固体のその
堆積か形成を内の壁の内部の壁表面で抑制するのに役立つ。 入口構造のそれぞれの第一の及び二番目の流れ通過セクションの手早い分解を
適応させるために第一の及び二番目の流れ通過セクションのお互いとの広がられ
た接続は、クイックリリース・クランプ組立部品を含むかもしれない。 さらに、入口構造の第一の流れ通過セクションは、同様に清掃及びメンテナン
ス目的のために容易に分解されるかもしれない最上の入口構造クイック分離入口
セクションにつながれるかもしれない。 もう一つの面の中で、その発明は、酸性のガス及び微粒子の排ガス（その排ガ
ス流の中の酸化成分の酸化処理及びそれについて酸化処理の後に続く排ガス流を
洗浄するための以降の水ガス洗浄装置のための酸化剤）からの除去のために、前
段洗浄器を含んでいる排ガス処理システムに関連がある。そのような前段洗浄／
酸化／洗浄システムの中で、ガス／液体インタフェース構造が使用されるかもし
れないこと、そしてそれは‖固体の詰まっている堆積及びその酸化剤によって射
出されるように、腐食性の成分を含んでいる熱い、微粒子の荷を積んだガス流が
そのようなガス／液体インタフェース構造によって受けられる腐食に抵抗しある
。そのようなガス／液体インタフェース構造は、以下を含む： 第一のガス流流れパスtherewithinを定義している第一の垂直に広がっている
入口流れ通過メンバー。ガス流流れパスへのガス流及び下部の出口終わりの導入
のために、そのガス流の排出のためにそこからガス流流れパスを通して入口流れ
通過メンバーの範囲内で、上の入口をそのガス流の流れの後に続くようにしてい
るそのような入口流れ通過メンバー； 1秒、第一の流れ通過メンバーの回りに境界線を引いている通過メンバーを流
す及び、その間で環状のボリュームを定義するために、それに外見上関連に中で
間隔をあけた下方へ第一の流れ通過メンバーのより低い出口終わりの下で、下部
の出口終わりに及んでいるそのような二番目の流れ通過メンバー。第一の流れ通
過メンバー及び下部の液体不透過性の部分のより低い出口終わりより上に位置し
た上の液体透過性の部分を二番目の流れ通過メンバーのガス流流れパスを定義す
るようにしているそのような二番目の流れ通過メンバー； 包むように、二番目の流れ通過メンバーの回りに境界線を引いている及びそれ
とともに囲まれた内部の環状のボリュームを定義している外の壁メンバー；及び 液体の流れは、そのような外の壁メンバーの中で外の壁メンバー及び二番目の
流れ通過メンバーの間の囲まれた内部の環状のボリュームに、液体を導入するた
めにポートをはめ込んだ； 液体の流れ入口ポートを通して、外の壁メンバーの中で導入された液体が、囲
まれた内部の環状のボリューム及びしたたる流れを二番目の流れ通過メンバー。
の上の液体透過性の部分を通して入れるそれによっること二番目の流れ通過メン
バー。の液体不透過性の部分の内部の表面の下の以降の流れのためにそのような
内部の表面で下方へ流れる液体のフィルムを提供するために二番目の流れ通過メ
ンバー。の液体不透過性の部分の微粒子の固体の及びそのガス流をもつ堆積及び
蓄積にその上に抵抗することは、ガス／液体インタフェース構造からそれについ
て、二番目の流れ通過メンバーの流れパスを通しての流れのために、より低い出
口終わりで射出されていた第一の流れ通過メンバー及び以降の排出まで流れた。 そのような配置によって、そのガス流は、直接構造（ガス流流れパスが二番目
の流れ通過メンバーの内部の壁表面のそばで制限する）のより低い部分の中で、
その壁と接触することを防ぐ。二番目の流れ通過メンバーの上の部分が抵抗する
「したたる堰」からのその室内でたまっている微粒子の固体が壁で囲う水の落ち
ているフィルムは、二番目の流れ通過メンバーの中で浮上する。そのような壁表
面の行動を起こさせる液体の流れは、水フィルムと接触しているガス流の中に、
下方へ排出のためにガス／液体インタフェース構造からその微粒子を運ぶ。その
上に、そのガス流の中の腐食性の種は、落ちている水フィルムによってそのイン
タフェース構造のより低い部分の中で保護されている壁と接触することを防ぐ。 液体透過性の高い方の部分が、メンバーがいるかもしれない二番目の流れ通過
の中で、適当な穴の多い構造を分ける及び、例えばだいたい30ミクロンへのだい
たい0.5ミクロンか平らなより大きい気孔の直径範囲にあるかもしれない気孔サ
イズで穴の多い焼結された金属壁か穴の多いセラミックの壁を含むかもしれない
。 まだ、現在の発明のもう一つの面は、排ガス流の処理のためにシステムに関連
がある、そのシステムは、前段洗浄器ユニット（酸化剤/急冷ユニット及び洗浄
ユニット）をどれに含むか前段洗浄器ユニットが反現在のガス／液体接触塔（水
が下方へその塔の上の部分から流れる及びその塔の下部の部分で導入されたガス
と接触するその点で）を利用する及びその排ガス流が一般に水平に整列する第一
の管状の通過を含んでいる入口構造を通して導入される及びシールド・ガスの導
入のためにその中にシールド・ガス・ポートを持っている外の回りに境界線を引
いている管状のメンバーに関して、同心で配置される。その排ガスを受けている
内の管状のメンバーは、外の管状のメンバーの範囲内で終わる。前段洗浄塔のよ
り低い部分の中で配置された斜めに切られた開いた終わりを持っている外の管状
のメンバーと外の管状のメンバーは、一般に水平に前段洗浄塔のより低い部分に
達する。それについて、最大長さ周囲の部分が最も短い周囲の長さの上に横たわ
るために正反対に配置されるために、外の管状のメンバーの斜めに切られた終わ
りが配置されて外の管状のメンバー。の部分そのガス流が外の管状のメンバーの
内部のボリュームへの内の管状のメンバーから射出される及び外の管状のメンバ
ーの斜めに切られた開いた終わりから、前段洗浄塔のより低い部分に射出される
ために。外の管状のメンバーの最小限の長さ周囲の部分より上に、外の管状のメ
ンバーの最大長さ周囲の部分を正しい位置に置くことによって、外の管状のメン
バーは、前段洗浄塔で流れ落ち液体がそのような管状のメンバーを入れるのを妨
げるために配置される。さらに、斜めに切られた終わりのそのような配置は、前
段洗浄塔に導入されていたガス流れ流れがそのエントリの間際にその流れ落ちで
そこに液体と接触するためにその塔へ発達させられるのを許す。 現在の発明の追加の面は、いろいろに以下の特徴を含むかもしれない： 1. 目詰まりしない入口を含む単位のキャビネット構成の中の全く統合化され
たガス排出流処理システム、前段洗浄器、酸化剤、湿／乾インタフェース、急冷
、後段洗浄器及び行動を起こさせる手段の準備。 2. 処理前のサブシステムの水素弗化物吸収の用途。すばらしい微粒子を除去
しようとすること微粒子の前駆体を除去すること微粒子のプレ除去システムが酸
化プロセスの間、形をなしたように、そのような処理前のサブシステムは本質に
おいて利用される。 3 切れ込み/穴注入型のまたは実質的に水使用を減らすことができる及び水平
になっている制度を不必要にすることができる穴の多い型インタフェースの湿／
乾インタフェースの準備。 4. シェルの準備及びチューブ熱交は、働く「流体」としてそのシェルの上で
光を発する流動を横に扱っている酸化剤をタイプする。 5. 非濃縮性であるか最小限の濃縮を生んでいる水ガス洗浄装置（以下に他の
特徴と共により充分に、記述される）の中の副冷却の準備は、thermophoreticな
酸性のガスを及び微粒子の洗浄することを設計する及び改良した；その上に、流
体の排出のためのエジェクタは排ガス処理システムを処理システムの排出ライン
に「見えなく」するために使用されるかもしれない、あるいは、そのような排出
手段は上流のプロセス・ユニット（例えば、ツールを製作している半導体）の上
で、必要に応じてその引くことを増やすために使用されるかもしれない。 6. ガス洗浄装置コラムの中の包んでいる要素としてのデフロスター・メッシ
ュの使用。そのようなデフロスター・メッシュは、小さい直径のガス洗浄装置コ
ラムの中で実質的に壁効果を減らすことができる。ガス洗浄装置コラムの中の移
転及び熱移転がこの結果匹敵する質量か標準の市販のランダムなパッキン及びデ
フロスター・メッシュ採用のガス洗浄装置をもつガス洗浄装置コラム・パフォー
マンスよりよくコラムは、比較的低い圧力低下を成し遂げる。また、ガス洗浄装
置コラムの最上位の無効な一部分は、よい粒子としてガス洗浄装置コラムをコレ
クターと指令するためにしなやかに設計されることができる；ランダムなパッキ
ンが、曲げやすいものとしてない及びデフロスター・メッシュ採用のガス洗浄装
置コラムで容易に達成可能な柔軟性を許さない。 7. 熱移転向上の使用は、仕立てる酸化剤の中でそのシステムの全面操作の中
で熱流動を変えることを必要としている応用に、その排ガス流処理システムを挿
入する。 8. 酸化剤ユニットの入口への排ガス処理システムの中の酸化剤ユニットの急
冷からの飽和したH2O/排出流れのリサイクルは、酸化のためのパーフルオロカー
ボン（PFCs）の低コスト水素源を提供する。 9. その前段洗浄器への化学物質の追加が、その特徴を変えるために使用され
るかもしれない 洗浄された材料の。それによって高い溶解性をもつそれについ
て除去を洗浄することのための材料を生んで、実例となる例は、NH3の形式アン
モニウム・ウォルフラム酸塩へのタングステン・ヘキサフルオライド廃水への追
加である。 10. 酸化ステップの中で反応物/製品固体の壁蓄積を除去する酸化剤ユニット
のための蒸発チューブ・リアクター計画の使用。 11. 二重の流体の使用が酸化剤ユニットから熱い排出流を受け取っている急
冷ユニットの中で、ノズルを原子にして、順序で、急冷ユニット・サイズかその
選択肢を最小にすることは超音波のノズルのような手段を原子にしている他の小
さい小滴か圧電気のノズルの中で、その急冷の中でユニットを使う。 12. プロセス・ツールを製作している特定の半導体をもつ現在の発明のガス
排水処理システムの統合。 13. より充分に以下に記述された耐−目詰まり入口構造の展開による例に関
しては詰まることを避ける排ガス導入（入口）手段の使用。 14. 電気であるかフレーム（メタン、プロパン、水素及びブタン）ベースの
酸化を利用する酸化剤ユニットや空気かO2を使う能力の中の柔軟性。 15. 湿式洗浄器の使用か前段洗浄及び後段洗浄手段としての乾いたガス洗浄
装置。 16. 流動床熱酸化剤ユニットの使用。 17. その排ガス流処理システムの中のＰＦＣ非破壊のＰＦＣ再生／回収ユニ
ットの使用。 18. ガス流れ流れ層流境界層の中断のために、挿入物を使用している障害物
のない酸化剤ユニットの準備。 現在の発明は、そのような廃水（酸化及び洗浄しているプロセスがその排ガス
流の中で危険であるか一方望まれていない種を減らすために実行される）を生成
している上流のプロセス・ユニットから生じている排ガス流の酸化処理のために
、システムを熟考する。 特別な面の中で、その排ガス流処理システムは、酸化及び洗浄しているユニッ
ト操作を含むかもしれない、そのシステムが造られる及び配置される最小にする
反対のガス流（その一審の中で上流のプロセスから生じるかもしれないようなも
ので）の中の固体の微粒子の、生じる、あるいは、その場で排水処理システムの
中で生成されるかもしれない例えば排ガス流（微粒子の反応製品になる）するこ
と。 その発明は、その上に排ガス処理システム（ガス／液体インタフェース構造が
流体の流体力学的な動作の反対の効果を最小にする及び微粒子の固形物蓄積を最
小にする及び固体の蓄積にそのシステムの中で出来事をじゃますることを抑制す
るために使用される）に関連がある。 もう一つの面（発明がそれが競争的な統合化された熱処理システム及び目上を
熟考する贈り物）の中で、もう一方は熱市場に出ている処理システムを統合した
。そのような統合化されたガス処理システムは、フロントエンド熱処理を排気ガ
ス条件付けと組み合わせる及びそのエンド・ユーザに所有権の低コストを提供す
る。 その発明の統合化された排ガス流処理システムは、電気的にベースの熱酸化処
理ユニットを利用するかもしれない。その発明の引き続いて起こる記述がここで
主に電気の熱処理ユニットを使用している排ガス流処理システムに向けられる間
、その発明の処理システムが代わりに他の熱処理成分を含むために構成されるこ
とができた、例えばフレームベースである認められて処理、流動床処理、プラズ
マ処理、その他‖ 柔軟なユニット-操作ベースのモジュール式のプラットホームを提供すること
によって、その発明の排ガス処理システムが多種多様な排ガス流に容易に仕立て
られることができること例えば半導体製作が、放射に工具を備えつける及び過度
の努力なしで他のユニット操作処理を取り入れるために容易に修正されるかもし
れない。 それについて、いろいろな実施例の中の発明が先行技術処理システムに対する
重要な優位を提供する贈り物の排ガス流処理システム組成の排ガス処理ユニット
及び連合した流れ笛を吹く及びチャネル。の範囲内で詰まることに対する抵抗効
率的なガス／液体インタフェース構造の結果、腐食に対する抵抗を改良した。メ
ンテナンスの前の拡張した操業中の操作の時間は、必要である、低い水使用は、
処理を洗浄することは使用される時の評価を得る、除去レベルでTLVの下の洗浄
可能な種及び削減がHCl、Cl2及びHFのようなハロゲン種のために、均一化する廃
水の重さによる99.99 %を超える、優れた洗浄している効率TLVレベル（プロセス
・ラインの中の酸の腐食性の濃縮の除去）の下の危険な種の酸化性の破壊下流に
酸化剤ユニットの排ガス処理システムの中の組成の処理ユニットの柔軟な配置。
及び上流のプロセス設備からの排ガスの親切な複数の源の資格。 排ガス処理の中で酸化剤ユニットをその発明のシステムとみなして、その酸化
剤は電気の電力源を排ガス種の電熱の酸化のために利用するかもしれない、ある
いは、その酸化剤は水素及びメタンのような燃料を利用するかもしれない。その
システムが酸化処理の中でパーフルオロカーボンの破壊を実行するために配置さ
れるならば、そのシステムはH+根本的なソースとして水蒸気をそのパーフルオロ
カーボンの破壊を生じることのために利用するために配置されるかもしれない。
そのような酸化処理の酸化剤媒体は、空気か、酸素か、オゾンか他の酸素含有ガ
スを含むかもしれない。アトマイザー・スプレー・ノズルによるそのような接触
か小滴サイズ及び水消費を排ガス処理システムの操作の中で最小にする他の適当
な分散させるもののために分散させられる接触することはガスのためにその酸化
剤からの及びスクラブするための排ガス流が決意する、給水するホットの消失に
従事するかもしれない。重要な多量のシリカ粒子を含む酸化剤からの流れの処理
の中で、それが急冷媒体として腐肉性の溶液を利用するために望ましいかもしれ
ないことために‖シリカ粒子の除去を生じる。 その先行技術の排ガス処理システムと関係があり、現在の発明のシステムは、
抵抗及び腐食抵抗をじゃまする観点からのいろいろな利点、水使用の最小化及び
柔軟性を処理システムの排ガス・プロセス・ユニットの配置の中で、コンパクト
な、効率的な形態の中で成し遂げる。 それによって下流の設備の義務必要条件を単純化して、彼らがある熱い酸化部
屋及び間に、彼らが低温を得る前に、処理前のユニットはプロセス流れから微粒
子の及び酸性のガスを除去するためにその発明の排ガス処理システムに従事する
かもしれない。 先行技術システムがメカニズムの特別に栓を抜く導入をじゃまするかもしれな
い及び必要とするかもしれない間、現在の発明のシステムはそのシステムがその
一審をプラグインするのを妨げるために実質的に固有の流体の力学に頼る。 現在の発明の排ガス流処理システムは適当な小さい足跡を持っているコンパク
トな単位のキャビネットの中で配置されるかもしれないので、床スペース・エリ
アがそのキャビネットによってプロセス施設で要求したことは最小にされる。 その発明の排ガス処理システムが酸化ユニットをその排ガス流の中で種を酸化
させることのために利用するとき、酸化剤媒体はきれいな乾いた空気か、酸素か
、オゾンか、酸素濃縮空気か適当なキャラクタの他のどの酸素含有ガスでもある
かもしれない。そのような酸素含有ガスは扱われていた排ガス流に、その酸素含
有ガスの外部の源から加えられるかもしれない、あるいは、その酸素含有ガスは
その排ガス流の中でそれについて、上流の処理操作から生じている成分としてあ
るかもしれない。そのようなプラズマ処理を利用して、半導体製品の製造の中で
、例えば、オゾンはその排ガス流の中でオゾンを含む酸素-含んでいる種が生成
される上流のプラズマ処理部屋から生じている成分としてあるかもしれない。そ
のような例の中で、それについて、その排ガス流の中のオゾン贈り物は、例えば
気相や液体のフェーズ酸化反応によって、CO及び有機的な種のような成分で、減
少のために酸化条件でその流れの他の成分と相互に作用してもよい。 現在の発明の排ガス処理システムは排ガスを生成している一つの上流のプロセ
ス・ユニットの処理のために利用されるかもしれない、あるいは、代わりに、複
数の排ガス・ソースは贈り物（そのような成分の中で枯渇させられた放流水を生
むためにそのようなガス流の危険であるか一方望ましくない成分の減少のために
、その発明の排ガス処理システムへ輸送される全面流れに、組成の排ガス流がま
とめられる）であるかもしれない。 いくらかの例の中で、その排ガス流の構成が時間によって実行されていたプロ
セスを生成している違っている排ガスのために変化するならば、時間-変化して
いるモードの中で働くことは、望ましいかもしれない。NF3ガスの成分の生産に
なって、例のために、半導体製造の中で、タングステン化学気相成長（CVD）の
中で、シラン放射が堆積ステップの中で生成されるかもしれない及びそのような
CVD操作の後に続く、CVDリアクターはきれいにされるかもしれない。CVDステッ
プに由来したシランが激しくステップをきれいにしているCVDリアクターから、N
F3とともに化学反応してから、そのようなガスの成分は単位の処理のために混ぜ
られることができない及びしたがって、排ガス処理システムの中で別々の処理を
必要とすることができない。 現在の発明の一般の実行の中で、排ガス処理システムは、処理前のユニット（
その排ガスが水で上流にその排出流の酸化処理の中で事前の洗浄しているステッ
プを実行するために接触される）を利用するかもしれない。したがって、そのよ
うな前処理は水でスクラブすることを含むかもしれない、あるいは、代わりに、
ユニットがその排ガス流及び同様に廃水で、その酸化からユニットと接触して、
化学の中立化混合を使用することができたそのようなプレ処理は水か化学の中立
化混合を使って洗浄されることができた。それゆえに、処理されていた特定のガ
ス流にふさわしいように、現在の発明の排ガス処理システムの幅広い実行の中で
熟考された洗浄しているユニット操作は、どんな適当な洗浄媒体でも利用するか
もしれない。代わりに、洗浄することは洗浄することを濡らすよりはむしろ、乾
いた洗浄している操作として実行されるかもしれない。そのような目的のために
、多種多様なガス乾いたガス洗浄装置材料は、容易に市販である及びそのような
目的のために現在の発明の幅広い実行及びその技術の技術の範囲内で使用される
かもしれない。現在の発明の実行に従事した洗浄ユニットは、何の中ででも適当
な型であるかもしれない及び彼らの操作の中で問題をじゃましている固体を最小
にするために造られるかもしれない。 このように、現在の発明の排ガス処理システムは、形態及び組成の処理ユニッ
トの中で、広く変えられるかもしれない。そのような組成の処理ユニットは、酸
化成分の酸化を生じるために型を変えることで、熱酸化剤か、触媒作用の酸化剤
か、フレーム酸化剤か、透明酸化剤か、酸化性の湿式洗浄器（水のフェーズの中
で酸化を生じること）か他のプロセス・ユニットのような排ガス流構成の範囲内
であることがありえる酸化剤を含むかもしれない。 また、言及されるように、排ガス処理システムが、処理前のユニットを含むか
もしれない‖上流の設備からのガス流れが水の中間であるか化学の中立化構成で
または代わりに乾いたガス洗浄装置構成で接触される廃水が、その排ガス流の中
でその成分のいくつかの最初の減少を生じる‖以降の酸化及び洗浄している処理
。酸化ユニットは、造られるかもしれない及び以下により充分に記述されるよう
に、主な洗浄しているユニットと統合されるかもしれない急冷地帯への酸化剤ユ
ニットからの排ガスの温度が効率的な以降の処理のために著しく減らされるそれ
によって熱い排ガスを射出するために配置されるかもしれない。そのユニットは
、行動を起こさせる流体の手段（ポンプ（ファン、圧縮器、タービン、その他）
のような活発な手段か引き出す人のような受動の行動を起こさせる流体のドライ
バー、アスピレーター、またはその種の他のもの）を使うかもしれない。 排ガス処理システムの‖現在の発明さらに、使用する、酸性の成分の除去のた
めにそこから、洗浄している、いろいろな中立化プロセスのためのまたは一方、
その排ガス流処理システムからの水の排出の目的のために要求されたpHレベルを
成し遂げるための水のメディアの使用と関連して。 更なる変異株として、その排ガス流の処理の中でその発明の排ガス処理システ
ムは、峡谷/羽制御のためにさらに湿った電気集塵機を含むかもしれない。 そのデザインのいろいろな面及び現在の発明の排ガス処理システムの構造は、
下で記述される。 酸化ユニットの温度被制御動作のために酸化剤ユニットは、適当な温度調節及
び熱追跡を備えているかもしれない。 それによって下流の設備の上で義務必要条件を減少させて、可能であるように
、そのガス流が酸化ユニットを入れる前に、排ガス処理前のユニットは多くの酸
としてガス及び微粒子をそのガス流から除去するために配置されるかもしれない
。言及されるように、そのような処理前のユニットはユニットか代わりに乾いた
洗浄しているユニットを洗浄している湿気か組成の湿った及び乾いた洗浄してい
るユニットを含んでいる組合せ湿った及び乾いた洗浄している組立部品を含むか
もしれない。潜在的に役に立つ湿った洗浄しているシステムは、湿ったサイクロ
ン、湿った包まれた塔及び湿ったスプレー塔を含む。そのような湿った塔は、ど
ちらの共同現在の流れかでも逆の流れ流れ制度の中で働くかもしれない。 排ガス処理システムの処理前のユニットは、例えばその塔の上の部分で、原子
にされた洗浄している水を導入するために窒素によって援助された原子にしてい
るノズルを利用する湿ったスプレー塔を含むかもしれない。化学の追加が要求さ
れるならば、化学の混合は該当する化学の記憶をもつインライン液体のベースの
静的なミキサーのような手段及び測定の使用によって、実行されるかもしれない
。窒素によって援助された水原子化は、排ガス処理システムの水消費を最小にす
る及び排ガス構成要素が上流に酸化ユニットの中で空気とともに化学反応するの
を妨げるために有利に使用される。以下により充分に記述されるように洗浄器／
冷却塔の完全な部分として設計されるかもしれない共通のホールディング貯蔵に
、そのような湿った処理ユニット操作からの液体は、水抜きをされるかもしれな
い。更なるバリエーションとして、処理前のステップがスプレイ供給されたベン
チュリ管ノズルで操作と取り替えられるかもしれない湿ったスプレーが酸性のガ
ス吸収及び微粒子の除去を生じること。 このように、湿った洗浄しているユニットの準備の中の現在の発明は、上流に
酸化ユニットの中で酸化ユニットの中で酸化ユニットの中に存在している条件の
粒子-化成エージェントである排ガス流成分を洗浄することによって微粒子の形
成を制御する能力を提供する。 酸化ユニット先に示される、どんな適当な構成ででも造るかもしれない。例え
ば、酸化ユニットは、広角の2枚貝の貝がらを利用している電熱の酸化剤によっ
て、ヒーター表面及び熱いチューブの間の大きいギャップを持っている電気の光
を発するヒーターと指令されるかもしれない。 特定の実施例の中で、スパージャーを通して導入されていた排ガスで、酸化ユ
ニットは一つの垂直な熱いチューブを含むかもしれない及び、抑制する窒素さや
の中でおおわれていた排ガスで、その排ガスまでの反応が実際に酸化部屋の中で
ある。酸化部屋か、空気か他の酸化剤媒体の範囲内の一度は、同軸におおわれた
排ガス流であふれるために注射されるかもしれない。排ガス導入手段は、再循環
地帯、渦、淀み地帯及び酸化ユニットの操作の中で粒子蓄積を引き起こすことが
できた他の変則の流れ動作を防ぐためにイソ−キネティックの層流をシミュレー
ションするために密接に望ましく造られる。 要求された動作温度制度を成し遂げるためにそのような酸化ユニットの中の熱
いチューブは、適当な熱制御手段によって選択的に制御されるかもしれない。最
小限の温度条件が酸化成分の点火及び破壊を酸化ユニットの中で成し遂げること
を要求されるかもしれない間、また、過度に、高温は粒子アグロメレーション及
び蓄積をチューブ壁表面で促進するかもしれない。それゆえに、熱いチューブ酸
化ユニットは、酸化ユニットを通して流されていた排ガス流の中で、流体の流れ
移行を乱気流に発起することによってチューブ横の壁の上で粒子アグロメレーシ
ョンを防ぐために伝熱-改良しているチューブ挿入物を利用するかもしれない。 代わりに、酸化ユニットは、より高いガス流流れ速さを適応させる熱交チュー
ブの束を含むかもしれない及びそれによってそのチューブの壁表面で、粒子アグ
ロメレーションを抑制するかもしれない。チューブがバンドルするそのような熱
交換では、向上が挿入する熱移転は使用されるかもしれない、そのことは酸化ユ
ニットの一つの垂直な熱いチューブ構成と関連して、上記を記述した。 更なる選択肢として、酸化ユニットは、連続的に螺旋形になっているガス流れ
パスの準備を通してそのガス流の中で粒子の荒れ狂うアグロメレーションを最大
にしている間高いガス流速さ及び長いレジデンス時間を適応させるねじられたチ
ューブの複数のバンクを含むかもしれない。そのような配置は、固体のガス流れ
流れからの以降の除去が容易に実行される点に、粒子サイズの増加を与えるかも
しれない。 処理されていた排ガス流の特定の化学の構成を、妥当に尊重して、構造の酸化
ユニットのための材料は、構造のどんな適当な材料でも含む。HF及びHClと関係
があるよい抵抗特性で適当な材料は、高温酸化に抵抗力がある合金を含むかもし
れない。パーフルオロカーボン成分の破壊を避けるために、酸化ユニットは減じ
ている環境の中で操作されるかもしれない及び、適当な合金はそのような減じて
いる条件に耐えるために構造の材料として雇われるかもしれない。この点で、現
在の発明の排ガス処理システムは、ユニットを、それについてリサイクルか他の
配置のためにその排ガス流のパーフルオロカーボン成分を回復することのために
利用するかもしれない。 更なるバリエーションとして、酸化ユニットは、電気的に燃やされたヒーター
で高温へのその排ガス流と混ざり合うことの空気であるか他の酸化剤媒体の加熱
のために造られるかもしれない。そのような配置はいくらかの例の中でその排ガ
ス流の中で、接触に酸化成分の自己着火を提供するかもしれない及び、酸化剤媒
体及びこれと混ざり合うことは酸化ユニットの全面酸化効率を増やすかもしれな
い。 まだもう一つのバリエーションとして、酸化ユニットは、透明な酸化ユニット
として造られるかもしれない。 酸化ユニットは、高い温度にある酸化させられた排ガス流を生産する。そのよ
うな熱い流れは、静まるために服従させられるか、以降の処理及び最終的な排出
のために、排ガス処理システムからその温度を減らすためにしたがって、涼しく
なっている。 したがって、排ガス処理システムは、下流に酸化ユニットの中で急冷ユニット
を含むかもしれない。急冷ユニットは空気力の水噴霧ノズルで、水と接触するた
めに例えば一つの垂直なチューブを含むかもしれない、あるいは、もう一方は熱
い排ガスで酸化ユニットから媒体を消す。はっきりした熱／冷インタフェースを
提供するために溢流堰インタフェース構造は、急冷セクションの中で提供される
かもしれない。急冷ユニットは、露点耐衝撃性の合金のような適当な合金から造
られるかもしれない。例は、Al6XN、カーペンター20、HaC-22及びHaB合金を含む
。急冷ユニットは、排ガス処理システムの他のプロセス・ユニットに対する反対
の熱効果を最小にするために望ましく造られる。 急冷ユニットは、代わりにシェル側の冷やした水供給で、熱移転を生じるため
にフィルム酸性の吸収コラムを落しているマルチチューブ平行流を含むかもしれ
ない。 酸化ユニット及び急冷ユニットは、一つの垂直なオリエンテーションの中で変
則の流れ動作及び粒子蓄積を最小にする単位の線形のガス流れパスを提供するた
めに整列するかもしれない。 静かな更なる選択肢として、急冷ユニットは、スプレイ供給されたベンチュリ
管急冷装置によって、消失及び粒子除去目的のために構成されるかもしれない。 現在の発明の排ガス処理システムは、下流に酸化ユニットの中でガス洗浄装置
を利用するかもしれない。パックするコラム及びデフロスター・パッドのトップ
か他の霧を除いている手段thereoverの上の液体の注入多様性でそのようなガス
洗浄装置は、一つの垂直な包まれた塔を含むかもしれない。冷やされるかもしれ
ない、該当する温度で、その排ガスに関して酸化ユニットから射出されるかもし
れない及び消失か事前の冷却を上流にそのガス洗浄装置の中で選択的に受けるか
もしれない液体のフィード水で、そのガス洗浄装置は、供給されるかもしれない
。したがって、そのガス洗浄装置は、洗浄することは給水するガス洗浄装置塔及
びプレ冷却の隣に、立っていることができるチラーか他の水の洗浄媒体を取り入
れるかもしれない。残された霧（小さいサイズ水小滴）を最小にするか、除去す
るためにデフロスター・パッドの使用か類似した機械の手段の代わりに、その発
明の実行の中の洗浄ユニットは、より大きい小滴水「ノックダウン」スプレーで
、そのガス流から霧成分を除去するために接触するガス流を服従させることによ
るそのような霧成分を最小にするか、実質的に除去するために流体力学的に造ら
れるかもしれない。 それによって、一般に行われている周囲の関係湿度条件の下で水蒸気の量を減
らすために下記の周囲温度にその排ガス流を冷やすために例えばその排ガス流が
ツールを製作している半導体から生じるとき、操作を製作している半導体の環境
の中で、スクラブする際の冷やした水の使用は、望ましい。また、冷やした水の
使用が、thermophoreticを導入するために望ましい‖酸性のガス吸収及び微粒子
の吸収を包まれたコラムの中で改良するために生じる。 代わりの洗浄ユニットが、冷やした水フィードで落ちているフィルム酸性の吸
収コラムを含む、吸収コラムのシェル側の。そのような洗浄ユニットで、処理前
のユニット、その渇きをいやすもの及びその洗浄ユニットからの液体は、共通の
貯蔵へのガス洗浄装置コラムの底の流出に流されるかもしれない。そのような方
法では、排ガス処理システムからの使われる液体の流れはまとめられる及び、そ
れについて、そのような貯蔵は重力フィード操作のために配置されるかもしれな
い。 代わりに、排ガス処理システムの中の組成のプロセス・ユニットからの洗浄し
ている液体の及び他の液体の流れは、気圧調節をされるかもしれないか、そのシ
ステムから、遠心力のポンプか、臑動ポンプか、空気ポンプか、水-供給された
引き出すものか他の適当な液体の行動を起こさせるドライバー手段のような手段
を適当にポンプで揚げることによって射出した。 包まれたコラム・ガス洗浄装置の中で、デフロスターは使用されるかもしれな
い。そこに処理されていた流体の流れの中で、該当する抵抗するキャラクタのコ
ーティングを腐食性の種と関係があるようにして、排ガス処理システムの他の成
分と同様に、ガス洗浄装置コラムは、金属合金のような、どんな適当な材料かで
もおおわれている構造上の鋼であるか他の金属の中で作り上げられるかもしれな
い。 現在の発明の排ガス処理システムは、どちらでも造られるかもしれないか、使
われる液体の再循環に対する準備なしで流れる。言及されるように、その洗浄ユ
ニットは乾いたガス洗浄装置を含むかもしれない及び、その洗浄ユニット及び渇
きをいやすものユニットを乾いたガス洗浄装置カートリッジ・ユニットと取り替
えることはいくらかの例の中で実行可能かもしれない。また、湿ったか乾いた化
学の注入の使用をその洗浄ユニットに許すためにそのガス洗浄装置は、オプショ
ンの化学の処理前のユニットを備えているかもしれない。 引き出す人は、排ガス処理システムを通してその排ガス流に描く行動を起こさ
せる力を提供するために使用されるかもしれない。そのような引き出すものは、
耐衝撃性の及び耐詰まり性のデザイン（変調している弁及び制御で、きれいな、
乾いた空気であるか他の流体の引き出されたものを利用する）の中で、好んで排
ガス処理システムに要求された圧力レベルで該当する入口圧力を提供することで
ある。処理システムに従事するとき、また、その引き出すものは水ガス洗浄装置
から水蒸気飽和した排出流れまで、熱い乾いた空気の流れを供給するために使用
されるかもしれない。このように、熱い乾いた空気のそのような準備は、周囲の
飽和した条件の下でその排ガス流の関係湿度を下げるのに役立つ。その引き出す
ものは、空気か、窒素か他の適当な引出している媒体を利用するかもしれない。 また、そのような射出されたガスの中のすばらしい微粒子の捕獲のために引き
出すもの排出の濾過法を許すためにその引き出すものは、適当な濾過法モジュー
ルに結びつけられるかもしれない。 現在の発明の排ガス処理システムは、多種多様な上流のプロセス設備から排ガ
ス流の処理のために利用されるかもしれない。例えば、排ガス処理システムの中
で処理された排ガスは、ウェハースが、そのツールの以降の清掃で部屋壁、台要
素及びツール組立部品の電極から、過剰なタングステン沈澱物を除去するために
その上にタングステンを置くために処理されるプラントを製作している半導体の
タングステンCVDツールから、廃水を含むかもしれない。 多種多様なchemistries及び廃水が半導体製造設備の操作の中で生成されるか
もしれないことは、及びその構造、配置及びその発明のシステムが広く変えられ
るかもしれない排ガス処理の操作が上流のプロセス設備のそのツール及び製作し
ている操作から射出されたガスの処理を生じることは、認められる。 今をその図面に委託して、図1-3は発明（投げつけられたライン表現の中で図3
の中でガス排水処理のためにその発明のもう一つの実施例に記載のその流れ図の
バリエーションにシステムを見せる）の1つの実施例に記載のガス排水処理シス
テム10のための概要の流れ図の連続的なセクションである。 引き続いて起こる発表の中で、その図面の中でそのような目的のためにおおま
かに写真入りの形式に翻訳された発明の顕著な特徴の議論を容易にするために弁
、計測及び補助の制御手段は明快さのためにいろいろに省略された。それが、認
められる、笛を吹く、弁で調節する、計測及び制御手段は、いろいろに構成され
るかもしれない及び、その技術の技術の範囲内で現在の発明の幅広い実行の中で
インプリメントされるかもしれない。 熱を含んでいる冷やした水熱交12がそこに通過14を交換する流れ図特徴の水を
冷やした図1つのセクションは、第16行から流される及び第18行の中で射出され
る。 第16行は、そこに弁26を含んでいる第24行の水抜きをするために加わられる。
ライン16及び18は、そのチラーの効果を最大にするために適当に絶縁されるかも
しれない。示されるように、第30行の中の水はチラー12を通して流される及び種
々のライン（その水が1つの部分で流れられていた第34行の中で2つの部分に分割
される）32に、そのシステムを渡される及び、もう一方は第36行の中で導入のた
めに排ガス流処理前のコラム40にスプレー頭38に渡されることを分ける。 排ガスは、第62行の中で導入される及び処理前のコラム40に移った。第62行は
熱追跡64でその長さに沿って絶縁されるかもしれない及び、絶縁された熱たどら
れたキャラクタの、枝ライン66は図2の中で示された流れ図の次のセクションに
移るかもしれない。 第42行がプロセス・システムのためのオキシダント・ガス・フィード・ライン
である、第44行はきれいな乾いた空気のラインである及び、第46行は示された枝
として窒素にその水に処理前のコラム40に流されていた第36行の中で、窒素を導
入するために第47行を供給するかもしれない窒素供給ラインである。オキシダン
ト・ガス・フィード第42行は、酸素か、オゾンか、空気か、酸素濃縮空気か、一
重項酸素か他のオキシダント・ガスのようなオキシダント・ガスの適当な源（示
された）につながれるかもしれない。 その排ガス流は、コラム入口セクション50への第62行の中で導入される及び窒
素の追加によって枝第48行もしもから及び要求された範囲に増やされるかもしれ
ない。その排ガス流は、プレ・コラム40の中で図3の中でその流れ図の部分に渡
される第60行の中で、底を生産するために扱う。図2の中でリアクター90に渡さ
れる第68行の中で、その上の終わり52のコラムは、オーバーヘッドを生産する。
そのオーバーヘッドの部分は第56行の中でそのコラムにリサイクルされるかもし
れない及び、示されるように、更なる還液はその第58行によって適応させられる
かもしれない。 図2の中で、システム116は、結合されていた枝導管108からの第44行からの第4
2行及び選択的にきれいな乾いた空気の中のオキシダント・ガス（例えば、酸素
、オゾン、その他）でそのリアクターの上の終わりに渡される第110行の中で、
酸素-含んでいるオキシダント・ガスを提供するためにその上の終わりでライン4
6から窒素を受け取っている酸化リアクター90を含む。 第34行の中の水は、枝ライン（図3の中で示されたシステムのセクション120に
渡される）96への多様性94で及び枝ライン（流体の流れが第44行の枝ライン97か
らのきれいな乾いた空中のそばで増やされるかもしれない及び酸化リアクター90
の中でノズル102に移った）98に分けられる。きれいな乾いた空気の余りは、第1
12行の中でプロセス・システムの図3つの部分に流される。 また、酸化リアクターは、入口92を通してリアクター容器の中間の部分で、第
100行から水を受け取るために配置される。通過86がそこに送電線（ヒーター88
が第68行の中で酸化リアクターに導入された排ガス流の熱酸化のために、そのリ
アクターの電気の抵抗加熱を提供するために動かされる）80の枝ライン82及び84
に結びつけた熱交換を含んで、そのリアクターは、リアクター・ヒーター88を特
徴とする。示されるように、酸化リアクターはそれについて上の及び下部の終わ
りを相互に連結させている再循環第106行を備えているかもしれない。そのリア
クターからの廃水は、第104行の中でプロセス・システムの図3つの部分に流され
る。 図3は、プロセス・システムの部分120を含む及び一列に並んで導入される水で
ノズル126に96を洗浄するために内部のボリューム128を定義しているガス洗浄装
置124を含む。その排ガス流は、そのガス洗浄装置に第104行の中で導入される。
第132行の中のガス洗浄装置蒸留残渣は、ライン60の中の排ガス流プレ処理から
の液体でつながれる、そのシステムから射出される及びそのような液体の廃水処
理か他の終わり使用配置に渡される。 おおまかに示されるように、第112行から処理システム廃水を生産するために
きれいな乾いた空気を供給される引き出すもの144への流れられる第130行の中で
、洗浄されたオーバーヘッドは排出150に第146行を渡される。その廃水が、その
追加によってそれにライン66からのバイパス蒸気及びそのような第66行の中で増
やされるかもしれない‖言及される、heat-tracedする及び絶縁する。 ポンプ136が第132行の中で入口を通して液体の底をリサイクルするために展開
されるその点では、排出液体のライン（液体のリサイクルの処理によってそこに
洗浄している操作を改良するために液体のリサイクルがライン96の中で洗浄して
いる水でつながれる）134に、第138行をポンプで揚げる。と、図3が投げつけら
れたライン表現の中で修正に明らかにする。それから、扱われた液体は、そのシ
ステムからそこに弁142を含んでいる第140行の中で射出される。 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の
流れ図である。このシステムの中で、ガス排出流は、ライン160、162、164及び1
66の中で導入される及びそれから通過180がライン178に接続した熱交換を含んで
いる両替商182が生じる熱に、まとめられた流れの熱交換を渡されるライン184の
中で、結合された排ガス流を形式につないだ。それから、熱-交換された排ガス
流は、第212行の中で排ガス流前処理コラム210に渡されるかもしれない。代わり
に、希望する場合、その排ガス流の一部または全体は、処理システムから迂回さ
れるかもしれない及び第186行の中で排出256までたれた。 冷やした水熱交174は、ライン168の中の冷やした水フィードを受ける及び帰り
の冷える水をリターン第172行の中で射出する。第170行の中の水は、そのチラー
を通り抜ける及び第224行の中で主な窒素フィード・ライン216からの枝第222行
の中の窒素でつながれる及び処理前のコラム210の中でノズル226を通して射出さ
れる。追加の窒素は、処理前のコラム210に第220行の中で主な窒素フィード第21
6行から導入されるかもしれない。 きれいな乾いた空気はそのシステムにライン176の中で導入される及び、それ
についてそれについて、部分は第240行の中で上の終わりで、窒素と共に第216行
の中でリアクター198に渡されるかもしれない。オゾンのような酸素か他のオキ
シダント・ガスは、そのリアクターに第214行の中で導入される。そのリアクタ
ーは、第230行の中で処理前のコラム210からそのオーバーヘッドを受け取る。示
されるように、送電線218はリアクター198の電気の抵抗ヒーター200に、エネル
ギーを提供する。 その上の終わりで酸化リアクター198を含んでいる容器の急冷部分は入口208で
第202行から水を受け取る及び、水及びきれいな乾いた空気と混合は第204行の中
でノズル206にその容器の急冷部分の中で導入される。その容器の急冷部分は、
ガス洗浄装置194と通信する。その上の終わりのガス洗浄装置は、ノズル196で第
192行から水を受け取る。 そのガス洗浄装置からのオーバーヘッド・ガスは、第250行の中で第250行の中
で引き出すもの252に渡される。その引き出すものは、第259行の中で第240行か
らきれいな乾いた空気を受け取る。それから、第254行の中の引出された流れは
、第186行からのどんな迂回された排ガスででもつながれる及び第258行の中で処
理システムの排出256に流される。 排ガス流処理前のコラム210からの底及びライン236の中のガス洗浄装置194か
らの底は、第238行の中で加わられる及び廃物の液体の排出か他の処理に渡され
るかもしれない。 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要の流れ図である。
その排ガス流は、第312行の中で処理前のコラム308に、窒素と共に第310行及び
水の中でノズル306を通して導入された第302行の中で導入される。ノズル306へ
の水流れは、リサイクルされた液体で第304行から増やされるかもしれない。 第314行の中の処理前のコラム・オーバーヘッドは、また、オゾンのような酸
素か他のオキシダント・ガスを第330行及び窒素の中で第328行の中で受ける酸化
リアクター334に渡される。リアクター334を含んでいる容器は電気の抵抗ヒータ
ー332を備えている及び、急冷水は容器333の下部の急冷部分に、第324行の中で
導入される。給水される、さもないと、空気/水混合は容器333の急冷部分の中で
、ノズル322でライン（希望する場合リサイクル液体によって第318行から増やさ
れる）320から注射される。 第341行の中でポンプ342でポンプで揚げられた容器338から、化学物質340を扱
って、第344行の中で流されていた及び接続されていた水を洗浄することで、ガ
ス洗浄装置336の排出は、ライン356の中でガスを洗浄しう形式にとって、洗浄し
ている液体は、第346行の中で流れる及びガス洗浄装置336にノズル350の中で導
入された洗浄媒体を提供するためにリサイクル液体と第348行で結び付いた。そ
のガス洗浄装置からの蒸留残渣は第304行の中で廃水熱交352に流される及び、熱
は冷やした水で第354行の中で交換した。 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つの流れ図の中
で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要の流れ図である。この図
6つの実施例の中で、ガス洗浄装置400は洗浄されたオーバーヘッドをライン402
及び底の中で第404行の中で射出する。第430行及び熱の中で導入された水を含ん
でいる洗浄している液体のための構成が熱交416の中で本線410のライン412及び4
18の中を流れている冷やした水によって交換したように、液体の底の部分がライ
ン（熱交414の中で冷やした水によってライン410の中で交換された熱）408の中
でリサイクルされるかもしれない及び使われるかもしれない。結果として生ずる
洗浄している液体は、ポンプ426で第424行から第428行までポンプでくみ出され
た容器420から、化学物質422を液体に扱う追加によって、さらに増やされる及び
第430行からの洗浄している液体といっしょに行動する及び第406行の中でガス洗
浄装置400の中でそのノズルに移った。 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要の流れ図である
。 図7の中で、その蒸気は第442行の中で処理前のコラム438に、水とともに導入
される、あるいは、ライン（その蒸気が液体でライン446からオーバーヘッドを
生産するために接触される）440の中の水/窒素混合は第443行の中で酸化リアク
ター450に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダント
・ガスを第454行及び窒素の中で第452行の中で受ける。リアクター450を含んで
いる容器のより低い部分は、第458行の中の空気及びライン456の中の水と共に、
急冷セクションの中でノズル460でライン448の中でリサイクル急冷液体を導入で
受けている急冷セクションである。 示されるように、第468行の中の処理前のコラムの底及びそれとともに第470行
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、464が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン472から第478行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第472行の中のリサイクル液体は、熱交472の中で冷やした水によっ
て第476行の中で交換された熱であるかもしれない。 第478行の中の洗浄している液体は、追加によってそれに化学の液体の中で第4
94行から増やされるかもしれない。そのような目的のための化学の液体は、容器
480に第484行の中で導入された第482行及び乾いた化学物質に、容器4809を混入
することに導入された水でできている。代わりにまたはその上に、容器486の中
の液体の化学物質は、第488行の中でポンプ490で化学の液体がそのようなライン
の中で導入された水で薄められるかもしれない第492行にポンプで揚げられるか
もしれない。このように、図7の中で示されたシステムは洗浄している液体の中
で湿ったか乾いた化学の追加を利用するために構成される、必要かもしれないか
与えられた終わりで望ましいかもしれないように、その発明の処理システムの応
用を使う。 図8の中で、その排ガス流は、第498行の中で処理前のコラム500に、水か水/窒
素混合とともに第496行の中で導入される。そのような流体の部分は、ライン504
の中で楽しむかもしれない、ライン506からのリサイクル液体と化合する及び処
理前の容器の中でそのノズルに移った。 処理前のコラム500の中で、第502行の中でリアクター510に渡されたオーバー
ヘッドを生産するためにその排ガス流は、液体で接触される。そのリアクターは
、オゾンのような酸素か他のオキシダント・ガスを第516行及び窒素の中で第518
行の中で受ける。リアクター450を含んでいる容器のより低い部分は、ライン512
及び514の中の水と共にライン508の中でリサイクル急冷液体を受けている急冷セ
クションである。 それが熱交538の中で冷やした水によって第530行の中で交換された熱であった
あと、520が以前に造られるガス洗浄装置はライン540の中の洗浄している液体を
記述する及び受ける。第524行の中のガス洗浄装置蒸留残渣はライン526から処理
前のコラム底と組み合わせられる及び、第506行の中でリサイクルされていた結
合された底液体の部分で第529行の中の結合された流れは廃水に廃物の液体の処
理か他の配置を渡されるかもしれない。洗浄された排ガス・オーバーヘッドは、
そのガス洗浄装置から第522行の中で射出される。 図9の中で、その排ガス流は第546行の中で処理前のコラム542に、水とともに
導入される、あるいは、ライン（その排ガス流が液体でライン548からオーバー
