JP2002527914A - 可撓性回路応用例の製造方法 - Google Patents

可撓性回路応用例の製造方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、可撓性回路の各々の主面にエッチングまたはめっきされた少なくとも１つの特徴を備える可撓性プリント回路を製造する方法であって、２つの主面を有し、誘電体基板（１０）と、少なくとも１つの導電性基部層（１１）とを備える原材料（１）を提供するステップと、カバーシート（１４）を有するフォトレジスト（１６）を原材料（１）の少なくとも一方の主面上に積層するステップと、画像（１８）をカバーシート（１４）上に印刷するステップ、またはカバーシート（１４）を除去して、画像（１８）をフォトレジスト（１６）上に直接印刷するステップとを含む方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 技術分野 本発明は、誘電体基板の両面にエッチングまたはめっきによる特徴を有する可
撓性回路などの電子的相互接続回路、特にＩＣパッケージ化およびテープボール
グリッドアレイ（ＴＢＧＡ）回路を製造する方法である。
【０００２】 背景技術 微細ピッチ可撓性回路の製造に使用される従来の画像形成および露光技術は、
回路基板上に露光される画像を画定する不透明な領域を有する別個のフォトマス
クを使用する必要がある。別個のフォトマスクを使用する見当合わせおよび露光
は、フォトマスクを保持する特徴を開閉しながらウェブの割り送りを行うという
構成上、遅い工程となる。両面画像形成を必要とする回路構成は、基板の対向面
上の特徴間をほぼ正確に整列配置させる必要がある。別個のフォトマスクを使用
する画像形成工程は、２つのフォトマスクを互いに枢着させて、これらフォトマ
スクがウェブから移動して離れ、ウェブを割り送ることができるようにすること
が必要である。この開閉動作は、見当合わせの確認に使用する能動的な整列配置
システムは一般に存在しないため、基板両面の画像間に不整合を生じる可能性が
ある動作である。
【０００３】 米国特許第５，６３７，４２６号には、プリント回路板、半導体基板、および
透明ガラスまたはプラスチック基板などのような基板上にレジストパターンを形
成する方法が開示されている。パターン化されたレジスト層を使用すると、回路
層またははんだレジストパターンなどのような特徴を画定することができる。こ
の方法は、物体上にレジスト層を形成し、透明マスク基板をレジストで被覆され
た物体上に配置し、インクジェットプリンタを使用してマスクパターンを直接透
明マスク基板上に確立し、マスクを介在させてレジストを光に暴露し、透明マス
ク基板を取り外し、レジストを現像することを含む。Ｕｃｈｉｋａｗａの方法で
は、インクジェットプリンタを使用すること、および回路を両面処理しないこと
が本発明との重要な相違点となっている。物体の両面に存在する特徴の形成また
は処理に関連する手段または有用な要素は開示されていない。特に、Ｕｃｈｉｋ
ａｗａは、回路基板の両面に形成されるマスクパターンを見当合わせする手段に
ついて触れていない。同様に、許容可能な電気的性能を確実に得るために、両面
に存在する従属特徴間を見当合わせする要件を満たす方法も開示されていない。
Ｕｃｈｉｋａｗａの請求の範囲の重要な制約は、処理される基板が複数のスルー
ホールを有することである。回路の場合、これは、Ｕｃｈｉｋａｗａの処理を使
用してスルーホールを製造できないことを意味する。
【０００４】 米国特許第４，８５３，３１７号には、インクジェットプリンタを使用してプ
リント回路板または可撓性回路板を直列化する方法が開示されている。この方法
は、個々の回路板を一意的な指標で直列化でき、所望の各々の直列化に別個のフ
ォトマスクまたは印刷プレートを必要としない点で有用であると記載されている
。この方法は、可撓性またはプリント回路板を提供し、直列化情報をフォトレジ
スト層上に直接プリントし、回路のパターン化画像をフォトレジスト上にしてフ
ォトマスクを配置し、フォトレジストを照射して、最後にフォトレジストを現像
することを含む。Ｈａｙｅｓの方法では、インクジェットプリンタを使用するこ
と、および回路を両面処理しないことが本発明との重要な相違点となっている。
