JP2002531282A - 被覆の改良 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
基材、例えばプレートまたは触媒モノリスを、基材を高分子電解質で処理して被覆を形成し、そして水溶性スラリーから金属酸化物の被覆を堆積することによって、金属酸化物、特にゼオライトで被覆することができる。連続的被覆、ここで複数の層を包含することのできるもの、を容易に形成することができる。実施例においてポリアクリルアミドを高分子電解質として用いる。
Description
【０００１】 本発明は、被覆の改良、特に、金属酸化物およびそれと同様のものを金属また
は非金属基材上に被覆する方法における改良に関する。
は非金属基材上に被覆する方法における改良に関する。
【０００２】 金属酸化物、例えばアルミナ、セリア、ジルコニア等を、単一または混合酸化
物として、金属基材およびセラミック、例えば排気ガス触媒において大量に使用
されているハニカムスルーフロー触媒支持体上に被覆することは非常に確立され
ている。一般的に、このことは、金属酸化物を付着調整剤、例えばLudox（商品
名）シリカ、を包含する適切な成分を伴う水溶性スラリーの中で混合し、ウォッ
シュコートスラリーを形成することによって達成される。その後、この基材を前
記スラリーの中に漬け、または浸し、そして加熱して前記触媒に高い表面積のベ
ースを付与する。このシリカは、このスラリーの固形分の５０ｗｔ％以上を形成
でき、明らかにこれによって前記触媒金属と酸化物との間の相互作用は弱まり、
このことは非常に重要である。約２０〜３０年の間、これらの被覆技術における
重大な改良はなされていないが、排気ガス触媒の設計はより精巧に、また困難に
なってきており、新しい成分、例えばゼオライトや他の多層を包含する必要がで
てきている。従来の被覆方法は新しい要件を扱いにくく、特に、従来の被覆方法
は多層被覆において問題が生じる、と我々は確信している。
物として、金属基材およびセラミック、例えば排気ガス触媒において大量に使用
されているハニカムスルーフロー触媒支持体上に被覆することは非常に確立され
ている。一般的に、このことは、金属酸化物を付着調整剤、例えばLudox（商品
名）シリカ、を包含する適切な成分を伴う水溶性スラリーの中で混合し、ウォッ
シュコートスラリーを形成することによって達成される。その後、この基材を前
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ースを付与する。このシリカは、このスラリーの固形分の５０ｗｔ％以上を形成
でき、明らかにこれによって前記触媒金属と酸化物との間の相互作用は弱まり、
このことは非常に重要である。約２０〜３０年の間、これらの被覆技術における
重大な改良はなされていないが、排気ガス触媒の設計はより精巧に、また困難に
なってきており、新しい成分、例えばゼオライトや他の多層を包含する必要がで
てきている。従来の被覆方法は新しい要件を扱いにくく、特に、従来の被覆方法
は多層被覆において問題が生じる、と我々は確信している。
【０００３】 我々は、以前、触媒粒子等をその場で同時に形成されたゼオライトで被覆する
という、高分子電解質の使用を開示した（ヨーロッパ特許第８７８２２３号参照
）。我々は、今回、ゼオライトやそれと同様のものを包含する、１以上の予備形
成された金属酸化物が前記基材上に堆積するという工程において、以前のように
その場でゼオライトを形成することなく、高分子電解質を金属とセラミック基材
とを前処理することに用いることができること、および、付着調整剤を用いて弱
めることが要求されることのみならず（しかし、そのような付着調整剤を包含す
ることがあってもよい）、この被覆が、同様のまたは異なるタイプの被覆をさら
に堆積することにもまた特に適していることを見出した。
という、高分子電解質の使用を開示した（ヨーロッパ特許第８７８２２３号参照
）。我々は、今回、ゼオライトやそれと同様のものを包含する、１以上の予備形
成された金属酸化物が前記基材上に堆積するという工程において、以前のように
その場でゼオライトを形成することなく、高分子電解質を金属とセラミック基材
とを前処理することに用いることができること、および、付着調整剤を用いて弱
めることが要求されることのみならず（しかし、そのような付着調整剤を包含す
ることがあってもよい）、この被覆が、同様のまたは異なるタイプの被覆をさら
に堆積することにもまた特に適していることを見出した。
【０００４】 したがって、本発明は、基材上に金属酸化物被覆を堆積する方法であって、前
記基材の表面を高分子電解質で処理して、その上に高分子電解質の被覆表面を付