ヘッドを生産するために接触される）544の中の水/窒素混合は第550行の中でリ
アクター560に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダ
ント・ガスを第562行及び窒素の中で第564行の中で受ける。リアクター560を含
んでいる容器のより低い部分は、第556行の中の空気及びライン554の中の水と共
に、そのノズルでの急冷セクションの中の導入のためのライン558の中の液体が
そこに内側に配置したリサイクル急冷を受けている急冷セクションである。 示されるように、第552行の中の処理前のコラムの底及びそれとともに第558行
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、556が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン560から第582行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第560行の中のリサイクル液体は、熱交564の中で冷やした水によっ
て第568行の中で交換された熱であるかもしれない。 第572行の中で導入されて、その水をもつ熱交換のために、第568行の中の冷や
した水の部分は、第570行の中で引っ込められる及び熱交580に移った。第582行
の中の化学物質/水溶液を混ぜ合わせられる及びそのノズルにガス洗浄装置556の
上の終わりで、その後導入されるようにライン560からのリサイクル液体との以
降の組合せのためにライン572の中で洗浄している水を増やすために化学の添加
物は、貯蔵574から第576行の中でポンプ578の動きの下で加えられるかもしれな
い。このようにその排ガス流の中で洗浄することはそのガス洗浄装置から第562
行の中で射出された洗浄されたオーバーヘッドを生産するために実行される。 処理前のユニット、酸化ユニット及びガス洗浄装置を利用して、図10はまだそ
の発明のもう一つの実施例に記載の排ガス処理システムの概要の表現である、そ
のガス洗浄装置及び酸化ユニットが急冷部屋を通してつながれるその点で。 排ガス処理システムの入口606を入れる第604行の中で、上流のプロセス・ユニ
ット602は、排ガス流を射出する。入口606は、ガス流れ通信の中で開いた排出終
わり610を持っている内の管状のメンバー608でつながれる。その間で内部の環状
のボリューム612を提供するために管状のメンバー608は、外の管状のメンバー61
8の中で同心で配置される。外の管状のメンバー618は管状の拡張（供給容器624
からのガスが管状の拡張622に第626行の中で流れのために内部の環状のボリュー
ム612を通して、内の及び外の管状のメンバーの間で、適当に流される）622によ
って定義されたガス入口ポート620を備えているので、その排ガス流が内の管状
のメンバーの開いた排出終わり610で射出したことはガス供給624から供給された
ガスの中でさやに納められる。 ガス供給624からガスの流れを調整する目的のために、第626行はフロー制御弁
か他のフロー制御手段を管状の拡張622にガスのあらかじめ決められた流れ率を
生じるために含むかもしれない。 入口構造の外の管状のメンバー618が、斜めに切られた排出終わり630を持つ、
そしてそれは‖そう配置する外の円筒形のメンバー618の最大長さ周囲の部分が
、そのような管状のメンバーの最小限の長さ周囲の部分より上にある。このよう
に、最大長さ周囲の部分は、排ガス流（そのようなさやに納められた排ガス流の
中でその流れ落ちで処理前の塔634で液体632と尚早に接触することなく保護する
ガスの中でガス供給624からさやに納められる）の流れの開発を許すために「突
出」構造の役目を果たす。 コレクション及び排水のその塔から液体を洗浄する導管638の中で準備をして
、下部の穴貯蔵636で、おおまかに示されるように、処理前の塔634は造られる。
スプレー・ノズル642が前段洗浄液体で液体の供給646から供給された導管644及
び導管644に結びつけられた第648行から供給されたならば640がある上の部分で
、その塔は、造られる。第648行は、適当なフロー制御弁か他の手段を塔634に前
段洗浄液体の流れを調整するために含むかもしれない。このように、上流のプロ
セス設備602からの排ガス流は、塔634の下部の部分650への入口構造を通して導
入される及び流れに対向してスプレー・ノズル642から射出された前段洗浄液体6
32と接触する。このように、その排ガス流は、微粒子を除去する前段洗浄ベッド
及びそのガスの酸性の成分である。そこから伴出された水を除去するデフロスタ
ー・パッド652を通して、それから、導管654を入口ユニット（被覆を受けている
高圧670と通信している導管668がガス・ソース672から第674行までガスを供給す
るより大きい同心円に関して、導管654が同心で配置される）666に伝えている霧
を除かれた排ガス混合で通過して、それから、前段洗浄ベッド排ガスは、塔634
の上の端を通り抜ける。外の導管668は、中間の供給678が第680行によって高圧6
76につないだオキシダントから、空気か、オゾンか、酸素か、酸素濃縮空気か他
の酸素含有ガスのような、オキシダント媒体を受け取っている高圧676によって
、順番に回りに境界線を引かれる。それぞれのガスの流れを調整するためにその
第674行及び680はフロー制御弁か他のフロー制御手段をそこに含むかもしれない
。そのような入口構造666によって、その排ガス流は、導管654の中で入る、供給
672からの窒素か他の不活発なガスの中でさやに納められる及び酸化剤ユニット6
82に酸化剤媒体で供給678から生じている高圧676から、流れと同方向に導入され
る。 酸化ユニット682は、そこにガス流れパス686を定義しているガス流れ通過684
で、部屋がヒーター688によって回りに境界線を引いたマルチ-地帯酸化反応であ
るかもしれない。ヒーター688が、電熱のユニットであるかもしれないか、適当
な加熱が意味する、ガス流れ道686のガスが適当に高さに温度を熱されるそれに
よってもう一方がその酸化成分の酸化を生じる何でも含むかもしれない‖そのガ
ス流。 以下により大きい詳細の中で記述されるように、それから、酸化させられた排
ガス流は導管684の中でしたたる堰ガス／液体インタフェース構造690に移る。し
たたる堰ガス／液体インタフェース構造は、液体のフィード第694行を通して液
体の供給692から液体を受け取る。したたる堰ガス／液体インタフェースは、導
管684のそのような内部の壁表面が酸化ユニット682の中で扱われた排ガス流の中
で、熱い、腐食性の反応製品から分離されるために、急冷部屋696への近接の中
で、導管684のより低い壁を保護するために作動する。同時に、微粒子を伴出す
る及び彼らの蓄積及び癒着を導管684の内部の壁表面で防ぐためにしたたる堰ガ
ス／液体インタフェース構造は、導管684のそのような内部の壁表面で、インタ
フェース構造690の下で水の落ちているフィルムを供給する。 その排ガス流の中で涼しくなって、同時に部屋（結果として生ずる空気／水の
流れが急冷部屋696でノズル708によって射出される）706を溶け込ませることへ
の704が生じるラインを通しての供給702が消す水からの急冷水の流れで、急冷部
屋696では、急冷空気は、急冷空気の供給698から第700行まで急冷部屋に流され
る。 それから、それについてそれについて上の部分714への下部の部分712から、包
まれたベッド716及びデフロスター・パッド718を通して、静まられた排ガスは、
洗浄ユニット710に注ぐ、その洗浄ユニットからオーバーヘッド導管720の中で引
き出すもの722の動きの下で射出される扱われた排ガス流を生産するために、排
出第724行の中の排水処理システムからの最終的な排出のために。 フィード導管728によって供給貯蔵730から洗浄媒体を供給されて、洗浄ユニッ
ト710はそこにスプレー・ノズル726を持つ。その洗浄ユニットの洗浄している効
力を改良するために化学のアジュバントを含んで、選択的に、その洗浄媒体は、
水か他の水の媒体であるかもしれない。 また、第638行の中で処理前のユニットから底液体を受け取るタンク754に、急
冷部屋には、液体の急冷及び洗浄している液体のコレクション及び流れのために
、排出導管752の中でそこに下部の穴部分750がある。システムが、該当する酸か
ベースの追加のような処理戦車756の中の試薬、一つ以上の処理化学物質が加え
られるかもしれないそれによってそのような目的のために、ポート758、760及び
762を以降にしている戦車754で、おごられるかもしれない排水処理の中のプロセ
ス・ユニットからの最終的な扱われた液体がそのシステムから射出されるかもし
れないそのような「液体の底」は、導管764を射出する。 あることはキャビネット800の範囲内で横になったように、代理をされて、お
おまかに、図11は現在の発明のもう一つの実施例に記載の処理システムの概要の
表現である。 図11の排ガス流処理システムは、その廃水を輸送しているフィード第804行が
ガスを供給する廃水から、廃水を受け取っている導管802が、半導体製造設備の
ような上流のプロセス・ユニット806から、流れ出させる排ガス流入口を特徴と
する。入口導管802は、第818行の中で貯蔵816からガスを受け取っている入口ポ
ート814を持っている円筒形の壁812を含んでいる構造810を覆っているガスと通
信する。壁812は、内部のガス透過性の壁820で貯蔵816から導入されたガスがガ
ス透過性の壁820の中を流れる及び入口導管802から導入されていた排ガス流れ流
れを覆う内部の環状のボリューム822を定義する。それから、排ガス流れ流れは
、下方へ処理前のユニット826の第一の足824の中を流れる。処理前のユニットの
第一の足824は、順番に空気及び水（示された）の適当な源につながれるフィー
ド導管830に接続していたスプレー・ノズル828を備えている。そのような方法で
、ガス流れがその空気／水スプレイで接触される下方へ流れる廃水がそのガスを
前もって処理する及びノズル828からその排ガス流から水のフェーズの中で微粒
子を伴出するために導入されているのと、同じくらいよくその酸性度を減らすこ
と。種々の導管842によって洗浄ユニット（この後より充分に、記述される）の
穴840と通信して、それから、結果として生ずる液体は、処理前のユニット及び
流れの下部のU形の部分832の中で、導管834によって穴836に集まる。 それからその空気／水スプレイでプレ処理の第一の足の中で、ユニットと接触
することの後に続く排ガス流は、上方へそのようなユニット（その排ガス流が流
れ落ち水スプレーで適当なソースへの液体のうちの848が例えば給水する導管か
他の洗浄媒体（示された）によってつながれたノズル846から、流れに対向して
接触される）の二番目の足844の中を流れる。処理前のユニット826から、十分な
温度にそのガス流の有害な酸化成分を酸化させる及び破壊するために熱されてい
る間、熱酸化ユニット（その排ガス流がある内部のボリューム856を通して、排
ガス流れパイプ854を含む）852への導管850の中のプレ扱われた排ガス流通過は
流れた。それから、酸化させられた排ガス流は、熱酸化ユニット852から、した
たる堰ガス／液体インタフェース構造860まで、以下に、急冷の導入のためにフ
ィード・ポート864を備えていた急冷部屋を、水か、ガス洗浄装置塔870に空気／
水スプレイのような媒体と指令する導管862の中で、それからその排ガス流であ
ふれる充分により記述するように、射出される。ガス洗浄装置塔には、下水管87
6を通して穴（その液体が多様性842及び連合した下水管を通して水抜きをされる
かもしれない）840に、蓄積された液体の水抜きをする底貯蔵874を含む下部の部
分872がある。フィード導管880を通して洗浄媒体（示された）の適当な源に結び
つけられる、水か他の水であるか洗浄している媒体を含むかもしれないその上の
部分で、ガス洗浄装置塔870は、ガス洗浄装置中間のスプレー・ノズル878を備え
ている。洗浄されたガスのその湿気か液体の含有量を減らすためにガス洗浄装置
塔は、ノズル878より上にデフロスターか他の液体のディス−エントレイメント
手段（示された）を適当に含む。洗浄されたガスが、ガス洗浄装置塔の上の端89
0に上がる及びライン894を通してのオーバーヘッド導管892の中で射出される、
外面的に排水処理システムの中で内閣である‖800。 図11の中で示された配置によって、その排ガス流は、上流に下流に射出された
排ガス流の中で熱酸化ユニットを洗浄することが続いた熱酸化剤ユニットの後に
、処理を洗浄している二進数を受ける。 熱酸化剤ユニットは、例えば温度で最高2000ーFその排ガス流の高い温度処理
を提供しているかもしれないか、どんな適当な型の中ででもより高い。 酸化ユニット及び処理前の（すなわち、前段酸化処理）洗浄している及び後段
酸化洗浄しているユニットを一つの単位のキャビネット。の中で提供することに
よって小さい足跡（便利に半導体製造の範囲内でその排ガス流処理システムの展
開を適応させる）かその発明のシステムによって扱われていた排ガス流が位置す
る他のプロセス能力を持つコンパクトな装置形態は、提供される。 言及されるように、その排ガス流からの他の可溶化できるか一方スクラブによ
り取り外し可能な成分と同じくらいよく、現在の発明の排ガス流処理システムの
中の洗浄しているユニットは他の湿ったか乾いたガス洗浄装置か他の処理ユニッ
トと、微粒子及び酸性の成分を除去するために取り替えられるかもしれない。 図12は、第907行の中のキャビネット903を入れる及び処理ユニット905の中で
酸性の成分の除去及び微粒子の固体の除去のために処理される上流のプロセス90
1からの排ガスの処理のためのプロセス・システムの概要の表現である。それか
ら処理ユニット905の中で扱われたガス流は、第911行の中で酸化処理ユニット（
その排ガス流がその排ガス流の浄化のためにそのガス流の有害であるか望まれて
いない酸化成分を除去することによって酸化条件を受ける）913に流される。そ
れから、酸化させられた排ガスは、第915行の中で、行動を起こさせる流体のド
ライバー921の運動量の下で排水処理システムからライン919の中で射出される最
終的な扱われたガス流を生産するためにそのガスの処理を洗浄するためにユニッ
ト917を洗浄することに流される。言及されるように、行動を起こさせる流体の
ドライバーはファンか、ポンプか、タービンか、圧縮器か、その他か引き出す人
（アスピレーター、またはその種の他のもの）のような受動の装置のような活発
な装置であるかもしれない。 図12の排水処理システムは、それについて酸化処理の後に続く排ガス流の隠れ
ている熱を抽出するために及び該当する温度に酸化処理廃水を冷やすためにその
洗浄ユニットの中で917を効果的に洗浄するためにさらに急冷ユニット923を含む
かもしれない。 酸性の成分及び微粒子除去ユニット905は、水素弗化物吸収（そのような成分
の除去に捧げられる）のために、適当に処理前のサブシステムを含むかもしれな
い。 排水処理システムのいろいろな処理ステップの中で、水使用を最小にするため
にシステムが適当に湿って扱うかもしれない排水処理/乾いたインタフェース構
造の中のそれぞれの処理ユニットの、切れ込み/穴のような入口は、型か穴の多
い型インタフェースに注射する。 どんな適当な加熱手段かでも方法を利用するかもしれない酸化装置として、酸
化処理ユニット913は、シェル及びチューブ熱交を含むかもしれない。例えば、
該当する温度にその酸化成分の酸化のためにそこにその排ガスを熱するために光
を発する流動は、その熱交のシェル側面に携わっているかもしれない。 ユニット917を洗浄している後段酸化は、そのガスの中で濃縮を限定する及び
洗浄しているプロセスの効力を改良するために涼しくなるために熱交換手段を取
り入れるかもしれない。排水処理システムの中で操作を洗浄することは、洗浄さ
れた排ガス流の中でデフロスター・メッシュを水のディ−エントレインメントの
ために利用しているガス洗浄装置コラムの中で、実行されるかもしれない。その
コラムのオーバーヘッド内部のボリュームは、無効なボリュームとして微粒子の
固体のその排ガス流からの除去を改良することに対して用意されているかもしれ
ない。 現在の発明の排ガス流処理システムの更なる修正として、そのシステムは、ク
ロロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、その他の回復のために、ハロゲ
ン化炭素回復ユニット927を使用するかもしれない。発表されるように、そのよ
うなクロロ−フルオロカーボン回復ユニット（CRU）は造られるかもしれない及
び働いた出願中のグレンM.Tom（ほか）の08/395162 No.が1995年2月27日「METHO
D AND APPARATUS FOR CONCENTRATION AND RECOVERY OF HALOCARBONS FROM EFFLU
ENT GAS STREAMS」のためにファイルに入れたU.S.Patent Applicationの中で及
びGlenn M. Tom（ほか）のアメリカPatent Application No. 08/474517は、「PR
OCESS FOR REMOVING AND RECOVERING HALOCARBONS FROM EFFLUENT PROCESS STRE
AMS」のために1995年6月7日をファイルに入れた、その発表どれのこれによって
ここで彼らの全部の中のリファレンスによって取り入れる。このように、ハロゲ
ン化炭素回復ユニット927は、第925行の中で処理ユニット905の中でそのガス流
の洗浄しているか他の前段酸化処理の後に続く第911行から、排ガスを受け取る
かもしれない。要求されるように、それから、回復されたハロゲン化炭素はライ
ン929の中のCRUユニット927から射出されるか及びリサイクルされるかもしれな
いか、一方利用される。更なる選択肢として、そのハロゲン化炭素は、下流にそ
の排ガス流の酸化処理の中で回復されるかもしれない。 酸化処理ユニット913示される、熱交を含む及びより充分に記述されるように
、そのような熱交はそれの熱移転通過の中で挿入物を改良している熱移転を利用
するかもしれないU.S.Patent Application No. 08/602 ,134の中で、マークR.Ho
lst（「POINT-OF-USE CATALYTIC OXIDATION APPARATUS AND METHOD OF TREATMEN
T OF VOC-CONTAINING GAS STREAMS」のために、ほか）の名前の中で、1996年2月
15日をファイルに入れたその発表どれのこれによってここでリファレンスによっ
て完全に取り入れる。 おおまかに、図12の中で示された排ガス処理システムの更なる修正として、そ
れについて、パーフルオロカーボンの破壊が要求されるならば、回復よりもむし
ろ酸化のためのパーフルオロカーボンの低コスト水素源を提供するために急冷ユ
ニット923からの飽和した水/排出流れは、第931行の中で酸化ユニット913の入口
にリサイクルされるかもしれない。 前段酸化ユニット905が、化学物質が洗浄されていた材料の特徴を変えるため
に例えばアンモニアの追加を導入されるかもしれない前段洗浄器を含むかもしれ
ない、アンモニウム・ウォルフラム酸塩を生むためにタングステン・ヘキサフル
オライド廃水。アンモニウム・ウォルフラム酸塩は、それについて除去を洗浄す
るためによい溶解性特徴を持つ。 酸化ユニット913は、そのようなステップの中で反応物/製品固体の壁蓄積を除
去するために輸送チューブ・リアクターを含むかもしれない。 ユニット923が利用するかもしれない急冷が例えば水及び空気であるか他のガ
スの中で、複数の流体のインプットを使用するノズルを原子にして、減じること
はユニット・サイズを消す。そのような急冷ユニットは、代わりに消失操作を成
し遂げるために超音波のノズルか、ネブライザーか圧電気のノズルのような手段
を原子にすることを含むかもしれない。 他のどの適当な酸化設備も及び方法によって酸化ユニット913は電気の熱酸化
を利用するかもしれないか、フレームベースの酸化を通して一方酸化にも影響を
及ぼすかもしれない。フレームベースの酸化ユニットが、例えばメタン（プロパ
ン、水素、ブタン、その他及び一般に酸化ユニットに従事した酸化させている媒
体）が含むかもしれないどんな適当な燃料でも利用するかもしれない‖空気、オ
ゾン、酸素、酸素濃縮空気または他のどの酸素含有媒体。また、そのような処理
ステップの実行の幅広い範囲の範囲内で酸化ユニットは、流動床熱酸化剤ユニッ
トを含むかもしれない。 言及されるように、前段酸化処理ユニット905及び後段酸化処理ユニット917は
他のどの適当な前段酸化だけでなくも及び後段酸化処理手段だけでなくどんな適
当な型（乾いただけでなく湿ったガス洗浄装置）でものガス洗浄装置を含むかも
しれない。 したがって、発明が適している贈り物の排ガス流処理システムが多種多様な組
成の処理成分構成に表現されることは、及び、プラントを製作している半導体の
ようなプロセス施設の使用のためにそのような処理ユニットが単位のキャビネッ
トかハウジングに、簡明に表現されるかもしれないことは、見られる。 一般に、現在の発明の処理システムは、ガス／液体及びガス/ガス・インタフ
ェース構造の回りに境界線を引いている層をもつ排ガス流かガスか液体のさやを
「覆う」ことの用途を熟考する。その排ガス流のそのような被覆は、例えば、そ
のガス流のそのような被覆がない場合、起こる固形物蓄積及び堆積に関して、ガ
ス流れ通過の壁を含むことを保護するのを要求されるかもしれないまた、特に液
体のフィルムをさやに納めることの場合、微粒子のエントレインメント及びその
ガス流からの有害な成分の可溶化として。 そのようなアプローチの特定の構造上の特徴及び実施例の代理をして、それゆ
えに、実例となる種類のインタフェース構造は、この後記述される。 有効に現在の発明の排ガス流処理システムに従事するように、図13は現在の発
明の実例となる実施例に記載の詰まりにくい入口構造の概要の表現である。 図13の中で示された詰まりにくい入口構造は、その排ガス流処理システムの中
で、カップリングのためにそのガス流の源でそのような入口構造を吹いているプ
ロセスに接続可能である。上流にそのような入口構造の中で笛を吹いているプロ
セス・システムは、適当に、その配管の中で十分なエネルギーをそのガス流に加
えるために凝結するか、入口構造の中で高尚になるのをそのガス流の成分が妨げ
るために従来の方法の中のheat-tracedであるかもしれない。その配管か、導管
か、流れ通過か現在の発明の処理システムの中の流体の接触している構造の何で
も、そのような目的のために、たどられた熱であるかもしれないことは、認めら
れる‖そうでないもの‖プロセス・システムのパフォーマンスを改善する。 図13の中で示された入口構造1060は、入口フランジ1016を含む入口セクション
1007を含む。入口フランジは、その上の終わりでそのようなフランジの中で終わ
る上の環状のセクション1008のフランジ1018で、matablyに結合可能である。入
口セクションは、例えばツールを製作している半導体として設備1090を生成して
いる上流の微粒子の固体含有の流れに結びつけられるかもしれない。 環状のセクション1008は、ガス透過性の該当する気孔率の中で合っている内の
穴の多い壁1006及びその間で環状の内部のボリューム1020を定義している外の固
体の壁1009を含む。このように、内の穴の多い壁1006の内部の表面は、上の環状
のセクション1008の中で、流れ通過1066をはずませる。終わり壁1040及び1042に
よって環状の内部のボリュームを囲むためにその上の及び下部の終わりの外の固
体の壁1009は、内の壁1006に関して囲まれる。低い圧力ガスで、1022がある入口
ポートが低い圧力ガス・フィード第1024行をつないだならば、外の壁1009がある
。低い圧力ガス・フィード第1024行は、その外の終わりで低い圧力ガスの源1004
に接続している。環状の内部のボリューム1020に、低い圧力ガスの流れを適応さ
せるためにチェック弁1014は、低い圧力ガス・フィード・ライン1024の中で配置
される。また、フィード第1024行は、選択的に、そのシステムの操作の中でソー
ス1004から環状の内部のボリューム1020に、要求された量の中で及び要求された
流れ率で低い圧力ガスを供給するために他のフロー制御手段（示された）を備え
ているかもしれない。 上の環状のセクション1008も、1050が加わられた高圧ガス・フィード第1052行
である注入ポートがターンの中で高圧ガス供給1005につないだ高圧ガスを備えて
いる。そこにあらかじめ決められたシーケンスに従ってフロー制御弁1051を操作
するために流れコントローラー手段（示された）につながれるかもしれないフロ
ー制御弁1051で、ガス・フィード・ラインは、示される。 下部の環状のセクション1030のフランジ1028で、matablyに結合可能なフラン
ジ1026の中で、上の環状のセクション1008は、その下部の終わりで終わる。フラ
ンジ1026及び1028は、図13の中で示されたオーリング1010のような封じている手
段の準備によって封じられるかもしれない。 下部の環状のセクション1030は、その上の終わりでフランジ1028の中で終わっ
ている外の壁1012を含む。終わりが内の堰壁1011につながれるそのそれ以下での
外の壁は、終わり壁1044の中で、形式に外の壁1012及び内の堰壁1011の間で、環
状の内部のボリューム1032を意味する。消滅以外の間隔をあけられた関係の中の
上の環状のセクション1008の、そう形式に関する内の穴の多い壁1006のより低い
終わりの上の終わり1046で、その間で、下部の環状のセクション1030のために、
溢流堰を定義しているギャップ1036を見せられるように、内の堰壁1011は垂直に
上方へ広がる。 下部の環状のセクション1030の外の壁1012は、1048が下部の環状のセクション
1030に、液体の要求された流れ率を維持して、そこに有効に他のフロー制御手段
に結びつけられるかもしれない液体のフロー制御弁1081を持っている水供給1003
につながれた水フィード第1080行に加わられるかもしれない水入口ポートを備え
ている。 その下部の終わりで、下部の環状のセクション1030は、適当に水ガス洗浄装置
1013のハウジングにつながれるかもしれない。水ガス洗浄装置は、従来の方法で
微粒子の減少及びプロセス流れの可溶化できる成分を洗浄することを実施するた
めに造られるかもしれない。代わりに、入口構造1060は処理のために他のどの処
理設備にも結びつけられるかもしれない、あるいは、それについて、入口終わり
から排出終わりまでそのガス流の処理は入口構造を通り抜けた。 このように、流入液ガスがその方向で流れるかもしれないガス流れパス1066が
指示を出した入口構造1060によって、示された方向の排出終わりへの図13の中の
矢「1001」は、矢「1002」によって図13の中で提供される。 操作の中で、微粒子の固体含有のガスが、適当な接続している配管によってツ
ール（示された）を製作している半導体のような、上流のソースから導入される
こと、そしてそれは‖先に言及される、ガス流成分の有害な昇華か濃縮を入口構
造の中で抑制するheat-tracedにあるかもしれない。その流れは、矢「1001」に
よって示された流れ方向の入口構造1060を入れる及び入口セクション1007を通り
抜ける及び上の環状のセクション1008を入れる。窒素か他のガスのような、低い
圧力ガスは、ソース1004から港1022に接続していた低い圧力ガス・フィード第10
24行まで流される及び環状の内部のボリューム1020を入れる。環状の内部のボリ
ューム1020から、内部のガス流れ通過1066に導入された低い圧力ガスは、ガス透
過性の壁1006の中を流れる。このように、ガス・フィード第1024行からの低い圧
力ガスが環状の内部のボリューム1020に及びガス透過性の壁1006を通して流れる
ように、微粒子の含んでいるガスは、内部のガス流れ通過1066を通して及び水ガ
ス洗浄装置1013に流れる。 このように、環状の内部のボリューム1020は、低い圧力ガスでソース1004から
気圧調節をされる。そのような圧力は、穴の多い壁を通して内部のガス流れ通過
1066に、低い圧力ガスの低い、安定した流れを確実にする。ガス透過性の壁を通
してのガスのそのような低い流れ率及び安定した流れは、その微粒子を離れて入
口構造の内部の壁表面からの内部のガス流れ引用文1066の中を流れているガス流
の面で支える。さらに、内部の流れ通過1066の中のガス流れ流れで現在のどんな
ガスでも、同様に入口構造の内部の壁表面から遠ざけられる。 低い圧力ガス・フィード第1024行は、希望する場合たどられた熱でありえる。
入口構造の中を流れているガス流がそれが凝縮するかもしれないか、昇華させる
かもしれない種及び沈澱物を入口構造の壁の上で含むならば、そのような熱追跡
は望ましいかもしれない。 同時に、高圧ガス供給1005からの高圧ガスは、環状の内部のボリューム1020へ
の高圧ガス注入ポート1050を通しての定期的に流れられたすっかり高い圧力ガス
・フィード第1052行であるかもしれない。この目的のために、高圧ガスのパルス
された導入を適応させるためにその第1052行は、そこにフロー制御弁（示された
）を持つかもしれない。このように、ガス透過性の壁1006の内の表面で、どんな
粒子強化でも取り壊すために高圧ガスは、指定されたかあらかじめ決められた間
隔で環状の内部のボリュームに注射される。高圧ガスのパルスされた導入のその
持続及び時間シークエンシングが、その技術の技術の範囲内の過度の実験なしで
決定されるかもしれない、要求された壁を成し遂げるために容易に汚れが落ちて
いるかもしれない‖生じる、ガス透過性の壁表面で固形物蓄積を防ぐ。必要であ
るならば、入口構造がツールを製作している半導体にサービスしている水ガス洗
浄装置と関連して使用されるとき、そのような高圧注入はツール・バッチ・サイ
クルの間、制御手段の適当な統合による排出ポートが有効にツール制御システム
にリンクしたツールで、圧力変動を除去するために中断されるかもしれない。こ
の目的のために、ソレノイド弁のような制御弁は、適切にツール組立部品の制御
手段に結びつけられるかもしれない。 示された入口構造実施例の中で、フランジ1026及び1028はお互いに下部の環状
のセクション1030から、上の環状のセクション1008の速い切断を許すために締め
つけられるかもしれない。そのような目的のために、クイック分離クランプは、
使用されるかもしれない。フランジ1026及び1028の間の封じているガスケット10
10は、抵抗する腐食のような適当な材料の中で作り上げられるかもしれない、高
温エラストマー材料。この弾性的なガスケットは、上の環状のセクションから入
口構造（特にその発明の熱たどられた実施例の中で重要な特徴）の下部の環状の
セクションまで、熱移転を最小にするためにその上に熱バリアの機能を果たす。 例えば耐衝撃性のハステロイ276が鋼をかぶせるどんな適当な材料の中ででも
、入口構造の上の環状のセクションのガス透過性の壁1006は、作り上げられるか
もしれない。上の環状のセクションの外の壁1009は、薄い壁で囲われたステンレ
ス鋼パイプであるかもしれない。 入口構造の下部の環状のセクション1030は、プラスチックのポリビニルクロラ
イドのようなどんな適当な材料の中ででも作り上げられるかもしれない。水は、
外の壁1012及び内の堰壁1011の間で、水供給1003から第1050行まで環状の内部の
ボリューム1032に注射される。好んで、環状の内部のボリューム1032の中で、そ
の水の角の勢いがその水が堰壁1011の最高の終わり1046の上に及び堰壁の内部の
表面の下へ入口構造の内部の流れ通過1066の中で螺旋形になるようになるのを許
すためにその水は、わずかに触れる程度に注射される。堰壁1011の内部の表面の
下のそのような水流れは、流れ通過1066の下へ入口構造の下でどんな微粒子でも
水ガス洗浄装置1014に流すために使用される。 入口構造を通しての圧力低下は、上流のプロセス・ユニット及びその洗浄ユニ
ットから、下流に排出パイプを入口構造からせびっている圧力によって、容易に
決定されることができる。圧力低下はphotohelicなゲージでモニターされること
ができる及び、読んでいるそのような圧力低下は適当なモニタリング及び制御設
備に、ガス洗浄装置入口の中で詰まっているモニターに送られることができる。 入口構造の使用によって、現在の発明のシステムの中で、インタフェースは水
ガス洗浄装置及びツール排出流れの間で、繰り返して普通のプロセス操作の中で
詰まらない操作を製作している半導体から提供されるかもしれない。そのような
入口構造は、2つの補助のプロセス流れ、安定した低い流れ清め流れ及び高圧パ
ルス流れを、インタフェースに提供する。低い流れ浄化流れが不活発なガスのネ
ット流動をつくって例えば中心の流れ通過1066のセンター・ラインの方の上の環
状のセクションの内の表面を欠席した窒素。高圧ガス流れ流れは、詰まっている
固体に対して自己洗浄能力を提供する。高圧ガス流れは、中心の流れ通過1066の
入口構造上の環状のセクション内部の表面で、どんな粒子強化でも除去するため
に使用される。 それから、水ガス洗浄装置に下流に入口構造の中で下ってフラッシュされるた
めにガス、伴出された粒子及び以前に置かれた粒子はオーバフロー流れに入口構
造の下部の環状のセクションの中で、内の壁表面に向けられる。効果的に微粒子
の運転中の固体の強化を最小にする非常に効率的な入口形態を提供して、このよ
うに、上の環状のセクションのガスpermeableな壁の間の直接のインタフェース
及びその堰はその入口の下部の環状のセクションの中で、構造を壁で囲う。 そのような入口構造は、たくさんの利点を持つ。応用の中で半導体製造設備及
び水ガス洗浄装置処理システムにとって、廃物のガス廃水の処理のためにツール
から半導体プロセス施設では、半導体ツールからの排気ガスは、連続的にずっと
ツール排出ポートから水インタフェースまで水ガス洗浄装置入口構造の中で熱さ
れることができる。入口ラインの上の熱追跡が、対流によってエネルギーを流れ
るガス流へ移す配管に、エネルギーを実施することによってそのラインを熱する
ために使われることができる。プロセス・ガスは、ずっと入口構造の下部の環状
のセクションの溢流堰壁まで、上の環状のセクションに低い圧力ガスを流す低い
圧力ガス流れラインをたどっている熱によって熱されるかもしれない、熱によっ
て高圧ガス流れラインをたどっているのと、同じくらいよく、入口構造の上の環
状のセクションの内部の環状のボリュームに、パルスされた高圧ガスを供給して
いる。熱いガスのそのような流れは、それが一方凝縮するか、昇華させる上流の
プロセス・ユニットから、入口構造までたれているガス流の中で、ガスを作り上
げているどんな微粒子でもの蒸気圧力によって決定される温度及び沈澱物で、入
口構造の壁の上で、入口構造の中心の流れ通過の中を流れているプロセス・ガス
を維持する。 上記の確認された入口構造のもう一つの利点は、そのような構造が容易に分解
されるかもしれないということである。入口構造が運転中の障害物にするイベン
トでは、その構造は、単に入口構造のフランジにお互いを守らせているそのクラ
ンプか他の確保要素を除去すること、簡単に分解される。このように、上の環状
のセクションは、適所にいそれぞれのフランジを保持しているクランプを除去す
ることによって及び上の環状のセクションを供給するそれぞれのガス・フィード
・ラインの接続を断つことによって取り替えられるかもしれない。 そのような入口構造の静かな更なる利点は、それが合っている自己洗浄である
ということである。上流のプロセス・ユニットから入口構造までたれているガス
流の中で伴出された、あるいは、化学の反応によって入口構造の中で作り上げら
れた粒子は、入口構造のガス透過性の壁から、パルスされた高圧ガス注入によっ
て、内部の環状のボリュームに入口構造の上の環状のセクションの中で、容易に
きれいにされることができる。それからそれから、入口構造の上の環状のセクシ
ョンの内部の壁表面から除去される粒子は、そのような微粒子の固体が下流のガ
ス洗浄装置にフラッシュされる堰壁のオーバフロー部分に向けられる。その圧力
、持続及び高圧ガス圧力パルスの定期性は、簡単にそのような固体の一般に行わ
れているシステム微粒子の濃度条件及びキャラクタを適応させるようにされるこ
とができる。パルスされた高圧ガス注入の効果は、微粒子の固体のキャラクタに
依存する。したがって、そのような入口構造は、こする道具の使用か先行技術流
体の処理システムのいわゆる自己洗浄装置を代表する突入者装置なしで自然の中
の自己洗浄である。 入口構造の上の環状のセクションの穴の多い壁要素の材料仕様は、上流のプロ
セス・ユニットから入って来るプロセス・ガスに依存している。そのガス流が酸
性のガス成分を含むならば、そのようなガスは水ガス洗浄装置に吸収される及び
溢流堰壁に入口構造の下部の環状のセクションの中でrecirculatedされる水の中
である。溢流堰壁水のいくつかが入口構造の上の環状のセクションの穴の多い内
の壁の上で、上へはねることは、可能である。そのような例の中の穴の多い壁は
、望ましく構造の耐衝撃性の材料から選ばれる。そのような目的のための好まれ
た金属材料は、低温含水の酸性の条件で優秀な腐食抵抗を展覧するハステロイ27
6の鋼である。 上記の入口構造のもう一つの利点は、入口構造が上流に水ガス洗浄装置の中で
使用されるとき、ここで説明的に記述されるように、それが水ガス洗浄装置のト
ップから、水蒸気の逆流を最小にするということである。この利点の説明を経由
して、微粒子がいくらかの半導体ツールの排出流れの中で、プロセス・ツールか
らのどちらの伴出された微粒子としてでもまたは化学の反応の反応物としてその
ガス流の流れ道の中であるかもしれないことは、認められることになっている。 この微粒子の強化の理由は、その水蒸気が水ガス洗浄装置から下流に入口構造
から逆流しているということである。ガス流れの普通の方向に対してそのガス洗
浄装置から自由にされた水蒸気は、後ろにガス洗浄装置入口からプロセス・ツー
ルの方へ移る。 水蒸気のこの後ろの移動に関係していた1つのメカニズムは、ガス-ガス相互拡
散である。水蒸気後ろの移動のこの源を避ける実際的な方法だけは、拡散境界を
水ガス洗浄装置入口に加えることになっている。水蒸気のそのような後ろの拡散
のためのもう一つのメカニズムは、いわゆるリチャードソン・アニュラー効果で
ある。全ての乾いたポンプは、ガス流れ流れの中で圧力振動のある量をつくる。
これらの圧力振動は、普通のガス流れの方向に対して、ガスをポンプで揚げる向
流輸送メカニズムをつくる。この現象は、そのバウンダリ層アニュラー効果の結
果である。これが、生じることのため、逆流移動速さは小さい距離の中で離れて
壁表面から最も大きい。上記の入口構造は、リチャードソン・アニュラー効果を
最小にするか、除去する。低い圧力ガスの安定したアウトフローのために、入口
構造の上の環状のセクションの穴の多い壁の内の表面で、上の環状のセクション
の内の壁表面での静的な境界層条件は、発達することができない。それによって
リチャードソン・アニュラー効果を避けて、はずんでいる壁からプロセス・ガス
流れを「押しのける」ために入口構造の中心の流れ通過を行う及び静的な境界条
件の存在を避けるガス透過性の壁からの流れるガスのネット流動が、ある。それ
ゆえに、粒子が化学の反応の結果、流れ流れの中で作り上げられるならば、これ
くらい作り上げられた粒子はかたまりになる壁を見つけない。その粒子は、水ガ
ス洗浄装置にその代わりにそのガス流であふれる。同じものは、伴出された粒子
にあてはまる。その粒子がその入口のトップに着くならば、彼らが集まる壁を持
たないので、彼らはガス流れ流れの中で伴出される。 リチャードソン・アニュラー効果を引き起こす条件に反対することによって、
入口構造の上の環状のセクションの中の穴の多い壁は、プロセス・システムの排
出ラインに、水蒸気の後ろの移動に対する効果的な障害の役目を果たす。どんな
後ろの移動でも、非常にゆっくり前記の相互拡散メカニズムによる。ガス洗浄装
置エントリ及び排出ラインがたびたびその入口として現在の発明の構造を詰まら
なくしてから、この要因は、そのガス洗浄装置のために大いにその故障までの平
均時間を増やす。 金属材料から造られているようにその発明の入口構造の上の環状のセクション
の穴の多い壁メンバーがここで記述されたけれども、そのようなガス透過性の壁
が構造のどんな適当な材料の中ででも作り上げられるかもしれないことは認めら
れる。例えば、穴の多い壁は、腐食性の雰囲気に耐える能力を持っている穴の多
いセラミックの材料、温度極端及び現在の発明の入口構造の使用の中であるかも
しれないインプット圧力の中で作り上げられるかもしれない。 図14は、現在の発明の実行の中で利用されるかもしれないガス／液体インタフ
ェース構造の概要のクロス-部門の高さ見方である。 ガス／液体インタフェース構造1110は、円筒形の細長い壁1114によって定義さ
れた第一の垂直に広がっている入口流れ通過メンバー1112を含む。円筒形の壁11
14は、入口流れ通過メンバー1112の範囲内で、囲まれた流れ通過1118の回りに境
界線を引く。円筒形の壁1114の上の終わりで、radiallyな外見上広がっているフ
ランジ1116は、笛を吹いている連合したプロセス流れへのガス／液体インタフェ
ース構造、導管、計測、その他に加わることに対して用意されている。このよう
に、開いた入口及びコンセント終わりが内部のボリュームで流れ通過（第1160行
の中で図14の中で説明的に示されるように上流のプロセス・ユニット1158からの
ガスが流されるかもしれない）1118を含む流れパスを定義するために、第一の入
口流れ通過メンバー1112は、その上の終わり及び対応するコンセント1122で、そ
の下部の終わりで入口1120を持つ。 上流のプロセス・ユニット1158は、例えばツール及び連合した排ガス処理装置
を製作している半導体を含むかもしれない。そのような排水処理装置は、酸化成
分の酸化のためにその排ガスの中で順番に酸化剤を含むかもしれない。適当な酸
化剤が、広く型を変えることである及び触媒作用の酸化によってユニット、熱酸
化ユニット、電熱の酸化剤、その他と例えば指令されるかもしれない。 上流のプロセス・ユニット1158が手段及びガス処理手段を半導体製造工程のた
めに生成しているガスを含むとき、第一の入口流れ通過メンバー1112の入口1120
に導入されたガス流がミクロン以下のサイズ粒子の形で高い温度にあるかもしれ
ない及び例えば微粒子の固体の相当な濃度を含むかもしれない。 インタフェース構造1110は、さらに第一の流れ通過メンバー1112の回りに境界
線を引く及び、その間で環状のボリューム1130を定義するために示されるように
、それに間隔をあけられた関連にある二番目の流れ通過メンバー1124を含む。第
一の流れ通過メンバーの開いたコンセント1122が二番目の流れ通過メンバー1124
の開いた下部の終わり1168との垂直に間隔をあけられた関係にあるために、二番
目の流れ通過メンバー1124は、下方へ第一の流れ通過メンバー1112のより低い終
わりの下で、下部の終わり1168に及ぶ。 二番目の流れ通過メンバー1124は、elevationallyに第一の流れ通過メンバー
のコンセント1122を定義しているより低い終わりより上に、残っている液体不透
過性の部分（下方へ図示されるように液体透過性の部分1126から広がる）1128で
上の液体透過性の部分1126を含む。液体透過性の上の部分1126及び下部の液体不
透過性の部分1128は、どんな適当な方法ででも作り上げられるかもしれない‖真
鍮で造っている、ハンダ付けにしている、溶接している、機械のファスナー確保
によってまたは他のどの適当な方法でも該当する接続している手段及び方法で、
お互いにつながれていたそれぞれの部分で例えば上の穴の多い円筒形の区分1126
の中で、初めに別々の下部の固体の壁で囲われた円筒形の区分1128に接続するこ
とによって。代わりに、二番目の流れ通過メンバー1124が、上の部分を単位の円
筒形の管状のメンバーから作り上げられるかもしれない、水-ジェット機械加工
か、エッチングか、焼結か、ミクロのelectromachiningか気孔率か透過性特徴が
そのような管状のメンバーの上の部分に知らせられることができる他のどの適当
なテクニックのようなも処理によって、キャラクタの中で液体透過性になる。好
んで、二番目の流れ通過メンバーは、一緒に加わられる初めに別々の上の及び下
部の部分及び上の部分が穴の多い焼結された金属マトリックスか穴の多いセラミ
ックの材料によって構成されるその点での中で作り上げられる、その気孔率が十
分な次元のキャラクタの中で、より大きい詳細の中のその後記述された将来とし
てそれを通じて液体の浸透を許すことであるその点で。 ガス／液体インタフェース構造1110は、さらに包むように、二番目の流れ通過
メンバーの回りに境界線を引いている及びそれとともに囲まれた内部の環状のボ
リューム1170を定義している外の壁メンバー1134を含む。外の壁メンバー1134は
、円筒形の横の壁1136、最高の終わり壁1138及び法人として内部の環状のボリュ
ーム1170を囲む底終わり壁1140を含む。横の壁1136は、液体の導入ポート1142を
備えている。そのポートはどんな適当な方法ででも提供されるかもしれない、し
かし、示された実施例は管状の水平なポート拡張1144によって、中で構成される
。代わりに、そのポートは、単に開口部か横の壁か液体が内部の環状のボリュー
ム1170に、外部の液体の供給から導入されることができるそれによって他の液体
の入口構造にできた穴であるかもしれない。 図14の実施例の中で、液体の入口ポート1142は、そこにフロー制御弁1148を含
んでいる液体の導入第1146行に結びつけられる。液体の入口第1146行は、液体の
供給貯蔵1150に接続している。 貯蔵1150から第1146行まで液体の入口港1142に液体のあらかじめ決められたか
一方選ばれた流れを提供するために第1146行の中の液体のフロー制御弁1148は、
適当なコントローラー/中央処理装置（CPU）、マイクロプロセッサー、フロー制
御コンソールや補助のモニタリングを含むタイマー手段及び制御手段に結びつけ
られるかもしれない。これくらい導入された液体は内部の環状のボリューム1170
を満たす及び、そのような液体はどんな適当なプロセス条件ででも導入されるか
もしれない。 熱い微粒子の荷を積んだ排ガス流のようなガス流の処理のために、半導体製造
工程から、内部の環状のボリューム1170の中の液体は、水か他の水の媒体である
かもしれない。 二番目の流れ通過メンバー1124の上の液体のpermeableな部分1126の液体透過
性のキャラクタによって、内部の環状のボリューム1170からの液体は、二番目の
流れ通過メンバーの上の部分1126に広がる及び液体の小滴1154のような上の部分
の内の壁表面1132で表される。そのような出ている液体の小滴‖の結果‖重力の
生じる、落す及び液体不透過性のそれ以下の内の壁表面1172の下方へ流れる液体
のフィルム1156が分ける形式への他の液体の小滴及び集合で、その瞬間、合体す
る流れ通過メンバー。二番目の流れ通過メンバーの下部の開いた終わり1168から
射出している液体のフィルムの中の液体は適当なコレクションに向けられるかも
しれない及び、処理手段（示された）は例えばそれの共同処理のためにそのガス
流がある下流のプロセス・ユニット1164の中で、第1162行の中で二番目の流れ通
過メンバーのガス流れ通過1152から流れた。下流のプロセス・ユニット1164は、
水ガス洗浄装置か、反応部屋か装置か処理地帯（通過1152から第1162行の中で流
されたガス流が最終的な排ガスの排出で下流のプロセス・ユニットから第1166行
の中で更なるプロセス操作を受ける）を処理しているもう一方であるかもしれな
い。 このように、ガス／液体インタフェース構造1110が、及び下方へ二番目の流れ
通過メンバーの液体透過性の上の部分1126の下で広がっている第一の流れ通過メ
ンバー1112と、そう第一の及び二番目の流れ通過メンバーの間の内部の環状のそ
んなに液体のボリューム1130を提供するために造られる‖したたる、落ちている
液体のフィルム1156は、液体透過性の上の部分を通して合体することができる及
び発達する。この配置によって、流れ通過1118から流れ通過1152まで流されたガ
スは、保護する液体のフィルム1156でおおわれる二番目の流れ通過メンバーのよ
り低い部分の内部の壁表面1172に遭遇する。それゆえに、腐食及び二番目の流れ
通過メンバーのそのような内部の壁表面に対する反対の反応効果を最小にするた
めに第一の流れ通過メンバーの下部の開いた終わり1122から射出されたガスの中
のどんな腐食性の種でも、内の壁表面に関して「和らげられる」。 さらに、液体の導入によって二番目の流れ通過メンバー及び外の壁メンバー11
34の間の内部の環状のボリューム1170にとって、液体の貯蔵「ジャケット」構造
は、提供される。それによって、液体が二番目の流れ通過メンバーの穴の多い上