Ｕｃｈｉｋａｗａの場合と同様、本発明の実際上の有用な要素に必要な画像解像
度を得るうえで、インクジェッタは、本発明のマスクパターン製造手段に匹敵す
る速度で画像を形成することができないことが周知されている。さらに、両面処
理の手段も示唆または提案されていないし、開示された有用な要素（直列化）は
本質的に両面処理を必要としない。
【０００５】 上記の点、および従来の画像形成の速度が約毎分０．３０〜１ｍであるという
点を考慮すると、高速度の製造および両面処理を可能にする方法が望ましい。
【０００６】 本発明の方法は、従来のパターン画像形成および露光技術で現在可能な速度よ
りも速い速度を有する画像パターン化および露光手順ステップを使用する。この
高速パターン化および露光により、製造コストは減少し、より少ない製造工程で
経済的に製造する能力が得られる。この方法は、加法的および減法的製造工程の
両方に適用できる。
【０００７】 本発明では、グラビア、フレキソ印刷またはオフセットなどのような高速印刷
法を使用して、所望の画像をフォトレジストを張り合わせた誘電体基板のカバー
シート上に直接製造するか、またはフォトレジスト自体の上に直接印刷すること
ができる。このタイプのパターン化形式は、別個のフォトマスクを使用してパタ
ーンを生成する従来の画像形成とは明らかに異なる。ガラスなどのような透明基
板にパターンを形成するのではなく、インクを使って画像をフォトレジスト上、
またはフォトレジストが供給されるポリマー基板上に印刷する。
【０００８】 画像の露光および現像を印刷と連続した工程で行う場合、本発明の印刷および
画像形成の結合速度は、毎分約１．８ｍ〜３ｍである。しかし、露光速度は、フ
ォトレジストの感度および光源の強度により制限される。光源の種類およびフォ
トレジストの感度に応じて、露光速度は毎秒約０．０５ｍ〜０．１６ｍである。
したがって、画像形成は速度を制限するステップであり、つまり工程を結合しな
い場合、単独の高速印刷速度ははるかに速くなる。記載された各種の高速印刷法
による印刷速度は、毎分４６ｍにも達すること可能性がある。
【０００９】 発明の開示 本発明は、各主面に少なくとも１つのエッチングまたはめっきにより形成され
た特徴を備える可撓性プリント回路を製造する方法であって、 （ａ）誘電体基板と、少なくとも１つの導電性基部層とを備え、２つの主面を
有する原材料を提供するステップと、 （ｂ）上にカバーシートが固定して取り付けられたフォトレジストを原材料の
少なくとも一方の主面に積層するステップと、 （ｃ）カバーシートを取り外すステップと、 （ｄ）画像を直接フォトレジスト上に印刷するステップと、 を含む方法を提供する。
【００１０】 本発明は、前記可撓性回路の各々の主面に少なくとも１つのエッチングまたは
めっきされた特徴を備える可撓性プリント回路を製造する方法であって、 （ａ）誘電体基板と、少なくとも１つの導電性基部層とを備え、２つの主面を
有する原材料を提供するステップと、 （ｂ）上にカバーシートが固定して取り付けられたフォトレジストを前記原材
料の少なくとも一方の主面に積層するステップと、 （ｃ）画像を前記カバーシート上に印刷するステップと、 を含む方法を提供する。
【００１１】 本明細書で使用する場合、以下の用語は以下の意味を有する。 １．「フォトマスク」とは、存在する場合、フォトレジストおよびそのカバー
シートを意味する。 ２．「フォトレジスト」とは、後続の工程で使用される作用および化学薬品に
対して耐性を有する感光性材料を意味する。 ３．「固定して取り付けられた」とは、ある物品が、手で取り外さない限り、
容易に滑落したり外れたりしないように、別の物品に取り付けられることを意味
する。
【００１２】 本明細書に記載するすべての割合、部分および比率は、特記しない限り重量に
基づくものとする。
【００１３】 好適な実施態様の詳細な説明 図１〜図７は、本発明の好ましい実施態様を加法的な回路製造工程で使用する
場合を示す。加法的工程では、回路トレースは、原材料１上に所望のパターンで
形成される。図８〜図１４は、本発明の好ましい実施態様を減法的工程で使用す
る場合を示す。減法的工程では、回路トレースは、原材料１から導電性材料の連
続層領域を除去して形成される。導電性層２２が除去される領域は、所望の回路
トレースパターンを形成する。
