DE10061399C1 - Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung

Info

Publication number
DE10061399C1
DE10061399C1 DE10061399A DE10061399A DE10061399C1 DE 10061399 C1 DE10061399 C1 DE 10061399C1 DE 10061399 A DE10061399 A DE 10061399A DE 10061399 A DE10061399 A DE 10061399A DE 10061399 C1 DE10061399 C1 DE 10061399C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
metal strip
composite
dispersoids
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10061399A
Other languages
English (en)
Inventor
Boer Bernd De
Bernhard Holzapfel
Gunter Risse
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LEIBNIZ-INSTITUT fur FESTKOERPER- und WERKSTOFFFORS
Original Assignee
Leibniz Institut fuer Festkorper und Werkstofforschung Dresden eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DE10061399A priority Critical patent/DE10061399C1/de
Application filed by Leibniz Institut fuer Festkorper und Werkstofforschung Dresden eV filed Critical Leibniz Institut fuer Festkorper und Werkstofforschung Dresden eV
Priority to JP2002547852A priority patent/JP2004515650A/ja
Priority to CNB018045944A priority patent/CN1193108C/zh
Priority to AT01989397T priority patent/ATE353375T1/de
Priority to ES01989397T priority patent/ES2280419T3/es
Priority to DE50112012T priority patent/DE50112012D1/de
Priority to EP01989397A priority patent/EP1341941B1/de
Priority to US10/432,445 priority patent/US6908691B2/en
Priority to PCT/DE2001/004648 priority patent/WO2002046108A2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10061399C1 publication Critical patent/DE10061399C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth
    • C30B25/18Epitaxial-layer growth characterised by the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/05Mixtures of metal powder with non-metallic powder
    • C22C1/059Making alloys comprising less than 5% by weight of dispersed reinforcing phases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/10Alloys containing non-metals
    • C22C1/1094Alloys containing non-metals comprising an after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/52Alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C2204/00End product comprising different layers, coatings or parts of cermet

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, für die epitaktische Beschichtung mit einer biaxial texturierten Schicht, und ein Verfahren zu dessen Herstellung. DOLLAR A Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Metallband zur epitaktischen Beschichtung mit einer biaxial texturierten Schicht zu schaffen, das eine hohe Zugfestigkeit, geringe magnetische Verluste und/oder eine hohe elektrische Leitfähigkeit aufweist. Eingeschlossen ist die Schaffung eines geeigneten Herstellungsverfahrens. DOLLAR A Die Aufgabe ist mit einem aus einem Schichtverbund bestehenden Metallband gelöst, bei dem erfindungsgemäß die Schichten des Verbundes aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen als Basiswerkstoff bestehen, wobei wenigstens eine der Schichten des Verbundens 10 nm bis 5 mum große, festigkeitssteigernde Dispersoide aus Carbiden, Boriden, Oxiden und/oder Nitriden mit einem Volumenanteil von 0,1 bis 5% enthält und die für die epitaktische Beschichtung bestimmte Schicht dispersoidfrei ist und eine biaxiale Textur aufweist. Gemäß dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren werden die festigkeitssteigernden Dispersoide erst nach der Endumformung des Verbundes gebildet. DOLLAR A Derartige Bänder können beispielsweise als Trägerband für die Abscheidung biaxial texturierter Schichten aus YBa¶2¶Cu¶3¶O¶x¶-Hochtemperatur-Supraleitermaterial verwendet werden.

Description

Die Erfindung betrifft ein Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, für die epitaktische Beschichtung mit einer biaxial texturierten Schicht, und ein Verfahren zu dessen Herstellung. Ein derartiges Band kann beispielsweise vorteilhaft als Trägerband für die Abscheidung biaxial texturierter Schichten aus YBa2Cu3Ox-Hochtemperatur- Supraleitermaterial verwendet werden.
Es sind bereits Metallbänder auf der Basis von Ni, Cu und Ag bekannt, die sich für die epitaktische Beschichtung mit einer biaxial texturierten Schicht eignen (US 5 739 086; US 5 741 377; US 5 964 966; US 5 968 877). Sie werden durch Kaltwalzen mit einem Verformungsgrad über 95% und anschließende Rekristallisationsglühung hergestellt, wobei sich eine scharfe {001}<100< Textur (Würfeltextur) bildet.