の部分に、浸透のためにそれを通じて及び下方へ提供される‖「したたる」形式
への液体の‖二番目の流れ通過メンバーの内部の壁表面で保護するフィルム。 二番目の流れ通過メンバーの内部の表面1172のそのような落ちているフィルム
も、二番目の流れ通過メンバーの表面を伴出する及びそのような液体のフィルム
がない場合、オンを置くかもしれないガス流及び集合から、その室内でどんな微
粒子でも運び去るために壁で囲うのに役立つ。 それゆえに、落ちている液体のフィルムは、二番目の流れ通過の内部の壁表面
に関して、保護する関数に微粒子の固体及び他のどのガス・フェーズ成分も運び
去るエントレインメント媒体と同じくらいよく蓄積の中で流れ通過メンバーの内
部の壁表面で、一方有害なメンバーを与える。 説明的に、図14の中で示されたこの構造の更なる利点として、液体のpermeabl
eな上の部分1126の使用は、液体の溢流堰（内部の環状のボリューム1170からの
液体が単に壁1126の上の終わりからあふれ出る及び、二番目の流れ通過メンバー
のいっぱいの内部の表面長さ以上下方へフィルムの中でその壁の上で流れる）の
ような構造の準備と関係がある液体の使用を最小にするのに役立つ。それによっ
て操作のために必要だった液体は、現在の発明のしたたる堰構造によって、非常
に低いレベルの面で扶養される。 説明的に、図14の中で示されたガス／液体インタフェース構造のインプリメン
テーションの実例となる例として、そのような構造は、半導体製造工程からのそ
う排ガスを処理している熱酸化剤ユニットのインタフェース構造1110を入れてい
る第1160行の中のガス流が高い温度にある使用されたダウンストリームであるか
もしれない及び微粒子、シリカのようなものを、微粒子の金属、などで、ミクロ
ン以下のサイズとして粒子か平らなより大きい固体に荷を積むかもしれない。そ
のような実施例の中で、二番目の流れ通過メンバーの上の部分1126は、1/16番目
のインチの順序の上で、平均で厚さをだいたい2ミクロンのサイズを読書で使い
すぎてもらっている焼結された金属壁によって構成されるかもしれない。2.5イ
ンチの順序の上の直径で第一の流れ通過メンバー1112の長さが、48インチの順序
の上にあるかもしれない。流れ通過メンバー1124が対応して長さを持つかもしれ
ない対応する瞬間、4.5インチの順序の上の直径で、13.5インチ及び外の壁の順
序の上で、6インチの順序の上の直径でメンバー1134が5.5インチの順序の上で垂
直な長さを持つかもしれないこと。 そのようなシステムの中で、内部の環状のボリューム1170にそのような液体の
漏出のために二番目の流れ通過メンバーの上の液体のpermeableな部分1126の内
部の表面1132の上へ導入される貯蔵1150から、水は液体の媒体として雇われるか
もしれない。そのようなシステムの中の水の使用が、分につき0.1-0.3ガロンの
操作の順序の上にあるかもしれない。 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排水処理システム1200
の概要の表現である。 システム1200は、プロセス設備1210から排ガス流を受け取る。その排ガス流は
、一つ以上の酸化可能なガス種を含むかもしれない酸化可能なガス成分を含む。
制限、水素化物（例えば、アルシン、フォスフィン、シラン、ゲルマン、その他
）、有機的な種（塩素化された種、フッ化された種、エタノール、その他）及び
非有機的な種（塩素化された種、NF3、NOx、CO、SOx、その他）なしで種が含む
かもしれないそのような酸化可能なガス。その発明は特にその処理に適応させら
れる及び、塩素化された種のような、ハロゲン化炭素種の排ガス流からの除去は
種、クロロフルオロカーボン及びパーフルオロカーボンのようなパーフルオロ化
合物をフッ化した。その排ガス流は、化学の蒸気堆積リアクターのようなユニッ
ト、フォトリソグラフィー・ユニット、イオン注入法ユニット、エッチング部屋
、化学の機械研摩部屋、プラズマ・ユニット（例えば、プラズマによって援助さ
れたプロセスか、プラズマ・エッチングか、きれいにしているプラズマかプラズ
マが生成されるか、利用される他のどのプロセス・ユニットのためにも）、その
他を含む、半導体ウェハース基板の処理のための半導体製造設備及び半導体装置
構造の製作のようなプロセス設備1210から、その上に射出されるかもしれない。 プロセス設備1210からの排ガス流は、第1212行の中で洗浄ユニット（その排ガ
ス流がその洗浄媒体で例えば接触される）1214までたれる、その洗浄媒体の適当
な源（示された）につながれた洗浄媒体フィード第1216行の中で導入された水の
ような水の洗浄媒体。その洗浄ユニットは、その発明のこの実施例の中の排ガス
処理システムのオプションの成分である及び、減少システムの中で実行された酸
化処理に先立ち酸性のガス及び微粒子の種をその排ガス流の中で減らすために有
効に使用されるかもしれない。その洗浄ユニットは、湿った洗浄ユニットか、乾
いた洗浄ユニット（その排ガス流は、どれの中でスカベンジャーか化学的吸収剤
材料で接触されるか）か熱洗浄ユニットであるかもしれない。 その排ガス流で接触した後の洗浄媒体は、洗浄ユニット1214から排出第1218行
の中で射出される。代わりにまたはその上に、一列に並んで1219として、リサイ
クルのために洗浄媒体フィード第1216行に、水の媒体は、還流させられるかもし
れない。 酸化成分の酸化を生じるために型を変えることで、熱酸化剤か、電熱の酸化剤
か、触媒作用の酸化剤か、フレームベースの酸化剤か、流動床熱酸化剤か、透明
酸化剤か他のプロセス・ユニットのような排ガス流構成の範囲内であるかもしれ
ない酸化剤ユニット1238に、その排ガス流は、第1236行の中で流される。例えば
、以前にここで発明（その熱交がその酸化成分の酸化のためにそこにその排ガス
流の加熱を変えるために一連の熱移転挿入物を備えているその点で）の他の実施
例と関連して記述されるように、酸化剤ユニットは造られるかもしれない及び熱
交で配置されるかもしれない。だいたい900(Cか偶数へのだいたい300(Cのそれ以
上、だいたい1200(Cまでの温度があるその点でが酸化可能な種の酸化性の減少の
ために、その排ガス流の中で使用したフレームベースの熱酸化剤ユニット（すな
わち、火傷-箱型ユニット）として、酸化剤ユニットは、代わりに造られるかも
しれない。 酸化剤ユニットの中の排ガス流の酸化成分の酸化は、第1240行からそのユニッ
トへのオキシダント媒体の導入によって、酸化させている雰囲気の中でand/or第
1208行によってその排ガス流に上流にその排ガス流の導入の中で酸化剤ユニット
1238に実行されるかもしれない。3-way弁1206のオキシダント媒体が流されるか
もしれない選択的な調整もによって、あるいは‖酸化剤ユニット1238へのライン
1240及び1208の両方。 例空気に関しては、酸素、酸素濃縮空気、原子の酸素、過酸化水素で漂白した
種、OHラジカル、その他でオキシダント媒体はどんな適当な型の中ででもあるか
もしれない、しかし、好んで、オキシダント媒体はオゾンを含む。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体を生成するために第1222行（同じものの
適当な源から、示されない）の中でオゾン・ジェネレーター1220に導入されて、
酸素か他の酸素含有ガスで、そのオキシダントとしてオゾンを中間に扱う目的で
、図15の中で説明的に示されるように、排ガス処理システムは配置されるかもし
れない。好んで、オゾン・ジェネレーター1220に第1222行の中で流されたオキシ
ダント中間のソース・ガスは酸素ガスである及び、オゾン・ジェネレーター1220
から第1240行の中で射出された結果として生ずるオキシダント媒体はオゾン及び
酸素ガスと混合である。ライン1240や第1208行の中のオキシダント媒体の流れは
、大量の流れコントローラー1242か他のフロー制御要素によって制御されるかも
しれない。 オキシダント媒体のその排ガス流への追加への酸化剤ユニット出来事の中の酸
化している動きは、高周波エネルギー（電気の排出、電子サイクロトロン共鳴（
ECR）、マイクロ波エネルギー、酸化剤ユニットの中で排ガス流酸化可能な種及
びオキシダント媒体のプラズマを生成するその他）の使用によって、例えば改良
されるかもしれない。代わりに、熱酸化剤は、燃焼酸化剤ユニット（水素か他の
燃料（メタン例えば）が燃焼反応のためにオキシダント媒体の面前で加えられる
）であるかもしれない。静かな更なる選択肢として、酸化剤ユニットは、造られ
る及びキャリーに外へ配置される電熱の酸化剤ユニットか他のどのユニットでも
あるかもしれないか、その排ガス流の中で酸化可能な種の酸化を改良するかもし
れない。 その排ガス流でその酸化剤の中でユニット1220と接触した後のオキシダント媒
体は酸化剤ユニットからライン1244の中で、回復か、処理か他の配置のために射
出される、あるいは、それは再利用のために、必需品として還流させられるかも
しれないか、特定の使用応用の中で要求されるかもしれない。減じられた酸化成
分含有量の、排ガス流はライン1246の中の酸化剤ユニットから射出される及びど
んな適当な型の中ででも排ガス流好んで湿った洗浄ユニットを含まないの処理の
ためにあるかもしれないポスト-処理ユニット1248までたれた。 湿ってスクラブすることによって扱われるとき、例えば、ユニット1248が媒体
を洗浄して接触されるポスト-処理の中で、その排ガスが水（ポスト-処理ユニッ
ト1248に、第1262行の中で洗浄媒体（示された）の適当な源から導入される）の
ような水の洗浄媒体を流れ出させて。ユニット1248がその排ガス流から生成され
たそれらを含むどんな洗浄可能な成分でも除去するのに役立つポスト-処理の中
で、プレ酸化剤洗浄ユニット1214の中で除去されなかった残された洗浄可能な成
分とともに酸化剤ユニット1238を洗浄することを濡らす。使用の後の洗浄媒体は
ポスト-処理ユニットから、ライン1264の中で射出されるかもしれないand/or、
ポスト-処理ユニット1248の中のリサイクル及び再利用のために示されるように
、その洗浄媒体は第1261行の中でrecirculatedされるかもしれない。 受け取る環境か他の最終的な配置にポスト-扱われた排ガス流は、第1270行の
中でポスト-処理ユニット1248から、最後に射出される。 その発明の1つの好まれた実施例に従って、オゾン・ジェネレーター1220が1ま
で選択的に流されるオゾン-含んでいるオキシダント媒体を生産すること、ある
いは‖洗浄ユニット1214及び1248の両方。例えば、ユニット1214及び1248の中で
習慣的に行われることを湿って洗浄することの場合、大量の流れコントローラー
1226でそこに決定された率で、オゾン-含んでいるオキシダント媒体は、ライン1
228の中で流されるかもしれない直接ライン1234の。の中の洗浄ユニット1214に
枝ライン1202による第1212行の中の排ガス流に、と／またはそのような洗浄ユニ
ットにライン1232の中で流された洗浄媒体に、と／または枝ライン1221の。によ
る洗浄媒体再循環第1219行に多くの位置弁1230の位置どりに従い。同時に、ozon
e-containingしているオキシダント媒体は、第1250行の中で大量の流れコントロ
ーラー1252でそこに決定された流れ率で流されるかもしれない、直接ライン1256
の。の中の洗浄ユニット1248に枝ライン1203の。による第1246行の中の排ガス流
にそのような洗浄ユニットにライン1262の中で流された洗浄媒体に、と／または
マルチポジション弁1254の位置どりに従い枝ライン1263による洗浄媒体再循環第
1261行に。後段酸化洗浄ユニットへの酸素含有ガスの流れは、処理システムから
その放流水のキャラクタを改良するために追加の水溶相酸化反応を成し遂げるこ
とに役立つかもしれない。 いろいろなプロセス・ラインが図15の中でおおまかに示されることは、認めら
れる及び写しをとられる、そのようなラインが、適当に弁で調節されるかもしれ
ない、つながれる‖その他、該当する弁（弁作動装置/コントローラー、大量の
流れコントローラーや他の流体のフロー制御（配管、ポンプ、ブロワー、計測、
その技術の技術の範囲内の及び過度の実験のないその他））によって。そのよう
な尊敬の中で、図15の中で示されたシステムがプロセス・モニター、センサ、検
出器、道具、マイクロプロセッサーや他の自動処理成分を含む自動制御システム
で展開されるかもしれないことはその上に認められる、そのシステムが遠くまた
は自動的に働かれるために、あっている排ガス流が減少がそのシステムの中で処
理した要求された廃水を運び出す。 示されたそれと異なって、配置の中で、したがって、また、図15の中で示され
た型の排水処理システムがいろいろに構成されるかもしれないことは、認められ
る。例えばものまたは、説明的に、記述された洗浄ユニット1218及び1248の両方
とも、特別な処理システムの中で省略されるかもしれないか、他の処理ユニット
と取り替えられるかもしれない、酸化剤ユニット1238だけがオゾン-含んでいる
オキシダント媒体を受けるその点で。同様に、そのシステムは、手段からのオゾ
ン・ガスの供給か説明的に、示されたオゾン・ジェネレーター以外のソースのた
めに配置されるかもしれない。 したがって、図15の中で示された型のガス流処理システムの1つの配置は、そ
のガス流を受ける及び酸化条件をそのガス流の上でそれについてその酸化成分を
減らすために強制印加するために配置された酸化ユニットを含むガス流処理シス
テムを取り囲む、酸化ユニットに結びつけられたオゾン源で、及びそのガス流及
びそのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソースを含む酸化ユ
ニットで。エネルギー・ソースは、点火装置のような、燃焼-始めている成分、
燃焼室、バーナー、電気の排出装置、火花ジェネレーター、プラズマ・ジェネレ
ーター、イオン化装置、その他を例えば含むかもしれない。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体のその発明に従うガス洗浄装置への追加
は、その排ガス流の中でそのガス洗浄装置の中で酸化可能な種の減少を改良する
。さらに、オゾン-含んでいるガスがそのガス洗浄装置に上流に酸化剤ユニット1
238の中で導入されるとき、その排ガス流の酸化成分を除去する際の酸化剤ユニ
ットのパフォーマンスは実質的に増やされるかもしれない。 オゾンの特定の参照でオキシダント媒体の成分として、上で記述されるけれど
も、また、他の酸素-含んでいる種は使用されるかもしれない、しかし、オゾン
は、その反応性のためにそのような目的のための好まれた種である。酸素がより
反動的でない及びその排ガス流の酸化成分を減らすために効果的でない所で、オ
ゾンは強力な酸化しているエージェントである及び条件でその排ガス流の多くの
酸化可能な種とともに化学反応する。汚染されたガス流からある種を除去するた
めに加水解離及び熱方法の無能に対比して、現在の発明は、比較的安定した種の
減少を可能にすることによってその技術の相当な改良を成し遂げる。 広く型を変えるオゾン・ジェネレーターは、市販に及び有効に容易にその発明
の実行に従事する。 図15の中で示されるように、オゾン-含んでいるオキシダント媒体は直接その
ガス洗浄装置にまたはその洗浄媒体に上流にその洗浄媒体の導入の中でそのガス
洗浄装置に導入されるかもしれない；代わりに、オゾン-含んでいるオキシダン
ト媒体は、その排ガス流に直ちに上流にその排ガス流の導入の中でその洗浄ユニ
ットに導入されるかもしれない。上流にその洗浄ユニットの中でオキシダント媒
体をその排ガス流に加える利点は、その排ガス流の酸化成分でオゾン（または他
の酸化している種）の直接の反応を含んでいる気相反応の助成である。対応して
、オゾン-含んでいるオキシダント媒体を水の洗浄している液体に加える利点は
、水に関連したラジカル及び中間の種（例えば、OH、HO2、その他）の湿った洗
浄しているメカニズムの破壊効率を改良する促進である。 その発明のもう一つの実施例の中で、図15の中で示された型のシステムが、オ
ゾンか他の酸素含有ガスが扱われていたガス流の中ですでにある上流のソースか
ら、ガス流を扱うために使われるかもしれない。上流のプロセス設備がプラズマ
・プロセス・ユニット（例えば、プラズマによって援助されたCVDユニット、そ
こに沈澱物のプロセス部屋をきれいにするためのプラズマきれいなユニット、ユ
ニットをエッチングで描いているプラズマ、その他）を使っている半導体製造設
備であるとき、これは例えば起こるかもしれない及び、オゾン及び他の酸素に基
づく種（一重項酸素、その他）は生成される及び最終的にそのプロセスの排ガス
に移る。 そのような例の中でオゾンか他の酸素含有ガス種が処理のために下流の排ガス
処理システムに送られた排ガス流の中であるとき、排水処理システムの酸化剤ユ
ニットに導入される及びその排ガス流の、CO及び有機的な種のような酸化成分の
酸化に有利な酸化条件（適当な温度、圧力、流れ率及び構成の条件）にさらされ
るとき、そのようなオゾンか他の酸素含有ガス種はその排ガス流の酸化成分の破
壊を援助するのに役立つ。 その上に。上流のプロセス設備がプラズマ・ユニットを含む前述の状況及びど
の点でパーフルオロカーボンを例えばの中でC2F6及び、CF4はその排ガス流の中
である、その排ガス流は、上流のプロセス・プラズマ部屋から、弗素を含むかも
しれない。そのような排ガス流が酸化条件を受けるとき、その排ガス流の中のパ
ーフルオロカーボン種の不意に高い破壊レベルが成し遂げられることは見つけら
れた。我々が少しの理論もも仮定されたメカニズムによって観察されたパーフル
オロカーボンのこの予想外の減少のために縛られていたくない間、その弗素がパ
ーフルオロカーボン混合物を引き離すために作動することはあるかもしれない、
そのパーフルオロカーボンから生じることは混ぜ合わせる炭素質の部分がそうす
ることができるために、酸化している環境の中で酸素贈り物と化合する。 それゆえに、その発明の1つの面は、酸化条件で、オゾン（オゾンか他の酸素
含有ガスと協力した弗素、そのガス流の酸化成分の酸化のためのその他）のよう
な超強力酸化剤のガス流への追加で、実行された排ガス処理に関連がある。酸化
している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って、そのような方法論は、例
えばクロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処理に役立つかもしれない。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体が説明的に使われ上で記述されるだけ間
、その発明のプロセスが他の方法と協力した使用及び、例えばその排ガス流の紫
外線の放射露出の並列であるか連続した使用、その排ガス流の中で酸化可能な種
の酸化を改良する酸化触媒のさらに使用及び他の化学の種のその排ガス流、その
洗浄媒体やオキシダント媒体（水素過酸化物、塩素、フェントン試薬、その他の
ようなものを）への追加のような処理のテクニックに適用できることは認められ
る。さらに、ヨーロッパ特許出願no. 0861683の中でより充分に記述されるよう
に、上流のプロセスの中で例えば半導体製造設備の中でその発表を使われたオゾ
ンのここでリファレンスによって完全にこれによって取り入れられる源から、排
ガス流処理の中で使われたオゾンが供給されるかもしれないことは、認められる
ことになっている。 そのような排水処理システムはその排ガス流の中で基礎的なだけでなく酸性の
及び中立条件で、酸化可能な種の減少に効果的である、しかし、オゾンが優れた
酸化している種としてオキシダント媒体の中で使われるとき、そのオゾンの活発
な生命は酸性の条件でアルカリ性の条件で長い。 一般に水素化物及びハロゲン化物と同じくらいよく、その発明の排水処理シス
テムは、例えばCF4、C2F6、HF、NF3、CCl4及びNOxを含むクロロフルオロカーボ
ン及びパーフルオロ化合物を含むガス流、SOx、その他の中で、多種多様な成分
種を減らすことに効果的である。種がその排気ガスの中で一般に見つけられるそ
のような廃水は、化学の蒸気のようなユニット操作の結果として、プラントを製
作している半導体によって、堆積、イオン注入法、反動的なイオン・エッチング
、フォトリソグラフィー、化学の機械研摩、拡散／ミグレーション／ドーピング
・プロセス、その他を生産した。全プロセス設備かそのシステムからのまとめら
れた廃水の処理のための大規模なプロセス・システムが構成されるかもしれない
ように、コンパクト（使用処理ユニットの点）が設備のインストールのローカル
なインストールか群と、全面施設で提携したように、その発明の排水処理システ
ムはそのような目的のために構成されるかもしれない。 その発明がガス流に関して上で記述されたけれども、途切れ途切れに、扱われ
ていたガスが間欠的に流されるかもしれないことは認められることになっている
、あるいは、一方バッチか、半バッチか変化する率の中で、あっている全てのそ
のような変異株がその発明の範囲の範囲内で熟考した。 その発明が実例となる実施例に関して記述される間、その発明及びしたがって
、発明のその精神及び範囲の範囲内であることはそのようなバリエーション、修
正及び他の実施例に関して、対応して広く解剖されることになっているように、
その発明のその精神及び範囲の範囲内であっているように、要求されるように、
他のバリエーション、修正及び他の実施例が熟考されることは認められる。
投げつけられたライン表現の中で図3の中でガス排水処理のためにその発明の
もう一つの実施例に記載のその流れ図のバリエーションにシステムを見せて、図
1-3はその発明の1つの実施例に記載のガス排水処理システムのための概要の流れ
図の連続的なセクションである。 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の
流れ図である。 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要の流れ図である。 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つの流れ図の中
で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要の流れ図である。 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要の流れ図である
。 入口構造が前段洗浄塔と提携したことをガス／液体インタフェースに明らかに
して、図10はその発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要
の流れシートである。 キャビネット囲いに含まれているように、示されて、おおまかに、図11はその
発明に記載のもう一つのガス排水処理システムの概要の表現である。 それについていろいろなオプションの補助の特徴を示して、
もう一つの実施例に記載のその流れ図のバリエーションにシステムを見せて、図
1-3はその発明の1つの実施例に記載のガス排水処理システムのための概要の流れ
図の連続的なセクションである。 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の
流れ図である。 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要の流れ図である。 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つの流れ図の中
で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要の流れ図である。 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要の流れ図である
。 入口構造が前段洗浄塔と提携したことをガス／液体インタフェースに明らかに
して、図10はその発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要
の流れシートである。 キャビネット囲いに含まれているように、示されて、おおまかに、図11はその
発明に記載のもう一つのガス排水処理システムの概要の表現である。 それについていろいろなオプションの補助の特徴を示して、
【図１２】はその
発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の表現である。 図13は、現在の発明の実例となる実施例に記載の詰まりにくい入口構造の概要
の表現である。 図14は、その発明のもう一つの実例となる実施例に従うガス／液体インタフェ
ース構造の概要のクロス-部門の高さ見方である。 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排水処理システムの概
要の表現である。
発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の表現である。 図13は、現在の発明の実例となる実施例に記載の詰まりにくい入口構造の概要
の表現である。 図14は、その発明のもう一つの実例となる実施例に従うガス／液体インタフェ
ース構造の概要のクロス-部門の高さ見方である。 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排水処理システムの概
要の表現である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１３年５月４日（２００１．５．４）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】 半導体製造排ガスの酸化処理のために実用性を持っている排ガス流処理システム
【請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】 発明の属する技術分野 現在の発明は、半導体製造工程（光電池の処理、その他）の中で生産された排
ガスのような工場廃水流体の処理のために、システムに関連がある。そのような
システムは、酸化、ガス洗浄、微粒子の固体除去及び他のユニット操作を排ガス
処理のためにいろいろに含むかもしれない。その発明の改良に従って、オゾンか
他の酸素含有試薬は、ハロゲン化物、ハロゲン化炭素、NOx、水素化物、SOx、NF
3及び他の有機的な及び非有機的な混合物のような酸化可能な種の除去のために
、排水処理プロセスの効率を改良するために使用される。
ガスのような工場廃水流体の処理のために、システムに関連がある。そのような
システムは、酸化、ガス洗浄、微粒子の固体除去及び他のユニット操作を排ガス
処理のためにいろいろに含むかもしれない。その発明の改良に従って、オゾンか
他の酸素含有試薬は、ハロゲン化物、ハロゲン化炭素、NOx、水素化物、SOx、NF
3及び他の有機的な及び非有機的な混合物のような酸化可能な種の除去のために
、排水処理プロセスの効率を改良するために使用される。
【０００２】 背景技術 産業の流体のゴミの流れの処理の中で、多種多様なユニット操作及び対応する
離散的な処理装置は、その廃水の処理のために上流のプロセス設備から統合され
た。
離散的な処理装置は、その廃水の処理のために上流のプロセス設備から統合され
た。
【０００３】 例えば、いろいろな統合化された熱システムは、廃水及び光電池の処理オフガ
スを製作している半導体の処理のために市販である。これらの統合化されたシス
テムは、使用のためにCVD、金属エッチング、エッチング及びイオン注入ツール
で、典型的に目標とされる。商用の統合化されたシステムは、Delatech Control
led Decomposition Oxidizer（CDO）、Dunnschicht Anlagen Systeme（DAS）Esc
apeシステム及びエドワーズThermal Processing Unit（TPU）を含む。これらの
市販のシステムの各々は、排ガス（そのオフガスの温度調節のために熱い酸化セ
クションから湿った急冷と組み合わせられる）の酸化性の分解及び酸性のガスの
除去及び酸化プロセスの中で作り上げられた微粒子のために、システムを洗浄し
ている湿気のために、熱処理ユニットの統合から成る。
スを製作している半導体の処理のために市販である。これらの統合化されたシス
テムは、使用のためにCVD、金属エッチング、エッチング及びイオン注入ツール
で、典型的に目標とされる。商用の統合化されたシステムは、Delatech Control
led Decomposition Oxidizer（CDO）、Dunnschicht Anlagen Systeme（DAS）Esc
apeシステム及びエドワーズThermal Processing Unit（TPU）を含む。これらの
市販のシステムの各々は、排ガス（そのオフガスの温度調節のために熱い酸化セ
クションから湿った急冷と組み合わせられる）の酸化性の分解及び酸性のガスの
除去及び酸化プロセスの中で作り上げられた微粒子のために、システムを洗浄し
ている湿気のために、熱処理ユニットの統合から成る。
【０００４】 Delatech CDOの中で、熱システムは、特に除去困難な化合物の破壊のためにそ
の排ガス流から選択的にフレームベースの導入可能なHydrogen Injection Syste
m（HIS）と組み合わせられるかもしれない電気的に熱いチューブを含む。その酸
化剤及びメタンとしてのO2か水素をその燃料として使って、前記のDAS Escapeシ
ステムの中で、熱酸化剤は、フレームベースである。TPUの中で、熱酸化剤は、
空気かO2を酸化剤及びメタンとして燃料として使うフレームベースの表面燃焼ユ
ニットを含む。
の排ガス流から選択的にフレームベースの導入可能なHydrogen Injection Syste
m（HIS）と組み合わせられるかもしれない電気的に熱いチューブを含む。その酸
化剤及びメタンとしてのO2か水素をその燃料として使って、前記のDAS Escapeシ
ステムの中で、熱酸化剤は、フレームベースである。TPUの中で、熱酸化剤は、
空気かO2を酸化剤及びメタンとして燃料として使うフレームベースの表面燃焼ユ
ニットを含む。
【０００５】 これらの統合化された商用のシステムに加えて、また、いろいろな市販の独立
型一つのユニット使用できるシステムが、排ガス流（含むこと）の処理のために
ある：a)熱がないphysisorptiveは、ベッド乾いたガス洗浄装置、b)熱がないche
misorptiveな包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、c)熱い化学的に反応している
包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、d)熱いcatalyticallyな反応している包ま
れたベッド乾いたガス洗浄装置、e)湿式洗浄器及びf)フレームベースの熱処理ユ
ニットを包んだ。処理を経ているガス流の性質に依存して、これらのユニット操
作技術の各々は、ある応用にふさわしい。
型一つのユニット使用できるシステムが、排ガス流（含むこと）の処理のために
ある：a)熱がないphysisorptiveは、ベッド乾いたガス洗浄装置、b)熱がないche
misorptiveな包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、c)熱い化学的に反応している
包まれたベッド乾いたガス洗浄装置、d)熱いcatalyticallyな反応している包ま
れたベッド乾いたガス洗浄装置、e)湿式洗浄器及びf)フレームベースの熱処理ユ
ニットを包んだ。処理を経ているガス流の性質に依存して、これらのユニット操
作技術の各々は、ある応用にふさわしい。
【０００６】 一般に、これらのそれぞれの技術の各々は、特定の排出流構成要素のために除
去メカニズムのはっきりしたセットに基づく。これらの技術が、優秀な減少を提
供することができる‖どちらでも：一つの除去技術がそのガスを除去することが
できる除去メカニズム歩道で、除去が十分に類似しているのを必要としている排
出流構成要素がかかわるa)かその特別な除去メカニズムに反応しないガス流組成
の種の特別なサブセットがガス流組成の種があることがありえるようなキャラク
タの中であるb)は、減少なしで漏れ出た。
去メカニズムのはっきりしたセットに基づく。これらの技術が、優秀な減少を提
供することができる‖どちらでも：一つの除去技術がそのガスを除去することが
できる除去メカニズム歩道で、除去が十分に類似しているのを必要としている排
出流構成要素がかかわるa)かその特別な除去メカニズムに反応しないガス流組成
の種の特別なサブセットがガス流組成の種があることがありえるようなキャラク
タの中であるb)は、減少なしで漏れ出た。
【０００７】 機会の上で、前記の独立型一つのユニット操作上ベースのシステムのエンド・
ユーザは、そのシステムに通されていたいろいろなガスのカテゴリーの各々のた
めに、処理シーケンスを提供するためにこれらのいろいろな処理ユニットのうち
の少なくとも2つを結合するほうを選ぶかもしれない。それでもなお、そのよう
なまとめられた設備アプローチの実行は、明らかに、そのOEMが一つの小さいあ
る大きさに作られた処理システムの中で、その一審の中でいろいろな使用できる
処理ユニットの統合を提供することができてからそのOEMのためにそのエンド・
ユーザにより便利でない。対照によって、エンド・ユーザはまとめられた組立部
品及び操作のために実質的に成分独立型ユニットを修正しなければならない。
ユーザは、そのシステムに通されていたいろいろなガスのカテゴリーの各々のた
めに、処理シーケンスを提供するためにこれらのいろいろな処理ユニットのうち
の少なくとも2つを結合するほうを選ぶかもしれない。それでもなお、そのよう
なまとめられた設備アプローチの実行は、明らかに、そのOEMが一つの小さいあ
る大きさに作られた処理システムの中で、その一審の中でいろいろな使用できる
処理ユニットの統合を提供することができてからそのOEMのためにそのエンド・
ユーザにより便利でない。対照によって、エンド・ユーザはまとめられた組立部
品及び操作のために実質的に成分独立型ユニットを修正しなければならない。
【０００８】 その上に、これらのOEM-統合化された排ガス流処理システムが明らかに、ある
応用の中で、一つのユニット使用できるシステムに対する優位を持つことができ
る間、例えば酸化静まる及びスクラブすることの操作がいろいろな不足で苦しむ
ユニットを実行するかもしれないシステムを典型的に、これらは統合した：酸化
剤セクションの入口地域だけでなく、酸化セクションの中の微粒子の生成だけで
なく、ガス洗浄装置セクションの中の酸性のガス、酸性のガスのための水の高い
消費及び微粒子の中で、スクラブすることを洗浄している貧しい者だけでなく及
びそのガス洗浄装置からの飽和したオフガスの濃縮だけでなくそれぞれのセクシ
ョンの中で詰まっている微粒子は、酸との水の混合のコレクション及び濃度にな
ることを区分する。
応用の中で、一つのユニット使用できるシステムに対する優位を持つことができ
る間、例えば酸化静まる及びスクラブすることの操作がいろいろな不足で苦しむ
ユニットを実行するかもしれないシステムを典型的に、これらは統合した：酸化
剤セクションの入口地域だけでなく、酸化セクションの中の微粒子の生成だけで
なく、ガス洗浄装置セクションの中の酸性のガス、酸性のガスのための水の高い
消費及び微粒子の中で、スクラブすることを洗浄している貧しい者だけでなく及
びそのガス洗浄装置からの飽和したオフガスの濃縮だけでなくそれぞれのセクシ
ョンの中で詰まっている微粒子は、酸との水の混合のコレクション及び濃度にな
ることを区分する。
【０００９】 詰まっている入口は、いくつかのソース含むこと起こることができる：酸化剤
セクション（BCl3のような入って来る水に敏感なガスをもつ異質であるか均一な
流行かWF6の中で、加水解離反応を引き起こす）の燃焼製品としての水蒸気の(a)
後ろの移動；入って来る熱的に敏感なガスの（b）熱低下；及びそのシステムの
中の転移温度のための入って来るガスの（c）濃縮。問題をじゃましているこれ
らの入口は、突入者メカニズムか他の固形物除去手段の編入にそのシステムにそ
の入口を固形物蓄積、しかしこれらの機械のフィックス追加かなりの費用及び労
働から自由にしておくことを要求するかもしれない。他の例の中で、問題をじゃ
ましている入口は、体系的かもしれない及び周期的な予防的なメンテナンスにそ
の入口を固体蓄積から自由にしておくことを要求するかもしれない。しかし、そ
のようなメンテナンスは、そのシステムの操業停止及び生産性を失うことを製作
している施設で必要とする。
セクション（BCl3のような入って来る水に敏感なガスをもつ異質であるか均一な
流行かWF6の中で、加水解離反応を引き起こす）の燃焼製品としての水蒸気の(a)
後ろの移動；入って来る熱的に敏感なガスの（b）熱低下；及びそのシステムの
中の転移温度のための入って来るガスの（c）濃縮。問題をじゃましているこれ
らの入口は、突入者メカニズムか他の固形物除去手段の編入にそのシステムにそ
の入口を固形物蓄積、しかしこれらの機械のフィックス追加かなりの費用及び労
働から自由にしておくことを要求するかもしれない。他の例の中で、問題をじゃ
ましている入口は、体系的かもしれない及び周期的な予防的なメンテナンスにそ
の入口を固体蓄積から自由にしておくことを要求するかもしれない。しかし、そ
のようなメンテナンスは、そのシステムの操業停止及び生産性を失うことを製作
している施設で必要とする。
【００１０】 また、彼らの湿った洗浄しているプロセスからその廃水を扱うことが困難なプ
ラント施設で、使用ガス排水処理システムの既存の統合化された点は、問題を経
験するかもしれない。たくさんのプラントは、その廃水の中の種が使用システム
のこれらの点からまたはより一般に処理廃水の中で生成した弗素（F-）を処理し
ている困難を本質的にガス排水処理システムから生じるようにするかもしれない
。
ラント施設で、使用ガス排水処理システムの既存の統合化された点は、問題を経
験するかもしれない。たくさんのプラントは、その廃水の中の種が使用システム
のこれらの点からまたはより一般に処理廃水の中で生成した弗素（F-）を処理し
ている困難を本質的にガス排水処理システムから生じるようにするかもしれない
。
【００１１】 プロセス施設に利用できるフィード水の品質が貧しいとき、また、統合化され
たシステムの水ガス洗浄装置及び急冷部分は詰まることにまつわる問題を持つこ
とができる、西南アメリカ合衆国の典型的な条件。また、容易に利用できる水の
不足、高い水コスト及び射出された廃水のための高い配置コストは多くの地方性
の中の重要な問題である。いくらかのケースの中で、これらの要因は、プロセス
施設で問題をじゃまするのを妨げるために高品質脱イオン水の使用を必要とする
。そのガス洗浄装置を及び急冷宣伝することを防ぐことに効果的な間、そのよう
な溶液は高品質脱イオン水の相当なコストと関連した所有権の非常に高いコスト
を含む。
たシステムの水ガス洗浄装置及び急冷部分は詰まることにまつわる問題を持つこ
とができる、西南アメリカ合衆国の典型的な条件。また、容易に利用できる水の
不足、高い水コスト及び射出された廃水のための高い配置コストは多くの地方性
の中の重要な問題である。いくらかのケースの中で、これらの要因は、プロセス
施設で問題をじゃまするのを妨げるために高品質脱イオン水の使用を必要とする
。そのガス洗浄装置を及び急冷宣伝することを防ぐことに効果的な間、そのよう
な溶液は高品質脱イオン水の相当なコストと関連した所有権の非常に高いコスト
を含む。
【００１２】 洗浄している操作の中で、貧しい酸性のガスの中でガス洗浄装置塔で洗浄する
ことは、これらのシステムを通して処理される小さい流率によることがありえる
。そのような小さい流率を処理しているガス洗浄装置塔の直径は対応して小さい
、そしてそれは、化合されるとき、パックしている従来の大きい直径の使用は過
度に高いコラム直径及び結果に、大きい壁効果の中でガス洗浄装置塔で包んでい
る要素直径になることができる。そのようなガス洗浄装置塔は、この結果順番に
チャネリング殺到する及び処理されていないプロセス・ガス通過のポケットで、
ガス洗浄装置システムを通して強打するを引き起こすことができる大きい水流れ
を必要とする。貧しい者のためにこれらのシステムの中でこれらのシステムのダ
クトで送っているダウンストリームの中で腐食を洗浄することは一般に観察され
ること、そしてそれは‖そのガス洗浄装置からの非処理のオフガスの濃縮により
ある。ハロゲン化物ガスがその排出流の中で扱われているとき、ガス洗浄装置塔
からのオフガスはそのガス洗浄装置のパフォーマンスを洗浄している貧しい者の
結果、アンスクラブされたハロゲン含有量を含む。アンスクラブされたハロゲン
含有量が、Vapor/Liquid Equilibria（VLE）dewpointな条件で凝縮された非常に
集中された酸のプールの形成になるかもしれない‖及び‖予想された酸/水混合
より実質的に高く。
ことは、これらのシステムを通して処理される小さい流率によることがありえる
。そのような小さい流率を処理しているガス洗浄装置塔の直径は対応して小さい
、そしてそれは、化合されるとき、パックしている従来の大きい直径の使用は過
度に高いコラム直径及び結果に、大きい壁効果の中でガス洗浄装置塔で包んでい
る要素直径になることができる。そのようなガス洗浄装置塔は、この結果順番に
チャネリング殺到する及び処理されていないプロセス・ガス通過のポケットで、
ガス洗浄装置システムを通して強打するを引き起こすことができる大きい水流れ
を必要とする。貧しい者のためにこれらのシステムの中でこれらのシステムのダ
クトで送っているダウンストリームの中で腐食を洗浄することは一般に観察され
ること、そしてそれは‖そのガス洗浄装置からの非処理のオフガスの濃縮により
ある。ハロゲン化物ガスがその排出流の中で扱われているとき、ガス洗浄装置塔
からのオフガスはそのガス洗浄装置のパフォーマンスを洗浄している貧しい者の
結果、アンスクラブされたハロゲン含有量を含む。アンスクラブされたハロゲン
含有量が、Vapor/Liquid Equilibria（VLE）dewpointな条件で凝縮された非常に
集中された酸のプールの形成になるかもしれない‖及び‖予想された酸/水混合
より実質的に高く。
【００１３】 産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明
の目的である。
の目的である。
【００１４】 その排ガス流の水洗浄すること及び酸化処理を利用して、システムを処理して
いる改善された統合化された廃水を提供することは、現在の発明の目的である。
いる改善された統合化された廃水を提供することは、現在の発明の目的である。
【００１５】 詰まることへのかかりやすいこと及び固形物蓄積をそのシステムの中で減らす
産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明の
更なる目的である。
産業の排ガスの処理のために改善されたシステムを提供することは、その発明の
更なる目的である。
【００１６】 スクラブすることは、水を利用している排ガス処理システムを提供する発明の
静かな更なる目的である、そしてそれは‖実質的に、その先行技術のガス洗浄装
置システムと関係がある洗浄している操作の中で必要だった水を減らす。
静かな更なる目的である、そしてそれは‖実質的に、その先行技術のガス洗浄装
置システムと関係がある洗浄している操作の中で必要だった水を減らす。
【００１７】 あるようなものは半導体、光電池の処理、などの製造の中で、生産した、先行
技術システムの上記の論議された不足を克服する排ガスの処理のためにそのよう
なシステムを提供することは、その発明のもう一つの目的である。
技術システムの上記の論議された不足を克服する排ガスの処理のためにそのよう
なシステムを提供することは、その発明のもう一つの目的である。
【００１８】 他の目的及び利点は、引き続いて起こる発表から充分により明白である。
【００１９】 発明の概要 発明が例えば造られるかもしれない及び産業のガス廃水の使用処理の例えばそ
れらが半導体材料及びdevices.In 1つの面の製造の中で、生産した、その発明が
酸化成分を含むガス流を扱うためにガス流処理システムと関係づける点のために
配置されるかもしれないガス処理システムと関係づける贈り物は、以下を含む：
そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス流の上でそれについてその酸化成分
を減らすために強制印加するために配置された酸化ユニット；選択的に、そのガ
ス流から洗浄可能な成分を除去する及びそのガスを射出するための前段酸化洗浄
ユニットが、酸化ユニットに流れる；選択的に、そのガスから洗浄可能な成分を
除去するために酸化ユニットからそのガス流を受け取っている後段酸化洗浄ユニ
ットが、流れる；及びそのガス流の酸化成分の削減の向上のために、そのシステ
ムの中で酸素含有ガスを提供するために配置された酸素含有ガス・ソース。
れらが半導体材料及びdevices.In 1つの面の製造の中で、生産した、その発明が
酸化成分を含むガス流を扱うためにガス流処理システムと関係づける点のために
配置されるかもしれないガス処理システムと関係づける贈り物は、以下を含む：
そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス流の上でそれについてその酸化成分
を減らすために強制印加するために配置された酸化ユニット；選択的に、そのガ
ス流から洗浄可能な成分を除去する及びそのガスを射出するための前段酸化洗浄
ユニットが、酸化ユニットに流れる；選択的に、そのガスから洗浄可能な成分を
除去するために酸化ユニットからそのガス流を受け取っている後段酸化洗浄ユニ
ットが、流れる；及びそのガス流の酸化成分の削減の向上のために、そのシステ
ムの中で酸素含有ガスを提供するために配置された酸素含有ガス・ソース。
【００２０】 ここで使われるように、「酸素含有ガス」の中の語「酸素」は分子の２価の酸
素だけでなく原子の酸素を含む。その酸素含有ガスが、好んで酸素か、オゾンか
、空気（酸素濃縮空気か一重項酸素）か1と互換性を持つ混合を含むか、よりそ
のようなspecies.Such酸素含有ガス・ソースの中でそれ自身で酸化ユニットに導
入されたガス流が酸素含有を含むその点でが例えばガスを供給するガス流である
かもしれない、そのガス流の成分としてオゾン。そのガス流のそのような酸素含
有成分は、半導体製造工程（オゾンが他の酸化剤ガス種で生成されるその点で）
の中のプラズマ処理のような上流のプロセスから生じるかもしれない。そのガス
流それから、そのシステムのユニットが利用するかもしれない酸化剤の中の、必
要であるかその発明の与えられた応用の中で望ましいように、外に供給された酸
素含有ガスによって選択的に増やされるその酸化を実行するガス流のそのような
固有の酸化剤ガス種が処理する条件を酸化させることを受ける。供給関連の中で
ガス処理システムの酸化ユニットに結びつけられて、酸素かオゾン・ジェネレー
ターのような、代わりに、それについて、その酸素含有ガスは、もっぱら外部の
ソースからプロセス・システムまで供給されるかもしれない。
素だけでなく原子の酸素を含む。その酸素含有ガスが、好んで酸素か、オゾンか
、空気（酸素濃縮空気か一重項酸素）か1と互換性を持つ混合を含むか、よりそ
のようなspecies.Such酸素含有ガス・ソースの中でそれ自身で酸化ユニットに導
入されたガス流が酸素含有を含むその点でが例えばガスを供給するガス流である
かもしれない、そのガス流の成分としてオゾン。そのガス流のそのような酸素含
有成分は、半導体製造工程（オゾンが他の酸化剤ガス種で生成されるその点で）
の中のプラズマ処理のような上流のプロセスから生じるかもしれない。そのガス
流それから、そのシステムのユニットが利用するかもしれない酸化剤の中の、必
要であるかその発明の与えられた応用の中で望ましいように、外に供給された酸
素含有ガスによって選択的に増やされるその酸化を実行するガス流のそのような
固有の酸化剤ガス種が処理する条件を酸化させることを受ける。供給関連の中で
ガス処理システムの酸化ユニットに結びつけられて、酸素かオゾン・ジェネレー
ターのような、代わりに、それについて、その酸素含有ガスは、もっぱら外部の
ソースからプロセス・システムまで供給されるかもしれない。
【００２１】 その発明のもう一つの面は、水の洗浄媒体（酸素含有が例えばオゾンにガスを
供給するその点で）をもつ流れが導入されるガスの中で、そのガスの中で水の洗
浄媒体で流れを洗浄することに先立ちその洗浄媒体を洗浄することによって酸化
成分を含むガス流を扱うためにガス処理システムに関連がある。水の洗浄媒体が
、オゾンが加えられる、備えをするために液体のフェーズ補給水や再循環水を例
えば含むかもしれない‖そのガスの酸化成分の破壊が、流れる‖以降の洗浄して
いるそのオゾンを含んでいる水の洗浄媒体か他の酸素含有ガスによるガス流の。
そのような液体の「酸素強化された」したがって、スクラブすることは、酸化剤