【００１４】 図１に示す原材料１は、誘電体基板１０と、誘電体基板の少なくとも一方の面
の金属酸化物層１２と、金属酸化物層１２上の導電性基部層１１とを備える。金
属酸化物層１２は、誘電体基板１０と導電性基部層１１との間の付着を高めるこ
とが先行技術で周知されている。誘電体基板１０は、ポリエステル、たとえばポ
リ（エチレンテレフタレート）、ポリカーボネートおよびポリイミドなどのよう
なフィルムなど、完全に硬化したポリマー材料であることが好ましい。ポリイミ
ドは好ましいポリマーフィルムであり、未変性ポリイミド、並びにポリエステル
イミド、ポリイミド−イミド−エステル、ポリアミド−イミド、ポリシロキサン
イミドおよびその他の混合イミドなどのような変性ポリイミドがある。特に好ま
しいポリマーは、ピロメリット酸無水物および４，４ジアミノ−ジフェニルエー
テルから製造されたポリイミドポリマーであり、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ
Ｎｅｍｏｕｒｓ，Ｉｎｃ（ＤｕＰｏｎｔ）からＫａｐｔｏｎ（登録商標）として
市販されている。こうした材料の変形例は、Ｋａｐｔｏｎ（登録商標）Ｅ、Ｋａ
ｐｔｏｎ（登録商標）ＶおよびＫａｐｔｏｎ（登録商標）Ｈとして市販されてい
る。類似の材料は、やはりＤｕＰｏｎｔからＰｙｒａｌｉｎ（登録商標）、およ
びＫａｎｅｋａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓからＡｐｉｃａｌ（
登録商標）の商標で市販されている。一般に原材料の厚さは、３５μｍ〜２５μ
ｍである。
【００１５】 金属酸化物層１２を形成する方法としては、スパッタリングおよび化学蒸着が
あるが、これらだけに限らない。有用な方法としては、熱蒸着もある。金属酸化
物層１２の形成に好ましい材料は、クロムである。使用できるその他の材料とし
ては、鉄、ニッケル、マンガン、モリブデンジルコニウム、およびこれらの混合
物が挙げられる。
【００１６】 図２は、原材料の両側に積層されたフォトマスクシート１３を示す。一般に、
フォトマスクシート１３は、標準の積層技術を使用して、熱および圧力を加えて
積層される。フォトマスクシート１３は、特定波長の放射線に敏感なフォトレジ
スト層１６と、指定波長の放射線を透過するポリマーカバーシート１４とから成
る。有用なフォトレジストとしては、負水性処理重合性の光硬化性組成物などの
ようなネガ型フォトレジストがあり、たとえば米国特許第３，４６９，９８２号
、第３，４４８，０９８号、第３，８６７，１５２号および第３，５２６，５０
４号に記載されているフォトレジストが挙げられる。こうしたフォトレジストは
、少なくとも１種類のポリマー材料、追加の架橋性モノマーおよび光開始剤を含
む。ポリマーの例としては、アクリルおよびメタクリルコポリマー、並びに（メ
ト）アクリレートとスチレンおよび無水マレイン酸とのコポリマーがある。これ
らのポリマーの例として、ＤｕＰｏｎｔがＲｉｓｔｏｎ（登録商標）の商品名で
市販しているポリメチルメタクリレートポリマー、ＨｅｒｃｕｌｅｓがＡｑｕａ
ｍｅｒ（登録商標）ＳＦシリーズ３１３、１２０および１２５、ＣＦシリーズと
して市販しているポリメチルメタクリレートポリマー、ＨｉｔａｃｈｉがＰｈｏ
ｔｏｔｅｃ（登録商標）として市販しているポリメチルメタクリレートポリマー
が挙げられるが、これらだけに限らない。カバーシートはフォトレジストに固定
して取り付けられ、良好な見当合わせを提供するので、印刷および露光を相対的
な処理速度で行うことができ、印刷を遅く行う必要はない。
【００１７】 フォトマスクシート１３を積層した後、図３に示すマスクパターン１８は、両
方のカバーシート１４に直接印刷される。使用される印刷方法としては、グラビ
ア、フレキソ印刷およびオフセット印刷技術がある。選択する特定の印刷技術は
、少なくとも部分的に、解像度、見当合わせ、および特定回路構造のコスト要件
に基づく。
【００１８】 様々な印刷技術は、特定の用途に使用することが推奨される長所と短所を有す
る。フレキソ印刷および活版印刷は、低コストかつ短時間の「準備時間」を提供
するが、他の印刷方法に比べて品質は劣る。さらに、活版印刷、およびそれ程で
はないがフレキソ印刷法では、フォトレジスト基板に印刷ニップ内の不均一な力
