JP2002511434A - ２−アリール−ｌ−置換ブタン−２，３−ジオールの不斉合成 - Google Patents

２−アリール−ｌ−置換ブタン−２，３−ジオールの不斉合成

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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 乳酸誘導体から純粋なジアステレオマーの(2R,3R),(2R,3S),(2S,3R)および(2S,3S)-2-アリール-l-置換ブタン-2,3-ジオールの不斉合成に関するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、乳酸誘導体から純粋なジアステレオマーの（２Ｒ，３Ｒ），（２Ｒ
，３Ｓ），（２Ｓ，３Ｒ），および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリール−ｌ−置換ブ
タン−２，３−ジオールの不斉合成に関するものである。
【０００２】 一般式９で示される不斉ジオールは、
【化６８】 ＳＭ−８６６８Ｉ、（ゲナコナゾール）1、II2、III3、IV4のような抗かび剤と
して有用な各種アゾール誘導体の調製に用いられる重要な中間体である。
【０００３】
【化６９】
【０００４】 上記ジオール類のラセミ混合物の調製について、いくつかの合成法2、3、8が開
発され文献に報告されている。もうひとつの公表されている方法5は不斉（２Ｒ
，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタ
ノールに関するもので、標記化合物の調製に用いられる中間体で、（２Ｒ，３Ｒ
）ジアステレオマーを生成するが、それはかなりの量の（２Ｒ，３Ｓ）ジアステ
レオマーが混在している。上記文献に記載されたスキームルートは下のスキーム
Ａに要約されており、ここで、Ｘ1およびＸ2はフッ素である。
【０００５】
【化７０】
【０００６】 上記の方法は次のような欠点を持っている。即ち、 第一に、原料であるＳ−乳酸から中間体４ａに到達するにはいくつもの工程を
要している。 第二に、中間体６ａを得るために４ａのケト基をメチレン基へ変換するには、
まとめて市販されておらず、その場で調製しなければならないトリメチルシリル
マグネシウムクロライドのような化学品を必要とし、そのため、時間、労働力、
および費用が増大する。
【０００７】 第三に、工程IVは中間体５ａの回収にベンゼンを使用している。ベンゼンは人
体内で代謝されない、よく知られた危険な溶媒であり、その結果重大な健康上の
問題を引き起こす。 第四に、アリルアルコールはエポキシ化（工程VIII）で、（２Ｓ，３Ｒ）およ
び（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール（７ａおよび７ｄ）になる。この粗化合物は次の工程で精製しな
ければならない。必要なジアステレオマー（２Ｓ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフ
ルオロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタノールは、好ましくないジアス
テレオマーを生成混合物から分離できないため、純粋なキラル形として得ること
ができない。
【０００８】 第五に、この７ａおよび７ｄの混合物は、次でそれぞれに対応する安息香酸エ
ステル（８ｂおよび８ｅ、工程IX）に変換され、それらは分離精製されなければ
ならない。使用される精製工程では、好ましくないジアステレオマーを混合物か
ら完全除去することはできない。分離精製工程では、純粋なジアステレオマーが
得られることなく、労務費、溶媒および時間のコストを増大させている。この文
献に報告されている収率をわれわれの実験では再現できなかった。 第六に、この安息香酸エステルは加溶媒分解され（工程Ｘ）、最終製品はシリ
カゲル・クロマトグラフィーで精製されなければならない。精製後の精製品でも
、尚好ましくない（２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，
４−エポキシ−２−ブタノールジアステレオマー（７ｃ）が混合している。
【０００９】 上記の事実をもとに、ここに記載したプロセスは、ジアステレオマーとして純
粋な（２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ
−２−ブタノール製品７ｂを大規模生産する方法として適当なプロセスではない
。このプロセスには、各工程でカラムクロマトグラフィーが必要で、それは労働
力、化学品、抽出精製コストを増加させる。精製後も、必要な物質（２Ｒ，３Ｒ
）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタノール
（７ｂ）の純度は９５％にすぎず、残りは不必要なジアステレオマー（７ｃ）で
ある。 従って、本発明は、市販の乳酸誘導体から出発して、純粋で望ましいジアステ
レオマーである７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、９ａ、９ｂ、９ｃおよび９ｄを鏡像異
性選択的に合成するより効果的な新しい方法に関するものである。
【００１０】 本発明の要約 本発明は、光学活性でジアステレオマー的（２Ｓ，３Ｒ）、（２Ｒ，３Ｒ）、
（２Ｒ，３Ｓ）および（２Ｓ，３Ｓ）−３−アリール−３，４−エポキシ−２−
ブタノール（７ａ−７ｄ）で鏡像異性純度９９％以上、一般式９ａ〜ｄの（２Ｒ
，３Ｓ）、（２Ｒ，３Ｒ）、（２Ｓ，３Ｒ）および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリー
ル−１−置換ブタン−２，３−ジオールで鏡像異性純度が殆ど１００％のものを
合成するための新規で改良された方法に関するものである。
【００１１】
【化７１】
【００１２】 ７ａ−７ｄおよび９ａ−９ｄのジアステレオ選択的合成法はスキーム−Ｂ、Ｃ
、Ｄ、およびＥで示されており、ここでＸ1およびＸ2は同じかまたは異なり、水
素または塩素、臭素、フッ素置換基のいずれか、または低級なアルキル基または
アルコキシ基で、さらに塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲンで置換されて
いてもよく、Ｘは次のものからなる群から選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここでＲ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素また
はフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素
、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換
され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていない
か、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群から選ばれた置換
基をもち、このフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ素、
ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のコキシ基で置換されている。 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記と同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ）2−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）2およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる。 そして、Ｒは保護基である。
【００１３】 本発明は中間体４ａおよび４ｂからそれぞれ（２Ｓ，３Ｒ）−３−アリール−
３，４−エポキシ−２−ブタノール（７ａ）および（２Ｒ，３Ｓ）−３−アリー
ル−３，４−エポキシ−２−ブタノール（７ｃ）を殆ど１００％のジオステレオ
マー性収率で生成することに関するものである。そのＮＭＲから、製品（７ａお
よび７ｃ）は好ましくないジアステレオマーが全く含まれていないようである。
【００１４】 本発明はキラル炭素原子のところで、立体配置の完全な転化を高収率で得る方
法を提供するものである。 本発明では、工程VII（スキーム−ＣおよびＥ）で安息香酸の代わりにｐ−ニ
トロ安息香酸を使用し、それにより、最終化合物（２Ｒ，３Ｒ）−および（２Ｓ
，３Ｓ）−２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオール（それぞれ９ｂお
よび９ｄ）が高純度高収率で得られる。
【００１５】 本発明は、ジアステレオマー的に純粋な化合物９ａ−９ｄを、遊離の塩基また
は塩酸付加物として、高価なクロマトグラフィーによる精製を必要とせずに、不
純物のない状態に製造するための速度が速く経済的な製造法を提供するものであ
る。 反応工程VII、VIIIおよびIX（スキーム−ＣおよびＥ）は一つの容器で行なう
ことができ、中間体７ａおよび７ｃからそれぞれ、最終のジオール（２Ｒ，３Ｒ
）−および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオール
（９ｂおよび９ｄ）を、時間のかかる関連中間体の分離精製を行なうことなく、
純粋な結晶形で生成することができる。
【００１６】 本発明は、一つの容器で直接、中間体（それぞれ７ａおよび７ｃ）から、最終
化合物（２Ｒ，３Ｒ）−および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリール−１−置換ブタン
−２，３−ジオール（９ｂおよび９ｄ）を生成するのにｐ−ニトロ安息香酸を使
用し、そのことがコストのかかる分離および精製工程を経ることなく高品質な製
品を得ること可能にしている。
【００１７】 好ましい実施態様の説明 本発明は、次のようなジアステレオマー的に純粋な化合物を商業生産するため
の新規な方法に関する。
【００１８】
【化７２】
【００１９】 ここでＸ1およびＸ2は同じかまたは異なり、水素または塩素、臭素、フッ素置
換基のいずれか、またはＣ1−Ｃ6アルキル基またはＣ1−Ｃ6アルコキシ基で、さ
らに塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲンで置換されていて、Ｘは次のもの
からなる群から選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここでＲ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素また
はフェニル基であり、そのフェニル基は塩素、臭素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6
のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されまたは置換されておらず
、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていないか、
または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群から選ばれた置換基を
もち、このフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ素、ＮＯ 2 、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されている。 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記と同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ）2−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）2およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる。
【００２０】 Ｃ1−Ｃ6のアルキル基の例としては、直鎖または側鎖のあるアルキル基、例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、およびヘキ
シル基があげられる。 Ｃ1−Ｃ6のアルコシキ基の例としては、直鎖または側鎖のあるアルコキシ基で
、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、
ｎ−ペンチロキシ基、イソペンチロキシ基、およびｎ−ヘキシロキシ基があげら
れる。
【００２１】 スキーム−Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥは市販の光学活性乳酸メチルを原料として、
段階的に（２Ｒ，３Ｒ），（２Ｒ，３Ｓ）、（２Ｓ，３Ｒ）および（２Ｓ，３Ｓ
）−２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオールの合成について示してお
り、ここでＸ1、Ｘ2およびＸは前記の通り、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキシメチル基を
示す。工程IIの保護剤は、２，３−ジヒドロ−４Ｈ−ピラン、臭化ベンジル、塩
化ベンジル、臭化トリチル、塩化トリチル、臭化メトキシメチルおよび塩化β−
メトキシエトキシメチルからなる群から選ばれる。それぞれの上記化合物を得る
ための方法は一般実験の部分に示されている。キラル中間体４ａおよび４ｂは、
文献３記載の方法に従って生成される。中間体４ａおよび４ｂはそれぞれ、テト
ラヒドロフランで、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドまたはリチウム
ビス（トリメチルシリル）アミドの存在下で、臭化メチルトリフェニルスルホニ
ウムと反応させることにより、エクソメチレン中間体５ａおよび５ｂに変換され
る。化合物５ａおよび５ｂは保護基を外した後、それぞれ一般式６ａおよび６ｂ の置換されたアリルアルコールになり、ついでｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキ
サイドとチタニウムイソプロポキシドおよびキラルタルタレート存在下、「鋭敏
でない」ステレオ選択的エポキシ化法6に従い、例えばジクロロメタンのような
非プロトン性溶媒中で、−１５℃から２５℃の間の温度で反応させると、高ジア
ステレオマー収率の不斉中心が発生する。
【００２２】 このようにして生成された７ａおよび７ｃは、適当なカルボン酸、好ましくは
ｐ−ニトロ安息香酸と、トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジカルボン
酸エステル7存在下で反応させることにより、Ｃ２の炭素の位置で定量的な立体
配置の転化が起こり、対応するエステル８ａ、８ｂ、８ｃおよび８ｄに変換され
る。これらのエステルの加溶媒分解はナトリウムメトキシドの存在下で、それぞ
れ化合物７ｂおよび７ｄが、高いジアステレオマー性で、高収率で得られる。 工程VII（スキーム−ＣおよびＥ）で、安息香酸を使用すると、対応する安息
香酸エステルの収率が低く、その結果、加溶媒分解による（２Ｒ，３Ｒ）−３−
アリール−３，４−エポキシ−２−ブタノール７ｂおよび（２Ｓ，３Ｓ）−３−
アリール−３，４−エポキシ−２−ブタノール７ｄの収率も低い。安息香酸の代
わりにｐ−ニトロ安息香酸を使うと、全体の反応時間が短縮され、全体の収率お
よび生成物（８ａおよび８ｃ）の品質も向上する。１，２，４−トリアゾールと ７ｂ および７ｄとの反応で得られたジオール（９ｂおよび９ｄ）は、反応混合物
から、それらの塩酸付加物または遊離塩基として分離された。回収された生成物
はジアステレオマーとして純粋で、望ましくないジアステレオマーは含まれてい
ない。
【００２３】 １，２，４−トリアゾールと化合物７ａ−ｄとのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドまたはアセトニトリル中で、炭酸カリウム、炭酸セシウム、ＮａＨまたはナト
リウムメトキシドのような塩基存在下、０−８０℃での反応後、結晶化すれば、
対応する鏡像異性的に純粋な一般式９ａから９ｄの２−アリール−置換ブタンー
２，３−ジオールが得られる（スキーム−ＣおよびＥ、工程VII−IXおよびＸ）
。
【００２４】 スキーム−ＢからＥに記載されたすべての反応がうまく行なわれ、粗中間体か
ら始めて、鏡像異性体的に純粋な一般式９ａ−ｄで表される２−（２，４−ジフ
ルオロフェニル）−１−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）ブタン−２，
３−ジオールが、それぞれの乳酸メチルを出発原料として生成される。最終生成
物９ａ−９ｄはそれらの粗反応生成物から結晶化により分離できる。 それ以外で、好ましい反応工程（VII、VIIIおよびIX；スキームーＣおよびＥ）
は逐次的に、実質上一つの容器で行なわれ、ジアステレオマー的に純粋な標記の
化合物９ｂおよび９ｄがそれらの塩酸付加物として、中間体８ａから８ｄ、７ｂ から７ｄのどれも、仕上処理、分離または生成することなしに得られる。このジ
アステレオマー９ｂおよび９ｄは、好ましくないジアステレオマーを含まない状
態で得られた。
【００２５】 安息香酸の代わりに、ｐ−ニトロ安息香酸を使用し、一つの容器中で行なう方
法はまた、分離した純粋な対応生成物、２−アリール−１−置換ブタン−２，３
−ジオール（９ｂおよび９ｄ）の収率を高くする。 いくつかの一般的反応条件は次の通りである。
【００２６】スキーム Ｂ 式５ａで示される化合物は式４ａで示される化合物を臭化メチルトリフェニル
ホスホニウムおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミドと適切な溶媒中で
反応させることにより合成される。ここで使用される溶媒については、溶媒が反
応に関与しない限り特別な制限はなにもない。使用し得る溶媒の例としては、Ｔ
ＨＦ、ジアルキルエーテル、ジオキサン、ＤＭＦおよびＤＭＳＯのような非プロ
トン性の極性溶媒があげられる。この反応では臭化メチルトリフェニルスルホニ
ウムおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミドを式４ａの化合物モル当た
り１−２モル当量使用することが望ましい。 反応温度は−７０℃から５０℃の範囲であればよく、反応時間は１から２５時
間、望ましくは１から１７時間である。
【００２７】 式６ａで表される化合物は式５ａで表される化合物をピリジニウム−ｐ−トル
エンスルフォネートと適切なアルコール、例えば、メタノール、エタノール、プ
ロパノールまたはブタノール、望ましくはエタノール中で反応させることによっ
て得られる。この反応では、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートを式５ａ で示される化合物のモル当たり０．１から１．０モル当量使用することが望まし
い。 温度範囲は３０℃から１００℃の範囲内でよい。反応時間は１から１５時間の
範囲、望ましくは１から９時間の範囲がよい。
【００２８】 式７ａで示される化合物は、式６ａで示される化合物とｔ−ブチルヒドロパー
オキサイドを式６ａ化合物のモル当たり１から５モル当量、望ましくは６ａ化合
物の３．０２当量反応させることにより得られる。 この反応は、式６ａで示される化合物モル当り０．１モル当量から１モル当量
のチタニウム（IV）イソプロポキシド、望ましくは式６ａで示される化合物モル
当り０．５モル当量、および式６ａで表される化合物のモル当たり０．１モル当
量から１モル当量のＬ（＋）−酒石酸ジアルキル、好ましくはＬ（＋）−酒石酸
ジエチルが式６ａで示される化合物モル当り０．３モル当量の存在下で、例えば
、塩化メチレン、クロロホルム、望ましくは塩化メチレンのような適切な溶媒中
でモレキュラーシーブ粉末（３Å）と反応させることにより行なわれる。反応温
度は−２０℃から２０℃、望ましくは−５℃で行なえばよく、反応時間は５時間
から１５時間の間、望ましくは１２時間とするのがよい。
【００２９】スキーム Ｃ 式９ａで示される化合物は、式７ａで示される化合物を、式７ａで示される化
合物のモル当たり１モル当量から４モル当量、望ましくは式７ａで示される化合
物モル当たり２モル当量の１，２，４−トリアゾールと、式７ａで示される化合
物モル当たり１モル当量から５モル当量、望ましくは式７ａで示される化合物の
モル当たり２．２モル当量の金属ハライド、望ましくはＮａＨの存在下で、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ＤＭＳＯ、ジオキサンのような適切な非プロトン系
溶媒、望ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で反応させることにより得る
ことができる。反応温度は２０℃から１００℃、望ましくは８０℃がよい。反応
時間は１時間から５時間、望ましくは２時間がよい。
【００３０】 式８ａで示される化合物は、式７ａで示される化合物を、式７ａで示される化
合物モル当たり１モル当量から２モル当量、望ましくは式７ａで示される化合物
モル当たり１．２モル当量のトリフェニルホスフィン、ｐ−ニトロ安息香酸およ
びジエチルアゾジカルボキシレートと、適切な溶媒中、不活性ガス雰囲気中で反
応させることにより得られる。ここで使用する溶媒については、反応に関与しな
い限り特別な制限はない。使用し得る溶媒としては、ＴＨＦ、ジアルキルエーテ
ルおよびジオキサンのような非プロトン性の極性溶媒があげられる。 反応温度範囲は−１０℃から１０℃でよく、望ましいのは０℃である。反応時
間の範囲は１時間から５時間でよく、望ましいのは１時間である。
【００３１】 式８ｂで示される化合物は、式７ａで示される化合物をトリフェニルホスフィ
ン、安息香酸およびジエチルアゾジカルボキシレートの式７ａで示される化合物
モル当たり１モル当量から２モル当量、望ましくは式７ａで示される化合物モル
当たり１．２モル当量と、適切な溶媒中、不活性ガスの雰囲気中で反応させるこ
とにより得られる。ここで用いる溶媒としては、反応に関与しない限り特別な制
限はない。溶媒の例示としては、ＴＨＦ、ジアルキルエーテルおよびジオキサン
のような非プロトン性の極性溶媒があげられる。反応の温度範囲は０℃から４０
℃、望ましくは２５℃である。反応時間の範囲は１時間から２５時間、望ましく
は１７時間である。
【００３２】 式７ｂで表される化合物は、式８ａで示される化合物を、ナトリウムアルコキ
シド、望ましくはナトリウムメトキシドと、式８ａで示される化合物モル当たり
１から２モル当量、望ましくは式８ａで示される化合物モル当たり１．３モル当
量、メタノール、エタノール、プロパノールまたはブタノールのような適切なア
ルコール中で、不活性ガスの雰囲気下で反応させることにより得られる。反応温
度範囲は−５℃から２０℃、望ましくは０℃である。反応時間の範囲は０．５時
間から２時間、望ましくは１時間である。
【００３３】 式９ｂで表される化合物は、式７ｂで表される化合物を、１，２，４−トリア
ゾールおよび炭酸カリまたは水素ナトリウムのような適切な塩基と、式７ｂで表
される化合物モル当たり２モル当量から６モル当量、望ましくは式７ｂで表され
る化合物モル当たり４．０モル当量、ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、ジオキサン
、ＤＭＦ、アセトニトリルおよびＤＭＳＯのような適切な非プロトン性溶媒中、
不活性ガス雰囲気下で反応させることにより得られる。反応の温度範囲は２５−
１００℃、望ましくは８０−８５℃である。反応時間は１−６時間の範囲、望ま
しくは４時間である。
【００３４】スキーム Ｄ 式５ｂで表される化合物は、式４ｂで表される化合物と、臭化メチルトリフェ
ニルホスホニウムおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミドと適切な溶媒
中で反応させることにより得られる。溶媒については、反応に関与しない限り特
別な制限はない。この溶媒については、例えば、ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、
ジオキサン、ＤＭＦおよびＤＭＳＯのような非プロトン性極性溶媒があげられる
。この反応では、臭化メチルトリフェニルホスホニウムおよびリチウムビス（ト
リメチルシリル）アミドを式４ｂで表される化合物のモル当たり１モル当量から
２モル当量使用することが好ましい。 反応温度範囲は−７０℃から５０℃がよい。反応時間は１時間から２５時間の
範囲内であればよく、好ましいのは１時間から１７時間の範囲内である。
【００３５】 式６ｂで表される化合物は、式５ｂで表される化合物と、ピリジニウム−ｐ−
トルエンスルホネートをメタノール、エタノール、プロパノールまたはブタノー
ルのような適切なアルコール、好ましくはエタノール中で反応させることにより
得られる。この反応では、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートを式５ｂで
表される化合物モル当たり０．１モル当量から１モル当量用いることが好ましい
。 その反応温度は３０℃から１００℃の範囲内であればよい。その反応時間は１
時間から１５時間の範囲内、好ましくは１時間から９時間の範囲内がよい。
【００３６】 式７ｃで表される化合物は、式６ｂで表される化合物と、ｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシドを、式６ｂで表される化合物モル当たり、１モル当量から５モル当量
、好ましくは式６ｂで表される化合物モル当たり３．０２モル当量と反応させる
ことにより得られる。 この反応は、チタニウム（IV）イソプロポオキサイドが式６ｂで表される化合
物モル当たり０．１モル当量から１モル当量、好ましくは式６ｂで表される化合
物モル当たり０．５モル当量とＬ（＋）酒石酸ジアルキル、好ましくはＬ（＋）
−酒石酸ジエチルが式６ｂで表される化合物モル当たり０．１モル当量から１モ
ル当量、好ましくは式６ｂで表される化合物モル当たり０．３モル当量と、メチ
レンクロライドまたはクロロフォルムのような適切な溶媒、好ましくはメチレン
クロライド中で、モレキュラーシーブ（３Ａ°）粉末と反応することにより得ら
れる。その反応温度は−２０℃から２０℃の範囲であればよく、好ましいのは−
５℃である。反応時間の範囲は５時間から１５時間の間、好ましくは１２時間で
ある。
【００３７】スキーム Ｅ 式９ｃで表される化合物は、式７ｃで表される化合物を、１，２，４−トリア
ゾールを式７ｃで表される化合物モル当たり、１モル当量から４モル当量、好ま
しくは式７ｃで表される化合物モル当たり２モル当量と、金属ハライド、好まし
くはＮａＨを式７ｃで表される化合物モル当たり１モル当量から５モル当量、好
ましくは式７ｃで表される化合物モル当たり２．２モル当量と、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ＤＭＳＯ、ジオキサンのような適切な非プロトン性溶媒、好ま
しくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で反応させることにより得られる。反応
温度は２０℃から１００℃の範囲内、好ましくは８０℃であればよい。反応時間
は１時間から５時間の範囲内、好ましくは２時間である。
【００３８】 式８ｃで表される化合物は、式７ｃで表される化合物と、トリフェニルホスフ
ィン、ｐ−ニトロ安息香酸、およびジエチルアゾジカルボキシレートを式７ｃで
表される化合物モル当たり１モル当量から２モル当量、好ましくは式７ｃで表さ
れる化合物モル当たり１．２モル当量、適切な溶媒中、不活性雰囲気下で反応さ
せることにより得られる。ここで用いられる溶媒については、反応に関与しない
限り特別な制限はない。用いられる溶媒としてはＴＨＦ、ジアルキルエーテルお
よびジオキサンのような非プロトン性の極性溶媒が含まれる。 反応温度は−１０℃から１０℃までの温度がよく、好ましくは０℃である。反
応時間は１時間から５時間、好ましくは１時間である。
【００３９】 式８ｄで表される化合物は、式７ｃで表される化合物と、トリフェニルホスフ
ィン、安息香酸およびジエチルアゾジカルボキシレートを式７ｃで表される化合
物モル当たり１モル当量から２モル当量、好ましくは式７ｃで表される化合物モ
ル当たり１．２モル当量、適切な溶媒中、不活性雰囲気下で反応させることによ
り得られる。ここで用いられる溶媒については、反応に関与しない限り特別な制
限はない。このような溶媒の例としては、ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、および
ジオキサンのような非プロトン性の極性溶媒があげられる。反応温度は０℃から
４０℃の範囲内であればよく、好ましくは２５℃である。反応時間は１時間から
２５時間の範囲内であればよく、好ましくは１７時間である。
【００４０】 式７ｄで表される化合物は、式８ｃで表される化合物と、ナトリウムアルコキ
シド、好ましくはナトリウムメトオキシドを、式８ｃで表される化合物モル当た
り１モル当量から２モル当量、好ましくは式８ｃで表される化合物モル当たり１
．３モル当量、メタノール、エタノール、プロパノールまたはブタノールのよう
な適切なアルコール中で、不活性雰囲気下で反応させることにより得ることがで
きる。反応温度は−５℃から２０℃の範囲ないであればよく、好ましくは０℃で
ある。反応時間は０．５時間から２時間であればよく、好ましくは１時間である
。
【００４１】 式９ｄで表される化合物は、式７ｄで表される化合物と、炭酸カリウムまたは
ナトリウムハライドのような適切な塩基を、式７ｄで表される化合物モル当たり
２から６モル当量、好ましくは式７ｄで表される化合物モル当たり４モル当量、
ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、ジオキサン、ＤＭＦ、アセトニトリルおよびＤＭ
ＳＯのような適切な非プロトン性溶媒中で、不活性雰囲気下で反応させることに
よる得ることができる。反応温度は２５℃から１００℃の範囲内にあればよく、
好ましくは８０℃から８５℃の範囲である。反応時間は１時間から６時間、好ま
しくは４時間である。
【００４２】
【化７３】
【００４３】
【化７４】
【００４４】
【化７５】
【００４５】
【化７６】
【００４６】 実施例 本発明に基づき、各化合物は調製法を以下の実施例で説明する。ここでの代表
的実施例ではＸ1およびＸ2はフッ素、Ｒはテトラヒドロピラニル、Ｘは１，２，
４−トリアゾール−１−イルである。
【００４７】 実施例１ （３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン［５ａ］
【００４８】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（１６２．２ｇ，０．４７４モル）を３
５０ｍｌの乾燥テトロヒドロフランに入れ、機械的に攪拌した混合物を８℃まで
冷却した。リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（８４．８ｇ，０．５０７
モル）をテトラヒドロフラン５００ｍｌに入れ、溶解した液を上記混合物に、混
合物の温度が２３℃を保持できるような速度で加えた。常温で１時間攪拌後、内
容物を−７０℃に冷却し、３０分攪拌した。次いで、化合物４ａ、（２Ｓ）−２
’，４’−ジフルオロ−２−（３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−
２−イルオキシ）プロピオフェノン（１００ｇ，０．３７０モル）を２５０ｍｌ
のテトラヒドロフランで溶解して、混合物の温度を−７０℃以下に保持しながら
徐々に加えた。得られた混合物を７℃で１７時間攪拌した。酢酸エチル６５ｍｌ
を上記混合物に加え、次いで３．９Ｌのヘキサンを加え１５分間放置した。固形
物を吸引濾過し、６５０ｍｌのヘキサンで充分に洗浄した。その濾液をメタノー
ル液と水（２×１３００ｍｌ）の比が１：１の混合液、次いでブライン（１３０
０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ、標記化合物５ａ
を油状物（９１．５ｇ，９２％）として得た。
【００４９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５４−ＣＨ 3），
１．４８−１．８０（ｍ，６Ｈ），３．３６−３．５３（ｍ，１Ｈ），３．６３
−３．９３（ｍ，１Ｈ），４．５４−４．６４（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，−
ＣＨ），４．６９−４．７９（ｍ，１Ｈ），５．１５（ｍ，１Ｈ），５．５０（
ｄ，１Ｈ），６．６９−６．８２（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．２８
（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００５０】 実施例２ （２Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−オル［６ ａ ］
【００５１】 化合物５ａ、（３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン（８１
ｇ，０．３０２モル）とピリジニウム−Ｐ−トルエンサルホネ−ト（３２．７ｇ
，０．１３０モル）を１２００ｍｌのエタノールに入れた混合物を６０℃で９時
間加熱した。反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンとともに蒸発した。次にト
ルエンを残渣に加え、得られた固形物を濾過除去した。濾液を減圧下で蒸発させ
、得られた残渣をシリカゲルのクロマトグラフィにかけた。１０％酢酸エチルの
ヘキサン溶液で溶離し、標記化合物をとして淡黄色油状物６ａ（４４．９６ｇ，
８１％）を得た。
【００５２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４３，−ＣＨ 3）
，２．２５（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．６９（ｍ，１Ｈ，ＣＨ），５．１７
（ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ 2），６．７５−６．９０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１
７−７．２９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００５３】 実施例３ （２Ｓ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ａ］
【００５４】 Ｌ（＋）−酒石酸ブチル（２．４３ｇ，０．０１１８モル）を４７０ｍｌの乾
燥ＣＨＣｌ2に溶解した液に活性化した３Ａ°モレキュラーシーブ粉末（６ｇ）
を加え、得られた混合物−５℃まで冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシ
ド（７．２ｇ，０．０２５３モル）を３８ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解した液を加え
、次にｔ−ブチルヒドロパーオキサイド（１１．２ｇ，０．１２４モル）を７５
ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解した液を−５℃で５分間攪拌した。この混合物に化合物 ６ａ 、（２Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−オル
（７．５ｇ，０．０４１モル）を３８ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶液して加え、５℃で
１２時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、飽和した３０％ＮａＯＨ水
溶液２０ｍｌを加え、得られた混合物を１０℃まで加熱した。２０ｇのＭｇＳＯ 4 と６ｇのセライトを加え１０℃で３０分攪拌した。混合物をセライト上で吸引
濾過した。その濾液に２８０ｍｌのトルエンと２２５ｍｌのエーテルを加え不溶
物を濾過により除去した。濾液を真空中で蒸発し、得られた残渣を２００ｍｌの
エーテルに溶解し、次いで吸引濾過して不溶物を除去した。濾液をシリカゲルの
層を通し、次いでシリカゲルの層を２０ｍｌのエーテルで洗浄した。濾液を減圧
下で濃縮して、黄色の油状物が得られ、シリカゲルのクロマトグラフィにかけた
。ＣＨＣｌ3で溶離し、油状物（３．５ｇ，４３％）として標記化合物７ａを得
た。
【００５５】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２２，−ＣＨ 3）
，２．６９（ｂ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８８−２．９６（ｍ，１Ｈ，エポキシド
），３．２７−３．３０（ｍ，１Ｈ，エポキシド），４．１０（ｍ，１Ｈ，−Ｃ Ｈ ），６．７８−６．９４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．４４（ｍ，
１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００５６】 実施例４ （２Ｒ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオ−ル［９ａ］
【００５７】 氷冷した乾燥ＮａＨ（０．２１６ｇ，０．００９モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（１０ｍｌ）に懸濁した液に、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０
．６９ｇ，０．０１０モル）を窒素雰囲気下で少しずつ加えた。その混合物を徐
々に室温に戻し、化合物７ａの水溶液に（２Ｒ，３Ｓ）−２−（２，４ジフルオ
ロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタノール（１．０ｇ，０．００５モル
）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）に溶解した液を加える。得られた
混合物を８０℃で２時間加熱した。溶媒を減圧下で除去し５０ｇの破砕した氷を
その残渣に加えた。反応混合物を酢酸エチル（１００ｍｌ，２×２０ｍｌ）で抽
出した。有機層を合わせ、水（２０ｍｌ）、ブライン（５０ｍｌ）で洗浄しＭｇ
ＳＯ4上で乾燥した。溶媒を真空下で除去し、その残渣をシリカゲルのクロマト
グラフィにかけた。メタノールのクロロホルム溶液（０％−３％）で溶離しアモ
ルファス固形物（０．５ｇ，３７％）の化合物９ａを得た（０．５ｇ，３７％）
。
【００５８】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４４，−ＣＨ 3）
，２．８９（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ）４．５１
−４．５８（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６５−６．８
５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．
７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｍｍ．
【００５９】 実施例５ （２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チル４’−ニトロベンゾエート［８ａ］
【００６０】 化合物７ａ、（１．４ｇ，０．００７モル）、トリフェニルホスフィン（２．
２４ｇ，０．００８４モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（１．４ｇ，０．００８
４モル）を３０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃に冷却した。
その透明な液にジエチルアアゾジカルボキシレート（１．３２ｍｌ，０．００８
４モル）を徐々に滴下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧
下で蒸発させ、その残渣を酢酸エチル（７５ｍｌ）と水（１５ｍｌ）で分配した
。その有機層を水、ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶
媒を蒸発させ、その残渣をシリカゲルのクロマトグラフィにかけた。５％酢酸エ
チルのヘキサン溶液で溶離し、油状の（２Ｒ，３Ｒ）−（２，４−ジフルオロフ
ェニル）−３，４−エポキシブチル４’−ニトロ安息香８ａを得た（１．５２ｇ
，６２％収率）。
【００６１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９０Ｈｚ，−ＣＨ 3 ），２．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８９Ｈｚ，エポキシド），３．２９（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝４．８９Ｈｚ，エポキシド），５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ），６．
９０−７．００（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４２−７．５５（ｍ，１Ｈ，Ａｒ
−Ｈ），８．１６−８．３４（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００６２】 実施例６ （２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チル安息香酸［８ｂ］
【００６３】 化合物７ａ、（２．０ｇ，１０ミリモル）を２０ｍｌのテトラヒドロフランに
溶解し氷冷した液にトリフェニルホスフィン（３．０２ｇ，１１．５ミリモル）
、安息香酸（１．４０ｇ，１１．５ミリモル）およびジエチルアゾジカルボキシ
レート（２．０ｇ，１１．５ミリモル）を加え、窒素雰囲気下、室温で１７時間
攪拌した。反応混合物を酢酸エチル（７０ｍｌ）で希釈し、水（４０ｍｌ）で洗
浄した。その水層を酢酸エチル（２×２０ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせ水
（２０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ、
油状の残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。４％酢酸エチルのヘキサン
溶液で溶離し、油状の標記化合物８ｂ（１．２２ｇ，４０％）を得た。
【００６４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６４，−ＣＨ 3）
，２．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９４Ｈｚ，エポキシド），３．２４（ｄ，１Ｈ
，Ｊ＝ ５．０３Ｈｚ，エポキシド）５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ），６．７９
−６．９８（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．６１（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ ），７９９−８．０４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００６５】 実施例７ （２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ｂ］
【００６６】 方法Ａ 氷冷したＮａＯＣＨ3（２１７ｍｇ，４．０２ミリモル）を２０ｍｌのＣＨ3Ｏ
Ｈに溶解した液に化合物８ａ、（２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェ
ニル）−３，４−エポキシブチル４’−ニトロベンゾエート（１．０８ｇ，３．
０９ミリモル）を５ｍｌのＣＨ3ＯＨに溶解した液を滴下し、得られた混合物を
０℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧下で蒸発させ、その残渣に１０ｇの破砕した
氷を加えた。その混合物を酢酸エチル（２×４０ｍｌ）で抽出した。その有機層
を合わせ、水（１０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。濾過
後、溶媒を蒸発させ、残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。ＣＨＣｌ3
で溶離し、油状の標記化合物７ｂ（５６５ｍｇ，９１％）を得た。
【００６７】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６４，−ＣＨ 3）
，１．７８（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２２，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１７，エポキシド）４．０６−４．
１３（ｍ，１Ｈ），６．７６−６．９２（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７
．４７（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００６８】 方法Ｂ 氷冷したＮａＯＣＨ3（２３１ｍｇ，４．３ミリモル）を４０ｍｌのＣＨ3ＯＨ
に溶解した液に化合物８ａ（１．０ｇ，３．３ミリモル）を１０ｍｌのＣＨ3Ｏ
Ｈに溶解した液を滴下し、得られた混合物を室温で２時間攪拌した。溶媒を減圧
下で蒸発させ、その残渣に２０ｇの破砕した氷を加えた。その混合物を１Ｎ Ｈ
Ｃｌで酸性化し、酢酸エチル（２×５０ｍｌ）で抽出した。その有機層を合わせ
飽和ＮａＨＣＯ3（２×２０ｍｌ）、水、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥
した。濾過後、溶媒を蒸発させ、その残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけ
た。ＣＨＣｌ3で溶離し、油状の標記化合物７ｂ（５００ｍｇ，７６％）を得た
。
【００６９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６４，−ＣＨ 3）
，１．７８（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２２，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１７，エポキシド）４．０６−４．
１３（ｍ，１Ｈ），６．７６−６．９２（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７
．４７（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７０】 実施例８ （２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタジオ−ル［９ｂ］
【００７１】 方法Ａ 化合物７ｂ（５６０ｍｇ，２．８ミリモル）を１５ｍｌの乾燥アセトニトリル
に溶解した液に炭酸カリウム（１１６１ｍｇ，８．４ミリモル）および１，２，
４−トリアゾール（５８０ｍｇ，８．４ミリモル）を加えた。得られた混合物を
窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、少量の
酢酸エチルで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮させ、その残渣を３０ｇの酢酸エチ
ルに溶解した。得られた溶液を水（２×５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、有機槽を
硫酸ナトリウム上で乾燥した。内容物を吸引濾過し、その濾液を３０ｍｌのジエ
チルエーテルで希釈した。その溶液を冷却し、その溶液が飽和するまで無水ＨＣ
ｌガスの定常流を通した。標記化合物９ｂが塩酸付加物として吸引濾過により分
離された（０．５１４ｇ，６０％収率）。
【００７２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−Ｃ
Ｈ 3），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，
−ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１
（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，
１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７３】 塩酸付加物としての化合物９ｂを最少量の水に溶解し、アンモニアでｐＨ１０
に成るまでアルカリ性化し、その生成物を酢酸エチルで抽出した。その溶媒を減
圧下で除去し，化合物９ｂを遊離塩基として得た。
【００７４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−７．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ2，
−ＯＨ）６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（ｍ
，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１Ｈ
，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７５】 方法Ｂ １Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０．２７６ｇ，４．０ミリモル）を氷冷Ｋ 2 ＣＯ3（０．５５３ｇ，４．０ミリモル）と５ｍｌのＮ，Ｎ−ジチメルホルムア
ミドの混合物に加えた。反応混合物は徐々に常温に戻し、化合物７ｂ（０．４ｇ
，２．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジチメルホルムアミド（１ｍｌ）に溶解した液を
加え、８０℃で３時間加熱した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、破砕した氷２０
ｇを加えた。得られた混合物を酢酸エチル（７０ｍｌ，２５ｍｌ）で抽出した。
有機層を水、ブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ、そ
の残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。２％ＣＨ3ＯＨのＣＨＣｌ3溶液
で溶離し、標記化合物９ｂをアモルファス固形物（３１１ｍｇ，５８％）として
得た。
【００７６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７７】 実施例９ （３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン［５ｂ］
【００７８】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（８４．６ｇ，０．２３７モル）を１７
５ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した混合物を機械的に攪拌し、８℃まで
冷却した。リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（４２．４ｇ，０．２５３
ミリモル）を２５０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解した液を上記混合物に温度
が２３℃に保持できる速度で加えた。常温で１時間攪拌後、その内容物を−７０
℃に冷却し３０分間攪拌した。化合物４ｂ、（２Ｒ）−２’，４’ジフルオロ−
２−（３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２イルオキシ）プロピオ
フェノン（５０ｇ，０．１８５モル）を１２５ｍｌのテトラヒドロフランに溶解
した液を、その混合物に−７０℃以下の温度を保持しながら徐々に加えた。得ら
れた混合物を７℃で６０時間攪拌した。この混合物に３３ｍｌの酢酸エチルを加
え、次いで、２Ｌのヘキサンを加えて１５分間静置した。固形物を吸引濾過して
除去し３２５ｍｌのヘキサンで完全に洗浄した。濾液をメタノールと水（２×６
５０ｍｌ）１：１の混合液、ブライン（６５０ｍｌ）で洗浄しＭｇＳＯ4上で乾
燥した。溶媒を蒸発させて、油状物（４７７ｇ，９６％）として標記化合物６ｂ を得た。
【００７９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５，−ＣＨ 3），
１．４８−１．８５（ｍ，６Ｈ），３．３４−３．５３（ｍ，１Ｈ），３．６３
−３．９３（ｍ，１Ｈ），４．５８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．５，Ｈｚ，−ＣＨ），
４．６９−４．７９（ｍ，１Ｈ），５．１５（ｍ，１Ｈ），５．５１（ｄ，１Ｈ
），６．６８−６．６３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．２８（ｍ，１
Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００８０】 実施例１０ （２Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−オル［６ ｂ ］
【００８１】 化合物５ｂ、（３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン（４０
ｇ，０．１４９モル）とピリジニウム−Ｐ−トルエンスルホネート（２４．６１
ｇ，０．０９８モル）を４００ｍｌのエタノールに入れた混合物を６０℃で１４
．５時間加熱した。反応混合物は真空下で濃縮し、トルエンと共蒸発した。次い
で、その残渣にトルエンを加え、得られた固形物を濾過して除去した。その濾液
は減圧下で蒸発させ、その残渣はシリカゲルのクロマトグラフにかけた。１０％
酢酸エチルのヘキサン溶液で溶離し、淡黄色の油状物（１４．６８ｇ，５３％）
の化合物６ｂを得た。
【００８２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３７，−ＣＨ 3）
，１．８０（ｂ，１Ｈ，−ＯＨ），４．７０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），５．１８（
ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ 2），５．５５（ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ 2），６．７７−６．８９（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１７−７．２９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００８３】 実施例１１ （２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ｃ］
【００８４】 Ｌ−（＋）−酒石酸ジエチル（４．８６ｇ，０．２３６モル）を９４０ｍｌの
乾燥ＣＨ2Ｃｌ2（２．４Ｌ）に溶解した液に１２ｇの活性化した３Ａ°モレキュ
ラシーブ粉末を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプ
ロポキシド（１４．４ｇ，０．５０６モル）を７６ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解して
加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（２２．４ｇ，０．２４８モル
）を１５０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に加え、−５℃で２５分間攪拌した。この混合物に
化合物６ｂ、（２Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２
−オール（１５ｇ，０．０８１５モル）を７６ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解して加え
、５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し，４０ｍｌの３０％
ＮａＯＨ水溶液をＮａＣｌで飽和させて加え、次いで、その混合物を１０℃まで
加熱した。４０ｇのＭｇＳＯ4と１２ｇのセライトを加え、１０℃で３０分間攪
拌した。その混合物をセライト上で吸引濾過した。トルエンの濾液５６０ｍｌに
４５０ｍｌのエーテルを加え、不溶物を濾液して除去した。その濾液を真空で蒸
発させ、残渣を４００ｍｌのエーテルに溶解して、吸引濾過して不溶物を除去し
た。その濾液をシリカゲルの層に通し、シリカゲルパッドを４０ｍｌのエーテル
で洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し黄色の油状物を得、シリカゲルのクロマ
トグラフにかけた。ＣＨＣｌ3で溶離し油状の標記化合物７ｃ（１１．９ｇ，
７３％）を得た。
【００８５】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２１，ＣＨ 3），
２．６６（ｂ，１Ｈ，−ＯＨ），２．９０−２．９５（ｍ，１Ｈ，エポキシド）
，３．２８−３．３２（ｍ，１Ｈ，エポキシド）４．０８−４．１４（ｍ，１Ｈ
，−ＣＨ），６．７８−６．９５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．４４
（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００８６】 実施例１２ （２Ｓ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオ−ル［９ｃ］
【００８７】 無水Ｋ2ＣＯ3（０．６９１ｇ，０．００５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（７ｍｌ）に氷冷懸濁した液に１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０．３４
５ｇ，０．００５モル）を窒素雰囲気下で少量づつ加えた。その混合物を徐々に
常温に戻し、化合物７ｃ、（２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル
）−３，４−エポキシ−２−ブタノール（０．５ｇ，．００２５モル）をＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）に溶解した液を加えた。得られた混合物を８
０℃で２時間加熱した。その溶媒を減圧下で除去し、２５ｇの破砕した氷をその
残渣に加えた。その反応混合物を酢酸エチル（５０ｍｌ，２×２５ｍｌ）で抽出
した。有機層を合わせ水（１０ｍｌ）、ブライン（２５ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳ
Ｏ4上で乾燥した。溶媒を真空中で除去し、残渣をシリカゲルのクロマトグラフ
にかけた。メタノールのクロロホルム液（０％−３％）で溶離し、アモルファス
固形物（０．２６ｇ，３８％）として標記の化合物９ｃを得た。
【００８８】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２６，−ＣＨ 3）
，２．９２（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ）４．５２
−４．５９（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６７−６．８
３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．
７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｍｍ．
【００８９】 実施例１３ （２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チル４’−ニトロベンゾエート［８ｃ］
【００９０】 化合物７ｃ、（１．０ｇ，０．００５モル）、トリフェニルホスフィン（１．
６ｇ，０．００６モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（１．０ｇ，０．００６モル
）を２０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃に冷却した。この透
明な液にジエチルアゾジカルボキシレート（０．９４ｍｌ，０．００６モル）を
徐々に滴下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。その溶媒を減圧下で蒸
発させ、その残渣を酢酸エチル（５００ｍｌ）と水（１０ｍｌ）に分配した。そ
の有機層を水、ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濾過後、溶媒
を蒸発させ、残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。２０％ヘキサンのク
ロロホルム溶液で溶離し、（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル
）−３，４−エポキシブチル−４’−ニトロベンゾエート８ｃを淡黄色の固形物
（１．０１ｇ，５８％収率）として得た。
【００９１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５７Ｈｚ，−ＣＨ 3 ），２．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，エポキシド），３．２３（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，エポキシド），５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ）６．８１−
７．００（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４３−７．５５（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）
，８．１６−８．３３（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００９２】 実施例１４ （２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チルベンゾエート［８ｄ］
【００９３】 化合物７ｃ（２．３ｇ，１１．５ミリモル）を２０ｍｌのテトラヒドロフラン
に溶解して、氷冷した液にトリフェニルホスフィン（３．４７ｇ，１３．２３ミ
リモル）、安息香酸（１．６１ｇ，１３．２２ミリモル）およびジエチルアゾジ
カルボキシレート（２．３ｇ，１３．２２ミリモル）を加え、窒素雰囲気下、室
温で１７時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル（７０ｍｌ）で希釈し、水（４
０ｍｍｌ）で洗浄した。その水層を酢酸エチル（２×２０ｍｌ）で抽出した。有
機層を合わせ水（２０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶
媒を蒸発させ、油状の残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。４％酢酸エ
チルのヘキサン溶液で溶離し、油状物として標記化合物８ｄ（１．４０ｇ，４０
％）を得た。
【００９４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５７Ｈｚ，−ＣＨ 3 ），２．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．８９Ｈｚ，エポキシド），３．２４（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝４．９４Ｈｚ，エポキシド），５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ）６．８
０−６．９９（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．６１（ｍ，４Ｈ，Ａｒ− Ｈ ），７．９４−８．０５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００９５】 実施例１５ （２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ｄ］
【００９６】 方法Ａ 氷冷したＮａＯＣＨ3（１７４ｍｇ，３．２ミリモル）を２０ｍｌのＣＨ3ＯＨ
に溶解した液に化合物８ｃ、（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−３，４−エポキシブチル４’−ニトロベンゾエート（０．８７４ｇ，２．
５ミリモル）を５ｍｌのＣＨ3ＯＨに溶解して滴下し、得られた混合物を０℃で
１時間攪拌した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、１０ｇの破砕した氷をその残渣
に加えた。その混合物を酢酸エチル（２×４０ｍｌ）で抽出した。有機層を合わ
せ、水（１０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。濾過後、溶
媒を蒸発させ、シリカゲルのクロマトグラフにかけた。ＣＨＣｌ3で溶離し、油
状物として（４２５ｍｇ，８５％）標記化合物７ｄを得た。
【００９７】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５５，−ＣＨ 3）
，２．１７（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３０，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２４，エポキシド），４．０６−４
．１４（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），６．７６−６．９４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７
．３６−７．４８（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００９８】 方法Ｂ 氷冷したＮａＯＣＨ3（２７７ｍｇ，５．１６ミリモル）を４０ｍｌのＣＨ3Ｏ
Ｈに溶解した液に化合物８ｄ、（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェ
ニル）−３，４−エポキシブチルベンゾエート（１．２ｇ，３．９６ミリモル）
を１０ｍｌのＣＨ3ＯＨに溶解した液を滴下し、得られた混合物を室温で２時間
攪拌した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、２０ｇの破砕した氷をその残渣に加え
た。１Ｎ ＨＣｌで酸性化し酢酸エチル（２×５０ｍｌ）で抽出した。有機層を
合わせ、飽和ＮａＣＯ3（２×２０ｍｌ）、水、ブラインで洗浄しＭｇＳＯ4上で
乾燥した。溶媒を蒸発させ残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。ＣＨＣ
ｌ3で溶離し、油状物（６００ｍｇ，７６％）として標記化合物７ｄを得た。
【００９９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５５，−ＣＨ 3）
，２．１７（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３０，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２４，エポキシド），４．０６−４
．１４（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），６．７６−６．９４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７
．３６−７．４８（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１００】 実施例１６ （２Ｓ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾー１−イル）−２，３−ブタンジオール［９ｄ］
【０１０１】 方法Ａ 化合物７ｄ（３９２ｍｇ，２．０ミリモル）を１５ｍｌの乾燥アセトニトリル
に溶解し、次いで炭酸カリウム（８１３ｍｇ，５．９ミリモル）および１，２，
４−トリアゾル（４０６ｍｇ，５．１９ミリモル）を加えた。得られた混合物は
窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、少量の
酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し、その残渣を３０ｍｌの酢酸
エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、有機
層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過した。その溶液を３０
ｍｌのジエチルエーテルで希釈した。その溶液を冷却し、その濾液が飽和状態に
なるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。標記化合物９ｄは塩酸付加物として
吸引濾過し分離された（０．３５ｇ，５７％収率）。
【０１０２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−Ｃ
Ｈ 3），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，
−ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１
（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，
