JP2002541321A - ニッケルベースの金属材料およびその製造方法 - Google Patents
ニッケルベースの金属材料およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2002541321A JP2002541321A JP2000609620A JP2000609620A JP2002541321A JP 2002541321 A JP2002541321 A JP 2002541321A JP 2000609620 A JP2000609620 A JP 2000609620A JP 2000609620 A JP2000609620 A JP 2000609620A JP 2002541321 A JP2002541321 A JP 2002541321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atomic
- nickel
- alloy
- cubic structure
- metal material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 122
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title claims description 9
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims abstract description 15
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 10
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 claims description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 4
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005551 mechanical alloying Methods 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 claims description 2
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 6
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 102220253765 rs141230910 Human genes 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 2
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000005690 magnetoelectric effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/10—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of nickel or cobalt or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/14708—Fe-Ni based alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
- H10N60/0576—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers characterised by the substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
材料は再結晶立方晶組織を有しており、かつ組成Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭ ｅ［式中、Ｍは、Ｎｉ、ＭｏまたはＷ以外の１種または複数の金属を表し、それぞれ原子％で、ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、（ｄ＋ｅ）≦５０、ｂ＝０〜１２、ｃ＝０〜１２、ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、ｅ＝０〜４９．９である］を有するニッケル合金からなり、かつ製造技術により条件付けられて場合により含有されるわずかな不純物を有する。製造のためにまず溶融冶金または粉末冶金の方法により、あるいは機械的な合金化により前記の組成を有する合金を製造し、かつ該合金を熱間成形ならびにその後の高度な冷間成形によって帯状物へと加工する。該帯状物に還元性または非酸化性雰囲気中で再結晶焼き鈍しを行う。該材料は工業的に純粋なニッケルに対して高度で熱的により安定した立方晶組織を有しており、かつ高度なマイクロ構造の配向を有する物理的−化学的な被覆のためのベースとして、たとえば高温−超伝導体または積層磁石コアのために使用することができる。
Description
【０００１】 技術分野 本発明は、ニッケルベースの金属材料およびその製造方法に関する。該材料は
たとえば高度なマイクロ組織の配向を有する物理的−化学的な被覆のベースとし
て使用することができる。このようなベースはたとえばセラミック被覆のための
支持体として、たとえば高温−超伝導体の分野で適切である。この場合、その使
用は、超伝導磁石、変換器、エンジン、トモグラフまたは超伝導ケーブルにおい
て行われる。しかし該材料はたとえば磁気的な適用、特に磁電効果における機械
的な作用の変換のために役立つ積層磁石コアのために使用することもできる。
たとえば高度なマイクロ組織の配向を有する物理的−化学的な被覆のベースとし
て使用することができる。このようなベースはたとえばセラミック被覆のための
支持体として、たとえば高温−超伝導体の分野で適切である。この場合、その使
用は、超伝導磁石、変換器、エンジン、トモグラフまたは超伝導ケーブルにおい
て行われる。しかし該材料はたとえば磁気的な適用、特に磁電効果における機械
的な作用の変換のために役立つ積層磁石コアのために使用することもできる。
【０００２】 従来技術 面心立方格子を有する多結晶金属、たとえばニッケル、銅およびアルミニウム
は、先行する圧延による著しい冷間成形後、その後の再結晶の際に、立方晶状態
の際だった組織を形成できることは公知である（G. Wassermann: Texturen meta
llischer Werkstoffe, Springer, Berlin, 1939）。この方法で組織化された帯
状金属、特に帯状ニッケルは、金属被覆、セラミック緩衝層および超伝導性セラ
ミック層のためのベースとしても利用することができる（A. Goyal et al.:ＵＳ
特許第５，７４１，３７７号、１９９８年４月２１日）。支持体材料としてのこ
のような帯状金属の適性は、被覆法を行う温度範囲において達成可能な組織化の
程度および組織の安定性に決定的に依存している。
は、先行する圧延による著しい冷間成形後、その後の再結晶の際に、立方晶状態
の際だった組織を形成できることは公知である（G. Wassermann: Texturen meta
llischer Werkstoffe, Springer, Berlin, 1939）。この方法で組織化された帯
状金属、特に帯状ニッケルは、金属被覆、セラミック緩衝層および超伝導性セラ
ミック層のためのベースとしても利用することができる（A. Goyal et al.:ＵＳ
特許第５，７４１，３７７号、１９９８年４月２１日）。支持体材料としてのこ
のような帯状金属の適性は、被覆法を行う温度範囲において達成可能な組織化の
程度および組織の安定性に決定的に依存している。
【０００３】 純粋な金属とその他の金属元素との合金により再結晶温度を高めることができ
ることも公知である。しかし同時に立方晶組織の程度は、合金含有率の増大と共
に、しかも特に比較的わずかに溶解した成分の範囲ですでに著しく低下する（R.
E. Smallman: Journ. Inst. Metals 84 (1955-56)10-18）。たとえばアルミニ
ウムに関しては、１０〜３００ｐｐｍの範囲で鉄の含有率が増加すると共に再結
晶温度も次第に上昇し、これに対して立方晶組織は明らかに弱くなっていくとい
うことが該当する（W. B. Hutchison, H.-E. Ekstroem: Mater. Sci. Technol.
6 (1990)1103-1111）。ニッケルの組織化に対するマグネシウムの著しく不利な
影響が同様に証明された（K. Detert. u. a.: Z. Metallkde. 54(1963)263-270
）。立方晶組織の形成は６００原子ｐｐｍで充分に防止される。ニッケルの再結
晶温度の上昇に関しても、同様に元素の作用が証明された（K. Detert, G. Dres
sler: Acta Metall. 13(1965)845-853）。これはたとえば、合金元素としてのク
ロムおよびモリブデンに該当する。他方では、焼き鈍し組織のシャープさ(Schae
rfe)および熱安定性に対するその特異的な作用は、特にニッケル中でのその溶解
度の含有率に関して明らかでない。モリブデン３原子％でもはや立方晶組織を達
成することができないことが判明した（K. Detert u. a.: Z. Metallkde.54(196
3)263-270）。
ることも公知である。しかし同時に立方晶組織の程度は、合金含有率の増大と共
に、しかも特に比較的わずかに溶解した成分の範囲ですでに著しく低下する（R.
