JP2002365302A - マイクロアレイ作成装置 - Google Patents
マイクロアレイ作成装置Info
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
- B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
- B01L3/508—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes rigid containers not provided for above
- B01L3/5085—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes rigid containers not provided for above for multiple samples, e.g. microtitration plates
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0046—Sequential or parallel reactions, e.g. for the synthesis of polypeptides or polynucleotides; Apparatus and devices for combinatorial chemistry or for making molecular arrays
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L1/00—Enclosures; Chambers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L7/00—Heating or cooling apparatus; Heat insulating devices
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N2035/00178—Special arrangements of analysers
- G01N2035/00277—Special precautions to avoid contamination (e.g. enclosures, glove- boxes, sealed sample carriers, disposal of contaminated material)
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マイクロアレイの作成において、そのサンプ
ルのスポット作業が長時間にわたるような場合は、ＭＴ
Ｐプレートに分注したサンプル溶液が時間経過とともに
蒸発し、その濃度に経時的な差違が生じてしまう。この
結果、マイクロアレイ作成装置の打ち始めと打ち終わり
とで、均一なスポットができなく、完成したマイクロア
レイの品質が安定しないという問題があった。 【解決手段】 蒸気発生装置３０で生成した水蒸気を、
充填管２３を介してＭＴＰプレート用ボックス２０の室
２１内に供給制御し、ＭＴＰプレート用ボックス２０に
セットされたＭＴＰプレート６０の上部隣接空間部分Ｓ
の湿度を、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２からサ
ンプル溶液が蒸発を起こしにくい湿度になるようにし
た。
ルのスポット作業が長時間にわたるような場合は、ＭＴ
Ｐプレートに分注したサンプル溶液が時間経過とともに
蒸発し、その濃度に経時的な差違が生じてしまう。この
結果、マイクロアレイ作成装置の打ち始めと打ち終わり
とで、均一なスポットができなく、完成したマイクロア
レイの品質が安定しないという問題があった。 【解決手段】 蒸気発生装置３０で生成した水蒸気を、
充填管２３を介してＭＴＰプレート用ボックス２０の室
２１内に供給制御し、ＭＴＰプレート用ボックス２０に
セットされたＭＴＰプレート６０の上部隣接空間部分Ｓ
の湿度を、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２からサ
ンプル溶液が蒸発を起こしにくい湿度になるようにし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上に何種類
ものサンプル溶液をスポットして作成されるマイクロア
レイを作成するマイクロアレイ作成装置に関する。
ものサンプル溶液をスポットして作成されるマイクロア
レイを作成するマイクロアレイ作成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は、従来のマイクロアレイ作成装置
１０１の構成図である。
１０１の構成図である。
【０００３】従来のマイクロアレイ作成装置１０１は、
例えば、ピックアップ位置ＡにセットされたＭＴＰプレ
ート（micro titer plate：マイクロタイタープレー
ト）６０に形成されているサンプル溶液貯留孔（後述、
図８参照）から、所望のサンプル溶液をヘッド１０を昇
降させてピックアップした後、ヘッド１０を移動させて
スポット位置Ｂまでサンプル溶液を移送し、このスポッ
ト位置Ｂで再びヘッド１０を昇降させて、先にピックア
ップしたサンプル溶液を予めセットされている支持体７
０上の所定位置にスポットする構成となっている。
例えば、ピックアップ位置ＡにセットされたＭＴＰプレ
