JP2002532482A

JP2002532482A - オレフィンのオレフィンオキシドへの直接酸化法

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Publication number: JP2002532482A
Application number: JP2000588154A
Authority: JP
Inventors: ボーマン，ロバート・ジー; クラーク，ハワード・ダブリュー; クパーマン，アレックス; ハートウェル，ジョージ・イー; メイマ，ガルムト・エル
Original assignee: Dow Chemical Co
Current assignee: Dow Chemical Co
Priority date: 1998-12-16
Filing date: 1999-12-07
Publication date: 2002-10-02
Also published as: US6646142B1; DE69906136T2; BR9917025B1; CN1172921C; ATE234825T1; CN1330644A; KR20010082357A; AU2040100A; AU756230B2; EP1140883A1; EP1140883B1; BR9917025A; ES2190280T3; ID29813A; DE69906136D1; WO2000035893A1

Abstract

(57)【要約】プロピレンのような３個以上の炭素原子を有するオレフィンの、プロピレンオキシドのようなオレフィンオキシドへの、酸素による直接酸化の方法及び触媒。この方法は、水素及び触媒の存在下で、反応条件においてオレフィンを酸素と接触させることを含む。触媒は、銀及びチタン、任意に金、ならびに任意に、第１族、第２族、亜鉛、カドミウム、白金族元素、ランタニド希土類、アクチニド元素、およびこれらの混合物から選ばれる少なくとも１種の促進剤元素を含有する。好ましい態様では、触媒は、使用前に還元するよりは使用前にか焼する。適当なチタン含有担体には二酸化チタン、シリカ上の二酸化チタン、チタノシリケート、促進剤金属チタネート、シリカ及び促進剤金属シリケート上に分散されたチタンがある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は米国の国立標準技術研究所（ＮａｔｉｏｎａｌＩｎｓｔｉｔｕｔｅ
ｏｆＳｔａｎｄａｒｄｓａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）から授与された
法定番号（ＡｗａｒｄＮｕｍｂｅｒ）７０ＮＡＮＢ５Ｈ１１４３による米国政
府の援助を受けて行われた。米国政府はこの発明に若干の権利を有する。

【０００２】本発明は酸素による、プロピレンのようなオレフィンの、プロピレンオキシド
のようなオレフィンオキシドへの直接酸化の方法および触媒に関する。プロピレンオキシドのようなオレフィンオキシドは、アルコキシル化アルコー
ル類に用いられて、ポリウレタン及び合成エラストマーの製造に重要な効用を有
するポリプロピレンポリエーテルポリオールのようなポリエーテルポリオールを
生成する。またオレフィンオキシドは、溶剤及び界面活性剤として有用なプロピ
レングリコールおよびジプロピレングリコールのようなアルキレングリコール、
およびイソプロパノールアミンのようなアルカノールアミンの製造における重要
な中間体でもある。

【０００３】プロピレンオキシドは、プロピレンを塩素の水溶液と反応させてプロピレンク
ロロヒドリン混合物を生成させる周知のクロロヒドリン法によって工業的に製造
される。このクロロヒドリン類を過剰のアルカリで脱塩酸してプロピレンオキシ
ドを生成させる。この方法は低濃度の塩の流れを生じるという難点がある（Ｋ．
ＷｅｉｓｓｅｒｍｅｌおよびＨ．Ｊ．Ａｒｐｅ，ＩｎｄｕｓｔｒｉａｌＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，第２版，ＶＣＨＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎ
ｃ．，ＮｅｗＹｏｒｋ，ＮＹ，１９９３，ｐ．２６４−２６５参照）。

【０００４】オレフィンオキシドに至る他の周知の経路は有機ヒドロペルオキシドまたはペ
ルオキシカルボン酸からオレフィンへの酸素原子の転移による。この酸化経路の
第１工程において、イソブタンまたはアセトアルデヒドのようなペルオキシド発
生剤を酸素で自動酸化させて、第三級ブチルヒドロペルオキシドまたは過酢酸の
ようなペルオキシ化合物を生成させる。典型的にはチタン、バナジウム、モリブ
デン、および他の重金属化合物または錯体を含む遷移金属触媒の存在下で、この
化合物を用いてオレフィンをエポキシ化する。この方法は、オレフィンオキシド
を生成するとともに、不都合なことに等モル量の副産物、たとえば第三級ブタノ
ールのようなアルコール類、または酢酸のような酸を生成するので、その価値は
市場において獲得しなければならない。（前記ＩｎｄｕｓｔｒｉａｌＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｐ．２６５−２６９．）。

【０００５】酸素によるプロピレンの、金属触媒添加直接酸化法は公知である。たとえば、
米国特許第５，５２５，７４１号は、硝酸または亜硝酸の銀塩を担持させたチタ
ノシリケートのような結晶性金属シリケートの存在下における酸素によるプロピ
レンの直接酸化法を開示している。この特許は水素の存在下における該方法の実
施については言及していない。

【０００６】ＰＣＴ公告ＷＯ−Ａ１−９６／０２３２３は、水素および触媒の存在下で酸素
による、プロピレンを含むオレフィンをヒドロ酸化してオレフィンオキシドを生
成させる方法（ｈｙｄｒｏ−ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）を開示している。該触媒は、
少なくとも１種の白金族金属、ならびに任意に、銀、鉄、コバルト、ニッケル、
レニウム、および金から選ばれる補助的金属を含有するチタンまたはバナジウム
シリケートである。該触媒は担体に白金族化合物を含浸させた後、好ましくは該
含浸担体を水素気流中で還元することによって調製される。

【０００７】白金族金属を含有する触媒を使用する前記直接酸化法はプロピレンオキシドに
対する活性および／または選択性に欠けている。ＰＣＴ公告ＷＯ−Ａ１−９７／２５１４３は、水素及び触媒の存在下でプロピ
レンを含むオレフィンを酸素によりヒドロ酸化して対応するオレフィンオキシド
を生成させる方法を開示している。該触媒はランタニド金属を含有するチタンま
たはバナジウムシリケートである。任意に、周期表の第８族金属、レニウム、銀
、および金から選ばれる補助的金属を触媒中に包含させることができる。ランタ
ニド金属および、チタンまたはバナジウムシリケートからなる触媒はプロピレン
オキシドに対する低活性を示す。

【０００８】上記の点から、化学工業においては、酸素とＣ₃以上の高級オレフィンとの反
応からプロピレンオキシド以上の高級オレフィンオキシドを得るための効率的な
直接経路に対する要望が絶えず存在する。経済的に有利なオレフィンの転化率と
同時にオレフィンオキシドに対する高選択性が得られるような方法の発見は先行
技術に比して著しい業績を示すと思われる。

【０００９】本発明はオレフィンと酸素と水素から直接オレフィンオキシドを生成させる新
規な方法である。この方法は、対応するオレフィンオキシドを生成させるのに十
分なプロセス条件下で、水素と触媒を存在させて、少なくとも３個の炭素原子を
有するオレフィンを酸素と接触させることを含む。本発明の方法に用いられる触
媒は銀およびチタンを含む。本発明の方法の他の態様では、銀及びチタンを含む
触媒はさらに金、または後に述べる少なくとも１種の促進剤元素、もしくは金と
１種以上の促進剤元素との混合物を含むことができる。促進剤元素は、後記のよ
うに本発明の方法を改善する＋１ないし＋７の電荷を有するイオンであることが
できる。本発明の方法の別の態様では、使用前に触媒をか焼する。

【００１０】本発明の新規方法は、酸素及び水素および、３個以上の炭素原子を有するオレ
フィンから直接オレフィンオキシドを製造するのに有用である。好ましいプロセ
ス条件では、オレフィンの良好な転化率においてオレフィンオキシドを高選択性
で生成させる。

【００１１】他の態様では、本発明は、銀、少なくとも１種の促進剤元素、およびチタン含
有担体を含む特異な触媒組成物である。促進剤元素は第１族、第２族、亜鉛、カ
ドミウム、白金族元素、希土類ランタニド類、およびアクチニド元素、のみなら
ずこれらの元素の混合物から選ばれる。白金族元素を用いるときには、使用前に
触媒をか焼するのがもっとも好ましい。

【００１２】第３の態様では、本発明は銀、金、およびチタン含有担体を含む特異な触媒組
成物である。任意に、この触媒は、第１族、第２族、亜鉛、カドミウム、白金族
金属、希土類ランタニド類、及びアクチニド元素ならびにこれらの混合物から選
ばれる少なくとも１種の促進剤元素を含有することができる。白金族金属を用い
るときには、使用前に触媒をか焼するのがもっとも好ましい。

【００１３】本発明の新規組成物は、３個以上の炭素原子を有するオレフィンの、対応エポ
キシドへの前記直接酸化に効果的に用いることができる。好ましい態様では、触
媒はオレフィンの良好な転化率においてオレフィンオキシドに対する高選択性を
達成する。触媒が一部または完全に消費されるときには、容易に再生できる。し
たがって、この組成物は、プロピレン以上の高級オレフィンの対応するオレフィ
ンオキシドへの直接酸化において触媒として働くのに望ましい性質を有する。

【００１４】本発明の新規方法は、対応するオレフィンオキシドを調製するのに十分なプロ
セス条件下で、水素及びエポキシ化触媒を存在させて、３個以上の炭素原子を有
するオレフィンを酸素と接触させることを含む。１つの好ましい態様では、後で
詳しく述べるように、希釈剤を使用する。オレフィン、酸素、水素、及び任意の
希釈剤の相対的モル量は、所望のオレフィンオキシドを調製するのに十分であれ
ばいくらでも良い。本発明の好ましい態様では、使用されるオレフィンがＣ_3-12 オレフィンであって、それが対応するＣ_3-12オレフィンオキシドに転化される。
より好ましい態様では、オレフィンがＣ_3-8オレフィンであって、それが対応す
るＣ_3-8オレフィンオキシドに転化される。もっとも好ましい態様では、オレフ
ィンがプロピレンであり、そしてオレフィンオキシドがプロピレンオキシドであ
る。

【００１５】本発明の前記方法に使用される触媒は銀及びチタンを含む。好ましい１つの態
様において、銀及びチタンを含む触媒は第８族金属を実質的に含まない。第８族
金属は鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム、および白金を包含する。ここで使用する「実質的に含まない」
という用語は、これら金属の総濃度が触媒組成物の総重量を基準にして、約０．
０１重量パーセント未満、好ましくは約０．００５重量パーセント未満であるこ
とを意味する。

【００１６】他の好ましい態様では、触媒が銀、金、およびチタン含有担体を含む。この触
媒態様は、より好ましくは前記のように第８族金属を実質的に含まない。さらに他の好ましい態様では、触媒は銀および、チタン含有担体上の少なくと
も１種の促進剤元素を含む。促進剤は、ＣＲＣＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙａｎｄＰｈｙｓｉｃｓ，第７５版，ＣＲＣＰｒｅｓｓ，１
９９４−１９９５に記載されているように、元素周期表の第１族、第２族、亜鉛
、カドミウム、白金族元素、希土類ランタニド類、及びアクチニド類から選ばれ
る。前記促進剤の混合物を使用することもできる。さらにより好ましい態様では
、担体は第２族金属チタネートを除外する。さらに他の好ましい態様では、触媒
は銀、金、およびチタン含有担体上の第１族、第２族、亜鉛、カドミウム、白金
族元素、希土類ランタニド類、及びアクチニド元素から選ばれる少なくとも１種
の促進剤を含む。白金族金属を使用する時はいつも、使用前に触媒をか焼するの
がもっとも好ましい。

【００１７】本発明の方法において３個以上の炭素原子を含有するオレフィンを使用するこ
とができる。モノオレフィンが好ましいが、ジエンのような炭素−炭素二重結合
を２個以上含有する化合物を使用することもできる。オレフィンは炭素原子及び
水素原子のみを含有する単純な炭化水素であることもできるし、またはオレフィ
ンを任意の炭素原子において不活性置換基で置換させることもきる。本明細書で
使用する「不活性」という用語は、置換基が本発明の方法において実質的に非反
応性であることを必要とする。適当な不活性置換基にはハリド、エーテル、エス
テル、アルコール、ならびに芳香族部分、好ましくはクロロ、Ｃ_1-12エーテル、
エステル、およびアルコール部分およびＣ_8-12芳香族部分があるが、これらに限
定されない。本発明の方法に適するオレフィンの非限定例にはプロピレン、１−
ブテン、２−ブテン、２−メチルプロペン、１−ペンテン、２−ペンテン、２−
メチル−１−ブテン、２−メチル−２−ブテン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、
３−ヘキセン、および類似のものとしてメチルペンテン、エチルブテン、ヘプテ
ン、メチルヘキセン、エチルペンテン、プロピルブテン、好ましくは１−オクテ
ンを含むオクテン類及びこれらの他の高級類似体の種々の異性体；さらにブタジ
エン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、スチレン、α−メチルスチ
レン、ジビニルベンゼン、アリルクロリド、アリルアルコール、アリルエーテル
、アリルエチルエーテル、アリルブチレート、アリルアセテート、アリルベンゼ
ン、アリルフェニルエーテル、アリルプロピルエーテル、及びアリルアニソール
がある。オレフィンは、好ましくは無置換または置換Ｃ_3-12オレフィン、より好
ましくは無置換または置換Ｃ_3-8オレフィンである。最も好ましくは、オレフィ
ンがプロピレンである。前記オレフィンの多くは市販されており、他のものは当
業者にとっては公知の化学的方法によって調製することができる。