E. Smallman: Journ. Inst. Metals 84 (1955-56)10-18）。たとえばアルミニ
ウムに関しては、１０〜３００ｐｐｍの範囲で鉄の含有率が増加すると共に再結
晶温度も次第に上昇し、これに対して立方晶組織は明らかに弱くなっていくとい
うことが該当する（W. B. Hutchison, H.-E. Ekstroem: Mater. Sci. Technol.
6 (1990)1103-1111）。ニッケルの組織化に対するマグネシウムの著しく不利な
影響が同様に証明された（K. Detert. u. a.: Z. Metallkde. 54(1963)263-270
）。立方晶組織の形成は６００原子ｐｐｍで充分に防止される。ニッケルの再結
晶温度の上昇に関しても、同様に元素の作用が証明された（K. Detert, G. Dres
sler: Acta Metall. 13(1965)845-853）。これはたとえば、合金元素としてのク
ロムおよびモリブデンに該当する。他方では、焼き鈍し組織のシャープさ(Schae
rfe)および熱安定性に対するその特異的な作用は、特にニッケル中でのその溶解
度の含有率に関して明らかでない。モリブデン３原子％でもはや立方晶組織を達
成することができないことが判明した（K. Detert u. a.: Z. Metallkde.54(196
3)263-270）。
【０００４】 ニッケルの場合、１００ｐｐｍよりも少ない異種元素含有率が保証され、これ
によって本来のニッケル挙動を観察することができることを出発点とする（E. D
. Specht et al.: Supercond. Sci. Technol. 11(1998)945-949）。より高い含
有率の場合、立方晶組織としてのニッケルの一次再結晶組織は、それほど完全に
形成されないことが予測される。さらにより高い温度の場合、二次的な再結晶プ
ロセスによって一次的に成長した立方晶組織の破壊が予測される（R. E. Smallm
an, C. S. Lee: mater. Sci. Eng. A184(1994))7-112）。このような高い温度は
通常の被覆条件の場合、超伝導層の堆積の際に存在するような７００℃〜８００
℃で達成される。
によって本来のニッケル挙動を観察することができることを出発点とする（E. D
. Specht et al.: Supercond. Sci. Technol. 11(1998)945-949）。より高い含
有率の場合、立方晶組織としてのニッケルの一次再結晶組織は、それほど完全に
形成されないことが予測される。さらにより高い温度の場合、二次的な再結晶プ
ロセスによって一次的に成長した立方晶組織の破壊が予測される（R. E. Smallm
an, C. S. Lee: mater. Sci. Eng. A184(1994))7-112）。このような高い温度は
通常の被覆条件の場合、超伝導層の堆積の際に存在するような７００℃〜８００
℃で達成される。
【０００５】 金属、特にニッケルの変形組織および焼き鈍し組織の出現に対する合金元素の
作用に関する一般的な理論は存在しない。
作用に関する一般的な理論は存在しない。
【０００６】 発明の記載 本発明の根底には、技術的に純粋なニッケルと比較してより高度に、かつ熱的
に安定した立方晶組織を有する、ニッケルベースの金属材料を開発するという課
題が存在する。この課題には、該材料の製造方法の開発も含まれている。
に安定した立方晶組織を有する、ニッケルベースの金属材料を開発するという課
題が存在する。この課題には、該材料の製造方法の開発も含まれている。
【０００７】 上記課題は、本発明により再結晶立方晶組織を有し、かつその組成が一般式： Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［上記式中、ＭはＮｉ、ＭｏまたはＷを除いた１種以上の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦５０、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜４９．９である］に相応するニッケル合金からなり、かつ製造技術的
に条件付けられて場合により含有されているわずかな不純物を有する金属材料に
より解決される。
に条件付けられて場合により含有されているわずかな不純物を有する金属材料に
より解決される。
【０００８】 有利にはＭｏおよび／またはＷの全含有率は０．０１原子％〜０．３原子％の
範囲または３原子％〜１２原子％の範囲である。
範囲または３原子％〜１２原子％の範囲である。
【０００９】 該材料が工業的に純粋なＮｉからなり、かつ０．１原子％または５原子％また
は１０原子％のＭｏおよび／またはＷ含有率を有する場合に、特に有利な特性が
得られる。
は１０原子％のＭｏおよび／またはＷ含有率を有する場合に、特に有利な特性が
得られる。
【００１０】 合金成分Ｍは有利には元素の周期表の第４周期からの１種以上の金属からなる
。有利にはＶ、Ｃｒおよび／またはＣｕが含有されていてもよい。
。有利にはＶ、Ｃｒおよび／またはＣｕが含有されていてもよい。
【００１１】 本発明による材料を製造するためにまず、溶融冶金または粉末冶金による方法
で、または機械的な合金化により、その組成が一般式 Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［上記式中、ＭはＮｉ、ＭｏまたはＷを除いた１種以上の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦５０、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜４９．９である］に相応し、かつ製造技術的に条件付けられて場合に
より含有されるわずかな不純物を有する合金を製造する。この合金は熱間成形お
よび圧下量が８０％を上回るその後の高度な冷間成形により帯状物へと加工され
、かつ最終的に還元性または非酸化性雰囲気下に再結晶焼き鈍しを行って立方晶
組織が得られる。
で、または機械的な合金化により、その組成が一般式 Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［上記式中、ＭはＮｉ、ＭｏまたはＷを除いた１種以上の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦５０、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜４９．９である］に相応し、かつ製造技術的に条件付けられて場合に
より含有されるわずかな不純物を有する合金を製造する。この合金は熱間成形お
よび圧下量が８０％を上回るその後の高度な冷間成形により帯状物へと加工され
、かつ最終的に還元性または非酸化性雰囲気下に再結晶焼き鈍しを行って立方晶
組織が得られる。
【００１２】 溶融冶金的な合金の製造は、有利には銅鋳型中へ注入することにより行う。
【００１３】 粉末冶金的な合金の製造は、有利には静水圧条件下での冷間および／または熱
間圧縮により行う。
間圧縮により行う。
【００１４】 高度な冷間成形は、有利には圧延により実施する。有利には圧下量が８０％を
上回る、有利には９８％を上回る圧延率である。
上回る、有利には９８％を上回る圧延率である。
【００１５】 本発明によれば再結晶焼き鈍しを３５０℃〜１１５０℃の範囲の温度で実施す
る。
る。
【００１６】 工業的に純粋なニッケルとＭｏおよび／またはＷとの本発明によるマイクロ合
金により、冷間圧延および焼き鈍し後の立方晶状態の相対的な組織化の程度は、
１０〜２５％上昇する。同時に焼き鈍し組織は、約６００℃までしか安定してい
ない工業的に純粋なニッケルに対して熱的に安定しており、かつ１１００℃を上
回るまで維持される。
金により、冷間圧延および焼き鈍し後の立方晶状態の相対的な組織化の程度は、
１０〜２５％上昇する。同時に焼き鈍し組織は、約６００℃までしか安定してい
ない工業的に純粋なニッケルに対して熱的に安定しており、かつ１１００℃を上
回るまで維持される。
【００１７】 両マイクロ合金元素Ｍｏおよび／またはＷのこの作用は、組織化された材料の
適用特性にとって特に有利である。というのも、ニッケル支持体は緩衝材料およ
び／または超伝導材料による被覆条件下で構造的に変化しないで維持されるから
である。従って堆積した物質のエピタキシャル成長もしくは準エピタキシャル成
長がプロセス中にベースによって妨げられることがない。
適用特性にとって特に有利である。というのも、ニッケル支持体は緩衝材料およ
び／または超伝導材料による被覆条件下で構造的に変化しないで維持されるから
である。従って堆積した物質のエピタキシャル成長もしくは準エピタキシャル成
長がプロセス中にベースによって妨げられることがない。