が加わる。その結果、圧力により誘発される欠点が生じる。これらのタイプの印
刷は、一般に「高級」ではないので、現世代の市販印刷機で、これら技術を本発
明に使用するには、見当合わせを改善する必要がある。
【００１９】 オフセット平版印刷法は、均一な圧力、より高品質の画像、おそらくより速い
最高速度をより長い準備時間で提供する。回転グラビア印刷法は、特に電子回路
に重要なライン作業の場合に、高度のライン速度、最長の稼動、非常に微細な画
像品質を提供するが、非常に高価なシリンダを作製する必要があり、セットアッ
プ時間が遅い。
【００２０】 乾式平版印刷法は、オフセットの利点を提供し、画像品質がさらに優れている
が、現在、インクの選択が多少限られる。
【００２１】 インクジェットおよびゼログラフィ法は、一般に画像品質が低く、重要なライ
ン作業には十分に適さず、両面見当合わせ用に構成されない。これらの方法は、
きわめて短時間の稼動を行うか、または個々の単独のサンプルを作成する能力を
要する非常に低品質の作業を除いて検討されることはなく、最後に、シルクスク
リーン印刷は、一般に必要とされる線画画像品質を生成することはできない。
【００２２】 マスクパターン１８は、放射線を遮断してフォトレジスト層１６に作用するの
を妨げるインクの不透明領域から形成される。この開放領域は、放射線がカバー
シートを通過して、フォトレジスト層１６に作用するのを可能にする。このマス
クパターンの構成１６は、結果として得られる回路の構造を画定する。カバーシ
ート１４は後に除去されるので、現像液がインクにより汚染する危険性は非常に
少ない。
【００２３】 本発明に使用されるインクは、選択する正確な印刷技術、選択する乾燥技術お
おび基板により異なる。しかし、欠点が最小限になるようにインク中の粒子およ
び破片を最小限にすることが重要である。フォトレジスト上に直接印刷ことが望
ましい場合、インクは、フォトレジストの現像を妨げないように選択しなければ
ならない。水性フォトレジスト現像技術に使用される代表的な添加剤としては、
酸を含むモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。
【００２４】 フォトレジスト層１６の露光は、一般に「ステップアンドリピート」タイプの
工程であり、一定数の物品が室内に移されて適切な放射線に暴露され、誘電体基
板１０の両面のフォトレジスト層１６を指定波長の放射線に暴露することにより
、フォトレジスト層１６内で化学反応が開始する。この化学反応は、フォトレジ
スト層１６内に形成されるマスクパターンと同じパターンを生じる。カバーシー
ト１４を除去すると、フォトレジスト層１６を現像液中で現像することができる
。図４に示すように、指定波長の放射線および所定の現像液に暴露すると、マス
クパターン１８の不透明領域で被覆されたフォトレジスト層１６の領域（ネガ型
）は、現像液により選択的に除去され、露光された領域２０および２１が形成さ
れる。露光された領域２０および２１は、後にエッチングおよび／またはめっき
加工ステップを行って、所望の回路特徴を形成することができる。これら特徴と
しては、一般に、導電性回路トレースおよび導電性または非導電性スルーホール
がある。
【００２５】 すべての図は、カバーシート１４を通過する波長の放射線に敏感なネガ型フォ
トレジスト層１６を示す。あるいは、マスクパターン１８の不透明領域および開
放領域が逆転していれば、ポジ型フォトレジスト材料を使用しても良い。ポジ型
フォトレジスト材料を露光および現像すると、マスクパターン１８の不透明部分
の下にないフォトレジスト材料１６の領域は、現像液により除去される。
【００２６】 回路層２２は、誘電体基板１０の表面の、フォトレジスト層１６が除去された
露光領域２０に形成することができる。回路層２２は、電気めっきで形成するこ
とが好ましい。図５に示すように、電気めっきによって、導電性基部層１１が露
出した誘電体基板の側にのみ回路層が形成される。導電性基部層１１は、導電性
基部層１１とめっき槽の溶液との間に電流が流れた時に、金属材料の吸引が開始
するように作用する。様々なタイプの電気めっき装置および方法が先行技術で公
知であり、従来の任意の方法を使用することができる。
【００２７】 図６は、誘電体基板１０の露光領域２１におけるスルーホール２４の形成を示