１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１０３】 塩酸付加物としての化合物９ｄを最少量の水に溶解し、アンモニアでｐＨ１０
までアルカリ性化し、その生成物を酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧下で除去
し、遊離塩基の形で化合物９ｄを得た。
【０１０４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１０５】 方法Ｂ １Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０．３０４ｇ，４．４ミリモル）に氷冷し
たＫ2ＣＯ3（０．６０８ｇ，４．４ミリモル）と５ｍｌのＮ，Ｎ−ジチメルホル
ムアミドに溶解した液を加えた。反応混合物は徐々に常温に戻し、化合物７ｄ（
０．４４ｇ，２．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジチメルホルムアミド（１ｍｌ）に溶
解した液を加え、８０℃で３時間加熱した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、破砕
した氷２０ｇを加えた。得られた混合物を酢酸エチル（７５ｍｌ，２５ｍｌ）で
抽出した。有機層を合わせ、水、ブラインで洗浄し、ＮａＳＯ４上で乾燥した。
溶媒を蒸発させ、その残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。２％ＣＨ3
ＯＨのＣＨＣｌ3溶液で溶離し、アモルファス固形物（３４２ｍｇ，５８％）と
して標記化合物９ｄを得た。
【０１０６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１０７】 実施例１７ 単一容器での７ａから（２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）
−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオー
ル［９ｂ］の調製
【０１０８】 化合物７ａ、（２Ｓ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４
−エポキシ−２−ブタオール（２．０ｇ，０．０１モル）、トリフェニルホスフ
ィン（３．２ｇ，０．０１２モル）および安息香酸（１．４７ｇ，０．０１２モ
ル）を４０ｍｌの乾燥テトロヒドロフランに溶解した液を０℃に冷却した。この
透明な液にジエチルアゾジカルボキシレート（１．８８ｍｌ，０．０１２モル）
を徐々に適下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。反応混合物を０℃に
保持しながら４０ｍｌの乾燥メタノールで希釈し、ナトリウムメトオキシド（０
．７００ｇ，０．０１３モル）を２０ｍｌのメタノールに溶解し、適下した。内
容物を０℃で６時間攪拌した。溶媒を蒸発し、残渣４０ｍｌを乾燥アセトニトリ
ルに溶解した後、炭酸カリ（４．１４ｇ，０．０３０モル）と１，２，４−トリ
アゾール（２．０ｇ，０．０３モル）を加えた。得られた混合物を窒素雰囲気下
で４時間還流した。得られた固形物を冷却した後、吸引濾過し、少量の酢酸エチ
ルで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮し、残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解した
。得られた溶液を水２×５ｍｌ、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上
で乾燥した。内容物を吸引ろ過し、濾液を５０ｍｌジエチルエーテルで希釈した
。この溶液を冷却し、無水ＨＣＩガスの定常流をこの溶液が飽和するまで通した
。標記化合物９ｂを塩酸付加物として、吸引濾過により分離した（０．８９６ｇ
，化合物７ａからの収率２９％）。
【０１０９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）８．８１（ｓ，１Ｈ
，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１０】 塩酸付加物としての化合物９ｂを最少量の水に溶解し、アンモニアでｐＨ１０
までアルカリ性にし、酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧下で除去し、遊離塩基
として化合物９ｂを得た。
【０１１１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１２】 実施例１８ 単一容器内での７ａからの（２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブタンジオ
ル［９ｂ］の大規模調製
【０１１３】 化合物７ａ（５００ｇ，２．５モル）、トリフェニルホスフィン（７８７ｇ，
３．０モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（５０１ｇ，３．０モル）を８Ｌの乾燥
テトラヒドロフランに溶解し、０℃に冷却した。この透明な液にジエチルアゾジ
カルボキシレート（４７２ｍｌ，３．０モル）を徐々に適下し、混合液を０℃で
１時間攪拌した。得られた反応混合物を０℃に保持しながら、５Ｌの乾燥メタノ
ールで希釈し、ナトリウムメトキシド（１７６ｇ，３．２５モル）を３Ｌのメタ
ノールに溶解した溶液をそれに適下した。その内容物を０℃で２時間攪拌した。
溶媒を蒸発し、その残渣を８Ｌの乾燥アセトントリルを加え、次いで炭酸カリウ
ム（１．０３７ｇ，７．５モル）および１，２，４−トリアゾール（５１８ｇ，
７．５モル）を加えた。得られた混合物を窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却
後、固形物を吸引濾過で除去し、酢酸エチル（２×１Ｌ）で洗浄した。濾液から
の細かい固形物はセライトの層で除去した。濾液を減圧下で濃縮し、残渣を８Ｌ
の酢酸エチルで溶解した。得られた溶液は水（２×１Ｌ）、ブラインで洗浄し、
その有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過し、濾液が得
られた。その溶液を冷却し、無水ＨＣｌガスの定常流を溶液が飽和状態になるま
で通した。標記化合物９ｂが吸引濾過により塩酸付加物の形で分離された（３０
０ｇ，化合物７ａからの収率３９％）。
【０１１４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１５】 塩酸付加物としての化合物９ｂを最少量の水で溶解し、アンモニアでｐＨ１０
になるまでアルカリ性化した。減圧下で溶媒を除去し、遊離塩基として化合物９ ｂ を得た。
【０１１６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１７】 実施例１９ 単一容器での７ｃからの（２Ｓ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル
）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオ
ール［９ｄ］の調製
【０１１８】 方法Ａ 化合物７ｃ（１．０ｇ，０．００５モル）、トリフェニルホスフィン（１．６
ｇ，０．００６モル）および安息香酸（０．７３３ｇ，０．００６モル）を２０
ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃まで冷却した。この透明な液
に、ジエチルアゾジカルボシキシレート（０．９４ｍｌ，０．００６モル）を徐
々に適下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。反応混合物を０℃に保持
しながら、２０ｍｌの乾燥メタノールで希釈し、ナトリウムメトキシド（０．３
５１ｇ，０．００６５モル）を１０ｍｌのメタノールに溶解した液を適下した。
内容物を０℃で６時間攪拌した。溶媒を蒸発させ、その残渣を２０ｍｌの乾燥ア
セトニトリルで溶解後、炭酸カリ（２．０７ｇ，０．０１５モル）および１，２
，４−トリアゾル（１．０４ｇ，０．０１５モル）を加えた。得られた混合物を
窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、少量の
酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し、残渣を５０ｍｌの酢酸エチ
ルに溶解した。得られた溶液を水（２×５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、その有機
層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過し、その濾液を５０ｍ
ｌのジエチルエーテルで希釈した。その溶液を冷却し、無水ＨＣｌガスの定常流
を飽和状態になるまで通した。標記化合物９ｄが吸引濾過により塩酸付加物とし
て分離された（０．４３０ｇ，化合物７ｃからの収率２８％）。
【０１１９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（Ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２０】 塩酸付加物としての化合物９ｄを最少量の水で溶解し、アンモニアでｐＨ１０
になるまでアルカリ性化した。生成物を酢酸エチルで抽出し、減圧下で溶媒を除
去し、遊離の塩基として化合物９ｄを得た。
【０１２１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２２】 方法Ｂ 化合物７ｃ（５．０ｇ，０．０２５モル）、トリフェニルホスフィン（７．８
７ｇ，０．０３０モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（５．０１ｇ，０．０３０モ
ル）を８０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃まで冷却した。こ
の透明な溶液にジエチルアゾジカルボキシレート（４．７ｍｌ，０．０３０モル
）を徐々に適下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。この反応の進行を
ＴＬＣでモニターした。反応混合物は温度を０℃に保持しながら、５０ｍｌの乾
燥メタノールで希釈し、次いでナトリウムメトオキシド（１．７６ｇ，０．０３
２５モル）を３０ｍｌのメタノールに溶解した液を適下した。この反応物を０℃
で２時間攪拌した。溶媒を蒸発し、その残渣に１００ｍｌの乾燥アセトニトリル
を加え、次いで炭酸カリウム（１０．４ｇ，０．０７５モル）と１，２，４−ト
リアゾール（５．１８ｇ，０．０７５モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰
囲気下で４時間還流した。冷却後、吸引濾過により固形物を除去し、酢酸エチル
（２×２５ｍｌ）で洗浄した。濾液から細かい固形物はセライト層で除去した。
濾液は減圧下で濃縮され、その残渣は１５０ｍｌの酢酸エチルで溶解された。得
られた溶液は水（２×２５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、その有機層を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過し、その濾液を１５０ｍｌのジエチル
エーテルで希釈した。その溶液を冷却し無水ＨＣｌガスの定常流をその液が飽和
するまで通した。標記化合物９ｄは塩酸付加物として吸引濾過により分離された
（２．９０ｇ，化合物７ｃからの収率３８％）。
【０１２３】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２４】 塩酸付加物としての化合物９ｄを最少量の水で溶解し、アンモニアでｐＨ１０
になるまでアルカリ性化した。生成物を酢酸エチルで抽出し、減圧下で溶媒を除
去し、遊離塩基として化合物９ｄを得た。
【０１２５】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３９−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２６】 実施例２０ Ｓ−（−）−乳酸メチル１ａからの（２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオール［９ｂ］の大規模調製
【０１２７】 （Ｓ）−（−）乳酸メチル（５００ｇ，４．８０３モル）とモルホリン（１．
３Ｌ，１４．９モル）の混合物を窒素雰囲気下で７０時間８５℃に加熱した。溶
媒を減圧下で除去した。内容物を６Ｌのジクロロメタンで希釈し、１０％ＨＣｌ
とブラインの混合物で洗浄した（４×２５０ｍｌ）。有機層を硫酸ナトリウム上
で乾燥し、減圧下で蒸発して淡黄色の油状物（５７１．５ｇ）を得た。この淡黄
色の油状物（５７１．５ｇ）をジクロロメタン（１．９Ｌ）で希釈し、ｐ−トル
エンスルホン酸（６．８２ｇ， ０．０３５９モル）を加えた。その溶液を０℃
に冷却し、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（３９３ｍｌ，４．３１１モル）を
１時間以上かけて適下した。さらに１５分攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄
色油状物３ａ（８５９ｇ）を得た。
【０１２８】 マグネシウム（１０３．１ｇ，４．２４モル）と１−ブロモ２，４−ジフルオ
ロベンゼン（５０ｍｌ，０．４４モル）をテトラヒドロフラン（３．４Ｌ）に混
合し、激しく攪拌し、４０℃まで加熱して反応を開始させた。内容物を４０℃に
維持し、１−ブロモ２，４−ジフルオロベンゼン（４２９ｍｌ，３．８０モル）
を徐々に加えた。内容物を常温で１．５時間攪拌後、−２０℃に冷却した。その
油状物３ａ（８５９ｇ）を乾燥テトラヒドロフラン（５００ｍｌ）中に溶解した
溶液を１時間以上かけて、冷却した溶液に適下した。この混合物は常温でさらに
３．５時間攪拌し、酢酸エチル（４．６Ｌ）で希釈し、次いでブラインと飽和Ｎ
Ｈ4Ｃｌ水溶液（４．６Ｌ）の１：１混合液を加えた。水の層を除去し、酢酸エ
チル（３×２Ｌ）で抽出した。有機層を合わせ、水（２Ｌ）、ブライン（２Ｌ）
で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒を減圧下で除去し、暗褐色の油状物（
９６７ｇ）として粗化合物４ａを得た。
【０１２９】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（１６１６ｇ，４．５２モル）を乾燥テ
トラヒドロフラン（３．５Ｌ）に混合し、機械攪拌した混合物を８℃まで冷却し
た。リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（８１０ｇ，４．８４モル）をテ
トラヒドロフラン（５Ｌ）に溶解した液を上記混合物に混合物の温度が２３℃に
保持できるような速度で加えた。さらに常温で１時間攪拌後、その内容物を−７
０℃に冷却し、３０分攪拌した。化合物４ａ（９６７ｇ）をテトラヒドロフラン
（２．５Ｌ）に溶解した液を、混合物の温度を−７０℃以下に維持しながら加え
た。得られた混合物は７℃で１７時間攪拌した。この混合液に酢酸エチル５５０
ｍｌを加え、次いでヘキサン（３．９Ｌ）を加え、１５分間静置した。吸引濾過
で固形物を除去し、ヘキサン（３Ｌ）で充分に洗浄した。濾液をメタノールと水
（２×１０Ｌ）の１：１の混合液、次いでブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾
燥した。溶媒を蒸発し、油状物（８７０ｇ）として粗化合物５ａを得た。
【０１３０】 粗化合物５ａ（８７０ｇ）とピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（３５
０ｇ，１．３９モル）をエタノール（１２Ｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱し
た。反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希
釈し、固形物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発し淡褐色の油状物（６６
４ｇ）として粗化合物６ａを得た。
【０１３１】 Ｌ（＋）−酒石酸ジエチル（１６１ｍｌ，０．９４モル）を乾燥したＣＨ2Ｃ
ｌ2（２４Ｌ）に溶解した液に活性化した３Ａ°モレキュラーシーブ粉末（６０
０ｇ）を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキ
シド（５９７ｍｌ，２．０モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオ
キサイド（５−６Ｍのデカン液１．５６Ｌ）を加え、−５℃で２５分間攪拌した
。この混合物に粗化合物６ａ（６６４ｇ）をＣＨ2Ｃｌ2（２Ｌ）に溶解した液を
加え、５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和
３０％ＮａＯＨ水溶液１．４Ｌを加え、その混合物を１０℃まで加熱した。Ｍｇ
ＳＯ4 １．２ｋｇとセライト ４００ｇを加え、１０℃で３０分間攪拌した。
混合物はセライト上で吸引濾過した。濾液にトルエン（２０Ｌ）とエーテル（１
５Ｌ）を加え、不溶物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ、淡褐色の
油状物（７４０ｇ）として粗化合物７ａを得た。
【０１３２】 粗化合物７ａ（７４０ｇ）、トリフェニルホスフィン（１１６５ｇ，４．４４
モル）およびｐ−ニトロ安息香酸（７４２ｇ，４．４４モル）を８Ｌの乾燥テト
ラヒドロフランに溶解した液を０℃まで冷却した。この透明な液にジエチルアゾ
ジカルボキシレート（６９８ｍｌ，４．４３モル）を徐々に滴下し、得られた混
合物を０℃で１時間攪拌した。反応混合物は温度を０℃に保持しながら、５Ｌの
乾燥メタノールで希釈し、次いでナトリウムメトキシド（２６０ｇ，４．８１モ
ル）をメタノール（３Ｌ）に溶解した液を滴下した。その内容物を０℃で２時間
攪拌した。溶媒を蒸発し、その残渣を８Ｌの乾燥アセトニトリルに溶解し、次い
で炭酸カリウム（１５３４ｇ，１１．１モル）と１，２，４−トリアゾル（７６
７ｇ，１１．１モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流し
た。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、酢酸エチル（２×１Ｌ）で洗浄した
。濾液中の細かい固形物はセライト上で除去した。濾液は減圧下で濃縮し、残渣
を８Ｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×１Ｌ）、ブラインで洗
浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過した。その
濾液を冷却しその溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。
標記化合物９ｂは塩酸付加物として吸引濾過して分離された。
【０１３３】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１３４】 実施例２１ Ｓ−（−）−乳酸メチル１ａからの（２Ｒ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオール［９ａ］の調製
【０１３５】 Ｓ−（−）乳酸メチル（１００ｇ，０．９６モル）とモルホリン（２６０ｍｌ
，２．９８モル）の混合液を窒素雰囲気下８５℃で７０時間加熱した。減圧下で
溶媒を除去した。その内容物を１２０ｍｌのジクロロメタンで希釈し、１０％Ｈ
Ｃｌとブラインの混合物で洗浄（４×５０ｍｌ）した。その有機層を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、減圧下で蒸発して黄色の油状物を得た。この淡黄色の油状物を
ジクロロメタン（２８０ｍｌ）で希釈し、ｐ−トルエンスルホン酸（１．３６ｇ
，０．００７モル）加えた。この溶液を０℃まで冷却し、これに３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−ピラン（７９ｍｌ，０．８６モル）を１時間以上かけて徐々に滴下し
た。さらに１５分間攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色の油状物３ａを得た
。
【０１３６】 マグネシウム（２０．６ｇ，０．８４８モル）と１−ブロモ−２，４−ジフル
オロベンゼン（１０ｍｌ，０．０８８モル）をテトラヒドロフラン（７００ｍｌ
）に溶解した液を激しく攪拌し、４０℃に加熱して反応を開始させた。この内容
物を４０℃に保持しながら１−ブロモ−２，４−ジフルオロベンゼン（８９ｍｌ
，０．７６モル）を徐々に加えた。その内容物を常温で１．５時間攪拌後、−２
０℃に冷却した。この油状物３ａを乾燥テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）で溶
解したものを、１時間以上かけてこの冷却した溶液に適下した。この混合物を常
温でさらに３．５時間攪拌し、酢酸エチル（９００ｍｌ）で希釈した後、ブライ
ンとＮＨ4Ｃｌ飽和水溶液の１：１混合物を加えた。水層を除去し酢酸エチル（
３×４００ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせ、水（４００ｍｌ）、ブライン（
４００ｍｌ）で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒は減圧下で除去し、油状
の粗化合物４ａを得た。
【０１３７】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（３２３ｇ，０．９０４モル）と乾燥テ
トラヒドロフラン（７００ｍｌ）混合物を機械的に攪拌して８℃に冷却した。リ
チウムビス（トリメチルシリル）アミド（１６２ｇ，０．９０４モル）をテトラ
ヒドロフラン（１Ｌ）に溶解した液を上記混合物に混合物の温度が２３℃に保持
できる速度で加えた。この内容物を常温で１時間攪拌後、−７０℃に冷却し、３
０分間攪拌した。化合物４ａをテトラヒドロフラン（５００ｍｌ）に溶解した液
を、その混合物の温度が−７０℃以下を保持できるように徐々に加えた。得られ
た混合物を７℃で１時間攪拌した。この混合物に酢酸エチル１００ｍｌを加え、
次いでヘキサン（６００ｍｌ）を加え１５分間静置した。固形物を吸引濾過して
除去し、ヘキサン（６００ｍｌ）で充分洗浄した。濾液をメタノールと水（２×
２００ｍｌ）の１：１混合物で洗浄し、さらにブラインで洗浄してＭｇＳＯ4上
で乾燥した。溶媒を蒸発させ油状の粗化合物５ａを得た。
【０１３８】 粗化合物５ａとピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（７０ｇ，０．２７
８モル）をエタノール（２５０ｍｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱した。反応
混合物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希釈し、固
形物を濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ淡褐色の油状物として粗化合
物６ａを得た。
【０１３９】 Ｌ（＋）−酒石酸ジエチル（３２．２ｍｌ，０．１８８モル）を乾燥ＣＨ2Ｃ
ｌ2（５Ｌ）に溶解した液に活性化した３Ａ°モレキュラシーブ粉末（１２０ｇ
）を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（ＩＶ）イソプロポキシ
ド（１２０ｍｌ，０．４モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキ
サイド（５−６Ｍデカン溶液３１２ｍｌ）を加え、−５℃で２５分間攪拌した。
この混合物に粗化合物６ａのＣＨ2Ｃｌ2（４００ｍｌ）溶液を加え、５℃で１２
時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３０％ＮａＯＨ水
溶液２８０ｍｌを加え、次いでその混合物を１０℃に加熱した。ＭｇＳＯ4 ２
５０ｇとセライト ８０ｇを加え１０℃で３０分間攪拌した。この混合物をセラ
イト上で吸引濾過した。この溶液にへトルエン（４Ｌ）と３Ｌのエーテルを加え
、不溶物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発し油状の粗化合物７ａを得た
。
【０１４０】 粗化合物７ａを２．０Ｌの乾燥アセトニトリルに溶解し、次いで炭酸カリウム
（３０６ｇ，２．２モル）と１，２，４−トリアゾル（１５２ｇ，２．２モル）
を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を
吸引濾過して除去し、少量の酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し
、その残渣を４Ｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×１０００ｍ
ｌ）、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を
吸引濾過した。その溶液を６０ｍｌのジエチルエーテルで希釈し，その溶液を冷
却して、その溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。飽和
溶液を５時間冷却し、その間に固形物を分離した。吸引濾過により標記化合物９ ａ が塩酸付加物として分離された。
【０１４１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４４，−ＣＨ 3）
，２．８９（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．５
１−４．５８（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６５−６．
８５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７
．７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１４２】 実施例２２ Ｒ−（＋）−乳酸メチル１ｂからの（２Ｓ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオル［９ｃ］の調製
【０１４３】 Ｒ−（＋）乳酸メチル（２５ｇ，０．２４モル）とモルホリン（６５ｍｌ，０
．０７５モル）の混合液を窒素雰囲気下８５℃で７０時間加熱した。減圧下で溶
媒を除去した。その内容物を６００ｍｌのジクロロメタンで希釈し１０％ＨＣｌ
とブラインの混合物で洗浄（４×１５ｍｌ）した。その有機層を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、減圧下で蒸発して黄色の油状物を得た。この淡黄色の油状物をジク
ロロメタン（９０ｍｌ）で希釈し、ｐ−トルエンスルホン酸（３４０ｍｇ，０．
００１８モル）を加えた。この溶液を０℃まで冷却し、これに３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピラン（２０ｍｌ，０．２１モル）を１時間以上かけて徐々に滴下した
。さらに１５分間攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色の油状物３ｂを得た。
【０１４４】 マグネシウム（５．１５ｇ，０．０２１モル）および１−ブロモ−２，４−ジ
フルオロベンゼン（２５ｍｌ，０．０２２モル）をテトラヒドロフラン（１７０
ｍｌ）に溶解し激しく攪拌し、４０℃に加熱し反応を開始させた。この内容物を
４０℃に保持しながら、１−ブロモ−２，４−ジフルオロベンゼン（２２ｍｌ，
０．１９モル）を徐々に加え、その内容物を常温で１．５時間攪拌後、−２０℃
に冷却した。油状物３ｂを乾燥テトラヒドロフラン（２５ｍｌ）で溶解した液を
冷却し、１時間以上かけてこの冷却した溶液に適下した。この混合物を常温でさ
らに３．５時間攪拌し、酢酸エチル（２００ｍｌ）で希釈後、ブラインとＮＨ4
Ｃｌ飽和水溶液の１：１混合物（２００ｍｌ）を加えた。水層を除去し酢酸エチ
ル（３×１００ｍｌ）で抽出した。有機層を水（４００ｍｌ）、ブライン（４０
０ｍｌ）で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒は減圧下で除去し、暗褐色の
油状の粗化合物４ｂを得た。
【０１４５】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（８０．５ｇ，０．２２６モル）と乾燥
テトラヒドロフラン（１８０ｍｌ）混合物を機械的に攪拌して８℃に冷却した。
リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（４０．５ｇ，０．２４モル）をテト
ラヒドロフラン（２００ｍｌ）に溶解して、上記混合物に混合物の温度が２３℃
に保持できる速度で加えた。この内容物を常温で１時間攪拌後、−７０℃に冷却
し、３０分間攪拌した。反応化合物４ｂをテトラヒドロフラン（１２０ｍｌ）に
溶解した液をその混合物の温度が−７０℃以下を保持できるように徐々に加えた
。得られた混合物を７℃で１７時間攪拌した。この混合物に酢酸エチル２５ｍｌ
を加え、次いでヘキサン（２００ｍｌ）を加えて１５分間静置した。固形物を吸
引濾過して除去し、ヘキサン（６００ｍｌ）で充分に洗浄した。濾液をメタノー
ルと水（２×５００ｍｌ）の１：１混合物、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で
乾燥した。溶媒を蒸発させ油状の粗化合物５ｂを得た。
【０１４６】 粗化合物５ｂとピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（１７．５ｇ，０．
０７モル）をエタノール（５００ｍｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱した。反
応混合物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希釈し、
得られた固形物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ、淡褐色の油状物
として粗化合物６ｂを得た。
【０１４７】 Ｌ（＋）−酒石酸ジエチル（８ｍｌ，０．０４７モル）を乾燥ＣＨ2Ｃｌ2（１
．２Ｌ）に溶解して、その液に活性化した３Ａ°モレキュラシーブ粉末（３００
ｇ）を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシ
ド（３０ｍｌ，０．１０モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキ
サイド（５−６Ｍデカン溶液７８ｍｌ）を加えて、−５℃で２５分間攪拌した。
この混合物に粗化合物６ｂをＣＨ2Ｃｌ2（４００ｍｌ）溶液に加え、５℃で１２
時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３０％ＮａＯＨ水
溶液７０ｍｌを加えて、次いでその混合物を１０℃に加熱した。ＭｇＳＯ4６０
ｇとセライト２０ｇを加え、混合物を１０℃で３０分間攪拌した。この混合物を
セライト上で吸引濾過した。この濾液にへトルエン（１Ｌ）とエーテル ７００
ｍを加え、不溶物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発し淡褐色の油状の粗
化合物７ｃを得た。
【０１４８】 粗化合物７ｃを５００ｍｌの乾燥アセトニトリルに溶解し、次いで炭酸カリウ
ム（７６．５ｇ，０．５５モル）と１，２，４−トリアゾル（３８ｇ，０．５５
モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固
形物を吸引濾過して除去し、少量の酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で
濃縮し、その残渣を１Ｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×２０
０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容
物を吸引濾過した。その濾液を３０ｍｌのジエチルエーテルで希釈した。その溶
液を冷却し、その溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。
飽和溶液を５−１０時間冷却し、その間に固形物を分離した。吸引濾過により標
記化合物９ｃが塩酸付加物として分離された。
【０１４９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２６，−ＣＨ 3），
２．９２（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．５２
−４．５９（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６７−６．８
３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．
７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１５０】 実施例２３ Ｒ−（＋）−乳酸メチル１ｂからの（２Ｓ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオル［９ｄ］の調製
【０１５１】 Ｒ−（＋）乳酸メチル（５０ｇ，０．４８モル）とモルホリン（１３０ｍｌ，
０．１４９モル）の混合液を窒素雰囲気下８５℃で７０時間加熱した。減圧下で
溶媒を除去した。その内容物を６００ｍｌのジクロロメタンで希釈し１０％ＨＣ
ｌとブラインの混合物で洗浄（４×２５ｍｌ）した。その有機層を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、減圧下で蒸発して黄色の油状物を得た。この淡黄色の油状物をジ
クロロメタン（１９０ｍｌ）で希釈し、ｐ−トルエンスルホン酸（６８２ｍｇ，
０．００３６モル）加えた。この溶液を０℃まで冷却し、これに３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−ピラン（３９ｍｌ，０．４３１モル）を１時間以上かけて徐々に滴下
した。さらに１５分間攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色の油状物３ｂを得
た。
【０１５２】 マグネシウム（１０．３ｇ，０．０４２モル）および１−ブロモ−２，４−ジ
フルオロベンゼン（５０ｍｌ，０．０４４モル）をテトラヒドロフラン（３５０
ｍｌ）に溶解して激しく攪拌し、反応が開始する４０℃まで加熱した。この内容
物を４０℃に保持しながら、１−ブロモ−２，４−ジフルオロベンゼン（４３ｍ
ｌ，０．３８モル）を徐々に加えた。その内容物を常温で１．５時間攪拌後、−
２０℃に冷却した。この油状物３ｂを乾燥テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）で溶
解した液を冷却し、１時間以上かけてこの冷却した溶液に適下した。この混合物
を常温でさらに３．５時間攪拌し、酢酸エチル（４５０ｍｌ）で希釈した後、ブ
ラインとＮＨ4Ｃｌ飽和水溶液の１：１混合物（４５０ｍｌ）を加えた。水層を