ート（micro titer plate：マイクロタイタープレー
ト）６０に形成されているサンプル溶液貯留孔（後述、
図８参照）から、所望のサンプル溶液をヘッド１０を昇
降させてピックアップした後、ヘッド１０を移動させて
スポット位置Ｂまでサンプル溶液を移送し、このスポッ
ト位置Ｂで再びヘッド１０を昇降させて、先にピックア
ップしたサンプル溶液を予めセットされている支持体７
０上の所定位置にスポットする構成となっている。
【０００４】さらに、従来のマイクロアレイ作成装置１
０１は、支持体７０上の所定位置へのサンプル溶液のス
ポット、すなわち打ちつけを完了したならば、このピッ
クアップとスポットを繰り返した後、ヘッド１０をスポ
ット位置Ｂから所定の洗浄／乾燥位置Ｃに移動させて、
洗浄／乾燥手段４０でヘッド１０を洗浄及び乾燥させた
後、ＭＴＰプレート６０がセットされている抽出位置Ａ
までヘッド１０を戻すようになっている。
０１は、支持体７０上の所定位置へのサンプル溶液のス
ポット、すなわち打ちつけを完了したならば、このピッ
クアップとスポットを繰り返した後、ヘッド１０をスポ
ット位置Ｂから所定の洗浄／乾燥位置Ｃに移動させて、
洗浄／乾燥手段４０でヘッド１０を洗浄及び乾燥させた
後、ＭＴＰプレート６０がセットされている抽出位置Ａ
までヘッド１０を戻すようになっている。
【０００５】したがって、従来のマイクロアレイ作成装
置１０１では、上述したようなサンプル溶液のピックア
ップ、ピックアップしたサンプル溶液の移送、及び支持
体へのスポットという一連作業を繰返し行うことによっ
て、支持体７０上の複数の所定位置それぞれに、連続作
業で同種又は異種のサンプルをスポットしていくことが
できるようになっている。
置１０１では、上述したようなサンプル溶液のピックア
ップ、ピックアップしたサンプル溶液の移送、及び支持
体へのスポットという一連作業を繰返し行うことによっ
て、支持体７０上の複数の所定位置それぞれに、連続作
業で同種又は異種のサンプルをスポットしていくことが
できるようになっている。
【０００６】図８は、上述した抽出位置Ａにセットされ
るＭＴＰプレートの外観図である。ＭＴＰプレート６０
は、例えば直方体形状の板状本体６１の上面に、それぞ
れサンプル溶液が分注される複数の溶液貯留用の有底孔
６２が開口して形成されている。そして、この溶液貯留
孔６２それぞれは、５〜５０マイクロ・リットルのサン
プル溶液を貯えられるようになっている。
るＭＴＰプレートの外観図である。ＭＴＰプレート６０
は、例えば直方体形状の板状本体６１の上面に、それぞ
れサンプル溶液が分注される複数の溶液貯留用の有底孔
６２が開口して形成されている。そして、この溶液貯留
孔６２それぞれは、５〜５０マイクロ・リットルのサン
プル溶液を貯えられるようになっている。
【０００７】マイクロアレイ作成装置１０１は、そのヘ
ッド１０に設けられた針（図示略）を、その開口６２ａ
から溶液貯留孔６２内に挿入し、孔６２内に貯留されて
いるサンプル溶液に浸漬させて、サンプル溶液をピック
アップする。そして、このＭＴＰプレート６０は、作業
中は、同図に示すように、その四隅を規制片１０２によ
って移動規制されて、マイクロアレイ作成装置１０１の
プレート載置台８０上の所定位置（抽出位置Ａ）に位置
決めされている。
ッド１０に設けられた針（図示略）を、その開口６２ａ
から溶液貯留孔６２内に挿入し、孔６２内に貯留されて
いるサンプル溶液に浸漬させて、サンプル溶液をピック
アップする。そして、このＭＴＰプレート６０は、作業
中は、同図に示すように、その四隅を規制片１０２によ
って移動規制されて、マイクロアレイ作成装置１０１の
プレート載置台８０上の所定位置（抽出位置Ａ）に位置
決めされている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、マイ
クロアレイ作成装置１０１は、ヘッド１０に設けられた
針を、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２内のサンプ
ル溶液に浸漬させてサンプル溶液をピックアップする構
成になっているため、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔
６２は、ヘッド１０の針がその孔内に対して進退可能な
ように、外部雰囲気すなわち装置１０１内の他部に対し
て開放されている。そのため、貯留されたサンプル溶液
が蒸発しやすい構造になっている。加えて、マイクロア
レイの作成では、例えば一枚の支持体７０上に６,００
０のスポットを打ちつける場合は、マイクロアレイ作成
装置１０１で前述したように連続して打ちつける（スポ
ットする）だけでも、現状では約１８時間ほどかかる。
クロアレイ作成装置１０１は、ヘッド１０に設けられた
針を、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２内のサンプ
ル溶液に浸漬させてサンプル溶液をピックアップする構
成になっているため、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔
６２は、ヘッド１０の針がその孔内に対して進退可能な
ように、外部雰囲気すなわち装置１０１内の他部に対し
て開放されている。そのため、貯留されたサンプル溶液
が蒸発しやすい構造になっている。加えて、マイクロア
レイの作成では、例えば一枚の支持体７０上に６,００
０のスポットを打ちつける場合は、マイクロアレイ作成