Insbesondere an der Entwicklung von Substratmaterialien auf der Basis von Ni und Ag wird gegenwärtig weltweit intensiv gearbeitet (J. E. Mathis et al., Jap. J. Appl. Phys. 37, 1998; T. A. Gladstone et al., Inst. Phys. Conf. Ser. No 167, 1999).
Eines der entwickelten Substratmaterialien besteht aus einer Nickellegierung mit der Zusammensetzung Nia(Mob,Wc)dMe, worin M für ein oder mehrere Metalle mit Ausnahme von Ni, Mo oder W steht (DE 100 05 861 A1). Zur Herstellung dieses Materials wird zunächst auf schmelzmetallurgischem oder pulvermetallurgischem Wege oder durch mechanisches Legieren eine Legierung der genannten Zusammensetzung hergestellt und diese mit einer Warmumformung sowie einer nachfolgenden hochgradigen Kaltumformung zu Band verarbeitet. Dieses wird in reduzierender oder nichtoxidierender Atmosphäre einer rekristallisierenden Glühung unterworfen. Der Werkstoff besitzt im Vergleich zu technisch reinem Nickel eine höhergradige und thermisch stabilere Würfeltextur und ist als Unterlage für physikalisch- chemische Beschichtungen mit hochgradiger mikrostruktureller Ausrichtung einsetzbar.
Bei derartigen Materialien gibt es Bestrebungen, die Festigkeit des Materials zu steigern. Dies wird realisiert entweder durch Mischkristallhärtung, bei der eine Ni-Legierung mit typischerweise mehr als 5% eines oder mehrerer Legierungselemente gewalzt und rekristallisiert wird, (US 5 964 966; G. Celentano et al., Int. Journal of Modern Physics B, 13, 1999, S. 1029; R. Nekkanti et al., presentation at the Applied Supercond. Conf., Virginia Beach, Virginia, Sept. 17-22, 2000) oder durch Walzen und Rekristallisieren eines Verbundes aus Ni mit einem Material höherer Zugfestigkeit (T. Watanabe et al., Presentation at the Applied Supercond. Conf., Virginia Beach, Virginia, Sept. 17-22, 2000).
Bei der Mischkristallhärtung gibt es einen kritischen Legierungsgrad, oberhalb dessen sich die Würfeltextur nicht mehr ausbilden lässt. Dieses Phänomen ist für Messinglegierungen (Cu-Zn-Legierungen mit steigendem Zn-Gehalt) intensiv untersucht worden und scheint allgemeine Gültigkeit zu haben (H. Hu et al., Trans. AIME, 227, 1963, S. 627; G. Wassermann, J. Grewen: Texturen metallischer Werkstoffe, Springer-Verlag Berlin/Göttingen/Heidelberg). Da die Festigkeit stetig mit der Legierungskonzentration steigt, ist damit auch eine maximale Festigkeit verbunden. Die zweite Einschränkung ist die hohe Festigkeit des Materials bereits bei der Walzumformung. Dadurch treten bei dem notwendigerweise hohen Umformgrad sehr große Walzkräfte auf, wodurch zum einen erhöhte Ansprüche an das Walzwerk gestellt werden müssen und zum anderen es technisch schwieriger wird, die außerordentlich homogene Walzverformung durchzuführen, die für die Bildung der notwendigen hochgradigen Würfeltextur nötig ist.
Bei der Festigkeitssteigerung durch Walzen eines Verbundes aus einer Ni-, Cu- oder Ag-Legierung mit einem Material höherer Festigkeit gibt es ebenfalls das Problem der hohen Walzkräfte bei der starken Umformung eines sehr festen Werkstoffs. Auf Grund der Unterschiede in den mechanischen Eigenschaften der beiden, den Verbund bildenden Materialien treten beim Walzen Scherspannungen an der Grenzschicht und damit Inhomogenitäten in der Verformungsmikrostruktur auf, die die beim Rekristallisationsprozess erreichbare Würfeltexturqualität vermindern.