除去し酢酸エチル（３×２００ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせ、水（２００
ｍｌ）、ブライン（２００ｍｌ）で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒は減
圧下で除去し、暗褐色の油状の粗化合物４ｂを得た。
【０１５３】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（１６１ｇ，０．４５２モル）と乾燥テ
トラヒドロフラン（３５０ｍｌ）混合物を機械的に攪拌して８℃に冷却した。リ
チウムビス（トリメチルシリル）アミド（８１ｇ，０．４８モル）をテトラヒド
ロフラン（５００ｍｌ）に溶解した液を上記混合物に、混合物の温度が２３℃に
保持できる速度で加えた。この内容物を常温で１時間攪拌した後、−７０℃に冷
却し、３０分間攪拌した。上記のようにして得られた粗化合物４ｂをテトラヒド
ロフラン（２５０ｍｌ）に溶解した液をその混合物の温度が−７０℃以下を保持
できるように徐々に加えた。得られた混合物を７℃で１７時間攪拌した。この混
合物に酢酸エチル５０ｍｌを加え、次いでヘキサン（３９０ｍｌ）を加え１５分
間静置した。固形物を吸引濾過して除去し、ヘキサン（３００ｍｌ）で充分洗浄
した。濾液をメタノールと水（２×１Ｌ）の１：１混合物、ブラインで洗浄し、
ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ油状の粗化合物５ｂを得た。
【０１５４】 粗化合物５ｂとピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（３５ｇ，０．１４
モル）をエタノール（１．２Ｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱した。反応混合
物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希釈し、得られ
た固形物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ、淡褐色の油状物として
粗化合物６ｂを得た。 Ｌ（＋）酒石酸ジエチル（１６ｍｌ，０．０９４モル）を乾燥ＣＨ2Ｃｌ2（２
．４Ｌ）に溶解した液に活性化した３Ａ°モレキュラシーブ粉末（６００ｇ）を
加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシド（５
９ｍｌ，０．２モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（
５−６Ｍデカン溶液１５６ｍｌ）を加え、−５℃で２５分間攪拌した。この混合
物に粗化合物６ｂのＣＨ2Ｃｌ2（４００ｍｌ）溶液で加え、５℃で１２時間攪拌
した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３０％ＮａＯＨ水溶液１４
０ｍｌを加え、次いでその混合物を１０℃に加熱した。ＭｇＳＯ4１２０ｇとセ
ライト４０ｇを加え、混合物を１０℃で３０分間攪拌した。この混合物をセライ
ト上で吸引濾過した。濾液にトルエン（２Ｌ）とエーテル１．５Ｌを加え、不溶
物を濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ淡褐色の油状の粗化合物７ｃを
得た。
【０１５５】 粗化合物７ｃ、トリフェニルホスフィン（１１６ｇ，０．４４モル）およびｐ
−ニトロ安息香酸（７４ｇ，０．４４モル）を８００ｍｌの乾燥テトラヒドロフ
ランに溶解した液を０℃まで冷却した。この透明な液にジエチルアジゾカルボキ
シレート（７０ｍｌ，０．４４モル）を徐々に滴下し、得られた混合物を０℃で
１時間攪拌した。反応混合物は温度を０℃に保持しながら、５００ｍｌの乾燥メ
タノールで希釈し、次いでナトリウムメトキシド（２６ｇ，０．４８１モル）を
メタノール（３００ｍｌ）に溶解した液を滴下した。その内容物を０℃で２時間
攪拌した。溶媒を蒸発させ、その残渣を８００ｍｌの乾燥アセトニトリルに溶解
し、次いで炭酸カリウム（１５３ｇ，１．１モル）と１，２，４−トリアゾル（
７６ｇ，１．１１モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流
した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、酢酸エチル（２×１Ｌ）で洗浄し
た。濾液中の細かい固形物はセライト上で除去した。濾液は減圧下で濃縮し、残
渣を８００ｍｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×１００ｍｌ）
、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引
濾過した。その濾液を冷却しその溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定
常流を通した。標記化合物９ｄは塩酸付加物として吸引濾過し分離された。
【０１５６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１５７】 文献 １． Ｈｅｅｒｅｓ，Ｊ．，Ｂａｃｋｘ，Ｌ．Ｊ．Ｊ． ａｎｄ Ｃｕｔｓｅｍ，Ｊ．
Ｖ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９８４，２７，８９４−９００． ２． 欧州特許＃０ ６１２ ７３４ Ａ１． ３． Ｔａｓａｋａ，Ａ．，Ｔａｍｕｒａ．Ｎ．，Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ，Ｙ．，Ｔｅ
ｒａｎｉｓｈｉ，Ｋ．，Ｈａｙａｓｈｉ，Ｒ．，Ｏｋｏｎｏｇｉ，Ｋ．ａｎｄ
Ｉｔｏｈ．Ｋ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ，１９９３，４１（６），１０
３５−１０４２． ４． 米国特許出願０８／７８６，３７６． ５． Ｋｏｎｏｓｕ，Ｔ．，Ｍｉｙａｏｋａ．Ｔ．，Ｔａｚｉｍａ，Ｙ．，Ｏｉｄａ，
Ｓ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．３９（９）２２４１−２２４６（１９９
１）． ６． （ａ） Ｋａｔｓｕｉ．Ｔ． ａｎｄ Ｓｈａｒｐｌｅｓｓ，Ｋ．Ｂ．，Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９８０，１０２，５９７４−５９７６． （ｂ） Ｈａｎｓｏｎ，Ｒ．Ｍ． ａｎｄ Ｓｈａｒｐｌｅｓｓ，Ｋ．Ｂ．
，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８６， ５１，１９２２−１９２５． ７． （ａ） Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，０． ａｎｄ Ｙａｍａｄａ，Ｍ．Ｂｕｌｌ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｊｐｎ．，４０，１９６７，２３８０． （ｂ） Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，０． ａｎｄ Ｅｇｕｃｈｉ．Ｍ．Ｂｕｌｌ
．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｊｐｎ．，４４，１９７１．３４２７． ８． Ｇｉｒｉｊａｖａｌｌａｂｈａｎ．Ｖ．Ｍ．，Ｇａｎｇｕｌａｙ，Ａ．Ｋ．，Ｐ
ｉｎｔｏ，Ｐ．Ａ． ａｎｄ Ｓａｒｒｅ．ＯＺ．Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆．
Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｉｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ １（７），１９９
１，３４９．
【手続補正書】
【提出日】平成１２年１０月１８日（２０００．１０．１８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 ２−アリール−ｌ−置換ブタン−２，３−ジオールの不斉合成
【手続補正書】
【提出日】平成１２年１１月６日（２０００．１１．６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 ２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオールの不斉合成
【特許請求の範囲】
【化１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｒは２−テトラヒド
ロピラニル基、ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエ
トキシメチル基からなる群から選ばれる。
【化２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1ーＣ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｒは２−テトラヒド
ロピラニル基、ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエ
トキシメチル基からなる群から選ばれ、 式４ｂ（Ｘ1，Ｘ2とＲは上記定義に同じ）で示される化合物を、臭化メチルト
リフェニルホスホニウムと反応させて、式５ｂで示される化合物をつくる工程を
含む方法。
【化３】
【化４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1ーＣ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｒは２−テトラヒド
ロピラニル基、ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエ
トキシメチル基からなる群から選ばれ、 式４ａ（Ｘ1，Ｘ2とＲは上記定義に同じ）で示される化合物を、臭化メチルト
リフェニルホスホニウムと反応させて、式５ａで示される化合物をつくる工程を
含む方法。
【化５】
【化６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
させて、式６ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキシメチル基か
らなる群から選ばれる。
【化８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
させて、式６ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキシメチル基か
らなる群から選ばれる。
【化１０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式６ａで示される化合物を、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと、チタ
ニウムイソプロポキシドおよびキラルタータラートの存在下で反応させて、式７
ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化１１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化１２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式６ｂで示される化合物を、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと、チタ
ニウムイソプロポキシドおよびキラルタータラートの存在下で反応させて、式７
ｃで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化１３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化１４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式８ａで示される化合物を、メトキサイド塩と反応させて、式７ｂで示される
化合物をつくる工程を含む方法。
【化１５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化１６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式８ｃで示される化合物を、メトキサイド塩と反応させて、式７ｄで示される
化合物をつくる工程を含む方法。
【化１７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化１８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもつ。
【化１９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式７ａで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ａで示さ
れる化合物をつくる工程を含む方法。
【化２０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化２１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもつ。
【化２２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式７ｃで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ｃで示さ
れる化合物をつくる工程を含む方法。
【化２３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化２４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式４ａで示される化合物を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムと反応させ
て、式５ａで示される化合物をつくる工程（ａ）と、
【化２５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
からなる群から選ばれ、
【化２６】 ここで、Ｘ1、Ｘ2、およびＲは前記定義に同じ、 その後、式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネー
トと反応させて、式６ａで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化２７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式６ａで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラ
ルタータラートの存在下でｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイドと反応させ
て、式７ａで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
【化２８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式４ｂで示される化合物を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムと反応させ
て、式５ｂで示される化合物をつくる工程（ａ）と、
【化２９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
からなる群から選ばれ、
【化３０】 ここで、Ｘ1、Ｘ2、およびＲは前記定義に同じ、 その後、式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネー
トと反応させて、式６ｂで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化３１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式６ｂで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラ
ルタータラートの存在下でｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイドと反応させ
て、式７ｃで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
【化３２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた置換基
をもち、このフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式７ａで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ａで示さ
れる化合物をつくる工程（ａ）と、
【化３３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、
【化３４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式８ａで示される化合物を、メトオキシド塩と反応させて、式７ｂで
示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化３５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式７ｂで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定
義に同じ）式９ｂで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
【化３６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ
素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されて
おり、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式７ｃで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ｃで示さ
れる化合物をつくる工程（ａ）と、
【化３７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、
【化３８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式８ｃで示される化合物を、メトオキシド塩と反応させて、式７ｄで
示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化３９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式７ｄで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定
義に同じ）式９ｄで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
【化４０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式７ａで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
）式９ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化４１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化４２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式７ｃで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
）式９ｃで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化４３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
【化４４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式７ｂで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
）式９ｂで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化４５】 ここでＸ1とＸ2は前記定義に同じ。
【化４６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式７ｄで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
）式９ｄで示される化合物をつくる工程を含む方法。
【化４７】 ここでＸ1とＸ2は前記定義に同じ。
【化４８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
させて、式６ａで示される化合物をつくる工程（ａ）と、
【化４９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
からなる群から選ばれ、
【化５０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ａで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
ラートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７
ａで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化５１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ａで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
）式９ａで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
【化５２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素またはフェ
ニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ
素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換され、
そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていないか、ま
たは塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた置換基を
もち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1 −Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
させて、式６ａで示される化合物をつくる工程（ａ）と、
【化５３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
からなる群から選ばれ、
【化５４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ａで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
ラートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７
ａで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化５５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ａで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ａで示さ
れる化合物をつくる工程（ｃ）と、
【化５６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式８ａで示される化合物を、メトキシド塩と反応させて、式７ｂで示される化
合物をつくる工程（ｄ）と、
【化５７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｂで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて、（ここでＸは前記定義に同
じ）式９ｂで示される化合物をつくる工程（ｅ）と、を含む方法。
【化５８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
させて、式６ｂで示される化合物をつくる工程（ａ）と、
【化５９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
からなる群から選ばれ、
【化６０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ｂで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
ラートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７
ｃで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化６１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｃで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ｃで示さ
れる化合物をつくる工程（ｃ）と、
【化６２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式８ｃで示される化合物を、メトキシド塩と反応させて、式７ｄで示される化
合物をつくる工程（ｄ）と、
【化６３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｄで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて、式９ｄで示される化合物を
つくる工程（ｅ）と、を含む方法。
【化６４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
−Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる、 式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
させて、式６ｂで示される化合物をつくる工程（ａ）と、
【化６５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
からなる群から選ばれ、
【化６６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ｂで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
ートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７ｃ
で示される化合物をつくる工程（ｂ）と、
【化６７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｃで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
）、式９ｃで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、乳酸誘導体から純粋なジアステレオマーの（２Ｒ，３Ｒ），（２Ｒ
，３Ｓ），（２Ｓ，３Ｒ），および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリール−ｌ−置換ブ
タン−２，３−ジオールの不斉合成に関するものである。
【０００２】 一般式９で示される不斉ジオールは、
【化６８】 ＳＭ−８６６８Ｉ、（ゲナコナゾール）1、II2、III3、IV4のような抗かび剤と
して有用な各種アゾール誘導体の調製に用いられる重要な中間体である。
【０００３】
【化６９】
【０００４】 上記ジオール類のラセミ混合物の調製について、いくつかの合成法2、3、8が開
発され文献に報告されている。もうひとつの公表されている方法5は不斉（２Ｒ
，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタ
ノールに関するもので、標記化合物の調製に用いられる中間体で、（２Ｒ，３Ｒ
）ジアステレオマーを生成するが、それはかなりの量の（２Ｒ，３Ｓ）ジアステ
レオマーが混在している。上記文献に記載されたスキームルートは下のスキーム
Ａに要約されており、ここで、Ｘ1およびＸ2はフッ素である。
【０００５】
【化７０】
【０００６】 上記の方法は次のような欠点を持っている。即ち、 第一に、原料であるＳ−乳酸から中間体４ａに到達するにはいくつもの工程を
要している。 第二に、中間体６ａを得るために４ａのケト基をメチレン基へ変換するには、
まとめて市販されておらず、その場で調製しなければならないトリメチルシリル
マグネシウムクロライドのような化学品を必要とし、そのため、時間、労働力、
および費用が増大する。
【０００７】 第三に、工程IVは中間体５ａの回収にベンゼンを使用している。ベンゼンは人
体内で代謝されない、よく知られた危険な溶媒であり、その結果重大な健康上の
問題を引き起こす。 第四に、アリルアルコールはエポキシ化（工程VIII）で、（２Ｓ，３Ｒ）およ
び（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール（７ａおよび７ｄ）になる。この粗化合物は次の工程で精製しな
ければならない。必要なジアステレオマー（２Ｓ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフ
ルオロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタノールは、好ましくないジアス
テレオマーを生成混合物から分離できないため、純粋なキラル形として得ること
ができない。
【０００８】 第五に、この７ａおよび７ｄの混合物は、次でそれぞれに対応する安息香酸エ
ステル（８ｂおよび８ｅ、工程IX）に変換され、それらは分離精製されなければ
ならない。使用される精製工程では、好ましくないジアステレオマーを混合物か
ら完全除去することはできない。分離精製工程では、純粋なジアステレオマーが
得られることなく、労務費、溶媒および時間のコストを増大させている。この文
献に報告されている収率をわれわれの実験では再現できなかった。 第六に、この安息香酸エステルは加溶媒分解され（工程Ｘ）、最終製品はシリ
カゲル・クロマトグラフィーで精製されなければならない。精製後の精製品でも
、尚好ましくない（２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，
４−エポキシ−２−ブタノールジアステレオマー（７ｃ）が混合している。
【０００９】 上記の事実をもとに、ここに記載したプロセスは、ジアステレオマーとして純
粋な（２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ
−２−ブタノール製品７ｂを大規模生産する方法として適当なプロセスではない
。このプロセスには、各工程でカラムクロマトグラフィーが必要で、それは労働
力、化学品、抽出精製コストを増加させる。精製後も、必要な物質（２Ｒ，３Ｒ
）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタノール
（７ｂ）の純度は９５％にすぎず、残りは不必要なジアステレオマー（７ｃ）で
ある。 従って、本発明は、市販の乳酸誘導体から出発して、純粋で望ましいジアステ
レオマーである７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ、９ａ、９ｂ、９ｃおよび９ｄを鏡像異
性選択的に合成するより効果的な新しい方法に関するものである。
【００１０】 本発明の要約 本発明は、光学活性でジアステレオマー的（２Ｓ，３Ｒ）、（２Ｒ，３Ｒ）、
（２Ｒ，３Ｓ）および（２Ｓ，３Ｓ）−３−アリール−３，４−エポキシ−２−
ブタノール（７ａ−７ｄ）で鏡像異性純度９９％以上、一般式９ａ〜ｄの（２Ｒ
，３Ｓ）、（２Ｒ，３Ｒ）、（２Ｓ，３Ｒ）および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリー
ル−１−置換ブタン−２，３−ジオールで鏡像異性純度が殆ど１００％のものを
合成するための新規で改良された方法に関するものである。
【００１１】
【化７１】
【００１２】 ７ａ−７ｄおよび９ａ−９ｄのジアステレオ選択的合成法はスキーム−Ｂ、Ｃ
、Ｄ、およびＥで示されており、ここでＸ1およびＸ2は同じかまたは異なり、水
素または塩素、臭素、フッ素置換基のいずれか、または低級なアルキル基または
アルコキシ基で、さらに塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲンで置換されて
いてもよく、Ｘは次のものからなる群から選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここでＲ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素また
はフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素
、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換
され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていない
か、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群から選ばれた置換
基をもち、このフェニル基は塩素、臭素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル
基およびＣ1−Ｃ6のコキシ基で置換されていない。 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記と同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ）2−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）2およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる。 そして、Ｒは保護基である。
【００１３】 本発明は中間体４ａおよび４ｂからそれぞれ（２Ｓ，３Ｒ）−３−アリール−
３，４−エポキシ−２−ブタノール（７ａ）および（２Ｒ，３Ｓ）−３−アリー
ル−３，４−エポキシ−２−ブタノール（７ｃ）を殆ど１００％のジオステレオ
マー性収率で生成することに関するものである。そのＮＭＲから、製品（７ａお
よび７ｃ）は好ましくないジアステレオマーが全く含まれていないようである。
【００１４】 本発明はキラル炭素原子のところで、立体配置の完全な転化を高収率で得る方