ユニット処理と関連して、ガス流の前段洗浄や後段洗浄のための発明かスクラブ
することは独立型操作として運ばれるかもしれない酸素強化されたに従って使わ
れるかもしれない。
供給するその点で）をもつ流れが導入されるガスの中で、そのガスの中で水の洗
浄媒体で流れを洗浄することに先立ちその洗浄媒体を洗浄することによって酸化
成分を含むガス流を扱うためにガス処理システムに関連がある。水の洗浄媒体が
、オゾンが加えられる、備えをするために液体のフェーズ補給水や再循環水を例
えば含むかもしれない‖そのガスの酸化成分の破壊が、流れる‖以降の洗浄して
いるそのオゾンを含んでいる水の洗浄媒体か他の酸素含有ガスによるガス流の。
そのような液体の「酸素強化された」したがって、スクラブすることは、酸化剤
ユニット処理と関連して、ガス流の前段洗浄や後段洗浄のための発明かスクラブ
することは独立型操作として運ばれるかもしれない酸素強化されたに従って使わ
れるかもしれない。
【００２２】 その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うために
ガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するために配置され
た酸化ユニット；酸化ユニットに結びつけられたオゾン源；及びそのガス流及び
そのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソースを含む酸化ユニ
ット。
ガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するために配置され
た酸化ユニット；酸化ユニットに結びつけられたオゾン源；及びそのガス流及び
そのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソースを含む酸化ユニ
ット。
【００２３】 それでも、その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を
扱うためにガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件
をそのガス流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するため
に配置された酸化ユニット；湿式洗浄器上流にそれの酸化処理に先立ち酸化ユニ
ットの中でそのガス流を洗浄するための酸化ユニットの；そのガス流にand/orそ
の湿式洗浄器及び酸化ユニットのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供
しているオゾン源；及びそのガス流及びそのオゾンに、エネルギーを供給するた
めのエネルギー・ソースを含む酸化ユニット。
扱うためにガス流処理システムに関連がある：そのガス流を受ける及び酸化条件
をそのガス流の上でそれについてその酸化成分を減らすために強制印加するため
に配置された酸化ユニット；湿式洗浄器上流にそれの酸化処理に先立ち酸化ユニ
ットの中でそのガス流を洗浄するための酸化ユニットの；そのガス流にand/orそ
の湿式洗浄器及び酸化ユニットのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供
しているオゾン源；及びそのガス流及びそのオゾンに、エネルギーを供給するた
めのエネルギー・ソースを含む酸化ユニット。
【００２４】 更なる面の中で、その発明は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うため
にプロセスに関連がある：そのガス流の酸化成分を減らすために酸化ユニット及
び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそこにそのガス流を導入すること；そこか
ら上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するためにそのガス流を洗浄
する選択的に；そこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するた
めにそのガス流を洗浄する選択的に；及び酸素含有ガスでそのガス流の酸化成分
の削減の向上のためにそのガス流と接触すること。
にプロセスに関連がある：そのガス流の酸化成分を減らすために酸化ユニット及
び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそこにそのガス流を導入すること；そこか
ら上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するためにそのガス流を洗浄
する選択的に；そこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するた
めにそのガス流を洗浄する選択的に；及び酸素含有ガスでそのガス流の酸化成分
の削減の向上のためにそのガス流と接触すること。
【００２５】 その発明の更なる面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためにプロ
セスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそれに
ついてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；酸化ユニットに
オゾンを導入すること；及びそのガス流及びそのオゾンにエネルギーを供給する
こと。
セスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそれに
ついてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；酸化ユニットに
オゾンを導入すること；及びそのガス流及びそのオゾンにエネルギーを供給する
こと。
【００２６】 それでも、その発明のもう一つの面は、酸化成分（含むこと）を含むガス流を
扱うためにプロセスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；
湿った洗浄ユニットの中でそれの酸化処理に先立ち酸化ユニットの中でそのガス
流を洗浄することを濡らす；そのガス流にand/orその湿式洗浄器及び酸化ユニッ
トのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供すること；及びそのガス流及
びそのオゾンに酸化ユニットの中でエネルギーを供給すること。
扱うためにプロセスに関連がある：酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス
流の上でそれについてその酸化成分を減らすためにそのガス流を導入すること；
湿った洗浄ユニットの中でそれの酸化処理に先立ち酸化ユニットの中でそのガス
流を洗浄することを濡らす；そのガス流にand/orその湿式洗浄器及び酸化ユニッ
トのうちの少くとも1つの中で上流にオゾンを提供すること；及びそのガス流及
びそのオゾンに酸化ユニットの中でエネルギーを供給すること。
【００２７】 追加の面の中で、その発明は、少くとも1つの酸化可能な種を含むことはクロ
ロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン及び窒素酸化物から成っている群か
ら、選んだ、そのようなものが含むことを処理する酸化成分を含むガスを扱うた
めにプロセスに関連がある：燃焼ユニットにそのガスを導入すること；燃焼ユニ
ットにオゾンを導入すること；及び、そのガス及びそのオゾンに燃焼ユニットの
中で酸化可能な種及びそのオゾンの間の反応を促進するためにエネルギーにそれ
を供給することは、そのガスの中で酸化可能な種を減らす。
ロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン及び窒素酸化物から成っている群か
ら、選んだ、そのようなものが含むことを処理する酸化成分を含むガスを扱うた
めにプロセスに関連がある：燃焼ユニットにそのガスを導入すること；燃焼ユニ
ットにオゾンを導入すること；及び、そのガス及びそのオゾンに燃焼ユニットの
中で酸化可能な種及びそのオゾンの間の反応を促進するためにエネルギーにそれ
を供給することは、そのガスの中で酸化可能な種を減らす。
【００２８】 その発明の静かな更なる面は、酸化処理が酸化条件で超強力酸化剤のそのガス
流への追加で、そのガス流の酸化成分の酸化のために実行されるその点でをガス
流処理システムと関係づける。語「超強力酸化剤」は、そのガス流を扱うために
対応して使われるとき成し遂げられたそれに対してオゾン（O3）によって最少の
同等にあるガス流の中で、ガス流の酸化処理の中の酸化可能な種の酸化性の除去
を成し遂げる酸化している材料に言及する。このように、超強力酸化剤はオゾン
、酸素含有ガスと協力した弗素及びガス処理操作の中のオゾンと少くとも同じく
らい酸化的に有効（扱われていたガス流に対する関心の酸化可能なガス成分の酸
化性の除去範囲に関して）である他の酸化剤種を含む。
流への追加で、そのガス流の酸化成分の酸化のために実行されるその点でをガス
流処理システムと関係づける。語「超強力酸化剤」は、そのガス流を扱うために
対応して使われるとき成し遂げられたそれに対してオゾン（O3）によって最少の
同等にあるガス流の中で、ガス流の酸化処理の中の酸化可能な種の酸化性の除去
を成し遂げる酸化している材料に言及する。このように、超強力酸化剤はオゾン
、酸素含有ガスと協力した弗素及びガス処理操作の中のオゾンと少くとも同じく
らい酸化的に有効（扱われていたガス流に対する関心の酸化可能なガス成分の酸
化性の除去範囲に関して）である他の酸化剤種を含む。
【００２９】 酸化している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って、その発明の特定の
面は、クロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処理に関連がある。
面は、クロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処理に関連がある。
【００３０】 他の面、特徴及び実施例は、引き続いて起こる発表から充分に明白である。
【００３１】 ＜発明の詳細な説明及び好ましい実施例＞ 本発明の目的は、多種多様な産業プロセスに由来する、広範な排ガス流に利用
可能な改善されたガス排流処理システムを提供するものである。
可能な改善されたガス排流処理システムを提供するものである。
【００３２】 本発明の統合化された排ガス処理システムは、例えば、使用装置のコンパクト
な点である単体ハウジングに、以下のシステム要素のうちいくつかか全てを含む
ように構成される。： (i) 酸性のガス及び微粒子の除去（例えば（前段)洗浄器）のための前処理の
ユニット (ii) 電熱酸化剤か他の酸化剤ユニット； (iii) 酸化剤排ガス消去ユニット； (iv) 酸性ガス洗浄ユニット； (v) 活動流手段（ブロワー、ファン、ポンプ、その他）のようなガス流導入手
段または受動流手段（排気装置、エジェクタ、吸気ノズル、その他）；及び (vi) 協動制御手段、例えば流入液ガス温度調節手段（例えば、熱追跡前線前線
、熱交換器、または統合システムを通して流れるガスに適当な熱特性を与える他
の手段）、供給手段（サージ保護、判別不能な電源供給（UPS）接続または専用
のUPS要素等）及びその操作の間のシステムの中のプロセス条件（温度、圧力、
流れ率及び構成）をモニターしたり選択的に調節するための、他のプロセス制御
要素及びサブアセンブリ。
な点である単体ハウジングに、以下のシステム要素のうちいくつかか全てを含む
ように構成される。： (i) 酸性のガス及び微粒子の除去（例えば（前段)洗浄器）のための前処理の
ユニット (ii) 電熱酸化剤か他の酸化剤ユニット； (iii) 酸化剤排ガス消去ユニット； (iv) 酸性ガス洗浄ユニット； (v) 活動流手段（ブロワー、ファン、ポンプ、その他）のようなガス流導入手
段または受動流手段（排気装置、エジェクタ、吸気ノズル、その他）；及び (vi) 協動制御手段、例えば流入液ガス温度調節手段（例えば、熱追跡前線前線
、熱交換器、または統合システムを通して流れるガスに適当な熱特性を与える他
の手段）、供給手段（サージ保護、判別不能な電源供給（UPS）接続または専用
のUPS要素等）及びその操作の間のシステムの中のプロセス条件（温度、圧力、
流れ率及び構成）をモニターしたり選択的に調節するための、他のプロセス制御
要素及びサブアセンブリ。
【００３３】 上流プロセス設備からその組立部品まで流体の流れを導入するための目詰まり
を防止できるインレット構造と協力して本発明の統合化排ガス処理システムは、
前段ガス洗浄装置、酸化剤及びガス洗浄装置組立部品を利用しうる。
を防止できるインレット構造と協力して本発明の統合化排ガス処理システムは、
前段ガス洗浄装置、酸化剤及びガス洗浄装置組立部品を利用しうる。
【００３４】 一実施例中のそのような目詰まり防止インレット構造は、第1及び第２の概し
て垂直に配置された、固形粒子が含まれる流体が流れる概垂直な流路を定義し、
固形粒子を含む流れの上流から入り口構造に関連して流体を受けるように構成さ
れている、下流の流体処理システムまで連続して互いに関連付けて接続された流
路セクションを備えている。
て垂直に配置された、固形粒子が含まれる流体が流れる概垂直な流路を定義し、
固形粒子を含む流れの上流から入り口構造に関連して流体を受けるように構成さ
れている、下流の流体処理システムまで連続して互いに関連付けて接続された流
路セクションを備えている。
【００３５】 第1流路セクションは、インレット構造の上部構造であり、多孔性金属、多孔
性セラミック、またはガス流の第1上部を囲むような他の適当な材料の中で構成
されているガス透過性内壁を含んでいる。
性セラミック、またはガス流の第1上部を囲むような他の適当な材料の中で構成
されているガス透過性内壁を含んでいる。
【００３６】 ガス透過性内壁は、このような流路を仕切る内表面を備えている。
【００３７】 ガスト透過性壁は、ガス透過性内壁に関して離間している外壁によって囲まれ
ている。
ている。
【００３８】 その外壁は多孔性の性質を有しないが、低圧ガス流ポートを供給している。
【００３９】 そのような配置によって、ガス透過性内壁と囲む外壁との間に環状の体積部分
が生じている。
が生じている。
【００４０】 低圧ガス流ポートは、例えば、適当なバルブや制御手段によって、所定の低い
レートでガスを内部還流体積部分に流すために低圧ガス源に流れが関連付けられ
て接続されており、その内部還流体積部分から流路への後に続く流れが形成され
ている。
レートでガスを内部還流体積部分に流すために低圧ガス源に流れが関連付けられ
て接続されており、その内部還流体積部分から流路への後に続く流れが形成され
ている。
【００４１】 また、高圧ガス流ポートは、内部還流体積の内部流のための高圧ガス源に流れ
が関連するように接続されており、選択的に、第1流路セクションの外壁に供給
される。そのような高圧ガス流は、ガス透過性内壁からその内面に付着してもよ
い。粒子を除去するように働く。（第1ガス流セクションにおける流路で境界付
けられる） 高圧ガスは、同様に好ましい圧力で適当な弁及び制御手段によって、制御可能
に流してもよい。
が関連するように接続されており、選択的に、第1流路セクションの外壁に供給
される。そのような高圧ガス流は、ガス透過性内壁からその内面に付着してもよ
い。粒子を除去するように働く。（第1ガス流セクションにおける流路で境界付
けられる） 高圧ガスは、同様に好ましい圧力で適当な弁及び制御手段によって、制御可能
に流してもよい。
【００４２】 第2流路セクションは、第1流路セクションに連続して接続されており、固形粒
子含有流を下方に向けて第1流路セクションから第2流路セクションに流す。
子含有流を下方に向けて第1流路セクションから第2流路セクションに流す。
【００４３】 第2流路は、流体射出ポートを備える外壁を含んでおり、水やその他のプロセ
ス流のような流体源に接続されうる。
ス流のような流体源に接続されうる。
【００４４】 その外壁は、第1及び第２の流路セクションのそれぞれの外壁上の対になるフ
ランジなどの手段によって、第1流路セクションと接続されている。
ランジなどの手段によって、第1流路セクションと接続されている。
【００４５】 第2流路は、内部還流体積部を定義するために外壁に対して離間して内部堰壁
を含んでおり、当該内部堰壁は第1流路セクションのガス透過性壁へ延びその少
し手前で終っている。この壁は、第1及び第2流路セクションの各内壁の間のギャ
ップを、堰を定義するようにして供給している。
を含んでおり、当該内部堰壁は第1流路セクションのガス透過性壁へ延びその少
し手前で終っている。この壁は、第1及び第2流路セクションの各内壁の間のギャ
ップを、堰を定義するようにして供給している。
【００４６】 内壁を下る流体の流れはその壁からあらゆる固形粒子を洗い流すように作用し
、内壁の表面上への固形物の付着や形成を阻止するのに役立つ。
、内壁の表面上への固形物の付着や形成を阻止するのに役立つ。
【００４７】 各々の第１および第2流路セクションのフランジ状接続は、早期解除クランプ
アセンブリを含んでいても良く、これはインレット構造における第1および第2流
路セクションを容易に分解することを可能にする。
アセンブリを含んでいても良く、これはインレット構造における第1および第2流
路セクションを容易に分解することを可能にする。
【００４８】 さらにインレット構造の第1流路セクションは、最上部のインレット構造早期
開放インレットセクションに接続されていても良く、同様に清掃及びメンテナン
ス目的のために容易に分解される。
開放インレットセクションに接続されていても良く、同様に清掃及びメンテナン
ス目的のために容易に分解される。
【００４９】 もう一つの局面において、本発明は、賛成がスト粒子を排ガスから取り除くた
めの前段洗浄装置、排ガス流中の酸化成分の酸化処理のための酸化装置、および
、酸化処理に続く排ガス流洗浄のための後続する水性洗浄装置を備えている。
めの前段洗浄装置、排ガス流中の酸化成分の酸化処理のための酸化装置、および
、酸化処理に続く排ガス流洗浄のための後続する水性洗浄装置を備えている。
【００５０】 そのような前段洗浄/酸化/洗浄システムの中で、ガス/液体のインターフェー
ス構造を使用してもよい。これは、熱い粒子を含んだガス流が腐食成分を含みつ
つ酸化装置から射出され、このようなガス／流体インターフェース構造に受けら
れた場合に、固形物の付着や目詰まり、腐食を防ぐことが可能なものである。そ
のようなガス/液体のインタフェース構造は、以下を含む。： 第1ガス流路を定義する第1垂直延在インレット流路部材であって、インレット
流路部材はガス流をガス流路に導入するための上部インレット、インレット流路
部材中のガス流路を通したガス流の流れに引き続きが慰留を射出するための低出
口部を備えている、垂直に延びる第1流路部材。
ス構造を使用してもよい。これは、熱い粒子を含んだガス流が腐食成分を含みつ
つ酸化装置から射出され、このようなガス／流体インターフェース構造に受けら
れた場合に、固形物の付着や目詰まり、腐食を防ぐことが可能なものである。そ
のようなガス/液体のインタフェース構造は、以下を含む。： 第1ガス流路を定義する第1垂直延在インレット流路部材であって、インレット
流路部材はガス流をガス流路に導入するための上部インレット、インレット流路
部材中のガス流路を通したガス流の流れに引き続きが慰留を射出するための低出
口部を備えている、垂直に延びる第1流路部材。
【００５１】 第2流路部材は、第1流路部材に外接してその外部に離間しており、内部還流体
積部を定義するものである。この第2流路部材は第1流路部材の低出口部の下方に
ある低出口に向けて下方に延びており、第2流路部材は、第1流路部材の低出口部
の上に位置する上部流体透過性部と、第2流路部材のガス流路を定義する下部流
路非透過部性部と、を備えている第2流路部材； 第2流路部材を囲むように外接し囲まれた内部還流体積部を定義している外壁
部材；及び 外壁内にあり、その外壁部材と第2流路部材との間にある内部還流体積部の中
に流体を導入するための流体流インレットポート。
積部を定義するものである。この第2流路部材は第1流路部材の低出口部の下方に
ある低出口に向けて下方に延びており、第2流路部材は、第1流路部材の低出口部
の上に位置する上部流体透過性部と、第2流路部材のガス流路を定義する下部流
路非透過部性部と、を備えている第2流路部材； 第2流路部材を囲むように外接し囲まれた内部還流体積部を定義している外壁
部材；及び 外壁内にあり、その外壁部材と第2流路部材との間にある内部還流体積部の中
に流体を導入するための流体流インレットポート。
【００５２】 このような構成によって、外壁部材中の流体流インレットポートを介して導入
された流体は、第2流路部材の流体非透過性部の内部表面に後に流すために、囲
まれた内部還流体積部に入り、滴るように第2流路部材の上部流体透過性部を流
れる。これは第1流路部材の低出口部において第1流路部材を通って流れるガス流
を伴って、第2流路部材の流路を介する流れとそれに続くガス／流体インターフ
ェース構造からの射出のために、第2流路部材の流体非透過性部の内部表面上に
流体層を下向きに流すことになり、粒子上の固形物がその上に付着したり堆積し
たりすることを防止するものである。
された流体は、第2流路部材の流体非透過性部の内部表面に後に流すために、囲
まれた内部還流体積部に入り、滴るように第2流路部材の上部流体透過性部を流
れる。これは第1流路部材の低出口部において第1流路部材を通って流れるガス流
を伴って、第2流路部材の流路を介する流れとそれに続くガス／流体インターフ
ェース構造からの射出のために、第2流路部材の流体非透過性部の内部表面上に
流体層を下向きに流すことになり、粒子上の固形物がその上に付着したり堆積し
たりすることを防止するものである。
【００５３】 そのような構成によって、そのガス流は、構造の底部にある壁面に直接接触す
ることを防止でき、バス流路は第2流路部材の内部表面にかぎられることになる
。
ることを防止でき、バス流路は第2流路部材の内部表面にかぎられることになる
。
【００５４】 第2流路部材の「滴る堰」上部から落ちる水の層は、第2流路部材の内壁表面へ
の粒子固形物の体積を阻止する。
の粒子固形物の体積を阻止する。
【００５５】 そのような壁表面の動く流体流は、水の層に接しているガス流中の粒子を、ガ
ス／流体インターフェース構造から排出するために、下方に運搬する。
ス／流体インターフェース構造から排出するために、下方に運搬する。
【００５６】 第2流路部材の上部流体透過性部は、例えば０．５ミクロンから３０ミクロン
、さらに大きな孔径の適当な多孔性構造を備えておればよく、多孔性焼結金属壁
や多孔性セラミック壁を備えていればよい。
、さらに大きな孔径の適当な多孔性構造を備えておればよく、多孔性焼結金属壁
や多孔性セラミック壁を備えていればよい。
【００５７】 さらに別の本発明の側面は、前段洗浄装置、酸化／急冷装置、および洗浄ユニ
ットを備えているような、排ガス流処理システムに関し、前段洗浄ユニットは、
水を当の上部から下方に流し、当の底部において導入されたガスと接触させる反
流ガス／流体接触塔を利用する。この排ガス流は、略水平に配置され、シールド
ガスを導入するためのシールドガスポートを備えている外部外接管状部材と同心
円状に配置された第1管状通路を備えている。
ットを備えているような、排ガス流処理システムに関し、前段洗浄ユニットは、
水を当の上部から下方に流し、当の底部において導入されたガスと接触させる反
流ガス／流体接触塔を利用する。この排ガス流は、略水平に配置され、シールド
ガスを導入するためのシールドガスポートを備えている外部外接管状部材と同心
円状に配置された第1管状通路を備えている。
【００５８】 排ガスを受ける第1管状部材は、外部管状部材中で終端される。
【００５９】 外部管状部材は、略水平に、前述した塔の下部に延び、前述の当の下部中に設
けられた斜めの切り欠きを備えている。
けられた斜めの切り欠きを備えている。
【００６０】 この外部管状部材の斜めの切り欠きは、最大長円周部が外部管状部材の最短長
円周部の上に載るように配置される。その結果、外周は内部管状部材から外部管
状部材の内部体積に排出され、外部管状部材の斜め切り欠き端から前述の塔の下
部に排出される。
円周部の上に載るように配置される。その結果、外周は内部管状部材から外部管
状部材の内部体積に排出され、外部管状部材の斜め切り欠き端から前述の塔の下
部に排出される。
【００６１】 外部管状部材の最大長円周部を外部管状部材の最短円周部上に位置させること
により、外部管状部材は、下流に落ちる流体がそのような管状部材に入ることを
防止可能に構成されることになる。
により、外部管状部材は、下流に落ちる流体がそのような管状部材に入ることを
防止可能に構成されることになる。
【００６２】 さらに、そのような斜め切り欠き端の配置は、ガス流を前述した塔に導入させ
、下に落ちる流体に接触するための塔中への入る点において展開される。
、下に落ちる流体に接触するための塔中への入る点において展開される。
【００６３】 付加的な本発明の側面としては、変更可能に以下の態様を備えている。 １． 非目詰まりインレット、前段洗浄装置、酸化装置、湿式／乾式インターフ
ェース、急冷装置、後段洗浄装置および動作手段を含む統一キャビネット構想に
おける全統合化されたガス排流処理システムの対策。 2. 水素弗化物吸収のための前処理サブシステムへの使用。前処理サブシステム
は、酸化プロセス中に形成された微細な粒子を除去しようとするよりも微粒子の
前駆体を除去することにより粒子前除去システムとして特に利用されるものであ
る。 3. 実質的に水の使用量を減少させシステムを不必要にさせるような、スリット
／穴の注入タイプ、または多孔性型インターフェースの湿式子／乾式インターフ
ェースへの対策。 4. シェル側の作用している「流体」として放射性フラックスを使用するシェル
および管式熱交換型酸化装置の対策。 5. 凝集を無くしたり最小限に抑えるように設計された伝熱酸性ガスと微粒子の
洗浄を従う水性洗浄装置（この後に開示された他の態様と合わせる）におけるサ
ブ冷却システムへの対策。
ェース、急冷装置、後段洗浄装置および動作手段を含む統一キャビネット構想に
おける全統合化されたガス排流処理システムの対策。 2. 水素弗化物吸収のための前処理サブシステムへの使用。前処理サブシステム
は、酸化プロセス中に形成された微細な粒子を除去しようとするよりも微粒子の
前駆体を除去することにより粒子前除去システムとして特に利用されるものであ
る。 3. 実質的に水の使用量を減少させシステムを不必要にさせるような、スリット
／穴の注入タイプ、または多孔性型インターフェースの湿式子／乾式インターフ
ェースへの対策。 4. シェル側の作用している「流体」として放射性フラックスを使用するシェル
および管式熱交換型酸化装置の対策。 5. 凝集を無くしたり最小限に抑えるように設計された伝熱酸性ガスと微粒子の
洗浄を従う水性洗浄装置（この後に開示された他の態様と合わせる）におけるサ
ブ冷却システムへの対策。
【００６４】 さらに加えて、流体は移出のためのイジェクタが、排ガス処理システムを処理
システムの排出ラインから見えなくするために使用されたり、排出手段が、必要
であれば上流の処理ユニット(例えば半導体製造ツール)への供給を増加するため
に使用される。 6. 洗浄コラムにおけるパッキン要素としてのデミスタ・メッシュの使用。その
ようなデミスタ・メッシュは、小径の洗浄コラムにおいて壁面の効果を実質的に
減じうる。そのような洗浄コラム中における量伝導と熱伝導は、結果として商業
的に利用可能なランダム・パッキンで洗浄コラムに匹敵するか、上回る性能を有
する。デミスタ・メッシュを含んでいる洗浄コラムは相対的に圧力低下を達成す
る。
システムの排出ラインから見えなくするために使用されたり、排出手段が、必要
であれば上流の処理ユニット(例えば半導体製造ツール)への供給を増加するため
に使用される。 6. 洗浄コラムにおけるパッキン要素としてのデミスタ・メッシュの使用。その
ようなデミスタ・メッシュは、小径の洗浄コラムにおいて壁面の効果を実質的に
減じうる。そのような洗浄コラム中における量伝導と熱伝導は、結果として商業
的に利用可能なランダム・パッキンで洗浄コラムに匹敵するか、上回る性能を有
する。デミスタ・メッシュを含んでいる洗浄コラムは相対的に圧力低下を達成す
る。
【００６５】 ガス洗浄コラムの最上位の無効な一部分は自由に設計でき、よき粒子収集器と
しての洗浄コラムを構成できる。
しての洗浄コラムを構成できる。
【００６６】 ランダム・パッキンは、それほど柔軟性はなく、デミスタ・メッシュ洗浄コラ
ムとともに達成可能な柔軟性を容易には有していない。 7. 熱伝導強化剤の使用は、酸化装置に中で、排ガス処理システムを仕上げるた
めに全体処理における変動する熱フラックスを要求するような応用に対し、加え
られる。 8. 酸化剤ユニットのインレットへの排ガス処理システムの中の酸化剤ユニット
の急冷からの飽和したH2O/排出ストリームのリサイクルは、酸化のためのパーフ
ルオロカーボン（PFCs）の低コスト水素源を提供する。 9. 前段ガス洗浄装置への化学物質の追加が、洗浄された材料の特徴を変更する
ために使用されうる。実施例は、NH３をタングステン六弗化物排流に加えること
で、アンモニウム・タングステンを形成し、それによって、それについて高い溶
解性をもつ洗浄除去のための材料を生じている。 10. 酸化ステップの中で反応物/生成固体の壁への蓄積を除去する酸化剤ユニッ
トのための蒸発管反応装置仕様の使用。 11. 急冷ユニットのサイズを最小限にするための酸化ユニットからの熱排流を
受ける急冷ユニット中における二重流体噴霧ノズルの使用や、急冷ユニット内の
超音波ノズルや圧電体ノズルのような他の小液滴噴霧手段の使用。 12. 本発明のガス排流処理システムと半導体製造プロセス・ツールとの統合。 13. 例えば下記において詳しく説明される反目詰まりインレット構造を配置す
るなどする、目詰まりを防止する排ガス導入（インレット）の使用。 14. 電気またはフレーム（メタン、プロパン、水素、ブタン）ベースの酸化、
または／および空気やＯ２を利用可能な酸化ユニットにおける柔軟性。 15. 前段洗浄手段や後段洗浄手段のような湿式洗浄装置や乾式洗浄装置の使用
。 16. 流動床熱酸化剤ユニットの使用。 17. 排ガス流処理システムの中の非PFC破壊PFC再利用／回復ユニットの使用。 18. ガス流流層境界層の中断のために挿入物を利用した目詰まり防止酸化ユニ
ットの対策。
ムとともに達成可能な柔軟性を容易には有していない。 7. 熱伝導強化剤の使用は、酸化装置に中で、排ガス処理システムを仕上げるた
めに全体処理における変動する熱フラックスを要求するような応用に対し、加え
られる。 8. 酸化剤ユニットのインレットへの排ガス処理システムの中の酸化剤ユニット
の急冷からの飽和したH2O/排出ストリームのリサイクルは、酸化のためのパーフ
ルオロカーボン（PFCs）の低コスト水素源を提供する。 9. 前段ガス洗浄装置への化学物質の追加が、洗浄された材料の特徴を変更する
ために使用されうる。実施例は、NH３をタングステン六弗化物排流に加えること
で、アンモニウム・タングステンを形成し、それによって、それについて高い溶
解性をもつ洗浄除去のための材料を生じている。 10. 酸化ステップの中で反応物/生成固体の壁への蓄積を除去する酸化剤ユニッ
トのための蒸発管反応装置仕様の使用。 11. 急冷ユニットのサイズを最小限にするための酸化ユニットからの熱排流を
受ける急冷ユニット中における二重流体噴霧ノズルの使用や、急冷ユニット内の
超音波ノズルや圧電体ノズルのような他の小液滴噴霧手段の使用。 12. 本発明のガス排流処理システムと半導体製造プロセス・ツールとの統合。 13. 例えば下記において詳しく説明される反目詰まりインレット構造を配置す
るなどする、目詰まりを防止する排ガス導入（インレット）の使用。 14. 電気またはフレーム（メタン、プロパン、水素、ブタン）ベースの酸化、
または／および空気やＯ２を利用可能な酸化ユニットにおける柔軟性。 15. 前段洗浄手段や後段洗浄手段のような湿式洗浄装置や乾式洗浄装置の使用
。 16. 流動床熱酸化剤ユニットの使用。 17. 排ガス流処理システムの中の非PFC破壊PFC再利用／回復ユニットの使用。 18. ガス流流層境界層の中断のために挿入物を利用した目詰まり防止酸化ユニ
ットの対策。
【００６７】 本発明は、排流を生ずる上流のプロセスから生じている排ガス流の酸化処理の
ためのシステムを提供するものであり、酸化や洗浄プロセスが実施され危険であ
るかまたは望ましくない排ガス流の種を減らすものである。
ためのシステムを提供するものであり、酸化や洗浄プロセスが実施され危険であ
るかまたは望ましくない排ガス流の種を減らすものである。
【００６８】 特殊な点として、当該排ガス処理システムは、酸化及び洗浄ユニット操作を含
み、ガス流中の固形粒子の好ましくない影響を最小限にすべく構成され配置され
ている。そのような粒子は、第一に上流プロセスで清々されたり排ガスシステム
の中で生成される（排ガス処理の酸化処理の帰結として粒状の反応生成物が生じ
ることで）。
み、ガス流中の固形粒子の好ましくない影響を最小限にすべく構成され配置され
ている。そのような粒子は、第一に上流プロセスで清々されたり排ガスシステム
の中で生成される（排ガス処理の酸化処理の帰結として粒状の反応生成物が生じ
ることで）。
【００６９】 加えて、本発明は、ガス/液体のインタフェース構造が流体の流体力学的な反
効果を最小限にし、粒子固形物の体積を最小限にし、システム中に固形物が堆積
されることで生ずる目詰まりを抑制するための排ガス処理システムに関する。
効果を最小限にし、粒子固形物の体積を最小限にし、システム中に固形物が堆積
されることで生ずる目詰まりを抑制するための排ガス処理システムに関する。
【００７０】 他の側面として、本発明は、市場においてたの統合化熱処理システムに比し対
抗可能もしくはそれをしのぐ統合熱処理システムを提供する。
抗可能もしくはそれをしのぐ統合熱処理システムを提供する。
【００７１】 そのような統合されたガス処理システムは、フロントエンド熱処理と排ガス条
件化を合わせておりエンドユーザに対し低価格で提供されるものである。
件化を合わせておりエンドユーザに対し低価格で提供されるものである。
【００７２】 本発明の統合された排ガス流処理システムは、電気に基づいた熱酸化処理ユニ
ットを利用可能である。
ットを利用可能である。
【００７３】 ここにおける発明の記載は、第一に排ガス流処理システムを指向したものでは
あるが、本発明の処理システムは、フレームベース処理、流動床処理、プラズマ
処理などの他の熱処理方法を含むように変更して構成することも可能である。
あるが、本発明の処理システムは、フレームベース処理、流動床処理、プラズマ
処理などの他の熱処理方法を含むように変更して構成することも可能である。
【００７４】 柔軟性に富むユニット処理に基づくモジュール式プラットホームを提供するこ
とによって、本発明の排ガス処理システムは、容易に、半導体製造ツールの廃棄
等の広範な排ガス流に適用させることが可能であり、過度の努力無しに他のユニ
ット動作処理と協動させうるように変更することが可能である。
とによって、本発明の排ガス処理システムは、容易に、半導体製造ツールの廃棄
等の広範な排ガス流に適用させることが可能であり、過度の努力無しに他のユニ
ット動作処理と協動させうるように変更することが可能である。
【００７５】 多様な実施例における本発明の排ガス流処理システムは、従来技術の処理シス
テムに対し大きな利点を提供するものである。それは、構成排ガス処理ユニット
とそれに関連する流路パイプやチャネルにおける目詰まりの防止、ガス／流体イ
ンターフェース構造の結果としての侵食に対する強化された抵抗力、メンテナン
スが要求されるまでの延長されたオンストリーム処理時間、廃洗浄種の重量の９
９．９％より大きなレベルでの優れた洗浄性能、そしてＨＣｌ，Ｃｌ２やＨＦの
ようなハロゲンのＴＬＶ（Threshold Limit Value）以下への低減、ＴＬＶレベ
ル以下の危険種の酸化破壊、酸化ユニットの下流のプロセスラインにおける腐食
性の酸凝集の除去、排ガス処理システムにおける構成処理ユニットの柔軟な配置
、および上流プロセス設備からの複数の排ガス源の収集能力である。
テムに対し大きな利点を提供するものである。それは、構成排ガス処理ユニット
とそれに関連する流路パイプやチャネルにおける目詰まりの防止、ガス／流体イ
ンターフェース構造の結果としての侵食に対する強化された抵抗力、メンテナン
スが要求されるまでの延長されたオンストリーム処理時間、廃洗浄種の重量の９
９．９％より大きなレベルでの優れた洗浄性能、そしてＨＣｌ，Ｃｌ２やＨＦの
ようなハロゲンのＴＬＶ（Threshold Limit Value）以下への低減、ＴＬＶレベ
ル以下の危険種の酸化破壊、酸化ユニットの下流のプロセスラインにおける腐食
性の酸凝集の除去、排ガス処理システムにおける構成処理ユニットの柔軟な配置
、および上流プロセス設備からの複数の排ガス源の収集能力である。
【００７６】 本発明における排ガス処理システム中の酸化ユニットを考慮する場合、酸化装
置は、排ガス種の伝熱酸化のための電力源を利用してもよく、水素やメタンのよ
うな燃料を利用してもよい。
置は、排ガス種の伝熱酸化のための電力源を利用してもよく、水素やメタンのよ
うな燃料を利用してもよい。
【００７７】 もしもそのシステムが酸化処理の中でパーフルオロカーボンの破壊を実行する
ために設けられるならば、そのシステムはそのパーフルオロカーボンの破壊を効
果ならしめるために水素ラジカル源として水蒸気を利用してもよい。
ために設けられるならば、そのシステムはそのパーフルオロカーボンの破壊を効
果ならしめるために水素ラジカル源として水蒸気を利用してもよい。
【００７８】 そのような酸化処理の酸化剤媒体は、空気、酸素、オゾンか他の酸素含有ガス
を含んでいてもよい。
を含んでいてもよい。
【００７９】 酸化装置からの熱い排ガス流を急冷する際、洗浄目的のために、凝集のために
水が用いられる。この水は噴霧スプレーのずるによって分散されるか他の適当な
噴霧装置で分散され、液滴サイズと最小化し、排ガス処理システム中の水の消費
量を抑える。
水が用いられる。この水は噴霧スプレーのずるによって分散されるか他の適当な
噴霧装置で分散され、液滴サイズと最小化し、排ガス処理システム中の水の消費
量を抑える。
【００８０】 従来技術における排ガス処理システムと比べ、本発明のシステムは、目詰まり
防止と侵食防止、水消費の最初かおよびコンパクトで効率的な処理システムの排
ガスプロセスユニットにおける配置の柔軟性の観点から、多様な利点を備える。
防止と侵食防止、水消費の最初かおよびコンパクトで効率的な処理システムの排
ガスプロセスユニットにおける配置の柔軟性の観点から、多様な利点を備える。
【００８１】 粒子や酸性ガスがプロセス流から加熱された酸化チャンバーに入る前の低い温
度の間に、これらを除去するために本発明の排ガス処理システムでは前段処理ユ
ニットが使用され、これにより、下流の層値における処理義務を簡素化している
。
度の間に、これらを除去するために本発明の排ガス処理システムでは前段処理ユ
ニットが使用され、これにより、下流の層値における処理義務を簡素化している
。
【００８２】 従来技術では目詰まりが生じ特殊な目詰まり解消機構が必要になっていたのに
対し、本発明のシステムは、最初に目詰まりを起こすことを防止すべく本質的流
体力学に実質的にのっとっている。
対し、本発明のシステムは、最初に目詰まりを起こすことを防止すべく本質的流
体力学に実質的にのっとっている。
【００８３】 本発明の排ガス処理システムは、適当な占有面積を有するコンパクトな統合容
器に収容可能であり、プロセス設備における容器に要求される床面積を最小限に
抑えることができる。
器に収容可能であり、プロセス設備における容器に要求される床面積を最小限に
抑えることができる。
【００８４】 本発明の排ガス処理システムが酸化ユニットを排ガス流の中で種を酸化させる
ために使用ことのために利用するとき、酸化剤媒体は、きれいな乾いた空か、酸
素、オゾン、酸素リッチな空気、または適当な特徴を備えた他の酸素含有ガスで
もあってもよい。
ために使用ことのために利用するとき、酸化剤媒体は、きれいな乾いた空か、酸
素、オゾン、酸素リッチな空気、または適当な特徴を備えた他の酸素含有ガスで
もあってもよい。
【００８５】 例えば、そのような酸素含有ガスは、扱われる排ガス流にその酸素含有ガスの
外部にある源から加えられてもよいし、あるいは、その酸素含有ガスは排ガス流
中で、上流の処理操作で生成された成分であってもよい。
外部にある源から加えられてもよいし、あるいは、その酸素含有ガスは排ガス流
中で、上流の処理操作で生成された成分であってもよい。
【００８６】 例えば、オゾンは、プラズマ処理を利用する半導体製品製造において、オゾン
を含む酸素含有種が生成される上流のプラズマ処理チャンバから由来する成分と
して排ガス流中に存在してもよい。
を含む酸素含有種が生成される上流のプラズマ処理チャンバから由来する成分と
して排ガス流中に存在してもよい。
【００８７】 そのような場合、排ガス流中に存在するオゾンは、減少させるためのＣＯや有
機種のような成分とともに行われる気相および／または液相の酸化反応等による
酸化条件下で、ストリーム中の他の成分とともに相互作用することを許容してい
る。
機種のような成分とともに行われる気相および／または液相の酸化反応等による
酸化条件下で、ストリーム中の他の成分とともに相互作用することを許容してい
る。
【００８８】 本発明の排ガス処理システムは、排ガスを発生する単一の上流プロセスのため
に、または排ガスの構成よそが本発明の排ガス処理システムに運ばれてくる全体
的な流れの中で統合される、複数の排ガス源に対しても利用可能であり、そのよ
うなガス流中の危険であったりさもなくば好ましくない成分を軽減し、そのよう
な成分が除去された最終排流を生成することができる。
に、または排ガスの構成よそが本発明の排ガス処理システムに運ばれてくる全体
的な流れの中で統合される、複数の排ガス源に対しても利用可能であり、そのよ
うなガス流中の危険であったりさもなくば好ましくない成分を軽減し、そのよう
な成分が除去された最終排流を生成することができる。
【００８９】 いくつかの例としては、排ガス流の成分が実行される排ガス生成プロセスが時
間に連れて異なる場合には、時間変更態様で処理されることが好ましい。
間に連れて異なる場合には、時間変更態様で処理されることが好ましい。
【００９０】 例えば、半導体製造において、タングステン化学気相拡散（ＣＶＤ）の場合、
シラン放出が拡散工程の中で発生し、そのようなＣＶＤ処理に引き続きＣＶＤ反
応炉が清浄化され、結果としてＮＦ３ガス成分の生成する。
シラン放出が拡散工程の中で発生し、そのようなＣＶＤ処理に引き続きＣＶＤ反
応炉が清浄化され、結果としてＮＦ３ガス成分の生成する。
【００９１】 ＣＶＤ工程に由来するシランはＣＶＤ反応炉清浄工程からのＮＦ３と激しく反
応するので、そのようなガス成分は統一処理のために混合することができず、そ
れゆえ、排ガス処理システムにおいて別の処理が要求される。
応するので、そのようなガス成分は統一処理のために混合することができず、そ
れゆえ、排ガス処理システムにおいて別の処理が要求される。
【００９２】 本発明の一般的な実施のために、排ガス処理システムは、排流の酸化処理の上
流において、排ガスが水と接触して呼び洗浄工程を実施することになる前段処理
ユニットを利用する。
流において、排ガスが水と接触して呼び洗浄工程を実施することになる前段処理
ユニットを利用する。
【００９３】 それゆえ、そのような前段処理は水による洗浄、または排ガス流と接触するた
めの化学中和剤を利用し、同様に酸化ユニットからの排流は、水または化学中和
剤によって洗浄されうるのである。
めの化学中和剤を利用し、同様に酸化ユニットからの排流は、水または化学中和
剤によって洗浄されうるのである。
【００９４】 従って、本発明の排ガス処理システムにおける広範な実施において考慮される
洗浄ユニット処理は処理される特別なガス流に適当などのような洗浄媒体でも利
用することが可能である。
洗浄ユニット処理は処理される特別なガス流に適当などのような洗浄媒体でも利
用することが可能である。
【００９５】 または、湿式洗浄の代わりに、洗浄は乾式処理で実施されても良い。
【００９６】 そのような目的のためには、広範なガス乾式浄化材料が商業的に容易に利用可
能であり、本発明と当業者の広範な実施の目的のために利用することができる。
能であり、本発明と当業者の広範な実施の目的のために利用することができる。
【００９７】 本発明で利用される洗浄ユニットは、適当な形態であって、処理における固形
物の目詰まりを最小化するように構成されていてもよい。
物の目詰まりを最小化するように構成されていてもよい。
【００９８】 このように本発明の排ガス処理システムは、確認的に構成要素の処理ユニット
に応じて広く変更可能である。
に応じて広く変更可能である。
【００９９】 そのような構成要素の処理ユニットは、熱酸化剤、触媒酸化剤、フレーム酸化
剤、透明酸化剤、酸化可能な湿式洗浄剤（水相で効果的に酸化しうること）また
は他の排ガス流成分中の成分を酸化させるに効果的な処理ユニットを含むかもし
れない。
剤、透明酸化剤、酸化可能な湿式洗浄剤（水相で効果的に酸化しうること）また
は他の排ガス流成分中の成分を酸化させるに効果的な処理ユニットを含むかもし
れない。
【０１００】 上記したように、排ガス処理システムは、後段の酸化や洗浄処理に先立ち排ガ
ス流中の成分のいくつかを最初に効果的に軽減するために、水性媒体または化学
中和成分、または乾式洗浄成分と接する上流設備からの排ガス流における前段処
理ユニットを含んでいてもよい。
ス流中の成分のいくつかを最初に効果的に軽減するために、水性媒体または化学
中和成分、または乾式洗浄成分と接する上流設備からの排ガス流における前段処
理ユニットを含んでいてもよい。
【０１０１】 後に詳しく説明するように、酸化ユニットは、主浄化ユニットとともに統合化
される急冷帯に対し熱い排ガスを排出するように構成されていてもよく、これに
よって酸化剤ユニットからの排ガスの温度が効果的な後処理のために顕著に減少
させられる。
される急冷帯に対し熱い排ガスを排出するように構成されていてもよく、これに
よって酸化剤ユニットからの排ガスの温度が効果的な後処理のために顕著に減少
させられる。
【０１０２】 ユニットは、ポンプ、ファン、コンプレッサ、タービン等の能動手段や、エダ
クターや吸引装置等のような受動動流ドライバを利用してもよい。
クターや吸引装置等のような受動動流ドライバを利用してもよい。
【０１０３】 本発明の排ガス処理システムは、洗浄、多様な中和プロセス、酸性成分の除去
、または所望のｐＨレベルの達成、排ガス処理システムからの水の排出目的で、
水性媒体の使用と連動して使用することがさらに可能である。
、または所望のｐＨレベルの達成、排ガス処理システムからの水の排出目的で、
水性媒体の使用と連動して使用することがさらに可能である。
【０１０４】 更なる変形例として、本発明の排ガス処理システムは、排ガス流の処理におい
て、フルーム／プルーム制御のための湿式電気集塵機を含んでいてもよい。
て、フルーム／プルーム制御のための湿式電気集塵機を含んでいてもよい。
【０１０５】 本発明の排ガス処理システムにおける多様な側面の設計や構成について、以下
に説明する。
に説明する。
【０１０６】 酸化剤ユニットは、酸化ユニットの温度制御処理のために、適当な温度制御と
温度追跡を備えていてもよい。
温度追跡を備えていてもよい。
【０１０７】 排ガス処理システムは、ガス流が酸化ユニットに入る前にできるだけの酸性ガ
スと粒子をガス流から除去するように構成されており、これによって下流の層値
における要求負荷を軽減している。
スと粒子をガス流から除去するように構成されており、これによって下流の層値
における要求負荷を軽減している。
【０１０８】 上述したように、そのような前段処理ユニットは、湿式洗浄ユニットまたは交
替的に乾式洗浄ユニット、または湿式および乾式洗浄ユニットの構成要素を備え
る湿式および乾式混合洗浄アセンブリを備えていてもよい。
替的に乾式洗浄ユニット、または湿式および乾式洗浄ユニットの構成要素を備え
る湿式および乾式混合洗浄アセンブリを備えていてもよい。
【０１０９】 潜在的に有用な湿式洗浄システムは、湿式サイクロン、湿式包装塔、および湿
式スプレー塔を含んでいる。
式スプレー塔を含んでいる。
【０１１０】 そのような湿式塔は、共有流または反流方式のいずれかで動作しいていてもよ
い。
い。
【０１１１】 排ガス流処理システムの前段処理ユニットは、例えば、塔の下部において噴霧
された洗浄水を導入するために、窒素補助噴霧ノズルを備えていてもよい。
された洗浄水を導入するために、窒素補助噴霧ノズルを備えていてもよい。
