JP2002522615A - シンジオタクチックポリスチレンおよびアクリレート改質剤からなる耐衝撃性改良熱可塑性成形材料 - Google Patents

シンジオタクチックポリスチレンおよびアクリレート改質剤からなる耐衝撃性改良熱可塑性成形材料

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JP2002522615A
JP2002522615A JP2000565047A JP2000565047A JP2002522615A JP 2002522615 A JP2002522615 A JP 2002522615A JP 2000565047 A JP2000565047 A JP 2000565047A JP 2000565047 A JP2000565047 A JP 2000565047A JP 2002522615 A JP2002522615 A JP 2002522615A
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ヴュンシュ，ヨーゼフ
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Abstract

(57)【要約】 シンジオタクチックポリスチレンおよびアクリレート改質剤からなる耐衝撃性改良熱可塑性成形材料である。熱可塑性成形材料は、A）シンジオタクチック構造を有するビニル芳香族ポリマー30〜99.9質量％、B）弾性粒状グラフトポリマー0.1〜70質量％、および、C）ジエン部分が部分的にまたは完全に水素化されていてもよい弾性粒状スチレン‐ジエンブロックコポリマー0〜69.9質量％（ここで、成分B)の粒子は0.1〜10μmの範囲内にD(50)を有し、かつ、成分B）は成分C）と異なる）、を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、 A）シンジオタクチック構造を有するビニル芳香族ポリマー30〜99.9質量％、 B）弾性粒状グラフトポリマー0.1〜70質量％、および、 C）ジエン部分が部分的にまたは完全に水素化されていてもよい弾性粒状スチレ
ン‐ジエンブロックコポリマー0〜69.9質量％、 を含有する熱可塑性成形材料に関する。
【０００２】 本発明はまた、繊維、フィルムまたは成形品の製造のための熱可塑性成形材料
の用途に関し、さらにまた、得られる繊維、フィルムおよび成形品に関する。
【０００３】 シンジオタクチックポリスチレンは、その結晶度のために、約270℃の非常に
高い融点、高い剛性および引っ張り強さ、寸法安定性、低い誘電率および高い耐
薬品性を備える。機械的特性分布は、ガラス転移温度を超える温度においてさえ
維持される。メタロセン触媒系の存在下におけるシンジオタクチックポリスチレ
ンの製造方法は公知であり、例えば、欧州特許公開第0 535 582号公報中に詳細
に記述されている。
【０００４】 シンジオタクチックポリスチレンの適用分野は、その脆性により厳しく制限さ
れる。
【０００５】 従って、シンジオタクチックポリスチレン（以下、SPSとも称する）の脆性を
減じ、同時にその衝撃強さを改良することが望まれている。
【０００６】 欧州特許公開第755 972号公報には、一方ではスチレンと水素化ブタジエンと
のブロックコポリマーからなる混合物、また、他方ではブタジエンポリマーのコ
アを有するコア‐シェルポリマーを用いて、耐衝撃性改良されたSPSが記載され
ている。しかしながら、このタイプの改質剤は、加熱または風化に対し耐性がな
い。その引っ張り強さは不十分なままであり、これらの理由のためにとりわけ、
これらは問題の理想的な解決法ではない。
【０００７】 本発明の目的は、SPSを基材とし、高い衝撃強さ、高い剛性（弾性率）および
良好な流動性（MVR、加工性）を兼ね備えながら、かつ、耐侯性を維持する、熱
可塑性成形材料を製造することにある。
【０００８】 本発明者らは、この目的が最初に定義した熱可塑性成形材料を用いることによ
り達成されることを見出した。
【０００９】 また、繊維、フィルムおよび成形品を製造するための該熱可塑性成形材料の用
途も見出し、結果として、繊維、フィルムまたは成形品を得た。
【００１０】 新規な熱可塑性成形材料は、成分A）として、30〜99.9質量％、好ましくは40
〜99質量％、特には50〜95質量％のシンジオタクチック構造を有するビニル芳香
族ポリマーを含有する。本発明の目的のために、「シンジオタクチック構造を有