装置１０１で前述したように連続して打ちつける（スポ
ットする）だけでも、現状では約１８時間ほどかかる。
【０００９】このように、マイクロアレイの作成におい
て、そのサンプルのスポット作業が長時間にわたるよう
な場合は、ＭＴＰプレート６０の上述した構成によっ
て、溶液貯留孔６２に分注したサンプル溶液が時間経過
とともに蒸発し、これにより貯留されているサンプル溶
液の濃度に経時的な差違が生じてしまう。
て、そのサンプルのスポット作業が長時間にわたるよう
な場合は、ＭＴＰプレート６０の上述した構成によっ
て、溶液貯留孔６２に分注したサンプル溶液が時間経過
とともに蒸発し、これにより貯留されているサンプル溶
液の濃度に経時的な差違が生じてしまう。
【００１０】この結果、スポットしたサンプル溶液中に
含まれる試料の量が不均一になる他にも、マイクロアレ
イ作成装置１０１によるサンプル溶液の支持体７０上へ
の打ち始めと打ち終わりとで、均一なスポットができな
く、完成したマイクロアレイの品質が安定しないという
問題があった。そこで、この長時間のスポット作業によ
る、サンプル溶液の蒸発を防止するために、装置１０１
内の湿度を高く保って、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留
孔６２からのサンプル溶液の蒸発を防ぐ方法が考えられ
る。
含まれる試料の量が不均一になる他にも、マイクロアレ
イ作成装置１０１によるサンプル溶液の支持体７０上へ
の打ち始めと打ち終わりとで、均一なスポットができな
く、完成したマイクロアレイの品質が安定しないという
問題があった。そこで、この長時間のスポット作業によ
る、サンプル溶液の蒸発を防止するために、装置１０１
内の湿度を高く保って、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留
孔６２からのサンプル溶液の蒸発を防ぐ方法が考えられ
る。
【００１１】しかし、この方法にあっては、ＭＴＰプレ
ート６０は、上述したようにピックアップのための構成
から装置１０１内で開放系にあたるため、装置１０１内
全体の湿度があがってしまい、作成中のマイクロアレイ
の支持体上のスポットがなかなか乾燥せず液体のままに
なってしまうので、この場合もスポットが安定しないと
いう問題がある。
ート６０は、上述したようにピックアップのための構成
から装置１０１内で開放系にあたるため、装置１０１内
全体の湿度があがってしまい、作成中のマイクロアレイ
の支持体上のスポットがなかなか乾燥せず液体のままに
なってしまうので、この場合もスポットが安定しないと
いう問題がある。
【００１２】本発明は、上記問題点に鑑み、作成中のマ
イクロアレイの支持体上のスポットの乾燥には影響を与
えずに、マイクロタイタープレートに貯留されているサ
ンプル溶液の蒸発／乾燥を最小限に抑えるマイクロアレ
イ作成装置を提供することを目的とする。
イクロアレイの支持体上のスポットの乾燥には影響を与
えずに、マイクロタイタープレートに貯留されているサ
ンプル溶液の蒸発／乾燥を最小限に抑えるマイクロアレ
イ作成装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明のマイクロアレイ
作成装置は、マイクロタイタープレートが載置されて、
該マイクロタイタープレートから溶液がピックアップさ
れるピックアップ位置と、マイクロアレイが載置され
て、該マイクロアレイに前記溶液がスポットされるスポ
ット位置とを有するマイクロアレイ作成装置であって、
前記スポット位置よりも前記ピックアップ位置における
湿度を高める加湿手段を備えることを特徴とする。
作成装置は、マイクロタイタープレートが載置されて、
該マイクロタイタープレートから溶液がピックアップさ
れるピックアップ位置と、マイクロアレイが載置され
て、該マイクロアレイに前記溶液がスポットされるスポ
ット位置とを有するマイクロアレイ作成装置であって、
前記スポット位置よりも前記ピックアップ位置における
湿度を高める加湿手段を備えることを特徴とする。
【００１４】さらに、その加湿手段は、前記プレート部
材を取り囲む囲繞部材を有することを特徴とする。これ
により、本発明のマイクロアレイ作成装置によれば、作
成中のマイクロアレイにスポットされたサンプル溶液の
乾燥には影響を与えずに、マイクロタイタープレートに
貯留されたサンプル溶液の蒸発を抑えることができる。
材を取り囲む囲繞部材を有することを特徴とする。これ
により、本発明のマイクロアレイ作成装置によれば、作
成中のマイクロアレイにスポットされたサンプル溶液の
乾燥には影響を与えずに、マイクロタイタープレートに
貯留されたサンプル溶液の蒸発を抑えることができる。
【００１５】また、本発明のマイクロアレイ作成装置
は、マイクロタイタープレートが載置されて、該マイク
ロタイタープレートから溶液がピックアップされるピッ
クアップ位置と、マイクロアレイが載置されて、該マイ
クロアレイに前記溶液がスポットされるスポット位置と
を有するマイクロアレイ作成装置であって、前記マイク
ロタイタープレートを冷却する冷却手段を備えることを
特徴とする。
は、マイクロタイタープレートが載置されて、該マイク
ロタイタープレートから溶液がピックアップされるピッ
クアップ位置と、マイクロアレイが載置されて、該マイ
クロアレイに前記溶液がスポットされるスポット位置と
を有するマイクロアレイ作成装置であって、前記マイク
ロタイタープレートを冷却する冷却手段を備えることを