Eine Möglichkeit, die Festigkeit einer metallischen Matrix zu steigern, besteht auch in der bekannten Dispersionshärtung, bei der in der Matrix feindisperse, vorzugsweise keramische Partikel verwendet werden. Die Partikel können dabei auf pulvermetallurgischem Wege eingebracht oder durch eine exotherme Reaktion in situ erzeugt werden.
Auf diese Art hergestellte Werkstoffe sind jedoch nicht geeignet durch Walzen und Rekristallisieren zu einem dünnen, biaxial texturierten Band prozessiert zu werden. Zum einen weisen auch sie bereits beim Walzen eine sehr hohe Festigkeit auf und zum anderen konnte die Bildung einer für die Anwendung geeignete stark ausgeprägte Würfeltextur in einem dispersoidhaltigen Band bisher noch nicht nachgewiesen werden.
Neben dem Bemühen um Steigerung der Festigkeit gibt es Bestrebungen, unmagnetische Substrate zu entwickeln, um Hystereseverluste in Wechselstromanwendungen zu vermeiden (US 5 964 966). Des weiteren gibt es Bestrebungen, das Substratband zur Stabilisierung der stromtragenden supraleitenden Schicht als Bypass zu verwenden (C. Cantoni et al., Presentation at the Applied Supercond. Conf., Virginia Beach, Virginia, Sept. 17-22, 2000). Um diese Funktion zu realisieren, muss das Substrat eine möglichst hohe elektrische Leitfähigkeit besitzen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Metallband zur epitaktischen Beschichtung mit einer biaxial texturierten Schicht zu schaffen, das eine hohe Zugfestigkeit, geringe magnetische Verluste und/oder eine hohe elektrische Leitfähigkeit aufweist.
Diese Aufgabe ist mit einem aus einem Schichtverbund bestehenden Metallband gelöst, bei dem erfindungsgemäß die Schichten des Verbundes aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen als Basiswerkstoff bestehen, wobei wenigstens eine der Schichten des Verbundes 10 nm bis 5 µm große, festigkeitssteigernde Dispersoide aus Carbiden, Boriden, Oxiden und/oder Nitriden mit einem Volumenanteil von 0,1 bis 5% enthält und die für die epitaktische Beschichtung bestimmte Schicht dispersoidfrei ist und eine biaxiale Textur aufweist. Dabei können die Schichten des Verbundes aus dem gleichen Basiswerkstoff oder aus zueinander unterschiedlichen Basiswerkstoffen bestehen.
Gemäß einer zweckmäßigen Ausgestaltung der Erfindung besteht die dispersoidhaltige Schicht aus Cu oder einer Cu-Legierung und die dispersoidfreie, biaxial texturierte Schicht aus Ni oder einer Ni-Legierung als Basiswerkstoff. Ein derartiges Metallband besitzt gute Festigkeitseigenschaften und zeichnet sich durch seine hohe elektrische Leitfähigkeit aus, die aus der Cu-Schicht resultiert. Damit lässt sich das Metallband vorteilhaft als Bypass verwenden. Außerdem ist dieses Metallband bedingt durch das Cu weitestgehend unmagnetisch und damit besonders für eine Wechselstromanwendung geeignet. Als Carbid-Dispersoide können insbesondere Cr4C, Cr7C3, Cr3C2, B4C, WC, Mo2C, VC, NbC, TaC und/oder TiC enthalten sein.
Die Borid-Dispersoide können vorzugsweise aus AlB12, ZrB2, Co3B, W2B5 und/oder TiB2 bestehen.
Als Oxid-Dispersoide können insbesondere ZrC2, TiO2, Al2O3, ThO2 und/oder CeO2 enthalten sein.