する」という表現は、ポリマーが本来的にシンジオタクチックであり、すなわち
、13C NMRにより決定されるシンジオタクチック部分が、mmmmペンタズ（pentads
）の50％より大きく、好ましくは60％より大きいことを意味する。
【００１１】 成分A）は、好ましくは下記一般式、
【００１２】
【化１】 の化合物であって、 R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、 R2 〜R6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜18の
アリール基もしくはハロゲン原子であり、または、2個の隣接する基が共に4〜15
個の炭素原子を有する環式基、例えば、炭素数4〜8個のシクロアルキル基もしく
はアネレート化（annellated）環状系である。
【００１３】 好ましくは、一般式Iのビニル芳香族化合物であって、R1が水素原子であるも
のを使用する。
【００１４】 特に好適な置換基R2 〜R6は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、塩素原子
、フェニル基、ビフェニル、ナフタレンおよびアントラセンである。2個の隣接
する基は、共に4〜12個の炭素原子を有する環式基であってもよく、従ってナフ
タレン誘導体およびアントラセン誘導体は、一般式Iの化合物の一例である。
【００１５】 このタイプの好ましい化合物の例としては、 スチレン、p‐メチルスチレン、p‐クロロスチレン、2，4‐ジメチルスチレン、
4‐ビニルビフェニル、ビニルナフタレンおよびビニルアントラセンがある。
【００１６】 異なるビニル芳香族化合物の混合物を使用することも可能であるが、1種のみ
のビニル芳香族化合物を使用することが好ましい。
【００１７】 特に好ましいビニル芳香族化合物は、スチレンおよびp‐メチルスチレンであ
る。
【００１８】 使用する成分A）も、シンジオタクチック構造を有する異なるビニル芳香族ポ
リマーの混合物であってよいが、1種のみのビニル芳香族ポリマーを使用するこ
とが好ましく、特には、シンジオタクチックポリスチレン（SPS）である。
【００１９】 シンジオタクチック構造を有するビニル芳香族ポリマー（A）と、また、その
製造方法も、それ自体公知であり、例えば、欧州特許公開第535 582号公報中に
記載されている。製造手順としては、好ましくは一般式Iの化合物をメタロセン
錯体および触媒の存在下で反応させる。使用するメタロセン錯体としては、特に
は、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロリド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニル（トリメチル）チタンおよびペンタメチルシクロペンタジエニ
ルチタントリメチレートである。
【００２０】 シンジオタクチック構造を有するビニル芳香族ポリマーは、一般に、5,000〜1
0,000,000g／mol、特には10,000〜2,000,000g／molのモル質量MW（質量平均）を
有する。モル質量分布MW ／Mｎは一般に、1.1〜30、好ましくは1.4〜10の範囲内
である。
【００２１】 シンジオタクチック構造を有する他の可能なビニル芳香族ポリマーA）として
は、ビニル芳香族モノマーを基材としたシンジオタクチック星形ポリマーがある
。これら星形ポリマーは、例えば、先のドイツ国特許出願第196 34 375.5-44号
明細書中に、特には2頁21行〜6頁25行および実施例において記載されている。
【００２２】 グラフトポリマーB）は、そのコアポリマーが、架橋剤としての少量の他は、
ブタジエンモノマーを重合することによってではなく、好ましくは、α‐β‐不
飽和カルボン酸、α‐β‐不飽和カルボキシルエステルまたはα‐β‐不飽和ニ
トリル、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリレート、メタクリレート、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリルまたはこれらの混合物を、所望に応じて架
橋剤も添加して、重合することにより構成されており、好ましくは、以下のもの
として得られる。即ち、コアポリマーPKを得るために重合させるべき液状モノマ
ーまたは液状モノマー混合物MKを水および保護コロイドと混合させる。重合開始
