JP2002510406A - ミクロリソグラフィーのための改良された溶解抑制レジスト - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. ポジティブワーキングのフォトレジスト組成物であって、 (a) 以下の構造を有するコモノマー単位Aを含むポリマーと (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、同一であっても異なっていてもよく 、およびH、OH、およびXからなる群から選択され; R1、R2、R3、R4およびR5の少なくとも1つはOHであり;およびR1、R2 、R3、R4およびR5の少なくとも1つはXであり;および Xは、ニトロでも−SO3Hでもないことを除いて、前記少なくとも1つのOH に関する位置において0.45以上のHammettのシグマ定数を有する置換基の群 から選択される) (b) 前記フォトレジスト組成物をポジティブワーキングにすることができる 少なくとも1つの光活性成分と を含むことを特徴とする組成物。 2. 前記X置換基は、シアノ、トリフルオロメチル、それぞれのアルキルが独 立的にC1〜C6であるC1〜C6トリアルキルアンモニウム、SO2CH3、および SO2CF3からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物 。 3. 前記ポリマーは、スチレン、ヒドロキシスチレン、非環式コモノマー、メ タクリル性コモノマー、脂肪族単環式コモノマー、および脂肪族多環式コモノマ ーからなる群から選択されるコモノマー単位Eをさらに含むことを特徴とする 請求項1に記載の組成物。 4. 前記ポリマーは、酸により開裂されるエステル結合で構成されるコモノマ ー単位Eをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の組成物。 5. 前記光活性成分は、ジアゾナフトキノンおよびジアゾクマリンからなる群 から選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物。 6. ポジティブワーキングのフォトレジスト組成物であって、 (a) 以下の構造を有するコモノマー単位Bを含むポリマーと (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、同一であっても異なっていてもよく 、およびH、およびOHからなる群から選択され; R1、R2、R3、R4およびR5の少なくとも2つはビシナル配列のOHであり 、そこでは前記少なくとも2つのOH基は隣接する炭素原子に結合している) (b) 前記フォトレジスト組成物をポジティブワーキングにすることができる 少なくとも1つの光活性成分と を含むことを特徴とする組成物。 7. ポジティブワーキングのフォトレジスト組成物であって、 (a) 以下の構造を有するコモノマー単位Cを含むポリマーと (式中、R1、R2、R3、R4およびR5は、同一であっても異なっていてもよく 、およびH、OH、およびXからなる群から選択され; R1、R2、R3、R4およびR5の少なくとも2つはビシナル配列のOHであり 、そこでは前記少なくとも2つのOH基は隣接する炭素原子に結合している、; および Xは、−NO2でも−SO3Hでもないことを除いて、前記少なくとも1つのOH に関する位置において0.45以上のHammettのシグマ定数を有する置換基の群 から選択される) (b) 前記フォトレジスト組成物をポジティブワーキングにすることができる 少なくとも1つの光活性成分と を含むフォトレジスト組成物。 8. 前記X置換基は、シアノ、トリフルオロメチル、それぞれのアルキルが独 立的にC1〜C6であるC1〜C6トリアルキルアンモニウム、SO2CH3、および SO2CF3からなる群から選択されることを特徴とする請求項7に記載の組成物 。 9. 前記ポリマーは、スチレン、ヒドロキシスチレン、非環式コモノマー、メ タクリル性コモノマー、脂肪族単環式コモノマー、および脂肪族多環式コモノマ ーからなる群から選択されるコモノマー単位Eをさらに含むことを特徴とする請 求項6または7に記載の組成物。 10. 前記ポリマーは、酸により開裂されるエステル結合で構成されるコモノ マー単位Fをさらに含むことを特徴とする請求項6または7に記載の組成物。 11. 前記光活性成分は、ジアゾナフトキノンおよびジアゾクマリンからなる 群から選択されることを特徴とする請求項6または7に記載の組成物。 12. ポジティブワーキングのフォトレジスト組成物であって、 (a) 以下の構造を有する反復単位Dを含むノボラック樹脂と (式中、Xは、ニトロでも−SO3Hでもないことを除いて、前記少なくとも1 つのOHに関する位置において0.45以上のHammettのシグマ定数を有する置換 基の群から選択される) (b) 前記フォトレジスト組成物をポジティブワーキングにすることができる 少なくとも1つの光活性成分と を含むことを特徴とする組成物。 13. 前記X置換基は、シアノ、トリフルオロメチル、それぞれのアルキルが 独立的にC1〜C6であるC1〜C6トリアルキルアンモニウム、SO2CH3、およ びSO2CF3からなる群から選択されることを特徴とする請求項12に記載の組 成物。 14. 前記光活性成分は、ジアゾナフトキノンおよびジアゾクマリンからなる 群から選択されることを特徴とする請求項12に記載の組成物。
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