す。本発明の回路は、一般に少なくとも１つのスルーホールを有するが、ブライ
ンドバイア、つまり基板を貫通してエッチングされないバイアを使用することも
できる。スルーホール２４の形成に使用する方法のタイプに応じて、壁は、図示
のように、または互いに実質的に平行に傾斜する。図７に示すようにスルーホー
ルが形成された後、残りのフォトレジスト層１６を剥離し、導電性基部層をエッ
チングして、回路層２２の個々のトレース間の短絡を防ぐ。スルーホール２４の
基部にある金属酸化物層１２も、一般に除去される。Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉ
ｃａｌｓ，Ｉｎｃ．が市販しているＰｅｒｍａ−ｅｔｃｈ（登録商標）など、ポ
リマーフィルムを傷つけない様々なエッチング剤を使用することができる。化学
的エッチングは、一般に傾斜した側壁を形成し、所望のパターンを画定するため
のフォトマスクを必要とする。化学的圧延（ｍｉｌｌｉｎｇ）溶液中で安定する
フォトマスクは、誘電体基板全体が溶解するのを防ぐ。
【００２８】 レーザーアブレーションなど、バイア、スルーホールなどを形成するその他の
方法は、一般に、実質的に平行な壁を形成するが、さらに、マスクを使用してス
ルーホール２４の位置を画定する必要がある。バイアなどを形成するその他の方
法、たとえば機械的エッチングおよびイットリウム−アルミニウム−ガーネット
つまり「ＹＡＧ」レーザを使用してスルーホール２４を形成し、マスクを使用し
ない方法も、必要なら使用することができる。
【００２９】 回路の要件に応じて、回路を製造するための代替加法工程を使用することもで
きる。この工程では、回路層を形成した後、回路のスルーホール側の所定位置に
カバーシート１４を残す必要がある。工程のこの段階までカバーシートを所定位
置に残すことにより、下にあるフォトレジスト層１６が、物理的または化学的相
互作用により破損するのを防ぐことができる。この工程手順では、フォトレジス
ト層１６を現像してスルーホール２４の形成を可能にする第２の現像ステップが
必要である。図８に示すように、原材料１００は、誘電体基板１０と、誘電体基
板の少なくとも一方の側の金属酸化物層１２と、金属酸化物層１２上の導電性基
部層１１と、非パターン化回路層２２とを備える。図８に示す実施態様では、回
路層２２は、電気めっきにより形成することが好ましい。
【００３０】 図９は、原材料１００の各々の側へのフォトマスクシート１３の積層を示す。
工程のこのステップは、加法工程と同じである。減法工程では、回路層２２にト
レースパターンを形成するマスクパターン１８は、加法工程で使用されるマスク
パターンに対して反転している。誘電体基板１０の回路層２２側にある図１０の
マスクパターン１８は、マスクパターン１８の不透明領域が、回路層２２が存在
しないことが望ましい領域にあるという点で、図３のマスクパターンとは異なる
。ポジ型フォトレジスト材料を使用するか、またはネガ型フォトレジスト材料を
使用するかに関係なく、減法工程で回路トレースを形成するためのマスクパター
ン１８の不透明領域は、加法工程で使用される不透明領域とは反転する。トレー
ス側マスクパターン１８の不透明領域の反転により、現像トレース側フォトレジ
ストのパターンも反転する。
【００３１】 減法工程では、図１１に示すマスクプロファイルは、エッチング前に回路層２
２の望ましくない領域を生じ、この領域は、エッチングで除去されて、図１２に
示す所望のトレースパターンを形成する。図１１に示す導電性基部層の露光部分
も、エッチングで除去される（図１２）点に注意を要する。図１３に示すように
、スルーホール２２の形成は、減法工程でも加法工程と同じ方法で行われる。ス
ルーホール２２の形成後、フォトレジスト層１６は除去される。スルーホール２
４の基部にある金属酸化物１２も、一般に除去される。結果として得られる図１
４に示す回路は、図７に示す回路と実質的に同じである。
【００３２】 図１５に示す原材料は、減法工程でも使用できる。回路層２２は、接着剤層２
６を使用して誘電体基板１０に接合される。一般に、銅箔の薄いシートは、回路
層２２の材料として使用される。図１５に示すように原材料２００を使用する場