剤は、このとき添加するか、または、モノマーが分散するまで添加せず、さもな
ければ分散液を加熱した後に添加する。不均質混合物から、非常に小さなモノマ
ーの液体粒子の水中分散液を作製するために、強力な高速撹拌を用いる。如何な
る設計の強力ミキサーでも、このために好適である。定義した範囲内の所望の粒
子径は、例えば、光学顕微鏡写真を作製し、特定直径の粒子数を数えることによ
り決定することができる。
【００２３】 重合は分散液を加熱することにより開始させる。反応は、液体粒子をさらに分
割しないような適度の攪拌をもってその後に行い、MKに基づく転化率が50％を超
えるまで、好ましくは85％を超えるまで続ける。
【００２４】 グラフトコアの重合がいったん終了したら、モノマーMSを用いてそれ自体公知
の方法で反応を続け、このモノマーMSから、ポリマーPSからなる対応するシェル
Sを製造する。可能なモノマーMSとしては、スチレンまたはその誘導体、および
アクリレート、メタクリレート、α‐メチルスチレン、アクリロニトリルおよび
メタクリロニトリルである。使用するモノマーMSは、好ましくは、ビニル芳香族
モノマー100％、好ましくはスチレン、または、80質量％を超える、好ましくは8
5〜95質量％のスチレンと、20質量％以下、好ましくは5〜15質量％のアクリロニ
トリルからなる混合物である。グラフトは、重合におけるモノマーMKの転化がま
だ完全ではなく、50％より大きいとき、好ましくは85％より大きいときに開始す
ることもできる。この場合、シェルからコアへの転移は、コアモノマーの転化が
最初に完了する場合には、コアおよびシェルポリマーの比較的鋭い形成（deline
ation）とは対照的に緩徐である。
【００２５】 グラフトポリマーが単一のシェルのみを有する場合、一般にこれで十分である
が、これは材料PSからなる。ある場合、特に、グラフトコアが比較的小さい場合
や、比較的大量のコアポリマーPＫを粒子中に導入することが望まれている場合
には、構造PＫ-PS-PＫ-PSの多重シェルのグラフトポリマーが好ましく、ここで
内部のシェルは改質の目的で他のポリマーPXからなっていてもよく、それにより
、グラフトポリマーの特性が改良される。
【００２６】 モノマーMKは、一般に0〜100℃、好ましくは室温において分散され、一般に、
モノマーのkg当り水0.4〜10kgが使用される。
【００２７】 分散液を安定化させるために好適な保護コロイドは、モノマーの液体粒子、お
よび、それから形成されるポリマー粒子をカプセル化する水溶性ポリマーであり
、それゆえそれらの凝集を抑制する。
【００２８】 好適な保護コロイドとしては、例えば、カルボキシメチルセルロースおよびヒ
ドロキシメチルセルロースのようなセルロース誘導体、ポリ‐N‐ビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコールおよびポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸の
ようなアニオンポリマー、および、ポリ‐N‐ビニルイミダゾールのようなカチ
オンポリマーがある。これら保護コロイドの量は、好ましくはモノマーMKの総質
量に基づいて0.1〜5質量％である。低分子量表面活性化合物は、例えば陰性また
は陽性石鹸に関連するものであり、本発明によってグラフトポリマーを製造する
際にそれら自体で使用するには一般に好適ではないが、この理由は、これにより
エマルション重合において得られるもののような小さい直径のポリマー粒子が得
られるためである。しかしながら、保護コロイドおよび石鹸からなる混合物の使
用は、保護コロイドを単独で使用する場合に通常達成できるよりも小さい粒子径
を達成するために有利である。
【００２９】 好適な重合開始剤は、ラジカル発生剤、特にモノマー中で顕著な安定性を有し
、かつ、好ましくは25〜150℃において10時間の半減期（「25〜150℃における10
時間半減期」）を有するものである。可能な開始剤の例としては、過酸化物、例
えば、ラウロイル過酸化物、ペルオキソスルフェート、tert‐ブチルペルピバレ
ート、および、例えばアゾジイソブチロニトリルのようなアゾ化合物がある。グ
ラフトコアおよびグラフトシェルを製造するために、異なる開始剤を使用するこ
ともできる。開始剤の量は、一般に、モノマーの量に基づいて0.1〜2.5質量％で
ある。
【００３０】 反応混合物はまた、pHを本来的に一定に維持しておくために、好ましくは、例