【０１１２】 もし化学添加物が好ましい場合であれば、適当な化学容量と寸法を有する流体
ベースのインラインスタティック混合器などの手段を利用することによって化学
混合が実施されてもよい。
ベースのインラインスタティック混合器などの手段を利用することによって化学
混合が実施されてもよい。
【０１１３】 窒素補助水噴霧は、排ガス処理システムの水消費量を最小化し、排ガス成分が
酸化ユニットの上流にある空気と反応することを防止するために、有利に利用さ
れる。
酸化ユニットの上流にある空気と反応することを防止するために、有利に利用さ
れる。
【０１１４】 湿式処理ユニット処理のようなものからの流体は、これから詳しく述べられる
ように、浄化／急冷等の統合された部分として設計された共通のリザーバに流れ
る。
ように、浄化／急冷等の統合された部分として設計された共通のリザーバに流れ
る。
【０１１５】 さらなる変形例として、湿式スプレー前処理工程が、酸性ガスの吸収と粒子の
除去を効果的にするために、スプレーで供給されるベンチュリ管ノズルでの処理
と置き換えられてもよい。
除去を効果的にするために、スプレーで供給されるベンチュリ管ノズルでの処理
と置き換えられてもよい。
【０１１６】 このように、酸化ユニットの上流にある湿式洗浄ユニットの適用において本発
明は、酸化ユニットにおいて存在する条件のもと粒子形成剤である排ガス流成分
を洗浄することにより酸化ユニット中の粒子形成を制御する能力を供給している
。
明は、酸化ユニットにおいて存在する条件のもと粒子形成剤である排ガス流成分
を洗浄することにより酸化ユニット中の粒子形成を制御する能力を供給している
。
【０１１７】 上記に示される酸化ユニットは適当な形態を備えていればよい。
【０１１８】 例えば、酸化ユニットは、ヒーター表面と熱された管との間の大ギャップを有
する広角の二枚貝型電気放射ヒーターを利用している電熱酸化装置によって構成
されていてもよい。
する広角の二枚貝型電気放射ヒーターを利用している電熱酸化装置によって構成
されていてもよい。
【０１１９】 特定の実施例の中では、酸化ユニットは、排ガスがスパージャーを通して導入
され、排ガスが実際に酸化チャンバー中にあるまで反応を抑えるための窒素さや
を備える、単一の垂直熱管を備えていてもよい。
され、排ガスが実際に酸化チャンバー中にあるまで反応を抑えるための窒素さや
を備える、単一の垂直熱管を備えていてもよい。
【０１２０】 一度酸化チャンバー中に入ると、空気または他の酸化剤媒体は覆われた排ガス
流とともに同軸に流れるように射出されうる。
流とともに同軸に流れるように射出されうる。
【０１２１】 排ガス導入手段は、好ましくは、異方運動層流を近似的にシミュレーション可
能に構成されており、再循環帯、渦、停滞帯及び酸化ユニット操作中における粒
子の体積を生じうる他の異常な流体の振る舞いを防止しうる。
能に構成されており、再循環帯、渦、停滞帯及び酸化ユニット操作中における粒
子の体積を生じうる他の異常な流体の振る舞いを防止しうる。
【０１２２】 そのような酸化ユニット中の熱管は、適当な熱制御手段により、所望の操作温
度体制を達成するために、選択的に制御されうる。
度体制を達成するために、選択的に制御されうる。
【０１２３】 酸化ユニット中における酸化成分の発火と破壊を達成するために、最小温度条
件が要求されるところ、過剰な高温はまた管壁表面における粒子の集積と体積を
促進しうる。
件が要求されるところ、過剰な高温はまた管壁表面における粒子の集積と体積を
促進しうる。
【０１２４】 それゆえに、熱管酸化ユニットは、酸化ユニットを通して流れる排ガス流中に
おける乱流に対し流体の流れの遷移を促進することにより、管の側壁に粒子が集
積することを防止する熱伝導強化挿入物を利用可能である。
おける乱流に対し流体の流れの遷移を促進することにより、管の側壁に粒子が集
積することを防止する熱伝導強化挿入物を利用可能である。
【０１２５】 代わりに、酸化ユニットは、高ガス流粘性を備えるために何束もの熱交換管を
備え、これにより管の壁面に粒子が集積するのを防止することも可能である。
備え、これにより管の壁面に粒子が集積するのを防止することも可能である。
【０１２６】 そのような熱交換管の束においても、酸化ユニットの単一垂直熱管構成との関
連で、上記したように熱交換増加挿入物を利用することが可能である。
連で、上記したように熱交換増加挿入物を利用することが可能である。
【０１２７】 さらに別の選択肢として、酸化ユニットは、高ガス流粘性と、連続的な螺旋状
のガス流路を介してガス流中の粒子の集積が最大限になる間の長期滞留時間とに
順応する、多数堰を有する螺旋形管を利用可能である。
のガス流路を介してガス流中の粒子の集積が最大限になる間の長期滞留時間とに
順応する、多数堰を有する螺旋形管を利用可能である。
【０１２８】 このようなアレンジは、後のガス流からの固形物の除去が容易に実施される点
に対し粒子のサイズを増加させるかもしれない。
に対し粒子のサイズを増加させるかもしれない。
【０１２９】 酸化ユニットの構成材料は、処理される排ガス流における特別な化学成分に十
分留意するならばいかなる構成材料をも利用可能である。
分留意するならばいかなる構成材料をも利用可能である。
【０１３０】 適当な材料としては、ＨＦとＨＣｌに対する良好な耐性特性を備える高温酸化
耐性合金を含む。
耐性合金を含む。
【０１３１】 パーフルオロカーボン成分の破壊を避けるために、酸化ユニットは還元環境の
中で操作してもよく、適当な合金が、そのような還元条件に耐えるための構成材
料として利用される。
中で操作してもよく、適当な合金が、そのような還元条件に耐えるための構成材
料として利用される。
【０１３２】 この点で、本発明の排ガス処理システムは、パーフルオロカーボン成分を回復
するため、それや他の拡散物を再利用するためのユニットを利用可能である。
するため、それや他の拡散物を再利用するためのユニットを利用可能である。
【０１３３】 更なるバリエーションとして、酸化ユニットは、空気や他の酸化剤媒体を排ガ
ス流と混合するための高温まで熱するために、電気的に熱せされるヒーターで構
成されていてもよい。
ス流と混合するための高温まで熱するために、電気的に熱せされるヒーターで構
成されていてもよい。
【０１３４】 そのような構成は、いくつかの例では、酸化剤と接触し混合された上での排ガ
ス流における酸化成分の自己点火として提供されており、これま全体的な酸化ユ
ニットの酸化効率を増加させる。
ス流における酸化成分の自己点火として提供されており、これま全体的な酸化ユ
ニットの酸化効率を増加させる。
【０１３５】 まだもう一つのバリエーションとして、酸化ユニットは、透明な酸化ユニット
として造られうる。
として造られうる。
【０１３６】 酸化ユニットは、高い温度にある酸化させられた排ガス流を生産する。そのよ
うな熱い流れは、冷却させられるか、以降の処理のための温度及び排ガス処理シ
ステムからの最終的な発射を減らすためにしたがって、涼しくなっている。
うな熱い流れは、冷却させられるか、以降の処理のための温度及び排ガス処理シ
ステムからの最終的な発射を減らすためにしたがって、涼しくなっている。
【０１３７】 したがって、排ガス処理システムは、下流に酸化ユニットの中で急冷ユニット
を含むかもしれない。急冷ユニットが、水か他の急冷媒体と酸化ユニットからの
熱い排ガスと接触するために、例えば、空気で補助された水噴霧ノズルを備えた
一つの垂直な管を含んでいてもよい。
を含むかもしれない。急冷ユニットが、水か他の急冷媒体と酸化ユニットからの
熱い排ガスと接触するために、例えば、空気で補助された水噴霧ノズルを備えた
一つの垂直な管を含んでいてもよい。
【０１３８】 良く定義された熱/冷インタフェースを提供するために、溢流堰インタフェー
ス構造は、急冷セクションの中で提供してもよい。急冷ユニットは、侵食耐性の
あるdewpointのようなものは許す適当な合金から造られうる。例は、Al6XN、カ
ーペンター20、HaC-22及びHaB合金を含む。急冷ユニットは、排ガス処理システ
ムの他のプロセス・ユニットに対する反対の熱効果を最小にするために望ましく
造られる。
ス構造は、急冷セクションの中で提供してもよい。急冷ユニットは、侵食耐性の
あるdewpointのようなものは許す適当な合金から造られうる。例は、Al6XN、カ
ーペンター20、HaC-22及びHaB合金を含む。急冷ユニットは、排ガス処理システ
ムの他のプロセス・ユニットに対する反対の熱効果を最小にするために望ましく
造られる。
【０１３９】 ユニットが代わりにshell-sideで冷やされる水供給で、フィルム酸性の吸収コ
ラムを落しているmulti-tube co-flowを含むかもしれない急冷が、熱移転を生じ
る。
ラムを落しているmulti-tube co-flowを含むかもしれない急冷が、熱移転を生じ
る。
【０１４０】 酸化ユニット及び急冷ユニットは、一つの垂直なオリエンテーションの中で変
則の流量動作及び粒子蓄積を最小にする単位の線形のガス流量パスを提供するた
めに整列してもよい。
則の流量動作及び粒子蓄積を最小にする単位の線形のガス流量パスを提供するた
めに整列してもよい。
【０１４１】 静かな更なる選択肢として、急冷ユニットは、spray-fedされたベンチュリ管
急冷装置によって、消失及び粒子除去目的のために構成してもよい。
急冷装置によって、消失及び粒子除去目的のために構成してもよい。
【０１４２】 本発明の排ガス処理システムは、下流に酸化ユニットの中でガス洗浄装置を利
用してもよい。コラム及びデフ・パッドのトップか他のdemistingしている手段
の上の液体の注入多様性でそのようなガス洗浄装置は、一つの垂直な包まれた塔
を含むかもしれない。冷やしてもよい。該当する温度で、その排ガスに関して酸
化ユニットから射出してもよい。及び消失か事前の冷却を上流にそのガス洗浄装
置の中で選択的に受けるかもしれない液体のフィード水で、その売春婦は、食事
させられうる。したがって、そのガス洗浄装置は、ガス洗浄装置塔及び前冷却の
隣に、洗浄している水か他の水の洗浄媒体を立てることができるチラーを取り入
れうる。残された霧（小さいサイズ水小滴）を最小にするか、除去するためにデ
フ・パッドの使用か類似した機械の手段の代わりに、その発明の実行の中のガス
洗浄ユニットは、より大きい小滴水「圧倒的な」ス前段で、そのガス流から霧成
分を除去するために接触するガス流を服従させることによるそのような霧成分を
最小にするか、実質的に除去するため流体力学的に造られうる。
用してもよい。コラム及びデフ・パッドのトップか他のdemistingしている手段
の上の液体の注入多様性でそのようなガス洗浄装置は、一つの垂直な包まれた塔
を含むかもしれない。冷やしてもよい。該当する温度で、その排ガスに関して酸
化ユニットから射出してもよい。及び消失か事前の冷却を上流にそのガス洗浄装
置の中で選択的に受けるかもしれない液体のフィード水で、その売春婦は、食事
させられうる。したがって、そのガス洗浄装置は、ガス洗浄装置塔及び前冷却の
隣に、洗浄している水か他の水の洗浄媒体を立てることができるチラーを取り入
れうる。残された霧（小さいサイズ水小滴）を最小にするか、除去するためにデ
フ・パッドの使用か類似した機械の手段の代わりに、その発明の実行の中のガス
洗浄ユニットは、より大きい小滴水「圧倒的な」ス前段で、そのガス流から霧成
分を除去するために接触するガス流を服従させることによるそのような霧成分を
最小にするか、実質的に除去するため流体力学的に造られうる。
【０１４３】 それによって、一般に行われている周囲の関連している湿気条件の下で、水蒸
気の量を減らすために下記の周囲温度に排ガス流を冷やすために例えば排ガス流
がツールを製作している半導体から生じるとき、操作を製作している半導体の環
境の中で、ガス洗浄の中の冷やした水の使用は、望ましい。また、冷やした水の
使用が、thermophoreticを導入するために望ましい、酸性のガス吸収及び微粒子
の吸収を包まれたコラムの中で改良するために生じる。
気の量を減らすために下記の周囲温度に排ガス流を冷やすために例えば排ガス流
がツールを製作している半導体から生じるとき、操作を製作している半導体の環
境の中で、ガス洗浄の中の冷やした水の使用は、望ましい。また、冷やした水の
使用が、thermophoreticを導入するために望ましい、酸性のガス吸収及び微粒子
の吸収を包まれたコラムの中で改良するために生じる。
【０１４４】 代わりのガス洗浄ユニットは、吸収コラムのshell-sideを供給している冷やし
た水で、落ちているフィルム酸性の吸収コラムを含む。そのようなガス洗浄ユニ
ットで、前処理のユニット、その渇きをいやすもの及びそのガス洗浄ユニットか
らの液体は、共通のリザーバへのガス洗浄装置コラムの底の流出に流してもよい
。そのような方法では、排ガス処理システムからの使われる液体の流れはまとめ
られる及び、それについて、そのようなリザーバは重力フィード操作のために配
置してもよい。
た水で、落ちているフィルム酸性の吸収コラムを含む。そのようなガス洗浄ユニ
ットで、前処理のユニット、その渇きをいやすもの及びそのガス洗浄ユニットか
らの液体は、共通のリザーバへのガス洗浄装置コラムの底の流出に流してもよい
。そのような方法では、排ガス処理システムからの使われる液体の流れはまとめ
られる及び、それについて、そのようなリザーバは重力フィード操作のために配
置してもよい。
【０１４５】 代わりに、排ガス処理システムの中の組成のプロセス・ユニットからの洗浄し
ている液体の及び他の液体の流れは、気圧調節をしてもよい。か、そのシステム
から、遠心力のポンプか、臑動ポンプか、空気ポンプか、水-供給された引き出
すものか他の適当な液体の行動を起こさせるドライバー手段のような手段を適当
にポンプで揚げることによって射出した。
ている液体の及び他の液体の流れは、気圧調節をしてもよい。か、そのシステム
から、遠心力のポンプか、臑動ポンプか、空気ポンプか、水-供給された引き出
すものか他の適当な液体の行動を起こさせるドライバー手段のような手段を適当
にポンプで揚げることによって射出した。
【０１４６】 包まれたコラム・ガス洗浄装置の中で、デフは使用してもよい。そこに処理さ
れていた流体の流れの中で、該当する抵抗するキャラクタのコーティングを腐食
性の種と関係があるようにして、排ガス処理システムの他の成分と同様に、ガス
洗浄装置コラムは、金属合金のような、どんな適当な材料かでもおおわれている
構造上の鋼であるか他の金属の中で作り上げられうる。
れていた流体の流れの中で、該当する抵抗するキャラクタのコーティングを腐食
性の種と関係があるようにして、排ガス処理システムの他の成分と同様に、ガス
洗浄装置コラムは、金属合金のような、どんな適当な材料かでもおおわれている
構造上の鋼であるか他の金属の中で作り上げられうる。
【０１４７】 本発明の排ガス処理システムは、どちらでも造られうる。か、使われる液体の
再循環に対する準備なしで流れる。言及されるように、そのガス洗浄ユニットは
乾いたガス洗浄装置を含むかもしれない及び、そのガス洗浄ユニット及び渇きを
いやすものユニットを乾いたガス洗浄装置カートリッジ・ユニットと取り替える
ことはいくらかの例の中で実行可能かもしれない。また、ウェット又はドライ化
学の注入の使用をそのガス洗浄ユニットに許すためにそのガス洗浄装置は、オプ
ションの化学の前処理のユニットを備えているかもしれない。
再循環に対する準備なしで流れる。言及されるように、そのガス洗浄ユニットは
乾いたガス洗浄装置を含むかもしれない及び、そのガス洗浄ユニット及び渇きを
いやすものユニットを乾いたガス洗浄装置カートリッジ・ユニットと取り替える
ことはいくらかの例の中で実行可能かもしれない。また、ウェット又はドライ化
学の注入の使用をそのガス洗浄ユニットに許すためにそのガス洗浄装置は、オプ
ションの化学の前処理のユニットを備えているかもしれない。
【０１４８】 引き出す人は、排ガス処理システムを通して排ガス流に描く行動を起こさせる
力を提供するために使用してもよい。そのような引き出すものは、腐食に抵抗力
がある及びplug-resistantなデザイン（変調している弁及び制御で、きれいな、
乾いた空気であるか他の流体の引き出されたものを利用する）の中で、好んで排
ガス処理システムに好ましい圧力レベルで該当するインレット圧力を提供するこ
とである。処理システムに従事するとき、また、その引き出すものはそのスクラ
バーから水蒸気飽和した排出ストリームまで、熱い乾いた空気の流れを供給する
ために使用してもよい。このように、熱い乾いた空気のそのような準備は、周囲
の飽和した条件の下で排ガス流の関連している湿気を下げるのに役立つ。その引
き出すものは、空気か、窒素か他の適当なeductingしている媒体を利用してもよ
い。
力を提供するために使用してもよい。そのような引き出すものは、腐食に抵抗力
がある及びplug-resistantなデザイン（変調している弁及び制御で、きれいな、
乾いた空気であるか他の流体の引き出されたものを利用する）の中で、好んで排
ガス処理システムに好ましい圧力レベルで該当するインレット圧力を提供するこ
とである。処理システムに従事するとき、また、その引き出すものはそのスクラ
バーから水蒸気飽和した排出ストリームまで、熱い乾いた空気の流れを供給する
ために使用してもよい。このように、熱い乾いた空気のそのような準備は、周囲
の飽和した条件の下で排ガス流の関連している湿気を下げるのに役立つ。その引
き出すものは、空気か、窒素か他の適当なeductingしている媒体を利用してもよ
い。
【０１４９】 また、そのような射出されたガスの中のすばらしい微粒子の捕獲のために引き
出すもの荷揚げの濾過法を許すためにその引き出すものは、適当な濾過法モジュ
ールに結びつけられうる。
出すもの荷揚げの濾過法を許すためにその引き出すものは、適当な濾過法モジュ
ールに結びつけられうる。
【０１５０】 本発明の排ガス処理システムは、多種多様な上流のプロセス設備から排ガス流
の処理のために利用してもよい。例えば、排ガス処理システムの中で処理された
排ガスは、ウェハースが、そのツールの以降の清掃でチャンバー壁、台要素及び
ツール組立部品の電極から、過剰なタングステン沈澱物を除去するためにその上
にタングステンを置くために処理されるプラントを製作している半導体のタング
ステンCVDツールから、廃水を含むかもしれない。
の処理のために利用してもよい。例えば、排ガス処理システムの中で処理された
排ガスは、ウェハースが、そのツールの以降の清掃でチャンバー壁、台要素及び
ツール組立部品の電極から、過剰なタングステン沈澱物を除去するためにその上
にタングステンを置くために処理されるプラントを製作している半導体のタング
ステンCVDツールから、廃水を含むかもしれない。
【０１５１】 多種多様な化学物及び廃水が半導体製造設備の操作の中で生成してもよい。こ
とは、及びその建設、配置及びその発明のシステムが広く変えられうる。排ガス
処理の操作が上流のプロセス設備のそのツール及び製作している操作から射出さ
れたガスの処理を生じることは、認められる。
とは、及びその建設、配置及びその発明のシステムが広く変えられうる。排ガス
処理の操作が上流のプロセス設備のそのツール及び製作している操作から射出さ
れたガスの処理を生じることは、認められる。
【０１５２】 今をその図面に委託して、図1-3は発明（投げつけられたライン表現の中で図3
の中でガスのためにその発明のもう一つの実施例に記載のそのフローシートのバ
リエーションに排流処理システムを見せる）の1つの実施例に記載のガス排流処
理システム10のための概要のフローシートの連続的なセクションである。
の中でガスのためにその発明のもう一つの実施例に記載のそのフローシートのバ
リエーションに排流処理システムを見せる）の1つの実施例に記載のガス排流処
理システム10のための概要のフローシートの連続的なセクションである。
【０１５３】 引き続いて起こる発表の中で、その図面の中でそのような目的のためにおおま
かに写真入りの形式に翻訳された発明の顕著な特徴の議論を容易にするために弁
、計測及び補助の制御手段は明快さのためにいろいろに省略された。それが、認
められる、笛を吹く、弁で調節する、計測及び制御手段は、いろいろに構成して
もよい。及び、その技術の技術の範囲内で本発明の幅広い実行の中でインプリメ
ントしてもよい。
かに写真入りの形式に翻訳された発明の顕著な特徴の議論を容易にするために弁
、計測及び補助の制御手段は明快さのためにいろいろに省略された。それが、認
められる、笛を吹く、弁で調節する、計測及び制御手段は、いろいろに構成して
もよい。及び、その技術の技術の範囲内で本発明の幅広い実行の中でインプリメ
ントしてもよい。
【０１５４】 そのフローシートの図1つのセクションは冷やした水熱交を特徴とする、ある
いは、そこにすっかり水を冷やした熱交換通過14を含んでいるチラー12は第16行
から流される及び第18行の中で射出される。
いは、そこにすっかり水を冷やした熱交換通過14を含んでいるチラー12は第16行
から流される及び第18行の中で射出される。
【０１５５】 第16行は、そこに弁26を含んでいる第24行の水抜きをするために加わられる。
ライン16及び18は、そのチラーの効果を最大にするために適当に絶縁してもよい
。示されるように、第30行の中の水はチラー12を通して流される及び種々のライ
ン（その水が1つの部分で流れられていた第34行の中で2つの部分に分割される）
32に、そのシステムを渡される及び、もう一方は第36行の中でス前段頭38に排ガ
ス流への紹介のために前処理のコラム40を渡されることを分ける。
ライン16及び18は、そのチラーの効果を最大にするために適当に絶縁してもよい
。示されるように、第30行の中の水はチラー12を通して流される及び種々のライ
ン（その水が1つの部分で流れられていた第34行の中で2つの部分に分割される）
32に、そのシステムを渡される及び、もう一方は第36行の中でス前段頭38に排ガ
ス流への紹介のために前処理のコラム40を渡されることを分ける。
【０１５６】 排ガスは、第62行の中で導入される及び前処理のコラム40に移った。第62行は
熱追跡64でその長さに沿って絶縁してもよい。及び、絶縁された熱たどられたキ
ャラクタの、枝ライン66は図2の中で示されたフローシートの次のセクションに
移るかもしれない。
熱追跡64でその長さに沿って絶縁してもよい。及び、絶縁された熱たどられたキ
ャラクタの、枝ライン66は図2の中で示されたフローシートの次のセクションに
移るかもしれない。
【０１５７】 第42行がプロセス・システムのためのオキシダント・ガス・フィード・ライン
である、第44行はきれいな乾いた空気のラインである及び、第46行は示された枝
として窒素にその水に前処理のコラム40に流されていた第36行の中で、窒素を導
入するために第47行を供給してもよい。窒素供給ラインである。オキシダント・
ガス・フィード第42行は、酸素か、オゾンか、空気か、酸素-富ませられた空気
か、一重項酸素か他のオキシダント・ガスのようなオキシダント・ガスの適当な
源（示された）につながれうる。
である、第44行はきれいな乾いた空気のラインである及び、第46行は示された枝
として窒素にその水に前処理のコラム40に流されていた第36行の中で、窒素を導
入するために第47行を供給してもよい。窒素供給ラインである。オキシダント・
ガス・フィード第42行は、酸素か、オゾンか、空気か、酸素-富ませられた空気
か、一重項酸素か他のオキシダント・ガスのようなオキシダント・ガスの適当な
源（示された）につながれうる。
【０１５８】 排ガス流は、コラムインレットセクション50への第62行の中で導入される及び
窒素の追加によって枝第48行もしもから及び好ましい範囲に増やしてもよい。排
ガス流は、前段・コラム40の中で図3の中でそのフローシートの部分に渡される
第60行の中で、底を生産するために扱う。図2の中でリアクター90に渡される第6
8行の中で、その上の終わり52のコラムは、オーバーヘッドを生産する。そのオ
ーバーヘッドの部分は第56行の中でそのコラムにリサイクルしてもよい。及び、
示されるように、更なる還液はその第58行によって適応させられうる。 図2の中で、システム116は、結合されていた枝導管108からの第44行からの第42
行及び選択的にきれいな乾いた空気の中のオキシダント・ガス（例えば、酸素、
オゾン、その他）でそのリアクターの上の終わりに渡される第110行の中で、酸
素-含んでいるオキシダント・ガスを提供するためにその上の終わりでライン46
から窒素を受け取っている酸化リアクター90を含む。
窒素の追加によって枝第48行もしもから及び好ましい範囲に増やしてもよい。排
ガス流は、前段・コラム40の中で図3の中でそのフローシートの部分に渡される
第60行の中で、底を生産するために扱う。図2の中でリアクター90に渡される第6
8行の中で、その上の終わり52のコラムは、オーバーヘッドを生産する。そのオ
ーバーヘッドの部分は第56行の中でそのコラムにリサイクルしてもよい。及び、
示されるように、更なる還液はその第58行によって適応させられうる。 図2の中で、システム116は、結合されていた枝導管108からの第44行からの第42
行及び選択的にきれいな乾いた空気の中のオキシダント・ガス（例えば、酸素、
オゾン、その他）でそのリアクターの上の終わりに渡される第110行の中で、酸
素-含んでいるオキシダント・ガスを提供するためにその上の終わりでライン46
から窒素を受け取っている酸化リアクター90を含む。
【０１５９】 第34行の中の水は、枝ライン（図3の中で示されたシステムのセクション120に
渡される）96への多様性94で及び枝ライン（流体の流れが第44行の枝ライン97か
らのきれいな乾いた空中のそばで増やしてもよい。及び酸化リアクター90の中で
ノズル102に移った）98に分けられる。きれいな乾いた空気の余りは、第112行の
中でプロセス・システムの図3つの部分に流される。
渡される）96への多様性94で及び枝ライン（流体の流れが第44行の枝ライン97か
らのきれいな乾いた空中のそばで増やしてもよい。及び酸化リアクター90の中で
ノズル102に移った）98に分けられる。きれいな乾いた空気の余りは、第112行の
中でプロセス・システムの図3つの部分に流される。
【０１６０】 また、酸化リアクターは、インレット92を通してリアクター船の中間の部分で
、第100行から水を受け取るために配置される。通過86がそこに送電線（ヒータ
ー88が第68行の中で酸化リアクターに導入された排ガス流の熱酸化のために、そ
のリアクターの電気の抵抗加熱を提供するために動かされる）80の枝ライン82及
び84に結びつけた熱交換を含んで、そのリアクターは、リアクター・ヒーター88
を特徴とする。示されるように、酸化リアクターはそれについて上の及び下部の
終わりを相互に連結させている再循環第106行を備えているかもしれない。その
リアクターからの廃水は、第104行の中でプロセス・システムの図3つの部分に流
される。
、第100行から水を受け取るために配置される。通過86がそこに送電線（ヒータ
ー88が第68行の中で酸化リアクターに導入された排ガス流の熱酸化のために、そ
のリアクターの電気の抵抗加熱を提供するために動かされる）80の枝ライン82及
び84に結びつけた熱交換を含んで、そのリアクターは、リアクター・ヒーター88
を特徴とする。示されるように、酸化リアクターはそれについて上の及び下部の
終わりを相互に連結させている再循環第106行を備えているかもしれない。その
リアクターからの廃水は、第104行の中でプロセス・システムの図3つの部分に流
される。
【０１６１】 図3は、プロセス・システムの部分120を含む及び第96行の中でノズル126に導
入される水で、ガス洗浄のために内部のボリューム128を定義しているガス洗浄
装置124を含む。排ガス流は、そのガス洗浄装置に第104行の中で導入される。第
132行の中のガス洗浄装置蒸留残渣は、ライン60の中の排ガス流前段処理からの
液体でつながれる、そのシステムから射出される及びそのような液体の廃水処理
か他の終わり使用配置に渡される。
入される水で、ガス洗浄のために内部のボリューム128を定義しているガス洗浄
装置124を含む。排ガス流は、そのガス洗浄装置に第104行の中で導入される。第
132行の中のガス洗浄装置蒸留残渣は、ライン60の中の排ガス流前段処理からの
液体でつながれる、そのシステムから射出される及びそのような液体の廃水処理
か他の終わり使用配置に渡される。
【０１６２】 おおまかに示されるように、第112行から処理システム廃水を生産するために
きれいな乾いた空気を供給される引き出すもの144への流れられる第130行の中で
、洗浄されたオーバーヘッドは排出150に第146行を渡される。その廃水が、その
追加によってそれにライン66からのバイパス煙霧及びそのような第66行の中で増
やしてもよい。、言及される、熱追跡する及び絶縁する。
きれいな乾いた空気を供給される引き出すもの144への流れられる第130行の中で
、洗浄されたオーバーヘッドは排出150に第146行を渡される。その廃水が、その
追加によってそれにライン66からのバイパス煙霧及びそのような第66行の中で増
やしてもよい。、言及される、熱追跡する及び絶縁する。
【０１６３】 ポンプ136が第132行の中でインレットを通して液体の底をリサイクルするため
に展開されるその点では、液体のライン（液体のリサイクルの処理によってそこ
に洗浄している操作を改良するために液体のリサイクルがライン96の中で洗浄し
ている水でつながれる）134を射出するために第138行をポンプで揚げる。と、図
3が投げつけられたライン表現の中で修正に明らかにする。それから、扱われた
液体は、そのシステムからそこに弁142を含んでいる第140行の中で射出される。
に展開されるその点では、液体のライン（液体のリサイクルの処理によってそこ
に洗浄している操作を改良するために液体のリサイクルがライン96の中で洗浄し
ている水でつながれる）134を射出するために第138行をポンプで揚げる。と、図
3が投げつけられたライン表現の中で修正に明らかにする。それから、扱われた
液体は、そのシステムからそこに弁142を含んでいる第140行の中で射出される。
【０１６４】 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排流処理システムの概要の
フローシートである。このシステムの中で、ガス放流河川は、ライン160、162、
164及び166の中で導入される及びそれから通過180がライン178に接続した熱交換
を含んでいる両替商182が生じる熱に、まとめられた流れの熱交換を渡されるラ
イン184の中で、結合された排ガス流を形式につないだ。それから、熱-交換され
た排ガス流は、第212行の中で排ガス流前処理コラム210に渡してもよい。代わり
に、希望する場合、排ガス流の一部または全体は、処理システムから迂回しても
よい。及び第186行の中で排出256までたれた。 冷やした水熱交かチラー174は、ライン168の中の冷やした水フィードを受ける及
び帰りの冷える水をリターン第172行の中で射出する。第170行の中の水は、その
チラーを通り抜ける及び第224行の中で主な窒素フィード・ライン216からの枝第
222行の中の窒素でつながれる及び前処理のコラム210の中でノズル226を通して
射出される。追加の窒素は、前処理のコラム210に第220行の中で主な窒素フィー
ド第216行から導入してもよい。
フローシートである。このシステムの中で、ガス放流河川は、ライン160、162、
164及び166の中で導入される及びそれから通過180がライン178に接続した熱交換
を含んでいる両替商182が生じる熱に、まとめられた流れの熱交換を渡されるラ
イン184の中で、結合された排ガス流を形式につないだ。それから、熱-交換され
た排ガス流は、第212行の中で排ガス流前処理コラム210に渡してもよい。代わり
に、希望する場合、排ガス流の一部または全体は、処理システムから迂回しても
よい。及び第186行の中で排出256までたれた。 冷やした水熱交かチラー174は、ライン168の中の冷やした水フィードを受ける及
び帰りの冷える水をリターン第172行の中で射出する。第170行の中の水は、その
チラーを通り抜ける及び第224行の中で主な窒素フィード・ライン216からの枝第
222行の中の窒素でつながれる及び前処理のコラム210の中でノズル226を通して
射出される。追加の窒素は、前処理のコラム210に第220行の中で主な窒素フィー
ド第216行から導入してもよい。
【０１６５】 きれいな乾いた空気はそのシステムにライン176の中で導入される及び、それ
についてそれについて、部分は第240行の中で上の終わりで、窒素と共に第216行
の中でリアクター198に渡してもよい。オゾンのような酸素か他のオキシダント
・ガスは、そのリアクターに第214行の中で導入される。そのリアクターは、第2
30行の中で前処理のコラム210からそのオーバーヘッドを受け取る。示されるよ
うに、送電線218はリアクター198の電気の抵抗ヒーター200に、エネルギーを提
供する。
についてそれについて、部分は第240行の中で上の終わりで、窒素と共に第216行
の中でリアクター198に渡してもよい。オゾンのような酸素か他のオキシダント
・ガスは、そのリアクターに第214行の中で導入される。そのリアクターは、第2
30行の中で前処理のコラム210からそのオーバーヘッドを受け取る。示されるよ
うに、送電線218はリアクター198の電気の抵抗ヒーター200に、エネルギーを提
供する。
【０１６６】 その上の終わりで酸化リアクター198を含んでいる船の急冷部分はインレット2
08で第202行から水を受け取る及び、水及びきれいな乾いた空気と混合は第204行
の中でノズル206にその船の急冷部分の中で導入される。その船の急冷部分は、
売春婦194と通信する。その上の終わりのガス洗浄装置は、ノズル196で第192行
から水を受け取る。
08で第202行から水を受け取る及び、水及びきれいな乾いた空気と混合は第204行
の中でノズル206にその船の急冷部分の中で導入される。その船の急冷部分は、
売春婦194と通信する。その上の終わりのガス洗浄装置は、ノズル196で第192行
から水を受け取る。
【０１６７】 そのガス洗浄装置からのオーバーヘッド・ガスは、第250行の中で第250行の中
で引き出すもの252に渡される。その引き出すものは、第259行の中で第240行か
らきれいな乾いた空気を受け取る。それから、第254行の中のeductedされた流れ
は、第186行からのどんな迂回された排ガスででもつながれる及び第258行の中で
処理システムの排出256に流される。
で引き出すもの252に渡される。その引き出すものは、第259行の中で第240行か
らきれいな乾いた空気を受け取る。それから、第254行の中のeductedされた流れ
は、第186行からのどんな迂回された排ガスででもつながれる及び第258行の中で
処理システムの排出256に流される。
【０１６８】 排ガス流前処理のコラム（ライン232及びその底を通して、ライン236の中でガ
ス洗浄装置194から除去される）210からの底は、第238行の中で加わられる及び
廃物の液体の荷揚げか他の処理に渡してもよい。
ス洗浄装置194から除去される）210からの底は、第238行の中で加わられる及び
廃物の液体の荷揚げか他の処理に渡してもよい。
【０１６９】 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要のフローシートで
ある。排ガス流は、第312行の中で前処理のコラム308に、窒素と共に第310行及
び水の中でノズル306を通して導入された第302行の中で導入される。ノズル306
への水流れは、リサイクルされた液体で第304行から増やしてもよい。前処理の
コラム308からの底は、316を通して液体の荷揚げを浪費するために通過してもよ
い。
ある。排ガス流は、第312行の中で前処理のコラム308に、窒素と共に第310行及
び水の中でノズル306を通して導入された第302行の中で導入される。ノズル306
への水流れは、リサイクルされた液体で第304行から増やしてもよい。前処理の
コラム308からの底は、316を通して液体の荷揚げを浪費するために通過してもよ
い。
【０１７０】 第314行の中の前処理のコラム・オーバーヘッドは、また、オゾンのような酸
素か他のオキシダント・ガスを第330行及び窒素の中で第328行の中で受ける酸化
リアクター334に渡される。リアクター334を含んでいる船は電気の抵抗ヒーター
332を備えている及び、急冷水は船333の下部の急冷部分に、第324行の中で導入
される。給水される、さもないと、空気/水混合は船333の急冷部分の中で、ノズ
ル322でライン（希望する場合リサイクル液体によって第318行から増やされる）
320から注射される。
素か他のオキシダント・ガスを第330行及び窒素の中で第328行の中で受ける酸化
リアクター334に渡される。リアクター334を含んでいる船は電気の抵抗ヒーター
332を備えている及び、急冷水は船333の下部の急冷部分に、第324行の中で導入
される。給水される、さもないと、空気/水混合は船333の急冷部分の中で、ノズ
ル322でライン（希望する場合リサイクル液体によって第318行から増やされる）
320から注射される。
【０１７１】 そのガス洗浄装置からの蒸留残渣は第304行の中で廃水熱交352に流される及び
、熱は冷やした水で第354行の中で交換した。
、熱は冷やした水で第354行の中で交換した。
【０１７２】 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つのフローシー
トの中で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要のフローシートで
ある。この図6つの実施例の中で、ガス洗浄装置400は洗浄されたオーバーヘッド
をライン402及び底の中で第404行の中で射出する。第430行の中で導入された水
を含んでいる洗浄している液体及び熱のための構成が熱交416の中で本線410のラ
イン412及び418の中を流れている冷やした水によって交換したように、液体の底
の部分がライン（熱交414の中で冷やした水によってライン410の中で交換された
熱）408の中でリサイクルしてもよい。及び使われうる。結果として生ずる洗浄
している液体は、ポンプ426で第424行から第428行までポンプでくみ出された船4
20から、化学物質422を液体に扱う追加によって、さらに増やされる及び第430行
からの洗浄している液体といっしょに行動する及び第406行の中でガス洗浄装置4
00の中でそのノズルに移った。
トの中で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要のフローシートで
ある。この図6つの実施例の中で、ガス洗浄装置400は洗浄されたオーバーヘッド
をライン402及び底の中で第404行の中で射出する。第430行の中で導入された水
を含んでいる洗浄している液体及び熱のための構成が熱交416の中で本線410のラ
イン412及び418の中を流れている冷やした水によって交換したように、液体の底
の部分がライン（熱交414の中で冷やした水によってライン410の中で交換された
熱）408の中でリサイクルしてもよい。及び使われうる。結果として生ずる洗浄
している液体は、ポンプ426で第424行から第428行までポンプでくみ出された船4
20から、化学物質422を液体に扱う追加によって、さらに増やされる及び第430行
からの洗浄している液体といっしょに行動する及び第406行の中でガス洗浄装置4
00の中でそのノズルに移った。
【０１７３】 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要のフローシート
である。
である。
【０１７４】 図7の中で、その煙霧は第442行の中で前処理のコラム438に、水とともに導入
される、あるいは、ライン（その煙霧が液体でライン446からオーバーヘッドを
生産するために接触される）440の中の水/窒素混合は第443行の中で酸化リアク
ター450に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダント
・ガスを第454行及び窒素の中で第452行の中で受ける。リアクター450を含んで
いる船のより低い部分は、第458行の中の空気及びライン456の中の水と共に、急
冷セクションの中でノズル460でライン448の中でリサイクル急冷液体を紹介で受
けている急冷セクションである。
される、あるいは、ライン（その煙霧が液体でライン446からオーバーヘッドを
生産するために接触される）440の中の水/窒素混合は第443行の中で酸化リアク
ター450に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダント
・ガスを第454行及び窒素の中で第452行の中で受ける。リアクター450を含んで
いる船のより低い部分は、第458行の中の空気及びライン456の中の水と共に、急
冷セクションの中でノズル460でライン448の中でリサイクル急冷液体を紹介で受
けている急冷セクションである。
【０１７５】 示されるように、第468行の中の前処理のコラムの底及びそれとともに第470行
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、464が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン472から第478行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第472行の中のリサイクル液体は、熱交474の中で冷やした水によっ
て第476行の中で交換された熱であるかもしれない。
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、464が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン472から第478行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第472行の中のリサイクル液体は、熱交474の中で冷やした水によっ
て第476行の中で交換された熱であるかもしれない。
【０１７６】 第478行の中の洗浄している液体は、追加によってそれに化学の液体の中で第4
94行から増やしてもよい。そのような目的のための化学の液体は、船480に第484
行の中で導入された第482行及び乾いた化学物質に、船480を混入することに導入
された水でできている。代わりにまたはその上に、船486の中の液体の化学物質
は、第488行の中でポンプ490で化学の液体がそのようなラインの中で導入された
水で薄められうる。第492行にポンプで揚げられうる。このように、図7の中で示
されたシステムは洗浄している液体の中でウェット又はドライ化学の追加を利用
するために構成される、必要かもしれないか与えられた終わりで望ましいかもし
れないように、その発明の処理システムの応用を使う。
94行から増やしてもよい。そのような目的のための化学の液体は、船480に第484
行の中で導入された第482行及び乾いた化学物質に、船480を混入することに導入
された水でできている。代わりにまたはその上に、船486の中の液体の化学物質
は、第488行の中でポンプ490で化学の液体がそのようなラインの中で導入された
水で薄められうる。第492行にポンプで揚げられうる。このように、図7の中で示
されたシステムは洗浄している液体の中でウェット又はドライ化学の追加を利用
するために構成される、必要かもしれないか与えられた終わりで望ましいかもし
れないように、その発明の処理システムの応用を使う。
【０１７７】 図8の中で、排ガス流は、第498行の中で前処理のコラム500に、水か水/窒素混
合とともに第496行の中で導入される。そのような流体の部分は、ライン504の中
で楽しむかもしれない、ライン506からのリサイクル液体と化合する及び前処理
の船でそのノズルに移った。
合とともに第496行の中で導入される。そのような流体の部分は、ライン504の中
で楽しむかもしれない、ライン506からのリサイクル液体と化合する及び前処理
の船でそのノズルに移った。
【０１７８】 前処理のコラム500の中で、第502行の中でリアクター510に渡されたオーバー
ヘッドを生産するために排ガス流は、液体で接触される。そのリアクターは、オ
ゾンのような酸素か他のオキシダント・ガスを第516行及び窒素の中で第518行の
中で受ける。リアクター450を含んでいる船のより低い部分は、ライン512及び51
4の中の水と共にライン508の中でリサイクル急冷液体を受けている急冷セクショ
ンである。
ヘッドを生産するために排ガス流は、液体で接触される。そのリアクターは、オ
ゾンのような酸素か他のオキシダント・ガスを第516行及び窒素の中で第518行の
中で受ける。リアクター450を含んでいる船のより低い部分は、ライン512及び51
4の中の水と共にライン508の中でリサイクル急冷液体を受けている急冷セクショ
ンである。
【０１７９】 それが熱交538の中で冷やした水によって第530行の中で交換された熱であった
あと、520が以前に造られるガス洗浄装置はライン540の中の洗浄している液体を
記述する及び受ける。第524行の中のガス洗浄装置蒸留残渣はライン526から前処
理のコラム底と組み合わせられる及び、第506行の中でリサイクルされていた結
合された底液体の部分で第529行の中の結合された流れは廃水に廃物の液体の処
理か他の配置を渡してもよい。洗浄された排ガス・オーバーヘッドは、そのガス
洗浄装置から第522行の中で射出される。
あと、520が以前に造られるガス洗浄装置はライン540の中の洗浄している液体を
記述する及び受ける。第524行の中のガス洗浄装置蒸留残渣はライン526から前処
理のコラム底と組み合わせられる及び、第506行の中でリサイクルされていた結
合された底液体の部分で第529行の中の結合された流れは廃水に廃物の液体の処
理か他の配置を渡してもよい。洗浄された排ガス・オーバーヘッドは、そのガス
洗浄装置から第522行の中で射出される。
【０１８０】 図9の中で、排ガス流は第546行の中で前処理のコラム542に、水とともに導入
される、あるいは、ライン（排ガス流が液体でライン548からオーバーヘッドを
生産するために接触される）544の中の水/窒素混合は第550行の中でリアクター5
60に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダント・ガス
を第562行及び窒素の中で第564行の中で受ける。リアクター560を含んでいる船
のより低い部分は、第556行の中の空気及びライン554の中の水と共に、そのノズ
ルでの急冷セクションの中の紹介のためのライン558の中の液体がそこにinterio
rlyに配置したリサイクル急冷を受けている急冷セクションである。
される、あるいは、ライン（排ガス流が液体でライン548からオーバーヘッドを
生産するために接触される）544の中の水/窒素混合は第550行の中でリアクター5
60に移った。そのリアクターは、オゾンのような酸素か他のオキシダント・ガス
を第562行及び窒素の中で第564行の中で受ける。リアクター560を含んでいる船
のより低い部分は、第556行の中の空気及びライン554の中の水と共に、そのノズ
ルでの急冷セクションの中の紹介のためのライン558の中の液体がそこにinterio
rlyに配置したリサイクル急冷を受けている急冷セクションである。
【０１８１】 示されるように、第552行の中の前処理のコラムの底及びそれとともに第558行
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、556が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン560から第582行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第560行の中のリサイクル液体は、熱交564の中で冷やした水によっ
て第568行の中で交換された熱であるかもしれない。
の中で結合されたガス洗浄装置底から生じて、556が以前に造られるガス洗浄装
置は、リサイクル・ライン560から第582行の中の洗浄している液体を記述する及
び受け取る。第560行の中のリサイクル液体は、熱交564の中で冷やした水によっ
て第568行の中で交換された熱であるかもしれない。
【０１８２】 第572行の中で導入されて、その水をもつ熱交換のために、第568行の中の冷や
した水の部分は、第570行の中で引っ込められる及び熱交580に移った。第582行
の中の化学物質/水溶液を混ぜ合わせられる及びそのノズルにガス洗浄装置556の
上の終わりで、その後導入されるようにライン560からのリサイクル液体との以
降の組合せのためにライン572の中で洗浄している水を増やすために化学の添加
物は、リザーバ574から第576行の中でポンプ578の動きの下で加えられうる。こ