法を提供するものである。 本発明では、工程VII（スキーム−ＣおよびＥ）で安息香酸の代わりにｐ−ニ
トロ安息香酸を使用し、それにより、最終化合物（２Ｒ，３Ｒ）−および（２Ｓ
，３Ｓ）−２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオール（それぞれ９ｂお
よび９ｄ）が高純度高収率で得られる。
【００１５】 本発明は、ジアステレオマー的に純粋な化合物９ａ−９ｄを、遊離の塩基また
は塩酸付加物として、高価なクロマトグラフィーによる精製を必要とせずに、不
純物のない状態に製造するための速度が速く経済的な製造法を提供するものであ
る。 反応工程VII、VIIIおよびIX（スキーム−ＣおよびＥ）は一つの容器で行なう
ことができ、中間体７ａおよび７ｃからそれぞれ、最終のジオール（２Ｒ，３Ｒ
）−および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオール
（９ｂおよび９ｄ）を、時間のかかる関連中間体の分離精製を行なうことなく、
純粋な結晶形で生成することができる。
【００１６】 本発明は、一つの容器で直接、中間体（それぞれ７ａおよび７ｃ）から、最終
化合物（２Ｒ，３Ｒ）−および（２Ｓ，３Ｓ）−２−アリール−１−置換ブタン
−２，３−ジオール（９ｂおよび９ｄ）を生成するのにｐ−ニトロ安息香酸を使
用し、そのことがコストのかかる分離および精製工程を経ることなく高品質な製
品を得ること可能にしている。
【００１７】 好ましい実施態様の説明 本発明は、次のようなジアステレオマー的に純粋な化合物を商業生産するため
の新規な方法に関する。
【００１８】
【化７２】
【００１９】 ここでＸ1およびＸ2は同じかまたは異なり、水素または塩素、臭素、フッ素置
換基のいずれか、またはＣ1−Ｃ6アルキル基またはＣ1−Ｃ6アルコキシ基で、さ
らに塩素、臭素またはフッ素のようなハロゲンで置換されていて、Ｘは次のもの
からなる群から選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここでＲ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素また
はフェニル基であり、そのフェニル基は塩素、臭素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6
のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されまたは置換されておらず
、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていないか、
または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群から選ばれた置換基を
もち、このフェニル基は塩素、臭素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基お
よびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されていない。 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記と同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ）2−Ｒ1、ここではＲ1は前記に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）2およびＯからなる群から選ばれ、そ
の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
いる。
【００２０】 Ｃ1−Ｃ6のアルキル基の例としては、直鎖または側鎖のあるアルキル基、例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、およびヘキ
シル基があげられる。 Ｃ1−Ｃ6のアルコシキ基の例としては、直鎖または側鎖のあるアルコキシ基で
、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、
ｎ−ペンチロキシ基、イソペンチロキシ基、およびｎ−ヘキシロキシ基があげら
れる。
【００２１】 スキーム−Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥは市販の光学活性乳酸メチルを原料として、
段階的に（２Ｒ，３Ｒ），（２Ｒ，３Ｓ）、（２Ｓ，３Ｒ）および（２Ｓ，３Ｓ
）−２−アリール−１−置換ブタン−２，３−ジオールの合成について示してお
り、ここでＸ1、Ｘ2およびＸは前記の通り、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキシメチル基を
示す。工程IIの保護剤は、２，３−ジヒドロ−４Ｈ−ピラン、臭化ベンジル、塩
化ベンジル、臭化トリチル、塩化トリチル、臭化メトキシメチルおよび塩化β−
メトキシエトキシメチルからなる群から選ばれる。それぞれの上記化合物を得る
ための方法は一般実験の部分に示されている。キラル中間体４ａおよび４ｂは、
文献３記載の方法に従って生成される。中間体４ａおよび４ｂはそれぞれ、テト
ラヒドロフランで、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドまたはリチウム
ビス（トリメチルシリル）アミドの存在下で、臭化メチルトリフェニルスルホニ
ウムと反応させることにより、エクソメチレン中間体５ａおよび５ｂに変換され
る。化合物５ａおよび５ｂは保護基を外した後、それぞれ一般式６ａおよび６ｂ の置換されたアリルアルコールになり、ついでｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキ
サイドとチタニウムイソプロポキシドおよびキラルタルタレート存在下、「鋭敏
でない」ステレオ選択的エポキシ化法6に従い、例えばジクロロメタンのような
非プロトン性溶媒中で、−１５℃から２５℃の間の温度で反応させると、高ジア
ステレオマー収率の不斉中心が発生する。
【００２２】 このようにして生成された７ａおよび７ｃは、適当なカルボン酸、好ましくは
ｐ−ニトロ安息香酸と、トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジカルボン
酸エステル7存在下で反応させることにより、Ｃ２の炭素の位置で定量的な立体
配置の転化が起こり、対応するエステル８ａ、８ｂ、８ｃおよび８ｄに変換され
る。これらのエステルの加溶媒分解はナトリウムメトキシドの存在下で、それぞ
れ化合物７ｂおよび７ｄが、高いジアステレオマー性で、高収率で得られる。 工程VII（スキーム−ＣおよびＥ）で、安息香酸を使用すると、対応する安息
香酸エステルの収率が低く、その結果、加溶媒分解による（２Ｒ，３Ｒ）−３−
アリール−３，４−エポキシ−２−ブタノール７ｂおよび（２Ｓ，３Ｓ）−３−
アリール−３，４−エポキシ−２−ブタノール７ｄの収率も低い。安息香酸の代
わりにｐ−ニトロ安息香酸を使うと、全体の反応時間が短縮され、全体の収率お
よび生成物（８ａおよび８ｃ）の品質も向上する。１，２，４−トリアゾールと ７ｂ および７ｄとの反応で得られたジオール（９ｂおよび９ｄ）は、反応混合物
から、それらの塩酸付加物または遊離塩基として分離された。回収された生成物
はジアステレオマーとして純粋で、望ましくないジアステレオマーは含まれてい
ない。
【００２３】 １，２，４−トリアゾールと化合物７ａ−ｄとのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドまたはアセトニトリル中で、炭酸カリウム、炭酸セシウム、ＮａＨまたはナト
リウムメトキシドのような塩基存在下、０−８０℃での反応後、結晶化すれば、
対応する鏡像異性的に純粋な一般式９ａから９ｄの２−アリール−置換ブタンー
２，３−ジオールが得られる（スキーム−ＣおよびＥ、工程VII−IXおよびＸ）
。
【００２４】 スキーム−ＢからＥに記載されたすべての反応がうまく行なわれ、粗中間体か
ら始めて、鏡像異性体的に純粋な一般式９ａ−ｄで表される２−（２，４−ジフ
ルオロフェニル）−１−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）ブタン−２，
３−ジオールが、それぞれの乳酸メチルを出発原料として生成される。最終生成
物９ａ−９ｄはそれらの粗反応生成物から結晶化により分離できる。 それ以外で、好ましい反応工程（VII、VIIIおよびIX；スキームーＣおよびＥ）
は逐次的に、実質上一つの容器で行なわれ、ジアステレオマー的に純粋な標記の
化合物９ｂおよび９ｄがそれらの塩酸付加物として、中間体８ａから８ｄ、７ｂ から７ｄのどれも、仕上処理、分離または生成することなしに得られる。このジ
アステレオマー９ｂおよび９ｄは、好ましくないジアステレオマーを含まない状
態で得られた。
【００２５】 安息香酸の代わりに、ｐ−ニトロ安息香酸を使用し、一つの容器中で行なう方
法はまた、分離した純粋な対応生成物、２−アリール−１−置換ブタン−２，３
−ジオール（９ｂおよび９ｄ）の収率を高くする。 いくつかの一般的反応条件は次の通りである。
【００２６】スキーム Ｂ 式５ａで示される化合物は式４ａで示される化合物を臭化メチルトリフェニル
ホスホニウムおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミドと適切な溶媒中で
反応させることにより合成される。ここで使用される溶媒については、溶媒が反
応に関与しない限り特別な制限はなにもない。使用し得る溶媒の例としては、Ｔ
ＨＦ、ジアルキルエーテル、ジオキサン、ＤＭＦおよびＤＭＳＯのような非プロ
トン性の極性溶媒があげられる。この反応では臭化メチルトリフェニルスルホニ
ウムおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミドを式４ａの化合物モル当た
り１−２モル当量使用することが望ましい。 反応温度は−７０℃から５０℃の範囲であればよく、反応時間は１から２５時
間、望ましくは１から１７時間である。
【００２７】 式６ａで表される化合物は式５ａで表される化合物をピリジニウム−ｐ−トル
エンスルフォネートと適切なアルコール、例えば、メタノール、エタノール、プ
ロパノールまたはブタノール、望ましくはエタノール中で反応させることによっ
て得られる。この反応では、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートを式５ａ で示される化合物のモル当たり０．１から１．０モル当量使用することが望まし
い。 温度範囲は３０℃から１００℃の範囲内でよい。反応時間は１から１５時間の
範囲、望ましくは１から９時間の範囲がよい。
【００２８】 式７ａで示される化合物は、式６ａで示される化合物とｔ−ブチルヒドロパー
オキサイドを式６ａ化合物のモル当たり１から５モル当量、望ましくは６ａ化合
物の３．０２当量反応させることにより得られる。 この反応は、式６ａで示される化合物モル当り０．１モル当量から１モル当量
のチタニウム（IV）イソプロポキシド、望ましくは式６ａで示される化合物モル
当り０．５モル当量、および式６ａで表される化合物のモル当たり０．１モル当
量から１モル当量のＬ（＋）−酒石酸ジアルキル、好ましくはＬ（＋）−酒石酸
ジエチルが式６ａで示される化合物モル当り０．３モル当量の存在下で、例えば
、塩化メチレン、クロロホルム、望ましくは塩化メチレンのような適切な溶媒中
でモレキュラーシーブ粉末（３Å）と反応させることにより行なわれる。反応温
度は−２０℃から２０℃、望ましくは−５℃で行なえばよく、反応時間は５時間
から１５時間の間、望ましくは１２時間とするのがよい。
【００２９】スキーム Ｃ 式９ａで示される化合物は、式７ａで示される化合物を、式７ａで示される化
合物のモル当たり１モル当量から４モル当量、望ましくは式７ａで示される化合
物モル当たり２モル当量の１，２，４−トリアゾールと、式７ａで示される化合
物モル当たり１モル当量から５モル当量、望ましくは式７ａで示される化合物の
モル当たり２．２モル当量の金属ハライド、望ましくはＮａＨの存在下で、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ＤＭＳＯ、ジオキサンのような適切な非プロトン系
溶媒、望ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で反応させることにより得る
ことができる。反応温度は２０℃から１００℃、望ましくは８０℃がよい。反応
時間は１時間から５時間、望ましくは２時間がよい。
【００３０】 式８ａで示される化合物は、式７ａで示される化合物を、式７ａで示される化
合物モル当たり１モル当量から２モル当量、望ましくは式７ａで示される化合物
モル当たり１．２モル当量のトリフェニルホスフィン、ｐ−ニトロ安息香酸およ
びジエチルアゾジカルボキシレートと、適切な溶媒中、不活性ガス雰囲気中で反
応させることにより得られる。ここで使用する溶媒については、反応に関与しな
い限り特別な制限はない。使用し得る溶媒としては、ＴＨＦ、ジアルキルエーテ
ルおよびジオキサンのような非プロトン性の極性溶媒があげられる。 反応温度範囲は−１０℃から１０℃でよく、望ましいのは０℃である。反応時
間の範囲は１時間から５時間でよく、望ましいのは１時間である。
【００３１】 式８ｂで示される化合物は、式７ａで示される化合物をトリフェニルホスフィ
ン、安息香酸およびジエチルアゾジカルボキシレートの式７ａで示される化合物
モル当たり１モル当量から２モル当量、望ましくは式７ａで示される化合物モル
当たり１．２モル当量と、適切な溶媒中、不活性ガスの雰囲気中で反応させるこ
とにより得られる。ここで用いる溶媒としては、反応に関与しない限り特別な制
限はない。溶媒の例示としては、ＴＨＦ、ジアルキルエーテルおよびジオキサン
のような非プロトン性の極性溶媒があげられる。反応の温度範囲は０℃から４０
℃、望ましくは２５℃である。反応時間の範囲は１時間から２５時間、望ましく
は１７時間である。
【００３２】 式７ｂで表される化合物は、式８ａで示される化合物を、ナトリウムアルコキ
シド、望ましくはナトリウムメトキシドと、式８ａで示される化合物モル当たり
１から２モル当量、望ましくは式８ａで示される化合物モル当たり１．３モル当
量、メタノール、エタノール、プロパノールまたはブタノールのような適切なア
ルコール中で、不活性ガスの雰囲気下で反応させることにより得られる。反応温
度範囲は−５℃から２０℃、望ましくは０℃である。反応時間の範囲は０．５時
間から２時間、望ましくは１時間である。
【００３３】 式９ｂで表される化合物は、式７ｂで表される化合物を、１，２，４−トリア
ゾールおよび炭酸カリまたは水素ナトリウムのような適切な塩基と、式７ｂで表
される化合物モル当たり２モル当量から６モル当量、望ましくは式７ｂで表され
る化合物モル当たり４．０モル当量、ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、ジオキサン
、ＤＭＦ、アセトニトリルおよびＤＭＳＯのような適切な非プロトン性溶媒中、
不活性ガス雰囲気下で反応させることにより得られる。反応の温度範囲は２５−
１００℃、望ましくは８０−８５℃である。反応時間は１−６時間の範囲、望ま
しくは４時間である。
【００３４】スキーム Ｄ 式５ｂで表される化合物は、式４ｂで表される化合物と、臭化メチルトリフェ
ニルホスホニウムおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミドと適切な溶媒
中で反応させることにより得られる。溶媒については、反応に関与しない限り特
別な制限はない。この溶媒については、例えば、ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、
ジオキサン、ＤＭＦおよびＤＭＳＯのような非プロトン性極性溶媒があげられる
。この反応では、臭化メチルトリフェニルホスホニウムおよびリチウムビス（ト
リメチルシリル）アミドを式４ｂで表される化合物のモル当たり１モル当量から
２モル当量使用することが好ましい。 反応温度範囲は−７０℃から５０℃がよい。反応時間は１時間から２５時間の
範囲内であればよく、好ましいのは１時間から１７時間の範囲内である。
【００３５】 式６ｂで表される化合物は、式５ｂで表される化合物と、ピリジニウム−ｐ−
トルエンスルホネートをメタノール、エタノール、プロパノールまたはブタノー
ルのような適切なアルコール、好ましくはエタノール中で反応させることにより
得られる。この反応では、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートを式５ｂで
表される化合物モル当たり０．１モル当量から１モル当量用いることが好ましい
。 その反応温度は３０℃から１００℃の範囲内であればよい。その反応時間は１
時間から１５時間の範囲内、好ましくは１時間から９時間の範囲内がよい。
【００３６】 式７ｃで表される化合物は、式６ｂで表される化合物と、ｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシドを、式６ｂで表される化合物モル当たり、１モル当量から５モル当量
、好ましくは式６ｂで表される化合物モル当たり３．０２モル当量と反応させる
ことにより得られる。 この反応は、チタニウム（IV）イソプロポオキサイドが式６ｂで表される化合
物モル当たり０．１モル当量から１モル当量、好ましくは式６ｂで表される化合
物モル当たり０．５モル当量とＬ（＋）酒石酸ジアルキル、好ましくはＬ（＋）
−酒石酸ジエチルが式６ｂで表される化合物モル当たり０．１モル当量から１モ
ル当量、好ましくは式６ｂで表される化合物モル当たり０．３モル当量と、メチ
レンクロライドまたはクロロフォルムのような適切な溶媒、好ましくはメチレン
クロライド中で、モレキュラーシーブ（３Å）粉末と反応することにより得られ
る。その反応温度は−２０℃から２０℃の範囲であればよく、好ましいのは−５
℃である。反応時間の範囲は５時間から１５時間の間、好ましくは１２時間であ
る。
【００３７】スキーム Ｅ 式９ｃで表される化合物は、式７ｃで表される化合物を、１，２，４−トリア
ゾールを式７ｃで表される化合物モル当たり、１モル当量から４モル当量、好ま
しくは式７ｃで表される化合物モル当たり２モル当量と、金属ハライド、好まし
くはＮａＨを式７ｃで表される化合物モル当たり１モル当量から５モル当量、好
ましくは式７ｃで表される化合物モル当たり２．２モル当量と、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ＤＭＳＯ、ジオキサンのような適切な非プロトン性溶媒、好ま
しくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で反応させることにより得られる。反応
温度は２０℃から１００℃の範囲内、好ましくは８０℃であればよい。反応時間
は１時間から５時間の範囲内、好ましくは２時間である。
【００３８】 式８ｃで表される化合物は、式７ｃで表される化合物と、トリフェニルホスフ
ィン、ｐ−ニトロ安息香酸、およびジエチルアゾジカルボキシレートを式７ｃで
表される化合物モル当たり１モル当量から２モル当量、好ましくは式７ｃで表さ
れる化合物モル当たり１．２モル当量、適切な溶媒中、不活性雰囲気下で反応さ
せることにより得られる。ここで用いられる溶媒については、反応に関与しない
限り特別な制限はない。用いられる溶媒としてはＴＨＦ、ジアルキルエーテルお
よびジオキサンのような非プロトン性の極性溶媒が含まれる。 反応温度は−１０℃から１０℃までの温度がよく、好ましくは０℃である。反
応時間は１時間から５時間、好ましくは１時間である。
【００３９】 式８ｄで表される化合物は、式７ｃで表される化合物と、トリフェニルホスフ
ィン、安息香酸およびジエチルアゾジカルボキシレートを式７ｃで表される化合
物モル当たり１モル当量から２モル当量、好ましくは式７ｃで表される化合物モ
ル当たり１．２モル当量、適切な溶媒中、不活性雰囲気下で反応させることによ
り得られる。ここで用いられる溶媒については、反応に関与しない限り特別な制
限はない。このような溶媒の例としては、ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、および
ジオキサンのような非プロトン性の極性溶媒があげられる。反応温度は０℃から
４０℃の範囲内であればよく、好ましくは２５℃である。反応時間は１時間から
２５時間の範囲内であればよく、好ましくは１７時間である。
【００４０】 式７ｄで表される化合物は、式８ｃで表される化合物と、ナトリウムアルコキ
シド、好ましくはナトリウムメトオキシドを、式８ｃで表される化合物モル当た
り１モル当量から２モル当量、好ましくは式８ｃで表される化合物モル当たり１
．３モル当量、メタノール、エタノール、プロパノールまたはブタノールのよう
な適切なアルコール中で、不活性雰囲気下で反応させることにより得ることがで
きる。反応温度は−５℃から２０℃の範囲ないであればよく、好ましくは０℃で
ある。反応時間は０．５時間から２時間であればよく、好ましくは１時間である
。
【００４１】 式９ｄで表される化合物は、式７ｄで表される化合物と、炭酸カリウムまたは
ナトリウムハライドのような適切な塩基を、式７ｄで表される化合物モル当たり
２から６モル当量、好ましくは式７ｄで表される化合物モル当たり４モル当量、
ＴＨＦ、ジアルキルエーテル、ジオキサン、ＤＭＦ、アセトニトリルおよびＤＭ
ＳＯのような適切な非プロトン性溶媒中で、不活性雰囲気下で反応させることに
よる得ることができる。反応温度は２５℃から１００℃の範囲内にあればよく、
好ましくは８０℃から８５℃の範囲である。反応時間は１時間から６時間、好ま
しくは４時間である。
【００４２】
【化７３】
【００４３】
【化７４】
【００４４】
【化７５】
【００４５】
【化７６】
【００４６】 実施例 本発明に基づき、各化合物は調製法を以下の実施例で説明する。ここでの代表
的実施例ではＸ1およびＸ2はフッ素、Ｒはテトラヒドロピラニル、Ｘは１，２，
４−トリアゾール−１−イルである。
【００４７】 実施例１ （３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン［５ａ］
【００４８】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（１６２．２ｇ，０．４７４モル）を３
５０ｍｌの乾燥テトロヒドロフランに入れ、機械的に攪拌した混合物を８℃まで
冷却した。リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（８４．８ｇ，０．５０７
モル）をテトラヒドロフラン５００ｍｌに入れ、溶解した液を上記混合物に、混
合物の温度が２３℃を保持できるような速度で加えた。常温で１時間攪拌後、内
容物を−７０℃に冷却し、３０分攪拌した。次いで、化合物４ａ、（２Ｓ）−２
’，４’−ジフルオロ−２−（３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−
２−イルオキシ）プロピオフェノン（１００ｇ，０．３７０モル）を２５０ｍｌ
のテトラヒドロフランで溶解して、混合物の温度を−７０℃以下に保持しながら
徐々に加えた。得られた混合物を７℃で１７時間攪拌した。酢酸エチル６５ｍｌ
を上記混合物に加え、次いで３．９Ｌのヘキサンを加え１５分間放置した。固形
物を吸引濾過し、６５０ｍｌのヘキサンで充分に洗浄した。その濾液をメタノー
ル液と水（２×１３００ｍｌ）の比が１：１の混合液、次いでブライン（１３０
０ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ、標記化合物５ａ
を油状物（９１．５ｇ，９２％）として得た。
【００４９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５４−ＣＨ 3）， １．４８−１．８０（ｍ，６Ｈ），３．３６−３．５３（ｍ，１Ｈ），３．６
３−３．９３（ｍ，１Ｈ），４．５４−４．６４（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，
−ＣＨ），４．６９−４．７９（ｍ，１Ｈ），５．１５（ｍ，１Ｈ），５．５０
（ｄ，１Ｈ），６．６９−６．８２（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．２
８（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００５０】 実施例２ （２Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−オル［６ ａ ］
【００５１】 化合物５ａ、（３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン（８１
ｇ，０．３０２モル）とピリジニウム−Ｐ−トルエンサルホネ−ト（３２．７ｇ
，０．１３０モル）を１２００ｍｌのエタノールに入れた混合物を６０℃で９時
間加熱した。反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンとともに蒸発した。次にト
ルエンを残渣に加え、得られた固形物を濾過除去した。濾液を減圧下で蒸発させ
、得られた残渣をシリカゲルのクロマトグラフィにかけた。１０％酢酸エチルの
ヘキサン溶液で溶離し、標記化合物をとして淡黄色油状物６ａ（４４．９６ｇ，
８１％）を得た。
【００５２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４３，−ＣＨ 3）
，２．２５（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．６９（ｍ，１Ｈ，ＣＨ），５．１７
（ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ 2），６．７５−６．９０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１
７−７．２９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００５３】 実施例３ （２Ｓ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ａ］
【００５４】 Ｌ（＋）−酒石酸ブチル（２．４３ｇ，０．１１８モル）を４７０ｍｌの乾燥
ＣＨＣｌ2に溶解した液に活性化した３Åモレキュラーシーブ粉末（６ｇ）を加
え、得られた混合物−５℃まで冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシド（
７．２ｇ，０．２５３モル）を３８ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解した液を加え、次に
ｔ−ブチルヒドロパーオキサイド（１１．２ｇ，０．１２４モル）を７５ｍｌの
ＣＨ2Ｃｌ2に溶解した液を−５℃で５分間攪拌した。この混合物に化合物６ａ、
（２Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−オル（７．
５ｇ，０．０４１モル）を３８ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶液して加え、５℃で１２時
間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、飽和した３０％ＮａＯＨ水溶液２
０ｍｌを加え、得られた混合物を１０℃まで加熱した。２０ｇのＭｇＳＯ4と６
ｇのセライトを加え１０℃で３０分攪拌した。混合物をセライト上で吸引濾過し
た。その濾液に２８０ｍｌのトルエンと２２５ｍｌのエーテルを加え不溶物を濾
過により除去した。濾液を真空中で蒸発し、得られた残渣を２００ｍｌのエーテ
ルに溶解し、次いで吸引濾過して不溶物を除去した。濾液をシリカゲルの層を通
し、次いでシリカゲルの層を２０ｍｌのエーテルで洗浄した。濾液を減圧下で濃
縮して、黄色の油状物が得られ、シリカゲルのクロマトグラフィにかけた。ＣＨ
Ｃｌ3で溶離し、油状物（３．５ｇ，４３％）として標記化合物７ａを得た。
【００５５】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２２，−ＣＨ 3）
，２．６９（ｂ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８８−２．９６（ｍ，１Ｈ，エポキシド
），３．２７−３．３０（ｍ，１Ｈ，エポキシド），４．１０（ｍ，１Ｈ，−Ｃ Ｈ ），６．７８−６．９４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．４４（ｍ，
１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００５６】 実施例４ （２Ｒ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオ−ル［９ａ］
【００５７】 氷冷した乾燥ＮａＨ（０．２１６ｇ，０．００９モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（１０ｍｌ）に懸濁した液に、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０
．６９ｌ，０．０１０モル）を窒素雰囲気下で少しずつ加えた。その混合物を徐
々に室温に戻し、化合物７ａの水溶液に（２Ｒ，３Ｓ）−２−（２，４ジフルオ
ロフェニル）−３，４−エポキシ−２−ブタノール（１．０ｇ，０．００５モル
）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）に溶解した液を加える。得られた
混合物を８０℃で２時間加熱した。溶媒を減圧下で除去し５０ｇの破砕した氷を
その残渣に加えた。反応混合物を酢酸エチル（１００ｍｌ，２×２０ｍｌ）で抽
出した。有機層を合わせ、水（２０ｍｌ）、ブライン（５０ｍｌ）で洗浄しＭｇ
ＳＯ4上で乾燥した。溶媒を真空下で除去し、その残渣をシリカゲルのクロマト
グラフィにかけた。メタノールのクロロホルム溶液（０％−３％）で溶離しアモ
ルファス固形物（０．５ｇ，３７％）の化合物９ａを得た（０．５ｇ，３７％）
。
【００５８】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４４，−ＣＨ 3）
，２．８９（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ）４．５１
−４．５８（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６５−６．８
５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．
７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｍｍ．
【００５９】 実施例５ （２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チル４’−ニトロベンゾエート［８ａ］
【００６０】 化合物７ａ、（１．４ｇ，０．００７モル）、トリフェニルホスフィン（２．
２４ｇ，０．００８４モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（１．４ｇ，０．００８
４モル）を３０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃に冷却した。
その透明な液にジエチルアアゾジカルボキシレート（１．３２ｍｌ，０．００８
４モル）を徐々に滴下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧
下で蒸発させ、その残渣を酢酸エチル（７５ｍｌ）と水（１５ｍｌ）で分配した
。その有機層を水、ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶
媒を蒸発させ、その残渣をシリカゲルのクロマトグラフィにかけた。５％酢酸エ
チルのヘキサン溶液で溶離し、油状の（２Ｒ，３Ｒ）−（２，４−ジフルオロフ
ェニル）−３，４−エポキシブチル４’−ニトロ安息香８ａを得た（１．５２ｇ
，６２％収率）。
【００６１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９０Ｈｚ，−ＣＨ 3 ），２．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８９Ｈｚ，エポキシド），３．２９（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝４．８９Ｈｚ，エポキシド），５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ），６．
９０−７．００（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４２−７．５５（ｍ，１Ｈ，Ａｒ
−Ｈ），８．１６−８．３４（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００６２】 実施例６ （２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チル安息香酸［８ｂ］
【００６３】 化合物７ａ、（２．０ｇ，１０ミリモル）を２０ｍｌのテトラヒドロフランに
溶解し氷冷した液にトリフェニルホスフィン（３．０２ｇ，１１．５ミリモル）
、安息香酸（１．４０ｇ，１１．５ミリモル）およびジエチルアゾジカルボキシ
レート（２．０ｇ，１１．５ミリモル）を加え、窒素雰囲気下、室温で１７時間
攪拌した。反応混合物を酢酸エチル（７０ｍｌ）で希釈し、水（４０ｍｌ）で洗
浄した。その水層を酢酸エチル（２×２０ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせ水
（２０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ、
油状の残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。４％酢酸エチルのヘキサン
溶液で溶離し、油状の標記化合物８ｂ（１．２２ｇ，４０％）を得た。
【００６４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６４，−ＣＨ 3）
，２．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９４Ｈｚ，エポキシド），３．２４（ｄ，１Ｈ
，Ｊ＝ ５．０３Ｈｚ，エポキシド）５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ），６．７９
−６．９８（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．６１（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ ），７９９−８．０４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００６５】 実施例７ （２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ｂ］
【００６６】 方法Ａ 氷冷したＮａＯＨ3（２１７ｍｇ，４．０２ミリモル）を２０ｍｌのＣＨ3ＯＨ
に溶解した液に化合物８ａ、（２Ｒ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−３，４−エポキシブチル４’−ニトロベンゾエート（１．０８ｇ，３．０