与してなり、かつ、その後にまたはそれと同時に、この被覆した表面を、金属酸
化物粒子を含んでなる水溶性スラリーで処理することを含んでなる方法を提供す
る。必要があれば、同一または異なる金属酸化物の層をさらに塗布し、その金属
酸化物の添加量を増加するか若しくは多層被覆を形成することができる。
記基材の表面を高分子電解質で処理して、その上に高分子電解質の被覆表面を付
与してなり、かつ、その後にまたはそれと同時に、この被覆した表面を、金属酸
化物粒子を含んでなる水溶性スラリーで処理することを含んでなる方法を提供す
る。必要があれば、同一または異なる金属酸化物の層をさらに塗布し、その金属
酸化物の添加量を増加するか若しくは多層被覆を形成することができる。
【０００５】 望ましくは、前記高分子電解質を水溶液の形態で、例えば０．０１〜２０ｗｔ
％溶液の形態で、下記に具体的に記載された材料の場合には４ｗｔ％で、塗布さ
れれば十分満足されうることが見出された。高分子電解質は、いくつかの適切な
高分子電解質、例えば、アニオン性またはカチオン性であってもよいが、ポリア
クリルアミド、例えばAllied Colloids Ltd, England製Alcostat（商品名）１６
７が好適である。他のポリアクリルアミドも考慮に入れることができる。このよ
うな材料のためには、溶液はアルカリ性で、例えば約ｐＨ９が望ましい。各基材
および高分子電解質用の溶液のｐＨを最適化するために通常の試験が行なわれる
べきであり、また、主に基材の表面化学によって、酸性またはアルカリ性であっ
てよい。この基材の処理は、スプレー、浸漬、真空塗布、「落水」を用いた浸水
等を包含する、いかなる適切な方法であってよく、そして室温において行うこと
ができる。望ましくは、この高分子電解質を乾燥し、連続的表面ポリマー層を形
成する。
％溶液の形態で、下記に具体的に記載された材料の場合には４ｗｔ％で、塗布さ
れれば十分満足されうることが見出された。高分子電解質は、いくつかの適切な
高分子電解質、例えば、アニオン性またはカチオン性であってもよいが、ポリア
クリルアミド、例えばAllied Colloids Ltd, England製Alcostat（商品名）１６
７が好適である。他のポリアクリルアミドも考慮に入れることができる。このよ
うな材料のためには、溶液はアルカリ性で、例えば約ｐＨ９が望ましい。各基材
および高分子電解質用の溶液のｐＨを最適化するために通常の試験が行なわれる
べきであり、また、主に基材の表面化学によって、酸性またはアルカリ性であっ
てよい。この基材の処理は、スプレー、浸漬、真空塗布、「落水」を用いた浸水
等を包含する、いかなる適切な方法であってよく、そして室温において行うこと
ができる。望ましくは、この高分子電解質を乾燥し、連続的表面ポリマー層を形
成する。
【０００６】 前記基材は、特にハニカムスルーフロー触媒支持材を包含する、いかなる形状
の、いかなる金属またはセラミック材料であってよいが、固定ミキサーとして知
られる型の装置でもあってもよく、この固定ミキサーは良質のガスまたは他の流
動性混合物を提供する。この金属は、例えば「（フェクラロイ）Fecralloy」ま
たはアルミニウムを包含する、ステンレス鋼であることができ、また、このセラ
ミックはコーディエライト等であることができる。酸化物被覆を必要とするかま
たはそれで保護されるであろう、他の基材もまた考慮されるべきである。
の、いかなる金属またはセラミック材料であってよいが、固定ミキサーとして知
られる型の装置でもあってもよく、この固定ミキサーは良質のガスまたは他の流
動性混合物を提供する。この金属は、例えば「（フェクラロイ）Fecralloy」ま
たはアルミニウムを包含する、ステンレス鋼であることができ、また、このセラ
ミックはコーディエライト等であることができる。酸化物被覆を必要とするかま
たはそれで保護されるであろう、他の基材もまた考慮されるべきである。
【０００７】 金属酸化物という用語は、全てのタイプのゼオライトおよびＳｉとＡｌの比率
があらゆる場合におけるゼオライトを包含し、また、「シリケート」および最近
入手可能になったゼオライト型組成物に加えて、変性ゼオライト、例えばイオン
交換性ゼオライト、を包含する。このゼオライト型組成物において、Ｇａおよび
Ｉｎまたは他の適切な金属はゼオライト骨組構造並びに単一若しくは混合酸化物
、例えば、セリア、ジルコニア、マグネシア、アルミナおよびシリカから選択さ
れた１以上のもの、の中に包含されている。この金属酸化物は、望ましくは、水
溶性スラリーの形態、例えば適切な粒子サイズをもつ粒子の固形分が約４０ｗｔ
％のスラリー、である。必要があれば、この金属酸化物を摩砕して金属酸化物に
分散する伴に、大きさを小さくしてもよい。このスラリーは、付着調整剤を包含