のように、排ガス流のScrubbingは、そのガス洗浄装置から第562行の中で射出さ
れた洗浄されたオーバーヘッドを生産するために実行される。
した水の部分は、第570行の中で引っ込められる及び熱交580に移った。第582行
の中の化学物質/水溶液を混ぜ合わせられる及びそのノズルにガス洗浄装置556の
上の終わりで、その後導入されるようにライン560からのリサイクル液体との以
降の組合せのためにライン572の中で洗浄している水を増やすために化学の添加
物は、リザーバ574から第576行の中でポンプ578の動きの下で加えられうる。こ
のように、排ガス流のScrubbingは、そのガス洗浄装置から第562行の中で射出さ
れた洗浄されたオーバーヘッドを生産するために実行される。
【０１８３】 前処理のユニット、酸化ユニット及びガス洗浄装置を利用して、図10はまだそ
の発明のもう一つの実施例に記載の排ガス処理システムの概要の表現である、そ
のガス洗浄装置及び酸化ユニットが急冷チャンバーを通してつながれるその点で
。
の発明のもう一つの実施例に記載の排ガス処理システムの概要の表現である、そ
のガス洗浄装置及び酸化ユニットが急冷チャンバーを通してつながれるその点で
。
【０１８４】 排ガス処理システムのインレット606を入れる第604行の中で、上流のプロセス
・ユニット602は、排ガス流を射出する。インレット606は、ガス流量通信の中で
開いた荷揚げ終わり610を持っている内の管状のメンバー608でつながれる。その
間で内部の環状のボリューム612を提供するために管状のメンバー608は、外の管
状のメンバー618の中で同心で配置される。外の管状のメンバー618は管状の拡張
（供給船624からのガスが管状の拡張622に第626行の中で流量のために内部の環
状のボリューム612を通して、内の及び外の管状のメンバーの間で、適当に流さ
れる）622によって定義されたガスインレットポート620を備えているので、排ガ
ス流が内の管状のメンバーの開いた荷揚げ終わり610で射出したことはガス供給
船624から供給されたガスの中でさやに納められる。
・ユニット602は、排ガス流を射出する。インレット606は、ガス流量通信の中で
開いた荷揚げ終わり610を持っている内の管状のメンバー608でつながれる。その
間で内部の環状のボリューム612を提供するために管状のメンバー608は、外の管
状のメンバー618の中で同心で配置される。外の管状のメンバー618は管状の拡張
（供給船624からのガスが管状の拡張622に第626行の中で流量のために内部の環
状のボリューム612を通して、内の及び外の管状のメンバーの間で、適当に流さ
れる）622によって定義されたガスインレットポート620を備えているので、排ガ
ス流が内の管状のメンバーの開いた荷揚げ終わり610で射出したことはガス供給
船624から供給されたガスの中でさやに納められる。
【０１８５】 ガス供給624からガスの流量を調整する目的のために、第626行はフロー制御弁
か他のフロー制御手段を管状の拡張622にガスのあらかじめ決められた流れ率を
生じるために含むかもしれない。
か他のフロー制御手段を管状の拡張622にガスのあらかじめ決められた流れ率を
生じるために含むかもしれない。
【０１８６】 インレット構造の外の管状のメンバー618が、斜めに切られた荷揚げ終わり630
を持つ、そしてそれは、そう配置する外の円筒形のメンバー618の最大長さ円周
部分が、そのような管状のメンバーの最小限の長さ円周部分より上にある。この
ように、最大長さ円周部分は、排ガス流（そのようなさやに納められた排ガス流
の中でその下方流で前処理の塔634で液体632と尚早に接触することなく保護する
ガスの中でガス供給624からさやに納められる）の流量の開発を許すために「突
出」構造の役目を果たす。
を持つ、そしてそれは、そう配置する外の円筒形のメンバー618の最大長さ円周
部分が、そのような管状のメンバーの最小限の長さ円周部分より上にある。この
ように、最大長さ円周部分は、排ガス流（そのようなさやに納められた排ガス流
の中でその下方流で前処理の塔634で液体632と尚早に接触することなく保護する
ガスの中でガス供給624からさやに納められる）の流量の開発を許すために「突
出」構造の役目を果たす。
【０１８７】 コレクション及び排流の洗浄している液体の導管638の中でその塔から準備を
して、下部の穴リザーバ636で、おおまかに示されるように、前処理の塔634は造
られる。液体の供給646及び第648行から供給された導管644からの液体が導管644
に結びつけた前洗浄で、ス前段・ノズル642が供給されたならば640がある上の部
分で、その塔は、造られる。第648行は、適当なフロー制御弁か他の手段を塔634
に前洗浄液体の流量を調整するために含むかもしれない。このように、上流のプ
ロセス設備602からの排ガス流は、塔634の下部の部分650へのインレット構造を
通して導入される及び反流的に前段・ノズル642から射出された前洗浄液体632と
接触する。このように、排ガス流は、そのガスの微粒子及び酸性の成分を除去す
るために前洗浄される。そこから伴出された水を除去するデフ・パッド652を通
して、それから、導管654をインレットユニット（被覆を受けている高圧670と通
信している導管668がガス・源672から第674行までガスを供給するより大きい同
心円に関して、導管654が同心で配置される）666に伝えている除去された排ガス
混合で通過して、それから、前段・洗浄された排ガスは、塔634の上の端を通り
抜ける。外の導管668は、中間の供給678が第680行によって高圧676につないだオ
キシダントから、空気か、オゾンか、酸素か、酸素-富ませられた空気か他の酸
素含有ガスのような、オキシダント媒体を受け取っている高圧676によって、順
番に回りに境界線を引かれる。それぞれのガスの流量を調整するためにその第67
4行及び680はフロー制御弁か他のフロー制御手段をそこに含むかもしれない。そ
のようなインレット構造666によって、排ガス流は、導管654の中で入る、供給67
2からの窒素か他の不活発なガスの中でさやに納められる及び酸化剤ユニット682
に酸化剤媒体で供給678から生じている高圧676から、共通流通的に導入される。
酸化ユニット682は、そこにガス流量パス686を定義しているガス流量通過684で
、部屋がヒーター688によって回りに境界線を引いたマルチ-地帯酸化反応である
かもしれない。ヒーター688が、電熱のユニットであるかもしれないか、適当な
加熱が意味する、ガス流量道686のガスが適当に高さに温度を熱されるそれによ
ってもう一方がその酸化成分の酸化を生じる何でも含むかもしれないそのガス流
。
して、下部の穴リザーバ636で、おおまかに示されるように、前処理の塔634は造
られる。液体の供給646及び第648行から供給された導管644からの液体が導管644
に結びつけた前洗浄で、ス前段・ノズル642が供給されたならば640がある上の部
分で、その塔は、造られる。第648行は、適当なフロー制御弁か他の手段を塔634
に前洗浄液体の流量を調整するために含むかもしれない。このように、上流のプ
ロセス設備602からの排ガス流は、塔634の下部の部分650へのインレット構造を
通して導入される及び反流的に前段・ノズル642から射出された前洗浄液体632と
接触する。このように、排ガス流は、そのガスの微粒子及び酸性の成分を除去す
るために前洗浄される。そこから伴出された水を除去するデフ・パッド652を通
して、それから、導管654をインレットユニット（被覆を受けている高圧670と通
信している導管668がガス・源672から第674行までガスを供給するより大きい同
心円に関して、導管654が同心で配置される）666に伝えている除去された排ガス
混合で通過して、それから、前段・洗浄された排ガスは、塔634の上の端を通り
抜ける。外の導管668は、中間の供給678が第680行によって高圧676につないだオ
キシダントから、空気か、オゾンか、酸素か、酸素-富ませられた空気か他の酸
素含有ガスのような、オキシダント媒体を受け取っている高圧676によって、順
番に回りに境界線を引かれる。それぞれのガスの流量を調整するためにその第67
4行及び680はフロー制御弁か他のフロー制御手段をそこに含むかもしれない。そ
のようなインレット構造666によって、排ガス流は、導管654の中で入る、供給67
2からの窒素か他の不活発なガスの中でさやに納められる及び酸化剤ユニット682
に酸化剤媒体で供給678から生じている高圧676から、共通流通的に導入される。
酸化ユニット682は、そこにガス流量パス686を定義しているガス流量通過684で
、部屋がヒーター688によって回りに境界線を引いたマルチ-地帯酸化反応である
かもしれない。ヒーター688が、電熱のユニットであるかもしれないか、適当な
加熱が意味する、ガス流量道686のガスが適当に高さに温度を熱されるそれによ
ってもう一方がその酸化成分の酸化を生じる何でも含むかもしれないそのガス流
。
【０１８８】 以下により大きい詳細の中で記述されるように、それから、酸化させられた排
ガス流は導管かガス流量通過684の中で、涙を流す堰ガス/液体のインタフェース
構造690に移る。涙を流す堰ガス/液体のインタフェース構造は、液体のフィード
第694行を通して液体の供給692から液体を受け取る。涙を流す堰ガス/液体のイ
ンタフェースは、導管684のそのような内部の壁表面が酸化ユニット682の中で扱
われた排ガス流の中で、熱い、腐食性の反応製品から分離されるために、急冷チ
ャンバー696への近接の中で、導管684のより低い壁を保護するために作動する。
並列に、微粒子を伴出する及び彼らの蓄積及び癒着を導管684の内部の壁表面で
防ぐために涙を流す堰ガス/液体のインタフェース構造は導管684のそのような内
部の壁表面で、インタフェース構造690の下で水の落ちているフィルムを供給す
る。
ガス流は導管かガス流量通過684の中で、涙を流す堰ガス/液体のインタフェース
構造690に移る。涙を流す堰ガス/液体のインタフェース構造は、液体のフィード
第694行を通して液体の供給692から液体を受け取る。涙を流す堰ガス/液体のイ
ンタフェースは、導管684のそのような内部の壁表面が酸化ユニット682の中で扱
われた排ガス流の中で、熱い、腐食性の反応製品から分離されるために、急冷チ
ャンバー696への近接の中で、導管684のより低い壁を保護するために作動する。
並列に、微粒子を伴出する及び彼らの蓄積及び癒着を導管684の内部の壁表面で
防ぐために涙を流す堰ガス/液体のインタフェース構造は導管684のそのような内
部の壁表面で、インタフェース構造690の下で水の落ちているフィルムを供給す
る。
【０１８９】 急冷チャンバー696の中で、急冷空気は、急冷空気の供給698から水供給702か
ら第704行までチャンバー（流れが急冷チャンバー696の中でノズル708によって
射出される結果として生ずる空気／水が排ガス流の中で涼しくなっている急冷を
生じる）706を混ぜることに急冷チャンバーへの第700行を通して、並列に急冷水
の流量で流される。
ら第704行までチャンバー（流れが急冷チャンバー696の中でノズル708によって
射出される結果として生ずる空気／水が排ガス流の中で涼しくなっている急冷を
生じる）706を混ぜることに急冷チャンバーへの第700行を通して、並列に急冷水
の流量で流される。
【０１９０】 消す排ガス、流量に、ガス洗浄ユニット710、それについて上の部分714にそれ
の下部の部分712、すっかり包まれたベッド716及び、荷揚げ第724行の中の排流
処理システムからの最終的な発射のためにそのガス洗浄ユニットからオーバーヘ
ッド導管720の中で引き出すもの722の動きの下で射出される扱われた排ガス流を
生産するためにデフ・パッド718から。
の下部の部分712、すっかり包まれたベッド716及び、荷揚げ第724行の中の排流
処理システムからの最終的な発射のためにそのガス洗浄ユニットからオーバーヘ
ッド導管720の中で引き出すもの722の動きの下で射出される扱われた排ガス流を
生産するためにデフ・パッド718から。
【０１９１】 フィード導管728によって供給リザーバ730から洗浄媒体を供給されて、ガス洗
浄ユニット710はそこにス前段・ノズル726を持つ。そのガス洗浄ユニットの洗浄
している効力を改良するために化学のアジュバントを含んで、選択的に、その洗
浄媒体は、水か他の水の媒体であるかもしれない。
浄ユニット710はそこにス前段・ノズル726を持つ。そのガス洗浄ユニットの洗浄
している効力を改良するために化学のアジュバントを含んで、選択的に、その洗
浄媒体は、水か他の水の媒体であるかもしれない。
【０１９２】 また、第638行の中で前処理のユニットから底液体を受け取るタンク754に、急
冷チャンバーは、液体の急冷及び洗浄している液体のコレクション及び流量のた
めに、荷揚げ導管752の中でそこに下部の穴部分750を持つ。システムが、該当す
る酸かベースの追加のような処理戦車756の中の試薬、一つ以上の処理化学物質
が加えられうる。それによってそのような目的のために、ポート758、760及び76
2を以降にしている戦車754で、おごられうる。排流処理の中のプロセス・ユニッ
トからの最終的な扱われた液体がそのシステムから射出してもよい。そのような
「液体の底」は、導管764を射出する。
冷チャンバーは、液体の急冷及び洗浄している液体のコレクション及び流量のた
めに、荷揚げ導管752の中でそこに下部の穴部分750を持つ。システムが、該当す
る酸かベースの追加のような処理戦車756の中の試薬、一つ以上の処理化学物質
が加えられうる。それによってそのような目的のために、ポート758、760及び76
2を以降にしている戦車754で、おごられうる。排流処理の中のプロセス・ユニッ
トからの最終的な扱われた液体がそのシステムから射出してもよい。そのような
「液体の底」は、導管764を射出する。
【０１９３】 あることはキャビネット800の範囲内で横になったように、代理をされて、お
おまかに、図11は本発明のもう一つの実施例に記載の処理システムの概要の表現
である。
おまかに、図11は本発明のもう一つの実施例に記載の処理システムの概要の表現
である。
【０１９４】 図11の排ガス流処理システムは、その排ガスを輸送しているフィード第804行
が、半導体製造設備のような上流のプロセス・ユニット806から、流れ出させる
廃水から、廃水を受け取っている排ガス流インレット導管802を特徴とする。イ
ンレット導管802は、第818行の中でリザーバ816からガスを受け取っているイン
レットポート814を持っている円筒形の壁812を含んでいる構造810を覆っている
ガス通信する。壁812は、内部のガス透過性壁820で、リザーバ816から導入され
たガスがガス透過性壁820の中を流れる及びインレット導管802から導入されてい
た排ガス流量流れを覆う内部の環状のボリューム822を定義する。それから、排
ガス流量流れは、下方へ前処理のユニット826の最初の足824の中を流れる。前処
理のユニットの最初の足824は、順番に空気及び水（示された）の適当な源につ
ながれるフィード導管830に接続していたス前段・ノズル828を備えている。その
ような方法で、ガス流が空気/水ス前段で、接触される下方へ流れる廃水がその
ガスを前もって処理する及びノズル828から排ガス流から水のフェーズの中で微
粒子を伴出するために導入されているのと、同じくらいよくその酸性度を減らす
こと。種々の導管842によってガス洗浄ユニット（この後より充分に、記述され
る）の穴840と通信して、それから、結果として生ずる液体は、前処理のユニッ
ト及び流量の下部のU形の部分832の中で、導管834によって穴836に集まる。
が、半導体製造設備のような上流のプロセス・ユニット806から、流れ出させる
廃水から、廃水を受け取っている排ガス流インレット導管802を特徴とする。イ
ンレット導管802は、第818行の中でリザーバ816からガスを受け取っているイン
レットポート814を持っている円筒形の壁812を含んでいる構造810を覆っている
ガス通信する。壁812は、内部のガス透過性壁820で、リザーバ816から導入され
たガスがガス透過性壁820の中を流れる及びインレット導管802から導入されてい
た排ガス流量流れを覆う内部の環状のボリューム822を定義する。それから、排
ガス流量流れは、下方へ前処理のユニット826の最初の足824の中を流れる。前処
理のユニットの最初の足824は、順番に空気及び水（示された）の適当な源につ
ながれるフィード導管830に接続していたス前段・ノズル828を備えている。その
ような方法で、ガス流が空気/水ス前段で、接触される下方へ流れる廃水がその
ガスを前もって処理する及びノズル828から排ガス流から水のフェーズの中で微
粒子を伴出するために導入されているのと、同じくらいよくその酸性度を減らす
こと。種々の導管842によってガス洗浄ユニット（この後より充分に、記述され
る）の穴840と通信して、それから、結果として生ずる液体は、前処理のユニッ
ト及び流量の下部のU形の部分832の中で、導管834によって穴836に集まる。
【０１９５】 それから空気/水で前処理のユニットの最初の足の中で、ス前段と接触するこ
との後に続く排ガス流は、上方へそのようなユニット（ノズル846からの水ス前
段が適当な源への液体のうちの848が例えば給水する導管か他の洗浄媒体（示さ
れた）によって、つないだ下方流で、排ガス流が反流的に接触される）の第２の
足844の中を流れる。前処理のユニット826から、十分な温度にそのガス流の有害
な酸化成分を酸化させる及び破壊するために熱されている間、熱酸化ユニット（
排ガス流がある内部のボリューム856を通して、排ガス流量パイプ854を含む）85
2への導管850の中の前段扱われた排ガス流通過は流れた。それから、酸化させら
れた排ガス流は、涙を流す堰ガスへの熱酸化ユニット852/液体のインタフェース
構造860から、以下に、ガス洗浄装置塔870にそれから急冷の紹介のためにフィー
ド・ポート864を備えていた急冷チャンバーを水か空気のような媒体と指令する
導管862/水ス前段の中で、排ガス流であふれる充分により記述するように、射出
される。ガス洗浄装置塔には、下水管876を通して穴（その液体が多様性842及び
連合した下水管を通して水抜きをしてもよい。）840に、蓄積された液体の水抜
きをする底リザーバ874を含む下部の部分872がある。フィード導管880を通して
洗浄媒体（示された）の適当な源に結びつけられる、水か他の水であるか洗浄し
ている媒体を含むかもしれないその上の部分で、ガス洗浄装置塔870は、ガス洗
浄装置中間のス前段・ノズル878を備えている。洗浄されたガスのその湿気か液
体の含有量を減らすためにガス洗浄装置塔は、ノズル878より上にデフか他の液
体の解放手段（示された）を適当に含む。洗浄されたガスが、ガス洗浄装置塔の
上の端890に上がる及びライン894を通してのオーバーヘッド導管892の中で射出
される、外面的に排流処理システムの中で内閣である、800。 図11の中で示された配置によって、排ガス流は、上流に射出された排ガス流の中
で、熱酸化ユニットを洗浄しているダウンストリームが続いた熱酸化剤ユニット
の後に、処理を洗浄している二進数を受ける。 熱酸化剤ユニットは、例えば温度で最高2000ーF排ガス流の高い温度処理を提供
しているかもしれないか、どんな適当な型の中ででもより高い。 酸化ユニット及び前段処理（すなわち、前段酸化処理）を提供することによって
、ガス洗浄及び後段酸化が一つの単位のキャビネットの中でユニットを洗浄して
、小さい足跡（便利に半導体設備の範囲内で排ガス流処理システムの展開を適応
させる）かその発明のシステムによって扱われていた排ガス流が位置する他のプ
ロセス能力を持つコンパクトな装置形態は提供される。 言及されるように、本発明の排ガス流処理システムの中の洗浄しているユニット
はその排ガスからの他の溶解可能であるか一方洗浄可能な取り外し可能な成分が
流れるように他のウェット又はドライ・ガス洗浄装置かも他の処理ユニットとも
、微粒子及び酸性の成分を除去するために取り替えられうる。
との後に続く排ガス流は、上方へそのようなユニット（ノズル846からの水ス前
段が適当な源への液体のうちの848が例えば給水する導管か他の洗浄媒体（示さ
れた）によって、つないだ下方流で、排ガス流が反流的に接触される）の第２の
足844の中を流れる。前処理のユニット826から、十分な温度にそのガス流の有害
な酸化成分を酸化させる及び破壊するために熱されている間、熱酸化ユニット（
排ガス流がある内部のボリューム856を通して、排ガス流量パイプ854を含む）85
2への導管850の中の前段扱われた排ガス流通過は流れた。それから、酸化させら
れた排ガス流は、涙を流す堰ガスへの熱酸化ユニット852/液体のインタフェース
構造860から、以下に、ガス洗浄装置塔870にそれから急冷の紹介のためにフィー
ド・ポート864を備えていた急冷チャンバーを水か空気のような媒体と指令する
導管862/水ス前段の中で、排ガス流であふれる充分により記述するように、射出
される。ガス洗浄装置塔には、下水管876を通して穴（その液体が多様性842及び
連合した下水管を通して水抜きをしてもよい。）840に、蓄積された液体の水抜
きをする底リザーバ874を含む下部の部分872がある。フィード導管880を通して
洗浄媒体（示された）の適当な源に結びつけられる、水か他の水であるか洗浄し
ている媒体を含むかもしれないその上の部分で、ガス洗浄装置塔870は、ガス洗
浄装置中間のス前段・ノズル878を備えている。洗浄されたガスのその湿気か液
体の含有量を減らすためにガス洗浄装置塔は、ノズル878より上にデフか他の液
体の解放手段（示された）を適当に含む。洗浄されたガスが、ガス洗浄装置塔の
上の端890に上がる及びライン894を通してのオーバーヘッド導管892の中で射出
される、外面的に排流処理システムの中で内閣である、800。 図11の中で示された配置によって、排ガス流は、上流に射出された排ガス流の中
で、熱酸化ユニットを洗浄しているダウンストリームが続いた熱酸化剤ユニット
の後に、処理を洗浄している二進数を受ける。 熱酸化剤ユニットは、例えば温度で最高2000ーF排ガス流の高い温度処理を提供
しているかもしれないか、どんな適当な型の中ででもより高い。 酸化ユニット及び前段処理（すなわち、前段酸化処理）を提供することによって
、ガス洗浄及び後段酸化が一つの単位のキャビネットの中でユニットを洗浄して
、小さい足跡（便利に半導体設備の範囲内で排ガス流処理システムの展開を適応
させる）かその発明のシステムによって扱われていた排ガス流が位置する他のプ
ロセス能力を持つコンパクトな装置形態は提供される。 言及されるように、本発明の排ガス流処理システムの中の洗浄しているユニット
はその排ガスからの他の溶解可能であるか一方洗浄可能な取り外し可能な成分が
流れるように他のウェット又はドライ・ガス洗浄装置かも他の処理ユニットとも
、微粒子及び酸性の成分を除去するために取り替えられうる。
【０１９６】 図12は、第907行の中のキャビネット903を入れる及び処理ユニット905の中で
酸性の成分の除去及び微粒子の固体の除去のために処理される上流のプロセス90
1からの排ガスの処理のためのプロセス・システムの概要の表現である。それか
ら処理ユニット905の中で扱われたガス流は、第911行の中で酸化処理ユニット（
排ガス流が排ガス流の浄化のためにそのガス流の有害であるか望まれていない酸
化成分を除去することによって酸化条件を受ける）913に流される。それから、
酸化させられた排ガスは、第915行の中で洗浄しているユニット917にそのガスの
洗浄している処理のために、行動を起こさせる流体のドライバー921の運動量の
下で排流処理システムからライン919の中で射出される最終的な扱われたガス流
を生産するために流される。言及されるように、行動を起こさせる流体のドライ
バーはファンか、ポンプか、タービンか、圧縮器か、その他か引き出す人（アス
ピレーター、またはその種の他のもの）のような受動の装置のような活発な装置
であるかもしれない。
酸性の成分の除去及び微粒子の固体の除去のために処理される上流のプロセス90
1からの排ガスの処理のためのプロセス・システムの概要の表現である。それか
ら処理ユニット905の中で扱われたガス流は、第911行の中で酸化処理ユニット（
排ガス流が排ガス流の浄化のためにそのガス流の有害であるか望まれていない酸
化成分を除去することによって酸化条件を受ける）913に流される。それから、
酸化させられた排ガスは、第915行の中で洗浄しているユニット917にそのガスの
洗浄している処理のために、行動を起こさせる流体のドライバー921の運動量の
下で排流処理システムからライン919の中で射出される最終的な扱われたガス流
を生産するために流される。言及されるように、行動を起こさせる流体のドライ
バーはファンか、ポンプか、タービンか、圧縮器か、その他か引き出す人（アス
ピレーター、またはその種の他のもの）のような受動の装置のような活発な装置
であるかもしれない。
【０１９７】 図12の排流処理システムは、それについて酸化処理の後に続く排ガス流の隠れ
ている熱を抽出するために及び該当する温度に酸化処理廃水を冷やすためにその
ガス洗浄ユニットの中で917を洗浄している有効のためにさらに急冷ユニット923
を含むかもしれない。
ている熱を抽出するために及び該当する温度に酸化処理廃水を冷やすためにその
ガス洗浄ユニットの中で917を洗浄している有効のためにさらに急冷ユニット923
を含むかもしれない。
【０１９８】 酸性の成分及び微粒子除去ユニット905は、水素弗化物吸収（そのような成分
の除去に捧げられる）のために、適当に前処理のサブシステムを含むかもしれな
い。
の除去に捧げられる）のために、適当に前処理のサブシステムを含むかもしれな
い。
【０１９９】 排流処理システムのいろいろな処理ステップの中で、水使用を最小にするため
にシステムが適当に湿って扱うかもしれない排流処理/乾いたインタフェース構
造の中のそれぞれの処理ユニットの、切れ込み/穴のようなインレットは、型か
多孔性型インタフェースに注射する。
にシステムが適当に湿って扱うかもしれない排流処理/乾いたインタフェース構
造の中のそれぞれの処理ユニットの、切れ込み/穴のようなインレットは、型か
多孔性型インタフェースに注射する。
【０２００】 どんな適当な加熱手段かでも方法を利用してもよい。酸化装置として、酸化処
理ユニット913は、シェル及びチューブ熱交を含むかもしれない。例えば、該当
する温度にその酸化成分の酸化のためにそこにその排ガスを熱するために光を発
する流動は、その熱交のシェル側面に携わっているかもしれない。
理ユニット913は、シェル及びチューブ熱交を含むかもしれない。例えば、該当
する温度にその酸化成分の酸化のためにそこにその排ガスを熱するために光を発
する流動は、その熱交のシェル側面に携わっているかもしれない。
【０２０１】 ユニット917を洗浄している後段酸化は、そのガスの中で濃縮を限定する及び
洗浄しているプロセスの効力を改良するために涼しくなるために熱交換手段を取
り入れうる。排流処理システムの中の洗浄している操作は、洗浄された排ガス流
の中でデフ・メッシュを水のde-entrainmentのために利用しているガス洗浄装置
コラムの中で、実行してもよい。そのコラムのオーバーヘッド内部のボリューム
は、無効なボリュームとして微粒子の固体の排ガス流からの除去を改良すること
に対して用意されているかもしれない。
洗浄しているプロセスの効力を改良するために涼しくなるために熱交換手段を取
り入れうる。排流処理システムの中の洗浄している操作は、洗浄された排ガス流
の中でデフ・メッシュを水のde-entrainmentのために利用しているガス洗浄装置
コラムの中で、実行してもよい。そのコラムのオーバーヘッド内部のボリューム
は、無効なボリュームとして微粒子の固体の排ガス流からの除去を改良すること
に対して用意されているかもしれない。
【０２０２】 本発明の排ガス流処理システムの更なる修正として、そのシステムは、クロロ
フルオロカーボン、パーフルオロカーボン、その他の回復のために、ハロゲン化
炭素回復ユニット927を使用してもよい。出願中のアメリカで発表されるように
、そのようなクロロ/フルオロカーボン回復ユニット（CRU）は造られうる。及び
働いた。グレンMの米国出願 No. 08/395162の特許権をとる。トム（ほか）は、
「METHOD AND APPARATUS FOR CONCENTRATION AND RECOVERY OF HALOCARBONS FRO
M EFFLUENT GAS STREAMS」について米国に1995年2月27日を出願した。グレンMの
出願 No. 08/474517の特許権をとる。トム（ほか）が、1995年6月7日、「PROCES
S FOR REMOVING AND RECOVERING HALOCARBONS FROM EFFLUENT PROCESS STREAMS
」のためにその明細書を出願した。ここでリファレンスによってこれによって彼
らの全部に組み入れられる。このように、ハロゲン化炭素回復ユニット927は、
第925行の中で処理ユニット905の中でそのガス流の洗浄しているか他の前段酸化
処理の後に続く第911行から、排ガスを受け取るかもしれない。要求されるよう
に、それから、回復されたハロゲン化炭素はライン929の中のCRUユニット927か
ら射出されるか及びリサイクルしてもよい。か、一方利用される。更なる選択肢
として、そのハロゲン化炭素は、下流に排ガス流の酸化処理の中で回復してもよ
い。
フルオロカーボン、パーフルオロカーボン、その他の回復のために、ハロゲン化
炭素回復ユニット927を使用してもよい。出願中のアメリカで発表されるように
、そのようなクロロ/フルオロカーボン回復ユニット（CRU）は造られうる。及び
働いた。グレンMの米国出願 No. 08/395162の特許権をとる。トム（ほか）は、
「METHOD AND APPARATUS FOR CONCENTRATION AND RECOVERY OF HALOCARBONS FRO
M EFFLUENT GAS STREAMS」について米国に1995年2月27日を出願した。グレンMの
出願 No. 08/474517の特許権をとる。トム（ほか）が、1995年6月7日、「PROCES
S FOR REMOVING AND RECOVERING HALOCARBONS FROM EFFLUENT PROCESS STREAMS
」のためにその明細書を出願した。ここでリファレンスによってこれによって彼
らの全部に組み入れられる。このように、ハロゲン化炭素回復ユニット927は、
第925行の中で処理ユニット905の中でそのガス流の洗浄しているか他の前段酸化
処理の後に続く第911行から、排ガスを受け取るかもしれない。要求されるよう
に、それから、回復されたハロゲン化炭素はライン929の中のCRUユニット927か
ら射出されるか及びリサイクルしてもよい。か、一方利用される。更なる選択肢
として、そのハロゲン化炭素は、下流に排ガス流の酸化処理の中で回復してもよ
い。
【０２０３】 酸化処理ユニット913示される、両替商が挿入物を改良している熱移転を利用
してもよい。両替商及びそのような熱が熱する熱を含むそれについて通過を移す
アメリカでより充分に記述されるように出願 No. 08/602 ,134の特許権をとる、
マークRの名前で1996年2月15日出願された。ホルスト（「POINT-OF-USE CATALYT
IC OXIDATION APPARATUS AND METHOD OF TREATMENT OF VOC-CONTAINING GAS STR
EAMS」のためのほか）をリファレンスによって完全にここに組み入れる。
してもよい。両替商及びそのような熱が熱する熱を含むそれについて通過を移す
アメリカでより充分に記述されるように出願 No. 08/602 ,134の特許権をとる、
マークRの名前で1996年2月15日出願された。ホルスト（「POINT-OF-USE CATALYT
IC OXIDATION APPARATUS AND METHOD OF TREATMENT OF VOC-CONTAINING GAS STR
EAMS」のためのほか）をリファレンスによって完全にここに組み入れる。
【０２０４】 おおまかに、図12の中で示された排ガス処理システムの更なる修正として、そ
れについて、パーフルオロカーボンの破壊が要求されるならば、回復よりもむし
ろ酸化のためのパーフルオロカーボンの低コスト水素源を提供するために急冷ユ
ニット923からの飽和した水/排出ストリームは、第931行の中で酸化ユニット913
のインレットにリサイクルしてもよい。
れについて、パーフルオロカーボンの破壊が要求されるならば、回復よりもむし
ろ酸化のためのパーフルオロカーボンの低コスト水素源を提供するために急冷ユ
ニット923からの飽和した水/排出ストリームは、第931行の中で酸化ユニット913
のインレットにリサイクルしてもよい。
【０２０５】 前段酸化ユニット905が、化学物質が洗浄されていた材料の特徴を変えるため
に例えばアンモニアの追加を導入してもよい。前段ガス洗浄装置を含むかもしれ
ない、アンモニウム・ウォルフラム酸塩を生むためにタングステン六弗化廃水。
それについて、アンモニウム・ウォルフラム酸塩は、洗浄している除去のために
よい溶解性特徴を持つ。
に例えばアンモニアの追加を導入してもよい。前段ガス洗浄装置を含むかもしれ
ない、アンモニウム・ウォルフラム酸塩を生むためにタングステン六弗化廃水。
それについて、アンモニウム・ウォルフラム酸塩は、洗浄している除去のために
よい溶解性特徴を持つ。
【０２０６】 酸化ユニット913は、そのようなステップの中で反応物/製品固体の壁蓄積を除
去するために輸送チューブ・リアクターを含むかもしれない。
去するために輸送チューブ・リアクターを含むかもしれない。
【０２０７】 ユニット923が利用してもよい。急冷が例えば水及び空気であるか他のガスの
中で、複数の流体のインプットを使用するノズルを原子にして、減じることはユ
ニット・サイズを消す。そのような急冷ユニットは、代わりに消失操作を成し遂
げるために超音波のノズルか、ネブライザーか圧電気のノズルのような手段を原
子にすることを含むかもしれない。
中で、複数の流体のインプットを使用するノズルを原子にして、減じることはユ
ニット・サイズを消す。そのような急冷ユニットは、代わりに消失操作を成し遂
げるために超音波のノズルか、ネブライザーか圧電気のノズルのような手段を原
子にすることを含むかもしれない。
【０２０８】 他のどの適当な酸化設備も及び方法によって酸化ユニット913は電気の熱酸化
を利用してもよい。か、フレームベース酸化を通して一方酸化にも影響を及ぼし
うる。フレームベース酸化ユニットが、例えばメタン（プロパン、水素、ブタン
、その他及び一般に酸化ユニットに従事した酸化させている媒体）が含むかもし
れないどんな適当な燃料でも利用してもよい。空気、オゾン、酸素、酸素-富ま
せられた空気または他のどの酸素-含んでいる媒体。また、そのような処理ステ
ップの実行の幅広い範囲の範囲内で酸化ユニットは、流動床熱酸化剤ユニットを
含むかもしれない。
を利用してもよい。か、フレームベース酸化を通して一方酸化にも影響を及ぼし
うる。フレームベース酸化ユニットが、例えばメタン（プロパン、水素、ブタン
、その他及び一般に酸化ユニットに従事した酸化させている媒体）が含むかもし
れないどんな適当な燃料でも利用してもよい。空気、オゾン、酸素、酸素-富ま
せられた空気または他のどの酸素-含んでいる媒体。また、そのような処理ステ
ップの実行の幅広い範囲の範囲内で酸化ユニットは、流動床熱酸化剤ユニットを
含むかもしれない。
【０２０９】 言及されるように、前段酸化処理ユニット905及び後段酸化処理ユニット917は
他のどの適当な前段酸化だけでなくも及び後段酸化処理手段だけでなくどんな適
当な型（乾いただけでなく湿ったガス洗浄装置）でものガス洗浄装置を含むかも
しれない。
他のどの適当な前段酸化だけでなくも及び後段酸化処理手段だけでなくどんな適
当な型（乾いただけでなく湿ったガス洗浄装置）でものガス洗浄装置を含むかも
しれない。
【０２１０】 したがって、本発明の処理システムが適している排ガス流が多種多様な組成の
処理成分構成に表現されることは、及びそのような処理ユニットが単位のキャビ
ネットかハウジングの中で、使用のためにコンパクトにプラントを製作している
半導体のようなプロセス施設に表現してもよい。ことは、見られる。 一般に、本発明の処理システムは、ガス/液体及びガス/ガス・インタフェース構
造の回りに境界線を引いている層をもつ排ガス流かガスか液体のさやを「覆う」
ことの用途を熟考する。そのようなさやに納めるの、排ガス流要求する、、例え
ば、ために、保護する含む壁の、ガス流量通過、特に、そのガス流からの有害な
成分の微粒子及び可溶化の液体のフィルムをさやに納めることの場合エントレイ
ンメントのようなガス流もの被覆がない場合、起こる固形物蓄積及び堆積に関し
て。
処理成分構成に表現されることは、及びそのような処理ユニットが単位のキャビ
ネットかハウジングの中で、使用のためにコンパクトにプラントを製作している
半導体のようなプロセス施設に表現してもよい。ことは、見られる。 一般に、本発明の処理システムは、ガス/液体及びガス/ガス・インタフェース構
造の回りに境界線を引いている層をもつ排ガス流かガスか液体のさやを「覆う」
ことの用途を熟考する。そのようなさやに納めるの、排ガス流要求する、、例え
ば、ために、保護する含む壁の、ガス流量通過、特に、そのガス流からの有害な
成分の微粒子及び可溶化の液体のフィルムをさやに納めることの場合エントレイ
ンメントのようなガス流もの被覆がない場合、起こる固形物蓄積及び堆積に関し
て。
【０２１１】 そのようなアプローチの特定の構造上の特徴及び実施例の代理をして、それゆ
えに、実例となる種類のインタフェース構造は、この後記述される。 有効に本発明の排ガス流処理システムに従事するように、図13は本発明の実例と
なる実施例に記載の目詰まり耐性のあるインレット構造の概要の表現である。
えに、実例となる種類のインタフェース構造は、この後記述される。 有効に本発明の排ガス流処理システムに従事するように、図13は本発明の実例と
なる実施例に記載の目詰まり耐性のあるインレット構造の概要の表現である。
【０２１２】 図13の中で示された目詰まり耐性のあるインレット構造は、排ガス流処理シス
テムの中で、カップリングのためにそのガス流の源でそのようなインレット構造
を吹いているプロセスに接続可能である。上流にそのようなインレット構造の中
で笛を吹いているプロセス・システムは、適当に、その配管の中で十分なエネル
ギーをそのガス流に加えるために凝結するか、インレット構造の中で高尚になる
のをそのガス流の成分が妨げるために従来の方法の中の熱追跡であるかもしれな
い。その配管か、導管か、流量通過か本発明の処理システムの中の流体の接触し
ている構造の何でも、そのような目的のために、たどられた熱であるかもしれな
いことは、認められる、又は、プロセス・システムのパフォーマンスを改善する
。
テムの中で、カップリングのためにそのガス流の源でそのようなインレット構造
を吹いているプロセスに接続可能である。上流にそのようなインレット構造の中
で笛を吹いているプロセス・システムは、適当に、その配管の中で十分なエネル
ギーをそのガス流に加えるために凝結するか、インレット構造の中で高尚になる
のをそのガス流の成分が妨げるために従来の方法の中の熱追跡であるかもしれな
い。その配管か、導管か、流量通過か本発明の処理システムの中の流体の接触し
ている構造の何でも、そのような目的のために、たどられた熱であるかもしれな
いことは、認められる、又は、プロセス・システムのパフォーマンスを改善する
。
【０２１３】 図13の中で示されたインレット構造1060は、インレットフランジ1016を含むイ
ンレットセクション1007を含む。インレットフランジは、その上の終わりでその
ようなフランジの中で終わる上の環状のセクション1008のフランジ1018で、対と
なって結合可能である。インレットセクションは、例えばツールを製作している
半導体として設備1090を生成している流れを固形物を含有している上流の微粒子
に結びつけられうる。
ンレットセクション1007を含む。インレットフランジは、その上の終わりでその
ようなフランジの中で終わる上の環状のセクション1008のフランジ1018で、対と
なって結合可能である。インレットセクションは、例えばツールを製作している
半導体として設備1090を生成している流れを固形物を含有している上流の微粒子
に結びつけられうる。
【０２１４】 環状のセクション1008は、合っているガス透過性である該当する気孔率及びそ
の間で環状の内部のボリューム1020を定義している外の固体の壁1009の中である
内の多孔性壁1006を含む。このように、内の多孔性壁1006の内部の表面は、上の
環状のセクション1008の中で、流量通過1066をはずませる。終わり壁1040及び10
42によって環状の内部のボリュームを囲むためにその上の及び下部の終わりの外
の固体の壁1009は、内の壁1006に関して囲まれる。低い圧力ガスで、1022がある
インレットポートが低い圧力ガス・フィード第1024行をつないだならば、外の壁
1009がある。低い圧力ガス・フィード第1024行は、その外の終わりで低い圧力ガ
スの源1004に接続している。環状の内部のボリューム1020に、低い圧力ガスの流
量を適応させるためにチェック弁1014は、低い圧力ガス・フィード・ライン1024
の中で配置される。また、フィード第1024行は、選択的に、そのシステムの操作
の中で源1004から環状の内部のボリューム1020に、好ましい量の中で及び好まし
い流れ率で低い圧力ガスを供給するために他のフロー制御手段（示された）を備
えているかもしれない。 上の環状のセクション1008も、1050が加わられた高圧ガス・フィード第1052行で
ある注入ポートがターンの中で高圧ガス供給1005につないだ高圧ガスを備えてい
る。そこにあらかじめ決められたシーケンスに従ってフロー制御弁1051を操作す
るために流れコントローラー手段（示された）につながれうる。フロー制御弁10
51で、ガス・フィード・ラインは、示される。
の間で環状の内部のボリューム1020を定義している外の固体の壁1009の中である
内の多孔性壁1006を含む。このように、内の多孔性壁1006の内部の表面は、上の
環状のセクション1008の中で、流量通過1066をはずませる。終わり壁1040及び10
42によって環状の内部のボリュームを囲むためにその上の及び下部の終わりの外
の固体の壁1009は、内の壁1006に関して囲まれる。低い圧力ガスで、1022がある
インレットポートが低い圧力ガス・フィード第1024行をつないだならば、外の壁
1009がある。低い圧力ガス・フィード第1024行は、その外の終わりで低い圧力ガ
スの源1004に接続している。環状の内部のボリューム1020に、低い圧力ガスの流
量を適応させるためにチェック弁1014は、低い圧力ガス・フィード・ライン1024
の中で配置される。また、フィード第1024行は、選択的に、そのシステムの操作
の中で源1004から環状の内部のボリューム1020に、好ましい量の中で及び好まし
い流れ率で低い圧力ガスを供給するために他のフロー制御手段（示された）を備
えているかもしれない。 上の環状のセクション1008も、1050が加わられた高圧ガス・フィード第1052行で
ある注入ポートがターンの中で高圧ガス供給1005につないだ高圧ガスを備えてい
る。そこにあらかじめ決められたシーケンスに従ってフロー制御弁1051を操作す
るために流れコントローラー手段（示された）につながれうる。フロー制御弁10
51で、ガス・フィード・ラインは、示される。
【０２１５】 下部の環状のセクション1030のフランジ1028で、対になって結合可能なフラン
ジ1026の中で、上の環状のセクション1008は、その下部の終わりで終わる。フラ
ンジ1026及び1028は、図13の中で示されたオーリング1010のような封じている手
段の準備によって封じられうる。
ジ1026の中で、上の環状のセクション1008は、その下部の終わりで終わる。フラ
ンジ1026及び1028は、図13の中で示されたオーリング1010のような封じている手
段の準備によって封じられうる。
【０２１６】 下部の環状のセクション1030は、その上の終わりでフランジ1028の中で終わっ
ている外の壁1012を含む。終わりが内の堰壁1011につながれるそのそれ以下での
外の壁は、終わり壁1044の中で、形式に外の壁1012及び内の堰壁1011の間で、環
状の内部のボリューム1032を意味する。消滅以外の間隔をあけられた関係の中の
上の環状のセクション1008の、そう形式に関する内の多孔性壁1006のより低い終
わりの上の終わり1046で、その間で、下部の環状のセクション1030のために、溢
流堰を定義しているギャップ1036を見せられるように、内の堰壁1011は垂直に上
方へ広がる。
ている外の壁1012を含む。終わりが内の堰壁1011につながれるそのそれ以下での
外の壁は、終わり壁1044の中で、形式に外の壁1012及び内の堰壁1011の間で、環
状の内部のボリューム1032を意味する。消滅以外の間隔をあけられた関係の中の
上の環状のセクション1008の、そう形式に関する内の多孔性壁1006のより低い終
わりの上の終わり1046で、その間で、下部の環状のセクション1030のために、溢
流堰を定義しているギャップ1036を見せられるように、内の堰壁1011は垂直に上
方へ広がる。
【０２１７】 下部の環状のセクション1030の外の壁1012は、1048が下部の環状のセクション
1030に、液体の好ましい流れ率を維持して、そこに有効に他のフロー制御手段に
結びつけられうる。液体のフロー制御弁1081を持っている水供給1003につながれ
た水フィード第1080行に加わられうる。水インレットポートを備えている。
1030に、液体の好ましい流れ率を維持して、そこに有効に他のフロー制御手段に
結びつけられうる。液体のフロー制御弁1081を持っている水供給1003につながれ
た水フィード第1080行に加わられうる。水インレットポートを備えている。
【０２１８】 その下部の終わりで、下部の環状のセクション1030は、適当にスクラバー1013
のハウジングにつながれうる。そのスクラバーは、従来の方法で微粒子の洗浄し
ている減少及びプロセス流れの溶解可能な成分を実施するために造られうる。代
わりに、インレット構造1060が、処理のための他のどの処理設備かもそのガスの
処理に結びつけられうる。
のハウジングにつながれうる。そのスクラバーは、従来の方法で微粒子の洗浄し
ている減少及びプロセス流れの溶解可能な成分を実施するために造られうる。代
わりに、インレット構造1060が、処理のための他のどの処理設備かもそのガスの
処理に結びつけられうる。
【０２１９】 それについて、インレット終わりから荷揚げ終わりまで流れはインレット構造
を通り抜けた。
を通り抜けた。
【０２２０】 このように、流入液ガスがその方向で流れうる。ガス流量パス1066が指示を出
したインレット構造1060によって、示された方向の荷揚げ終わりへの図13の中の
矢「1001」は、矢「1002」によって図13の中で提供される。
したインレット構造1060によって、示された方向の荷揚げ終わりへの図13の中の
矢「1001」は、矢「1002」によって図13の中で提供される。
【０２２１】 操作の中で、微粒子の固形物-含んでいるガスが、適当な接続している配管に
よってツール（示された）を製作している半導体のような、上流の源から導入さ
れること、そしてそれは、先に言及される、ガス流成分の有害な昇華か濃縮をイ
ンレット構造の中で抑制する熱追跡にあるかもしれない。その流れは、矢「1001
」によって示された流れ方向のインレット構造1060を入れる及びインレットセク
ション1007を通り抜ける及び上の環状のセクション1008を入れる。窒素か他のガ
スのような、低い圧力ガスは、源1004から港1022に接続していた低い圧力ガス・
フィード第1024行まで流される及び環状の内部のボリューム1020を入れる。環状
の内部のボリューム1020から、内部のガス流量通過1066に導入された低い圧力ガ
スは、ガス透過性の壁1006の中を流れる。このように、ガス・フィード第1024行
からの低い圧力ガスが環状の内部のボリューム1020に及びガス透過性壁1006を通
して流れるように、微粒子の含んでいるガスは、内部のガス流量通過1066を通し
て及びスクラバー1013に流れる。
よってツール（示された）を製作している半導体のような、上流の源から導入さ
れること、そしてそれは、先に言及される、ガス流成分の有害な昇華か濃縮をイ
ンレット構造の中で抑制する熱追跡にあるかもしれない。その流れは、矢「1001
」によって示された流れ方向のインレット構造1060を入れる及びインレットセク
ション1007を通り抜ける及び上の環状のセクション1008を入れる。窒素か他のガ
スのような、低い圧力ガスは、源1004から港1022に接続していた低い圧力ガス・