Die Nitrid-Dispersoide können vorzugsweise aus BN, Si3N4, W2N3, ZrN, TiN und/oder CrN bestehen.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Metallbandes wird erfindungsgemäß ein Schichtverbund hergestellt, der wenigstens eine Schicht aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen als Basiswerkstoff und wenigstens eine weitere Schicht aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen mit 0,2 bis 5 Atom-% eines Zusatzes aus oxidierbaren, nitridierbaren, boridierbaren und/oder karbidierbaren Elementen enthält. Zur Herstellung des Schichtverbundes können die bekannten Verfahren der Plattierung angewandt werden. Der Schichtverbund wird zu einem Band gewalzt und dieses wird danach zur Ausbildung einer Würfeltextur einer Rekristallisationsglühung unterworfen. Schließlich wird das Band einer Glühung unter einem Sauerstoff-, Stickstoff-, Bor- oder Kohlenstoffpartialdruck ausgesetzt, der oberhalb des Gleichgewichtspartialdrucks der Oxide, Nitride, Boride und Karbide der in der Legierung enthaltenen Zusatzelemente jedoch unterhalb des Gleichgewichtspartialdrucks von Oxiden, Nitriden, Boriden und Karbiden der Grundelemente Ni, Cu und Ag der Bandlegierung liegt.
In vorteilhafter Weise beträgt der Zusatz an oxidierbaren, nitridierbaren, boridierbaren und/oder karbidierbaren Elementen in der Schicht aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen 1 bis 2 Atom-%.
Im Falle der Glühung in Sauerstoff sollte zweckmäßigerweise eine Temperatur im Bereich von 750 bis 1000°C angewandt werden.
Der erfindungsgemäße Metallbandverbund besitzt sehr gute Eigenschaften hinsichtlich einer epitaktischen Beschichtung mit einer biaxial texturierten. Schicht bei gleichzeitig hoher Zugfestigkeit. Die sehr guten Beschichtungseigenschaften ergeben sich dabei aus der Tatsache, dass die zur epitaktischen Beschichtung bestimmte Schicht des Metallbandes dispersoidfrei ist, wodurch keine oxidischen Teilchen an der Oberfläche dieser Schicht vorhanden sind, welche die Epitaxie stören können. Falls eine der Schichten des Verbundes aus Cu besteht, weist der Verbund eine hohe elektrische Leitfähigkeit auf. Der Substratverbund ist dann für eine Supraleiterschicht, welche auf der dispersionsfreien Schicht aufgebracht worden ist, als Bypass geeignet. Außerdem werden durch die Tatsache, dass Cu unmagnetisch ist, auch die Hystereseverluste im Falle von Wechselstromanwendungen gering gehalten.
Nachstehend ist die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Beispiel 1
Zunächst wird ein Verbundrohling hergestellt, bestehend aus einem Zylinder mit einem Durchmesser von 30 mm und einem den Zylinder umgebenden Rohr, das einen Außendurchmesser von 42 mm aufweist. Als Werkstoff für den Zylinder wird Ni mit 1,5 Atom-% Al verwendet. Das Rohr besteht aus reinem Ni.
Dieser Verbund wird zu einem Zylinder der Dicke 35 mm geschmiedet. Anschließend wird der Zylinder bei 1100°C zu einem Knüppel mit quaderförmigem Querschnitt umgeformt und bei einem Verformungsgrad von 99,8% zu einem Band der Dicke 40 µm gewalzt. Dieses wird bei 900°C für 30 Stunden geglüht. Der O2- Partialdruck wird durch die Beigabe einer Pulvermischung aus Ni und NiO in den Rezipienten so eingestellt, dass der O2- Partialdruck dem der Zersetzungsreaktion des NiO entspricht und deutlich oberhalb dem Gleichgewichtspartialdruck von Al2O3 liegt. Bei dieser Glühung werden aus dem Al im Ni-Kern des Bandes festigkeitssteigernde Al2O3-Dispersoide gebildet.
Das so hergestellte Band weist einen Ni-Kern auf, in dem die Al2O3-Dispersoide enthalten sind. Dieser Kern ist von einem Mantel aus reinem Nickel umgeben, der eine scharfe Würfeltextur aufweist und oxidpartikelfrei ist.
Die Streckgrenze des auf diese Weise hergestellten Bandes beträgt 180 MPa.