【００１８】 意外なことにＭｏおよび／またはＷにより高度に合金化された本発明によるニ
ッケル材料は同様に有利な作用を有することが明らかになった。たとえばＭｏま
たはＷ５原子％の含有率により９００℃を上回る焼き鈍し温度で高度な立方晶組
織が生じる。従ってこのような支持体合金の適用に関して、非磁性帯状物を製造
する可能性が生じる。というのも両方の元素はキュリー温度を著しく低下させる
からである。ここに超電導体の損失の少ない交流適用に関する特別な利点が存在
する。さらにこのことは同時に、支持体の強度を２倍〜３倍にする有利な混晶硬
化と結びついている。
ッケル材料は同様に有利な作用を有することが明らかになった。たとえばＭｏま
たはＷ５原子％の含有率により９００℃を上回る焼き鈍し温度で高度な立方晶組
織が生じる。従ってこのような支持体合金の適用に関して、非磁性帯状物を製造
する可能性が生じる。というのも両方の元素はキュリー温度を著しく低下させる
からである。ここに超電導体の損失の少ない交流適用に関する特別な利点が存在
する。さらにこのことは同時に、支持体の強度を２倍〜３倍にする有利な混晶硬
化と結びついている。
【００１９】 冷間および熱間静水圧プレスによる粉末冶金による製造方法も、出発材料に関
して溶融冶金による製造方法に変わって有利である。
して溶融冶金による製造方法に変わって有利である。
【００２０】 冶金により製造される鋳物または圧縮成形体は、熱成形により制御された粒度
の調整ならびに均質化焼き鈍しにより冷間成形にとって有利な出発組織が得られ
る。熱間成形性は、焼き鈍しの温度および時間と同様に、良好な冷間成形性の観
点で容易に当業者が最適化することができる。再結晶焼き鈍し雰囲気は、有利に
は還元性であるか、または不活性である。焼き鈍し温度および焼き鈍し時間は合
金含有率の増大に伴い高い値になる傾向があり、かつ当業者はこれを問題なく調
整することができる。
の調整ならびに均質化焼き鈍しにより冷間成形にとって有利な出発組織が得られ
る。熱間成形性は、焼き鈍しの温度および時間と同様に、良好な冷間成形性の観
点で容易に当業者が最適化することができる。再結晶焼き鈍し雰囲気は、有利に
は還元性であるか、または不活性である。焼き鈍し温度および焼き鈍し時間は合
金含有率の増大に伴い高い値になる傾向があり、かつ当業者はこれを問題なく調
整することができる。
【００２１】 以下で本発明を実施例および添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００２２】 図面の簡単な記載 図１：冷間圧延および８００℃での再結晶後のタングステン０．１原子％を有
するニッケルの立方晶組織の極点図、 図２：ニッケルおよびＭｏもしくはＷ０．１原子％を有するニッケルに関する
立方晶組織の形成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフ、 図３：Ｎｉおよび異なったＭｏ含有率を有するニッケルに関する立方晶組織の
形成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフ、 図４：Ｎｉおよび異なったＷ含有率を有するニッケルに関する立方晶組織の形
成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフ。
するニッケルの立方晶組織の極点図、 図２：ニッケルおよびＭｏもしくはＷ０．１原子％を有するニッケルに関する
立方晶組織の形成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフ、 図３：Ｎｉおよび異なったＭｏ含有率を有するニッケルに関する立方晶組織の
形成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフ、 図４：Ｎｉおよび異なったＷ含有率を有するニッケルに関する立方晶組織の形
成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフ。
【００２３】 図２〜４では極点図の代わりに、立方晶組織の程度を特徴付けるためにロート
ゲリングファクター(Lotgeringfaktor)Ｉ（１００）を使用する。
ゲリングファクター(Lotgeringfaktor)Ｉ（１００）を使用する。
【００２４】 本発明の実施方法 例１ ニッケル９９．９原子％の純度を有する工業的に純粋なニッケルにモリブデン
０．１原子％またはタングステン０．１原子％を合金して鋳型に注入する。
０．１原子％またはタングステン０．１原子％を合金して鋳型に注入する。
【００２５】 インゴットを１１００℃で寸法（２２×２２）ｍｍ２の方形に圧延し、焼き鈍
して均質化し、かつ急冷した。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延
による冷間成形のために欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６
％の圧延率で実施する。
して均質化し、かつ急冷した。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延
による冷間成形のために欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６
％の圧延率で実施する。
【００２６】 得られる帯状ニッケルは、厚さ８０μｍを有しており、かつ高度に圧延組織化
されている。引き続き４００℃を上回り、かつ１１５０℃までで、３０分間の焼
き鈍し処理を行う。その結果、図１および２に示すようなほぼ完全な再結晶立方
晶組織が得られる。Ｘ線検査により測定した（１００）−反射の強度は、別の反
射頻度の強度（ロートゲリングファクター）と比較して、組織強化に関するモリ
ブデンおよびタングステンの明らかな合金効果を証明している。ドーピングして
いない帯状ニッケルは、よりわずかな（１００）−強度を有しており、これはさ
らに６００℃を上回る焼き鈍し温度でいっそう低下する。
されている。引き続き４００℃を上回り、かつ１１５０℃までで、３０分間の焼
き鈍し処理を行う。その結果、図１および２に示すようなほぼ完全な再結晶立方
晶組織が得られる。Ｘ線検査により測定した（１００）−反射の強度は、別の反
射頻度の強度（ロートゲリングファクター）と比較して、組織強化に関するモリ
ブデンおよびタングステンの明らかな合金効果を証明している。ドーピングして
いない帯状ニッケルは、よりわずかな（１００）−強度を有しており、これはさ
らに６００℃を上回る焼き鈍し温度でいっそう低下する。
【００２７】 例２ ニッケル９９．９原子％の純度を有する工業的に純粋なニッケルにモリブデン
５原子％またはタングステン５原子％を合金して鋳型に注入する。
５原子％またはタングステン５原子％を合金して鋳型に注入する。
【００２８】 インゴットを１１００℃で寸法（２２×２２）ｍｍ２の方形に圧延し、焼き鈍
して均質化し、かつ急冷した。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延
による冷間成形のために欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６
％の圧延率で実施する。
して均質化し、かつ急冷した。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延
による冷間成形のために欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６
％の圧延率で実施する。
【００２９】 得られる帯状ニッケルは、厚さ８０μｍを有しており、かつ高度に圧延組織化
されている。引き続き８００℃を上回り、かつ１１５０℃まで、３０分間の焼き
鈍し処理を行う。その結果、ほぼ完全な再結晶立方晶組織が得られる（図３およ
び４）。Ｘ線検査により測定した（１００）−反射の強度は、別の反射頻度の強
度（ロートゲリングファクター）と比較して、組織強化に関するモリブデンおよ
びタングステンの明らかな合金効果を証明している。ドーピングしていない帯状
ニッケルは、よりわずかな（１００）−強度を有しており、これはさらに６００
℃を上回る焼き鈍し温度でいっそう低下する。これらの帯状物の強度は、混晶硬
化に基づいて合金化されていないニッケルに対して約２倍向上している。
されている。引き続き８００℃を上回り、かつ１１５０℃まで、３０分間の焼き
鈍し処理を行う。その結果、ほぼ完全な再結晶立方晶組織が得られる（図３およ
び４）。Ｘ線検査により測定した（１００）−反射の強度は、別の反射頻度の強
度（ロートゲリングファクター）と比較して、組織強化に関するモリブデンおよ
びタングステンの明らかな合金効果を証明している。ドーピングしていない帯状
ニッケルは、よりわずかな（１００）−強度を有しており、これはさらに６００