えば、Na2HPO4／NaH2PO4またはNaシトレート／クエン酸のような、緩衝物質を含
有する。例えば、エチルへキシルチオグリコレートまたはtert‐ドデシルメルカ
プタンのような分子量調節剤もまた、一般に、重合の間、特にはシェルを構成す
るモノマーMSの重合の間に添加される。
【００３１】 PKからなるコアを得るためのモノマーMKの重合温度は、一般に25〜150℃、好
ましくは40〜120℃である。コア上へのシェルのグラフトは、一般に25〜150℃、
好ましくは50〜120℃において行われる。これらの範囲の下限は、使用するそれ
ぞれの重合開始剤の分解温度に相当する。
【００３２】 グラフトポリマーB）は、0℃より下、好ましくは−10℃より下、特には−20℃
より下のガラス転移温度を有する相を形成する。このタイプのガラス転移温度を
有する可能なポリマーとしては、特には、その50〜100質量％が、炭素数2〜36個
のアルキルアクリレート、例えば、エチルアクリレート、n‐プロピルアクリレ
ートもしくはイソプロピルアクリレート、または、好ましくはn‐ブチルアクリ
レートおよび／もしくは2‐エチルへキシルアクリレートから構成されているも
のである。これらの「軟質」モノマーのほか、「硬質」モノマー、例えば、メチ
ルアクリレート、炭素数1〜12のアルキルメタクリレート、スチレンおよびα‐
メチルスチレン、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルも、50質量％以下
の割合内で好適である。これらのポリマーは一般にポリマーのコアを形成するが
、シェルを形成してもよい。
【００３３】 このタイプのポリマーは、これは一般にコアポリマーであるが、10質量％以下
、好ましくは約0.1〜10質量％の二官能性または多官能性コモノマー、例えば、
ブタジエンまたはイソプレン、例えば、サクシン酸またはアジピン酸のようなジ
カルボン酸のジビニルエステル、例えばエチレングリコールまたは1，4‐ブタン
ジオールのような二価アルコールのジアリルまたはジビニルエステル、言及した
二価アルコールを有するアクリル酸またはメタクリル酸のジエステル、1，4‐ジ
ビニルベンゼンまたはトリアリルシアヌレート等を用いて得られる。特に好まし
くは、下記式I、
【００３４】
【化２】 のトリシクロデセニルアクリレート（ジヒドロジシクロペンタジエニルアクリレ
ート）、また、アリルアクリレートおよびアリルメタクリレートである。
【００３５】 グラフトポリマーB）においては、コアに対する全シェルの総和の質量比が、
約0.05：1〜2.5：1である。粒子の平均直径は、これは好ましくは西独特許出願
第19702733.4号明細書中、特には9頁25行〜18頁6行に記載されているようなマイ
クロサスペンジョン重合により製造されるが、約0.1〜約10μｍ、好ましくは0.2
〜9μｍ、特に好ましくは0.3〜7μｍである。平均直径はD50であり、この場合、
D50に相当する直径よりも、全粒子の50質量％が小さい直径を有し、また50質量
％が大きい直径を有する。粒子径分布、特にはその幅を特徴付けるために、D50
に加えて、D10およびD90をしばしば用いる。D10の直径よりも、全粒子の10質量
％が小さく、また、90質量％が大きい。同様に、D90に相当する直径よりも、全
粒子の90質量％が小さい直径を有し、また10質量％が大きい直径を有する。
【００３６】 成分B）は、好ましくは基材ポリマーと、即ちSPS（誘導体）と、相溶性がある
かまたは部分的に相溶性があるシェルを有する。
【００３７】 新規な成形材料中の成分B）の量は、成形材料に基づいて、0.1〜70質量％、好
ましくは1〜60質量％、特には5〜50質量％の範囲内である。
【００３８】 ジエン部分が部分的にまたは完全に水素化されていてもよいスチレン‐ジエン
ブロックコポリマーからなる弾性成分C）は、例えば、欧州特許公開第755 972号
公報より公知であり、例えば、シェルから、品名クレイトン（Kraton）（登録商
標）G 1651のもとで購入可能である。他の例としては、シェルからの銘柄カリフ
レックス（Cariflex）（登録商標）‐TR、フィナ（Fina）からの銘柄フィナプレ
ン（Finaprene）（登録商標）、および、エニケム（Enichem）からの銘柄ユーロ
プレン（Europrene）（登録商標）がある。
【００３９】 成分A）、B）およびC）は、常に総量で100質量％である。