Beispiel 2
Zunächst wird ein Verbundrohling hergestellt, bestehend aus einem Zylinder mit einem Durchmesser von 30 mm und einem den Zylinder umgebenden Rohr, das einen Außendurchmesser von 42 mm aufweist. Als Werkstoff für den Zylinder wird Cu mit 1,5 Atom-% Al verwendet. Das Rohr besteht aus reinem Ni.
Dieser Verbund wird zu einem Zylinder der Dicke 35 mm geschmiedet. Danach wird der Zylinder bei 1100°C homogenisiert und anschließend mit einem Verformungsgrad von 99,8% zu einem Band der Dicke 40 µm gewalzt. Dieses wird bei 900°C für 30 Stunden geglüht. Der O2-Partialdruck wird durch die Beigabe einer Pulvermischung aus Ni und NiO in den Rezipienten so eingestellt, dass der O2-Partialdruck dem der Zersetzungsreaktion des NiO entspricht und deutlich oberhalb dem Gleichgewichtspartialdruck von Al2O3 liegt. Bei dieser Glühung werden aus dem Al im Cu-Kern des Bandes festigkeitssteigernde Al2O3-Dispersoide gebildet.
Das so hergestellte Band weist einen Cu-Kern auf, in dem die Al2O3-Dispersoide enthalten sind. Dieser Kern ist von einem Mantel aus reinem Nickel umgeben, der eine scharfe Würfeltextur aufweist und oxidpartikelfrei ist.
Die Streckgrenze des auf diese Weise hergestellten Bandes beträgt 160 MPa.
Beispiel 3
Ein Verbundrohling, bestehend aus einem Zylinder der Legierung Ni93,5W5Al1,5 mit einem Durchmesser von 30 mm und einem den Zylinder umgebenden Rohr aus der Legierung Ni95W5 mit einem Außendurchmesser von 42 mm, wird zunächst zu einem Zylinder der Dicke 35 mm geschmiedet. Dieser wird bei 1100°C homogenisiert und anschließend mit einem Verformungsgrad von 99,8% zu einem Band der Dicke 40 µm gewalzt. Dieses wird bei 900°C für 30 Stunden geglüht. Der O2-Partialdruck wird durch die Beigabe einer Pulvermischung aus Ni und NiO in den Rezipienten so eingestellt, dass der O2-Partialdruck dem der Zersetzungsreaktion des NiO entspricht und deutlich oberhalb dem Gleichgewichtspartialdruck von Al2O3 liegt. Bei dieser Glühung werden aus dem Al im Ni93,5W5Al1,5-Kern des Bandes festigkeitssteigernde Al2O3-Dispersoide gebildet.
Das hergestellte Band weist einen Kern aus einer NiW-Legierung auf, in dem die Al2O3-Dispersoide enthalten sind. Dieser Kern ist von einer Hülle aus reinem Nickel umgeben, die eine scharfe Würfeltextur aufweist und oxidpartikelfrei ist.
Die Streckgrenze des auf diese Weise hergestellten Bandes beträgt 300 MPa.

Claims (11)

1. Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, für die epitaktische Beschichtung mit einer biaxial texturierten Schicht, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten des Verbundes aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen als Basiswerkstoff bestehen, wobei wenigstens eine der Schichten des Verbundes 10 nm bis 5 µm große, festigkeitssteigernde Dispersoide aus Carbiden, Boriden, Oxiden und/oder Nitriden mit einem Volumenanteil von 0,1 bis 5% enthält und die für die epitaktische Beschichtung bestimmte Schicht dispersoidfrei ist und eine biaxiale Textur aufweist.
2. Metallband nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten des Verbundes aus dem gleichen Basiswerkstoff bestehen.
3. Metallband nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten des Verbundes aus zueinander unterschiedlichen Basiswerkstoffen bestehen.
4. Metallband nach Anspruch 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, dass die dispersoidhaltige Schicht aus Cu oder einer Cu- Legierung und die dispersoidfreie, biaxial texturierte Schicht aus Ni oder einer Ni-Legierung als Basiswerkstoff besteht.
5. Metallband nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Carbid-Dispersoide aus Cr4C, Cr7C3, Cr3C2, B4C, WC, Mo2C, VC, NbC, TaC und/oder TiC bestehen.
6. Metallband nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Borid-Dispersoide aus AlB12, ZrB2, Co3B, W2B5 und/oder TiB2 bestehen.
7. Metallband nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Oxid-Dispersoide aus ZrO2, TiO2, Al2O3, ThO2 und/oder CeO2 bestehen.
8. Metallband nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Nitrid-Dispersoide aus BN, Si3N4, W2N3, ZrN, TiN und/oder CrN bestehen.
9. Verfahren zur Herstellung eines Metallbandes nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtverbund hergestellt wird, der wenigstens eine Schicht aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen als Basiswerkstoff und wenigstens eine weitere Schicht aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen mit 0,2 bis 5 Atom-% eines Zusatzes aus oxidierbaren, nitridierbaren, boridierbaren und/oder karbidierbaren Elementen enthält, dass dieser Schichtverbund zu einem Band gewalzt und dieses danach zur Ausbildung einer Würfeltextur einer Rekristallisationsglühung unterworfen wird, und dass schließlich das Band einer Glühung unter einem Sauerstoff-, Stickstoff-, Bor- oder Kohlenstoffpartialdruck ausgesetzt wird, der oberhalb des Gleichgewichtspartialdrucks der Oxide, Nitride, Boride und Karbide der in der Legierung enthaltenen Zusatzelemente jedoch unterhalb des Gleichgewichtspartialdrucks von Oxiden, Nitriden, Boriden und Karbiden der Grundelemente Ni, Cu und Ag der Bandlegierung liegt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Zusatz an oxidierbaren, nitridierbaren, boridierbaren und/oder karbidierbaren Elementen in der Schicht aus Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen 1 bis 2 Atom-% beträgt.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Band im Falle einer Glühung in Sauerstoff einer Temperatur im Bereich von 750 bis 1000°C ausgesetzt wird.
DE10061399A 2000-12-07 2000-12-07 Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung Expired - Fee Related DE10061399C1 (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10061399A DE10061399C1 (de) 2000-12-07 2000-12-07 Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung
CNB018045944A CN1193108C (zh) 2000-12-07 2001-12-05 外延覆层金属带及其制造方法
AT01989397T ATE353375T1 (de) 2000-12-07 2001-12-05 Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung
ES01989397T ES2280419T3 (es) 2000-12-07 2001-12-05 Fleje metalico para revestimientos epitaxiales y procedimiento para su produccion.
JP2002547852A JP2004515650A (ja) 2000-12-07 2001-12-05 エピタキシー被覆のための金属ストリップおよびその製造法
DE50112012T DE50112012D1 (de) 2000-12-07 2001-12-05 Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung
EP01989397A EP1341941B1 (de) 2000-12-07 2001-12-05 Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung
US10/432,445 US6908691B2 (en) 2000-12-07 2001-12-05 Metal strip for epitaxial coatings and method for the production thereof
PCT/DE2001/004648 WO2002046108A2 (de) 2000-12-07 2001-12-05 Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10061399A DE10061399C1 (de) 2000-12-07 2000-12-07 Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10061399C1 true DE10061399C1 (de) 2002-06-27

Family

ID=7666498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10061399A Expired - Fee Related DE10061399C1 (de) 2000-12-07 2000-12-07 Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10061399C1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN120945242A (zh) * 2025-10-16 2025-11-14 江苏美霖铜业有限公司 一种高强抗磁铜合金连铸工艺及其在通讯连接器中的应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5739086A (en) * 1995-04-10 1998-04-14 Lockheed Martin Energy Systems, Inc. Structures having enhanced biaxial texture and method of fabricating same
US5964966A (en) * 1997-09-19 1999-10-12 Lockheed Martin Energy Research Corporation Method of forming biaxially textured alloy substrates and devices thereon
DE10005861A1 (de) * 1999-04-03 2000-10-12 Dresden Ev Inst Festkoerper Metallischer Werkstoff auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5739086A (en) * 1995-04-10 1998-04-14 Lockheed Martin Energy Systems, Inc. Structures having enhanced biaxial texture and method of fabricating same
US5741377A (en) * 1995-04-10 1998-04-21 Martin Marietta Energy Systems, Inc. Structures having enhanced biaxial texture and method of fabricating same
US5968877A (en) * 1995-04-10 1999-10-19 Lockheed Martin Energy Research Corp High Tc YBCO superconductor deposited on biaxially textured Ni substrate
US5964966A (en) * 1997-09-19 1999-10-12 Lockheed Martin Energy Research Corporation Method of forming biaxially textured alloy substrates and devices thereon
DE10005861A1 (de) * 1999-04-03 2000-10-12 Dresden Ev Inst Festkoerper Metallischer Werkstoff auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN120945242A (zh) * 2025-10-16 2025-11-14 江苏美霖铜业有限公司 一种高强抗磁铜合金连铸工艺及其在通讯连接器中的应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3884887T2 (de) Schwermetallegierungen aus Wolfram-Nickel-Eisen-Kobalt mit hoher Härte und Verfahren zur Herstellung dieser Legierungen.
DE68915678T2 (de) Dispersionsgehärtete Kupferlegierungen und Verfahren zur Herstellung dieser Legierungen.
DE69225312T2 (de) Werkzeugstahl mit hoher beständigkeit gegen thermische ermüdung
DE69422487T2 (de) Gesinterte karbidlegierungen für schneidwerkzeuge und beschichtete gesinterte karbidlegierung
DE10005861C2 (de) Metallischer Werkstoff auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2927079C2 (de)
DE68907837T2 (de) Hochfeste Legierungen auf Magnesiumbasis.
DE69011538T2 (de) Verfahren zur Herstellung von selbsttragenden Körpern mit kontrollierter Porosität und abgestuften Eigenschaften sowie damit hergestellte Körper.
DE69301965T2 (de) Metallische Schichten, welche aus amorphen verschleiss- und korrosionsfesten Legierungen bestehen, Verfahren zu deren Herstellung und Anwendung für verschleissfeste Überzügen von hydraulischen Materialien
DE10244955C5 (de) Sinterhartmetall, Verwendung eines Sinterhartmetalls und Verfahren zur Herstellung eines Sinterhartmetalls
DE3744573A1 (de) Oberflaechenraffinierter sinterlegierungskoerper und verfahren zu dessen herstellung
DE69220164T2 (de) Superplastisches Material aus Legierung auf Aluminiumbasis und Verfahren zur Herstellung
DE2734529A1 (de) Gegen oxydation und korrosion bestaendige, hochwarmfeste legierungen und ueberzuege
DE69716526T2 (de) Hochverschleissfester Verbundwerkstoff auf Aluminium-basis und verschleissfeste Teile
DE3887259T2 (de) Gamma-Prime-Phase enthaltende Legierungen und Verfahren zu ihrer Formung.
DE3330232A1 (de) Eine zusammengesetzte, schnell gehaertete legierung
DE69207257T2 (de) Wärmebeständige gesinterte Oxiddispersionsgehärtete Legierung
DE3238555A1 (de) Sinterhartlegierung
DE69809616T2 (de) Verschleissfestes beschichtetes Teil
DE2018032B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Karbidhartmetall auf der Basis von WC, TiC und/oder TaC
DE69316273T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Verbundwerkstoff, bestehend aus einem Matrix aus beta-Titanaluminid mit einer Dispersion von Titandiborid als Verstärkungsphase
EP1485523B1 (de) Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung
EP1341941B1 (de) Metallband für epitaktische beschichtungen und verfahren zu dessen herstellung
DE10061399C1 (de) Metallband, bestehend aus einem Schichtverbund, und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2437444B2 (de) Verfahren zur Herstellung eines anisotropen Dauermagnetwerkstoffes aus einer Mangan-Aluminium-Kohlenstoff-Legierung

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER- UND WERKSTOFFFORS

8339 Ceased/non-payment of the annual fee