特徴とする。
【００１６】さらに、その冷却手段は、前記マイクロア
レイを０〜１５℃に冷却するものであることを特徴とす
る。これにより、本発明のマイクロアレイ作成装置によ
れば、作成中のマイクロアレイのスポットの乾燥には影
響を与えずに、マイクロタイタープレートを装置内の他
部に対して低温状態に置いて、サンプル溶液の蒸発を抑
えることができる。
レイを０〜１５℃に冷却するものであることを特徴とす
る。これにより、本発明のマイクロアレイ作成装置によ
れば、作成中のマイクロアレイのスポットの乾燥には影
響を与えずに、マイクロタイタープレートを装置内の他
部に対して低温状態に置いて、サンプル溶液の蒸発を抑
えることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
【００１８】図１は、本発明の一実施の形態に係るマイ
クロアレイ作成装置１の構成図である。なお、以下の説
明に当たって、従来技術と構成が同じ部分については、
図中に同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
クロアレイ作成装置１の構成図である。なお、以下の説
明に当たって、従来技術と構成が同じ部分については、
図中に同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００１９】本実施の態様のマイクロアレイ作成装置１
では、抽出位置ＡにセットされたＭＴＰプレート６０か
らサンプル溶液をピックアップするとともに、スポット
位置Ｂにセットされたマイクロアレイ支持体７０にこの
ピックアップしたサンプル溶液をスポットするためのヘ
ッド１０は、昇降モータ２の駆動によって、案内軸３に
沿って上下動可能になっている。
では、抽出位置ＡにセットされたＭＴＰプレート６０か
らサンプル溶液をピックアップするとともに、スポット
位置Ｂにセットされたマイクロアレイ支持体７０にこの
ピックアップしたサンプル溶液をスポットするためのヘ
ッド１０は、昇降モータ２の駆動によって、案内軸３に
沿って上下動可能になっている。
【００２０】また、このヘッド１０は、案内軸３を介し
て連結された昇降モータ２と一体となって移動ユニット
４を構成し、この移動ユニット４は、抽出位置Ａ，スポ
ット位置Ｂ，及び洗浄／乾燥位置Ｃの各位置間で、移動
モータ５の駆動によって、案内軸６に沿って横移動可能
になっている。そして、この昇降モータ２及び移動モー
タ５は、コントローラ１１により駆動制御され、ヘッド
１０はその位置をこれらモータ２，５の作動によって制
御されるようになっている。
て連結された昇降モータ２と一体となって移動ユニット
４を構成し、この移動ユニット４は、抽出位置Ａ，スポ
ット位置Ｂ，及び洗浄／乾燥位置Ｃの各位置間で、移動
モータ５の駆動によって、案内軸６に沿って横移動可能
になっている。そして、この昇降モータ２及び移動モー
タ５は、コントローラ１１により駆動制御され、ヘッド
１０はその位置をこれらモータ２，５の作動によって制
御されるようになっている。
【００２１】したがって、コントローラ１１は、予め設
定入力された作動メニュー（マイクロアレイの作成プロ
グラム）に従って、昇降モータ２を駆動制御して、抽出
位置Ａ，スポット位置Ｂ，及び洗浄／乾燥位置Ｃのそれ
ぞれで、抽出，スポット，及び洗浄／乾燥のためにヘッ
ド１０を昇降させる。
定入力された作動メニュー（マイクロアレイの作成プロ
グラム）に従って、昇降モータ２を駆動制御して、抽出
位置Ａ，スポット位置Ｂ，及び洗浄／乾燥位置Ｃのそれ
ぞれで、抽出，スポット，及び洗浄／乾燥のためにヘッ
ド１０を昇降させる。
【００２２】また、コントローラ１１は、予め設定入力
された作動メニュー（マイクロアレイの作成プログラ
ム）に従って、移動モータ５を駆動制御して、抽出位置
Ａ，スポット位置Ｂ，及び洗浄／乾燥位置Ｃの各位置間
で、ヘッド１０を含む移動ユニット４を移動させる。
された作動メニュー（マイクロアレイの作成プログラ
ム）に従って、移動モータ５を駆動制御して、抽出位置
Ａ，スポット位置Ｂ，及び洗浄／乾燥位置Ｃの各位置間
で、ヘッド１０を含む移動ユニット４を移動させる。
【００２３】さらに、コントローラ１１は、上記したヘ
ッド１０の昇降・移動に連動させて洗浄／乾燥手段４０
の作動を制御する。ところで、マイクロアレイ作成装置
１の抽出位置Ａには、ＭＴＰプレート６０をマイクロア
レイの作成時に保持しておくためのＭＴＰプレート用ボ
ックス２０が設けられている。
ッド１０の昇降・移動に連動させて洗浄／乾燥手段４０
の作動を制御する。ところで、マイクロアレイ作成装置
１の抽出位置Ａには、ＭＴＰプレート６０をマイクロア
レイの作成時に保持しておくためのＭＴＰプレート用ボ
ックス２０が設けられている。
【００２４】図２は、上記実施の形態のマイクロアレイ
作成装置１に備えられたＭＴＰプレート用ボックス２０
の外観図である。図３は、このＭＴＰプレート用ボック
ス２０の断面図である。本実施の形態の場合、ＭＴＰプ
レート用ボックス２０は、矩形状の直方体形状となって
いて、内部には上側が開放されるとともに、下側が閉塞
されて室２１が形成されている。
作成装置１に備えられたＭＴＰプレート用ボックス２０
の外観図である。図３は、このＭＴＰプレート用ボック
ス２０の断面図である。本実施の形態の場合、ＭＴＰプ
レート用ボックス２０は、矩形状の直方体形状となって
いて、内部には上側が開放されるとともに、下側が閉塞
されて室２１が形成されている。