【００４０】 所望に応じて、添加剤もしくは加工助剤、またはこれらの混合物を、新規な熱
可塑性成形材料に対し、通常の量で加えることができる。
【００４１】 これらの例としては、核剤、例えば、カルボン酸、有機スルホン酸または有機
リン酸の塩、好ましくはナトリウムベンゾエート、アルミニウムトリス（p‐ter
t‐ブチルベンゾエート）、アルミニウムトリスベンゾエート、アルミニウムト
リス（p‐カルボキシメチルベンゾエート）およびアルミニウムトリスカプロエ
ート等、酸化防止剤、例えば、フェノール系酸化防止剤、ホスフィットまたはホ
スホニット、特にはトリスノニルフェニルホスフィット等、安定剤、例えば、立
体的ヒンダードフェノールおよびヒドロキノン等がある。滑剤および離型剤、染
料、顔料および可塑剤を使用することも可能である。
【００４２】 ホスフェートまたはホスフィンオキサイドのような有機リン化合物も、難焼剤
として使用することができる。
【００４３】 ホスフィンオキサイドの例としては、トリフェニルホスフィンオキサイド、ト
リトリルホスフィンオキサイド、トリスノニルフェニルホスフィンオキサイド、
トリシクロへキシルホスフィンオキサイド、トリス（n‐ブチル）ホスフィンオ
キサイド、トリス（n‐へキシル）ホスフィンオキサイド、トリス（n‐オクチル
）ホスフィンオキサイド、トリス（シアノエチル）ホスフィンオキサイド、ベン
ジルビス（シクロへキシル）ホスフィンオキサイド、ベンジルビスフェニルホス
フィンオキサイドおよびフェニルビス（n‐へキシル）ホスフィンオキサイドが
ある。特に好ましくは、トリフェニルホスフィンオキサイド、トリシクロへキシ
ルホスフィンオキサイド、トリス（n‐オクチル）ホスフィンオキサイドまたは
トリス（シアノエチル）ホスフィンオキサイドを用いる。
【００４４】 可能なホスフェートとしては、特にはアルキル-またはアリール-置換ホスフェ
ートがある。これらの例としては、フェニルビスドデシルホスフェート、フェニ
ルビスネオペンチルホスフェート、フェニルエチルハイドロジェンホスフェート
、フェニルビス（3，5，5-トリメチルへキシル）ホスフェート、エチルジフェニ
ルホスフェート、ビス（2-エチルへキシル）p-トリルホスフェート、トリトリル
ホスフェート、トリキシリルホスフェート、トリメシチルホスフェート、ビス（
2-エチルへキシル）フェニルホスフェート、トリス（ノニルフェニル）ホスフェ
ート、ビス（ドデシル）p-（トリル）ホスフェート、トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェート、ジブチルフェニルホスフェート、p-トリルビス（
2，5，5-トリメチルへキシル）ホスフェートおよび2-エチルへキシルジフェニル
ホスフェートがある。特に好適なリン化合物は、それぞれのRがアリール基のも
のである。トリフェニルホスフェート、トリキシリルホスフェートおよびトリメ
シチルホスフェートは、特に非常に好適である。環式ホスフェートを使用するこ
とも可能であり、ジフェニルペンタエリスリトールジホスフェートがこの場合特
に好適であり、レソルシノールジホスフェートも好ましい。
【００４５】 異なるリン化合物の混合物を使用することも可能である。
【００４６】 新規な熱可塑性成形材料は、さらに、繊維もしくは粒子充填剤またはこれらの
混合物を含んでもよい。
【００４７】 これらの例としては、炭素繊維、ガラス繊維、グラスマット、グラスフィラメ
ントロービングおよびガラスビーズや、また、カリウムチタネートホイスカーや
アラミド繊維もあり、好ましくはガラス繊維である。ガラス繊維は、サイズ剤お
よびカップリング剤を有していてもよい。これらのガラス繊維は短ガラス繊維と
してかまたは連続フィラメントストランド（ロービング）としてかのどちらでも
使用することができる。好ましいガラス繊維は、アミノシランサイズ剤を含有す
る。
【００４８】 アモルファスシリカ、マグネシウムカーボネート、粉末石英、マイカ、タルク
、長石、カルシウムシリケートまたはフィロシリケートを使用することもできる
。
【００４９】 新規な熱可塑性成形材料は、個々の成分を、一般に270〜330℃において、慣用
の混合装置、例えば、ニーダー、バンバリーミキサーまたは一軸スクリュー押出
機中で、混合することにより得ることができるが、好ましくは二軸スクリュー押
出機を用いる。非常に均質な成形材料を得るためには、強力かつ完全な混合が必
要である。成分をブレンドする順序は変えることができ、従って、2、または、