９ミリモル）を５ｍｌのＣＨ3ＯＨに溶解した液を滴下し、得られた混合物を０
℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧下で蒸発させ、その残渣に１０ｇの破砕した氷
を加えた。その混合物を酢酸エチル（２×４０ｍｌ）で抽出した。その有機層を
合わせ、水（１０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。濾過後
、溶媒を蒸発させ、残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。ＣＨＣｌ3で
溶離し、油状の標記化合物７ｂ（５６５ｍｇ，９１％）を得た。
【００６７】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６４，−ＣＨ 3）
，１．７８（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２２，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１７，エポキシド）４．０６−４．
１３（ｍ，１Ｈ），６．７６−６．９２（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７
．４７（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００６８】 方法Ｂ 氷冷したＮａＯＨ3（２３１ｍｇ，４．３ミリモル）を４０ｍｌのＣＨ3ＯＨに
溶解した液に化合物８ａ（１．０ｇ，３．３ミリモル）を１０ｍｌのＣＨ3ＯＨ
に溶解した液を滴下し、得られた混合物を室温で２時間攪拌した。溶媒を減圧下
で蒸発させ、その残渣に２０ｇの破砕した氷を加えた。その混合物を１Ｎ ＨＣ
ｌで酸性化し、酢酸エチル（２×５０ｍｌ）で抽出した。その有機層を合わせ飽
和ＮａＨＣＯ3（２×２０ｍｌ）、水、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥し
た。濾過後、溶媒を蒸発させ、その残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた
。ＣＨＣｌ3で溶離し、油状の標記化合物７ｂ（５００ｍｇ，７６％）を得た。
【００６９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６４，−ＣＨ 3）
，１．７８（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２２，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１７，エポキシド）４．０６−４．
１３（ｍ，１Ｈ），６．７６−６．９２（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７
．４７（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７０】 実施例８ （２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタジオ−ル［９ｂ］
【００７１】 方法Ａ 化合物７ｂ（５６０ｍｇ，２．８ミリモル）を１５ｍｌの乾燥アセトニトリル
に溶解した液に炭酸カリウム（１１６１ｍｇ，８．４ミリモル）および１，２，
４−トリアゾール（５８０ｍｇ，８．４ミリモル）を加えた。得られた混合物を
窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、少量の
酢酸エチルで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮させ、その残渣を３０ｇの酢酸エチ
ルに溶解した。得られた溶液を水（２×５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、有機槽を
硫酸ナトリウム上で乾燥した。内容物を吸引濾過し、その濾液を３０ｍｌのジエ
チルエーテルで希釈した。その溶液を冷却し、その溶液が飽和するまで無水ＨＣ
ｌガスの定常流を通した。標記化合物９ｂが塩酸付加物として吸引濾過により分
離された（０．５１４ｇ，６０％収率）。
【００７２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−Ｃ
Ｈ 3），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，
−ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１
（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，
１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７３】 塩酸付加物としての化合物９ｂを最少量の水に溶解し、アンモニアでｐＨ１０
に成るまでアルカリ性化し、その生成物を酢酸エチルで抽出した。その溶媒を減
圧下で除去し，化合物９ｂを遊離塩基として得た。
【００７４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−７．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ2，
−ＯＨ）６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（ｍ
，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１Ｈ
，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７５】 方法Ｂ １Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０．２７６ｇ，４．０ミリモル）を氷冷Ｋ 2 ＣＯ3（０．５５３ｇ，４．０ミリモル）と５ｍｌのＮ，Ｎ−ジチメルホルムア
ミドの混合物に加えた。反応混合物は徐々に常温に戻し、化合物７ｂ（０．４ｇ
，２．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジチメルホルムアミド（１ｍｌ）に溶解した液を
加え、８０℃で３時間加熱した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、破砕した氷２０
ｇを加えた。得られた混合物を酢酸エチル（７０ｍｌ，２５ｍｌ）で抽出した。
有機層を水、ブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ、そ
の残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。２％ＣＨ3ＯＨのＣＨＣｌ3溶液
で溶離し、標記化合物９ｂをアモルファス固形物（３１１ｍｇ，５８％）として
得た。
【００７６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００７７】 実施例９ （３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４，５，６−テ
トラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン［５ｂ］
【００７８】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（８４．６ｇ，０．２３７モル）を１７
５ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した混合物を機械的に攪拌し、８℃まで
冷却した。リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（４２．４ｇ，０．２５３
ミリモル）を２５０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解した液を上記混合物に温度
が２３℃に保持できる速度で加えた。常温で１時間攪拌後、その内容物を−７０
℃に冷却し３０分間攪拌した。化合物４ｂ、（２Ｒ）−２’，４’ジフルオロ−
２−（３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２イルオキシ）プロピオ
フェノン（５０ｇ，０．１８５モル）を１２５ｍｌのテトラヒドロフランに溶解
した液を、その混合物に−７０℃以下の温度を保持しながら徐々に加えた。得ら
れた混合物を７℃で６０時間攪拌した。この混合物に３３ｍｌの酢酸エチルを加
え、次いで、２Ｌのヘキサンを加えて１５分間静置した。固形物を吸引濾過して
除去し３２５ｍｌのヘキサンで完全に洗浄した。濾液をメタノールと水（２×６
５０ｍｌ）１：１の混合液、ブライン（６５０ｍｌ）で洗浄しＭｇＳＯ4上で乾
燥した。溶媒を蒸発させて、油状物（４７７ｇ，９６％）として標記化合物６ｂ を得た。
【００７９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５，−ＣＨ 3）， １．４８−１．８５（ｍ，６Ｈ），３．３４−３．５３（ｍ，１Ｈ），３．６
３−３．９３（ｍ，１Ｈ），４．５８（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．５，Ｈｚ，−ＣＨ）
，４．６９−４．７９（ｍ，１Ｈ），５．１５（ｍ，１Ｈ），５．５１（ｄ，１
Ｈ），６．６８−６．６３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．２８（ｍ，
１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００８０】 実施例１０ （２Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−オル［６ ｂ ］
【００８１】 化合物５ｂ、（３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（３，４
，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−１−ブテン（４０
ｇ，０．１４９モル）とピリジニウム−Ｐ−トルエンスルホネート（２４．６１
ｇ，０．０９８モル）を４００ｍｌのエタノールに入れた混合物を６０℃で１４
．５時間加熱した。反応混合物は真空下で濃縮し、トルエンと共蒸発した。次い
で、その残渣にトルエンを加え、得られた固形物を濾過して除去した。その濾液
は減圧下で蒸発させ、その残渣はシリカゲルのクロマトグラフにかけた。１０％
酢酸エチルのヘキサン溶液で溶離し、淡黄色の油状物（１４．６８ｇ，５３％）
の化合物６ｂを得た。
【００８２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３７，−ＣＨ 3）
，１．８０（ｂ，１Ｈ，−ＯＨ），４．７０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），５．１８（
ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ 2），５．５５（ｓ，１Ｈ，＝ＣＨ 2），６．７７−６．８９（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．１７−７．２９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００８３】 実施例１１ （２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ｃ］
【００８４】 Ｌ−（＋）−酒石酸ジエチル（４．８６ｇ，０．２３６モル）を９４０ｍｌの
乾燥ＣＨ2Ｃｌ2（２．４Ｌ）に溶解した液に１２ｇの活性化した３Åモレキュラ
シーブ粉末を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロ
ポキシド（１４．４ｇ，０．５０６モル）を７６ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解して加
え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（２２．４ｇ，０．２４８モル）
を１５０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に加え、−５℃で２５分間攪拌した。この混合物に化
合物６ｂ、（２Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−ブテン−２−
オール（１５ｇ，０．０８１５モル）を７６ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2に溶解して加え、
５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し，４０ｍｌの３０％Ｎ
ａＯＨ水溶液をＮａＣｌで飽和させて加え、次いで、その混合物を１０℃まで加
熱した。４０ｇのＭｇＳＯ4と１２ｇのセライトを加え、１０℃で３０分間攪拌
した。その混合物をセライト上で吸引濾過した。トルエンの濾液５６０ｍｌに４
５０ｍｌのエーテルを加え、不溶物を濾液して除去した。その濾液を真空で蒸発
させ、残渣を４００ｍｌのエーテルに溶解して、吸引濾過して不溶物を除去した
。その濾液をシリカゲルの層に通し、シリカゲルパッドを４０ｍｌのエーテルで
洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し黄色の油状物を得、シリカゲルのクロマト
グラフにかけた。ＣＨＣｌ3で溶離し油状の標記化合物７ｃ（１１．９ｇ， ７
３％）を得た。
【００８５】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２１，ＣＨ 3）， ２．６６（ｂ，１Ｈ，−ＯＨ），２．９０−２．９５（ｍ，１Ｈ，エポキシド
），３．２８−３．３２（ｍ，１Ｈ，エポキシド）４．０８−４．１４（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），６．７８−６．９５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．４
４（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００８６】 実施例１２ （２Ｓ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオ−ル［９ｃ］
【００８７】 無水Ｋ2ＣＯ3（０．６９１ｇ，０．００５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（７ｍｌ）に氷冷懸濁した液に１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０．３４
５，０．００５モル）を窒素雰囲気下で少量づつ加えた。その混合物を徐々に常
温に戻し、化合物７ｃ、（２Ｒ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）
−３，４−エポキシ−２−ブタノール（０．５ｇ，．００２５モル）をＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）に溶解した液を加えた。得られた混合物を８０
℃で２時間加熱した。その溶媒を減圧下で除去し、２５ｇの破砕した氷をその残
渣に加えた。その反応混合物を酢酸エチル（５０ｍｌ，２×２５ｍｌ）で抽出し
た。有機層を合わせ水（１０ｍｌ）、ブライン（２５ｍｌ）で洗浄し、ＭｇＳＯ 4 上で乾燥した。溶媒を真空中で除去し、残渣をシリカゲルのクロマトグラフに
かけた。メタノールのクロロホルム液（０％−３％）で溶離し、アモルファス固
形物（０．２６ｇ，３８％）として標記の化合物９ｃを得た。
【００８８】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２６，−ＣＨ 3）
，２．９２（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ）４．５２
−４．５９（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６７−６．８
３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．
７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｍｍ．
【００８９】 実施例１３ （２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チル４’−ニトロベンゾエート［８ｃ］
【００９０】 化合物７ｃ、（１．０ｇ，０．００５モル）、トリフェニルホスフィン（１．
６ｇ，０．００６モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（１．０ｇ，０．００６モル
）を２０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃に冷却した。この透
明な液にジエチルアゾジカルボキシレート（０．９４ｍｌ，０．００６モル）を
徐々に滴下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。その溶媒を減圧下で蒸
発させ、その残渣を酢酸エチル（５００ｍｌ）と水（１０ｍｌ）に分配した。そ
の有機層を水、ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濾過後、溶媒
を蒸発させ、残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。２０％ヘキサンのク
ロロホルム溶液で溶離し、（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル
）−３，４−エポキシブチル−４’−ニトロベンゾエート８ｃを淡黄色の固形物
（１．０１ｇ，５８％収率）として得た。
【００９１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５７Ｈｚ，−ＣＨ 3 ），２．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，エポキシド），３．２３（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，エポキシド），５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ）６．８１−
７．００（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４３−７．５５（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）
，８．１６−８．３３（ｍ，４Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００９２】 実施例１４ （２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシブ
チルベンゾエート［８ｄ］
【００９３】 （２．３ｇ，１１．５ミリモル）を２０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解して
、氷冷した液にトリフェニルホスフィン（３．４７ｇ，１３．２３ミリモル）、
安息香酸（１．６１ｇ，１３．２２ミリモル）およびジエチルアゾジカルボキシ
レート（２．３ｇ，１３．２２ミリモル）を加え、窒素雰囲気下、室温で１７時
間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル（７０ｍｌ）で希釈し、水（４０ｍｍｌ）
で洗浄した。その水層を酢酸エチル（２×２０ｍｌ）で抽出した。有機層を合わ
せ水（２０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発さ
せ、油状の残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。４％酢酸エチルのヘキ
サン溶液で溶離し、油状物として標記化合物８ｄ（１．４０ｇ，４０％）を得た
。
【００９４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５７Ｈｚ，−ＣＨ 3 ），２．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．８９Ｈｚ，エポキシド），３．２４（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝４．９４Ｈｚ，エポキシド），５．４０（ｑ，１Ｈ，−ＣＨ）６．８
０−６．９９（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．６１（ｍ，４Ｈ，Ａｒ− Ｈ ），７．９４−８．０５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００９５】 実施例１５ （２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４−エポキシ−
２−ブタノール［７ｄ］
【００９６】 方法Ａ 氷冷したＮａＯＣＨ3（１７４ｍｇ，３．２ミリモル）を２０ｍｌのＣＨ3ＯＨ
に溶解した液に化合物８ｃ、（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−３，４−エポキシブチル４’−ニトロベンゾエート（０．８７４ｇ，２．
５ミリモル）を５ｍｌのＣＨ3ＯＨに溶解して滴下し、得られた混合物を０℃で
１時間攪拌した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、１０ｇの破砕した氷をその残渣
に加えた。その混合物を酢酸エチル（２×４０ｍｌ）で抽出した。有機層を合わ
せ、水（１０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾燥した。濾過後、溶
媒を蒸発させ、シリカゲルのクロマトグラフにかけた。ＣＨＣｌ3で溶離し、油
状物として（４２５ｍｇ，８５％）標記化合物７ｄを得た。
【００９７】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５５，−ＣＨ 3）
，２．１７（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３０，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２４，エポキシド），４．０６−４
．１４（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），６．７６−６．９４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７
．３６−７．４８（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【００９８】 方法Ｂ 氷冷したＮａＯＣＨ3（２７７ｍｇ，５．１６ミリモル）を４０ｍｌのＣＨ3Ｏ
Ｈに溶解した液に化合物８ｄ、（２Ｓ，３Ｓ）−３−（２，４−ジフルオロフェ
ニル）−３，４−エポキシブチルベンゾエート（１．２ｇ，３．９６ミリモル）
を１０ｍｌのＣＨ3ＯＨに溶解した液を滴下し、得られた混合物を室温で２時間
攪拌した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、２０ｇの破砕した氷をその残渣に加え
た。１Ｎ ＨＣｌで酸性化し酢酸エチル（２×５０ｍｌ）で抽出した。有機層を
合わせ、飽和ＮａＣＯ3（２×２０ｍｌ）、水、ブラインで洗浄しＭｇＳＯ4上で
乾燥した。溶媒を蒸発させ残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。ＣＨＣ
ｌ3で溶離し、油状物（６００ｍｇ，７６％）として標記化合物７ｄを得た。
【００９９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５５，−ＣＨ 3）
，２．１７（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），２．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３０，エ
ポキシド），３．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２４，エポキシド），４．０６−４
．１４（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），６．７６−６．９４（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７
．３６−７．４８（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１００】 実施例１６ （２Ｓ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２
，４−トリアゾー１−イル）−２，３−ブタンジオール［９ｄ］
【０１０１】 方法Ａ 化合物７ｄ（３９２ｍｇ，２．０ミリモル）を１５ｍｌの乾燥アセトニトリル
に溶解し、次いで炭酸カリウム（８１３ｍｇ，５．９ミリモル）および１，２，
４−トリアゾル（４０６ｍｇ，５．１９ミリモル）を加えた。得られた混合物は
窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、少量の
酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し、その残渣を３０ｍｌの酢酸
エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、有機
層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過した。その溶液を３０
ｍｌのジエチルエーテルで希釈した。その溶液を冷却し、その濾液が飽和状態に
なるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。標記化合物９ｄは塩酸付加物として
吸引濾過し分離された（０．３５ｇ，５７％収率）。
【０１０２】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−Ｃ
Ｈ 3），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，
−ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１
（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，
１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１０３】 塩酸付加物としての化合物９ｄを最少量の水に溶解し、アンモニアでｐＨ１０
までアルカリ性化し、その生成物を酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧下で除去
し、遊離塩基の形で化合物９ｄを得た。
【０１０４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１０５】 方法Ｂ １Ｈ−１，２，４−トリアゾール（０．３０４ｇ，４．４ミリモル）に氷冷し
たＫ2ＣＯ3（０．６０８ｇ，４．４ミリモル）と５ｍｌのＮ，Ｎ−ジチメルホル
ムアミドに溶解した液を加えた。反応混合物は徐々に常温に戻し、化合物７ｄ（
０．４４ｇ，２．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジチメルホルムアミド（１ｍｌ）に溶
解した液を加え、８０℃で３時間加熱した。その溶媒を減圧下で蒸発させ、破砕
した氷２０ｇを加えた。得られた混合物を酢酸エチル（７５ｍｌ，２５ｍｌ）で
抽出した。有機層を合わせ、水、ブラインで洗浄し、ＮａＳＯ４上で乾燥した。
溶媒を蒸発させ、その残渣をシリカゲルのクロマトグラフにかけた。２％ＣＨ3
ＯＨのＣＨＣｌ3溶液で溶離し、アモルファス固形物（３４２ｍｇ，５８％）と
して標記化合物９ｄを得た。
【０１０６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１０７】 実施例１７ 単一容器での７ａから（２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル）
−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオー
ル［９ｂ］の調製
【０１０８】 化合物７ａ、（２Ｓ，３Ｒ）−３−（２，４−ジフルオロフェニル）−３，４
−エポキシ−２−ブタオール（２．０ｇ，０．０１モル）、トリフェニルホスフ
ィン（３．２ｇ，０．０１２モル）および安息香酸（１．４７ｇ，０．０１２モ
ル）を４０ｍｌの乾燥テトロヒドロフランに溶解した液を０℃に冷却した。この
透明な液にジエチルアゾジカルボキシレート（１．８８ｍｌ，０．０１２モル）
を徐々に適下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。反応混合物を０℃に
保持しながら４０ｍｌの乾燥メタノールで希釈し、ナトリウムメトオキシド（０
．７００ｇ，０．０１３モル）を２０ｍｌのメタノールに溶解し、適下した。内
容物を０℃で６時間攪拌した。溶媒を蒸発し、残渣４０ｍｌを乾燥アセトニトリ
ルに溶解した後、炭酸カリ（４．１４ｇ，０．０３０モル）と１，２，４−トリ
アゾール（２．０ｇ，０．０３モル）を加えた。得られた混合物を窒素雰囲気下
で４時間還流した。得られた固形物を冷却した後、吸引濾過し、少量の酢酸エチ
ルで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮し、残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解した
。得られた溶液を水２×５ｍｌ、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上
で乾燥した。内容物を吸引ろ過し、濾液を５０ｍｌジエチルエーテルで希釈した
。この溶液を冷却し、無水ＨＣＩガスの定常流をこの溶液が飽和するまで通した
。標記化合物９ｂを塩酸付加物として、吸引濾過により分離した（０．８９６ｇ
，化合物７ａからの収率２９％）。
【０１０９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）８．８１（ｓ，１Ｈ
，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１０】 塩酸付加物としての化合物９ｂを最少量の水に溶解し、アンモニアでｐＨ１０
までアルカリ性にし、酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧下で除去し、遊離塩基
として化合物９ｂを得た。
【０１１１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１２】 実施例１８ 単一容器内での７ａからの（２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオロフェニ
ル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブタンジオ
ル［９ｂ］の大規模調製
【０１１３】 化合物７ａ（５００ｇ，２．５モル）、トリフェニルホスフィン（７８７ｇ，
３．０モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（５０１ｇ，３．０モル）を８Ｌの乾燥
テトラヒドロフランに溶解し、０℃に冷却した。この透明な液にジエチルアゾジ
カルボキシレート（４７２ｍｌ，３．０モル）を徐々に適下し、混合液を０℃で
１時間攪拌した。得られた反応混合物を０℃に保持しながら、５Ｌの乾燥メタノ
ールで希釈し、ナトリウムメトキシド（１７６ｇ，３．２５モル）を３Ｌのメタ
ノールに溶解した溶液をそれに適下した。その内容物を０℃で２時間攪拌した。
溶媒を蒸発し、その残渣を８Ｌの乾燥アセトントリルを加え、次いで炭酸カリウ
ム（１．０３７ｇ，７．５モル）および１，２，４−トリアゾール（５１８ｇ，
７．５モル）を加えた。得られた混合物を窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却
後、固形物を吸引濾過で除去し、酢酸エチル（２×１Ｌ）で洗浄した。濾液から
の細かい固形物はセライトの層で除去した。濾液を減圧下で濃縮し、残渣を８Ｌ
の酢酸エチルで溶解した。得られた溶液は水（２×１Ｌ）、ブラインで洗浄し、
その有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過し、濾液が得
られた。その溶液を冷却し、無水ＨＣｌガスの定常流を溶液が飽和状態になるま
で通した。標記化合物９ｂが吸引濾過により塩酸付加物の形で分離された（３０
０ｇ，化合物７ａからの収率３９％）。
【０１１４】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１５】 塩酸付加物としての化合物９ｂを最少量の水で溶解し、アンモニアでｐＨ１０
になるまでアルカリ性化した。減圧下で溶媒を除去し、遊離塩基として化合物９ ｂ を得た。
【０１１６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１１７】 実施例１９ 単一容器での７ｃからの（２Ｓ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオロフェニル
）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）−２，３−ブタンジオ
ール［９ｄ］の調製
【０１１８】 方法Ａ 化合物７ｃ（１．０ｇ，０．００５モル）、トリフェニルホスフィン（１．６
ｇ，０．００６モル）および安息香酸（０．７３３ｇ，０．００６モル）を２０
ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃まで冷却した。この透明な液
に、ジエチルアゾジカルボシキシレート（０．９４ｍｌ，０．００６モル）を徐
々に適下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。反応混合物を０℃に保持
しながら、２０ｍｌの乾燥メタノールで希釈し、ナトリウムメトキシド（０．３
５１ｇ，０．００６５モル）を１０ｍｌのメタノールに溶解した液を適下した。
内容物を０℃で６時間攪拌した。溶媒を蒸発させ、その残渣を２０ｍｌの乾燥ア
セトニトリルで溶解後、炭酸カリ（２．０７ｇ，０．０１５モル）および１，２
，４−トリアゾル（１．０４ｇ，０．０１５モル）を加えた。得られた混合物を
窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、少量の
酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し、残渣を５０ｍｌの酢酸エチ
ルに溶解した。得られた溶液を水（２×５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、その有機