フィード第1024行まで流される及び環状の内部のボリューム1020を入れる。環状
の内部のボリューム1020から、内部のガス流量通過1066に導入された低い圧力ガ
スは、ガス透過性の壁1006の中を流れる。このように、ガス・フィード第1024行
からの低い圧力ガスが環状の内部のボリューム1020に及びガス透過性壁1006を通
して流れるように、微粒子の含んでいるガスは、内部のガス流量通過1066を通し
て及びスクラバー1013に流れる。
【０２２２】 このように、環状の内部のボリューム1020は、低い圧力ガスで源1004から気圧
調節をされる。そのような圧力は、多孔性壁を通して内部のガス流量通過1066に
、低い圧力ガスの低い、安定した流れを確実にする。このように、低く率（壁が
離れてそのインレットの内部の壁表面からの内部のガス流量引用文1066の中を流
れているガス流の中の微粒子が組み立てると主張するガス透過性を通してのガス
の安定した流れ）を流す。さらに、内部の流量通過1066の中のガス流量流れで現
在のどんなガスでも、同様にインレット構造の内部の壁表面から遠ざけられる。
調節をされる。そのような圧力は、多孔性壁を通して内部のガス流量通過1066に
、低い圧力ガスの低い、安定した流れを確実にする。このように、低く率（壁が
離れてそのインレットの内部の壁表面からの内部のガス流量引用文1066の中を流
れているガス流の中の微粒子が組み立てると主張するガス透過性を通してのガス
の安定した流れ）を流す。さらに、内部の流量通過1066の中のガス流量流れで現
在のどんなガスでも、同様にインレット構造の内部の壁表面から遠ざけられる。
【０２２３】 低い圧力ガス・フィード第1024行は、希望する場合たどられた熱でありえる。
インレット構造の中を流れているガス流がそれが凝縮してもよい。か、昇華させ
るかもしれない種及び沈澱物をインレット構造の壁の上で含むならば、そのよう
な熱追跡は望ましいかもしれない。
インレット構造の中を流れているガス流がそれが凝縮してもよい。か、昇華させ
るかもしれない種及び沈澱物をインレット構造の壁の上で含むならば、そのよう
な熱追跡は望ましいかもしれない。
【０２２４】 並列に、高圧ガス供給1005からの高圧ガスは、環状の内部のボリューム1020へ
の高圧ガス注入ポート1050を通しての定期的に流れられたすっかり高い圧力ガス
・フィード第1052行であるかもしれない。この目的のために、高圧ガスのパルス
された紹介を適応させるためにその第1052行は、そこにフロー制御弁（示された
）を持つかもしれない。このように、ガス透過性壁1006の内の表面で、どんな粒
子強化でも取り壊すために高圧ガスは、指定されたかあらかじめ決められた間隔
で環状の内部のボリュームに注射される。ガス透過性壁表面で、固形物蓄積を防
ぐ好ましい壁洗浄効果を成し遂げるために高圧ガスのパルスされた紹介のその持
続及び時間シークエンシングは、過度の実験なしでその技術の技術の範囲内で容
易に決定してもよい。必要であるならば、インレット構造がツールを製作してい
る半導体にサービスしているスクラバーと関連して使用されるとき、そのような
高圧注入はツール・バッチ・サイクルの間、制御手段の適当な統合による排出ポ
ートが有効にツール制御システムにリンクしたツールで、圧力変動を除去するた
めに中断してもよい。この目的のために、ソレノイド弁のような制御弁は、適切
にツール組立部品の制御手段に結びつけられうる。
の高圧ガス注入ポート1050を通しての定期的に流れられたすっかり高い圧力ガス
・フィード第1052行であるかもしれない。この目的のために、高圧ガスのパルス
された紹介を適応させるためにその第1052行は、そこにフロー制御弁（示された
）を持つかもしれない。このように、ガス透過性壁1006の内の表面で、どんな粒
子強化でも取り壊すために高圧ガスは、指定されたかあらかじめ決められた間隔
で環状の内部のボリュームに注射される。ガス透過性壁表面で、固形物蓄積を防
ぐ好ましい壁洗浄効果を成し遂げるために高圧ガスのパルスされた紹介のその持
続及び時間シークエンシングは、過度の実験なしでその技術の技術の範囲内で容
易に決定してもよい。必要であるならば、インレット構造がツールを製作してい
る半導体にサービスしているスクラバーと関連して使用されるとき、そのような
高圧注入はツール・バッチ・サイクルの間、制御手段の適当な統合による排出ポ
ートが有効にツール制御システムにリンクしたツールで、圧力変動を除去するた
めに中断してもよい。この目的のために、ソレノイド弁のような制御弁は、適切
にツール組立部品の制御手段に結びつけられうる。
【０２２５】 示されたインレット構造実施例の中で、フランジ1026及び1028はお互いに下部
の環状のセクション1030から、上の環状のセクション1008の速い切断を許すため
に締めつけられうる。そのような目的のために、早期解除クランプは、使用して
もよい。フランジ1026及び1028の間の封じているガスケット1010は、抵抗する腐
食のような適当な材料の中で作り上げられうる。、高温エラストマー材料。この
エラストマーガスケットは、上の環状のセクションからインレット構造（特にそ
の発明の熱たどられた実施例の中で重要な特徴）の下部の環状のセクションまで
、熱移転を最小にするためにその上に熱バリアの機能を果たす。
の環状のセクション1030から、上の環状のセクション1008の速い切断を許すため
に締めつけられうる。そのような目的のために、早期解除クランプは、使用して
もよい。フランジ1026及び1028の間の封じているガスケット1010は、抵抗する腐
食のような適当な材料の中で作り上げられうる。、高温エラストマー材料。この
エラストマーガスケットは、上の環状のセクションからインレット構造（特にそ
の発明の熱たどられた実施例の中で重要な特徴）の下部の環状のセクションまで
、熱移転を最小にするためにその上に熱バリアの機能を果たす。
【０２２６】 例えば侵食耐性のあるハステロイ276が鋼をかぶせるどんな適当な材料の中で
でも、インレット構造の上の環状のセクションのガス透過性壁1006は、作り上げ
られうる。上の環状のセクションの外の壁1009は、薄い壁で囲われたステンレス
鋼パイプであるかもしれない。
でも、インレット構造の上の環状のセクションのガス透過性壁1006は、作り上げ
られうる。上の環状のセクションの外の壁1009は、薄い壁で囲われたステンレス
鋼パイプであるかもしれない。
【０２２７】 インレット構造の下部の環状のセクション1030は、プラスチックのpolyvinylc
hlorideのようなどんな適当な材料の中ででも作り上げられうる。水は、外の壁1
012及び内の堰壁1011の間で、水供給1003から第1050行まで環状の内部のボリュ
ーム1032に注射される。好んで、環状の内部のボリューム1032の中で、その水の
角の勢いがその水が堰壁1011の最高の終わりか上の終わり1046の上に及び堰壁の
内部の表面の下へインレット構造の内部の流量通過1066の中で螺旋形になるよう
になるのを許すためにその水は、わずかに触れる程度に注射される。堰壁1011の
内部の表面の下のそのような水流量は、流量通過1066の下へインレット構造の下
でどんな微粒子でもスクラバー1014に流すために使用される。
hlorideのようなどんな適当な材料の中ででも作り上げられうる。水は、外の壁1
012及び内の堰壁1011の間で、水供給1003から第1050行まで環状の内部のボリュ
ーム1032に注射される。好んで、環状の内部のボリューム1032の中で、その水の
角の勢いがその水が堰壁1011の最高の終わりか上の終わり1046の上に及び堰壁の
内部の表面の下へインレット構造の内部の流量通過1066の中で螺旋形になるよう
になるのを許すためにその水は、わずかに触れる程度に注射される。堰壁1011の
内部の表面の下のそのような水流量は、流量通過1066の下へインレット構造の下
でどんな微粒子でもスクラバー1014に流すために使用される。
【０２２８】 インレット構造を通しての圧力低下は、上流のプロセス・ユニット及びそのガ
ス洗浄ユニットから、下流に排出パイプをインレット構造からせびっている圧力
によって、容易に決定されることができる。圧力低下はphotohelicな標準規格で
モニターされることができる及び、読んでいるそのような圧力低下は適当なモニ
タリング及び制御設備に、ガス洗浄装置インレットの中で詰まっているモニター
に送られることができる。
ス洗浄ユニットから、下流に排出パイプをインレット構造からせびっている圧力
によって、容易に決定されることができる。圧力低下はphotohelicな標準規格で
モニターされることができる及び、読んでいるそのような圧力低下は適当なモニ
タリング及び制御設備に、ガス洗浄装置インレットの中で詰まっているモニター
に送られることができる。
【０２２９】 インレット構造の使用によって、本発明のシステムの中で、インタフェースは
そのスクラバー及びツール排出ストリームの間で、繰り返して普通のプロセス操
作の中で詰まらない操作を製作している半導体から提供してもよい。そのような
インレット構造は、2つの補助のプロセス流れ、安定した低い流量清め流れ及び
高圧パルス流れを、インタフェースに提供する。低い流量清め流れが不活発なガ
スのネット流動をつくって例えば中心の流量通過1066のcenterlineの方の上の環
状のセクションの内の表面を欠席した窒素。高圧ガス流量流れは、詰まっている
固体に対して自己洗浄能力を提供する。高圧ガス流量は、中心の流量通過1066の
インレット構造上の環状のセクション内部の表面で、どんな粒子強化でも除去す
るために使用される。
そのスクラバー及びツール排出ストリームの間で、繰り返して普通のプロセス操
作の中で詰まらない操作を製作している半導体から提供してもよい。そのような
インレット構造は、2つの補助のプロセス流れ、安定した低い流量清め流れ及び
高圧パルス流れを、インタフェースに提供する。低い流量清め流れが不活発なガ
スのネット流動をつくって例えば中心の流量通過1066のcenterlineの方の上の環
状のセクションの内の表面を欠席した窒素。高圧ガス流量流れは、詰まっている
固体に対して自己洗浄能力を提供する。高圧ガス流量は、中心の流量通過1066の
インレット構造上の環状のセクション内部の表面で、どんな粒子強化でも除去す
るために使用される。
【０２３０】 それから、そのスクラバーに下流にインレット構造の中で下ってフラッシュさ
れるためにガス、伴出された粒子及び以前に置かれた粒子はオーバフロー流れに
インレット構造の下部の環状のセクションの中で、内の壁表面に向けられる。効
果的に微粒子の運転中の固体の強化を最小にする非常に効率的なインレット形態
を提供して、このように、上の環状のセクションのガス透過性壁の間の直接のイ
ンタフェース及びその堰はそのインレットの下部の環状のセクションの中で、構
造を壁で囲う。
れるためにガス、伴出された粒子及び以前に置かれた粒子はオーバフロー流れに
インレット構造の下部の環状のセクションの中で、内の壁表面に向けられる。効
果的に微粒子の運転中の固体の強化を最小にする非常に効率的なインレット形態
を提供して、このように、上の環状のセクションのガス透過性壁の間の直接のイ
ンタフェース及びその堰はそのインレットの下部の環状のセクションの中で、構
造を壁で囲う。
【０２３１】 そのようなインレット構造は、たくさんの利点を持つ。応用の中で半導体製造
設備及びスクラバー処理システムにとって、廃物のガス廃水の処理のためにツー
ルから半導体プロセス施設では、半導体ツールからの排気ガスは、連続的にずっ
とツール排出ポートから水インタフェースまでスクラバーインレット構造の中で
熱されることができる。インレットラインの上の熱追跡が、対流によってエネル
ギーを流れるガス流へ移す配管に、エネルギーを実施することによってそのライ
ンを熱するために使われることができる。 熱いガスのそのような流量は、それ
が一方凝縮するか、昇華させる上流のプロセス・ユニットから、インレット構造
までたれているガス流の中で、ガスを作り上げているどんな微粒子でもの蒸気圧
力によって決定される温度及び沈澱物で、インレット構造の壁の上で、インレッ
ト構造の中心の流量通過の中を流れているプロセス・ガスを維持する。
設備及びスクラバー処理システムにとって、廃物のガス廃水の処理のためにツー
ルから半導体プロセス施設では、半導体ツールからの排気ガスは、連続的にずっ
とツール排出ポートから水インタフェースまでスクラバーインレット構造の中で
熱されることができる。インレットラインの上の熱追跡が、対流によってエネル
ギーを流れるガス流へ移す配管に、エネルギーを実施することによってそのライ
ンを熱するために使われることができる。 熱いガスのそのような流量は、それ
が一方凝縮するか、昇華させる上流のプロセス・ユニットから、インレット構造
までたれているガス流の中で、ガスを作り上げているどんな微粒子でもの蒸気圧
力によって決定される温度及び沈澱物で、インレット構造の壁の上で、インレッ
ト構造の中心の流量通過の中を流れているプロセス・ガスを維持する。
【０２３２】 上記の確認されたインレット構造のもう一つの利点は、そのような構造が容易
に分解してもよい。ということである。インレット構造が運転中の障害物にする
イベントでは、その構造は、単にインレット構造のフランジにお互いを守らせて
いるそのクランプか他の確保要素を除去すること、簡単に分解される。このよう
に、上の環状のセクションは、適所にいそれぞれのフランジを保持しているクラ
ンプを除去することによって及び上の環状のセクションを供給するそれぞれのガ
ス・フィード・ラインの接続を断つことによって取り替えられうる。
に分解してもよい。ということである。インレット構造が運転中の障害物にする
イベントでは、その構造は、単にインレット構造のフランジにお互いを守らせて
いるそのクランプか他の確保要素を除去すること、簡単に分解される。このよう
に、上の環状のセクションは、適所にいそれぞれのフランジを保持しているクラ
ンプを除去することによって及び上の環状のセクションを供給するそれぞれのガ
ス・フィード・ラインの接続を断つことによって取り替えられうる。
【０２３３】 そのようなインレット構造の静かな更なる利点は、それが合っている自己洗浄
であるということである。上流のプロセス・ユニットからインレット構造までた
れているガス流の中で伴出された、あるいは、化学の反応によってインレット構
造の中で作り上げられた粒子は、インレット構造のガス透過性壁から、パルスさ
れた高圧ガス注入によって、内部の環状のボリュームにインレット構造の上の環
状のセクションの中で、容易にきれいにされることができる。それからそれから
、インレット構造の上の環状のセクションの内部の壁表面から除去される粒子は
、そのような微粒子の固体が下流のガス洗浄装置にフラッシュされる堰壁のオー
バフロー部分に向けられる。その圧力、持続及び高圧ガス圧力パルスの定期性は
、簡単にそのような固体の一般に行われているシステム微粒子の濃度条件及びキ
ャラクタを適応させるようにされることができる。パルスされた高圧ガス注入の
効果は、微粒子の固体のキャラクタに依存する。したがって、そのようなインレ
ット構造は、こする道具の使用か先行技術流体の処理システムのいわゆる自己洗
浄装置を代表する突入者装置なしで自然の中の自己洗浄である。
であるということである。上流のプロセス・ユニットからインレット構造までた
れているガス流の中で伴出された、あるいは、化学の反応によってインレット構
造の中で作り上げられた粒子は、インレット構造のガス透過性壁から、パルスさ
れた高圧ガス注入によって、内部の環状のボリュームにインレット構造の上の環
状のセクションの中で、容易にきれいにされることができる。それからそれから
、インレット構造の上の環状のセクションの内部の壁表面から除去される粒子は
、そのような微粒子の固体が下流のガス洗浄装置にフラッシュされる堰壁のオー
バフロー部分に向けられる。その圧力、持続及び高圧ガス圧力パルスの定期性は
、簡単にそのような固体の一般に行われているシステム微粒子の濃度条件及びキ
ャラクタを適応させるようにされることができる。パルスされた高圧ガス注入の
効果は、微粒子の固体のキャラクタに依存する。したがって、そのようなインレ
ット構造は、こする道具の使用か先行技術流体の処理システムのいわゆる自己洗
浄装置を代表する突入者装置なしで自然の中の自己洗浄である。
【０２３４】 インレット構造の上の環状のセクションの多孔性壁要素の材料仕様は、上流の
プロセス・ユニットから入って来るプロセス・ガスに依存している。そのガス流
が酸性のガス成分を含むならば、そのようなガスはそのスクラバーに吸収される
及び溢流堰壁にインレット構造の下部の環状のセクションの中でrecirculatedさ
れる水の中である。溢流堰壁水のいくつかがインレット構造の上の環状のセクシ
ョンの多孔性内の壁の上で、上へはねることは、可能である。そのような例の中
の多孔性壁は、望ましく建設の耐食材料から選ばれる。そのような目的のための
好まれた金属材料は、低温hydrousな酸性の条件で優秀な腐食抵抗を展覧するハ
ステロイ276の鋼である。
プロセス・ユニットから入って来るプロセス・ガスに依存している。そのガス流
が酸性のガス成分を含むならば、そのようなガスはそのスクラバーに吸収される
及び溢流堰壁にインレット構造の下部の環状のセクションの中でrecirculatedさ
れる水の中である。溢流堰壁水のいくつかがインレット構造の上の環状のセクシ
ョンの多孔性内の壁の上で、上へはねることは、可能である。そのような例の中
の多孔性壁は、望ましく建設の耐食材料から選ばれる。そのような目的のための
好まれた金属材料は、低温hydrousな酸性の条件で優秀な腐食抵抗を展覧するハ
ステロイ276の鋼である。
【０２３５】 上記のインレット構造のもう一つの利点は、インレット構造が上流にスクラバ
ーの中で使用されるとき、ここで図示されるように、それがそのスクラバーのト
ップから水蒸気の逆流を最小にするということである。この利点の説明を経由し
て、微粒子がいくらかの半導体ツールの排出ストリームの中で、プロセス・ツー
ルからのどちらの伴出された微粒子としてでもまたは化学の反応の反応物として
そのガス流の流量道の中であるかもしれないことは、認められることになってい
る。
ーの中で使用されるとき、ここで図示されるように、それがそのスクラバーのト
ップから水蒸気の逆流を最小にするということである。この利点の説明を経由し
て、微粒子がいくらかの半導体ツールの排出ストリームの中で、プロセス・ツー
ルからのどちらの伴出された微粒子としてでもまたは化学の反応の反応物として
そのガス流の流量道の中であるかもしれないことは、認められることになってい
る。
【０２３６】 この微粒子の強化の理由は、そのスクラバーから下流にインレット構造からba
ckstreamingしている水蒸気の出来事である。ガス流量の普通の方向に対してそ
のガス洗浄装置から自由にされた水蒸気は、後ろにガス洗浄装置インレットから
プロセス・ツールの方へ移る。
ckstreamingしている水蒸気の出来事である。ガス流量の普通の方向に対してそ
のガス洗浄装置から自由にされた水蒸気は、後ろにガス洗浄装置インレットから
プロセス・ツールの方へ移る。
【０２３７】 水蒸気のこの後ろの移動に関係していた1つのメカニズムは、ガス-ガス相互拡
散である。水蒸気後ろの移動のこの源を避ける実際的な方法だけは、拡散境界を
スクラバーインレットに加えることになっている。水蒸気のそのような後ろの拡
散のためのもう一つのメカニズムは、いわゆるリチャードソン・アニュラー効果
である。全ての乾いたポンプは、ガス流量流れの中で圧力振動のある量をつくる
。これらの圧力振動は、普通のガス流量の方向に対して、ガスをポンプで揚げる
向流輸送メカニズムをつくる。この現象は、その障壁層アニュラー効果の結果で
ある。これのため、生じて、逆流移動速さが、最も大きい、壁表面を欠席した小
さい距離。上記のインレット構造は、リチャードソン・アニュラー効果を最小に
するか、除去する。低い圧力ガスの安定したアウトフローのために、インレット
構造の上の環状のセクションの多孔性壁の内の表面で、上の環状のセクションの
内の壁表面での静的な境界層条件は、発達することができない。それによってリ
チャードソン・アニュラー効果を避けて、はずんでいる壁からプロセス・ガス流
量を「押しのける」ためにインレット構造の中心の流量通過を行う及び静的な境
界条件の存在を避けるガス透過性壁からの流れるガスのネット流動が、ある。そ
れゆえに、粒子が化学の反応の結果、流量流れの中で作り上げられるならば、こ
れくらい作り上げられた粒子はかたまりになる壁を見つけない。その粒子は、そ
のスクラバーにその代わりにそのガス流であふれる。同じものは、伴出された粒
子にあてはまる。その粒子がそのインレットのトップに着くならば、彼らが集ま
る壁を持たないので、彼らはガス流量流れの中で伴出される。
散である。水蒸気後ろの移動のこの源を避ける実際的な方法だけは、拡散境界を
スクラバーインレットに加えることになっている。水蒸気のそのような後ろの拡
散のためのもう一つのメカニズムは、いわゆるリチャードソン・アニュラー効果
である。全ての乾いたポンプは、ガス流量流れの中で圧力振動のある量をつくる
。これらの圧力振動は、普通のガス流量の方向に対して、ガスをポンプで揚げる
向流輸送メカニズムをつくる。この現象は、その障壁層アニュラー効果の結果で
ある。これのため、生じて、逆流移動速さが、最も大きい、壁表面を欠席した小
さい距離。上記のインレット構造は、リチャードソン・アニュラー効果を最小に
するか、除去する。低い圧力ガスの安定したアウトフローのために、インレット
構造の上の環状のセクションの多孔性壁の内の表面で、上の環状のセクションの
内の壁表面での静的な境界層条件は、発達することができない。それによってリ
チャードソン・アニュラー効果を避けて、はずんでいる壁からプロセス・ガス流
量を「押しのける」ためにインレット構造の中心の流量通過を行う及び静的な境
界条件の存在を避けるガス透過性壁からの流れるガスのネット流動が、ある。そ
れゆえに、粒子が化学の反応の結果、流量流れの中で作り上げられるならば、こ
れくらい作り上げられた粒子はかたまりになる壁を見つけない。その粒子は、そ
のスクラバーにその代わりにそのガス流であふれる。同じものは、伴出された粒
子にあてはまる。その粒子がそのインレットのトップに着くならば、彼らが集ま
る壁を持たないので、彼らはガス流量流れの中で伴出される。
【０２３８】 リチャードソン・アニュラー効果を引き起こす条件に反対することによって、
インレット構造の上の環状のセクションの中の多孔性壁は、プロセス・システム
の排出ラインに、水蒸気の後ろの移動に対する効果的な障害の役目を果たす。ど
んな後ろの移動でも、非常にゆっくり前記の相互拡散メカニズムによる。ガス洗
浄装置エントリ及び排出ラインがたびたびそのインレットとして本発明の構造を
詰まらなくしてから、この要因は、そのガス洗浄装置のために大いにその故障ま
での平均時間を増やす。
インレット構造の上の環状のセクションの中の多孔性壁は、プロセス・システム
の排出ラインに、水蒸気の後ろの移動に対する効果的な障害の役目を果たす。ど
んな後ろの移動でも、非常にゆっくり前記の相互拡散メカニズムによる。ガス洗
浄装置エントリ及び排出ラインがたびたびそのインレットとして本発明の構造を
詰まらなくしてから、この要因は、そのガス洗浄装置のために大いにその故障ま
での平均時間を増やす。
【０２３９】 金属材料から造られているようにその発明のインレット構造の上の環状のセク
ションの多孔性壁メンバーがここで記述されたけれども、そのようなガス透過性
壁が建設のどんな適当な材料の中ででも作り上げられうる。ことは認められる。
例えば、多孔性壁は、腐食性の雰囲気に耐える能力を持っている多孔性セラミッ
クの材料、温度極端及び本発明のインレット構造の使用の中であるかもしれない
インプット圧力の中で作り上げられうる。
ションの多孔性壁メンバーがここで記述されたけれども、そのようなガス透過性
壁が建設のどんな適当な材料の中ででも作り上げられうる。ことは認められる。
例えば、多孔性壁は、腐食性の雰囲気に耐える能力を持っている多孔性セラミッ
クの材料、温度極端及び本発明のインレット構造の使用の中であるかもしれない
インプット圧力の中で作り上げられうる。
【０２４０】 図14は、本発明の実行の中で利用してもよい。ガス/液体インタフェース構造
の概要のクロス-部門の高さ見方である。
の概要のクロス-部門の高さ見方である。
【０２４１】 そのガス/液体のインタフェース構造1110は、円筒形の細長い壁1114によって
定義された最初の垂直に広がっているインレット流量通過メンバー1112を含む。
円筒形の壁1114は、インレット流量通過メンバー1112の範囲内で、囲まれた流量
通過1118の回りに境界線を引く。円筒形の壁1114の上の終わりで、radiallyな外
見上広がっているフランジ1116は、そのガス/笛を吹いている連合したプロセス
流量への液体のインタフェース構造、導管、計測、その他に加わることに対して
用意されている。このように、開いたインレット及びコンセント終わりが内部の
ボリュームで流量通過（第1160行の中で図14の中でillustrativelyに示されるよ
うに上流のプロセス・ユニット1158からのガスが流してもよい。）1118を含む流
量パスを定義するために、最初のインレット流量通過メンバー1112は、その上の
終わり及び対応するコンセント1122で、その下部の終わりでインレット1120を持
つ。
定義された最初の垂直に広がっているインレット流量通過メンバー1112を含む。
円筒形の壁1114は、インレット流量通過メンバー1112の範囲内で、囲まれた流量
通過1118の回りに境界線を引く。円筒形の壁1114の上の終わりで、radiallyな外
見上広がっているフランジ1116は、そのガス/笛を吹いている連合したプロセス
流量への液体のインタフェース構造、導管、計測、その他に加わることに対して
用意されている。このように、開いたインレット及びコンセント終わりが内部の
ボリュームで流量通過（第1160行の中で図14の中でillustrativelyに示されるよ
うに上流のプロセス・ユニット1158からのガスが流してもよい。）1118を含む流
量パスを定義するために、最初のインレット流量通過メンバー1112は、その上の
終わり及び対応するコンセント1122で、その下部の終わりでインレット1120を持
つ。
【０２４２】 上流のプロセス・ユニット1158は、例えばツール及び連合した排ガス処理装置
を製作している半導体を含むかもしれない。そのような排流処理装置は、酸化成
分の酸化のためにその排ガスの中で順番に酸化剤を含むかもしれない。適当な酸
化剤が、広く型を変えることである及び触媒作用の酸化によってユニット、熱酸
化ユニット、電熱の酸化剤、その他と例えば指令してもよい。
を製作している半導体を含むかもしれない。そのような排流処理装置は、酸化成
分の酸化のためにその排ガスの中で順番に酸化剤を含むかもしれない。適当な酸
化剤が、広く型を変えることである及び触媒作用の酸化によってユニット、熱酸
化ユニット、電熱の酸化剤、その他と例えば指令してもよい。
【０２４３】 上流のプロセス・ユニット1158は、いつ手段及びガス処理手段を半導体製造工
程（そのガス流）のために生成しているガスを含むかメンバー1112がいるかもし
れない通過が上げた最初のインレット流量のインレット1120に導入される温度及
び、微粒子の固体の相当な濃度を例えばミクロン以下のサイズ粒子の形で含むか
もしれない。
程（そのガス流）のために生成しているガスを含むかメンバー1112がいるかもし
れない通過が上げた最初のインレット流量のインレット1120に導入される温度及
び、微粒子の固体の相当な濃度を例えばミクロン以下のサイズ粒子の形で含むか
もしれない。
【０２４４】 インタフェース構造1110は、さらに最初の流量通過メンバー1112の回りに境界
線を引く及び、その間で環状のボリューム1130を定義するために示されるように
、それに間隔をあけられた関連にある第２の流量通過メンバー1124を含む。最初
の流量通過メンバーの開いたコンセント1122が第２の流量通過メンバー1124の開
いた下部の終わり1168との垂直に間隔をあけられた関係にあるために、第２の流
量通過メンバー1124は、下方へ最初の流量通過メンバー1112のより低い終わりの
下で、下部の終わり1168に及ぶ。
線を引く及び、その間で環状のボリューム1130を定義するために示されるように
、それに間隔をあけられた関連にある第２の流量通過メンバー1124を含む。最初
の流量通過メンバーの開いたコンセント1122が第２の流量通過メンバー1124の開
いた下部の終わり1168との垂直に間隔をあけられた関係にあるために、第２の流
量通過メンバー1124は、下方へ最初の流量通過メンバー1112のより低い終わりの
下で、下部の終わり1168に及ぶ。
【０２４５】 第２の流量通過メンバー1124は、高低的に最初の流量通過メンバーのコンセン
ト1122を定義しているより低い終わりより上に、残っている液体のしみ通らない
部分（下方へ図示されるように液体の透過性のある部分1126から広がる）1128で
上の液体の透過性のある部分1126を含む。 代わりに、第２の流量通過メンバー1
124が、上の部分を単位の円筒形の管状のメンバーから作り上げられうる。、キ
ャラクタの中で、水-ジェット機械加工か、エッチングか、焼結か、ミクロのele
ctromachiningか気孔率か透過性特徴がそのような管状のメンバーの上の部分に
知らせられることができる他のどの適当なテクニックのようなも処理によって、
液体のpermeableを差し出される。好んで、一緒に加わられる初めに別々の上の
及び下部の部分の中で、第２の流量通過メンバーは作り上げられる及び、上の部
分が多孔性焼結された金属マトリックスか多孔性陶磁器によって、その後材料（
その気孔率が十分な次元のキャラクタの中でそれを通じて液体の浸透を許すこと
であるその点で）を構成されるその点ではより大きい詳細の中で将来を記述した
。
ト1122を定義しているより低い終わりより上に、残っている液体のしみ通らない
部分（下方へ図示されるように液体の透過性のある部分1126から広がる）1128で
上の液体の透過性のある部分1126を含む。 代わりに、第２の流量通過メンバー1
124が、上の部分を単位の円筒形の管状のメンバーから作り上げられうる。、キ
ャラクタの中で、水-ジェット機械加工か、エッチングか、焼結か、ミクロのele
ctromachiningか気孔率か透過性特徴がそのような管状のメンバーの上の部分に
知らせられることができる他のどの適当なテクニックのようなも処理によって、
液体のpermeableを差し出される。好んで、一緒に加わられる初めに別々の上の
及び下部の部分の中で、第２の流量通過メンバーは作り上げられる及び、上の部
分が多孔性焼結された金属マトリックスか多孔性陶磁器によって、その後材料（
その気孔率が十分な次元のキャラクタの中でそれを通じて液体の浸透を許すこと
であるその点で）を構成されるその点ではより大きい詳細の中で将来を記述した
。
【０２４６】 そのガス/液体のインタフェース構造1110は、さらに囲むように、第２の流量
通過メンバーの回りに境界線を引いている及びそれとともに囲まれた内部の環状
のボリューム1170を定義している外の壁メンバー1134を含む。外の壁メンバー11
34は、円筒形の横の壁1136、最高の終わり壁1138及び法人として内部の環状のボ
リューム1170を囲む底終わり壁1140を含む。横の壁1136は、液体の紹介ポート11
42を備えている。そのポートはどんな適当な方法ででも提供してもよい。、しか
し、示された実施例は管状の水平なポート拡張1144によって、中で構成される。
代わりに、そのポートは、単に開口部か横の壁か液体が内部の環状のボリューム
1170に、外部の液体の供給から導入されることができるそれによって他の液体の
インレット構造にできた穴であるかもしれない。
通過メンバーの回りに境界線を引いている及びそれとともに囲まれた内部の環状
のボリューム1170を定義している外の壁メンバー1134を含む。外の壁メンバー11
34は、円筒形の横の壁1136、最高の終わり壁1138及び法人として内部の環状のボ
リューム1170を囲む底終わり壁1140を含む。横の壁1136は、液体の紹介ポート11
42を備えている。そのポートはどんな適当な方法ででも提供してもよい。、しか
し、示された実施例は管状の水平なポート拡張1144によって、中で構成される。
代わりに、そのポートは、単に開口部か横の壁か液体が内部の環状のボリューム
1170に、外部の液体の供給から導入されることができるそれによって他の液体の
インレット構造にできた穴であるかもしれない。
【０２４７】 図14の実施例の中で、液体のインレットポート1142は、そこにフロー制御弁11
48を含んでいる液体の紹介第1146行に結びつけられる。液体のインレット第1146
行は、液体の供給リザーバ1150に接続している。
48を含んでいる液体の紹介第1146行に結びつけられる。液体のインレット第1146
行は、液体の供給リザーバ1150に接続している。
【０２４８】 リザーバ1150から第1146行まで液体のインレット港1142に液体のあらかじめ決
められたか一方選ばれた流量を提供するために第1146行の中の液体のフロー制御
弁1148は、適当なコントローラー/中央処理装置（CPU）、マイクロプロセッサー
、フロー制御コンソールや補助のモニタリングを含むタイマー手段及び制御手段
に結びつけられうる。これくらい導入された液体は内部の環状のボリューム1170
を満たす及び、そのような液体はどんな適当なプロセス条件ででも導入してもよ
い。
められたか一方選ばれた流量を提供するために第1146行の中の液体のフロー制御
弁1148は、適当なコントローラー/中央処理装置（CPU）、マイクロプロセッサー
、フロー制御コンソールや補助のモニタリングを含むタイマー手段及び制御手段
に結びつけられうる。これくらい導入された液体は内部の環状のボリューム1170
を満たす及び、そのような液体はどんな適当なプロセス条件ででも導入してもよ
い。
【０２４９】 熱い微粒子の荷を積んだ排ガス流のようなガス流の処理のために、半導体製造
工程から、内部の環状のボリューム1170の中の液体は、水か他の水の媒体である
かもしれない。
工程から、内部の環状のボリューム1170の中の液体は、水か他の水の媒体である
かもしれない。
【０２５０】 第２の流量通過メンバー1124の上の液体の透過性のある部分1126の液体の透過
性のあるキャラクタによって、内部の環状のボリューム1170からの液体は、第２
の流量通過メンバーの上の部分1126に広がる及び液体の小滴1154のような上の部
分の内の壁表面1132で表される。そのような出ている液体の小滴、の結果、重力
の生じる、落す及びより低い液体非透過性の内の壁表面1172の下方へ流れる液体
のフィルム1156が分ける形式への他の液体の小滴及び集合で、その瞬間、合体す
る流量通過メンバー。第２の流量通過メンバーの下部の開いた終わり1168から射
出している液体のフィルムの中の液体は適当なコレクションに向けられうる。及
び、処理手段（示された）は例えばそれの共同処理のためにそのガス流がある下
流のプロセス・ユニット1164の中で、第1162行の中で第２の流量通過メンバーの
ガス流量通過1152から流れた。下流のプロセス・ユニット1164は、スクラバーか
、反応部屋か装置か処理地帯（通過1152から第1162行の中で流されたガス流が最
終的な排ガスの下流のプロセス・ユニットからの発射で、第1166行の中で更なる
プロセス操作を受ける）を処理しているもう一方であるかもしれない。
性のあるキャラクタによって、内部の環状のボリューム1170からの液体は、第２
の流量通過メンバーの上の部分1126に広がる及び液体の小滴1154のような上の部
分の内の壁表面1132で表される。そのような出ている液体の小滴、の結果、重力
の生じる、落す及びより低い液体非透過性の内の壁表面1172の下方へ流れる液体
のフィルム1156が分ける形式への他の液体の小滴及び集合で、その瞬間、合体す
る流量通過メンバー。第２の流量通過メンバーの下部の開いた終わり1168から射
出している液体のフィルムの中の液体は適当なコレクションに向けられうる。及
び、処理手段（示された）は例えばそれの共同処理のためにそのガス流がある下
流のプロセス・ユニット1164の中で、第1162行の中で第２の流量通過メンバーの
ガス流量通過1152から流れた。下流のプロセス・ユニット1164は、スクラバーか
、反応部屋か装置か処理地帯（通過1152から第1162行の中で流されたガス流が最
終的な排ガスの下流のプロセス・ユニットからの発射で、第1166行の中で更なる
プロセス操作を受ける）を処理しているもう一方であるかもしれない。
【０２５１】 液体の透過性のある上の部分を通して泣いている液体が合体することができる
及び落ちている液体のフィルム1156を現像することができるために、このように
、そのガス/液体のインタフェース構造1110は、及び下方へ第２の流量通過メン
バーの液体の透過性のある上の部分1126の下で広がっている最初の流量通過メン
バー1112と、最初の及び第２の流量通過メンバーの間で、内部の環状のボリュー
ム1130を提供するために造られる。この配置によって、流量通過1118から流量通
過1152まで流されたガスは、保護する液体のフィルム1156でおおわれる第２の流
量通過メンバーのより低い部分の内部の壁表面1172に遭遇する。それゆえに、腐
食及び第２の流量通過メンバーのそのような内部の壁表面に対する反対の反応効
果を最小にするために最初の流量通過メンバーの下部の開いた終わり1122から射
出されたガスの中のどんな腐食性の種でも、内の壁表面に関して「和らげられる
」。
及び落ちている液体のフィルム1156を現像することができるために、このように
、そのガス/液体のインタフェース構造1110は、及び下方へ第２の流量通過メン
バーの液体の透過性のある上の部分1126の下で広がっている最初の流量通過メン
バー1112と、最初の及び第２の流量通過メンバーの間で、内部の環状のボリュー
ム1130を提供するために造られる。この配置によって、流量通過1118から流量通
過1152まで流されたガスは、保護する液体のフィルム1156でおおわれる第２の流
量通過メンバーのより低い部分の内部の壁表面1172に遭遇する。それゆえに、腐
食及び第２の流量通過メンバーのそのような内部の壁表面に対する反対の反応効
果を最小にするために最初の流量通過メンバーの下部の開いた終わり1122から射
出されたガスの中のどんな腐食性の種でも、内の壁表面に関して「和らげられる
」。
【０２５２】 さらに、液体の第２の流量通過メンバー及び外の壁メンバー1134の間の内部の
環状のボリューム1170への紹介によって、液体のリザーバ「ジャケット」構造は
、提供される。液体の中で形式に第２の流量通過メンバーの内部の壁表面で、保
護するフィルムを「流して」、浸透のためにそれを通じて及び下方へ、それによ
って、液体は第２の流量通過メンバーの多孔性上の部分に提供される。
環状のボリューム1170への紹介によって、液体のリザーバ「ジャケット」構造は
、提供される。液体の中で形式に第２の流量通過メンバーの内部の壁表面で、保
護するフィルムを「流して」、浸透のためにそれを通じて及び下方へ、それによ
って、液体は第２の流量通過メンバーの多孔性上の部分に提供される。
【０２５３】 第２の流量通過メンバーの内部の表面1172のそのような落ちているフィルムも
、第２の流量通過メンバーの表面を伴出する及びそのような液体のフィルムがな
い場合、オンを置くかもしれないガス流及び集合から、その室内でどんな微粒子
でも運び去るために壁で囲うのに役立つ。
、第２の流量通過メンバーの表面を伴出する及びそのような液体のフィルムがな
い場合、オンを置くかもしれないガス流及び集合から、その室内でどんな微粒子
でも運び去るために壁で囲うのに役立つ。
【０２５４】 それゆえに、落ちている液体のフィルムは、第２の流量通過の内部の壁表面に
関して、保護する関数に微粒子の固体及び他のどの気相成分も運び去るエントレ
インメント媒体と同じくらいよく蓄積の中で流量通過メンバーの内部の壁表面で
、一方有害なメンバーを与える。
関して、保護する関数に微粒子の固体及び他のどの気相成分も運び去るエントレ
インメント媒体と同じくらいよく蓄積の中で流量通過メンバーの内部の壁表面で
、一方有害なメンバーを与える。
【０２５５】 それによって操作のために必要だった液体は、本発明の涙を流す堰構造によっ
て、非常に低いレベルの面で扶養される。
て、非常に低いレベルの面で扶養される。
【０２５６】 そのガス/液体のインタフェース構造のインプリメンテーションの実例となる
例として、図14の中で図示されて、そのような構造は半導体製造工程からのそう
排ガスを処理している熱酸化剤ユニットのインタフェース構造1110を入れている
第1160行の中のガス流が高い温度にある使用されたダウンストリームであるかも
しれない及び微粒子、シリカのようなものを、微粒子の金属、などで、ミクロン
以下のサイズとして粒子か平らなより大きい固体に荷を積むかもしれない。その
ような実施例の中で、第２の流量通過メンバーの上の部分1126は、1/16番目のイ
ンチの順序の上で、平均で厚さをだいたい2ミクロンのサイズを読書で使いすぎ
てもらっている焼結された金属壁によって構成してもよい。2.5インチの順序の
上の直径で最初の流量通過メンバー1112の長さが、48インチの順序の上にあるか
もしれない。流量通過メンバー1124が対応して長さを持つかもしれない対応する
瞬間、4.5インチの順序の上の直径で、13.5インチ及び外の壁の順序の上で、6イ
ンチの順序の上の直径でメンバー1134が5.5インチの順序の上で垂直な長さを持
つかもしれないこと。
例として、図14の中で図示されて、そのような構造は半導体製造工程からのそう
排ガスを処理している熱酸化剤ユニットのインタフェース構造1110を入れている
第1160行の中のガス流が高い温度にある使用されたダウンストリームであるかも
しれない及び微粒子、シリカのようなものを、微粒子の金属、などで、ミクロン
以下のサイズとして粒子か平らなより大きい固体に荷を積むかもしれない。その
ような実施例の中で、第２の流量通過メンバーの上の部分1126は、1/16番目のイ
ンチの順序の上で、平均で厚さをだいたい2ミクロンのサイズを読書で使いすぎ
てもらっている焼結された金属壁によって構成してもよい。2.5インチの順序の
上の直径で最初の流量通過メンバー1112の長さが、48インチの順序の上にあるか
もしれない。流量通過メンバー1124が対応して長さを持つかもしれない対応する
瞬間、4.5インチの順序の上の直径で、13.5インチ及び外の壁の順序の上で、6イ
ンチの順序の上の直径でメンバー1134が5.5インチの順序の上で垂直な長さを持
つかもしれないこと。
【０２５７】 そのようなシステムの中で、内部の環状のボリューム1170にそのような液体の
weep-throughのために導入されるリザーバ1150から、水が液体の媒体として雇わ
れうる。
weep-throughのために導入されるリザーバ1150から、水が液体の媒体として雇わ
れうる。
【０２５８】 第２の流量通過メンバーの上の液体の透過性のある部分1126の内部の表面1132
の上へ。そのようなシステムの中の水の使用が、分につき0.1-0.3ガロンの操作
の順序の上にあるかもしれない。
の上へ。そのようなシステムの中の水の使用が、分につき0.1-0.3ガロンの操作
の順序の上にあるかもしれない。
【０２５９】 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排流処理システム1200
の概要の表現である。
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排流処理システム1200
の概要の表現である。
【０２６０】 システム1200は、プロセス設備1210から排ガス流を受け取る。排ガス流は、一
つ以上の酸化可能なガス種を含むかもしれない酸化可能なガス成分を含む。制限
、水素化物（例えば、アルシン、フォスフィン、シラン、ゲルマン、その他）、
有機的な種（塩化された種、弗化された種、エタノール、その他）及び非有機的
な種（塩化された種、NF3、NOx、CO、SOx、その他）なしで種が含むかもしれな
いそのような酸化可能なガス。その発明は特にその処理に適応させられる及び、
ハロゲン化炭素種の、塩化された種、弗化された種、クロロフルオロカーボン及
びパーフルオロのような排ガス流からの除去はパーフルオロカーボンのような妥
協する。排ガス流は、ケミカル・ベーパー・デポジション・リアクターのような
ユニット、フォトリソグラフィー・ユニット、イオン注入法ユニット、エッチン
グ・チャンバー、化学の機械研摩チャンバー、プラスマ・ユニット（例えば、プ
ラスマによって援助されたプロセスか、プラスマ・エッチングか、きれいにして
いるプラスマかプラスマが生成されるか、利用される他のどのプロセス・ユニッ
トのためにも）、その他を含む、半導体ウェハース基板の処理のための半導体製
造設備及び半導体装置構造の製作のようなプロセス設備1210から、その上に射出
してもよい。
つ以上の酸化可能なガス種を含むかもしれない酸化可能なガス成分を含む。制限
、水素化物（例えば、アルシン、フォスフィン、シラン、ゲルマン、その他）、
有機的な種（塩化された種、弗化された種、エタノール、その他）及び非有機的
な種（塩化された種、NF3、NOx、CO、SOx、その他）なしで種が含むかもしれな
いそのような酸化可能なガス。その発明は特にその処理に適応させられる及び、
ハロゲン化炭素種の、塩化された種、弗化された種、クロロフルオロカーボン及
びパーフルオロのような排ガス流からの除去はパーフルオロカーボンのような妥
協する。排ガス流は、ケミカル・ベーパー・デポジション・リアクターのような
ユニット、フォトリソグラフィー・ユニット、イオン注入法ユニット、エッチン
グ・チャンバー、化学の機械研摩チャンバー、プラスマ・ユニット（例えば、プ
ラスマによって援助されたプロセスか、プラスマ・エッチングか、きれいにして
いるプラスマかプラスマが生成されるか、利用される他のどのプロセス・ユニッ
トのためにも）、その他を含む、半導体ウェハース基板の処理のための半導体製
造設備及び半導体装置構造の製作のようなプロセス設備1210から、その上に射出
してもよい。
【０２６１】 プロセス設備1210からの排ガス流が、第1212行の中でガス洗浄ユニット（排ガ
ス流がそのガス洗浄で接触される）1214までたれる 例えば水のような水の洗浄
媒体が洗浄媒体フィード第1216行の中で導入した媒体は、その洗浄媒体の適当な
源（示された）に接続した。そのガス洗浄ユニットは、その発明のこの実施例の
中の排ガス処理システムのオプションの成分である及び、減少システムの中で実
行された酸化処理に先立ち酸性のガス及び微粒子の種を排ガス流の中で減らすた
めに有効に使用してもよい。そのガス洗浄ユニットは、湿ったガス洗浄ユニット
か、乾いたガス洗浄ユニット（排ガス流は、どれの中でスカベンジャーか化学吸
収可能な材料で接触されるか）か熱ガス洗浄ユニットであるかもしれない。
ス流がそのガス洗浄で接触される）1214までたれる 例えば水のような水の洗浄
媒体が洗浄媒体フィード第1216行の中で導入した媒体は、その洗浄媒体の適当な
源（示された）に接続した。そのガス洗浄ユニットは、その発明のこの実施例の
中の排ガス処理システムのオプションの成分である及び、減少システムの中で実
行された酸化処理に先立ち酸性のガス及び微粒子の種を排ガス流の中で減らすた
めに有効に使用してもよい。そのガス洗浄ユニットは、湿ったガス洗浄ユニット
か、乾いたガス洗浄ユニット（排ガス流は、どれの中でスカベンジャーか化学吸
収可能な材料で接触されるか）か熱ガス洗浄ユニットであるかもしれない。
【０２６２】 排ガス流で接触した後の洗浄媒体は、ガス洗浄ユニット1214から荷揚げ第1218
行の中で射出される。代わりにまたはその上に、一列に並んで1219として、リサ
イクルのために洗浄媒体フィード第1216行に、水の媒体は、再循環してもよい。
行の中で射出される。代わりにまたはその上に、一列に並んで1219として、リサ
イクルのために洗浄媒体フィード第1216行に、水の媒体は、再循環してもよい。
【０２６３】 その廃水の範囲内で酸化成分の酸化を生じるために型を変えることで、熱酸化
剤か、電熱の酸化剤か、触媒作用の酸化剤か、フレームベース酸化剤か、流動床
熱酸化剤か、透明酸化剤か他のプロセス・ユニットのようなガス流構成であるか
もしれない酸化剤ユニット1238に、排ガス流は、第1236行の中で流される。例え
ば、以前にここで発明（その熱交がその酸化成分の酸化のためにそこに排ガス流
の加熱を変えるために一連の熱移転挿入物を備えているその点で）の他の実施例
と関連して記述されるように、酸化剤ユニットは造られうる。及び熱交で構成し
た。だいたい900(Cか偶数へのだいたい300(Cのそれ以上、だいたい1200(Cまでの
温度があるその点でが酸化可能な種のoxidativeな減少のために、排ガス流の中