所望に応じそれ以上の成分を前混合することができるが、全成分を一緒に混合す
ることも可能である。
【００５０】 新規な熱可塑性成形材料は、また、一般に上述のように、他のポリマー、例え
ば、アタクチックもしくはアイソタクチックホモポリスチレン、スチレンコポリ
マーであって、例えば、アクリロニトリル、メタクリレートおよび／またはジフ
ェニルエチレンをコモノマーとして伴うもの、または、ポリアミド、ポリエステ
ルもしくはポリフェニレンエーテルもしくはポリマーの混合物とブレンドしても
よい。
【００５１】 新規な熱可塑性成形材料は、高い衝撃強さ、高い剛性、および、良好な流動性
（加工性）を有する。これは、繊維、フィルムまたは成形品の製造に好適である
。
【００５２】 実施例 SPSの製造 シンジオタクチックポリスチレン（SPS）の製造 スチレン9.2モル（1000g）を、窒素を用いて不活性条件を生成した丸底フラス
コ内に充填した。この溶液を、60℃まで加熱して、ウィッコ（Witco）からのメ
チルアルミノキサン（MAO）78.3ml（トルエン中1.53M）およびアルドリッヒ（Al
drich）からのジイソブチルアルミニウム水素化物DIBAH 20ml（シクロヘキサン
中1.0M）と混合した。この混合物を、次いで［C5（CH3）5］TiMe3 91.2mgと混合
した。内部温度を60℃に保持し、混合物を2時間重合させて、その後、メタノー
ルを添加することにより重合を終息させた。得られたポリマーをメタノールで洗
浄し、50℃において減圧（vacuo）下で乾燥させた。分子量およびその分布は135
℃において、溶媒としての1，2，4‐トリクロロベンゼンを用いて、高温GPCによ
り決定した。較正には分布幅の狭いポリスチレン標準液を用いた。分子量は、Mw
＝322,100であり、分布幅Mw／Mn＝2.1を有していた。シンジオタクチック部分は
、13C‐NMRにより決定し、96％より大であった。転化率は、使用したスチレンモ
ノマーに基づいて84％であった。
【００５３】 グラフトゴムの製造 以下の出発原料を使用した。即ち、 BASFからの、スチレン（St）、アクリロニトリル（AN）、ブチルアクリレート（
BA）およびジヒドロジシクロペンタジエニルアクリレート（DCPA）を更なる純化
なしで用いた。
【００５４】 ヘキスト（Hoechst）からのモイオール（Mowiol） 8／88はポリビニルアルコ
ールであり、その粘度は4％強度の水溶液の形態で、20℃においてDIN 53015に従
い測定し、8mPa／sである（最初の図）。加水分解度は88mol％（最後の2図）で
ある。
【００５５】 スチレン（MS‐1と記す）ならびにスチレンおよびアクリロニトリル（95：5）
（MS‐2と記す）でグラフトしたポリブチルアクリレートゴムを、下記配合、
【００５６】
【表１】 に従い、以下に述べるように製造した。
【００５７】 スチレンおよびアクリロニトリルからなるグラフトシェルについては、グラフ
トモノマー材料を相応じて変えた。
【００５８】 グラフトゴムの製造 以下の混合物を、ディスパーマット（Dispermat）を用いて、20分間7000rpmに
て窒素下で攪拌した。ディスパーマット（Dispermat）は、VMA‐ゲッツマン（Ge
tzman）により製造され、5cmの鋸刃状のディスクとともに提供された。
【００５９】 混合物： 水1174.2g 10％強度のモイオール（Mowiol）8／88水溶液220.5g 40％強度の乳化剤水溶液11.0g n‐ブチルアクリレート1080.5g ジヒドロジシクロペンタジエニルアクリレート22.1g、および、 ジラウリル過酸化物5.5g
【００６０】 このエマルション混合物の混合物100gを、ガラスフラスコ中に、窒素下で67℃
において適度の撹拌と共に（250rpm）充填し、重合を開始させた。エマルション
の残余の添加を、180分間にわたり行った。重合を60分間続けた。次いで、混合
物に対し、水2492.7ｇおよび10％強度のモイオール（Mowiol）8／88水溶液454.7
ｇを添加し、続けてスチレン1515.7gを添加して、150分間内で供給するようモノ
マーを流した。重合は、さらに67℃で150分間と、続けて70℃で210分間とにわた
って完了させた。
【００６１】 分散液の粒子径分布は、リーズ アンド ノースラップ（Leeds and Northrup
）により製造されたマイクロタック（Microtac）UPA 150レーザー光散乱装置を
用いて決定した。
【００６２】 結果： ゴムMS‐1（スチレン100％からなるシェル） D（10）： 0.6μm D（50）： 1.0μm D（90）： 2.6μm ゴムMS‐2（スチレン95％およびアクリロニトリル5％からなるシェル） D（10）： 0.3μm D（50）： 0.7μm D（90）： 1.2μm
【００６３】 クレイトン（Kraton）G 1651 クレイトン（Kraton）G 1651は、以下の構造、 スチレン‐水素化ブタジエン‐スチレンブロックコポリマーであって、スチレン
とゴムとの比が32：68であるもの、 を有するシェルからのブロックコポリマーである。
【００６４】 ブレンドの製造 SPS、および割り当ての、クレイトン（Kraton）G 1651を、ZSK 30押出機中で
溶解して、MS分散液（MS−1、MS−2）を、モノポンプを用いてこのポリマーメル
ト中に直接注入した。水を補助スクリューを介して押出機に沿って引き、出来上
がったポリマーメルトを押出機から排出し、冷却して、ペレット化した。
【００６５】 結果 結果を、添付の表中に示す。
【００６６】 コメント 見てのとおり、MSPゴム（MS‐1、MS‐2）の使用により、クレイトン（Kraton
）そのものにより得られるよりも良好な特性、例えば、ノッチ付衝撃強さ、MVR
、弾性率、降伏応力および破断応力等の組み合わせが得られる。
【００６７】
【表２】
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年６月２１日（２０００．６．２１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 53/02 Ｃ０８Ｌ 53/02 Ｄ０１Ｆ 6/56 Ｄ０１Ｆ 6/56 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ ，ＡＵ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＧＥ， ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＪＰ，ＫＲ，ＫＺ，Ｌ Ｔ，ＬＶ，ＭＫ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＵＡ，ＵＳ，ＺＡ (72)発明者 ラムシュタイナー，ファルコ ドイツ、Ｄ−67056、ルートヴィッヒスハ ーフェン、ヴェストリング、56 Ｆターム(参考） 4F071 AA12 AA22 AA33 AA75 AD02 AE22 BC01 BC07 4J002 BC03W BN12X BP01Y FA08X FD019 GK00 4J011 JA06 JA07 JB08 JB26 JB29 4J026 AA43 AA45 AA49 AC09 BA05 BA27 BA31 DA03 DA07 DB03 DB08 DB15 FA03 FA07 GA09 4L035 EE01 EE08 EE20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 A）シンジオタクチック構造を有するビニル芳香族ポリマー3
    0〜99.9質量％、 B）弾性粒状グラフトポリマー0.1〜70質量％、および、 C）ジエン部分が部分的にまたは完全に水素化されていてもよい弾性粒状スチレ
    ン‐ジエンブロックコポリマー0〜69.9質量％を含有する熱可塑性成形材料であ
    って、成分B)の粒子が0.1〜10μmの範囲内にD(50)を有し、かつ、成分B)が成分C
    )と異なることを特徴とする熱可塑性成形材料。
  2. 【請求項２】 成分B)がマイクロサスペンジョン重合により得られうる請求
    項1記載の熱可塑性成形材料。
  3. 【請求項３】 成分B)の粒子の50％を超える数が成形材料中に非凝集形態で
    存在する請求項1または2記載の熱可塑性成形材料。
  4. 【請求項４】 成分C)の量が成形材料に対して0〜30質量％の範囲内である
    請求項1〜3のうちのいずれかに記載の熱可塑性成形材料。
  5. 【請求項５】 繊維、フィルムまたは成形品の製造のための請求項1〜４の
    うちのいずれかに記載の熱可塑性成形材料の使用法。
  6. 【請求項６】 請求項1〜４のうちのいずれかに記載の熱可塑性成形材料か
    ら得られうる繊維、フィルムまたは成形品。
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