する必要はないが、包含することができ、また、触媒的に活性のある粒子および
触媒的に活性のある金属および／またはそれらの促進剤の溶液を包含する他の成
分を包含することができる。
があらゆる場合におけるゼオライトを包含し、また、「シリケート」および最近
入手可能になったゼオライト型組成物に加えて、変性ゼオライト、例えばイオン
交換性ゼオライト、を包含する。このゼオライト型組成物において、Ｇａおよび
Ｉｎまたは他の適切な金属はゼオライト骨組構造並びに単一若しくは混合酸化物
、例えば、セリア、ジルコニア、マグネシア、アルミナおよびシリカから選択さ
れた１以上のもの、の中に包含されている。この金属酸化物は、望ましくは、水
溶性スラリーの形態、例えば適切な粒子サイズをもつ粒子の固形分が約４０ｗｔ
％のスラリー、である。必要があれば、この金属酸化物を摩砕して金属酸化物に
分散する伴に、大きさを小さくしてもよい。このスラリーは、付着調整剤を包含
する必要はないが、包含することができ、また、触媒的に活性のある粒子および
触媒的に活性のある金属および／またはそれらの促進剤の溶液を包含する他の成
分を包含することができる。
【０００８】 その後、このスラリーを、いずれかの方法によって、適切に高分子電解質被覆
基材に塗布し、そして適切に乾燥する。最終段階は、望ましくは、加熱または焼
成とし、この酸化物被覆をしっかりと基材上に堆積する。しかしながら、最終的
な加熱の前に、酸化物および／または他の成分のスラリーをさらに堆積すること
ができ、その結果、連続的な若しくはより厚い被覆、または一連の多成分被覆と
してもよい。要望があれば、または必要があれば、高分子電解質層をさらに塗布
することができ、また、１以上の追加の金属酸化物または他の被覆を塗布しても
よい。
基材に塗布し、そして適切に乾燥する。最終段階は、望ましくは、加熱または焼
成とし、この酸化物被覆をしっかりと基材上に堆積する。しかしながら、最終的
な加熱の前に、酸化物および／または他の成分のスラリーをさらに堆積すること
ができ、その結果、連続的な若しくはより厚い被覆、または一連の多成分被覆と
してもよい。要望があれば、または必要があれば、高分子電解質層をさらに塗布
することができ、また、１以上の追加の金属酸化物または他の被覆を塗布しても
よい。
【０００９】 他の実施態様においては、独立した予備被覆工程を経ずに、この高分子電解質
を前記スラリーと混合している。その他の点では、その工程および材料に関する
考察は非常に類似している。この実施態様は、薄くて均一の被覆を堆積すること
に特に適していると考えられている。
を前記スラリーと混合している。その他の点では、その工程および材料に関する
考察は非常に類似している。この実施態様は、薄くて均一の被覆を堆積すること
に特に適していると考えられている。
【００１０】 我々はいかなる理論にも拘泥しないが、この高分子電解質は前記基材上での働
きを逆転する作用を及ぼす、つまり前記スラリー粒子を堅固に付着させるものと
、確信しており、および、我々は二番目の被覆が堆積する上で、この高分子電解
質は「再活性」し、そしてこの二番目の被覆に優れた付着性を生じさせるのに役
立つものと、確信している。
きを逆転する作用を及ぼす、つまり前記スラリー粒子を堅固に付着させるものと
、確信しており、および、我々は二番目の被覆が堆積する上で、この高分子電解
質は「再活性」し、そしてこの二番目の被覆に優れた付着性を生じさせるのに役
立つものと、確信している。
【００１１】 本発明は、以前は被覆することが困難であった基材上に良質な被覆を施すこと
で意義のある、および予測し得ない効果を付与し、かつ、特に、堅固で付着性の
ある、２層または多層被覆を可能にすると確信されている。
で意義のある、および予測し得ない効果を付与し、かつ、特に、堅固で付着性の
ある、２層または多層被覆を可能にすると確信されている。
【００１２】
本発明を下記の実施例によって説明する。
【００１３】 例１ アルミニウムのプレートをｐＨ９の４ｗｔ％ポリアクリルアミド水溶液に浸す
。その後、この湿ったプレートを乾燥して高分子電解質の表面被覆を薄く残す。
この被覆したプレートを、排気ガス触媒産業において使用されているような、４
０ｗｔ％ゼオライトを含有し、ｐＨを８〜９に調整した標準ゼオライトｘ、ｙウ
ォッシコートスラリーの中に漬ける。このウォッシコートは前記プレートに付着
し、この被覆したプレートを除去して１００℃において３０分間乾燥する。その
後、さらにもう１つの同一のウォッシコート層を被覆し、所望の厚さを堆積した
。そして、この被覆した金属プレートを４００℃において２時間焼成し、これに
より高分子電解質残渣を除去する。このようにして被覆したプレート（「Ａ」）