【００１８】該方法で使用されるオレフィンの量は、対応するオレフィンオキシドが生成さ
れさえすれば、広範囲にわたることができる。通常、オレフィンの量は、たとえ
ば反応器の設計、特定オレフィン、ならびに経済的及び安全性の検討を含む特定
プロセスの特徴に依存する。当業者は特定プロセスの特徴に対するオレフィン濃
度の適当な範囲を決定する方法を知っている。典型的には、この条件はオレフィ
ンオキシドに対する生産性を高めるので、酸素に対してモルベースで過剰のオレ
フィンを使用する。本明細書の開示を考慮に入れて、オレフィンの量は、オレフ
ィン、酸素、水素、及び任意の希釈剤の総モル数を基準にして、典型的には約１
モルパーセントを上回り、好ましくは約１０モルパーセントを上回り、より好ま
しくは約２０モルパーセントを上回る。オレフィンの量は、オレフィン、酸素、
水素、及び任意の希釈剤の総モル数を基準にして、典型的には約９９モルパーセ
ントを下回り、好ましくは約８５モルパーセントを下回り、より好ましくは約７
０モルパーセントを下回る。

【００１９】本発明の方法には酸素も必要である。空気及び実質的に純粋な分子状酸素を含
むいかなる酸素源も許容できる。オゾン及び、亜酸化窒素のような窒素酸化物を
含む他の酸素源も適切であることができる。分子状酸素が好ましい。使用される
酸素の量は、その量が所望のオレフィンオキシドを生成させるのに十分でありさ
えすれば、広範囲にわたることができる。通常、オレフィン１モル当たりの酸素
のモル数は１未満である。このような条件では、オレフィンオキシドに対する選
択性が高まる一方二酸化炭素のような燃焼生成物に対する選択性が最小になる。
酸素の量は、オレフィン、水素、酸素、および任意の希釈剤の総モル数を基準に
して、好ましくは約０．０１モルパーセントを上回り、より好ましくは約１モル
パーセントを上回り、もっとも好ましくは約５モルパーセントを上回る。酸素の
量は、オレフィン、水素、酸素、および任意の希釈剤の総モル数を基準にして、
好ましくは約３０モルパーセントを下回り、より好ましくは約２５モルパーセン
トを下回り、もっとも好ましくは約２０モルパーセントを下回る。約２０モルパ
ーセントを上回る酸素濃度はオレフィン−水素−酸素混合物の可燃性範囲に入る
ことがある。

【００２０】本発明の方法には水素も必要である。水素がないと、触媒の活性は著しく低下
する。本発明の方法では、たとえばアルカン及びアルコール類の脱水素によって
得られる分子状水素を含むいかなる水素源も使用することができる。別の態様で
は、オレフィン酸化プロセスの現場において、たとえばプロパンまたはイソブタ
ンのようなアルカン、またはイソブタノールにようなアルコール類の脱水素によ
って、水素を発生させることができる。もしくは、水素を使用してプロセスに必
要な水素を供給できる触媒−水素化物錯体または触媒−水素錯体を生成させるこ
とができる。

【００２１】水素の量は、その量がオレフィンオキシドを生成させるのに十分でありさえす
れば、プロセスにおいて任意の量の水素を用いることができる。水素の適切な量
は、オレフィン、水素、酸素、及び任意の希釈剤の総モル数を基準にして、典型
的には約０．０１モルパーセントを上回り、好ましくは約０．１モルパーセント
を上回り、より好ましくは約３モルパーセントを上回る。水素の適切な量は、オ
レフィン、水素、酸素、及び任意の希釈剤の総モル数を基準にして、典型的には
約５０モルパーセントを下回り、好ましくは約３０モルパーセントを下回り、よ
り好ましくは約２０モルパーセントを下回る。

【００２２】前記試薬に加えて、その使用は任意であるが、反応混合物中に希釈剤を用いる
のが望ましいことがある。本発明の方法は発熱的であるので、有利なことに希釈
剤は生成した熱を除去して消散させる手段となる。さらに、希釈剤は、反応物が
不燃性となる濃度領域を拡げる。希釈剤は本発明の方法を阻害しない気体または
液体であることができる。選択される特定希釈剤はプロセスを行うやり方によっ
て決まる。たとえば、プロセスを気相で行う場合には、適当なガス状希釈剤には
ヘリウム、窒素、アルゴン、メタン、二酸化炭素、水蒸気、及びこれらの混合物
があるが、これらに限定されない。これらのガスはほとんどが本発明の方法に対
して実質的に不活性である。二酸化炭素及び水蒸気は必ずしも不活性ではなくて
、有利な促進効果を示すことがある。プロセスを液相で行う場合には、希釈剤は
酸化に安定かつ熱に安定なものであることができる。適切な液状希釈剤にはベン
ゼンのような芳香族化合物；クロロベンゼンおよびジクロロベンゼンのような塩
素化芳香族化合物；メタノールのような脂肪族アルコール類；クロロプロパノー
ルのような塩素化脂肪族アルコール類；さらに液体のポリエーテル類、ポリエス
テル類、及びポリアルコール類がある。

【００２３】使用する場合に、希釈剤の量は、オレフィン、酸素、水素、及び任意の希釈剤
の総モル数を基準にして、典型的には約０．０１モルパーセントを上回り、好ま
しくは約０．１モルパーセントを上回り、より好ましくは約１５モルパーセント
を上回る。希釈剤の量は、オレフィン、酸素、水素、及び希釈剤の総モル数を基
準にして、典型的には約９０モルパーセントを下回り、好ましくは約８０モルパ
ーセントを下回り、より好ましくは約７０モルパーセントを下回る。

【００２４】さきにに開示されたオレフィン、酸素、水素、及び希釈剤の濃度は、本明細書
に開示される反応器の設計及びプロセスパラメータに基づいて適切に決定される
。当業者は、プロセスの他の種々の工業的実現化において、本明細書に開示され
た以外の濃度を適切に使用し得ることを認識するであろう。

【００２５】本発明の方法に有利に用いられる特異な触媒は銀およびチタンを含む。銀は単
体原子として、かつ／または個々の銀粒子として、かつ／または、促進剤を用い
る場合には、銀−促進剤混合粒子として存在することができる。銀の正常な酸化
状態は活性触媒をもたらす任意の酸化状態またはそれらの状態の組合せであるこ
とができる。

【００２６】他の態様では、本発明の方法に有利に用いられる特異な触媒は銀及び金及びチ
タンを含む。銀は単体原子として、かつ／または個々の銀粒子として、かつ／ま
たは銀−金粒子として、かつ／または、促進剤を用いる場合には、銀−金−促進
剤混合粒子として存在することができる。銀および／または金の正常な酸化状態
は、活性触媒をもたらす任意の酸化状態またはそれらの状態の組合せであること
ができる。

【００２７】チタンは好ましくは種々の形態を取ることができるチタン含有担体として存在
する。チタンはＸ線光電子およびＸ線吸収分光法によって調べると主に正の酸化
状態で存在する。チタンはより好ましくは約＋２以上の酸化状態、もっとも好ま
しくは約＋３から約＋４の酸化状態で存在する。本発明の触媒中に適切に用いる
ことができるチタン含有担体の非限定例には下記に述べるものがある。所望の促
進剤元素を含有しない下記のチタン含有担体は促進剤を担体中又は担体上に取り
入れるように処理しなければならない。すでに促進剤を含有する担体は、担体に
加えるための余分の促進剤元素を必要とする場合もあればそうでない場合もある
。ａ．二酸化チタン無定形および結晶二酸化チタンをチタン含有担体として適切に使用することが
できる。結晶相にはアナタース、ルチル、及びブルッカイトがある。シリカ、ア
ルミナ、アルミノシリケート、または他の担体若しくは担体混合物上に担持され
た二酸化チタンを含む複合体がこの部類に含まれる。

【００２８】二酸化チタンは種々の方法で担体に付着させることができる。本明細書に用い
ることができる調製法の１例がＭ．Ｈａｒｕｔａらの欧州特許出願ＥＰ０７０
９３６０Ａ１に示されており、該特許は参照として本明細書に組み入れてある。
より一般的には、チタン化合物の付着に先立って空気中で５０℃から８００℃の
温度に担体をか焼することができる。ついで担体上の表面ヒドロキシルとの反応
性に乏しいチタン化合物を担体に含浸させる。典型的には、約０℃から約５０℃
の温度で、ほゞ大気圧において約３０分から約２４時間にわたるような温和な条
件で、チタン化合物を含有する溶液を担体と接触させる。適切なチタン化合物の
非限定例には酸化チタンアセチルアセトネートまたはチタニルアセチルアセトネ
ートがある。溶剤はチタン化合物を可溶化させる任意の溶剤、たとえば脂肪族ア
ルコールまたは脂肪族及び芳香族炭化水素であることができる。担体をチタン化
合物含有溶液と接触させた後、真空中または空気流中もしくは窒素、アルゴン、
またはヘリウムのような不活性気流中で、約０℃から約１５０℃、好ましくは約
５０℃から約１５０℃の温度において担体を乾燥する。その後、担体を空気中で
約３００℃から約８００℃、好ましくは約４００℃から約６５０℃の温度にか焼
することができる。ｂ．促進剤金属チタネート促進剤金属チタネートを含む化学量論的及び非化学量論的化合物を触媒担体と
して適切に用いることもできる。促進剤金属チタネートは結晶または無定形であ
ることができる。これらの非限定例には第１族、第２族、ならびにランタニド及
びアクチニド金属のチタネートがある。好ましくは、促進剤金属チタネートはマ
グネシウムチタネート、カルシウムチタネート、バリウムチタネート、ストロン
チウムチタネート、ナトリウムチタネート、カリウムチタネート、ならびにエル
ビウム、ルテチウム、トリウム、およびウラニウムのチタネートからなる群から
選ばれる。ｃ．チタノシリケート好ましくは多孔性である結晶及び無定形チタノシリケートも担体として適切に
用いられる。チタノシリケートは組織中にＴｉを含有するミクロ細孔性物質であ
ることができ、それらはゼオライト物質であることができる。多孔性チタノシリ
ケートの網状構造中に細孔の規則系もしくは不規則系および／またはチャネルが
存在する。ケージと呼ばれる中空キャビティが存在することもある。細孔は隔離
又は連続していることができ、そして一、二、または三次元であることができる
。細孔はより好ましくはミクロ細孔またはメソ細孔もしくはそれらの若干の混合
物である。本明細書で使用する場合に、ミクロ細孔は約４Åから約２０Åにわた
る細孔径（または非円形の垂直断面の場合には臨界寸法）を有するが、メソ細孔
は約２０Åを上回り約５００Åまでにわたる細孔径または臨界寸法を有する。ミ
クロ細孔およびメソ細孔の合計容積は、好ましくは総細孔容積の約７０パーセン
ト以上、より好ましくは総細孔容積の約８０パーセント以上を占める。細孔容積
の残余は細孔径が５００Åを上回るマクロ細孔を含む。マクロ細孔は粒子または
微結晶間の空隙容積を含む。

【００２９】多孔性チタノシリケートの細孔径（または臨界寸法）、細孔サイズ分布、及び
表面積は、吸着等温式及び細孔容積の測定から得ることができる。典型的には、
その測定は、吸着質として７７Ｋの窒素または８８Ｋのアルゴンを用いかつＭｉ
ｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓＡＳＡＰ２０００装置のような適当な吸着分析器を
用いて粉状のチタノシリケートについて行われる。ミクロ細孔容積の測定は直径
が約４Åから約２０Åの範囲の細孔の吸着容積から得られる。同様に、メソ細孔
容積の測定は直径が約２０Åを上回りかつ約５００Åまでの範囲の細孔の吸着容
積から得られる。吸着等温式の形状から、多孔性のタイプ、たとえばミクロ細孔
性またはマクロ細孔性の定性的識別を行うことができる。さらに、多孔性の増大
は表面積の増大と相関させることができる。細孔径（または臨界寸法）はＣｈａ
ｒｌｅｓＮ．ＳａｔｔｅｒｆｉｅｌｄがＨｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓＣａｔａｌｙｓｉｓｉｎＰｒａｃｔｉｃｅ，ＭｃＧｒａｗ−ＨｉｌｌＢｏｏｋ
Ｃｏｍｐａｎｙ，ＮｅｗＹｏｒｋ，１９８０，ｐｐ１０６−１１４（参照とし
て本明細書に組み入れてある）中に記載した式を用いてデータから計算すること
ができる。