℃を上回る焼き鈍し温度でいっそう低下する。これらの帯状物の強度は、混晶硬
化に基づいて合金化されていないニッケルに対して約２倍向上している。
【００３０】 例３ ニッケル９９．９原子％の純度を有する工業的に純粋なニッケルにモリブデン
４原子％およびタングステン６原子％を合金して鋳型に注入する。
４原子％およびタングステン６原子％を合金して鋳型に注入する。
【００３１】 インゴットを１１００℃で寸法（２２×２２）ｍｍ２の方形に圧延し、焼き鈍
して均質化し、かつ急冷した。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延
による冷間成形のために欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６
％の圧延率で実施する。
して均質化し、かつ急冷した。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延
による冷間成形のために欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６
％の圧延率で実施する。
【００３２】 得られる帯状ニッケルは厚さ８０μｍを有しており、かつ高度に圧延組織化さ
れている。引き続き９００℃を上回り、１２００℃までで、３０分間焼き鈍し処
理を行う。その結果、ニッケルの以前の圧延レベルおよび立方晶面が充分に一致
する再結晶組織が得られる。Ｘ線検査により測定される（１００）−反射の強度
は、別の反射頻度の強度（ロートゲリングファクター）と比較して、モリブデン
またはタングステンのこの合金含有率に関して、１１００℃の範囲の焼き鈍し温
度で著しい（１００）−強度を達成できる（繊維状組織）ことが証明される。
れている。引き続き９００℃を上回り、１２００℃までで、３０分間焼き鈍し処
理を行う。その結果、ニッケルの以前の圧延レベルおよび立方晶面が充分に一致
する再結晶組織が得られる。Ｘ線検査により測定される（１００）−反射の強度
は、別の反射頻度の強度（ロートゲリングファクター）と比較して、モリブデン
またはタングステンのこの合金含有率に関して、１１００℃の範囲の焼き鈍し温
度で著しい（１００）−強度を達成できる（繊維状組織）ことが証明される。
【００３３】 冷間成形および焼き鈍し処理の際の条件を最適化することにより、特に高めた
焼き鈍し時間により、立方晶状態の範囲でさらなる組織強化を達成することがで
きる。これらの帯状物の強度は、混晶強化に基づいて合金化していないニッケル
に対して、約３倍向上している。強磁性を同時に抑制する。というのもキュリー
温度は合金化条件によって著しく低下するからであり、これはたとえばモリブデ
ン９．１５原子％を合金化したニッケル支持体に関しては６０Ｋ〜７０Ｋの範囲
である。
焼き鈍し時間により、立方晶状態の範囲でさらなる組織強化を達成することがで
きる。これらの帯状物の強度は、混晶強化に基づいて合金化していないニッケル
に対して、約３倍向上している。強磁性を同時に抑制する。というのもキュリー
温度は合金化条件によって著しく低下するからであり、これはたとえばモリブデ
ン９．１５原子％を合金化したニッケル支持体に関しては６０Ｋ〜７０Ｋの範囲
である。
【００３４】 例４ ニッケル９９．９原子％の純度を有する工業的に純粋なニッケルにバナジウム
９．５原子％およびタングステン０．３原子％を合金して鋳型へ注入する。該合
金はＮｉ９０．２Ｗ０．３Ｖ９．５の化学組成を有する。インゴットを１１００
℃で寸法（２２×２２）ｍｍ２の方形に圧延し、焼き鈍して均質化し、かつ急冷
する。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延による冷間成形のために
欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６％の圧延率で実施する。
９．５原子％およびタングステン０．３原子％を合金して鋳型へ注入する。該合
金はＮｉ９０．２Ｗ０．３Ｖ９．５の化学組成を有する。インゴットを１１００
℃で寸法（２２×２２）ｍｍ２の方形に圧延し、焼き鈍して均質化し、かつ急冷
する。引き続き方形材料を切削加工して、その後の圧延による冷間成形のために
欠陥のない表面が得られる。冷間圧延を圧下量９９．６％の圧延率で実施する。
【００３５】 得られる帯状ニッケルは厚さ８０μｍを有しており、かつ高度に圧延組織化さ
れている。引き続き９００℃を上回って（１２００℃までで）３０分間焼き鈍し
処理を行う。その結果、再結晶立方晶組織が得られる。
れている。引き続き９００℃を上回って（１２００℃までで）３０分間焼き鈍し
処理を行う。その結果、再結晶立方晶組織が得られる。
【００３６】 冷間成形および焼き鈍し処理における条件を最適化することにより、特に高め
た焼き鈍し時間により、立方晶状態の範囲でさらなる組織強化を達成することが
できる。これらの帯状物の強度は、混晶強化に基づいて合金化されていないニッ
ケルに対して約２〜３倍向上している。強磁性は同時に抑制される。というのも
、キュリー温度は合金条件によって著しく低下するためであり、これによって液
体窒素の温度範囲で７７Ｋで組織化された合金の強磁性挙動は存在しない。
た焼き鈍し時間により、立方晶状態の範囲でさらなる組織強化を達成することが
できる。これらの帯状物の強度は、混晶強化に基づいて合金化されていないニッ
ケルに対して約２〜３倍向上している。強磁性は同時に抑制される。というのも
、キュリー温度は合金条件によって著しく低下するためであり、これによって液
体窒素の温度範囲で７７Ｋで組織化された合金の強磁性挙動は存在しない。
【図１】 冷間圧延および８００℃での再結晶後のタングステン０．１原子％を有するニ
ッケルの立方晶組織の極点図を示す。
ッケルの立方晶組織の極点図を示す。
【図２】 ニッケルおよびＭｏもしくはＷ０．１原子％を有するニッケルに関する立方晶
組織の形成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフを示す。
組織の形成に対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフを示す。
【図３】 Ｎｉおよび異なったＭｏ含有率を有するニッケルに関する立方晶組織の形成に
対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフを示す。
対する焼き鈍し温度の影響に関するグラフを示す。
【図４】 Ｎｉおよび異なったＷ含有率を有するニッケルに関する立方晶組織の形成に対
する焼き鈍し温度の影響に関するグラフを示す。
する焼き鈍し温度の影響に関するグラフを示す。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１３年５月３１日（２００１．５．３１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】 技術分野 本発明は、ニッケルベースの金属材料およびその製造方法に関する。該材料は
たとえば高度なマイクロ組織の配向を有する物理的−化学的な被覆のベースとし
て使用することができる。このようなベースはたとえばセラミック被覆のための
支持体として、たとえば高温−超伝導体の分野で適切である。この場合、その使
用は、超伝導磁石、変換器、エンジン、トモグラフまたは超伝導ケーブルにおい
て行われる。
たとえば高度なマイクロ組織の配向を有する物理的−化学的な被覆のベースとし
て使用することができる。このようなベースはたとえばセラミック被覆のための
支持体として、たとえば高温−超伝導体の分野で適切である。この場合、その使
用は、超伝導磁石、変換器、エンジン、トモグラフまたは超伝導ケーブルにおい
て行われる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】 上記課題は、本発明により再結晶立方晶組織を有し、かつその組成が一般式： Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［上記式中、ＭはＮｉ、ＭｏまたはＷを除いた１種以上の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦２２、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜１０である］に相応するニッケル合金からなり、かつ製造技術的に条
件付けられて場合により含有されているわずかな不純物を有する金属材料により
解決される。
件付けられて場合により含有されているわずかな不純物を有する金属材料により
解決される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】 本発明による材料を製造するためにまず、溶融冶金または粉末冶金による方法