合、選択した製造工程のステップを変更する必要がある。使用する接着剤に応じ
て、重要な相違点は、接着剤をスルーホール２４の基部から除去するために、代
わりの処理ステップまたはエッチング溶液が必要なことである。
【００３３】 パッド領域２８を隣接スルーホール２４と整列配置させることは、適切な回路
の性能および製造可能性の点で重要である。図１６に示すように、パッド領域２
８はスルーホール２４に完全に重ならなければならない。この整列配置要件を満
たすには、重複を維持して、選択するパターン印刷技術で見当合わせ能力が得ら
れるように、スルーホール２４とパッド領域２８をサイズ決定して行う。場合に
よっては、印刷機器は、ギヤ駆動ローラによって整列配置を維持する。より高度
な精度を必要とするその他の場合には、オンラインで見当合わせを監視および調
整できる閉ループ見当合わせシステムを使用する。
【００３４】 減法工程であっても加法工程であっても、代替工程では、フォトマスクを積層
した後、カバーシートを剥離して、画像をフォトレジスト上に直接印刷する。次
に、フォトレジストを露光し、このステップの後、未露光領域およびインクの両
方を除去し、上記の処理ステップを続ける。
【００３５】 どの処理の場合も、予備エッチングまたは後エッチング酸槽、水浸漬および中
和などのような追加のステップを使用し、金、ニッケルまたは錫などのような金
属の追加層をめっきし、追加のはんだ付けステップを使用して、最終的な製品を
形成することができる。
【００３６】 本発明の工程により製造される回路は、すべての電子装置に有用である。
【００３７】 実施例 ある種別のＴｏｒａｙ ＷＦ ８０ ＩＩフレキソ印刷および活版印刷プレー
トを入手した。これらプレートは、メーカーが推奨しているように、回路試験要
素を含むネガフィルムを備えた接触真空枠内で、ライン／空間の対の寸法を４ｍ
ｉｌ〜３２ｍｉｌにして露光させた。これらプレートは、ニュージャージー州、
ベルミードのＬｉｔｔｌｅ Ｊｏｅ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓが市販している「Ｌ
ｉｔｔｌｅ Ｊｏｅ」インク試験機の第１ステーションのアルミニウムブロック
上に取り付けて、メーカーが推奨しているようにインクを塗布した。
【００３８】 感光性ポリマーレジストおよび任意にカバーコートを含む基板を圧延ドラムに
テープで固定し、インクを塗布した印刷プレートの表面全体を圧延してパターン
化した。次に、インクを塗布されたサンプルを硬化させた。このサンプルをＦｕ
ｓｉｏｎ紫外線ベンチトッププロセッサ内に配置し、Ｆｕｓｉｏｎ Ｆ３００Ｗ
、６インチのＤランプを使用して毎分４５フィートで露光した。サンプルの平面
に放射線を集束させた。サンプルを紫外線に暴露した後、カバーシートをサンプ
ルから取り外し、フォトレジスト画像を０．７５％ＮａＣＯ３溶液中で約１分間
現像した。次に、このサンプルは、１リットル当たり１００グラムのＣｕＳＯ４ を含む銅めっき槽内において１リットル当たり１８５グラムのＨ２ＳＯ４を使っ
て、１時間の全抵抗時間にわたって１平方フィート当たり２０アンペアで銅めっ
きを施した。次に、ポリイミド支持体フィルムを４５％ＫＯＨ槽内において約９
３℃で３分間にわたって圧延（ｍｉｌｌｉｎｇ）し、３％ＫＯＨ内において約６
２℃でフォトレジストを剥離した。次に、最終部品を洗浄して乾燥させた。
【００３９】 使用したインクは、ミネソタ州、プリモスのＬｏｕｉｓ Ｏ．Ｗｅｒｎｅｋｅ
Ｃｏｍｐａｎｙが市販している最小粒度を有する黒色紫外線硬化活版印刷イン
ク、および注文により以下のとおりに処方された２種類の紫外線硬化インクであ
る。
【００４０】
【表１】
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の方法に使用する原材料の斜視図を示す。
【図２】 フォトレジスト層およびカバーシートが各々の面に積層された原
材料の斜視図を示す。
【図３】 フォトマスクがカバーシート上に配置された図２からの材料の斜
視図を示す。
【図４】 フォトレジスト層の照射および現像後の材料の斜視図を示す。
【図５】 回路層が形成された後の可撓性回路の斜視図を示す。
【図６】 スルーホールが内部に形成された誘電体基板層の斜視図を示す。
【図７】 導電性基部層がエッチングされた後の最終的な可撓性回路の斜視