で使用したフレームベース熱酸化剤ユニット（すなわち、火傷-箱型ユニット）
として、酸化剤ユニットは、代わりに造られうる。 酸化剤ユニットの中の排ガス流の酸化成分の酸化は、第1240行からそのユニット
へのオキシダント媒体の紹介によって、酸化させている雰囲気の中でand/or第12
08行によって排ガス流に上流に排ガス流の紹介の中で、酸化剤ユニット1238に実
行してもよい。3-way弁1206のオキシダント媒体が流してもよい。選択的な調整
もによって、あるいは、酸化剤ユニット1238へのライン1240及び1208の両方。
剤か、電熱の酸化剤か、触媒作用の酸化剤か、フレームベース酸化剤か、流動床
熱酸化剤か、透明酸化剤か他のプロセス・ユニットのようなガス流構成であるか
もしれない酸化剤ユニット1238に、排ガス流は、第1236行の中で流される。例え
ば、以前にここで発明（その熱交がその酸化成分の酸化のためにそこに排ガス流
の加熱を変えるために一連の熱移転挿入物を備えているその点で）の他の実施例
と関連して記述されるように、酸化剤ユニットは造られうる。及び熱交で構成し
た。だいたい900(Cか偶数へのだいたい300(Cのそれ以上、だいたい1200(Cまでの
温度があるその点でが酸化可能な種のoxidativeな減少のために、排ガス流の中
で使用したフレームベース熱酸化剤ユニット（すなわち、火傷-箱型ユニット）
として、酸化剤ユニットは、代わりに造られうる。 酸化剤ユニットの中の排ガス流の酸化成分の酸化は、第1240行からそのユニット
へのオキシダント媒体の紹介によって、酸化させている雰囲気の中でand/or第12
08行によって排ガス流に上流に排ガス流の紹介の中で、酸化剤ユニット1238に実
行してもよい。3-way弁1206のオキシダント媒体が流してもよい。選択的な調整
もによって、あるいは、酸化剤ユニット1238へのライン1240及び1208の両方。
【０２６４】 例空気に関しては、酸素、酸素-富ませられた空気、原子の酸素、過酸化水素
で漂白した種、OHラジカル、その他でオキシダント媒体はどんな適当な型の中で
でもあるかもしれない、しかし、好んで、オキシダント媒体はオゾンを含む。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体を生成するために第1222行（同じものの適
当な源から、示されない）の中でオゾン・ジェネレーター1220に導入されて、酸
素か他の酸素含有ガスで、そのオキシダントとしてオゾンを中間に扱う目的で、
図15の中でillustrativelyに示されるように、排ガス処理システムは配置しても
よい。好んで、オゾン・ジェネレーター1220に第1222行の中で流されたオキシダ
ント中間の源・ガスは酸素ガスである及び、オゾン・ジェネレーター1220から第
1240行の中で射出された結果として生ずるオキシダント媒体はオゾン及び酸素ガ
ス混合である。ライン1240や第1208行の中のオキシダント媒体の流量は、大量の
流れコントローラー1242か他のフロー制御要素によって制御してもよい。
で漂白した種、OHラジカル、その他でオキシダント媒体はどんな適当な型の中で
でもあるかもしれない、しかし、好んで、オキシダント媒体はオゾンを含む。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体を生成するために第1222行（同じものの適
当な源から、示されない）の中でオゾン・ジェネレーター1220に導入されて、酸
素か他の酸素含有ガスで、そのオキシダントとしてオゾンを中間に扱う目的で、
図15の中でillustrativelyに示されるように、排ガス処理システムは配置しても
よい。好んで、オゾン・ジェネレーター1220に第1222行の中で流されたオキシダ
ント中間の源・ガスは酸素ガスである及び、オゾン・ジェネレーター1220から第
1240行の中で射出された結果として生ずるオキシダント媒体はオゾン及び酸素ガ
ス混合である。ライン1240や第1208行の中のオキシダント媒体の流量は、大量の
流れコントローラー1242か他のフロー制御要素によって制御してもよい。
【０２６５】 オキシダント媒体の排ガス流への追加への酸化剤ユニット出来事の中の酸化し
ている動きは、高周波エネルギー（電気の荷揚げ、電子サイクロトロン共鳴（EC
R）、マイクロ波エネルギー、酸化剤ユニットの中で排ガス流酸化可能な種及び
オキシダント媒体のプラスマを生成するその他）の使用によって、例えば改良し
てもよい。代わりに、熱酸化剤は、燃焼酸化剤ユニット（水素か他の燃料（メタ
ン例えば）が燃焼反応のためにオキシダント媒体の面前で加えられる）であるか
もしれない。静かな更なる選択肢として、酸化剤ユニットは、造られる電熱の酸
化剤ユニットか他のどのユニットでもあるかもしれない及び外へ持ち運ぶか、排
ガス流の中で酸化可能な種の酸化を改良するために構成した。
ている動きは、高周波エネルギー（電気の荷揚げ、電子サイクロトロン共鳴（EC
R）、マイクロ波エネルギー、酸化剤ユニットの中で排ガス流酸化可能な種及び
オキシダント媒体のプラスマを生成するその他）の使用によって、例えば改良し
てもよい。代わりに、熱酸化剤は、燃焼酸化剤ユニット（水素か他の燃料（メタ
ン例えば）が燃焼反応のためにオキシダント媒体の面前で加えられる）であるか
もしれない。静かな更なる選択肢として、酸化剤ユニットは、造られる電熱の酸
化剤ユニットか他のどのユニットでもあるかもしれない及び外へ持ち運ぶか、排
ガス流の中で酸化可能な種の酸化を改良するために構成した。
【０２６６】 その廃水で酸化剤ユニット1238の中でガス流と接触した後のオキシダント媒体
は酸化剤ユニットからライン1244の中で、回復か、処理か他の配置のために射出
される、あるいは、それは再利用のために、必需品として再循環してもよい。か
、特定の使用応用の中で要求してもよい。減じられた酸化成分含有量の、排ガス
流は、ライン1246の中の酸化剤ユニットから射出される及びどんな適当な型の中
ででもその廃水の処理のためにガス流好んで湿ったガス洗浄ユニットを含まない
であるかもしれないポスト-処理ユニット1248までたれた。
は酸化剤ユニットからライン1244の中で、回復か、処理か他の配置のために射出
される、あるいは、それは再利用のために、必需品として再循環してもよい。か
、特定の使用応用の中で要求してもよい。減じられた酸化成分含有量の、排ガス
流は、ライン1246の中の酸化剤ユニットから射出される及びどんな適当な型の中
ででもその廃水の処理のためにガス流好んで湿ったガス洗浄ユニットを含まない
であるかもしれないポスト-処理ユニット1248までたれた。
【０２６７】 交渉されるとき、ガス洗浄（ポスト-処理ユニット1248の中のガス流が例えば
媒体を洗浄して接触される廃水）を濡らす、水（ポスト-処理ユニット1248に、
第1262行の中で洗浄媒体（示された）の適当な源から導入される）のような水の
洗浄媒体。ポスト-処理の中でユニット1248を洗浄している湿気は、排ガス流か
ら、前段酸化剤ガス洗浄ユニット1214の中で除去されなかった残された洗浄可能
な成分とともに酸化剤ユニット1238の中で生成されたそれらを含むどんな洗浄可
能な成分でも除去するのに役立つ。使用の後の洗浄媒体はポスト-処理ユニット
から、ライン1264の中で射出してもよい。and/or、ポスト-処理ユニット1248の
中のリサイクル及び再利用のために示されるように、その洗浄媒体は第1261行の
中でrecirculatedしてもよい。
媒体を洗浄して接触される廃水）を濡らす、水（ポスト-処理ユニット1248に、
第1262行の中で洗浄媒体（示された）の適当な源から導入される）のような水の
洗浄媒体。ポスト-処理の中でユニット1248を洗浄している湿気は、排ガス流か
ら、前段酸化剤ガス洗浄ユニット1214の中で除去されなかった残された洗浄可能
な成分とともに酸化剤ユニット1238の中で生成されたそれらを含むどんな洗浄可
能な成分でも除去するのに役立つ。使用の後の洗浄媒体はポスト-処理ユニット
から、ライン1264の中で射出してもよい。and/or、ポスト-処理ユニット1248の
中のリサイクル及び再利用のために示されるように、その洗浄媒体は第1261行の
中でrecirculatedしてもよい。
【０２６８】 受け取る環境か他の最終的な配置にポスト-扱われた排ガス流は、第1270行の
中でポスト-処理ユニット1248から、最後に射出される。
中でポスト-処理ユニット1248から、最後に射出される。
【０２６９】 その発明の1つの好まれた実施例に従って、オゾン・ジェネレーター1220が1ま
で選択的に流されるオゾン-含んでいるオキシダント媒体を生産すること、ある
いは、ガス洗浄ユニット1214及び1248の両方。 並列に、ozone-containingする
オキシダント媒体流れる一致している1250で、移動比決定したによって、マスフ
ロー・コントローラー1252そこに、直接、multi-position弁1254の位置どりに従
い枝ライン1263による第1261行は、ライン1256の中で、枝ライン1203による第12
46行の中の排ガス流に、洗浄媒体1262にライン1260の中のそのようなガス洗浄ユ
ニットにand/or洗浄媒体再循環にガス洗浄ユニット1248に注いだ。
で選択的に流されるオゾン-含んでいるオキシダント媒体を生産すること、ある
いは、ガス洗浄ユニット1214及び1248の両方。 並列に、ozone-containingする
オキシダント媒体流れる一致している1250で、移動比決定したによって、マスフ
ロー・コントローラー1252そこに、直接、multi-position弁1254の位置どりに従
い枝ライン1263による第1261行は、ライン1256の中で、枝ライン1203による第12
46行の中の排ガス流に、洗浄媒体1262にライン1260の中のそのようなガス洗浄ユ
ニットにand/or洗浄媒体再循環にガス洗浄ユニット1248に注いだ。
【０２７０】 認める、いろいろな主配管おおまかに、示すの中で、図15、及び、そのような
ライン適当に、弁で調節する、写しをとる、つなぐ、該当する弁（弁作動装置/
コントローラー、大量の流れコントローラーや他の流体のフロー制御（配管、ポ
ンプ、ブロワー、計測、その技術の技術の範囲内の及び過度の実験のないその他
））によってその他。そのような尊敬の中で、図15の中で示されたシステムがプ
ロセス・モニター、センサ、検出器、道具、マイクロプロセッサーや他の自動処
理成分を含む自動制御システムで展開してもよい。ことはその上に認められる、
そのシステムが遠くまたは自動的に働かれるために、あっている排ガス流が減少
がそのシステムの中で処理した好ましい廃水を運び出す。
ライン適当に、弁で調節する、写しをとる、つなぐ、該当する弁（弁作動装置/
コントローラー、大量の流れコントローラーや他の流体のフロー制御（配管、ポ
ンプ、ブロワー、計測、その技術の技術の範囲内の及び過度の実験のないその他
））によってその他。そのような尊敬の中で、図15の中で示されたシステムがプ
ロセス・モニター、センサ、検出器、道具、マイクロプロセッサーや他の自動処
理成分を含む自動制御システムで展開してもよい。ことはその上に認められる、
そのシステムが遠くまたは自動的に働かれるために、あっている排ガス流が減少
がそのシステムの中で処理した好ましい廃水を運び出す。
【０２７１】 示されたそれと異なって、配置の中で、したがって、また、図15の中で示され
た型の排流処理システムがいろいろに構成してもよい。ことは、認められる。例
えばものまたは、illustrativelyに、記述されたガス洗浄ユニット1214及び1248
の両方とも、特別な処理システムの中で省略してもよい。か、他の処理ユニット
と取り替えられうる。、酸化剤ユニット1238だけがオゾン-含んでいるオキシダ
ント媒体を受けるその点で。同様に、そのシステムは、手段からのオゾン・ガス
の供給かillustrativelyに、示されたオゾン・ジェネレーター以外の源のために
配置してもよい。
た型の排流処理システムがいろいろに構成してもよい。ことは、認められる。例
えばものまたは、illustrativelyに、記述されたガス洗浄ユニット1214及び1248
の両方とも、特別な処理システムの中で省略してもよい。か、他の処理ユニット
と取り替えられうる。、酸化剤ユニット1238だけがオゾン-含んでいるオキシダ
ント媒体を受けるその点で。同様に、そのシステムは、手段からのオゾン・ガス
の供給かillustrativelyに、示されたオゾン・ジェネレーター以外の源のために
配置してもよい。
【０２７２】 エネルギー・源は、点火装置のような、燃焼-始めているcomponent(s)、燃焼
室、バーナー、電気の荷揚げ装置、火花ジェネレーター、プラスマ・ジェネレー
ター、イオン化装置、その他を例えば含むかもしれない。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体のその発明に従うガス洗浄装置への追加は
、排ガス流の中でそのガス洗浄装置の中で酸化可能な種の減少を改良する。さら
に、オゾン-含んでいるガスがそのガス洗浄装置に上流に酸化剤ユニット1238の
中で導入されるとき、排ガス流の酸化成分を除去する際の酸化剤ユニットのパフ
ォーマンスは実質的に増やしてもよい。
室、バーナー、電気の荷揚げ装置、火花ジェネレーター、プラスマ・ジェネレー
ター、イオン化装置、その他を例えば含むかもしれない。 オゾン-含んでいるオキシダント媒体のその発明に従うガス洗浄装置への追加は
、排ガス流の中でそのガス洗浄装置の中で酸化可能な種の減少を改良する。さら
に、オゾン-含んでいるガスがそのガス洗浄装置に上流に酸化剤ユニット1238の
中で導入されるとき、排ガス流の酸化成分を除去する際の酸化剤ユニットのパフ
ォーマンスは実質的に増やしてもよい。
【０２７３】 オゾンの特定の参照でオキシダント媒体の成分として、上で記述されるけれど
も、また、他の酸素-含んでいる種は使用してもよい。、しかし、オゾンは、そ
の反応性のためにそのような目的のための好まれた種である。オゾンは、強力な
酸化しているエージェントである及び酸素がより反応性でない及び排ガス流の酸
化成分を減らすために効果的でない条件で、排ガス流の多くの酸化可能な種とと
もに化学反応する。汚染されたガス流からある種を除去するために加水解離及び
熱方法の無能に対比して、本発明は、比較的安定した種の減少を可能にすること
によってその技術の相当な改良を成し遂げる。 広く型を変えるオゾン・ジェネレーターは、市販に及び有効に容易にその発明の
実行に従事する。
も、また、他の酸素-含んでいる種は使用してもよい。、しかし、オゾンは、そ
の反応性のためにそのような目的のための好まれた種である。オゾンは、強力な
酸化しているエージェントである及び酸素がより反応性でない及び排ガス流の酸
化成分を減らすために効果的でない条件で、排ガス流の多くの酸化可能な種とと
もに化学反応する。汚染されたガス流からある種を除去するために加水解離及び
熱方法の無能に対比して、本発明は、比較的安定した種の減少を可能にすること
によってその技術の相当な改良を成し遂げる。 広く型を変えるオゾン・ジェネレーターは、市販に及び有効に容易にその発明の
実行に従事する。
【０２７４】 図15の中で示されるように、オゾン-含んでいるオキシダント媒体は直接その
ガス洗浄装置にまたはその洗浄媒体に上流にその洗浄媒体の紹介の中でそのガス
洗浄装置に導入してもよい。；代わりに、オゾン-含んでいるオキシダント媒体
は、排ガス流に直ちに上流に排ガス流の紹介の中で、そのガス洗浄ユニットに導
入してもよい。上流にそのガス洗浄ユニットの中でオキシダント媒体を排ガス流
に加える利点は、排ガス流の酸化成分で、オゾン（または他の酸化している種）
の直接の反応を含んでいる気相反応の助成である。対応して、オゾン-含んでい
るオキシダント媒体を水の洗浄している液体に加える利点は、水に関連したラジ
カル及び中間の種（例えば、OH、HO2、その他）のメカニズムを洗浄している湿
気の破壊効率を改良する促進である。
ガス洗浄装置にまたはその洗浄媒体に上流にその洗浄媒体の紹介の中でそのガス
洗浄装置に導入してもよい。；代わりに、オゾン-含んでいるオキシダント媒体
は、排ガス流に直ちに上流に排ガス流の紹介の中で、そのガス洗浄ユニットに導
入してもよい。上流にそのガス洗浄ユニットの中でオキシダント媒体を排ガス流
に加える利点は、排ガス流の酸化成分で、オゾン（または他の酸化している種）
の直接の反応を含んでいる気相反応の助成である。対応して、オゾン-含んでい
るオキシダント媒体を水の洗浄している液体に加える利点は、水に関連したラジ
カル及び中間の種（例えば、OH、HO2、その他）のメカニズムを洗浄している湿
気の破壊効率を改良する促進である。
【０２７５】 その発明のもう一つの実施例の中で、図15の中で示された型のシステムが、オ
ゾンか他の酸素含有ガスが扱われていたガス流の中ですでにある上流の源から、
ガス流を扱うために使われうる。上流のプロセス設備がプラスマ・プロセス・ユ
ニット（例えば、プラスマによって援助されたCVDユニット、そこに沈澱物のプ
ロセス・チャンバーをきれいにするためのプラスマきれいなユニット、ユニット
をエッチングで描いているプラスマ、その他）を使っている半導体製造設備であ
るとき、これは例えば起こるかもしれない及び、オゾン及び他の酸素に基づく種
（一重項酸素、その他）は生成される及び最終的にそのプロセスの排ガスに移る
。
ゾンか他の酸素含有ガスが扱われていたガス流の中ですでにある上流の源から、
ガス流を扱うために使われうる。上流のプロセス設備がプラスマ・プロセス・ユ
ニット（例えば、プラスマによって援助されたCVDユニット、そこに沈澱物のプ
ロセス・チャンバーをきれいにするためのプラスマきれいなユニット、ユニット
をエッチングで描いているプラスマ、その他）を使っている半導体製造設備であ
るとき、これは例えば起こるかもしれない及び、オゾン及び他の酸素に基づく種
（一重項酸素、その他）は生成される及び最終的にそのプロセスの排ガスに移る
。
【０２７６】 上流のプロセス設備がプラスマ・ユニットを含む前述の状況及びどの点でパー
フルオロカーボンの中で、加えて、C2F6及びCF4が、例えば排ガス流の中の排ガ
ス流が弗素を含むかもしれない贈り物である、上流のプロセス・プラスマ・チャ
ンバー。そのような排ガス流が酸化条件を受けるとき、排ガス流の中のパーフル
オロカーボン種の不意に高い破壊レベルが成し遂げられることは見つけられた。
我々が少しの理論もも仮定されたメカニズムによって観察されたパーフルオロカ
ーボンのこの予想外の減少のために縛られていたくない間、その弗素がパーフル
オロカーボン混合物を引き離すために作動することはあるかもしれない、そのパ
ーフルオロカーボンから生じることは混ぜ合わせる炭素質の部分が源ることがで
きるために、酸化している環境の中で酸素贈り物と化合する。
フルオロカーボンの中で、加えて、C2F6及びCF4が、例えば排ガス流の中の排ガ
ス流が弗素を含むかもしれない贈り物である、上流のプロセス・プラスマ・チャ
ンバー。そのような排ガス流が酸化条件を受けるとき、排ガス流の中のパーフル
オロカーボン種の不意に高い破壊レベルが成し遂げられることは見つけられた。
我々が少しの理論もも仮定されたメカニズムによって観察されたパーフルオロカ
ーボンのこの予想外の減少のために縛られていたくない間、その弗素がパーフル
オロカーボン混合物を引き離すために作動することはあるかもしれない、そのパ
ーフルオロカーボンから生じることは混ぜ合わせる炭素質の部分が源ることがで
きるために、酸化している環境の中で酸素贈り物と化合する。
【０２７７】 それゆえに、その発明の1つの面は、酸化条件で、オゾン（オゾンか他の酸素
含有ガス協力した弗素、そのガス流の酸化成分の酸化のためのその他）のような
エージェントを酸化させている極端な強さのガス流への追加で、実行された排ガ
ス処理に関連がある。酸化している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って
、そのような方法論は、例えばクロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処
理に役立つかもしれない。
含有ガス協力した弗素、そのガス流の酸化成分の酸化のためのその他）のような
エージェントを酸化させている極端な強さのガス流への追加で、実行された排ガ
ス処理に関連がある。酸化している種として酸素含有ガスの面前で弗素を使って
、そのような方法論は、例えばクロロフルオロカーボンを含んでいるガス流の処
理に役立つかもしれない。
【０２７８】 オゾン-含んでいるオキシダント媒体が図示された上で記述されるだけ間、そ
の発明のプロセスが他の方法と協力した使用及び、例えば排ガス流の紫外線の放
射露出の並列であるか連続した使用、排ガス流の中で酸化可能な種の酸化を改良
する酸化触媒のさらに使用及び他の化学の種の排ガス流、その洗浄媒体やオキシ
ダント媒体（水素過酸化物、塩素、フェントン試薬、その他のようなものを）へ
の追加のような処理のテクニックに適用できることは認められる。さらに、ヨー
ロッパの特許出願番号 0861683A2の中で、より充分に記述されるように、上流の
プロセスの中で例えば半導体製造設備の中でその発表を使われたオゾンのここで
リファレンスによって完全にこれによって取り入れられる源から、排ガス流処理
の中で使われたオゾンが供給してもよい。ことは、認められることになっている
。
の発明のプロセスが他の方法と協力した使用及び、例えば排ガス流の紫外線の放
射露出の並列であるか連続した使用、排ガス流の中で酸化可能な種の酸化を改良
する酸化触媒のさらに使用及び他の化学の種の排ガス流、その洗浄媒体やオキシ
ダント媒体（水素過酸化物、塩素、フェントン試薬、その他のようなものを）へ
の追加のような処理のテクニックに適用できることは認められる。さらに、ヨー
ロッパの特許出願番号 0861683A2の中で、より充分に記述されるように、上流の
プロセスの中で例えば半導体製造設備の中でその発表を使われたオゾンのここで
リファレンスによって完全にこれによって取り入れられる源から、排ガス流処理
の中で使われたオゾンが供給してもよい。ことは、認められることになっている
。
【０２７９】 そのような排流処理システムは排ガス流の中で基礎的なだけでなく酸性の及び
中立条件で、酸化可能な種の減少に効果的である、しかし、オゾンが優れた酸化
している種としてオキシダント媒体の中で使われるとき、そのオゾンの活発な生
命は酸性の条件でアルカリ性の条件で長い。
中立条件で、酸化可能な種の減少に効果的である、しかし、オゾンが優れた酸化
している種としてオキシダント媒体の中で使われるとき、そのオゾンの活発な生
命は酸性の条件でアルカリ性の条件で長い。
【０２８０】 一般に水素化物及びハロゲン化物と同じくらいよく、その発明の排流処理シス
テムは、例えばCF4、C2F6、HF、NF3、CCl4及びNOxを含むクロロフルオロカーボ
ン及びパーフルオロ組成物を含むガス流、SOx、その他の中で、多種多様な成分
種を減らすことに効果的である。種がその排気ガスの中で一般に見つけられるそ
のような廃水は、ケミカル・ベーパー・デポジションのようなユニット操作、イ
オン注入法、反動的なイオン・エッチング、フォトリソグラフィー、化学の機械
研摩、diffusion/migration/dopingプロセス、その他の結果として、プラントを
製作している半導体によって産出した。全プロセス設備かそのシステムからのま
とめられた廃水の処理のための大規模なプロセス・システムが構成してもよい。
ように、コンパクト（使用処理ユニットの点）が設備のインストールのローカル
なインストールか群と、全面施設で提携したように、その発明の排流処理システ
ムはそのような目的のために構成してもよい。
テムは、例えばCF4、C2F6、HF、NF3、CCl4及びNOxを含むクロロフルオロカーボ
ン及びパーフルオロ組成物を含むガス流、SOx、その他の中で、多種多様な成分
種を減らすことに効果的である。種がその排気ガスの中で一般に見つけられるそ
のような廃水は、ケミカル・ベーパー・デポジションのようなユニット操作、イ
オン注入法、反動的なイオン・エッチング、フォトリソグラフィー、化学の機械
研摩、diffusion/migration/dopingプロセス、その他の結果として、プラントを
製作している半導体によって産出した。全プロセス設備かそのシステムからのま
とめられた廃水の処理のための大規模なプロセス・システムが構成してもよい。
ように、コンパクト（使用処理ユニットの点）が設備のインストールのローカル
なインストールか群と、全面施設で提携したように、その発明の排流処理システ
ムはそのような目的のために構成してもよい。
【０２８１】 その発明がガス流に関して上で記述されたけれども、途切れ途切れに、扱われ
ていたガスが間欠的に流してもよい。ことは認められることになっている、ある
いは、一方バッチか、半バッチか変化する率の中で、あっている全てのそのよう
な変異株がその発明の範囲の範囲内で熟考した。
ていたガスが間欠的に流してもよい。ことは認められることになっている、ある
いは、一方バッチか、半バッチか変化する率の中で、あっている全てのそのよう
な変異株がその発明の範囲の範囲内で熟考した。
【０２８２】 その発明が実例となる実施例に関して記述される間、その発明及びしたがって
、発明のその精神及び範囲の範囲内であることはそのようなバリエーション、修
正及び他の実施例に関して、対応して広く解剖されることになっているように、
その発明のその精神及び範囲の範囲内であっているように、要求されるように、
他のバリエーション、修正及び他の実施例が熟考されることは認められる。
、発明のその精神及び範囲の範囲内であることはそのようなバリエーション、修
正及び他の実施例に関して、対応して広く解剖されることになっているように、
その発明のその精神及び範囲の範囲内であっているように、要求されるように、
他のバリエーション、修正及び他の実施例が熟考されることは認められる。
【図面の簡単な説明】 投げつけられたライン表現の中で図3の中でガス排水処理のためにその発明の
もう一つの実施例に記載のその流れ図のバリエーションにシステムを見せて、図
1-3はその発明の1つの実施例に記載のガス排水処理システムのための概要の流れ
図の連続的なセクションである。 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の
流れ図である。 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要の流れ図である。 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つの流れ図の中
で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要の流れ図である。 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要の流れ図である
。 入口構造が前段洗浄塔と提携したことをガス／液体インタフェースに明らかに
して、図10はその発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要
の流れシートである。 キャビネット囲いに含まれているように、示されて、おおまかに、図11はその
発明に記載のもう一つのガス排水処理システムの概要の表現である。 それについていろいろなオプションの補助の特徴を示して、図12はその発明の
もう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の表現である。 図13は、現在の発明の実例となる実施例に記載の詰まりにくい入口構造の概要
の表現である。 図14は、その発明のもう一つの実例となる実施例に従うガス／液体インタフェ
ース構造の概要のクロス-部門の高さ見方である。 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排水処理システムの概
要の表現である。
もう一つの実施例に記載のその流れ図のバリエーションにシステムを見せて、図
1-3はその発明の1つの実施例に記載のガス排水処理システムのための概要の流れ
図の連続的なセクションである。 図4は、その発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の
流れ図である。 図5は、その発明の更なる排ガス処理システム実施例の概要の流れ図である。 その発明の更なる面に従って、それの修正を示して、図6は図9つの流れ図の中
で図示されたそれに似ているプロセス・システムの概要の流れ図である。 図7、8及び9は、その発明の更なる面に記載のそれぞれの概要の流れ図である
。 入口構造が前段洗浄塔と提携したことをガス／液体インタフェースに明らかに
して、図10はその発明のもう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要
の流れシートである。 キャビネット囲いに含まれているように、示されて、おおまかに、図11はその
発明に記載のもう一つのガス排水処理システムの概要の表現である。 それについていろいろなオプションの補助の特徴を示して、図12はその発明の
もう一つの実施例に記載のガス排水処理システムの概要の表現である。 図13は、現在の発明の実例となる実施例に記載の詰まりにくい入口構造の概要
の表現である。 図14は、その発明のもう一つの実例となる実施例に従うガス／液体インタフェ
ース構造の概要のクロス-部門の高さ見方である。 ガス廃水の中でオゾンを含むオキシダント媒体を酸化成分の減少のために利用
して、図15はその発明に記載の1つの実施例に記載のガス排水処理システムの概
要の表現である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｄ 53/70 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２２Ｚ １２９Ｚ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ， ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，Ｃ Ｚ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ， ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，Ｍ Ｄ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ， ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，Ｖ Ｎ，ＹＵ，ＺＷ
Claims (86)
- 【請求項１】 酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためのガス流処理
システム： そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス流の上でそれについてその酸化成
分を減らすために強制印加するために配置された酸化ユニット； 選択的に、そのガス流から洗浄可能な成分を除去する及びそのガスを射出する
ための前段酸化洗浄ユニットが、酸化ユニットに流れる；及び 選択的に、そのガスから洗浄可能な成分を除去するために酸化ユニットからそ
のガス流を受け取っている後段酸化洗浄ユニットが、流れる； そのガス流の酸化成分の削減の向上のために、そのシステムの中で酸素含有ガ
スを提供するために配置された酸素含有ガス・ソース。 - 【請求項２】 ガス流処理システムが請求項1に一致して、その酸素含有ガ
スが少くとも1つのオキシダントを含むその点では酸素、オゾン、空気、酸素濃
縮空気、原子の酸素、OHイオン及びperoxyから成っている群から、種を選んだ。 - 【請求項３】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）1に記
載のガス流処理システム。 - 【請求項４】 請求項（前段酸化洗浄ユニットを含む）1に記載のガス流処
理システム。 - 【請求項５】 請求項（後段酸化洗浄ユニットを含む）1に記載のガス流処
理システム。 - 【請求項６】 請求項（前段酸化洗浄ユニット及び後段酸化洗浄ユニットを
含む）1に記載のガス流処理システム。 - 【請求項７】 請求項1に記載のガス流処理システム、その酸素含有ガスが
あるその点では、酸化ユニットに注いだ。 - 【請求項８】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）7に記
載のガス流処理システム。 - 【請求項９】 請求項1に記載のガス流処理システム、その酸素含有ガスが
あるその点では、上流に酸化ユニットの中でそのガス流に注いだ。 - 【請求項１０】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）9に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項１１】 ガス流処理システムが請求項1に一致して、その酸素含有
ガスがあるその点では直接酸化ユニットに、そのうえ、そのガス流に上流に酸化
ユニットの中で流れた。 - 【請求項１２】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）11に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項１３】 請求項3に記載のガス流処理システム、その酸素含有ガス
があるその点では、前段酸化洗浄ユニットに注いだ。 - 【請求項１４】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）13に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項１５】 請求項3に記載のガス流処理システム、その酸素含有ガス
があるその点では、上流に前段酸化洗浄ユニットの中でそのガス流に注いだ。 - 【請求項１６】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）15に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項１７】 ガス流処理システムが請求項3に一致して、その酸素含有
ガスがあるその点では直接前段酸化洗浄ユニットに、そのうえ、そのガス流に上
流に前段酸化洗浄ユニットの中で流れた。 - 【請求項１８】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）17に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項１９】 請求項4に記載のガス流処理システム、その酸素含有ガス
があるその点では、後段酸化洗浄ユニットに注いだ。 - 【請求項２０】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）19に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項２１】 請求項4に記載のガス流処理システム、その酸素含有ガス
があるその点では、上流に後段酸化洗浄ユニットの中でそのガス流に注いだ。 - 【請求項２２】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）21に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項２３】 ガス流処理システムが請求項4に一致して、その酸素含有
ガスがあるその点では直接後段酸化洗浄ユニットに、そのうえ、そのガス流に上
流に後段酸化洗浄ユニットの中で流れた。 - 【請求項２４】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）23に
記載のガス流処理システム。 - 【請求項２５】 請求項（そのガス流が半導体製造設備の排ガス流を含むそ
の点で）1に記載のガス流処理システム。 - 【請求項２６】 請求項（そのシステムが排ガスを受ける関係の中で半導体
製造設備に結びつけられるその点で）1に記載のガス流処理システム。 - 【請求項２７】 請求項（そのガス流の酸化成分がハロ成分を含むその点で
）1に記載のガス流処理システム。 - 【請求項２８】 請求項（そのハロ成分のハロ構成要素が塩素及び弗素から
選ばれるその点で）27に記載のガス流処理システム。 - 【請求項２９】 請求項（そのハロ成分がクロロフルオロカーボン及びパー
フルオロカーボンから成っている群から選ばれた少くとも1つの種を含むその点
で）27に記載のガス流処理システム。 - 【請求項３０】 ガス流処理システムが請求項1に一致して、そのガス流の
酸化成分が少くとも1つのガス種を含むその点では水酸化物ガス種から成ってい
る群、ハロゲン化物ガス種、CO、ガスの窒素酸化物及びガスの硫黄酸化物から選
んだ。 - 【請求項３１】 ガス流処理システムが請求項1に一致して、そのガス流の
酸化成分が少くとも1つのガス種を含むその点ではクロロフルオロカーボンから
成っている群、パーフルオロカーボン、窒素パーフルオロ化合物、CO、窒素酸化
物及び硫黄酸化物から選んだ。 - 【請求項３２】 ガス流処理システムが請求項1に一致して、酸化ユニット
が酸化剤を含むその点ではその群から熱酸化剤、電熱の酸化剤、触媒作用の酸化
剤、フレームベースの酸化剤、流動床熱酸化剤、プラズマ酸化剤及び透明酸化剤
から成ることを選んだ。 - 【請求項３３】 請求項（そのガス流があるその点でが洗浄媒体で接触した
洗浄ユニットを含むこと）1及びどの点で酸素含有ガス・ソースに記載のガス流
処理システムは、その洗浄媒体にそれの使用に先立ちその洗浄ユニットの中で酸
素含有ガスを導入するために配置される。 - 【請求項３４】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンであるその点で）33に
記載のガス流処理ユニット。 - 【請求項３５】 請求項（その酸素含有ガスが酸素であるその点で）33に記
載のガス流処理ユニット。 - 【請求項３６】 ガス流を扱うためのガス処理システムがそのガスの中で水
の洗浄媒体で流れを洗浄することによって酸化成分を含んで、どの点で、酸素含
有ガスはその洗浄媒体にそのガスの中で水の洗浄媒体で流れを洗浄することに先
立ち導入される。 - 【請求項３７】 請求項（水の洗浄媒体が補給水を含むその点でや酸素含有
ガスがそのガスの酸化成分の液体のフェーズ破壊を提供するために加えられる再
循環水）36に記載のガス処理システムが、流れる‖以降の洗浄しているその酸素
含有ガスを含んでいる水の洗浄媒体によるガス流の。 - 【請求項３８】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンであるその点で）37に
記載のガス処理システム。 - 【請求項３９】 請求項（その酸素含有ガスが酸素であるその点で）37に記
載のガス処理システム。 - 【請求項４０】 そのガス流の酸化成分の酸化のために超強力酸化剤のその
ガス流への追加を含んで、酸化処理があるその点でが酸化の下に外に運んだガス
流処理システムは、適当な条件になる。 - 【請求項４１】 ガス流処理システムが請求項40に一致して、その超強力酸
化剤が少くとも1つの成分を含むその点では酸素含有ガスと協力して(i)オゾン及
び(ii)から成っている群から、弗素を選んだ。 - 【請求項４２】 請求項（その超強力酸化剤が弗素を含むその点で）40に記
載のガス流処理システム。 - 【請求項４３】 酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためのガス流処
理システム： そのガス流を受ける及び酸化条件をそのガス流の上でそれについてその酸化成
分を減らすために強制印加するために配置された酸化ユニット； 湿式洗浄器上流にそれの酸化処理に先立ち酸化ユニットの中でそのガス流を洗
浄するための酸化ユニットの； そのガス流にand/orその湿式洗浄器及び酸化ユニットのうちの少くとも1つの
中で上流にオゾンを提供しているオゾン源；及び そのガス流及びそのオゾンに、エネルギーを供給するためのエネルギー・ソー
スを含む酸化ユニット。 - 【請求項４４】 請求項（水の洗浄媒体ソースがその湿式洗浄器に結びつけ
られるその点で）43に記載のガス流処理システム。 - 【請求項４５】 ガス流処理システムが請求項43に一致して、どの点で、そ
のオゾン源は水の洗浄媒体に上流に水の洗浄媒体の導入の中でその湿式洗浄器に
オゾンを提供する。 - 【請求項４６】 酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためのプロセス
： そのガス流の酸化成分を減らすために酸化ユニット及び斬新な酸化条件にその
ガス流の上でそこにそのガス流を導入すること； そこから上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するためにそのガス
流を洗浄する選択的に； そこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成分を除去するためにそのガス
流を洗浄する選択的に； 酸素含有ガスでそのガス流の酸化成分の削減の向上のためにそのガス流と接触
すること。 - 【請求項４７】 プロセスが請求項46に一致して、その酸素含有ガスが少く
とも1つのオキシダントを含むその点では酸素、オゾン、空気、酸素濃縮空気、
原子の酸素、OHイオン及びperoxyから成っている群から、種を選んだ。 - 【請求項４８】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）46に
記載のプロセス。 - 【請求項４９】 請求項（そこから上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成
分を除去するためにそのガス流を洗浄することを含む）46に記載のプロセス。 - 【請求項５０】 請求項（そこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成
分を除去するためにそのガス流を洗浄することを含む）46に記載のプロセス。 - 【請求項５１】 請求項（そこから上流に酸化ユニットの中で洗浄可能な成
分を除去するガス流を洗浄する及びそこから下流に酸化ユニットの中で洗浄可能
な成分を除去するためにそのガス流を洗浄することを含む）46に記載のプロセス
。 - 【請求項５２】 請求項46に記載のプロセス、その酸素含有ガスがあるその
点では、酸化ユニットに注いだ。 - 【請求項５３】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）52に
記載のプロセス。 - 【請求項５４】 請求項46に記載のプロセス、その酸素含有ガスがあるその
点では、上流に酸化ユニットの中でそのガス流に注いだ。 - 【請求項５５】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）54に
記載のプロセス。 - 【請求項５６】 請求項46に記載のプロセス、その酸素含有ガスがあるその
点では、直接酸化ユニットに、そのうえ、そのガス流に上流に酸化ユニットの中
で流れた。 - 【請求項５７】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）56に
記載のプロセス。 - 【請求項５８】 請求項49、洗浄することは洗浄ユニットの中で実行される
その点で及び酸素含有ガスに記載のプロセスは、その洗浄ユニットに流される。 - 【請求項５９】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）58に
記載のプロセス。 - 【請求項６０】 請求項49に一致しているプロセスどこに‖洗浄するユニッ
ト及び酸素含有ガスが流されるガス洗浄装置から、そのガス流を上流にその洗浄
ユニットの運ぶ。 - 【請求項６１】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）60に
記載のプロセス。 - 【請求項６２】 請求項49に一致しているプロセスどこに‖洗浄するユニッ
ト及び酸素含有ガスが直接流されるガス洗浄装置からその洗浄ユニット、そのう
え、そのガス流に上流にその洗浄ユニットの運ぶ。 - 【請求項６３】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）62に
記載のプロセス。 - 【請求項６４】 請求項50、洗浄することは洗浄ユニットの中で実行される
その点で及び酸素含有ガスに記載のプロセスは、その洗浄ユニットに流される。 - 【請求項６５】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）64に
記載のプロセス。 - 【請求項６６】 請求項50に一致しているプロセスどこに‖洗浄するユニッ
ト及び酸素含有ガスが流されるガス洗浄装置から、そのガス流を上流にその洗浄
ユニットの運ぶ。 - 【請求項６７】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）66に
記載のプロセス。 - 【請求項６８】 請求項50に一致しているプロセスどこに‖洗浄するユニッ
ト及び酸素含有ガスが直接流されるガス洗浄装置からその洗浄ユニット、そのう
え、そのガス流に上流にその洗浄ユニットの運ぶ。 - 【請求項６９】 請求項（その酸素含有ガスがオゾンを含むその点で）68に
記載のプロセス。 - 【請求項７０】 請求項（そのガス流が半導体製造設備の排ガス流を含むそ
の点で）46に記載のプロセス。 - 【請求項７１】 請求項（そのプロセスが排ガスを受ける関係の中で半導体
製造設備に結びつけられるその点で）46に記載のプロセス。 - 【請求項７２】 請求項（そのガス流の酸化成分がハロ成分を含むその点で
）46に記載のプロセス。 - 【請求項７３】 請求項（そのハロ成分のハロ構成要素が塩素及び弗素から
選ばれるその点で）72に記載のプロセス。 - 【請求項７４】 請求項（そのハロ成分がクロロフルオロカーボン及びパー
フルオロカーボンから成っている群から選ばれた少くとも1つの種を含むその点
で）72に記載のプロセス。 - 【請求項７５】 プロセスが請求項46に一致して、そのガス流の酸化成分が
少くとも1つのガス種を含むその点では水酸化物ガス種から成っている群、ハロ
ゲン化物ガス種、CO、ガスの窒素酸化物及びガスの硫黄酸化物から選んだ。 - 【請求項７６】 プロセスが請求項46に一致して、そのガス流の酸化成分が
少くとも1つのガス種を含むその点ではクロロフルオロカーボンから成っている
群、パーフルオロカーボン、窒素パーフルオロ化合物、CO、窒素酸化物及び硫黄
酸化物から選んだ。 - 【請求項７７】 プロセスが請求項46に一致して、酸化ユニットが酸化剤を
含むその点ではその群から熱酸化剤、電熱の酸化剤、触媒作用の酸化剤、フレー
ムベースの酸化剤、流動床熱酸化剤、プラズマ酸化剤及び透明酸化剤から成るこ
とを選んだ。 - 【請求項７８】 請求項（酸化ユニットが燃焼室（さらにその燃焼室に燃焼
燃料を導入することを含む）を含むその点で）46に記載のプロセス。 - 【請求項７９】 請求項（さらに酸化ユニットにエネルギーを入力すること
を含むこと）46に記載のプロセス。 - 【請求項８０】 酸化成分（含むこと）を含むガス流を扱うためのプロセス
： 酸化ユニット及び斬新な酸化条件にそのガス流の上でそれについてその酸化成
分を減らすためにそのガス流を導入すること； 湿った洗浄ユニットの中でそれの酸化処理に先立ち酸化ユニットの中でそのガ
ス流を洗浄することを濡らす； そのガス流にand/orその湿式洗浄器及び酸化ユニットのうちの少くとも1つの
中で上流にオゾンを提供すること；及び そのガス流及びそのオゾンに酸化ユニットの中でエネルギーを供給すること。 - 【請求項８１】 請求項（水の洗浄媒体ソースがその湿式洗浄器に結びつけ
られるその点で）80に記載のプロセス。 - 【請求項８２】 請求項（オゾンが水の洗浄媒体に上流に水の洗浄媒体の導
入の中でその湿式洗浄器に導入されるその点で）81に記載のプロセス。 - 【請求項８３】 請求項（水の洗浄媒体が水であるその点で）81に記載のプ
ロセス。 - 【請求項８４】 ガス流を扱うためのプロセスがそれについてそのハロゲン
化炭素を減らすためにハロゲン化炭素を含んで、弗素でガス流を生産する酸素含
有ガスの面前でそのガス流と接触することを含むことはハロゲン化炭素含有量を
減らした。 - 【請求項８５】 請求項（そのハロゲン化炭素が少くとも1つのchlorofluor
ocarobonを含むその点で）84に記載のプロセス。 - 【請求項８６】 請求項（そのハロゲン化炭素が少くとも1つのパーフルオ
ロカーボンを含むその点で）84に記載のプロセス。
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