で、または機械的な合金化により、その組成が一般式 Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［上記式中、ＭはＮｉ、ＭｏまたはＷを除いた１種以上の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦２２、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜１０である］に相応し、かつ製造技術的に条件付けられて場合により
含有されるわずかな不純物を有する合金を製造する。この合金は熱間成形および
圧下量が８０％を上回るその後の高度な冷間成形により帯状物へと加工され、か
つ最終的に還元性または非酸化性雰囲気下に再結晶焼き鈍しを行って立方晶組織
が得られる。
で、または機械的な合金化により、その組成が一般式 Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［上記式中、ＭはＮｉ、ＭｏまたはＷを除いた１種以上の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦２２、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜１０である］に相応し、かつ製造技術的に条件付けられて場合により
含有されるわずかな不純物を有する合金を製造する。この合金は熱間成形および
圧下量が８０％を上回るその後の高度な冷間成形により帯状物へと加工され、か
つ最終的に還元性または非酸化性雰囲気下に再結晶焼き鈍しを行って立方晶組織
が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２２Ｆ 1/10 Ｃ２２Ｆ 1/10 Ａ // Ｃ２２Ｆ 1/00 ６１１ 1/00 ６１１ ６８１ ６８１ ６８２ ６８２ ６８５ ６８５Ｚ ６８６ ６８６Ａ ６８７ ６８７ ６９１ ６９１ ６９４ ６９４Ａ (72)発明者 ラルフ オピッツ ドイツ連邦共和国 ドレスデン ゴムリッ ツァー ヘーエ 11 (72)発明者 ベルンハルト ホルツアプフェル ドイツ連邦共和国 クライシャ キルヒヴ ェーク 23 アー Ｆターム(参考） 4K018 AA08 BA04 CA11 EA01
Claims (9)
- 【請求項１】 ニッケルベースの金属材料において、該材料が再結晶立方晶
組織を有し、かつその組成が一般式 Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［式中、 Ｍは、Ｎｉ、ＭｏまたはＷ以外の１種または複数の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦５０、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜４９．９である］に相応するニッケル合金からなり、かつ製造技術的
な条件によって場合により含有されるわずかな不純物を有することを特徴とする
、ニッケルベースの金属材料。 - 【請求項２】 Ｍｏおよび／またはＷの全含有率が０．０１原子％〜０．３
原子％の範囲であるか、または３原子％〜１２原子％の範囲である、請求項１記
載の材料。 - 【請求項３】 ニッケル合金が、工業的に純粋なＮｉおよびＭｏおよび／ま
たはＷ０．１原子％からなるか、または工業的に純粋なＮｉおよびＭｏおよび／
またはＷ５原子％からなるか、または工業的に純粋なＮｉおよびＭｏおよび／ま
たはＷ１０原子％からなる、請求項１記載の材料。 - 【請求項４】 Ｍが、元素の周期表の第４周期からの１種または複数の金属
、有利にはＶ、Ｃｒおよび／またはＣｕである、請求項１記載の材料。 - 【請求項５】 請求項１記載の金属材料の製造方法において、まず溶融冶金
もしくは粉末冶金の方法で、または機械的な合金化により、その組成が一般式 Ｎｉａ（Ｍｏｂ、Ｗｃ）ｄＭｅ ［式中、 Ｍは、Ｎｉ、ＭｏまたはＷ以外の１種または複数の金属を表し、 それぞれ原子％で、 ａ＝１００〜（ｄ＋ｅ）、 （ｄ＋ｅ）≦５０、 ｂ＝０〜１２、 ｃ＝０〜１２、 ｄ＝（ｂ＋ｃ）＝０．０１〜１２、 ｅ＝０〜４９．９である］に相応し、かつ製造技術により条件付けられて場合
により含有されるわずかな不純物を有する合金を製造し、かつ該合金を熱間成形
ならびにその後の８０％を上回る圧下量を有する高度な冷間成形により帯状物へ
と加工し、かつ最後に還元性もしくは非酸化性雰囲気中で再結晶焼き鈍しを行い
、立方晶組織が得られることを特徴とする、請求項１記載の金属材料の製造方法
。 - 【請求項６】 銅鋳型への注入により合金の溶融冶金的な製造を行う、請求
項５記載の方法。 - 【請求項７】 静水圧条件下での冷間圧縮および／または熱間圧縮により合
金の粉末冶金的な製造を行う、請求項５記載の方法。 - 【請求項８】 圧延により高度な冷間成形を実施し、その際、８０％を上回
る圧下量、有利には９８％を上回る圧下量を有する圧延率を適用する、請求項５
記載の方法。 - 【請求項９】 再結晶焼き鈍しを３５０℃〜１１５０℃の範囲の温度で実施
する、請求項５記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19915317.5 | 1999-04-03 | ||
| DE19915317 | 1999-04-03 | ||
| PCT/DE2000/000404 WO2000060132A1 (de) | 1999-04-03 | 2000-02-07 | Metallischer werkstoff auf nickelbasis und verfahren zu dessen herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002541321A true JP2002541321A (ja) | 2002-12-03 |
| JP5064611B2 JP5064611B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=7903549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000609620A Expired - Lifetime JP5064611B2 (ja) | 1999-04-03 | 2000-02-07 | ニッケルベースの金属材料およびその製造方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1208244B1 (ja) |
| JP (1) | JP5064611B2 (ja) |
| CN (1) | CN1117879C (ja) |
| AT (1) | ATE266745T1 (ja) |
| DE (2) | DE10005861C2 (ja) |
| DK (1) | DK1208244T3 (ja) |
| ES (1) | ES2220430T3 (ja) |
| PT (1) | PT1208244E (ja) |
| WO (1) | WO2000060132A1 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503314A (ja) * | 2003-08-25 | 2007-02-22 | ライプニッツ−インスティトゥート フュア フェストケルパー− ウント ヴェルクシュトフフォルシュング ドレスデン エー ファオ | 立方集合組織を有する金属製のフラットワイヤ又はストリップの製造法 |
| JP2010525156A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ティッセンクルップ ファオ デー エム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 金属箔 |
| CN104525559A (zh) * | 2014-12-23 | 2015-04-22 | 湖南湘投金天钛金属有限公司 | 基于二十辊轧机轧制宽幅镍带卷的方法及装置 |
| JP2016526103A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-01 | ファオデーエム メタルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＶＤＭ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ | 金属箔の製造方法 |
| JP2016528373A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-15 | ファオデーエム メタルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＶＤＭ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ | 金属箔の製造方法 |