図を示す。
【図８】 代替減法工程のための原材料の斜視図を示す。
【図９】 第２工程のためにフォトマスクシートが積層された原材料の斜視
図を示す。
【図１０】 フォトマスクがカバーシート上に配置され、印刷された図９か
らの材料の斜視図を示す。
【図１１】 フォトレジスト層の照射および現像後の材料の斜視図を示す。
【図１２】 回路層が形成されて、導電性基部層がエッチングされた後の可
撓性回路の斜視図を示す。
【図１３】 内部にスルーホールが形成された誘電体基板層の斜視図を示す
。
【図１４】 フォトレジスト層が剥離された後の可撓性回路の斜視図を示す
。
【図１５】 接着剤層構造を有する原材料の斜視図を示す。
【図１６】 パッドとスルーホールとが整列配置された可撓性回路の正面図
を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ， ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，Ｌ Ｔ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ， ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，Ｕ Ａ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ウィリアム・ブイ・バラード アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 Ｆターム(参考） 5E339 AB02 BD03 BE11 CE12 CF07 CF16 CF17 CG00 5E343 AA18 CC63 DD21 GG08 GG11

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 可撓性回路の各主面に少なくとも１つのエッチングまたはめ
    っきにより形成された特徴を備える可撓性プリント回路を製造する方法であって
    、 （ａ）誘電体基板と、少なくとも１つの導電性基部層とを備え、２つの主面を
    有する原材料を提供するステップと、 （ｂ）上にカバーシートが固定して取り付けられたフォトレジストを前記原材
    料の少なくとも一方の主面上に積層するステップと、 （ｃ）前記カバーシート上に画像を印刷するステップと、 を含む方法。
  2. 【請求項２】 前記可撓性回路の各主面にエッチングまたはめっきにより形
    成された少なくとも１つの特徴を有する可撓性プリント回路を製造する方法であ
    って、 （ａ）誘電体基板と、少なくとも１つの導電性基部層とを備え、２つの主面を
    有する原材料を提供するステップと、 （ｂ）上にカバーシートを有するフォトレジストを前記原材料の少なくとも一
    方の主面に積層するステップと、 （ｃ）前記カバーシートを除去するステップと、 （ｄ）画像を前記フォトレジスト上に直接印刷するステップと、 を含む方法。
  3. 【請求項３】 前記印刷が、フレキソ印刷および活版印刷から選択した連続
    的な方法により行われる、請求項１または請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記印刷が、オフセット平版印刷、回転グラビア印刷、およ
    び乾式平版印刷から成る群から選択した方法により行われる、請求項１または請
    求項２記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記印刷が、インクジェット印刷およびゼログラフィ印刷か
    ら選択した方法により行われる、請求項１または請求項２記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記原材料が、前記誘電体基板の少なくとも一方の側に金属
    酸化物層をさらに備える、請求項１または請求項２記載の方法。
  7. 【請求項７】 上にカバーシートを有するフォトレジストが、前記原材料の
    前記主面の両面に積層される、請求項１または請求項２記載の方法。
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