の写真を添付の図面のページに示す。比較として、その後、それと同一の工程を
この高分子電解質処理をせずに行った。最初の被覆は良好で均一であるようであ
ったが、二番目の被覆によって、結合された被覆は激しく剥がれた。この被覆し
たプレートの写真を図面中に「Ｂ」として示す。明らかに、本発明が均一で連続
的な被覆を可能にすることがわかるが、高分子電解質がない二重被覆は、この被
覆のフレーキング、およびむらのある不連続な被覆の原因となる。
。その後、この湿ったプレートを乾燥して高分子電解質の表面被覆を薄く残す。
この被覆したプレートを、排気ガス触媒産業において使用されているような、４
０ｗｔ％ゼオライトを含有し、ｐＨを８〜９に調整した標準ゼオライトｘ、ｙウ
ォッシコートスラリーの中に漬ける。このウォッシコートは前記プレートに付着
し、この被覆したプレートを除去して１００℃において３０分間乾燥する。その
後、さらにもう１つの同一のウォッシコート層を被覆し、所望の厚さを堆積した
。そして、この被覆した金属プレートを４００℃において２時間焼成し、これに
より高分子電解質残渣を除去する。このようにして被覆したプレート（「Ａ」）
の写真を添付の図面のページに示す。比較として、その後、それと同一の工程を
この高分子電解質処理をせずに行った。最初の被覆は良好で均一であるようであ
ったが、二番目の被覆によって、結合された被覆は激しく剥がれた。この被覆し
たプレートの写真を図面中に「Ｂ」として示す。明らかに、本発明が均一で連続
的な被覆を可能にすることがわかるが、高分子電解質がない二重被覆は、この被
覆のフレーキング、およびむらのある不連続な被覆の原因となる。
【００１４】 上記の例は１００％ゼオライト被覆を利用しているが、他の良好な被覆は、５
０ｗｔ％「Ludox」シリカ付着調整剤、若しくは他の割合のもの、を塗布するこ
とができる。
０ｗｔ％「Ludox」シリカ付着調整剤、若しくは他の割合のもの、を塗布するこ
とができる。
【００１５】 例２ アルミニウムシート上のゼオライト１３Ｘ アルミニウムシートを、高分子電解質水溶液（Allied Colloids BLO6272AQ/Al
costat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜１０）を用いてゼオライト１３Ｘ（Zeo
lyst Int.）で被覆した。このアルミニウムプレートを２００℃で加熱した後、
１５％硫酸溶液中で陽極処理した。その後、このプレートを薄い高分子電解質層
で被覆し、そして約５ｉｎ２（３２ｃｍ２）の表面上に、総計０．５７ｇの増量
を伴って、ゼオライト１３Ｘを連続的に４段階塗布した。これは、以前の実験に
おいて達成することができたよりも、添加量が３倍以上改良されたことを表した
。この３段階と４段階の間で、高分子電解質の二番目の層が必要であった。最後
に、このシートを３００℃において焼成し、高分子電解質を焼き落とした。
costat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜１０）を用いてゼオライト１３Ｘ（Zeo
lyst Int.）で被覆した。このアルミニウムプレートを２００℃で加熱した後、
１５％硫酸溶液中で陽極処理した。その後、このプレートを薄い高分子電解質層
で被覆し、そして約５ｉｎ２（３２ｃｍ２）の表面上に、総計０．５７ｇの増量
を伴って、ゼオライト１３Ｘを連続的に４段階塗布した。これは、以前の実験に
おいて達成することができたよりも、添加量が３倍以上改良されたことを表した
。この３段階と４段階の間で、高分子電解質の二番目の層が必要であった。最後
に、このシートを３００℃において焼成し、高分子電解質を焼き落とした。
【００１６】 例３ アルミニウムモノリス上のゼオライト１３Ｘ 異なるセル密度をもつ２つのアルミニウムハニカムモノリス（１平方インチあ
たり４００セルおよび２００セル）を、高分子電解質水溶液（Allied Colloids
BLO6272AQ/Alcostat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜１０）を用いてゼオライ
ト１３Ｘで被覆した。非常に低い比率のバインダー（５％未満）を伴って、ゼオ
ライト１３Ｘを連続的に１４回塗布する中で、この４００および２００ｃｐｓｉ
モノリスはそれぞれ２．７および３．２ｇ／ｉｎ３の被覆に達成した。高分子電
解質層を最初の段階および１１番目と１３番目の段階の間に塗布した。
たり４００セルおよび２００セル）を、高分子電解質水溶液（Allied Colloids
BLO6272AQ/Alcostat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜１０）を用いてゼオライ