| CN111101007A (zh) * | 2020-01-13 | 2020-05-05 | 周口师范学院 | 一种高性能镍基合金复合带材的制备方法 |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10061399C1 (de) * | 2000-12-07 | 2002-06-27 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE10061398C1 (de) * | 2000-12-07 | 2002-03-28 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Verfahren zur Herstellung metallischer Bänder |
| ATE353375T1 (de) * | 2000-12-07 | 2007-02-15 | Leibniz Inst Fuer Festkoerper | Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung |
| DE10148889A1 (de) * | 2001-09-21 | 2003-06-26 | Leibniz Inst Fuer Festkoerper | Trägermaterial auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE10342965A1 (de) * | 2003-09-10 | 2005-06-02 | Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. | Halbzeug auf Nickelbasis mit einer Rekristallisationswürfeltextur und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE102004041053B4 (de) | 2004-08-25 | 2007-08-16 | Trithor Gmbh | Verfahren zur Herstellung dicker REBCO-Schichten für bandförmige Hochtemeperatur-Supraleiter |
| DE102004042481A1 (de) * | 2004-09-02 | 2006-03-23 | Stuth, Theodor, Dipl.-Kaufm. | Verfahren zur Herstellung von Metallbändern hoher Reinheit aus Kathodenblechen |
| CN1300366C (zh) * | 2004-12-28 | 2007-02-14 | 西北有色金属研究院 | 一种NiTi合金立方织构基带及其制备方法 |
| DE102005013368B3 (de) * | 2005-03-16 | 2006-04-13 | Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. | Verfahren zur Herstellung und Verwendung von Halbzeug auf Nickelbasis mit Rekristallisationswürfeltextur |
| CN100462194C (zh) * | 2005-07-20 | 2009-02-18 | 林榆滨 | 一种镍带制造方法 |
| KR100742295B1 (ko) | 2006-03-06 | 2007-07-24 | 한국생산기술연구원 | 연속주조법에 의한 Ｎｉ-Ｗ 초전도체 제조방법 |
| CN100374595C (zh) * | 2006-05-19 | 2008-03-12 | 北京工业大学 | Ni基合金复合基带的熔炼制备方法 |
| CN100374597C (zh) * | 2006-05-19 | 2008-03-12 | 北京工业大学 | Ni基合金复合基带的放电等离子体制备方法 |
| CN100374596C (zh) * | 2006-05-19 | 2008-03-12 | 北京工业大学 | Ni基合金复合基带及其粉末冶金制备方法 |
| CN100400700C (zh) * | 2007-03-29 | 2008-07-09 | 上海大学 | 提高690合金材料耐腐蚀性能的工艺方法 |
| US8114526B2 (en) | 2007-04-06 | 2012-02-14 | American Superconductor Corporation | Composite substrates for high temperature superconductors having improved properties |
| US7879161B2 (en) | 2007-08-08 | 2011-02-01 | Ut-Battelle, Llc | Strong, non-magnetic, cube textured alloy substrates |
| DE102008004818B4 (de) | 2008-01-17 | 2010-07-15 | Zenergy Power Gmbh | Nasschemisches Verfahren zur Herstellung eines Hochtemperatursupraleiters |
| DE102009024411A1 (de) | 2009-03-24 | 2010-09-30 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Dünnschichtverkapselung für ein optoelektronisches Bauelement, Verfahren zu dessen Herstellung und optoelektronisches Bauelement |
| CN101804554B (zh) * | 2010-03-26 | 2012-02-15 | 北京工业大学 | 一种涂层超导Ni-W合金基带线材的制备方法 |
| CN103952592B (zh) * | 2014-04-14 | 2016-07-06 | 上海大学 | 无磁性高温超导涂层导体用立方织构镍基合金基带的制备方法 |
| EP2960954A1 (de) | 2014-06-24 | 2015-12-30 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung eines Komposits umfassend eine Hochtemperatursupraleiter(HTS)-Schicht |
| EP2980804A1 (de) | 2014-07-31 | 2016-02-03 | Basf Se | Vorprodukt sowie Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen Hochtemperatursupraleiters |
| CN104404306B (zh) * | 2014-09-03 | 2017-02-15 | 上海大学 | 涂层导体用高强度立方织构镍基合金基带及其制备方法 |
| US10233091B2 (en) | 2015-03-02 | 2019-03-19 | Basf Se | Process for producing crystalline tantalum oxide particles |
| CN107567428B (zh) | 2015-03-02 | 2020-12-25 | 巴斯夫欧洲公司 | 纳米颗粒作为超导体中的钉扎中心的用途 |
| JP6770972B2 (ja) | 2015-03-26 | 2020-10-21 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 高温超伝導体線の製造方法 |
| CN106222488A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-12-14 | 河南师范大学 | 一种无铁磁性、高强度织构镍钨铬合金基带的制备方法 |
| WO2018130504A1 (en) | 2017-01-11 | 2018-07-19 | Basf Se | Process for producing nanoparticles |
| JP2021504909A (ja) | 2017-11-28 | 2021-02-15 | ビーエイエスエフ・ソシエタス・エウロパエアＢａｓｆ Ｓｅ | 接合された超電導テープ |