【００３０】さらに、結晶性多孔質チタノシリケートを、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）により、問
題の物質のＸＲＤパターンをすでに発表されている標準と比較するか、または単
結晶のＸＲＤパターンを分析することによって同定して、骨組構造、ならびに細
孔が存在する場合には、細孔形状及び細孔サイズを求めることができる。

【００３１】本発明の方法に適切に用いられる多孔質チタノシリケートの非限定例には多孔
質無定形チタノシリケート；多孔質層状チタノシリケート；チタンシリカライト
−１（ＴＳ−１）、チタンシリカライト−２（ＴＳ−２）、チタノシリケートベ
ータ（Ｔｉ−ベータ）、チタノシリケートＺＳＭ−１２（Ｔｉ−ＺＳＭ−１２）
およびチタノシリケートＺＳＭ−４８（Ｔｉ−ＺＳＭ−４８）のような結晶質ミ
クロ細孔性チタノシリケート；さらにＴｉ−ＭＣＭ−４１のようなメソ細孔性チ
タノシリケートがある。

【００３２】チタンシリカライトおよびその特有なＸＲＤパターンが米国特許第４，４１０
，５０１号（参照として本明細書に組み入れてある）に記載されている。ＴＳ−
１は市場で入手することができるが、米国特許第４，４１０，５０１号に記載さ
れた方法にしたがって合成することもできる。他の調製法は下記文献（参照とし
て本明細書に組み入れてある）に記載されている：Ａ．ＴｕｅｌのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９６，１６，１０８−１１７；Ｓ．ＧｏｎｔｉｅｒおよびＡ．Ｔｕｅ
ｌのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９６，１６，１８４−１９５；Ａ．Ｔｕｅｌおよび
Ｙ．ＢｅｎＴａａｒｉｔのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９３，１３，３５７−３６
４；Ａ．Ｔｕｅｌ，Ｙ．ＢｅｎＴａａｒｉｔおよびＣ．ＮａｃｃａｃｈｅのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９３，１３，４５４−４６１；Ａ．ＴｕｅｌおよびＹ．Ｂ
ｅｎＴａａｒｉｔのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９４，１４，２７２−２８１；な
らびにＡ．ＴｕｅｌおよびＹ．ＢｅｎＴａａｒｉｔのＭｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓＭａｔｅｒｉａｌｓ，１９９３，１，１７９−１８９。

【００３３】ＴＳ−２は下記文献（参照として本明細書に組み入れてある）に記載されてい
る方法によって合成することができる：Ｊ．ＳｕｄｈａｋａｒＲｅｄｄｙおよ
びＲ．ＫｕｍａｒのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９２，１２，９５−１００；Ｊ．Ｓ
ｕｄｈａｋａｒＲｅｄｄｙおよびＲ．ＫｕｍａｒのＪｏｕｒｎａｌｏｆＣａｔａｌｙｓｉｓ，１９９１，１３０，４４０−４４６；ならびにＡ．Ｔｕｅｌ
およびＹ．ＢｅｎＴａａｒｉｔのＡｐｐｌｉｅｄＣａｔａｌ．Ａ，Ｇｅｎｅ
ｒａｌ，１９９３，１０２，６９−７７。

【００３４】チタノシリケートベータの構造及び調製法は下記文献（参照として本明細書に
組み入れてある）に記載されている：ＰＣＴ特許公告ＷＯ９４／０２２４５（
１９４５）；Ｍ．Ａ．Ｃａｍｂｌｏｒ，Ａ．Ｃｏｒｍａ，およびＪ．Ｈ．Ｐｅｒ
ｅｚ−ＰａｒｉｅｎｔｅのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９３，１３，８２−８７；な
らびにＭ．Ｓ．Ｒｉｇｕｔｔｏ，Ｒ．ｄｅＲｕｉｔｅｒ，Ｊ．Ｐ．Ｍ．Ｎｉｅ
ｄｅｒｅｒ，およびＨ．ｖａｎＢｅｋｋｕｍのＳｔｕｄ．Ｓｕｒｆ．Ｓｃｉ．Ｃａｔ，１９９４，８４，２２４５−２２５１。

【００３５】Ｔｉ−ＺＳＭ−１２の調製法及び構造は前記Ｓ．ＧｏｎｔｉｅｒおよびＡ．Ｔ
ｕｅｌに記載されている（参照として本明細書に組み入れてある）。Ｔｉ−ＺＳＭ−４８の調製法及び構造に関する文献には下記がある：Ｒ．Ｓｚ
ｏｓｔａｋのＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＭｏｌｅｃｕｌａｒＳｉｅｖｅｓ，Ｃ
ｈａｐｍａｎ＆Ｈａｌｌ，ＮｅｗＹｏｒｋ，１９９２，ｐ．５５１−５５３；
さらにＣ．Ｂ．Ｄａｒｔｔ，Ｃ．Ｂ．Ｋｈｏｕｗ，Ｈ．Ｘ．ＬｉおよびＭ．Ｅ．
ＤａｖｉｓのＭｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓＭａｔｅｒｉａｌｓ，１９９４，２，４
２−４３７；ならびにＡ．ＴｕｅｌおよびＹ．ＢｅｎＴａａｒｉｔのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９６，１５，１６４−１７０。上記各文献は参照として本明細書
に組み入れてある。

【００３６】Ｔｉ−ＭＣＭ−４１、その構造および調製法は下記引用文献（参照として本明
細書に組み入れてある）に記載されている：Ｓ．ＧｏｎｔｉｅｒおよびＡ．Ｔｕ
ｅｌのＺｅｏｌｉｔｅｓ，１９９６，１５，６０１−６１０；ならびにＭ．Ｄ．
Ａｌｂａ，Ｚ．Ｌｕａｎ，およびＪ．ＫｌｉｎｏｗｓｋｉのＪ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ，１９９６，１００，２１７８−２１８２。

【００３７】チタノシリケート中のケイ素対チタンの原子比（Ｓｉ／Ｔｉ）は本発明の方法
において活性かつ選択的エポキシ化触媒をもたらす任意の比であることができる
。通常有利なＳｉ／Ｔｉ原子比は約５／１以上、好ましくは約１０／１以上であ
る。通常有利なＳｉ／Ｔｉ原子比は約２００／１以下、好ましくは約１００／１
以下である。本明細書で定義されるＳＩ／Ｔｉ原子比は骨組構造のチタンおよび
骨組構造外のチタンのすべてを含むバルク比を指す。高Ｓｉ／Ｔｉ比、たとえば
約１００／１以上の場合には、骨組構造外のチタンは殆どないであろうし、した
がってバルク比は実質的に骨組構造の比に相当する。ｄ．担体上に分散されたチタン本発明の触媒として適当な他の担体はシリカ、アルミナ、アルミノシリケート
のような担体、または他の担体もしくは担体混合物上に分散されたチタンを含む
。この担体は工業的に入手可能か、または下記の方法で調製することができる。

【００３８】前記の担体において、チタンイオンはシリカ表面全体に実質的に無秩序相とな
って分散している。無秩序相をなすチタンイオンは他のチタンイオンと隔離され
るか、もしくはチタンイオンはオキシド結合によって他のチタンイオンと結合し
て二次元の単層網状組織の小さなドメインをなすことができる。実際のトポロジ
ーがどのようであれ、無秩序相は組織的な周期性結晶化度を示さない。無秩序相
は、１種以上の近代的分析技術、たとえば高分解能透過型電子顕微鏡法およびラ
マン分光法によって、大半の秩序相から区別することができる。紫外−可視拡散
反射分光法およびチタンＫエッジＸ線吸収端構造分光法（ｔｉｔａｎｉｕｍｕ
ＫｅｄｇｅＸ−ｒａｙａｂｓｏｒｐｔｉｏｎｎｅａｒｅｄｇｅｓｔ
ｒｕｃｔｕｒｅｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）も有効であろう。これらの方法及
びその他の方法は当業者には公知である。

【００３９】活性な触媒組成物が可能でありさえすれば、任意のシリカを担体に用いること
ができる。シリカは無定形または結晶性であることができる。好ましいシリカは
表面がヒドロキシル化されている。適切なシリカの非限定例にはヒュームドシリ
カ、シリカゲル、沈降シリカ、沈降シリカゲル、シリカライト、及びこれらの混
合物がある。シリカの表面積は好ましくは約１５ｍ²／ｇを上回り、より好まし
くは約２０ｍ²／ｇを上回り、もっとも好ましくは約２５ｍ²／ｇを上回る。シリ
カの表面積はより好ましくは約８００ｍ²／ｇを下回り、最も好ましくは約６０
０ｍ²／ｇを下回る。

【００４０】活性な触媒組成物が可能でありさえすれば、任意のアルミナを担体に用いるこ
とができる。アルミナは無定形または結晶性であることができる。好ましいアル
ミナは表面がヒドロキシル化されている。アルミナの表面積は好ましくは約１５
ｍ²／ｇを上回り、より好ましくは約２０ｍ²／ｇを上回り、もっとも好ましくは
約２５ｍ²／ｇを上回る。アルミナの表面積はより好ましくは約８００ｍ²／ｇを
下回り、もっとも好ましくは約６００ｍ²／ｇを下回る。

【００４１】担体上のチタン添加量は本発明の方法において活性な触媒を生じる添加量であ
ることができる。チタン添加量は、担体の重量を基準にして、典型的には約０．
０２重量パーセントを上回り、好ましくは約０．１重量パーセントを上回る。チ
タン添加量は、担体の重量を基準にして、典型的には約２０重量パーセントを下
回り、好ましくは約１０重量アーセントを下回る。

【００４２】担体上にチタンイオンを付着させる方法は前記の無秩序チタン相を得る上で重
要である。本明細書に用いられる調製法に沿う説明がＳ．Ｓｒｉｎｉｖａｓａｎ
らのＪｏｕｒｎａｌｏｆＣａｔａｌｙｓｉｓ，１３１，２６０−２７５（１
９９１）、およびＲ．ＣａｓｔｉｌｌｏらのＪｏｕｒｎａｌｏｆＣａｔａｌｙｓｉｓ，１６１，５２４−５２９（１９９６）に示されており、これらは参照
として本明細書に組み込まれている。通常、担体は担体上の表面ヒドロキシルと
反応性があるチタン化合物で含浸されている。典型的には、約０℃から約５０℃
の温度で、ほゞ大気圧において、約３０分から約２４時間にわたるような温和な
条件で、反応性チタン化合物を含有する溶液をシリカと接触させる。適切に反応
性があるチタン化合物の非限定例には、チタンイソプロポキシド、チタンプロポ
キシド、チタンエトキシド、及びチタンブトキシドのようなチタンアルコキシド
；チタンスルフェート、チタンオキシスルフェート、チタンハリド、好ましくは
チタンクロリド；チタンカルボキシレート、好ましくはチタンオキサレート；な
らびにジシクロペンタジエンチタンジクロリドのようなオルガノチタンハリド、
および他のオルガノチタノセンジクロリドがある。好ましくはチタンアルコキシ
ドが用いられる。溶剤は、反応性チタン化合物を可溶化する、たとえば脂肪族ア
ルコール、脂肪族及び芳香族炭化水素、ならびに適切ならば、水であることがで
きる。担体を反応性チタン化合物含有溶液と接触させた後、約０℃から約１５０
℃、好ましくは約５０℃から約１５０℃の温度において、真空中、または空気中
、または窒素、アルゴン、もしくはヘリウムのような不活性気流中で担体を乾燥
する。その後、か焼または他の処理をせずに担体を使用することができる。ある
いはまた乾燥後に、空気中または窒素もしくはヘリウムのような不活性気流中で
、約１００℃から約８００℃、好ましくは約１００℃から約６５０℃の温度に担
体をか焼することができる。