【００２５】ＭＴＰプレート６０は、室２１の底面２０
ｄに載置されて位置決めされるよううになっている。Ｍ
ＴＰプレート用ボックス２０の周壁部２０ｓは、室２１
に載置されたＭＴＰプレート６０側面、及びＭＴＰプレ
ート６０の上部隣接空間部分Ｓを囲曉するような高さｈ
を有した構成となっている。また、このＭＴＰプレート
用ボックス２０の周壁部２０ｓには、室２１とＭＴＰプ
レート用ボックス２０外部とを連通する貫通孔２２が、
その周回りに沿って適宜個数形成されている。
ｄに載置されて位置決めされるよううになっている。Ｍ
ＴＰプレート用ボックス２０の周壁部２０ｓは、室２１
に載置されたＭＴＰプレート６０側面、及びＭＴＰプレ
ート６０の上部隣接空間部分Ｓを囲曉するような高さｈ
を有した構成となっている。また、このＭＴＰプレート
用ボックス２０の周壁部２０ｓには、室２１とＭＴＰプ
レート用ボックス２０外部とを連通する貫通孔２２が、
その周回りに沿って適宜個数形成されている。
【００２６】本実施の形態の場合、貫通孔２２の室２１
側の開口２２ｉは、ＭＴＰプレート用ボックス２０に内
周面にそれぞれ相対向するように開口し、その開口高さ
位置は、ＭＴＰプレート６０が室２１に載置された状態
で、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２が開口した上
面よりもやや上方に位置するようになっている。これに
対して、貫通孔２２の周壁部２０ｓ外周面側の開口２２
ｏは、開口２２ｉの高さ位置よりも高くなっており、こ
れによって、貫通孔２２は、周壁部２０ｓ外周面側の高
さ位置が内周面側の高さ位置よりも高くなった傾斜孔構
造になっている。
側の開口２２ｉは、ＭＴＰプレート用ボックス２０に内
周面にそれぞれ相対向するように開口し、その開口高さ
位置は、ＭＴＰプレート６０が室２１に載置された状態
で、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２が開口した上
面よりもやや上方に位置するようになっている。これに
対して、貫通孔２２の周壁部２０ｓ外周面側の開口２２
ｏは、開口２２ｉの高さ位置よりも高くなっており、こ
れによって、貫通孔２２は、周壁部２０ｓ外周面側の高
さ位置が内周面側の高さ位置よりも高くなった傾斜孔構
造になっている。
【００２７】本実施例の場合、各貫通孔２２には、一端
が周壁部２０ｓの内周面から室２１内に延び、他端が周
壁部２０ｓ外周面から突出された充填管２３が嵌挿され
ている。この充填管２３の外周突出部分には、後述する
蒸気発生装置３０からの蒸気配管３１が接続されるよう
になっており（図１参照）、ＭＴＰプレート用ボックス
２０の上部隣接空間部分Ｓには、蒸気発生装置３０で発
生させられた水蒸気が充填管２３を介して供給され、貯
留されるようになっている。そのため、ＭＴＰプレート
用ボックス２０は、内部の室２１の湿度が高くなるの
で、本実施の形態では、ＭＴＰプレート用ボックス２０
自体の材質としてアルミニウムを用い、防錆をはかって
いる。
が周壁部２０ｓの内周面から室２１内に延び、他端が周
壁部２０ｓ外周面から突出された充填管２３が嵌挿され
ている。この充填管２３の外周突出部分には、後述する
蒸気発生装置３０からの蒸気配管３１が接続されるよう
になっており（図１参照）、ＭＴＰプレート用ボックス
２０の上部隣接空間部分Ｓには、蒸気発生装置３０で発
生させられた水蒸気が充填管２３を介して供給され、貯
留されるようになっている。そのため、ＭＴＰプレート
用ボックス２０は、内部の室２１の湿度が高くなるの
で、本実施の形態では、ＭＴＰプレート用ボックス２０
自体の材質としてアルミニウムを用い、防錆をはかって
いる。
【００２８】なお、ＭＴＰプレート用ボックス２０の材
質は、アルミニウム等の防錆金属に限らず、耐熱・耐食
性樹脂等を用いてもよく、またＭＴＰプレート用ボック
ス２０自体の全部を防錆材質とせずとも、水蒸気に曝さ
れるＭＴＰプレート用ボックス２０の室２１の内周面２
０ｉ及び底面２０ｄを、アルミニウム等の防錆金属や、
耐熱・耐食性の樹脂によって被覆した構成としてもよ
い。
質は、アルミニウム等の防錆金属に限らず、耐熱・耐食
性樹脂等を用いてもよく、またＭＴＰプレート用ボック
ス２０自体の全部を防錆材質とせずとも、水蒸気に曝さ
れるＭＴＰプレート用ボックス２０の室２１の内周面２
０ｉ及び底面２０ｄを、アルミニウム等の防錆金属や、
耐熱・耐食性の樹脂によって被覆した構成としてもよ
い。
【００２９】そして、前述したＭＴＰプレート用ボック
ス２０の周壁部２０ｓの高さｈは、この供給された水蒸
気によってＭＴＰプレート用ボックス２０の室２１内を
専ら加湿状態に保つため、供給された水蒸気が室２１内
に滞留し、かつ供給された水蒸気がＭＴＰプレート用ボ
ックス２０の上部開放部から外へ逃げて、装置１の他
部、特に支持体７０が載置されるスポット作業空間ＷＳ
（図１参照）にほとんど洩れ到らないような高さになっ
ている。
ス２０の周壁部２０ｓの高さｈは、この供給された水蒸
気によってＭＴＰプレート用ボックス２０の室２１内を
専ら加湿状態に保つため、供給された水蒸気が室２１内
に滞留し、かつ供給された水蒸気がＭＴＰプレート用ボ
ックス２０の上部開放部から外へ逃げて、装置１の他
部、特に支持体７０が載置されるスポット作業空間ＷＳ
（図１参照）にほとんど洩れ到らないような高さになっ
ている。
【００３０】そのために、ＭＴＰプレート用ボックス２
０の周壁部２０ｓの高さｈは、使用されるＭＴＰプレー
ト６０の板厚，ＭＴＰプレート用ボックス２０の上部開
放部分の断面積，ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２
（図８参照）からサンプル溶液を蒸発させないために必
要な水蒸気量等を考慮して設定され、本実施の形態で
は、高さｈを10cmとしてある。
０の周壁部２０ｓの高さｈは、使用されるＭＴＰプレー
ト６０の板厚，ＭＴＰプレート用ボックス２０の上部開
放部分の断面積，ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２
（図８参照）からサンプル溶液を蒸発させないために必
要な水蒸気量等を考慮して設定され、本実施の形態で
は、高さｈを10cmとしてある。
【００３１】また、蒸気発生装置３０は、サンプル溶液
への異物の混入汚染を防ぐため、本実施の形態では、水
蒸気を発生させるための水にイオン交換水を用いてい
る。さらに、本実施の形態のマイクロアレイ作成装置１
では、上述した蒸気発生装置３０，蒸気配管３１，充填
管２３（貫通孔２２）からなる蒸気供給手段に加え、Ｍ
ＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２（図８参照）からサ
ンプル溶液の蒸発を抑制するために、ＭＴＰプレート用
ボックス２０には、例えばペルチェ素子３８からなる冷
却装置３５がＭＴＰプレート用ボックス２０の底部に設
けられている。
への異物の混入汚染を防ぐため、本実施の形態では、水
蒸気を発生させるための水にイオン交換水を用いてい
る。さらに、本実施の形態のマイクロアレイ作成装置１
では、上述した蒸気発生装置３０，蒸気配管３１，充填
管２３（貫通孔２２）からなる蒸気供給手段に加え、Ｍ
ＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２（図８参照）からサ
ンプル溶液の蒸発を抑制するために、ＭＴＰプレート用
ボックス２０には、例えばペルチェ素子３８からなる冷
却装置３５がＭＴＰプレート用ボックス２０の底部に設
けられている。
【００３２】冷却装置３５は、ＭＴＰプレート用ボック
ス２０を介して、ＭＴＰプレート６０を冷却し、その溶
液貯留孔６２（図８参照）内の液温、及びＭＴＰプレー
ト６０周辺の室２１内の雰囲気温度を一定に保つ。そし
て、ＭＴＰプレート用ボックス２０の室２１内の水蒸気
の濃度、及びＭＴＰプレート６０の温度は、ＭＴＰプレ
ート用ボックス２０に設けられた湿度センサ３６及び温
度センサ３７の検出信号に基づいて、コントローラ１１
が蒸気発生装置３０及び冷却装置３５を駆動制御して調
整される。本実施の形態のマイクロアレイ作成装置１
は、以上のように構成されるが、次にその作用について
説明する。
ス２０を介して、ＭＴＰプレート６０を冷却し、その溶
液貯留孔６２（図８参照）内の液温、及びＭＴＰプレー
ト６０周辺の室２１内の雰囲気温度を一定に保つ。そし
て、ＭＴＰプレート用ボックス２０の室２１内の水蒸気
の濃度、及びＭＴＰプレート６０の温度は、ＭＴＰプレ
ート用ボックス２０に設けられた湿度センサ３６及び温
度センサ３７の検出信号に基づいて、コントローラ１１
が蒸気発生装置３０及び冷却装置３５を駆動制御して調
整される。本実施の形態のマイクロアレイ作成装置１
は、以上のように構成されるが、次にその作用について
説明する。
【００３３】図４は、本実施の形態のマイクロアレイ作
成装置１の動作説明図である。マイクロアレイ作成装置
１は、図４に示すように、ＭＴＰプレート６０がＭＴＰ
プレート用ボックス２０にセットされた状態で起動され
る。コントローラ１１は、起動によって移動モータ５を
駆動して、移動ユニット４をＭＴＰプレート用ボックス
２０上方の抽出位置Ａにセットした後、昇降モータ２を
駆動してヘッド１０をＭＴＰプレート用ボックス２０の
室２１内に降下させ、所望のサンプル溶液が貯留されて
いるＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２（図８参照）
からサンプル溶液をピックアップした後、再び昇降モー
タ２を駆動してヘッド１０をＭＴＰプレート用ボックス
２０の室２１外に移動させる（図４中の、符号４-Aで示
した移動位置での一連動作）。
成装置１の動作説明図である。マイクロアレイ作成装置
１は、図４に示すように、ＭＴＰプレート６０がＭＴＰ
プレート用ボックス２０にセットされた状態で起動され
る。コントローラ１１は、起動によって移動モータ５を
駆動して、移動ユニット４をＭＴＰプレート用ボックス
２０上方の抽出位置Ａにセットした後、昇降モータ２を
駆動してヘッド１０をＭＴＰプレート用ボックス２０の
室２１内に降下させ、所望のサンプル溶液が貯留されて
いるＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２（図８参照）
からサンプル溶液をピックアップした後、再び昇降モー
タ２を駆動してヘッド１０をＭＴＰプレート用ボックス
２０の室２１外に移動させる（図４中の、符号４-Aで示
した移動位置での一連動作）。
【００３４】その後、コントローラ１１は、移動モータ
５を駆動してヘッド１０をサンプルがスポットされる支
持体７０がセットされているスポット位置Ｂまで移動
し、このスポット位置Ｂで、昇降モータ２を駆動してヘ
ッド１０を昇降し、支持体７０の所定個所にサンプル溶
液をスポットする（図４中の、符号４-Ｂで示した移動
位置での一連動作）。なお、支持体７０は、例えばスラ
イドガラスによって構成されている。
５を駆動してヘッド１０をサンプルがスポットされる支
持体７０がセットされているスポット位置Ｂまで移動
し、このスポット位置Ｂで、昇降モータ２を駆動してヘ
ッド１０を昇降し、支持体７０の所定個所にサンプル溶
液をスポットする（図４中の、符号４-Ｂで示した移動
位置での一連動作）。なお、支持体７０は、例えばスラ
イドガラスによって構成されている。
【００３５】そして、設定個所へのスポット完了後は、
次の別種のサンプル溶液のスポットに備えて、コントロ
ーラ１１は、移動モータ５を駆動してヘッド１０を洗浄
／乾燥手段４０上方の洗浄／乾燥位置Ｃまで移動し、昇
降モータ２を駆動してヘッド１０を昇降して洗浄／乾燥
手段４０によりヘッド１０の洗浄／乾燥する（図４中
の、符号４-Cで示した移動位置での一連動作）。
次の別種のサンプル溶液のスポットに備えて、コントロ
ーラ１１は、移動モータ５を駆動してヘッド１０を洗浄
／乾燥手段４０上方の洗浄／乾燥位置Ｃまで移動し、昇
降モータ２を駆動してヘッド１０を昇降して洗浄／乾燥
手段４０によりヘッド１０の洗浄／乾燥する（図４中
の、符号４-Cで示した移動位置での一連動作）。
【００３６】この洗浄／乾燥完了後、コントローラ１１
は、移動モータ５を駆動して再びＭＴＰプレート用ボッ
クス２０上方の抽出位置Ａにヘッド１０を戻す。そし
て、このような抽出位置Ａ，スポット位置Ｂ，及び洗浄
／乾燥位置Ｃの各位置間でのヘッド１０を含む移動ユニ
ット４の横移動（図４中のY−Y方向）、これら各位置で
のヘッド１０の昇降移動（図４中のＸ−Ｘ方向）を繰り
返しながら、次々と支持体７０上にスポットを行ってい
く。
は、移動モータ５を駆動して再びＭＴＰプレート用ボッ
クス２０上方の抽出位置Ａにヘッド１０を戻す。そし
て、このような抽出位置Ａ，スポット位置Ｂ，及び洗浄
／乾燥位置Ｃの各位置間でのヘッド１０を含む移動ユニ
ット４の横移動（図４中のY−Y方向）、これら各位置で
のヘッド１０の昇降移動（図４中のＸ−Ｘ方向）を繰り
返しながら、次々と支持体７０上にスポットを行ってい
く。
【００３７】この一連のスポット作業の間、コントロー
ラ１１は、ＭＴＰプレート用ボックス２０に設けられた
湿度センサ３６の検出結果に基づいて、蒸気発生装置３
０を駆動制御して、蒸気発生装置３０で生成した水蒸気
を充填管２３を介してＭＴＰプレート用ボックス２０の
室２１内に供給制御し、ＭＴＰプレート用ボックス２０
内にセットされたＭＴＰプレート６０の上部隣接空間部
分Ｓの湿度を、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２
（図８参照）からサンプル溶液を蒸発させないために必
要な設定蒸気濃度範囲すなわち設定湿度範囲に保持す
る。
ラ１１は、ＭＴＰプレート用ボックス２０に設けられた
湿度センサ３６の検出結果に基づいて、蒸気発生装置３
０を駆動制御して、蒸気発生装置３０で生成した水蒸気
を充填管２３を介してＭＴＰプレート用ボックス２０の
室２１内に供給制御し、ＭＴＰプレート用ボックス２０
内にセットされたＭＴＰプレート６０の上部隣接空間部
分Ｓの湿度を、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２
（図８参照）からサンプル溶液を蒸発させないために必
要な設定蒸気濃度範囲すなわち設定湿度範囲に保持す
る。
【００３８】本実施の形態では、上部隣接空間部分Ｓの
設定湿度範囲は例えば９０％以上として設定されてお
り、コントローラ１１は、この設定湿度範囲の下限値９
０％よりも湿度センサ３６による検出結果が低下したな
らば、蒸気発生装置３０を駆動して水蒸気を供給して加
湿をはかり、湿度センサ３６による検出結果が設定湿度
範囲の下限値９０％よりも高い予め設定した所定値にな
ったならば、蒸気発生装置３０の駆動を停止して水蒸気
を供給を停止する。これにより、ＭＴＰプレート用ボッ
クス２０の上部隣接空間部分Ｓは、蒸気発生装置３０で
発生させられた水蒸気によって設定湿度範囲の９０％以
上に保持され、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２
（図８参照）からのサンプル溶液の蒸発が抑制される。
設定湿度範囲は例えば９０％以上として設定されてお
り、コントローラ１１は、この設定湿度範囲の下限値９
０％よりも湿度センサ３６による検出結果が低下したな
らば、蒸気発生装置３０を駆動して水蒸気を供給して加
湿をはかり、湿度センサ３６による検出結果が設定湿度
範囲の下限値９０％よりも高い予め設定した所定値にな
ったならば、蒸気発生装置３０の駆動を停止して水蒸気
を供給を停止する。これにより、ＭＴＰプレート用ボッ
クス２０の上部隣接空間部分Ｓは、蒸気発生装置３０で
発生させられた水蒸気によって設定湿度範囲の９０％以
上に保持され、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２
（図８参照）からのサンプル溶液の蒸発が抑制される。
【００３９】また、同じくこの一連のスポット作業の
間、コントローラ１１は、ＭＴＰプレート用ボックス２
０に設けられた温度センサ３７の検出結果に基づいて、
冷却装置としてのペルチェ素子３８を駆動制御して、Ｍ
ＴＰプレート用ボックス２０に載置されているＭＴＰプ
レート６０の溶液貯留孔６２のサンプル溶液温度、及び
ＭＴＰプレート用ボックス２０のＭＴＰプレート６０周
辺の室２１内（上部隣接空間部分Ｓの少なくとも一部は