ト１３Ｘで被覆した。非常に低い比率のバインダー（５％未満）を伴って、ゼオ
ライト１３Ｘを連続的に１４回塗布する中で、この４００および２００ｃｐｓｉ
モノリスはそれぞれ２．７および３．２ｇ／ｉｎ３の被覆に達成した。高分子電
解質層を最初の段階および１１番目と１３番目の段階の間に塗布した。
【００１７】 例４ アルミニウムシート上のゼオライトＹ アルミニウムシートを、高分子電解質水溶液（Allied Colloids BLO6272AQ/Al
costat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜１０）を用いてゼオライトＹ（Zeolyst
Int.）で被覆した。このアルミニウムプレートを薄い高分子電解質層で被覆し
、その後、約１．５５ｉｎ２（１０ｃｍ２）の表面上に、総計０．８１ｇの増量
を伴って、ゼオライトＹを連続的に３段階塗布した。高分子電解質を有しないゼ
オライトを用いての先の試験において、この被覆は２回塗布した後に完全に崩壊
し剥がれ落ちることを示した。
costat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜１０）を用いてゼオライトＹ（Zeolyst
Int.）で被覆した。このアルミニウムプレートを薄い高分子電解質層で被覆し
、その後、約１．５５ｉｎ２（１０ｃｍ２）の表面上に、総計０．８１ｇの増量
を伴って、ゼオライトＹを連続的に３段階塗布した。高分子電解質を有しないゼ
オライトを用いての先の試験において、この被覆は２回塗布した後に完全に崩壊
し剥がれ落ちることを示した。
【００１８】 例５ アルミニウムモノリス上のゼオライトＹ ２００ｃｐｓｉセル密度のアルミニウムハニカムモノリスを、高分子電解質水
溶液（Allied Colloids BLO6272AQ/Alcostat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜
１０）を用いてゼオライトＹで被覆した。高分子電解質層を最初の段階の前に塗
布した。連続的に７回塗布する中で、このモノリスは４．２ｇ／ｉｎ３のゼオラ
イトＹ被覆に達成した。
溶液（Allied Colloids BLO6272AQ/Alcostat167,SD no0004568 ５％、ｐＨ９〜
１０）を用いてゼオライトＹで被覆した。高分子電解質層を最初の段階の前に塗
布した。連続的に７回塗布する中で、このモノリスは４．２ｇ／ｉｎ３のゼオラ
イトＹ被覆に達成した。
【００１９】 例６ 「フェクラロイ（Fecralloy）」固定ミキサー上のゼオライト４Ａ 「フェクラロイ」金属製固定ミキサー（Sulzerより入手可能）を１時間、９０
０℃にまで予備加熱し、ｐＨ９の５ｗｔ％Alcostat167高分子電解質溶液（Allie
d Colloids Ltd)の中に浸した。その後、この湿ったミキサーを乾燥して、薄い
高分子電解質表面被覆を残す。そして、このミキサーを、５ｗｔ％白金を伴う３
５ｗｔ％ゼオライト４Ａおよび２ｗｔ％Ludoz Silica(DuPont)を含有するスラリ
ーの中に浸す。この被覆したミキサーに８０ｐｓｉの窒素を吹きかけることによ
って、過剰なゼオライトを除去する。これは、ミキサー中の塞がれたチャンネル
を貫通することに役立つ。その後、この被覆したミキサーを１２０℃において８
時間乾燥し、５００℃において２時間焼成する。この焼成工程により、前記高分
子電解質層は焼け落ち、ゼオライト被覆が無傷のまま残る。この場合、それは、
このミキサー中における、被覆密度３．１ｇｉｎｃｈ−３の厚いゼオライト層と
なる。
０℃にまで予備加熱し、ｐＨ９の５ｗｔ％Alcostat167高分子電解質溶液（Allie
d Colloids Ltd)の中に浸した。その後、この湿ったミキサーを乾燥して、薄い
高分子電解質表面被覆を残す。そして、このミキサーを、５ｗｔ％白金を伴う３
５ｗｔ％ゼオライト４Ａおよび２ｗｔ％Ludoz Silica(DuPont)を含有するスラリ
ーの中に浸す。この被覆したミキサーに８０ｐｓｉの窒素を吹きかけることによ
って、過剰なゼオライトを除去する。これは、ミキサー中の塞がれたチャンネル
を貫通することに役立つ。その後、この被覆したミキサーを１２０℃において８
時間乾燥し、５００℃において２時間焼成する。この焼成工程により、前記高分
子電解質層は焼け落ち、ゼオライト被覆が無傷のまま残る。この場合、それは、
このミキサー中における、被覆密度３．１ｇｉｎｃｈ−３の厚いゼオライト層と
なる。
【００２０】 例７ 「Fecralloy」固定ミキサー上のアルミナ系触媒 例６におけるものと同じ方法を用い、固定ミキサーをアルミナ触媒上において