【００４３】チタンを付着させる別の方法は気相による。窒素、アルゴン、またはヘリウム
のような不活性気流中のチタンクロリド、チタンプロポキシド、またはチタンイ
ソプロポキシドのような揮発性チタン化合物を担体に通すことができる。チタン
化合物を不活性気流中で加熱して、気化又は蒸発させることができる。このプロ
セス中、担体を加熱することができる。その後、担体はか焼またはそれ以上の処
理をせずに使用することができる。あるいはまた、空気中または窒素もしくはヘ
リウムのような不活性気流中で、約１００℃から約８００℃、好ましくは約１０
０℃から約６５０℃の温度まで担体をか焼することができる。ｅ．促進剤金属シリケート上に分散されたチタン本発明の触媒として適当なさらに他の担体は促進剤金属シリケート上に分散さ
れたチタンを含む。促進剤シリケートを含む化学量論的及び非化学量論的化合物
を用いることができる。任意の無定形または結晶促進剤金属シリケートが適切に
用いられる。好ましい促進剤金属シリケートには第１族、第２族、ランタニド希
土類、およびアクチニド金属、ならびにこれらの混合物のシリケートがある。好
ましい促進剤金属シリケートの非限定例にはナトリウム含有シリケート、セシウ
ム含有シリケート、マグネシウムシリケート、カルシウムシリケート、バリウム
シリケート、エルビウムシリケート、及びルテチウムシリケートがある。チタン
は前記（ｄ）項に記載したと同様の方法で促進剤金属シリケート上に分散させる
ことができる。分散したチタン相を確認するために前記（ｄ）項に記載したと同
様の分析法を用いることができる。ｆ．担体混合物本発明の触媒に、さきに述べた担体ａ−ｅの化合物または混合物を用いること
ができる。

【００４４】チタン含有担体（ａ−ｆ）上の銀添加量は本発明の触媒を生じるだけの量であ
ればよい。銀は、担体にチタンを加える前か、同時か、または後に加えることが
できる。銀添加量は、触媒組成物の総重量を基準にして、通常約０．０１重量パ
ーセントを上回り、好ましくは約０．０２重量パーセントを上回る。銀添加量は
通常約２０重量パーセントを下回り、好ましくは約１５重量パーセントを下回る
。

【００４５】銀成分は、本発明の方法における活性かつ選択的エポキシ化触媒をもたらす業
界で公知の方法によって、担体上に付着または担持させることができる。公知の
付着法の非限定例には含浸、イオン交換、及び沈殿による付着がある。好ましい
方法は、担体を可溶性銀化合物溶液と接触させることを含む。水性及び非水性溶
液を用いることができる。その調製は光の存在下又は暗所で行うことができる。
ついで、複合体をか焼し、かつ任意に還元して本発明の触媒を生成させる。もっ
とも好ましくは、使用前に複合体をか焼するが、還元されていない。

【００４６】水溶液の場合には、硝酸銀ならびにカルボン酸銀、たとえばシュウ酸銀及び乳
酸銀を含む水溶性銀化合物を用いることができる。通常の有機溶剤の非水溶液の
場合には、銀アミン錯体のような可溶性銀錯体を用いることができる。可溶性銀
化合物のモル濃度は典型的には約０．００１Ｍから可溶性銀化合物の飽和点まで
、好ましくは約０．００５Ｍから約０．５Ｍにわたる。所望量の担体を溶液に加
えて、約２０℃から約８０℃の温度で、約１時間から約２４時間にわたる間混合
物を空気中で撹拌する。この時間が終わると、固体を回収するかまたは乾燥する
。固体は洗浄しないか、または任意に１種以上の促進剤塩類を含有する水で軽く
洗う。その後、複合体を約８０℃から約１２０℃の温度で乾燥した後、酸素の存
在下で約２００℃から約８００℃、好ましくは約３５０℃から約７５０℃の温度
で約１から約２４時間か焼する。か焼は硝酸塩または乳酸塩のような銀塩のアニ
オンを分解するために用いることができる。任意に、か焼した物質を水素、アン
モニア、またはヒドラジンのような液相または気相還元剤を用い、約２０℃から
約５００℃、好ましくは約１００℃から約４００℃の温度で約１から約２４時間
還元して、本発明の触媒を作ることができる。還元を行わないか焼がもっとも好
ましい。

【００４７】前記のように、１つの好ましい態様では、銀および、チタン含有担体を含む触
媒は、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム、および白金を含む第８族金属を実質的に含まない。この場合に
用いられる「実質的に含まない」という用語は、これら金属の総濃度が、全触媒
組成物の重量を基準にして、約０．０１重量パーセントを下回り、好ましくは約
０．００５重量パーセントを下回ることを意味する。

【００４８】他の好ましい態様では、チタン含有担体上に銀を含む触媒はさらに金を含む。
より好ましくは、触媒のこの態様も前記のように第８族金属を実質的に含まない
。金添加量は、触媒組成物の総重量を基準にして、通常約０重量パーセントを上
回り、好ましくは約０．０１重量パーセントを上回る。金添加量は通常約２０重
量パーセントを下回り、好ましくは約１０重量パーセントを下回る。存在する金
は酸化状態にあることができる。金は銀とともに合金として存在することができ
る。

【００４９】金は銀と同時か、もしくは別の付着工程で銀を付着させた前か後にチタン含有
担体上に付着させることができる。金成分は、本発明の方法において活性かつ選
択的エポキシ化触媒をもたらす業界で公知の方法によって担体に付着または担持
させることができる。公知の付着法の非限定例には含浸、イオン交換、及び沈殿
による付着がある。好ましい付着法が、ＰｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆＣａｔａｌｙｓｔｓＶ，Ｇ．Ｐｏｎｃｅｌｅｔ，Ｐ．Ａ．Ｊａｃｏｂｓ，Ｐ．Ｇｒ
ａｎｇｅ，およびＢ．Ｄｅｌｍｏｎ編，ＥｌｓｅｖｉｅｒＳｃｉｅｎｃｅＰ
ｕｂｌｉｓｈｅｒｓＢ．Ｖ．，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ，１９９１，ｐ．６５９ｆ
ｆの中にあるＳ．Ｔｓｕｂｏｔａ，Ｍ．Ｈａｒｕｔａ，Ｔ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ
，Ａ．Ｕｅｄａ，およびＹ．Ｎａｋａｈａｒａの“Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏ
ｆＨｉｇｈｌｙＤｉｓｐｅｒｓｅｄＧｏｌｄｏｎＴｉｔａｎｉｕｍ
ａｎｄＭａｇｎｅｓｉｕｍＯｘｉｄｅ”，に開示されている（参照として本
明細書に組み入れてある）。この方法は、担体上の金化合物を付着または反応さ
せるのに十分な温度及びｐＨにおいて、担体を可溶性金化合物水溶液と接触させ
ることを含む。非水溶液を用いることもできる。その後、銀成分を前記と同様に
担体上に付着させることができる。その後、銀及び金を含有する複合体を洗わな
いか、または複合体１グラム当たり好ましくは僅か１００ｍｌの洗液で軽く洗う
。ついで、銀−金複合体を空気中において約１５０℃から約８００℃の温度で約
１から約２４時間か焼する。次に、任意に、か焼した物質を水素のような還元性
雰囲気中または窒素のような不活性雰囲気中で、約１５０℃から約８００℃の温
度において約１から２４時間加熱することができる。銀−金触媒を使用する前に
、還元せずにか焼するのが好ましい。

【００５０】水溶液の場合には、塩化金（ＩＩＩ）酸、塩化金（ＩＩＩ）酸ナトリウム、塩
化金（ＩＩＩ）酸カリウム、シアン化金、シアン化金カリウム、及びトリクロロ
金（ＩＩＩ）酸ジエチルアミンのような水溶性金化合物を用いることができる。
可溶性金化合物のモル濃度は、典型的には約０．００１Ｍから可溶性金化合物の
飽和点まで、好ましくは約０．００５Ｍから約０．５Ｍにわたる。金水溶液のｐ
Ｈは、第１族金属水酸化物または炭酸塩、好ましくは水酸化ナトリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、水酸化セシウム、及び炭酸セシウムのような適当な塩
基を用いて、約２から約１１、好ましくは約６から約９に調整することができる
。所望量の担体を溶液に加えるか、または逆に担体に溶液を加え、そして必要な
らば、再びｐＨを調整する。その後、空気中で、約２０℃から約８０℃の温度に
おいて約１時間から約２４時間にわたり混合物を撹拌する。この時間が終わると
、固体を回収し、好ましくは約５から約１１のｐＨにおいて、任意に１種以上の
促進剤金属塩を含有する水で任意に洗う。その後、固体を空気中で約８０℃から
約１２０℃の温度において乾燥する。その後、固体を前記のように銀化合物を含
有する溶液で処理する。この銀−金担体複合体を空気中で約１５０℃から約８０
０℃の温度で約１から約２４時間か焼する。ついで、任意に、か焼した物質を水
素のような還元性雰囲気中、または窒素のような不活性雰囲気中で約１５０℃か
ら約８００℃の温度で約１から２４時間の間加熱することができる。還元よりも
か焼が好ましい。

【００５１】他の好ましい態様では、銀およびチタンを含む触媒、または銀、金、およびチ
タン含有担体を含む触媒は、さらに１種以上の促進剤元素を含む。酸化プロセス
において触媒の生産性を高める＋１ないし＋７の原子価を有する金属イオンを促
進剤元素として用いることができる。触媒の生産性の向上に寄与する因子にはオ
レフィン転化率の増大、オレフィンオキシドに対する選択性の増大、水生成の減
少、および触媒寿命の増大がある。好ましい促進剤元素には、ＣＲＣＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙａｎｄＰｈｙｓｉｃｓ，第７５版，Ｃ
ＲＣＰｒｅｓｓ，１９９４に記載されているように、元素周期表の第１族及び
第２族の元素のみならず亜鉛、カドミウム、白金族金属、希土類ランタニド類、
及びアクチニド類がある。第１族元素にはリチウム、ナトリウム、カリウム、ル
ビジウム、およびセシウムがあり；第２族元素にはベリリウム、マグネシウム、
カルシウム、ストロンチウム、およびバリウムがある。白金族金属にはルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、および白金がある。ラン
タニド希土類元素にはセリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマ
リウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウ
ム、エルビウム、ツリウム、イッテリビウム、およびルテチウムがある。アクチ
ニド元素には特に本発明の目的のためにトリウムおよびウラニウムがある。他の
好ましい促進剤金属は金である。より好ましくは、促進剤元素がナトリウム、セ
シウム、マグネシウム、カウシウム、バリウム、白金、パラジウム、ロジウム、
イリジウム、ランタン、プラセオジム、エルビウム、またはルテチウムである。
さらにより好ましくは、触媒は１種以上の促進剤元素を含有するが、ただしラン
タニド元素を用いる場合には、第１族および／または第２族元素と組み合わせる
ものとする。他のより好ましい態様では、触媒は少なくとも１種の第１族元素と
、第２族元素および／またはランタニド元素との組合せを含有する。他のより好
ましい態様では、触媒は少なくとも１種の白金族金属を含有する。

【００５２】本発明の触媒が促進剤として金または少なくとも１種の白金族金属を含有する
場合には、触媒を、使用前に還元するのではなくて、使用前にか焼するのがもっ
とも好ましい。か焼条件は先に述べた。還元を行わないか焼は、銀エポキシ化触
媒を使用前に還元する標準的先行技術の方法とは対照的である。意外なことに、
本発明の触媒を使用前にか焼すると、使用前に還元した同一触媒と比べて触媒の
活性を著しく向上させる。

【００５３】１種以上の促進剤元素を使用する場合には、担体に付着した促進剤元素の総量
は、触媒組成物の総重量を基準にして典型的には約１ｐｐｍ（０．０００１重量
パーセント）を上回り、好ましくは約１０ｐｐｍ（０．００１重量パーセント）
を上回る。担体に付着した促進剤元素の総量は、触媒の総重量を基準にして、通
常約４０重量パーセントを下回り、好ましくは約２０重量パーセントを下回る。
当業者は促進剤金属チタネートまたはシリケートを用いるときには、促進剤金属
の重量パーセントが極めて大きく、たとえば約８０重量パーセントほどもあり得
ることを認めるであろう。促進剤として白金族金属を用いる場合には、もっとも
好ましい添加量はその範囲の下限にあり、好ましくは約１ｐｐｍを上回り、約１
重量パーセントを下回る。

【００５４】促進剤元素は銀と同時か、もしくは別の付着工程で銀を付着させた前か後に付
着させることができる。配合物中に金がある場合には、銀および／または金と同
時か、もしくは別の工程で、銀および／または金を付着させる前か後にチタン含
有担体に促進剤元素を付着させることができる。あるいはまた、促進剤元素は、
チタンを加える前か後か、もしくはチタンと同時に前駆物質の形の触媒に付着さ
せることができる。典型的には、促進剤元素は、可溶性促進剤金属塩を含有する
水溶液または有機溶液から析出させる。適当な溶解度を有する促進剤金属塩を用
いることができ、たとえば金属の硝酸塩、カルボン酸塩、及びハロゲン化物、好
ましくは硝酸塩が適当である。有機溶剤を用いるときには、該有機溶剤は、たと
えばアルコール類、エステル類、ケトン類、ならびに脂肪族および芳香族炭化水
素を含む任意の種々の公知の有機溶剤であることができる。通常、担体を銀溶液
と接触させるのに用いると同様の条件で、担体を促進剤金属塩溶液と接触させる
。促進剤金属を付着させた後、洗浄は任意であり、そしてもしも過剰に行うと、
触媒から促進剤元素の少なくとも一部を浸出させることがある。その後、空気中
でのか焼および還元剤による任意の還元を、銀付着についてさきに述べたと同様
に行う。特に促進剤金属が白金族金属または金であるときには、か焼がもっとも
好ましい最終工程である。