| KR102636346B1 (ko) | 2018-04-25 | 2024-02-15 | 커먼웰스 퓨젼 시스템스 엘엘씨 | 초전도 테이프의 품질 관리 장치 |
| WO2020049019A1 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Basf Se | Process for producing nanoparticles |
| TWI722637B (zh) * | 2018-11-06 | 2021-03-21 | 德商德國艾托特克公司 | 無電鎳鍍浴溶液 |
| WO2020212194A1 (en) | 2019-04-17 | 2020-10-22 | Basf Se | Sealed superconductor tape |
| WO2021063723A1 (en) | 2019-09-30 | 2021-04-08 | Basf Se | High-temperature superconductor tape with buffer having controlled carbon content |
| CN112222187B (zh) * | 2020-09-22 | 2022-06-03 | 武汉科技大学 | 高冲击韧性镍基合金复合材料的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002527626A (ja) * | 1998-10-16 | 2002-08-27 | ウーロタングステーヌ プードル | タングステン及び／又はモリブデンと３ｄ遷移金属とを基材とするミクロン金属粉末 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2225020A1 (de) * | 1972-05-23 | 1973-12-06 | Hitachi Metals Ltd | Alterungs-haertbare magnetische nickeleisen-legierung |
| US4948434A (en) * | 1988-04-01 | 1990-08-14 | Nkk Corporation | Method for manufacturing Ni-Fe alloy sheet having excellent DC magnetic property and excellent AC magnetic property |
| JP2803522B2 (ja) * | 1993-04-30 | 1998-09-24 | 日本鋼管株式会社 | 磁気特性および製造性に優れたＮｉ−Ｆｅ系磁性合金およびその製造方法 |
| US5741377A (en) * | 1995-04-10 | 1998-04-21 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Structures having enhanced biaxial texture and method of fabricating same |
| FR2737043B1 (fr) * | 1995-07-18 | 1997-08-14 | Imphy Sa | Alliage fer-nickel pour masque d'ombre tendu |
| FR2745298B1 (fr) * | 1996-02-27 | 1998-04-24 | Imphy Sa | Alliage fer-nickel et bande laminee a froid a texture cubique |
| FR2765724B1 (fr) * | 1997-07-04 | 1999-08-13 | Imphy Sa | Alliage magnetique doux du type fe-ni-cr-ti pour circuit magnetique d'un relais a haute sensibilite |
-
2000
- 2000-02-07 DK DK00912365T patent/DK1208244T3/da active
- 2000-02-07 WO PCT/DE2000/000404 patent/WO2000060132A1/de active IP Right Grant
- 2000-02-07 DE DE10005861A patent/DE10005861C2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-07 ES ES00912365T patent/ES2220430T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-07 PT PT00912365T patent/PT1208244E/pt unknown
- 2000-02-07 AT AT00912365T patent/ATE266745T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-02-07 EP EP00912365A patent/EP1208244B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-07 JP JP2000609620A patent/JP5064611B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-07 DE DE50006431T patent/DE50006431D1/de not_active Revoked
- 2000-02-07 CN CN00805616.1A patent/CN1117879C/zh not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002527626A (ja) * | 1998-10-16 | 2002-08-27 | ウーロタングステーヌ プードル | タングステン及び／又はモリブデンと３ｄ遷移金属とを基材とするミクロン金属粉末 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503314A (ja) * | 2003-08-25 | 2007-02-22 | ライプニッツ−インスティトゥート フュア フェストケルパー− ウント ヴェルクシュトフフォルシュング ドレスデン エー ファオ | 立方集合組織を有する金属製のフラットワイヤ又はストリップの製造法 |
| JP4664915B2 (ja) * | 2003-08-25 | 2011-04-06 | ライプニッツ−インスティトゥート フュア フェストケルパー− ウント ヴェルクシュトフフォルシュング ドレスデン エー ファオ | 立方集合組織を有する金属製のフラットワイヤ又はストリップの製造法 |
| KR101115625B1 (ko) | 2003-08-25 | 2012-02-17 | 레이베니츠-인스티투트 푸어 페스트코르페르 운트 베르크스토프포르숭 드레스덴 에.파우 | 입방체 구조를 가진 금속성 플랫 와이어 또는 스트립 제조방법 |
| JP2010525156A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ティッセンクルップ ファオ デー エム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 金属箔 |
| JP2016526103A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-01 | ファオデーエム メタルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＶＤＭ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ | 金属箔の製造方法 |
| JP2016528373A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-15 | ファオデーエム メタルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＶＤＭ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ | 金属箔の製造方法 |
| US10676808B2 (en) | 2013-06-07 | 2020-06-09 | VDM Metals GmbH | Method for producing a metal film |