層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過し、その濾液を５０ｍ
ｌのジエチルエーテルで希釈した。その溶液を冷却し、無水ＨＣｌガスの定常流
を飽和状態になるまで通した。標記化合物９ｄが吸引濾過により塩酸付加物とし
て分離された（０．４３０ｇ，化合物７ｃからの収率２８％）。
【０１１９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（Ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２０】 塩酸付加物としての化合物９ｄを最少量の水で溶解し、アンモニアでｐＨ１０
になるまでアルカリ性化した。生成物を酢酸エチルで抽出し、減圧下で溶媒を除
去し、遊離の塩基として化合物９ｄを得た。
【０１２１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２２】 方法Ｂ 化合物７ｃ（５．０ｇ，０．０２５モル）、トリフェニルホスフィン（７．８
７ｇ，０．０３０モル）およびＰ−ニトロ安息香酸（５．０１ｇ，０．０３０モ
ル）を８０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解した液を０℃まで冷却した。こ
の透明な溶液にジエチルアゾジカルボキシレート（４．７ｍｌ，０．０３０モル
）を徐々に適下し、得られた混合物を０℃で１時間攪拌した。この反応の進行を
ＴＬＣでモニターした。反応混合物は温度を０℃に保持しながら、５０ｍｌの乾
燥メタノールで希釈し、次いでナトリウムメトオキシド（１．７６ｇ，０．０３
２５モル）を３０ｍｌのメタノールに溶解した液を適下した。この反応物を０℃
で２時間攪拌した。溶媒を蒸発し、その残渣に１００ｍｌの乾燥アセトニトリル
を加え、次いで炭酸カリウム（１０．４ｇ，０．０７５モル）と１，２，４−ト
リアゾール（５．１８ｇ，０．０７５モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰
囲気下で４時間還流した。冷却後、吸引濾過により固形物を除去し、酢酸エチル
（２×２５ｍｌ）で洗浄した。濾液から細かい固形物はセライト層で除去した。
濾液は減圧下で濃縮され、その残渣は１５０ｍｌの酢酸エチルで溶解された。得
られた溶液は水（２×２５ｍｌ）、ブラインで洗浄し、その有機層を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過し、その濾液を１５０ｍｌのジエチル
エーテルで希釈した。その溶液を冷却し無水ＨＣｌガスの定常流をその液が飽和
するまで通した。標記化合物９ｄは塩酸付加物として吸引濾過により分離された
（２．９０ｇ，化合物７ｃからの収率３８％）。
【０１２３】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２４】 塩酸付加物としての化合物９ｄを最少量の水で溶解し、アンモニアでｐＨ１０
になるまでアルカリ性化した。生成物を酢酸エチルで抽出し、減圧下で溶媒を除
去し、遊離塩基として化合物９ｄを得た。
【０１２５】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．３９，−ＣＨ 3）
，２．７１−２．７６（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．３０−４．３８（ｍ，１
Ｈ，−ＣＨ），４．７４−４．８９（ＡＢｑおよびｓマージ，３Ｈ，−ＣＨ 2，
−ＯＨ），６．７０−６．８０（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．３９−７．４８（
ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），７．８５（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１２６】 実施例２０ Ｓ−（−）−乳酸メチル１ａからの（２Ｒ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオール［９ｂ］の大規模調製
【０１２７】 （Ｓ）−（−）乳酸メチル（５００ｇ，４．８０３モル）とモルホリン（１．
３Ｌ，１４．９モル）の混合物を窒素雰囲気下で７０時間８５℃に加熱した。溶
媒を減圧下で除去した。内容物を６Ｌのジクロロメタンで希釈し、１０％ＨＣｌ
とブラインの混合物で洗浄した（４×２５０ｍｌ）。有機層を硫酸ナトリウム上
で乾燥し、減圧下で蒸発して淡黄色の油状物（５７１．５ｇ）を得た。この淡黄
色の油状物（５７１．５ｇ）をジクロロメタン（１．９Ｌ）で希釈し、ｐ−トル
エンスルホン酸（６．８２ｇ， ０．０３５９モル）を加えた。その溶液を０℃
に冷却し、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（３９３ｍｌ，４．３１１モル）を
１時間以上かけて適下した。さらに１５分攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄
色油状物３ａ（８５９ｇ）を得た。
【０１２８】 マグネシウム（１０３．１ｇ，４．２４モル）と１−ブロモ２，４−ジフルオ
ロベンゼン（５０ｍｌ，０．４４モル）をテトラヒドロフラン（３．４Ｌ）に混
合し、激しく攪拌し、４０℃まで加熱して反応を開始させた。内容物を４０℃に
維持し、１−ブロモ２，４−ジフルオロベンゼン（４２９ｍｌ，３．８０モル）
を徐々に加えた。内容物を常温で１．５時間攪拌後、−２０℃に冷却した。その
油状物３ａ（８５９ｇ）を乾燥テトラヒドロフラン（５００ｍｌ）中に溶解した
溶液を１時間以上かけて、冷却した溶液に適下した。この混合物は常温でさらに
３．５時間攪拌し、酢酸エチル（４．６Ｌ）で希釈し、次いでブラインと飽和Ｎ
Ｈ4Ｃｌ水溶液（４．６Ｌ）の１：１混合液を加えた。水の層を除去し、酢酸エ
チル（３×２Ｌ）で抽出した。有機層を合わせ、水（２Ｌ）、ブライン（２Ｌ）
で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒を減圧下で除去し、暗褐色の油状物（
９６７ｇ）として粗化合物４ａを得た。
【０１２９】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（１６１６ｇ，４．５２モル）を乾燥テ
トラヒドロフラン（３．５Ｌ）に混合し、機械攪拌した混合物を８℃まで冷却し
た。リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（８１０ｇ，４．８４モル）をテ
トラヒドロフラン（５Ｌ）に溶解した液を上記混合物に混合物の温度が２３℃に
保持できるような速度で加えた。さらに常温で１時間攪拌後、その内容物を−７
０℃に冷却し、３０分攪拌した。化合物４ａ（９６７ｇ）をテトラヒドロフラン
（２．５Ｌ）に溶解した液を、混合物の温度を−７０℃以下に維持しながら加え
た。得られた混合物は７℃で１７時間攪拌した。この混合液に酢酸エチル５５０
ｍｌを加え、次いでヘキサン（３．９Ｌ）を加え、１５分間静置した。吸引濾過
で固形物を除去し、ヘキサン（３Ｌ）で充分に洗浄した。濾液をメタノールと水
（２×１０Ｌ）の１：１の混合液、次いでブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で乾
燥した。溶媒を蒸発し、油状物（８７０ｇ）として粗化合物５ａを得た。
【０１３０】 粗化合物５ａ（８７０ｇ）とピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（３５
０ｇ，１．３９モル）をエタノール（１２Ｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱し
た。反応混合物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希
釈し、固形物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発し淡褐色の油状物（６６
４ｇ）として粗化合物６ａを得た。
【０１３１】 Ｌ（＋）−酒石酸ジエチル（１６１ｍｌ，０．９４モル）を乾燥したＣＨ2Ｃ
ｌ2（２４Ｌ）に溶解した液に活性化した３Åモレキュラーシーブ粉末（６００
ｇ）を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシ
ド（５９７ｍｌ，２．０モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキ
サイド（５−６Ｍのデカン液１．５６Ｌ）を加え、−５℃で２５分間攪拌した。
この混合物に粗化合物６ａ（６６４ｇ）をＣＨ2Ｃｌ2（２Ｌ）に溶解した液を加
え、５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３
０％ＮａＯＨ水溶液１．４Ｌを加え、その混合物を１０℃まで加熱した。ＭｇＳ
Ｏ4 １．２ｋｇとセライト ４００ｇを加え、１０℃で３０分間攪拌した。混
合物はセライト上で吸引濾過した。濾液にトルエン（２０Ｌ）とエーテル（１５
Ｌ）を加え、不溶物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ、淡褐色の油
状物（７４０ｇ）として粗化合物７ａを得た。
【０１３２】 粗化合物７ａ（７４０ｇ）、トリフェニルホスフィン（１１６５ｇ，４．４４
モル）およびｐ−ニトロ安息香酸（７４２ｇ，４．４４モル）を８Ｌの乾燥テト
ラヒドロフランに溶解した液を０℃まで冷却した。この透明な液にジエチルアゾ
ジカルボキシレート（６９８ｍｌ，４．４３モル）を徐々に滴下し、得られた混
合物を０℃で１時間攪拌した。反応混合物は温度を０℃に保持しながら、５Ｌの
乾燥メタノールで希釈し、次いでナトリウムメトキシド（２６０ｇ，４．８１モ
ル）をメタノール（３Ｌ）に溶解した液を滴下した。その内容物を０℃で２時間
攪拌した。溶媒を蒸発し、その残渣を８Ｌの乾燥アセトニトリルに溶解し、次い
で炭酸カリウム（１５３４ｇ，１１．１モル）と１，２，４−トリアゾル（７６
７ｇ，１１．１モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流し
た。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、酢酸エチル（２×１Ｌ）で洗浄した
。濾液中の細かい固形物はセライト上で除去した。濾液は減圧下で濃縮し、残渣
を８Ｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×１Ｌ）、ブラインで洗
浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引濾過した。その
濾液を冷却しその溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。
標記化合物９ｂは塩酸付加物として吸引濾過して分離された。
【０１３３】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１３４】 実施例２１ Ｓ−（−）−乳酸メチル１ａからの（２Ｒ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオール［９ａ］の調製
【０１３５】 Ｓ−（−）乳酸メチル（１００ｇ，０．９６モル）とモルホリン（２６０ｍｌ
，２．９８モル）の混合液を窒素雰囲気下８５℃で７０時間加熱した。減圧下で
溶媒を除去した。その内容物を１２０ｍｌのジクロロメタンで希釈し、１０％Ｈ
Ｃｌとブラインの混合物で洗浄（４×５０ｍｌ）した。その有機層を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、減圧下で蒸発して黄色の油状物を得た。この淡黄色の油状物を
ジクロロメタン（２８０ｍｌ）で希釈し、ｐ−トルエンスルホン酸（１．３６ｇ
，０．００７モル）加えた。この溶液を０℃まで冷却し、これに３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−ピラン（７９ｍｌ，０．８６モル）を１時間以上かけて徐々に滴下し
た。さらに１５分間攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色の油状物３ａを得た
。
【０１３６】 マグネシウム（２０．６ｇ，０．８４８モル）と１−ブロモ−２，４−ジフル
オロベンゼン（１０ｍｌ，０．０８８モル）をテトラヒドロフラン（７００ｍｌ
）に溶解した液を激しく攪拌し、４０℃に加熱して反応を開始させた。この内容
物を４０℃に保持しながら１−ブロモ−２，４−ジフルオロベンゼン（８９ｍｌ
，０．７６モル）を徐々に加えた。その内容物を常温で１．５時間攪拌後、−２
０℃に冷却した。この油状物３ａを乾燥テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）で溶
解したものを、１時間以上かけてこの冷却した溶液に適下した。この混合物を常
温でさらに３．５時間攪拌し、酢酸エチル（９００ｍｌ）で希釈した後、ブライ
ンとＮＨ4Ｃｌ飽和水溶液の１：１混合物を加えた。水層を除去し酢酸エチル（
３×４００ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせ、水（４００ｍｌ）、ブライン（
４００ｍｌ）で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒は減圧下で除去し、油状
の粗化合物４ａを得た。
【０１３７】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（３２３ｇ，０．９０４モル）と乾燥テ
トラヒドロフラン（７００ｍｌ）混合物を機械的に攪拌して８℃に冷却した。リ
チウムビス（トリメチルシリル）アミド（１６２ｇ，０．９０４モル）をテトラ
ヒドロフラン（１Ｌ）に溶解した液を上記混合物に混合物の温度が２３℃に保持
できる速度で加えた。この内容物を常温で１時間攪拌後、−７０℃に冷却し、３
０分間攪拌した。化合物４ａをテトラヒドロフラン（５００ｍｌ）に溶解した液
を、その混合物の温度が−７０℃以下を保持できるように徐々に加えた。得られ
た混合物を７℃で１時間攪拌した。この混合物に酢酸エチル１００ｍｌを加え、
次いでヘキサン（６００ｍｌ）を加え１５分間静置した。固形物を吸引濾過して
除去し、ヘキサン（６００ｍｌ）で充分洗浄した。濾液をメタノールと水（２×
２００ｍｌ）の１：１混合物で洗浄し、さらにブラインで洗浄してＭｇＳＯ4上
で乾燥した。溶媒を蒸発させ油状の粗化合物５ａを得た。
【０１３８】 粗化合物５ａとピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（７０ｇ，０．２７
８モル）をエタノール（２５０ｍｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱した。反応
混合物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希釈し、固
形物を濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ淡褐色の油状物として粗化合
物６ａを得た。
【０１３９】 Ｌ（＋）−酒石酸ジエチル（３２．２ｍｌ，０．１８８モル）を乾燥ＣＨ2Ｃ
ｌ2（５Ｌ）に溶解した液に活性化した３Åモレキュラシーブ粉末（１２０ｇ）
を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（ＩＶ）イソプロポキシド
（１２０ｍｌ，０．４モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキサ
イド（５−６Ｍデカン溶液３１２ｍｌ）を加え、−５℃で２５分間攪拌した。こ
の混合物に粗化合物６ａのＣＨ2Ｃｌ2（４００ｍｌ）溶液を加え、５℃で１２時
間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３０％ＮａＯＨ水溶
液２８０ｍｌを加え、次いでその混合物を１０℃に加熱した。ＭｇＳＯ4 ２５
０ｇとセライト ８０ｇを加え１０℃で３０分間攪拌した。この混合物をセライ
ト上で吸引濾過した。この溶液にへトルエン（４Ｌ）と３Ｌのエーテルを加え、
不溶物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発し油状の粗化合物７ａを得た。
【０１４０】 粗化合物７ａを２．０Ｌの乾燥アセトニトリルに溶解し、次いで炭酸カリウム
（３０６ｇ，２．２モル）と１，２，４−トリアゾル（１５２ｇ，２．２モル）
を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固形物を
吸引濾過して除去し、少量の酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で濃縮し
、その残渣を４Ｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×１０００ｍ
ｌ）、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を
吸引濾過した。その溶液を６０ｍｌのジエチルエーテルで希釈し，その溶液を冷
却して、その溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。飽和
溶液を５時間冷却し、その間に固形物を分離した。吸引濾過により標記化合物９ ａ が塩酸付加物として分離された。
【０１４１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４４，−ＣＨ 3）
，２．８９（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．５
１−４．５８（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６５−６．
８５（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７
．７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１４２】 実施例２２ Ｒ−（＋）−乳酸メチル１ｂからの（２Ｓ，３Ｒ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオル［９ｃ］の調製
【０１４３】 Ｒ−（＋）乳酸メチル（２５ｇ，０．２４モル）とモルホリン（６５ｍｌ，０
．０７５モル）の混合液を窒素雰囲気下８５℃で７０時間加熱した。減圧下で溶
媒を除去した。その内容物を６００ｍｌのジクロロメタンで希釈し１０％ＨＣｌ
とブラインの混合物で洗浄（４×１５ｍｌ）した。その有機層を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、減圧下で蒸発して黄色の油状物を得た。この淡黄色の油状物をジク
ロロメタン（９０ｍｌ）で希釈し、ｐ−トルエンスルホン酸（３４０ｍｇ，０．
００１８モル）を加えた。この溶液を０℃まで冷却し、これに３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピラン（２０ｍｌ，０．２１モル）を１時間以上かけて徐々に滴下した
。さらに１５分間攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色の油状物３ｂを得た。
【０１４４】 マグネシウム（５．１５ｇ，０．０２１モル）および１−ブロモ−２，４−ジ
フルオロベンゼン（２５ｍｌ，０．０２２モル）をテトラヒドロフラン（１７０
ｍｌ）に溶解し激しく攪拌し、４０℃に加熱し反応を開始させた。この内容物を
４０℃に保持しながら、１−ブロモ−２，４−ジフルオロベンゼン（２２ｍｌ，
０．１９モル）を徐々に加え、その内容物を常温で１．５時間攪拌後、−２０℃
に冷却した。油状物３ｂを乾燥テトラヒドロフラン（２５ｍｌ）で溶解した液を
冷却し、１時間以上かけてこの冷却した溶液に適下した。この混合物を常温でさ
らに３．５時間攪拌し、酢酸エチル（２００ｍｌ）で希釈後、ブラインとＮＨ4
Ｃｌ飽和水溶液の１：１混合物（２００ｍｌ）を加えた。水層を除去し酢酸エチ
ル（３×１００ｍｌ）で抽出した。有機層を水（４００ｍｌ）、ブライン（４０
０ｍｌ）で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒は減圧下で除去し、暗褐色の
油状の粗化合物４ｂを得た。
【０１４５】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（８０．５ｇ，０．２２６モル）と乾燥
テトラヒドロフラン（１８０ｍｌ）混合物を機械的に攪拌して８℃に冷却した。
リチウムビス（トリメチルシリル）アミド（４０．５ｇ，０．２４モル）をテト
ラヒドロフラン（２００ｍｌ）に溶解して、上記混合物に混合物の温度が２３℃
に保持できる速度で加えた。この内容物を常温で１時間攪拌後、−７０℃に冷却
し、３０分間攪拌した。反応化合物４ｂをテトラヒドロフラン（１２０ｍｌ）に
溶解した液をその混合物の温度が−７０℃以下を保持できるように徐々に加えた
。得られた混合物を７℃で１７時間攪拌した。この混合物に酢酸エチル２５ｍｌ
を加え、次いでヘキサン（２００ｍｌ）を加えて１５分間静置した。固形物を吸
引濾過して除去し、ヘキサン（６００ｍｌ）で充分に洗浄した。濾液をメタノー
ルと水（２×５００ｍｌ）の１：１混合物、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4上で
乾燥した。溶媒を蒸発させ油状の粗化合物５ｂを得た。
【０１４６】 粗化合物５ｂとピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（１７．５ｇ，０．
０７モル）をエタノール（５００ｍｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱した。反
応混合物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希釈し、
得られた固形物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ、淡褐色の油状物
として粗化合物６ｂを得た。
【０１４７】 Ｌ（＋）−酒石酸ジエチル（８ｍｌ，０．０４７モル）を乾燥ＣＨ2Ｃｌ2（１
．２Ｌ）に溶解して、その液に活性化した３Åモレキュラシーブ粉末（３００ｇ
）を加え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシド
（３０ｍｌ，０．１０モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキサ
イド（５−６Ｍデカン溶液７８ｍｌ）を加えて、−５℃で２５分間攪拌した。こ
の混合物に粗化合物６ｂをＣＨ2Ｃｌ2（４００ｍｌ）溶液に加え、５℃で１２時
間攪拌した。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３０％ＮａＯＨ水溶
液７０ｍｌを加えて、次いでその混合物を１０℃に加熱した。ＭｇＳＯ4６０ｇ
とセライト２０ｇを加え、混合物を１０℃で３０分間攪拌した。この混合物をセ
ライト上で吸引濾過した。この濾液にへトルエン（１Ｌ）とエーテル ７００ｍ
を加え、不溶物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発し淡褐色の油状の粗化
合物７ｃを得た。
【０１４８】 粗化合物７ｃを５００ｍｌの乾燥アセトニトリルに溶解し、次いで炭酸カリウ
ム（７６．５ｇ，０．５５モル）と１，２，４−トリアゾル（３８ｇ，０．５５
モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流した。冷却後、固
形物を吸引濾過して除去し、少量の酢酸エチルで洗浄した。その濾液を減圧下で
濃縮し、その残渣を１Ｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×２０
０ｍｌ）、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容
物を吸引濾過した。その濾液を３０ｍｌのジエチルエーテルで希釈した。その溶
液を冷却し、その溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定常流を通した。
飽和溶液を５−１０時間冷却し、その間に固形物を分離した。吸引濾過により標
記化合物９ｃが塩酸付加物として分離された。
【０１４９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２６，−ＣＨ 3），
２．９２（ｂ，ｓ，１Ｈ，−ＯＨ），４．０１（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．５２
−４．５９（ｍ，１Ｈ），４．９９−５．０５（ｍ，２Ｈ），６．６７−６．８
３（ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．５９（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．
７３（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１５０】 実施例２３ Ｒ−（＋）−乳酸メチル１ｂからの（２Ｓ，３Ｓ）−２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−２，３−ブ
タンジオル［９ｄ］の調製
【０１５１】 Ｒ−（＋）乳酸メチル（５０ｇ，０．４８モル）とモルホリン（１３０ｍｌ，
０．１４９モル）の混合液を窒素雰囲気下８５℃で７０時間加熱した。減圧下で
溶媒を除去した。その内容物を６００ｍｌのジクロロメタンで希釈し１０％ＨＣ
ｌとブラインの混合物で洗浄（４×２５ｍｌ）した。その有機層を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、減圧下で蒸発して黄色の油状物を得た。この淡黄色の油状物をジ
クロロメタン（１９０ｍｌ）で希釈し、ｐ−トルエンスルホン酸（６８２ｍｇ，
０．００３６モル）加えた。この溶液を０℃まで冷却し、これに３，４−ジヒド
ロ−２Ｈ−ピラン（３９ｍｌ，０．４３１モル）を１時間以上かけて徐々に滴下
した。さらに１５分間攪拌後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色の油状物３ｂを得
た。
【０１５２】 マグネシウム（１０．３ｇ，０．０４２モル）および１−ブロモ−２，４−ジ
フルオロベンゼン（５０ｍｌ，０．０４４モル）をテトラヒドロフラン（３５０
ｍｌ）に溶解して激しく攪拌し、反応が開始する４０℃まで加熱した。この内容
物を４０℃に保持しながら、１−ブロモ−２，４−ジフルオロベンゼン（４３ｍ
ｌ，０．３８モル）を徐々に加えた。その内容物を常温で１．５時間攪拌後、−
２０℃に冷却した。この油状物３ｂを乾燥テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）で溶
解した液を冷却し、１時間以上かけてこの冷却した溶液に適下した。この混合物
を常温でさらに３．５時間攪拌し、酢酸エチル（４５０ｍｌ）で希釈した後、ブ
ラインとＮＨ4Ｃｌ飽和水溶液の１：１混合物（４５０ｍｌ）を加えた。水層を
除去し酢酸エチル（３×２００ｍｌ）で抽出した。有機層を合わせ、水（２００
ｍｌ）、ブライン（２００ｍｌ）で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥した。溶媒は減
圧下で除去し、暗褐色の油状の粗化合物４ｂを得た。
【０１５３】 臭化メチルトリフェニルホスホニウム（１６１ｇ，０．４５２モル）と乾燥テ
トラヒドロフラン（３５０ｍｌ）混合物を機械的に攪拌して８℃に冷却した。リ
チウムビス（トリメチルシリル）アミド（８１ｇ，０．４８モル）をテトラヒド
ロフラン（５００ｍｌ）に溶解した液を上記混合物に、混合物の温度が２３℃に
保持できる速度で加えた。この内容物を常温で１時間攪拌した後、−７０℃に冷
却し、３０分間攪拌した。上記のようにして得られた粗化合物４ｂをテトラヒド
ロフラン（２５０ｍｌ）に溶解した液をその混合物の温度が−７０℃以下を保持
できるように徐々に加えた。得られた混合物を７℃で１７時間攪拌した。この混
合物に酢酸エチル５０ｍｌを加え、次いでヘキサン（３９０ｍｌ）を加え１５分
間静置した。固形物を吸引濾過して除去し、ヘキサン（３００ｍｌ）で充分洗浄
した。濾液をメタノールと水（２×１Ｌ）の１：１混合物、ブラインで洗浄し、
ＭｇＳＯ4上で乾燥した。溶媒を蒸発させ油状の粗化合物５ｂを得た。
【０１５４】 粗化合物５ｂとピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネート（３５ｇ，０．１４
モル）をエタノール（１．２Ｌ）に混合し、６０℃で９時間加熱した。反応混合
物を真空中で濃縮し、トルエンと共蒸発した。残渣をトルエンで希釈し、得られ
た固形物は濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ、淡褐色の油状物として
粗化合物６ｂを得た。 Ｌ（＋）酒石酸ジエチル（１６ｍｌ，０．０９４モル）を乾燥ＣＨ2Ｃｌ2（２
．４Ｌ）に溶解した液に活性化した３Åモレキュラシーブ粉末（６００ｇ）を加
え、その混合物を−５℃に冷却した。チタニウム（IV）イソプロポキシド（５９
ｍｌ，０．２モル）溶液を加え、次いでｔ−ブチルハイドロパーオキサイド（５
−６Ｍデカン溶液１５６ｍｌ）を加え、−５℃で２５分間攪拌した。この混合物
に粗化合物６ｂのＣＨ2Ｃｌ2（４００ｍｌ）溶液で加え、５℃で１２時間攪拌し
た。反応混合物を−４０℃に冷却し、ＮａＣｌ飽和３０％ＮａＯＨ水溶液１４０
ｍｌを加え、次いでその混合物を１０℃に加熱した。ＭｇＳＯ4１２０ｇとセラ
イト４０ｇを加え、混合物を１０℃で３０分間攪拌した。この混合物をセライト
上で吸引濾過した。濾液にトルエン（２Ｌ）とエーテル１．５Ｌを加え、不溶物
を濾過して除去した。濾液を減圧下で蒸発させ淡褐色の油状の粗化合物７ｃを得
た。
【０１５５】 粗化合物７ｃ、トリフェニルホスフィン（１１６ｇ，０．４４モル）およびｐ
−ニトロ安息香酸（７４ｇ，０．４４モル）を８００ｍｌの乾燥テトラヒドロフ
ランに溶解した液を０℃まで冷却した。この透明な液にジエチルアジゾカルボキ
シレート（７０ｍｌ，０．４４モル）を徐々に滴下し、得られた混合物を０℃で
１時間攪拌した。反応混合物は温度を０℃に保持しながら、５００ｍｌの乾燥メ
タノールで希釈し、次いでナトリウムメトキシド（２６ｇ，０．４８１モル）を
メタノール（３００ｍｌ）に溶解した液を滴下した。その内容物を０℃で２時間
攪拌した。溶媒を蒸発させ、その残渣を８００ｍｌの乾燥アセトニトリルに溶解
し、次いで炭酸カリウム（１５３ｇ，１．１モル）と１，２，４−トリアゾル（
７６ｇ，１．１１モル）を加えた。得られた混合物は窒素雰囲気下で４時間還流
した。冷却後、固形物を吸引濾過して除去し、酢酸エチル（２×１Ｌ）で洗浄し
た。濾液中の細かい固形物はセライト上で除去した。濾液は減圧下で濃縮し、残
渣を８００ｍｌの酢酸エチルに溶解した。得られた溶液を水（２×１００ｍｌ）
、ブラインで洗浄し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥した。その内容物を吸引
濾過した。その濾液を冷却しその溶液が飽和状態になるまで無水ＨＣｌガスの定
常流を通した。標記化合物９ｄは塩酸付加物として吸引濾過し分離された。
【０１５６】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．２９，−ＣＨ 3 ），４．２０（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ），４．６７−４．８５（ＡＢｑ，２Ｈ，−
ＣＨ 2），６．８３−６．９３（ｍ，１Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．３１（
ｍ，２Ｈ，Ａｒ−Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ），８．８１（ｓ，１
Ｈ，Ｈｅｔ−Ｈ）ｐｐｍ．
【０１５７】 文献 １． Ｈｅｅｒｅｓ，Ｊ．，Ｂａｃｋｘ，Ｌ．Ｊ．Ｊ． ａｎｄ Ｃｕｔｓｅｍ，Ｊ．
Ｖ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９８４，２７，８９４−９００． ２． 欧州特許＃０ ６１２ ７３４ Ａ１． ３． Ｔａｓａｋａ，Ａ．，Ｔａｍｕｒａ．Ｎ．，Ｍａｔｓｕｓｈｉｔａ，Ｙ．，Ｔｅ
ｒａｎｉｓｈｉ，Ｋ．，Ｈａｙａｓｈｉ，Ｒ．，Ｏｋｏｎｏｇｉ，Ｋ．ａｎｄ
Ｉｔｏｈ．Ｋ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ，１９９３，４１（６），１０
３５−１０４２． ４． 米国特許出願０８／７８６，３７６． ５． Ｋｏｎｏｓｕ，Ｔ．，Ｍｉｙａｏｋａ．Ｔ．，Ｔａｚｉｍａ，Ｙ．，Ｏｉｄａ，
Ｓ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．３９（９）２２４１−２２４６（１９９
１）． ６． （ａ） Ｋａｔｓｕｉ．Ｔ． ａｎｄ Ｓｈａｒｐｌｅｓｓ，Ｋ．Ｂ．，Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９８０，１０２，５９７４−５９７６． （ｂ） Ｈａｎｓｏｎ，Ｒ．Ｍ． ａｎｄ Ｓｈａｒｐｌｅｓｓ，Ｋ．Ｂ．
，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８６， ５１，１９２２−１９２５． ７． （ａ） Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，０． ａｎｄ Ｙａｍａｄａ，Ｍ．Ｂｕｌｌ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｊｐｎ．，４０，１９６７，２３８０． （ｂ） Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ，０． ａｎｄ Ｅｇｕｃｈｉ．Ｍ．Ｂｕｌｌ
．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｊｐｎ．，４４，１９７１．３４２７． ８． Ｇｉｒｉｊａｖａｌｌａｂｈａｎ．Ｖ．Ｍ．，Ｇａｎｇｕｌａｙ，Ａ．Ｋ．，Ｐ
ｉｎｔｏ，Ｐ．Ａ． ａｎｄ Ｓａｒｒｅ．ＯＺ．Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆．
Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｉｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ １（７），１９９
１，３４９．
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 41/18 Ｃ０７Ｃ 41/18 Ｃ０７Ｄ 249/08 ５２２ Ｃ０７Ｄ 249/08 ５２２ 301/00 301/00 301/19 301/19 303/14 303/14 303/18 303/18 309/12 309/12 // Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 シドゥ、インデルジット カナダ、ティー６エル ２ワイ４ アルバ ータ，エドモントン、アヴェニュー 4807 18 (72)発明者 パラク、ブーピンデル カナダ、ティー６エル ６ゼット５ アル バータ，エドモントン、アヴェニュー 4331 38エー (72)発明者 ミセティシュ、ロナルド ジー． カナダ、ティ８エー ３ヴイ６ アルバー タ，シャーウッド パーク、ブレイサイド テラス 12 Ｆターム(参考） 4C048 AA01 BB03 BB04 BB05 BB07 BB08 CC01 UU03 XX02 4C062 AA22 4H006 AA01 AA02 AC41 AC81 BD60 FC52 FE11 FE73 FE74 GP01 GP22