【００５５】任意に、本発明の触媒を、シリカ、アルミナ、アルミノシリケート、マグネシ
ア、チタニア、炭素、またはこれらの混合物のような第２の担体ともに押出し、
第２の担体と結合させ、または第２の担体に担持させることができる。第２の担
体はその強度もしくは耐摩耗性のような触媒の物理的性質を向上させるか、また
は触媒粒子を相互に結合させるように機能することができる。第２の担体の量は
、触媒と第２の担体との合計重量を基準にして、通常約０から約９５重量パーセ
ントにわたる。

【００５６】本発明の方法を気相または液相プロセスに適する通常設計の反応器で行うこと
ができる。これらの設計にはおおまかにバッチ式、固定層、輸送層、流動層、移
動層、多管式、及びトリクルベッド式反応器のみならず連続流式および間欠流式
並びにスイング式反応器の設計がある。該プロセスを気相で行い、発生した熱を
除去するための伝熱機能を有するように反応器を設計するのが好ましい。このよ
うな目的に設計される好ましい反応器には流動層及び移動層反応器のみならず平
行に接続されて交互に用いられる複数の触媒層から構成されるスイング式反応器
がある。

【００５７】本明細書に記載する直接酸化のプロセス条件は不燃性及び可燃性領域にわたり
かなり様々であることができる。しかし、オレフィン、水素、及び酸素の不燃性
及び可燃性混合物を区別する条件を認識することが有効である。したがって、一
定のプロセス温度および圧力に対して、使用する場合には希釈剤を含む反応組成
物の可燃性及び不燃性範囲を示すダイヤグラムをつくるかまたは調べることがで
きる。プロセスを下記の、より好ましい温度及び圧力で行う場合には、前記の、
より好ましい反応混合物は可燃領域外にあると思われる。それにもかかわらず、
当業者が意図するように、可燃領域内の操作が可能である。

【００５８】プロセスは通常２０℃と見なされるほゞ外界温度を上回り、好ましくは約７０
℃を上回る温度で行われる。該プロセスは通常約２５０℃を下回り、好ましくは
約２２５℃を下回る温度で行われる。好ましくは、圧力はほぼ大気圧から約４０
０ｐｓｉｇ（２７５８ｋＰａ）にわたる。

【００５９】流動式反応器では、反応物の滞留時間および反応物対触媒のモル比は空間速度
によって求められる。気相プロセスの場合には、オレフィンの気体空間速度（毎
時）（ＧＨＳＶ）が広範囲にわたることができるが、オレフィンは触媒１ｍｌ当
たり典型的には毎時約１０ｍｌを上回り（ｈ^-1）、好ましくは約１００ｈ^-1を上
回り、より好ましくは約１，０００ｈ^-1を上回る。オレフィンのＧＨＳＶは典型
的には約５０，０００ｈ^-1を下回り、好ましくは約３５，０００ｈ^-1を下回り、
より好ましくは約２０，０００ｈ^-1を下回る。同様に、液相プロセスの場合には
、オレフィン成分の重量空間速度（ＷＨＳＶ）が広範囲に変わることができるが
、オレフィンは触媒１ｇ当たり典型的には毎時約０．０１ｇ（ｈ^-1）を上回り、
好ましくは約０．０５ｈ^-1を上回り、より好ましくは約０．１ｈ^-1を上回る。オ
レフィンのＷＨＳＶは典型的には約１００ｈ^-1を下回り、好ましくは約５０ｈ^-1 を下回り、より好ましくは約２０ｈ^-1を下回る。酸素、水素、および希釈剤成分
の気体及び重量空間速度は所望の相対モル比を考慮に入れればオレフィンの空間
速度から求めることができる。

【００６０】水素および前記触媒の存在下で少なくとも３個の炭素原子を有するオレフィン
を酸素と接触させると、対応するオレフィンオキシド（エポキシド）が良好な生
産性で生成する。生成したもっとも好ましいオレフィンオキシドはプロピレンオ
キシドである。

【００６１】本発明の方法におけるオレフィンの転化率は、特定オレフィン、温度、圧力、
モル比、及び触媒の形態を含む、使用する特定プロセス条件によって異なること
ができる。本明細書で使用する「転化率」という用語は、反応して生成物を得る
オレフィンのモルパーセントと定義される。通常、転化率は温度及び圧力の上昇
とともに増大し、空間速度の増大とともに減少する。オレフィンの転化率は、典
型的には約０．０２モルパーセントを上回り、好ましくは約０．１０モルパーセ
ントを上回り、より好ましくは約０．２０パーセントを上回る。

【００６２】同様に、オレフィンオキシドに対する選択性は使用する特定プロセス条件によ
って変わることができる。本明細書で使用する「選択性」という用語は、反応し
て特定生成物、望ましくはオレフィンオキシドを生成するオレフィンのモルパー
セントと定義される。通常、オレフィンオキシドに対する選択性は温度の上昇と
ともに減少し、空間速度の増加とともに増大する。本発明の方法は意外なほど高
選択性でオレフィンオキシドを生成する。本法におけるオレフィンオキシドに対
する典型的な選択性は約６０モルパーセントを上回り、好ましくは約７５モルパ
ーセントを上回り、より好ましくは約９０モルパーセントを上回る。

【００６３】エポキシドが生成する以外に、本発明の方法の副生物として水も生成する。さ
らに、水素が直接反応して水を生成することができる。したがって、水／オレフ
ィンのモル比をできるだけ小さくもたらすことが望ましいであろう。本発明の好
ましい態様では、水／オレフィンのモル比が典型的には約１／１を上回るが、約
７５／１を下回り、好ましくは約５０／１を下回り、より好ましくは約２０／１
を下回る。

【００６４】触媒の活性が許容できないほど低いレベルに低下したときには、触媒を再生さ
せることができる。触媒が本明細書に記載する酸化法で再活性化されさえすれば
、当業者にとって公知の触媒再生法を本発明の触媒に適用することができる。１
つの再生法は、不活性化した触媒を、酸素及び任意に不活性ガスを含有する再生
ガス中で約１５０℃から約５００℃の温度に加熱することを含む。別の態様では
、好ましくは約０．０１から約１００モルパーセントにわたる量の水を再生ガス
に加えるのが有効である。

【００６５】下記実施例を考察すれば本発明はさらに明らかになろう。ただし、該実施例は
本発明の使用を単に例示するためのものである。本発明の他の態様はここに開示
される本明細書または本発明の実施を考察することにより当業者には明らかにな
ろう。とくに規定しない限り、パーセントはすべてモルパーセント基準で示す。実施例実施例１硝酸銀（１．１７２０ｇ）を水（３０ｃｃ）に溶解した。この銀溶液に二酸化
チタン（Ａｌｆａ／Ａｅｓａｒアナタース，１５．０１ｇ）を加えて、混合物を
室温で１．５時間撹拌した。ついで、混合物を一夜間１１０℃で乾燥した。乾燥
した物質を粉砕した後、下記のようにヘリウム中に酸素（２０パーセント）を含
む混合気流中でか焼した。温度を８時間で室温から５００℃まで上げ、酸素／ヘ
リウム混合気流中で５時間５００℃に保った。その後、試料を室温に冷却した。
か焼した物質をヘリウム中水素（５パーセント）を含む混合気流中で４時間にわ
たり室温から３００℃まで加熱し、該水素混合流中で４時間３００℃に保持した
。試料を室温に冷却して二酸化チタン上に銀を含む触媒を得た。

【００６６】前記のように調製した触媒をプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化
において試験した。ヘリウム、酸素、水素、及びプロピレンの混合気流を有する
１０ｃｃ固定層連続流式反応器内に触媒（５ｇ）を充填した。総流量は１５０ｃ
ｃ／分（またはＧＨＳＶ１，８００ｈ^-1）であった。原料流の組成は水素１１
％、酸素１０％、プロピレン３０％、そして残余がヘリウムであった。プロピレ
ン、酸素及びヘリウムは純粋な気流の形で用いたが、水素はヘリウムと混合して
２０Ｈ₂／８０Ｈｅ（ｖ／ｖ）混合流とした。圧力は大気圧；反応器温度は７０
℃であった。オンラインガスクロマトグラフ（Ｃｈｒｏｍｐａｃｋ^TMＰｏｒａｐ
ｌｏｔ^TMＳカラム，２５ｍ）を用いて生成物を分析して表Ｉに示す結果を得た。

【００６７】

【表１】ヘリウム中に酸素（１５パーセント）を含む混合気流中で３５０℃に２時間加
熱することによって触媒を再生させた。再生触媒をプロピレンの酸化において再
試験して表Ｉに示す結果を得た。

【００６８】二酸化チタン上に銀を含む組成物はプロピレンのプロピレンオキシドへのヒド
ロ酸化の触媒として働き得ることが分かる。再生後、プロピレンオキシドに対す
る触媒の選択性は向上した。実施例２実施例１に述べたように触媒を調製した。下記の量の試薬を用いた：二酸化チ
タン（ＤｅｇｕｓｓａＰ２５アナタース，１５．００ｇ）、硝酸銀（１．１
３５８ｇ）、及び水（６０ｃｃ）。プロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ
酸化において触媒を試験して表Ｉに示す結果を得た。ヘリウム中に酸素（１５パ
ーセント）を含む混合気流中で触媒を２時間３５０℃に加熱することによって再
生させた。再生触媒をプロピレンの酸化において再試験して、表Ｉに示す結果を
得た。

【００６９】二酸化チタン上に銀を含む組成物はプロピレンのプロピレンオキシドへのヒド
ロ酸化の触媒として働き得ることが分かる。Ｄｅｇｕｓｓａ二酸化チタンンを用
いると、Ａｌｆａ／Ａｅｓａｒ二酸化チタンとは対照的に、水／プロピレンオキ
シドのモル比により測定した触媒選択性及び水素効率が向上する。再生後、触媒
も改善される。実施例３（ａ−ｃ）実施例１に述べたように二酸化チタン上に銀を含む３種類の触媒を調製した。
使用した二酸化チタン（ＤｅｇｕｓｓａＰ２５二酸化チタン）の量は下記の
通りであった：（ａ）１４．９４ｇ；（ｂ）１５．０６ｇ；（ｃ）１５．００ｇ
。使用した硝酸銀の量は下記の通りであった：（ａ）１．１２３８ｇ；（ｂ）２
．２７０６ｇ；（ｃ）３．４０５３ｇ。各配合物に水（６０ｃｃ）を使用した。
中性子放射化分析（ＮＡＡ）によって分析した３（ａ）についての元素分析の結
果は下記の通りであった：銀３．９５重量パーセント；ナトリウム０．２９
重量パーセント；およびチタン５５．４重量パーセント。（使用した二酸化チ
タンは０．２７パーセントのナトリウムを含有することが認められた。）例え
ば３（ｂ）および３（ｃ）の銀濃度は約１０及び１５重量パーセントであった。
実施例２に述べたようにプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化におい
て触媒を試験して、表ＩＩに示す結果を得た。

【００７０】

【表２】実施例４チタニア上にマグネシウムを促進剤とした銀触媒を用い、４種類の触媒（４ａ
−ｄ）を調製して、銀添加量の影響を試験した。ＤｅｇｕｓｓａＰ２５二酸化
チタンを用いて触媒を調製した。試薬の量を表ＩＩＩに示す。硝酸マグネシウム
の量は各試料に一定に保った。したがって、マグネシウム対銀の原子比は試料ご
とに異なった。

【００７１】

【表３】硝酸銀及び硝酸マグネシウムを水（６０ｃｃ）に溶解した。この銀及びマグネ
シウム溶液に二酸化チタンを加えて、溶液を室温で１時間撹拌した。混合物を含
有するフラスコを一夜間１１０℃の乾燥オーブンに入れた。得られた乾燥物質を
粉砕した後、ヘリウム中に酸素（２０パーセント）を含む混合気流中で室温から
５００℃まで８時間か焼して、５００℃に５時間保持した。か焼した物質を室温
に冷却した後、ヘリウム中に水素（５パーセント）を含む混合気流中で室温から
３００℃まで４時間加熱して、３００℃に４時間保持した。

【００７２】実施例２に述べたようにプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化にお
いて触媒を試験して、表ＩＶに示す結果を得た。

【００７３】

【表４】実施例４のデータを実験１−３のデータと比較すると、プロピレンの転化率及
びプロピレンオキシドへの選択性という点でマグネシウム促進剤が触媒の性能を
向上させたことが分かる。さらに、促進剤元素を用いると、水／プロピレンオキ
シドのモル比が減少した。実施例５チタニア（ＤｅｇｕｓｓａＰ２５）上に銀を含む触媒を用い、８種類の触媒
を調製して、種々の促進剤（Ｐ）の影響を試験した。配合物にそれぞれ用いた試
薬及びその量を表Ｖに示す。銀はチタニア上に約５重量パーセントと一定に保た
れた。促進剤硝酸塩の量は各試料に一定に保たれた。これによって、表Ｖに示す
ように、促進剤対銀（Ｐ／Ａｇ）の原子比は試料ごとに変化した。調製法は実施
例４と同じであったが、ただしか焼温度分布は例外で下記の通りであった：ヘリ
ウム中に２０％酸素を含む混合気流中で、室温から５００℃まで４時間か焼して
５００℃に５時間保持した。ついで、物質を８０℃に冷却し、ヘリウム中に２０
％水素を含む混合気流中で８０℃から３００℃まで４時間加熱して、３００℃に
４時間保持した。５（ａ）についてＮＡＡにより分析した元素分析の結果は下記
の通りであった：銀４．１７％；ナトリウム１．０３％；およびチタン５
４．４％（重量％）。透過型電子顕微鏡法によって、新鮮な結晶では銀クリスタ
ライトの大きさが１５から９０Åにわたり、平均直径が４４Åと判明した。

【００７４】

【表５】実施例１に述べたように、プロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化に
おいて触媒試料５ａ−５ｈを試験して、表ＶＩに示す結果を得た。

【００７５】

【表６】銀および、第１族、第２族、またはランタニド類から選ばれる促進剤元素、な
らびに二酸化チタンを含む組成物が、プロピレンのプロピレンオキシドへのヒド
ロ酸化における触媒として機能したことが分かる。実施例５を実施例１及び２と
比べると、促進剤の添加が転化率及び選択性を向上させ、かつプロセスの水素効
率を改善させたことが分かる。

【００７６】触媒５ａ−５ｄ及び５ｇ−ｈを、ヘリウム中に酸素（１０％）を含む混合気流
中で３５０℃に加熱することによって再生させた。再生後、プロピレンのヒドロ
酸化において触媒を試験して、表ＶＩに示す結果を得た。同じプロセス条件で、
再生触媒は新鮮な触媒と同等またはそれ以上の活性及び選択性を示した。

【００７７】再生後の触媒５ａ及び５ｂの活性を時間の関数としてモニターして表ＶＩＩに
示す結果を得た。

【００７８】

【表７】表ＶＩＩにおいて、再生触媒５（ａ）および５（ｂ）は操業１８時間にわたり
プロピレンオキシドに対する高選択性及びプロピレンの良好な転化率を保ったこ
とが分かる。

【００７９】チタニア上にナトリウムを促進剤とした銀を含む触媒５（ａ）をヘリウム中に
酸素（１０％）を含む混合気流中で３５０℃に加熱することによって２回再生さ
せた。この再生後に種々の温度におけるヒドロ酸化プロセスにおいてこの触媒を
試験して、表ＶＩＩＩに示す結果を得た。

【００８０】

【表８】表ＶＩＩＩにおいて、２回再生させた、ナトリウムを促進剤とする銀触媒は、
各再生後に良好な転化率及び高選択性を保持したことが分かる。この触媒は１１
０℃において活性および選択性があった。使用後５（ａ）についてＮＡＡにより
分析した元素分析の結果は下記の通りであった：銀４．１０％；ナトリウム
１．０７％；およびチタン５５．０％（重量％）。Ｓｉ／Ｔｉ＝１００を有するチタノシリケートＴＳ−１の調製テトラエチルオルトシリケート（ＦｉｓｈｅｒＴＥＯＳ，８３２．５ｇ）を
４リットルのステンレス製ビーカーに秤取して３０分間窒素をスパージした。チ
タンｎ−ブトキシド（ＤｕＰｏｎｔ，Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）₄）をシリンジから
シリケートに注入した。差異から考えると、ＴＥＯＳに加えたチタンｎ−ブトキ
シドの重量は１４．０７ｇであった。透明な黄色の溶液が生成した。該溶液を加
熱し、窒素雰囲気中で約３時間撹拌した。温度は５０℃から１３０℃に変わった
。次いで溶液を氷浴中で冷却した。

【００８１】テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド（ＴＰＡＯＨ，７１０．７５ｇ）の
４０重量パーセント溶液をポリエチレンボトルに秤取し、それに蓋をして氷浴中
に入れた。オーバーヘッド撹拌機により激しく撹拌しながら、このＴＰＡＯＨを
冷却したＴＥＯＳ溶液に滴下した。ＴＰＡＯＨを半分加えた後、ＴＥＯＳ溶液は
濁って濃厚になり始めた。５分経つと、溶液は完全に凍結した。この時に、残り
のＴＰＡＯＨを加え、スパチュラでゲルを破壊して、撹拌を再開した。脱イオン
水（３５４ｇ）を加えて溶液を室温に温めた。５時間後、固体は大部分溶解した
ので、補足的量の脱イオン水（７０８ｇ）を加えた。一夜間撹拌を続けると固形
物を含まない透明な黄色の合成ゲルを生じた。

【００８２】この合成ゲルを１ガロン（３．７８５リットル）のステンレス製オートクレー
ブに注入して密閉した。オートクレーブを１２０℃から、さらに漸次１６０℃ま
で加熱して、そこに６日間保持した。反応器の内容物を終始撹拌した。反応時間
が終わると、オートクレーブを冷却して乳白色の懸濁液を回収した。固体を回収
し、洗浄し、遠心分離し、そして脱イオン水中に再懸濁させた。この固体を濾過
し、室温で乾燥し、徐々に５５０℃に加熱し、そしてそこで８時間か焼した。固
体をＸＲＤで調べると、ＭＦＩ構造を有すると確認された。ラマンスペクトルは
結晶チタニアを示さなかった。蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）により測定して、Ｓｉ／
Ｔｉの原子比が１００と判明した。チタンシリカライトの収量：１０６ｇ。実施例６前記のように調製したチタノシリケートＴＳ−１担体に、実施例５（ａ）に述
べたように銀及びナトリウム促進剤を添加した。使用した試薬は下記の通りであ
った：ＴＳ−１担体（５．２５ｇ）；硝酸銀（０．３８３３ｇ）；硝酸ナトリウ
ム（０．１５９０ｇ）。ナトリウム／銀の原子比は０．８３であった。調製した
触媒をプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化において試験して、表Ｉ
Ｘに示す結果を得た。

【００８３】

【表９】チタノシリケートＴＳ−１上に銀及びナトリウムを含む触媒は５時間を超える
稼働時間にわたるプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化において活性
かつ選択的であることが分かる。ヘリウム中に酸素（１４％）を含む混合気流中
において、３５０℃まで加熱し、３５０℃に１時間保持することによって、実施
例６の触媒を再生させた。実施例１に述べたようにこの再生触媒をプロピレンの
プロピレンオキシドへのヒドロ酸化において試験した。再生触媒は９時間の総稼
働時間にわたり活性を保った。９時間目で、１００℃におけるプロピレンの転化
率は０．０７０パーセントで、プロピレンオキシドに対する選択性は９３．８パ
ーセントであった。水対プロピレンオキシドのモル比は２５．６であった。実施例７シリカ上にチタンを分散させた担体上に銀及びナトリウムを含む触媒を調製し
た。この担体はＰＱＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから得たもので、チタンを付着さ
せたシリカビーズ（キセロゲルシリカビーズ４ｍｍ径）からなるものであっ
た。担体を、窒素気流中で６００℃に予熱して１時間保持した後、ヘリウム中に
酸素（１０％）を含む混合気流中において６００℃で４時間か焼した。次いで担
体を冷却し、粉砕し、そして実施例５（ａ）に述べたように、銀およびナトリウ
ムを添加した。試薬の量は次の通りであった：Ｔｉ／シリカ担体、５．２６ｇ；
硝酸銀、０．３８７７ｇ；硝酸ナトリウム、０．１６０４ｇ。ナトリウム／銀の
原子比は０．８３であった。

【００８４】実施例１に述べたように、プロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化に
おいて触媒を試験して表ＩＸに示す結果を得た。シリカ上にチタンを分散させた
担体上に銀及びナトリウムを含む触媒はプロピレンのプロピレンオキシドへのヒ
ドロ酸化において活性かつ選択的であったことが分かる。９０℃では、プロピレ
ンオキシドに対する８５．７％の選択性においてプロピレンの転化率が０．０３
８％であった。実施例８チタニア上の銀およびナトリウムとともに金の影響を試験するために触媒を調
製した。塩化金（ＩＩＩ）酸［０．３７６７ｇのＨＡｕＣｌ₄・ｘＨ₂Ｏ（Ａｕ
４９．２８％）］を水（８００ｍｌ）に溶解して７０℃に加熱した。溶液のｐＨ
を炭酸ナトリウムで７．５に調整した。次いで溶液に二酸化チタン（Ｄｅｇｕｓ
ｓａＰ２５ＴｉＯ₂ １５．０４ｇ）を加えて、炭酸ナトリウムでｐＨを７
．５に調整した。混合物を７０℃で１時間撹拌した後、室温に冷却した。固体を
濾過した。その固体を水（５００ｃｃ）に再懸濁して５分間撹拌した後濾過した
。固体を１１０℃で４時間乾燥した後粉砕して粉末にした。硝酸銀（１．１２３
０ｇ）及び硝酸ナトリウム（０．４８５６ｇ）を含有する水溶液にこのチタニア
上の金物質を加えた。混合物を室温で１時間撹拌した。チタニア上の金ならびに
、銀及びナトリウム溶液を含有するフラスコを一夜間１１０℃のオーブンに入れ
て該物質を乾燥した。この乾燥物を粉砕した後、ヘリウム中に酸素（２０％）を
含む混合物流中において、４時間で室温から５００℃までか焼して、５００℃に
５時間保持した。この物質を８０℃に冷却した後、ヘリウム中に水素（５％）を
含む混合気流中において、４時間で８０℃から３００℃まで加熱し、３００℃に
４時間保持して、本発明の触媒を得た。本実施例の新鮮な触媒についてＮＡＡで
分析した元素分析の結果は下記の通りであった：銀４．０４％；金０．８５
％；ナトリウム１．１０％；およびチタン５４．３％（重量％）。

【００８５】実施例１に述べたように、この触媒をプロピレンのプロピレンオキシドへのヒ
ドロ酸化において試験して、表Ｘに示す結果を得た。

【００８６】

【表１０】表Ｘから、チタニア上に銀、金、およびナトリウムを含む触媒はプロピレンの
プロピレンオキシドへのヒドロ酸化において活性かつ選択的であることが分かる
。水素効率も良好である。実施例９１０種類の触媒を調製して、チタニア（ＤｅｇｕｓｓａＰ２５）上の銀及び
ナトリウム両方の添加量の影響を試験した。１組の触媒では、銀添加量を約５重
量パーセントに一定に保った。他の組の触媒では、ナトリウム添加量を約１．６
重量パーセントに一定に保った。配合物中にそれぞれ用いた試薬及びその量を表
ＸＩに示す。調製法は実施例４と同じであったが、ただしか焼温度分布は下記の
通りにした：ヘリウム中に２０％の水素を含む混合気流中において、４時間で室
温から５００℃までか焼して、５００℃に４時間保持した。ついで、物質を室温
に冷却し、ヘリウム中に５％の水素を含む混合気流中において、４時間で室温か
ら３００℃まで加熱して、３００℃に４時間保持した。

【００８７】

【表１１】実施例１に述べたように、プロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化に
おいて触媒試料９ａ−９ｊを試験して、表ＸＩＩに示す結果を得た。

【００８８】

【表１２】銀および、第１族、第２族、またはランタニド類から選ばれる促進剤、および
二酸化チタンを含む組成物はプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化に
おいて触媒として機能したことが分かる。実施例９を実施例１および２と比べる
と、促進剤の添加が転化率及び選択性を高め、かつプロセスの水素効率を向上さ
せたことが分かる。多量のナトリウムを用いると、９ｆの場合のように、少量（
約１重量パーセント）の銀が活性な触媒をもたらした。

【００８９】ヘリウム中に酸素（１０％）及び水（１．５％）を含む混合気流中で、４００
℃に加熱することによって触媒９ｆ−９ｊを再生させた。表ＸＩＩに示すように
、同じプロセス条件において、再生触媒は新鮮な触媒と同等以上の活性及び選択
性を示した。実施例１０９ｇの触媒をトランス−２−ブテンの２，３−ブチレンオキシドへのヒドロ酸
化にも使用した。ヘリウム、酸素、水素、及びトランス−２−ブテンの混合流を
有する１０ｃｃの固定層連続流式反応器内に触媒（５ｇ）を充填した。総流量は
１００ｃｃ／分（またはＧＨＳＶ１，２００ｈ^-1）であった。原料流の組成は
水素６．４％、酸素７．６％、トランス−２−ブテン３０％、及び残余が
ヘリウムであった。トランス−２−ブテン及びヘリウムは純粋な気流の形で使用
し；水素はヘリウムと混合して２０Ｈ₂／８０Ｈｅ（ｖ／ｖ）混合流とし；
酸素はヘリウムと混合して２０Ｏ₂／８０Ｈｅ（ｖ／ｖ）混合流とした。圧
力は大気圧で、温度は表ＸＩＩＩに示す通りである。オンラインガスクロマトグ
ラフ（Ｇｈｒｏｍｐａｃｋ^TMＰｏｒａｐｌｏｔ^TMＳカラム、２５ｍ）を用い生
成物を分析して、表ＸＩＩＩに示す結果を得た。７５ｃｃ／分（ＧＨＳＶ９０
０ｈ^-1）のヘリウム中に酸素（１３％）を含む混合気流中で３５０℃に約１２時
間加熱することによって触媒を再生させた。再生触媒をトランス−２−ブテンの
酸化において再試験を行って表ＸＩＩＩに示す結果を得た。

【００９０】

【表１３】表ＸＩＩＩから、チタニア上に銀及びナトリウムを含む触媒がトランス−２−
ブテンの２，３−ブテンオキシドへのヒドロ酸化において活性かつ選択的である
ことが分かる。実施例１１チタニア（ＤｅｇｕｓｓａＰ２５）上に銀を含む触媒を有する５種類の触媒
を調製して混合促進剤（Ｐ）の効果を試験した。配合物中に用いられるそれぞれ
の試薬及びその量を表ＸＩＶに示す。銀及びナトリウムはチタニア上に一定に保
たれた。第２の促進剤硝酸塩の量は各試料に一定に保たれた。調整法は実施例４
と同じであったが、ただしか焼温度分布は下記の通りであった：ヘリウム中に２
０％酸素を含む混合気流中において４時間で室温から５００℃までか焼して、５
００℃に４０時間保持した。ついで、物質を７５℃に冷却し、ヘリウム中に５％
水素を含む混合気流中において４時間で７５℃から３００℃まで加熱して、３０
０℃に４時間保持した。

【００９１】

【表１４】実施例１に述べたように、触媒試料１１ａ−１１ｅをプロピレンのプロピレン
オキシドへのヒドロ酸化において試験して、表ＸＶに示す結果を得た。

【００９２】

【表１５】銀および、第１族、第２族、またはランタニド類から選ばれる促進剤混合物、
および二酸化チタンを含む組成物がプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ
酸化において触媒として機能したことが分かる。実施例１１ａ−１１ｅを実施例
１および２ならびに実施例５ｃ、ｄ、ｅ、ｇ、ｈと比べると、第２の促進剤の添
加が転化率および／または選択性を向上させ、かつ／またはプロセスの水素効率
を増大させたことが分かる。

【００９３】触媒１１ａ−１１ｅをヘリウム中に酸素（１０％）を含む混合気流中で３５０
℃に加熱することによって再生させた。同じプロセス条件で、再生触媒は新鮮触
媒と同等以上の活性及び選択性を示した。

【００９４】再生後の触媒１１ｂの活性を時間の関数としてモニターして表ＸＶに示す結果
を得た。実施例１２下記の量の試薬を使用した：二酸化チタン（Ｄｅｇｕｓｓａ製Ｐ２５アナタ
ース、担体７７０１４．５×４．５ｍｍペレット９２．５ｇ）、硝酸銀（
７．０８００ｇ）、硝酸ナトリウム（３．０２５６ｇ）、及び水（２７ｃｃ）。
ペレットに溶液を含浸させた後、過剰の溶液中で回転させた。この物質を乾燥し
たように見えるまで混合しながら１１０℃で乾燥した後、一夜間１１０℃で乾燥
した。次いで、得られた乾燥物を、ヘリウム中に酸素（２０％）を含む混合気流
中で、２時間で室温から５００℃までか焼して、５００℃に４時間保持した。か
焼した物質を室温に冷却した後、ヘリウム中に水素（５％）を含む混合気流中で
、４時間で室温から３００℃まで加熱して、３００℃に４時間保持した。この触
媒を粉砕し、その２０−４０メッシュの部分をプロピレンのプロピレンオキシド
へのヒドロ酸化において試験して、表ＸＶＩに示す結果を得た。

【００９５】

【表１６】二酸化チタン上に銀及びナトリウムを含む組成物が２５０ｐｓｉａにおいてプ
ロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化の触媒として働き得ることが分か
る。実施例１３チタニア−シリカ担体上に付着させた銀を含む触媒を調製した。チタンアセチ
ルアセトネート（４．３０１４ｇ）をメタノール（５００ｃｍ³）に溶解した。
このメタノ−ル溶液にシリカゲル（ＤａｖｉｓｏｎＧｒａｃｅ５７シリカ
ゲル、３８．１０ｇ）を加えた。この懸濁液が乾燥するまで６５℃の乾燥窒素を
フラッシュした。窒素を流しながら温度を１００℃に上げて、固体を含有するフ
ラスコを脱気した。温度を１２０℃に上げて５時間保持した。空気中で、１２０
℃から６００℃まで５時間にわたりか焼し、ついで６００℃に５時間保持してシ
リカ上にチタニアを含む担体を得た。

【００９６】硝酸銀（０．１７２８ｇ）及び硝酸ナトリウム（０．１６９３ｇ）を水（６０
ｃｍ³）に溶解した。この溶液にシリカ上にチタニアを含む担体（４．７５ｇ）
を加えた。この懸濁液を１時間かき混ぜた後１１０℃で乾燥した。固体をヘリウ
ム中に酸素（２０容量パーセント）を含む混合気流中で、４時間で室温から５０
０℃までか焼した後、５００℃に４時間保持して、７５℃に冷却した。固体に７
５℃で３０分間窒素をフラッシュした後、ヘリウム中水素（５％）を含む混合気
流中で４時間で温度を７５℃から３００℃まで上げた後３００℃に４時間保持し
ながら還元した。得られた触媒はチタニア−シリカ担体上に付着した銀（２重量
％）からなった。Ｎａ／Ａｇのモル比は２／１であった。

【００９７】複合体をヘリウム中に酸素（１０容量パーセント）および水（２容量パーセン
ト）を含む混合気流中において４００℃でか焼し、得られた酸化触媒（４．５ｇ
）を前記のようにプロピレンのプロピレンオキシドへのヒドロ酸化において試験
を行い、表ＸＶＩＩ（１３ａ）に示す結果を得た。

【００９８】

【表１７】比較のために、実験番号１３ａの後で、触媒をヘリウム中に酸素（１０容量パ
ーセント）および水（２容量パーセント）を含む混合気流中において４００℃で
酸化した後、ヘリウム中に水素（５容量パーセント）及び水（２容量パーセント
）を含む混合気流中において３００℃で還元した。還元した触媒をプロピレンの
プロピレンオキシドへのヒドロ酸化において試験を行い、表ＸＶＩＩ（比較実験
１３−ＣＥ１）に示す結果を得た。実施例１３ａを比較実験１３−ＣＥ１と比
較すると、使用前に酸素中でか焼した触媒は、使用前に還元した触媒と比べて、
プロピレンの高転化率、プロピレンオキシドの高選択性、及び水／プロピレンオ
キシドの低モル比を達成することが分かった。

【００９９】次に比較触媒１３−ＣＥ１を酸素−水−ヘリウム混合気流中において５００℃
で再生させて、この酸化触媒（１３ｂ）を表ＸＶＩＩ（実施例１３ｂ）に示すよ
うにプロピレン酸化プロセスにおいて再試験を行った。次に、実施例１３ｂの触
媒を１３−ＣＥ１の比較還元プロセスを用いて再生させた。この還元触媒（１３
−ＣＥ−２）を酸化プロセスで試験して、表ＸＶＩＩ（比較実験１３−ＣＥ２）
に示す結果を得た。最後に、１３−ＣＥ２の触媒をヘリウム中に酸素及び水を含
む混合気流中において再生して再試験を行い、表ＸＶＩＩ（実施例１３ｃ）に示
す結果を得た。

【０１００】すべてのデータは、使用前に酸素中でか焼した銀触媒（実施例１３ａ、ｂ、ｃ
）が使用前に還元した比較触媒（ＣＥ−１及びＣＥ−２）に比べて、プロピレン
の高転化率、プロピレンオキシドの高選択性、および水／プロピレンオキシドの
低モル比を達成することを示した。実施例１４チタニア上に付着させた銀および、金または白金族金属のいずれか１種を含む
５種類の触媒を調製した。大体の調製法は前記の通りである。配合物中に用いた
試薬の量を表ＸＶＩＩＩに示す。

【０１０１】白金族金属クロリドまたは金クロリドを２０滴の濃硝酸を含む水（１００ｍｌ
）に溶解した。次に、チタニア（ＤｅｇｕｓｓａＰ２５，１５．０ｇ）を溶液
に加えた。混合物を室温で２時間撹拌した。混合物を１１５℃のオーブンで一夜
間加熱して乾燥させた。この乾燥物を粉砕して微粉末にした。硝酸銀及び硝酸ナ
トリウムをそれぞれ水（５０ｍｌ）に溶解し、得られた溶液を該微粉末に含浸さ
せた。この湿潤物質をオーブン中１１５℃で乾燥した。

【０１０２】

【表１８】この乾燥物をヘリウム中に酸素（２０容量パーセント）を含む混合気流中にお
いて４時間で室温から５００℃までか焼した後、５００℃に４時間保持してから
、７５℃に冷却した。か焼した物質を窒素中に水素（５容量パーセント）を含む
混合気流中において４時間にわたり７５℃から３００℃で還元した後、３００℃
に４時間保持した。還元した固体を、表ＸＩＸ（１４ａ）に示すように、ヘリウ
ム中に酸素（１０容量パーセント）及び水（２容量パーセント）を含む混合気流
中で酸化させた。この酸化触媒を前記のようにプロピレンのプロピレンオキシド
へのヒドロ酸化において試験して、表ＸＩＸ（１４ａ）に示す結果を得た。

【０１０３】

【表１９】比較のために、１４ａの各触媒をヘリウム中に酸素（１０容量パーセント）及
び水（２容量パーセント）を含む混合気流中において４００℃で酸化した後、ヘ
リウム中に水素（５容量パーセント）及び水（２容量パーセント）を含む混合気
流中において３００℃で還元した。この比較触媒をプロピレンのプロピレンオキ
シドへのヒドロ酸化において試験して、表ＸＩＸ（１４−ＣＥ１）に示す結果を
得た。実施例１４ａを比較実験（１４−ＣＥ１）と比較すると、使用前に酸素中
においてか焼した触媒は、使用前に還元した同じ触媒と比較して、優れたプロピ
レン転化率を得ることが判明した。

【０１０４】その後、１４−ＣＥ１の比較触媒を酸素−水−ヘリウム混合気流中において４
００℃で再酸化させ、ヒドロ酸化プロセスにおいて再試験を行い表ＸＩＸ（実施
例１４ｂ）に示す結果を得た。実施例１４ｂの酸化触媒は比較実験１４−ＣＥ１
の還元触媒と比べてプロピレンの高転化率を達成した。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１２年１１月２２日（２０００．１１．２２）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項５９】該触媒が不活性化したときに、水の存在下で１５０℃から
５００℃の温度に該触媒を加熱することを含む請求項４４記載の組成物の再生法
。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１３年３月１４日（２００１．３．１４）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者クパーマン，アレックスアメリカ合衆国ミシガン州48642，ミドランド，ディーアフィールド・コート 903 (72)発明者ハートウェル，ジョージ・イーアメリカ合衆国ミシガン州48642，ミドランド，ジョージタウン・ドライブ 2908 (72)発明者メイマ，ガルムト・エルオランダ国エヌエル−4535 テルヌーゼン，フェルレマンストラート 75 Ｆターム(参考） 4C048 AA01 BB02 CC01 UU03 XX02 XX05 4G069 AA03 AA08 BA02B BA04B BB02A BB02B BC02B BC06B BC09B BC13B BC32A BC32B BC33B BC42B BC44B BC71B BC74B BC75B CB07 CB08 CB09 DA06 FA02 FB08 FB44 GA06 4H039 CA63 CC40

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水素及び任意の希釈剤の存在下ならびに銀及びチタンを含む
触媒の存在下において、少なくとも３個の炭素原子を有するオレフィンを酸素と
接触させることを含むオレフィンオキシドの製造法。
【請求項２】該オレフィンがＣ_3-12オレフィンである請求項１記載の方法
。
【請求項３】該オレフィンがプロピレンである請求項２記載の方法。
【請求項４】該オレフィンが、ブタジエン、シクロペンタジエン、ジシク
ロペンタジエン、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、アリルク
ロリド、アリルアルコール、ジアリルエーテル、アリルエチルエーテル、アリル
ブチレート、アリルアセテート、アリルベンゼン、アリルフェニルエーテル、ア
リルプロピルエーテル、およびアリルアニソールから選ばれる請求項１記載の方
法。
【請求項５】オレフィン、酸素、水素、及び任意の希釈剤の総モル数を基
準にして、１モルパーセントを上回り、かつ９９モルパーセントを下回る量で該
オレフィンを使用する請求項１記載の方法。
【請求項６】オレフィン、酸素、水素、及び任意の希釈剤の総モル数を基
準にして、０．０１モルパーセントを上回り、かつ３０モルパーセントを下回る
量で該酸素を使用する請求項１記載の方法。
【請求項７】オレフィン、酸素、水素、及び任意の希釈剤の総モル数を基
準にして、０．０１モルパーセントを上回り、かつ５０モルパーセントを下回る
量で該水素を使用する請求項１記載の方法。
【請求項８】希釈剤を使用する請求項１記載の方法。
【請求項９】該方法を気相で行う場合には該希釈剤をヘリウム、窒素、ア
ルゴン、メタン、二酸化炭素、水蒸気及びこれらの混合物から選択し、そして該
方法を液相で行う場合には該希釈剤を芳香族化合物、脂肪族アルコール類、塩素
化脂肪族アルカノール類、ならびに液体のポリエーテル類、ポリアルコール類、
およびポリエステル類から選択する請求項８記載の方法。
【請求項１０】オレフィン、酸素、水素、及び任意の希釈剤の総モル数を
基準にして、０モルパーセントを上回り、かつ９０モルパーセントを下回る量で
該希釈剤を使用する請求項１記載の方法。
【請求項１１】該銀を、０．０１重量パーセントを上回り、かつ２０重量
パーセントを下回る量で該担体上に添加される請求項１記載の方法。
【請求項１２】使用前に該触媒を酸素中でか焼し、そして還元されていな
い請求項１記載の方法。
【請求項１３】該触媒がさらに促進剤元素を含む請求項１記載の方法。
【請求項１４】該促進剤元素が、第１族、第２族、亜鉛、カドミウム、白
金族金属、ランタニド希土類、アクチニド類、およびこれらの混合物からなる群
から選ばれる請求項１３記載の方法。
【請求項１５】該促進剤元素が、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セ
シウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、パラジウム、白金、ロジウム、
イリジウム、エルビウム、ルテチウム、及びこれらの混合物からなる群から選ば
れる請求項１３記載の方法。
【請求項１６】該促進剤元素が白金族元素の場合に、使用前に該触媒をか
焼し、そして還元されていない請求項１３記載の方法。
【請求項１７】該触媒が、少なくとも１種の第１族元素と、第２族元素お
よび／またはランタニド元素との組合せを含む請求項１３記載の方法。
【請求項１８】該促進剤添加量が、該触媒の総重量を基準にして約１００
万分の１部（１ｐｐｍ）を上回り、かつ約４０重量パーセントを下回る請求項１
３記載の方法。
【請求項１９】該促進剤元素が白金族元素の場合に、該促進剤添加量が該
触媒の総重量を基準にして約１ｐｐｍを上回り、かつ約１重量パーセントを下回
る請求項１３記載の方法。
【請求項２０】該触媒がさらに金を含む請求項１記載の方法。
【請求項２１】該金添加量が、該触媒の総重量を基準にして０重量パーセ
ントを上回り、かつ２０重量パーセントを下回る請求項２０記載の方法。
【請求項２２】該チタンが二酸化チタンまたは、シリカもしくはアルミナ
もしくはアルミノシリケートに担持された二酸化チタンの形をなす請求項１記載
の方法。
【請求項２３】該二酸化チタンがアナタースまたはルチルである請求項２
２記載の方法。
【請求項２４】該チタンがチタノシリケートの形をなす請求項１記載の方
法。
【請求項２５】該チタノシリケートが多孔性である請求項２４記載の方法
。
【請求項２６】該多孔性チタノシリケートが、４Åから５００Åの範囲の
細孔を有するミクロ細孔性またはメソ細孔性のチタノシリケートである請求項２
５記載の方法。
【請求項２７】該チタノシリケートがＴＳ−１、ＴＳ−２、Ｔｉ−ベータ
、Ｔｉ−ＺＳＭ−１２、Ｔｉ−ＺＳＭ−４８、またはＴｉ−ＭＣＭ−４１である
請求項２６記載の方法。
【請求項２８】該チタンが二酸化チタンと多孔性チタノシリケートとの混
合物の形をなす請求項１記載の方法。
【請求項２９】該チタンが促進剤金属チタネートの形をなす請求項１記載
の方法。
【請求項３０】該促進剤金属チタネートがマグネシウムチタネート、カル
シウムチタネート、バリウムチタネート、ストロンチウムチタネート、ナトリウ
ムチタネート、カリウムチタネート、エルビウムチタネート、ルテチウムチタネ
ート、トリウムチタネート、またはウラニウムチタネートである請求項２９記載
の方法。
【請求項３１】該チタンが担体上に分散されたチタンの形をなす請求項１
記載の方法。
【請求項３２】該チタンがシリカまたはアルミナまたはアルミノシリケー
ト上に分散されている請求項３１記載の方法。
【請求項３３】該チタンが促進剤金属シリケート上に分散されたチタンの
形をなす請求項３１記載の方法。
【請求項３４】該チタンは、その成分が二酸化チタン、シリカ上の二酸化
チタン、チタノシリケート、促進剤金属チタネート、およびシリカ上に分散され
たチタン、および促進剤金属シリケート上に分散されたチタンから選ばれる混合
物の形をなす請求項１記載の方法。
【請求項３５】該方法が２０℃を上回り、かつ２５０℃を下回る温度で行
われる請求項１記載の方法。
【請求項３６】該方法が大気圧から４００ｐｓｉｇ（２７５８ｋＰａ）の
圧力で行われる請求項１記載の方法。
【請求項３７】該方法が気相において、１，０００ｈ^-1を上回り、かつ２
０，０００ｈ^-1を下回る該オレフィンの気体空間速度（毎時）で行われる請求項
１記載の方法。
【請求項３８】該方法が液相において、０．１ｈ^-1を上回り、かつ２０ｈ ^-1 を下回る該オレフィンの重量空間速度（毎時）で行われる請求項１記載の方法
。
【請求項３９】該反応器が、輸送層、移動層、流動層、連続流式、間欠流
式、トリクルベッド式、多管式、およびスイング式反応器から選ばれる請求項１
記載の方法。
【請求項４０】該オレフィン転化率が０．０２モルパーセントを上回り、
そしてオレフィンオキシドに対する選択性が７５モルパーセントを上回る請求項
１記載の方法。
【請求項４１】該触媒組成物が周期表の第８族金属を除外する請求項１ま
たは１３記載の方法。
【請求項４２】気相において、水素及び任意の希釈剤の存在下ならびにチ
タン、銀、任意に金、および任意に周期表の第１族、第２族、亜鉛、カドミウム
、白金族金属、ランタニド希土類、およびアクチニド類およびこれらの混合物か
ら選ばれる少なくとも１種の促進剤元素を含む触媒の存在下で、プロピレンを酸
素と接触させることを含むプロピレンオキシドの調製法（ただし金または白金族
金属が存在するときには、使用前に該触媒をか焼するものとし、かつ該プロピレ
ンと該酸素との接触は２０℃を上回り、かつ２５０℃を下回る温度において行う
ものとする）。
【請求項４３】該プロピレン量が１０モルパーセントを上回り、かつ７０
モルパーセントを下回る請求項４２記載の方法。
【請求項４４】該酸素量が、プロピレン、酸素、水素、及び任意の希釈剤
の総モル数を基準にして、０．０１モルパーセントを上回り、かつ２０モルパー
セントを下回る請求項４２記載の方法。
【請求項４５】該水素量が、プロピレン、酸素、水素、及び任意の希釈剤
の総モル数を基準にして、０．０１モルパーセントを上回り、かつ５０モルパー
セントを下回る請求項４２記載の方法。
【請求項４６】該希釈剤量が、プロピレン、酸素、水素、及び任意の希釈
剤の総モル数を基準にして、１５モルパーセントを上回り、かつ７０モルパーセ
ントを下回る請求項４２記載の方法。
【請求項４７】該プロピレン転化率が０．１０モルパーセントを上回り、
そしてプロピレンオキシドに対する選択性が９０モルパーセントを上回る請求項
４２記載の方法。
【請求項４８】銀、元素周期表の第１族、第２族、亜鉛、カドミウム、白
金族金属、ランタニド希土類、およびアクチニド類ならびにこれらの混合物から
選ばれる少なくとも１種の促進剤元素を含み、さらにチタン含有担体を含む触媒
組成物。
【請求項４９】該銀が、該触媒の総重量を基準にして、０．０１重量パー
セントを上回り、かつ２０重量パーセントを下回る量で存在する請求項４８記載
の組成物。
【請求項５０】該促進剤元素が、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セ
シウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、エルビウム、ルテチウム、パラ
ジウム、白金、イリジウム、及びロジウム、ならびにこれらの混合物から選ばれ
る請求項４８記載の組成物。
【請求項５１】該チタンが二酸化チタンまたは担持二酸化チタンの形をな
す請求項４８記載の組成物。
【請求項５２】該二酸化チタンがアナタース相をなす請求項５１記載の組
成物。
【請求項５３】該チタンがチタノシリケートの形をなす請求項４８記載の
組成物。
【請求項５４】該チタノシリケートが、４Åから５００Åの範囲の細孔を
有する多孔性チタノシリケートである請求項５３記載の組成物。
【請求項５５】該多孔性チタノシリケートがＴＳ−１、ＴＳ−２、Ｔｉ−
ベータ、Ｔｉ−ＺＳＭ−１２、Ｔｉ−ＺＳＭ−４８、またはＴｉ−ＭＣＭ−４１
である請求項５４記載の組成物。
【請求項５６】該チタンがシリカ上に分散されたチタンの形をなす請求項
４８記載の組成物。
【請求項５７】該組成物が第８族金属を実質的に含まない請求項４８記載
の組成物。
【請求項５８】該促進剤元素の濃度が、該触媒組成物の総重量を基準にし
て、１ｐｐｍから４０重量パーセントにわたる請求項４８記載の組成物。
【請求項５９】白金族金属が促進剤として存在する場合に、該白金族金属
の濃度が、該触媒組成物の総重量を基準にして、１ｐｐｍから１重量パーセント
未満にわたる請求項４８記載の組成物。
【請求項６０】使用前にか燒されるが、還元されない請求項４８記載の組
成物。
【請求項６１】該促進剤元素が白金族元素であり、そして使用前に該触媒
はか燒されるが、還元されない請求項４８記載の組成物。
【請求項６２】該触媒がさらに金を含む請求項４８ないし６１のいずれか
１つの項記載の組成物。
【請求項６３】該金添加量が、該触媒の総重量を基準にして、０重量パー
セントを超え、かつ２０重量パーセント未満にわたる請求項４８ないし６２のい
ずれか１つの項記載の組成物。
【請求項６４】酸素および任意に不活性ガスを含有する再生ガスの存在下
で、該不活性化触媒を１５０℃から５００℃の温度に加熱することを含む請求項
４８ないし６３のいずれか１つの項記載の組成物の再生法。
【請求項６５】該再生ガス中の酸素の濃度が２から１００モルパーセント
にわたる請求項６４記載の再生法。
【請求項６６】水を該再生ガスに加える請求項６４記載の方法。
【請求項６７】水の存在下で該不活性化触媒を１５０℃から５００℃の温
度に加熱することを含む請求項４８ないし６３のいずれか１つの項記載の組成物
の再生法。
【請求項６８】銀、金、およびチタン含有担体を含む組成物。
【請求項６９】該銀が、該触媒の総重量を基準にして、０．０１重量パー
セントを上回り、かつ２０重量パーセントを下回る量で存在する請求項６８記載
の組成物。
【請求項７０】該金が、該触媒の総重量を基準にして、０重量パーセント
を上回り、かつ２０重量パーセントを下回る量で存在する請求項６８記載の組成
物。
【請求項７１】該組成物が周期表の第８族金属を除外する請求項６８記載
の組成物。