| US10923248B2 (en) | 2013-06-07 | 2021-02-16 | Vdm Metals International Gmbh | Method for producing a metal film |
| CN104525559A (zh) * | 2014-12-23 | 2015-04-22 | 湖南湘投金天钛金属有限公司 | 基于二十辊轧机轧制宽幅镍带卷的方法及装置 |
| CN111101007A (zh) * | 2020-01-13 | 2020-05-05 | 周口师范学院 | 一种高性能镍基合金复合带材的制备方法 |
| CN111101007B (zh) * | 2020-01-13 | 2022-02-25 | 周口师范学院 | 一种高性能镍基合金复合带材的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE10005861C2 (de) | 2002-05-08 |
| DE50006431D1 (de) | 2004-06-17 |
| PT1208244E (pt) | 2004-09-30 |
| EP1208244B1 (de) | 2004-05-12 |
| ES2220430T3 (es) | 2004-12-16 |
| DE10005861A1 (de) | 2000-10-12 |
| WO2000060132A1 (de) | 2000-10-12 |
| EP1208244A1 (de) | 2002-05-29 |
| CN1117879C (zh) | 2003-08-13 |
| ATE266745T1 (de) | 2004-05-15 |
| CN1354804A (zh) | 2002-06-19 |
| JP5064611B2 (ja) | 2012-10-31 |
| DK1208244T3 (da) | 2004-09-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5064611B2 (ja) | ニッケルベースの金属材料およびその製造方法 | |
| JP2010010673A (ja) | 圧粉磁性体用軟磁性粉末およびそれを用いた圧粉磁性体 | |
| JP5354906B2 (ja) | 立方体集合組織を有するニッケルベースの半製品及びその製造方法 | |
| JP2710948B2 (ja) | 耐蝕性に優れた超微細結晶Ｆｅ基合金及びその製法 | |
| JP5074375B2 (ja) | 再結晶立方体集合組織を有するニッケルベースの半製品の製造方法および使用方法 | |
| Stanciu et al. | Characterisation of the Fe-10 wt% Si nanocrystalline powder obtained by mechanical alloying and annealing | |
| JP4886514B2 (ja) | 立方体再結晶集合組織を有するニッケル系の半製品及びその製造方法及び使用 | |
| JPS63272007A (ja) | 最大エネルギ−積の大きい超高保磁力永久磁石およびその製造方法 | |
| RU2624564C2 (ru) | Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки из тройного сплава на медно-никелевой основе | |
| JPH03219037A (ja) | Ｎｉ基形状記憶合金およびその製造方法 | |
| Yu et al. | Intermediate annealing and strong cube texture of Ni8W/Ni12W/Ni8W composite substrates | |
| JPH0768604B2 (ja) | Ｆｅ基磁性合金 | |
| JP4037104B2 (ja) | 高耐食性磁石合金及び製造法 | |
| Cui et al. | Effect of different deformation and annealing procedures on non-magnetic textured Cu 60 Ni 40 alloy substrates | |
| RU2481674C1 (ru) | Способ изготовления подложки для высокотемпературных тонкопленочных сверхпроводников и подложка | |
| US6800143B1 (en) | Supermagnetostrictive alloy and method of preparation thereof | |
| Rafiyev | Effects of heat treatment on some magnetic properties of amorphous alloys containing Fe49Ni29Si9B13 and Fe59Ni19Si9B13 | |
| RU2759146C1 (ru) | Способ изготовления биаксиально текстурированной подложки в виде ленты из тройного сплава на медно-никелевой основе для эпитаксиального нанесения на нее буферных и высокотемпературного сверхпроводящего слоев | |
| Rodionov et al. | Creation of ternary Ni-Cr-W alloys with a sharp cube texture and a curie temperature below 77 K to produce epitaxial substrates for superconducting compositions | |
| JPH01142049A (ja) | Ｆｅ基磁性合金 | |
| JP2004035998A (ja) | 宝飾用永久磁石合金および製造法 | |
| Gervasyeva et al. | Effect of deformation texture component composition on cube texture formation during primary recrystallization in Ni-based alloys | |
| JPH03199311A (ja) | Ｆｅ―Ｎｉ系磁性合金薄板の製造方法 | |
| FR2491499A1 (fr) | Alliage magnetique anisotrope et procede de fabrication | |
| JPH01242756A (ja) | Ｆｅ基磁性合金 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070207 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100122 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100419 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100426 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100518 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110525 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110824 |
|
| RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20120514 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120514 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120614 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120622 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120718 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120809 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5064611 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |