JP2002535907A - ゲートバイアス装置 - Google Patents
ゲートバイアス装置Info
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- H03K17/14—Modifications for compensating variations of physical values, e.g. of temperature
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- H03F1/00—Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
- H03F1/30—Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters
- H03F1/301—Modifications of amplifiers to reduce influence of variations of temperature or supply voltage or other physical parameters in MOSFET amplifiers
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- H03F2200/00—Indexing scheme relating to amplifiers
- H03F2200/18—Indexing scheme relating to amplifiers the bias of the gate of a FET being controlled by a control signal
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Abstract
Description
Diffused Metal Oxide Semiconductor)トランジスタに関し、さらに詳細には無
線(RF)電力LDMOS電界効果トランジスタの零入力電流(quiescent
current)の温度補償のためのゲートバイアス装置に関する。
ト電圧VGにバイアスして、前記トランジスタ1の零入力電流IDQの望ましい
値を得る、従来の方法を示す。RF信号は端子2を介してゲートGに供給される
。
常接地に接続される電源Sの間に接続されており、可変抵抗R2がゲートGと正
電圧の端子の間に接続される。抵抗R2の手段により、ゲート電圧VGはトラン
ジスタ1を通り望ましい零入力電流IDQが得られるような値に調整される。
る。この選ばれたIDQの値からの如何なる偏差もトランジスタの直線性性能を
低下するであろう。
その結果、温度変化はトランジスタ1の性能の低下を起こすであろう。
常使用されるゲートバイアス電圧の比較的低い値は正の温度係数を与え、すなは
ち零入力電流IDQが温度と共に増加する。
に示されるように、抵抗R1と直列に別個のダイオードD1を挿入することである
。ダイオードを横切る電圧降下は温度が増加すると減少し、かくしてRFトラン
ジスタの零入力電流の温度依存性をある程度減少する。
ある。第1に、ダイオードの温度特性はRF・LDMOSトランジスタの温度特
性に正確には追従しない。第2に、別個のダイオードとトランジスタの間の良好
な熱的結合を得ることが困難で、その結果2つの要素の温度が異なることである
。
。
じシリコンチップ上に設けられるバイアストランジスタの出力電圧により制御し
、前記バイアストランジスタのゲートとドレインを相互接続して、それに外部回
路から一定電流を与えることにより達成される。
ランジスタのゲート電圧は強制された(forced)ドレイン電流を自動的に維持す
るように調整する。バイアストランジスタの本来の温度依存性により、ゲートバ
イアス電圧は温度が上昇するに従って減少する。その結果、電力トランジスタの
ゲートバイアス電圧は温度の上昇と共に減少し、一定の零入力電流IDQが得ら
れる。
も用いられる。
A,1Bの回路要素と同じ回路要素は同じ参照符号が与えられる。
るトランジスタと同一のRF電力LDMOSトランジスタ1に用いられるものと
して示される。
スタ1のゲートGに供給される。
スタ3を含む。トランジスタ3は、相互接続されたゲートG3,ドレインD3を
もち、またその相互接続されたゲートG3とドレインD3は電力トランジスタの
ゲートGにインダクタLを介して接続され、そのソースS3は電力トランジスタ
1のソースSに接続される。
レインD3には一定のバイアスDC電流が供給される。
RF信号入力端子2を介して入力RF信号と共に供給される。インダクタLは入
力RF信号をバイアストランジスタ3から絶縁するのに使用される。
ス電圧VGを制御する。
電圧は温度が増加すると減少する。従って、電力トランジスタ1のゲートバイア
ス電圧VGもまた温度の増加と共に減少し、零入力電流IDQを一定に維持する
。
される。
きさの差の関数である。
3は電力トランジスタ1と同一のシリコンチップ(図示せず)上に設けられ、バ
イアストランジスタ3は電力トランジスタ1より非常に小さく、例えば100倍
以上小さくされる。
ス電圧において作動するので、電流比は正確にはトランジスタの大きさの比に等
しくないことが指摘されるべきである。
タLはトランジスタ2、3と同じチップ上に集積化できるが、上記チップの外部
の別個の要素にすることもできる。
G3とドレインD3をもち、その相互接続されたゲートG3とドレインD3がR
F信号絶縁手段を介して電力LDMOSトランジスタ1のゲートGに接続されて
いる点において、図2の実施例と殆ど同一である。本実施例においては、上記R
F信号絶縁手段は抵抗器またはインダクタとして実現される。抵抗器はトランジ
スタとの集積化が容易であるので選択しても良い。
ゲートG3とドレインD3は一定バイアス電流IBが電力トランジスタ1のRF
信号入力端子2を介しては供給されない。その代わり、相互接続されたゲートG
3とドレインD3は一定バイアス電流IBが外部電流源(図示せず)から直接供
給される。
のゲートバイアス電圧を電力トランジスタと同一のシリコンチップ上に存在する
バイアストランジスタの出力電圧により制御し、バイアストランジスタのゲート
とドレインを相互接続し、それに外部回路から一定電流を供給することにより除
去されることが明らかである。
Claims (5)
- 【請求項1】 RF電力LDMOSトランジスタ(1)における、その零入
力電流(IDQ)を温度補償するゲートバイアス装置において、相互接続された
ゲート(G3)とドレイン(D3)をもったバイアスLDMOSトランジスタ(
3)の前記相互接続されたゲートとドレインがRF絶縁手段(L,R)を介して
前記電力LDMOSトランジスタ(1)のゲート(G)に接続され、そのソース
(S3)が前記電力LDMOSトランジスタ(1)のソース(S)に接続され、
前記バイアスLDMOSトランジスタ(3)の相互接続されたゲートとドレイン
は一定のバイアス電流(IB)を供給されるように構成され、それにより前記零
入力電流(IDQ)が温度変化に依存しない、ことを特徴とする前記ゲートバイ
アス装置。 - 【請求項2】 前記電力LDMOSトランジスタがシリコンチップ上に設け
られているものにおいて、前記バイアスLDMOSトランジスタ(3)が前記電
力LDMOSトランジスタ(1)と同じチップ上に設けられ、前記バイアスLD
MOSトランジスタが前記電力LDMOSトランジスタよりも小さいことを特徴
とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 前記バイアスLDMOS(3)が前記電力LDMOSトラン
ジスタ(1)より100倍以上小さいことを特徴とする、請求項2に記載の装置
。 - 【請求項4】 前記バイアスLDMOSトランジスタ(3)の前記相互接続
されたゲートとドレインが前記RF絶縁手段を介して前記一定のバイアス電流(
IB)を供給されるようになっており、前記RF絶縁手段がインダクタ(L)で
あることを特徴とする、請求項1乃至3の任意の項に記載の装置。 - 【請求項5】 前記バイアスLDMOSトランジスタ(3)の前記相互接続
されたゲートとドレインが前記一定のバイアス電流(IB)を直接供給されるよ
うになっており、前記RF絶縁手段が高い抵抗をもった抵抗器(R)であること
を特徴とする、請求項1乃至3の任意の項に記載の装置。
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