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式５で示される化合物。 【化１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｒは２−テトラヒド
    ロピラニル基、ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエ
    トキシメチル基からなる群から選ばれる。
  2. 【請求項２】 式５ｂで示される化合物をつくる方法であり、 【化２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1ーＣ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｒは２−テトラヒド
    ロピラニル基、ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエ
    トキシメチル基からなる群から選ばれ、 式４ｂで示される化合物を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムと反応させ
    て、式５ｂ（Ｘ1，Ｘ2とＲは上記定義に同じ）で示される化合物をつくる工程を
    含む方法。 【化３】
  3. 【請求項３】 請求項２記載の方法において、反応工程がビス（トリメチル
    シリル）アミド塩の存在下で行なわれる方法。
  4. 【請求項４】 式５ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1ーＣ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｒは２−テトラヒド
    ロピラニル基、ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエ
    トキシメチル基からなる群から選ばれ、 式４ａで示される化合物を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムと反応させ
    て、式５ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化５】
  5. 【請求項５】 請求項４記載の方法において、反応工程がビス（トリメチル
    シリル）アミド塩の存在下で行なわれる方法。
  6. 【請求項６】 式６ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
    させて、式６ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキシメチル基か
    らなる群から選ばれる。
  7. 【請求項７】 式６ｂで示される化合物をつくる方法であり、 【化８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
    させて、式６ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基およびメトキシエトキシメチル基か
    らなる群から選ばれる。
  8. 【請求項８】 式７ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化１０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式６ａで示される化合物を、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと、チタ
    ニウムイソプロポキシドおよびキラルタータラートの存在下で反応させて、式７
    ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化１１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  9. 【請求項９】 式７ｃで示される化合物をつくる方法であり、 【化１２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式６ｂで示される化合物を、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと、チタ
    ニウムイソプロポキシドおよびキラルタータラートの存在下で反応させて、式７
    ｃで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化１３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  10. 【請求項１０】 式７ｂで示される化合物をつくる方法であり、 【化１４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式８ａで示される化合物を、メトキサイド塩と反応させて、式７ｂで示される
    化合物をつくる工程を含む方法。 【化１５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  11. 【請求項１１】 式７ｄで示される化合物をつくる方法であり、 【化１６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式８ｃで示される化合物を、メトキサイド塩と反応させて、式７ｄで示される
    化合物をつくる工程を含む方法。 【化１７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  12. 【請求項１２】 式８ａで示される化合物。 【化１８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもつ。
  13. 【請求項１３】 式８ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化１９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式７ａで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ａで示さ
    れる化合物をつくる工程を含む方法。 【化２０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  14. 【請求項１４】 請求項１３記載の方法において、反応工程がトリフェニル
    ホスフィンおよびジエチルアゾジカルボキシレートの存在下で行なわれる方法。
  15. 【請求項１５】 式８ｃで示される化合物。 【化２１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもつ。
  16. 【請求項１６】 式８ｃで示される化合物をつくる方法であり、 【化２２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式７ｃで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ｃで示さ
    れる化合物をつくる工程を含む方法。 【化２３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  17. 【請求項１７】 請求項１５記載の方法において、反応工程がトリフェニル
    ホスフィンおよびジエチルアゾジカルボキシレートの存在下で行なわれる方法。
  18. 【請求項１８】 式７ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化２４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式４ａで示される化合物を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムと反応させ
    て、式５ａで示される化合物をつくる工程（ａ）と、 【化２５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
    からなる群から選ばれ、 【化２６】 ここで、Ｘ1、Ｘ2、およびＲは前記定義に同じ、 その後、式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネー
    トと反応させて、式６ａで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化２７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式６ａで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラ
    ルタータラートの存在下でｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイドと反応させ
    て、式７ａで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
  19. 【請求項１９】 請求項１８記載の方法において、間に精製工程を入れずに
    、（ａ）から（ｃ）の工程を、連続して行なう方法。
  20. 【請求項２０】 式７ｃで示される化合物をつくる方法であり、 【化２８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、 式４ｂで示される化合物を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムと反応させ
    て、式５ｂで示される化合物をつくる工程（ａ）と、 【化２９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
    からなる群から選ばれ、 【化３０】 ここで、Ｘ1、Ｘ2、およびＲは前記定義に同じ、 その後、式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネー
    トと反応させて、式６ｂで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化３１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式６ｂで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラ
    ルタータラートの存在下でｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイドと反応させ
    て、式７ｃで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
  21. 【請求項２１】 請求項２０記載の方法において、間に精製工程を入れずに
    、（ａ）から（ｃ）の工程を、連続して行なう方法。
  22. 【請求項２２】 式９ｂで示される化合物をつくる方法であり、 【化３２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた置換基
    をもち、このフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式７ａで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ａで示さ
    れる化合物をつくる工程（ａ）と、 【化３３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 【化３４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式８ａで示される化合物を、メトオキシド塩と反応させて、式７ｂで
    示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化３５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式７ｂで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定
    義に同じ）式９ｂで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
  23. 【請求項２３】 請求項２２記載の方法において、間に精製工程を入れずに
    、（ａ）から（ｃ）の工程を、連続して行なう方法。
  24. 【請求項２４】 式９ｄで示される化合物をつくる方法であり、 【化３６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ
    素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されて
    おり、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式７ｃで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ｃで示さ
    れる化合物をつくる工程（ａ）と、 【化３７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 【化３８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式８ｃで示される化合物を、メトオキシド塩と反応させて、式７ｄで
    示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化３９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 その後、式７ｄで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定
    義に同じ）式９ｄで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
  25. 【請求項２５】 請求項２４記載の方法において、間に精製工程を入れずに
    、（ａ）から（ｃ）の工程を、連続して行なう方法。
  26. 【請求項２６】 式９ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化４０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式７ａで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
    ）式９ａで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化４１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  27. 【請求項２７】 式９ｃで示される化合物をつくる方法であり、 【化４２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式７ｃで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
    ）式９ｃで示される化合物をつくる工程を含む方法、 【化４３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ。
  28. 【請求項２８】 式９ｂで示される化合物をつくる方法であり、 【化４４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式７ｂで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
    ）式９ｂで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化４５】 ここでＸ1とＸ2は前記定義に同じ。
  29. 【請求項２９】 式９ｄで示される化合物をつくる方法であり、 【化４６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式７ｄで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
    ）式９ｄで示される化合物をつくる工程を含む方法。 【化４７】 ここでＸ1とＸ2は前記定義に同じ。
  30. 【請求項３０】 式９ａで示される化合物をつくる方法であり、 【化４８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
    させて、式６ａで示される化合物をつくる工程（ａ）と、 【化４９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
    からなる群から選ばれ、 【化５０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ａで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
    ラートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７
    ａで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化５１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ａで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
    ）式９ａで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
  31. 【請求項３１】 式９ｂで示される化合物をつくる方法であり、 【化５２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素またはフェ
    ニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭素、フッ
    素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換され、
    そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていないか、ま
    たは塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた置換基を
    もち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1 −Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式５ａで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
    させて、式６ａで示される化合物をつくる工程（ａ）と、 【化５３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
    からなる群から選ばれ、 【化５４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ａで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
    ラートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７
    ａで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化５５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ａで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ａで示さ
    れる化合物をつくる工程（ｃ）と、 【化５６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式８ａで示される化合物を、メトキシド塩と反応させて、式７ｂで示される化
    合物をつくる工程（ｄ）と、 【化５７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｂで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて、（ここでＸは前記定義に同
    じ）式９ｂで示される化合物をつくる工程（ｅ）と、を含む方法。
  32. 【請求項３２】 式９ｄで示される化合物をつくる方法であり、 【化５８】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
    させて、式６ｂで示される化合物をつくる工程（ａ）と、 【化５９】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
    からなる群から選ばれ、 【化６０】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ｂで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
    ラートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７
    ｃで示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化６１】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｃで示される化合物を、ｐ−ニトロ安息香酸と反応させて、式８ｃで示さ
    れる化合物をつくる工程（ｃ）と、 【化６２】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式８ｃで示される化合物を、メトキシド塩と反応させて、式７ｄで示される化
    合物をつくる工程（ｄ）と、 【化６３】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｄで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて、式９ｄで示される化合物を
    つくる工程（ｅ）と、を含む方法。
  33. 【請求項３３】 式９ｃで示される化合物をつくる方法であり、 【化６４】 ここで、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、Ｃ1
    −Ｃ6のアルキル基、およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基からなる群から選ばれ、こ
    のＣ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基は置換されていないか、
    塩素、臭素、フッ素からなる群から選ばれた置換基をもち、Ｘは次のものからな
    る群より選ばれる： （１） Ｎ−（Ｒ1）（Ｒ2）、ここで、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素ま
    たはフェニル基であり、そのフェニル基は置換されていないか、または塩素、臭
    素、フッ素、ＮＯ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置
    換され、そのＣ1−Ｃ6アルキル基およびＣ1−Ｃ6アルコキシ基は置換されていな
    いか、または塩素、臭素、フッ素、およびフェニル基からなる群からえらばれた
    置換基をもち、このフェニル基は置換されていないか、塩素、臭素、フッ素、Ｎ
    Ｏ2、Ｃ1−Ｃ6のアルキル基およびＣ1−Ｃ6のアルコキシ基で置換されており、 （２） Ｓ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （３） Ｏ−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （４） Ｓ（Ｏ）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （５） Ｓ（Ｏ2）−Ｒ1、ここではＲ1は前記定義に同じ、 （６） １−３個のヘテロ原子をもつ５、６、または７員複素環であり、それ
    ぞれは独立にＮ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ2）およびＯからなる群から選ばれ、そ
    の複素環は化合物の残りの部分にヘテロ原子または炭素原子を経由して結合して
    いる、 式５ｂで示される化合物を、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルホネートと反応
    させて、式６ｂで示される化合物をつくる工程（ａ）と、 【化６５】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、Ｒは２−テトラヒドロピラニル基、
    ベンジル基、トリチル基、メトキシメチル基、およびメトキシエトキシメチル基
    からなる群から選ばれ、 【化６６】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式６ｂで示される化合物を、チタニウムイソプロポキシドおよびキラルタータ
    ートの存在下で、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイドと反応させて、式７ｃ
    で示される化合物をつくる工程（ｂ）と、 【化６７】 ここで、Ｘ1およびＸ2は前記定義に同じ、 式７ｃで示される化合物を、Ｘの塩と反応させて（ここでＸは前記定義に同じ
    ）、式９ｃで示される化合物をつくる工程（ｃ）と、を含む方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004352709A (ja) * 2003-05-06 2004-12-16 Mitsui Chemicals Inc １−アゾール−２−フェニル−２、３−プロパンジオール誘導体の製造法
JP2009517413A (ja) * 2005-12-01 2009-04-30 バジリア ファルマスーチカ アーゲー エポキシブタノール中間体の製造方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IN192526B (ja) * 2001-09-25 2004-04-24 Ranbaxy Lab
AU2002328176A1 (en) * 2002-08-26 2004-03-11 Ranbaxy Laboratories Limited Azole derivatives as antifungal agents
US8207352B2 (en) * 2009-10-08 2012-06-26 Drug Process Licensing Associates LLC Process for the manufacture of enantiomerically pure antifungal azoles as ravuconazole and isavuconazole
CN101798290B (zh) * 2010-04-02 2012-03-07 北京欧凯纳斯科技有限公司 一种手性环唑醇的合成方法
CN105367528A (zh) * 2015-11-10 2016-03-02 南通诺泰生物医药技术有限公司 一种三唑类药物中间体(d)-1-(1-环烷仲胺基)-2-(2-四氢吡喃基)氧-1-丙酮类化合物及合成方法
WO2019031240A1 (ja) 2017-08-10 2019-02-14 住友化学株式会社 エポキシアルコール化合物の製造方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5227543A (en) * 1988-01-11 1993-07-13 Massachusetts Institute Of Technology Facilitation of turnover in the ADH by additives which catalyze the hydrolysis of the OS(VI) glycolate esters
US5516929A (en) * 1988-01-11 1996-05-14 Massachusetts Institute Of Technology Method for catalytic asymmetric dihydroxylation of olefins using heterocyclic chiral ligands
US5260461A (en) * 1988-01-11 1993-11-09 Massachusetts Institute Of Technology Ligands for ADH: cinchona alkaloids and moderately sized organic substituents linked through a planar aromatic spacer group
US5126494A (en) * 1988-01-11 1992-06-30 Massachusetts Institute Of Technology Methods for catalytic asymmetric dihydroxylation of olefins
HUT53889A (en) * 1988-03-04 1990-12-28 Sankyo Co. Ltd.,Jp Fungicides comprising triazole derivatives as active ingredient and process for producing the active ingredient
US5204333A (en) * 1989-01-24 1993-04-20 Larkin John P Pesticidal compounds
JPH03128338A (ja) * 1989-07-17 1991-05-31 Sankyo Co Ltd 光学活性なジオール化合物の製造法
WO1991003451A1 (en) * 1989-09-01 1991-03-21 Schering Corporation Asymmetric chemical synthesis and intermediates for making antifungal compounds
IE903395A1 (en) * 1989-09-26 1991-04-10 Takeda Chemical Industries Ltd Triazole compounds, their production and use
CA2039857A1 (en) * 1990-04-26 1991-10-27 Wilfred Po-Sum Shum Process for producing epoxyalcohols of high optical purity
GB9115054D0 (en) * 1991-07-12 1991-08-28 Ciba Geigy Aqueous compositions
TW212798B (ja) * 1991-11-25 1993-09-11 Takeda Pharm Industry Co Ltd
DE4143139A1 (de) * 1991-12-28 1993-07-01 Hoechst Ag Chirale oxiranylmethyl-ether und ihre verwendung als dotierstoffe in fluessigkristallmischungen
DE4211563A1 (de) * 1992-04-07 1993-10-14 Hoechst Ag Chirale Oxiranderivate und ihre Verwendung als Dotierstoffe in Flüssigkristallmischungen
DE4211562A1 (de) * 1992-04-07 1993-10-14 Hoechst Ag Chirale Oxiranderivate und ihre Verwendung als Dotierstoffe in Flüssigkristallmischungen
TW218017B (ja) * 1992-04-28 1993-12-21 Takeda Pharm Industry Co Ltd
ATE198195T1 (de) * 1992-06-09 2001-01-15 Aventis Res & Tech Gmbh & Co 3-fluorpyridine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in flüssigkristallmischungen
ES2099004B1 (es) * 1993-02-11 1998-01-16 Uriach & Cia Sa J Nuevos antifungicos activos por via oral.
DE4315867A1 (de) * 1993-05-12 1994-11-17 Hoechst Ag 3-Chlorpyridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung in Flüssigkristallmischungen
WO1995022973A1 (en) * 1994-02-25 1995-08-31 Takeda Chemicals Industries, Ltd. Injectable emulsions containing antifungal triazole derivatives
US5645652A (en) * 1994-12-13 1997-07-08 Toda Kogyo Corporation Spindle-shaped magnetic iron-based alloy particles containing cobalt and iron as the main ingredients and process for producing the same
AU4675596A (en) * 1995-02-17 1996-09-04 Takeda Chemical Industries Ltd. Azole compounds, their production and use

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004352709A (ja) * 2003-05-06 2004-12-16 Mitsui Chemicals Inc １−アゾール−２−フェニル−２、３−プロパンジオール誘導体の製造法
JP4627413B2 (ja) * 2003-05-06 2011-02-09 三井化学株式会社 １−アゾール−２−フェニル−２、３−プロパンジオール誘導体の製造法
JP2009517413A (ja) * 2005-12-01 2009-04-30 バジリア ファルマスーチカ アーゲー エポキシブタノール中間体の製造方法

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