Ｐｔ５％、Ｆｅ０．１％で被覆した。この触媒を７％の分散バインダー（Condea
）と混合し、３５ｗｔ％水溶性ウォッシコートにした。得られた被覆は、優れた
付着性と完全性を有することを確認した。３．７ｇｉｎｃｈ−３の被覆密度を達
成した。
Ｐｔ５％、Ｆｅ０．１％で被覆した。この触媒を７％の分散バインダー（Condea
）と混合し、３５ｗｔ％水溶性ウォッシコートにした。得られた被覆は、優れた
付着性と完全性を有することを確認した。３．７ｇｉｎｃｈ−３の被覆密度を達
成した。
【００２１】 例８ セラミックモノリス上のゼオライトＨ−ＺＳＭ−５ 従来のコーディエライトモノリスを、例３の技術を用いて、Ｈ−ＺＳＭ−５合
成ゼオライトで完全に被覆した。この試験を、ゼオライトとコロイドシリカバイ
ンダーの混合物を用いて完全に繰り返した。
成ゼオライトで完全に被覆した。この試験を、ゼオライトとコロイドシリカバイ
ンダーの混合物を用いて完全に繰り返した。
【００２２】 本発明は、その範囲からはずれることなく、当業者により改変されてもよい。
【図１】 図１は、本発明の方法によって被覆したプレートの写真「Ａ」と、比較例の被
覆したプレートの写真「Ｂ」とを示したものである。
覆したプレートの写真「Ｂ」とを示したものである。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年１１月７日（２０００．１１．７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】 我々は、以前、触媒粒子等をその場で同時に形成されたゼオライトで被覆する
という、高分子電解質の使用を開示した（ヨーロッパ特許第８７８２２３号参照
）。我々は、今回、ゼオライトやそれと同様のものを包含する、１以上の予備形
成された金属酸化物が前記基材上に堆積するという工程において、以前のように
その場でゼオライトを形成することなく、高分子電解質を金属とセラミック基材
とを前処理することに用いることができること、および、付着調整剤を用いて弱
めることが要求されることのみならず（しかし、そのような付着調整剤を包含す
ることがあってもよい）、この被覆が、同様のまたは異なるタイプの被覆をさら
に堆積することにもまた特に適していることを見出した。 ＵＳ４８０６４２７号公報は、高分子電解質が酸安定性液体として０．２−１
．０重量％で添加されてなる、担体の上に触媒活性材料を堆積する方法を開示し
ている。ＤＥ２３００９３２号公報はポリエステル樹脂基材にポリアクリルアミ
ドとポリビニールアルコールの接着剤を被覆することを開示している。
という、高分子電解質の使用を開示した（ヨーロッパ特許第８７８２２３号参照
）。我々は、今回、ゼオライトやそれと同様のものを包含する、１以上の予備形
成された金属酸化物が前記基材上に堆積するという工程において、以前のように
その場でゼオライトを形成することなく、高分子電解質を金属とセラミック基材
とを前処理することに用いることができること、および、付着調整剤を用いて弱
めることが要求されることのみならず（しかし、そのような付着調整剤を包含す
ることがあってもよい）、この被覆が、同様のまたは異なるタイプの被覆をさら
に堆積することにもまた特に適していることを見出した。 ＵＳ４８０６４２７号公報は、高分子電解質が酸安定性液体として０．２−１
．０重量％で添加されてなる、担体の上に触媒活性材料を堆積する方法を開示し
ている。ＤＥ２３００９３２号公報はポリエステル樹脂基材にポリアクリルアミ
ドとポリビニールアルコールの接着剤を被覆することを開示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】 前記基材は、特にハニカムスルーフロー触媒支持材を包含する、例えばプレー
ト形状またはモノリス形状のいかなる形状で、いかなる金属またはセラミック材
料であってよいが、固定ミキサーとして知られる型の装置でもあってもよく、こ
の固定ミキサーは良質のガスまたは他の流動性混合物を提供する。この金属は、
例えば「（フェクラロイ）Fecralloy」またはアルミニウムを包含する、ステン
レス鋼であることができ、また、このセラミックはコーディエライト等であるこ
とができる。酸化物被覆を必要とするかまたはそれで保護されるであろう、他の
基材もまた考慮されるべきである。
ト形状またはモノリス形状のいかなる形状で、いかなる金属またはセラミック材
料であってよいが、固定ミキサーとして知られる型の装置でもあってもよく、こ
の固定ミキサーは良質のガスまたは他の流動性混合物を提供する。この金属は、
例えば「（フェクラロイ）Fecralloy」またはアルミニウムを包含する、ステン
レス鋼であることができ、また、このセラミックはコーディエライト等であるこ
とができる。酸化物被覆を必要とするかまたはそれで保護されるであろう、他の
基材もまた考慮されるべきである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】 金属酸化物という用語は、全てのタイプのゼオライトおよびＳｉとＡｌの比率
があらゆる場合におけるゼオライトを包含し、また、「シリケート」および最近
入手可能になったゼオライト型組成物に加えて、変性ゼオライト、例えばイオン
交換性ゼオライト、を包含する。このゼオライト型組成物において、Ｇａおよび
Ｉｎまたは他の適切な金属はゼオライト骨組構造並びに単一若しくは混合酸化物
、例えば、セリア、ジルコニア、マグネシア、アルミナおよびシリカから選択さ
れた１以上のもの、の中に包含されている。この金属酸化物は、望ましくは、水
溶性スラリーの形態、例えば適切な粒子サイズをもつ粒子の固形分が約４０ｗｔ
％のスラリー、である。必要があれば、この金属酸化物を摩砕して金属酸化物に
分散する伴に、大きさを小さくしてもよい。このスラリーは、付着調整剤を包含
する必要はないが、包含することができ、また、触媒的に活性のある粒子および
触媒的に活性のある金属および／またはそれらの促進剤の溶液、例えば触媒成分
は１以上の白金属金属であってよいもの、を包含する他の成分を包含することが
できる。
があらゆる場合におけるゼオライトを包含し、また、「シリケート」および最近
入手可能になったゼオライト型組成物に加えて、変性ゼオライト、例えばイオン
交換性ゼオライト、を包含する。このゼオライト型組成物において、Ｇａおよび
Ｉｎまたは他の適切な金属はゼオライト骨組構造並びに単一若しくは混合酸化物
、例えば、セリア、ジルコニア、マグネシア、アルミナおよびシリカから選択さ
れた１以上のもの、の中に包含されている。この金属酸化物は、望ましくは、水
溶性スラリーの形態、例えば適切な粒子サイズをもつ粒子の固形分が約４０ｗｔ
％のスラリー、である。必要があれば、この金属酸化物を摩砕して金属酸化物に
分散する伴に、大きさを小さくしてもよい。このスラリーは、付着調整剤を包含
する必要はないが、包含することができ、また、触媒的に活性のある粒子および
触媒的に活性のある金属および／またはそれらの促進剤の溶液、例えば触媒成分
は１以上の白金属金属であってよいもの、を包含する他の成分を包含することが
できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】 本発明は、以前は被覆することが困難であった基材上に良質な被覆を施すこと
で意義のある、および予測し得ない効果を付与し、かつ、特に、堅固で付着性の
ある、２層または多層被覆を可能にすると確信されている。 本発明の特別な態様（請求項８に記載した通り）によれば、本発明の方法によ
って製造された、金属酸化物で被覆したプレートまたはモノリスを含んでなる支
持された触媒が付与される。
で意義のある、および予測し得ない効果を付与し、かつ、特に、堅固で付着性の
ある、２層または多層被覆を可能にすると確信されている。 本発明の特別な態様（請求項８に記載した通り）によれば、本発明の方法によ
って製造された、金属酸化物で被覆したプレートまたはモノリスを含んでなる支
持された触媒が付与される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 32/00 Ｂ０１Ｊ 32/00 37/02 ３０１ 37/02 ３０１Ｃ ３０１Ｅ Ｂ０５Ｄ 7/14 Ｂ０５Ｄ 7/14 Ｚ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｕ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ， ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，Ｔ Ｍ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 チャンドレッシュ、ネムチャンド、モール ド イギリス国レディング、ケバシャム、ロウ アー、ヘンリー、ロード、37 (72)発明者 マイケル、イアン、ペッチ イギリス国レディング、ウッドレイ、ポー トラッシュ、クロウス、14 Ｆターム(参考） 4D075 AE03 DA06 DA21 DB04 DB07 DB14 DC13 DC16 DC50 EA02 EA06 EA07 EA10 EB05 EB22 EC02 EC03 EC05 EC37 4F100 AA17B AA18B AA20B AA27B AB01A AB10A AB24B AC04B AK01C AK26C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10B CC00B CC00C JL08B JM02B JM02C 4G069 AA01 AA03 AA08 BA01A BA01B BA02A BA02B BA05A BA06A BA07A BA13A BA17 BA18 BA22C BB02A BB02B BB04A BB06A BC43A BC66B BC69A BC75A BC75B BE19C EA11 EA19 FA03 FA04 FA06 FB15 FB17 FC04 ZA01A ZA03A ZA03B ZA04A ZA04B ZA11A ZA11B
Claims (8)
- 【請求項１】 基材上に金属酸化物被覆を堆積する方法であって、 前記基材の表面を高分子電解質で処理して、その上に高分子電解質の被覆表面
を付与してなり、かつ、その後にまたはそれと同時に、この被覆した表面を、金
属酸化物粒子を含んでなる水溶性スラリーで処理することを含んでなる、方法。 - 【請求項２】 前記高分子電解質がポリアクリルアミドである、請求項１に記載の方法。
- 【請求項３】 前記基材がプレート型若しくはモノリス型の金属またはセラミック触媒支持基
材である、請求項１または２に記載の方法。 - 【請求項４】 前記金属酸化物がゼオライトである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方
法。 - 【請求項５】 前記金属酸化物が、アルミナ、シリカ、セリア、ジルコニア、マグネシアおよ
び混合酸化物触媒支持材から選択されたものである、請求項１〜３のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項６】 前記金属酸化物が、触媒成分を包含してなるものである、請求項４または５に
記載の方法。 - 【請求項７】 前記触媒成分が１以上の白金属金属である、請求項６に記載の方法。
- 【請求項８】 金属酸化物で被覆されてなるプレートまたはモノリスを含んでなる、請求項１
〜７のいずれか一項に記載の方法によって製造された、支持された触媒。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9826486.4A GB9826486D0 (en) | 1998-12-03 | 1998-12-03 | Improvements in coatings |
| GB9826486.4 | 1998-12-03 | ||
| PCT/GB1999/003858 WO2000032311A1 (en) | 1998-12-03 | 1999-11-22 | Improvements in coatings |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002531282A true JP2002531282A (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=10843517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000584992A Pending JP2002531282A (ja) | 1998-12-03 | 1999-11-22 | 被覆の改良 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6927189B1 (ja) |
| EP (1) | EP1144117A1 (ja) |
| JP (1) | JP2002531282A (ja) |
| AU (1) | AU1394800A (ja) |
| CA (1) | CA2353585A1 (ja) |
| GB (1) | GB9826486D0 (ja) |
| WO (1) | WO2000032311A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO1999010167A1 (fr) * | 1997-08-27 | 1999-03-04 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Objet enrobe et procede de fabrication de cet objet |
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Cited By (1)
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