含まれる）の雰囲気の温度を所定温度に下げて、サンプ
ル溶液自体の液温上昇による蒸発を抑制するとともに、
ＭＴＰプレート６０周辺の室２１内の湿度を高く、又は
低下しにくく保持するようになっている。
間、コントローラ１１は、ＭＴＰプレート用ボックス２
０に設けられた温度センサ３７の検出結果に基づいて、
冷却装置としてのペルチェ素子３８を駆動制御して、Ｍ
ＴＰプレート用ボックス２０に載置されているＭＴＰプ
レート６０の溶液貯留孔６２のサンプル溶液温度、及び
ＭＴＰプレート用ボックス２０のＭＴＰプレート６０周
辺の室２１内（上部隣接空間部分Ｓの少なくとも一部は
含まれる）の雰囲気の温度を所定温度に下げて、サンプ
ル溶液自体の液温上昇による蒸発を抑制するとともに、
ＭＴＰプレート６０周辺の室２１内の湿度を高く、又は
低下しにくく保持するようになっている。
【００４０】本実施の形態では、ＭＴＰプレート用ボッ
クス２０、及びプレート上部隣接空間部分Ｓの設定温度
を０〜１５℃の間に設け、より具体的にはサンプルの保
存温度と同じ温度、例えば４℃にしてある。これによ
り、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２のサンプル溶
液温度、及びＭＴＰプレート用ボックス２０のＭＴＰプ
レート６０周辺の室２１内の雰囲気温度は、温度センサ
３７の検出結果に基づき所定温度（例えば４℃）に保持
され、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２（図８参
照）からサンプル溶液の蒸発が抑制される。
クス２０、及びプレート上部隣接空間部分Ｓの設定温度
を０〜１５℃の間に設け、より具体的にはサンプルの保
存温度と同じ温度、例えば４℃にしてある。これによ
り、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２のサンプル溶
液温度、及びＭＴＰプレート用ボックス２０のＭＴＰプ
レート６０周辺の室２１内の雰囲気温度は、温度センサ
３７の検出結果に基づき所定温度（例えば４℃）に保持
され、ＭＴＰプレート６０の溶液貯留孔６２（図８参
照）からサンプル溶液の蒸発が抑制される。
【００４１】この結果、本実施の形態のマイクロアレイ
作成装置１によれば、ＭＴＰプレート６０を、ＭＴＰプ
レート用ボックス２０の中にセットし、その中の湿度又
は温度の少なくとも一方を制御することによって、ＭＴ
Ｐプレート６０のサンプル溶液の蒸発だけを抑えること
が可能になる。
作成装置１によれば、ＭＴＰプレート６０を、ＭＴＰプ
レート用ボックス２０の中にセットし、その中の湿度又
は温度の少なくとも一方を制御することによって、ＭＴ
Ｐプレート６０のサンプル溶液の蒸発だけを抑えること
が可能になる。
【００４２】また、ＭＴＰプレート用ボックス２０は十
分な深さを持たせて、湿度又は温度を制御するようにし
ているので、ヘッド１０による上方からのサンプル溶液
のピックアップに支障をきたすことなく、ＭＴＰプレー
ト６０周辺の湿度又は温度だけを制御することで、ＭＴ
Ｐプレート６０のサンプル溶液の蒸発だけを抑えられ
る。
分な深さを持たせて、湿度又は温度を制御するようにし
ているので、ヘッド１０による上方からのサンプル溶液
のピックアップに支障をきたすことなく、ＭＴＰプレー
ト６０周辺の湿度又は温度だけを制御することで、ＭＴ
Ｐプレート６０のサンプル溶液の蒸発だけを抑えられ
る。
【００４３】したがって、ＭＴＰプレート６０のサンプ
ル溶液の濃度が長時間の作業中に経時変化を起こしてし
まうことを防げ、また、サンプル溶液の粘度も一定に保
たれ、支持体７０にスポットしたサンプル溶液の乾燥を
妨げることはないので、スポットも安定する。さらに、
このＭＴＰプレート６０のサンプル溶液の蒸発を抑える
ための蒸気発生装置３０及び冷却装置３５も小型、低容
量のもので済む。
ル溶液の濃度が長時間の作業中に経時変化を起こしてし
まうことを防げ、また、サンプル溶液の粘度も一定に保
たれ、支持体７０にスポットしたサンプル溶液の乾燥を
妨げることはないので、スポットも安定する。さらに、
このＭＴＰプレート６０のサンプル溶液の蒸発を抑える
ための蒸気発生装置３０及び冷却装置３５も小型、低容
量のもので済む。
【００４４】本実施の形態のマイクロアレイ作成装置１
は、以上のように構成されるが、これに限定されるもの
ではない。例えば、冷却装置３５としては、ペルチェ素
子３８を利用した直冷式の構成としたが、冷気や冷水の
供給または循環による間冷方式の構成であってもよい。
また、ヘッド１０をサンプル溶液の抽出又はスポットの
ために動かす構成等は、前記図４で説明した方式に限る
ものではない。さらに、ＭＴＰプレート用ボックス２０
の構成も、図２及び図３に示した構成に限定されるもの
ではない。
は、以上のように構成されるが、これに限定されるもの
ではない。例えば、冷却装置３５としては、ペルチェ素
子３８を利用した直冷式の構成としたが、冷気や冷水の
供給または循環による間冷方式の構成であってもよい。
また、ヘッド１０をサンプル溶液の抽出又はスポットの
ために動かす構成等は、前記図４で説明した方式に限る
ものではない。さらに、ＭＴＰプレート用ボックス２０
の構成も、図２及び図３に示した構成に限定されるもの
ではない。
【００４５】図５は、別のＭＴＰプレート用ボックス２
２０の外観図である。図６は、このＭＴＰプレート用ボ
ックス２２０の断面図である。なお、その説明に当たっ
て、前述したＭＴＰプレート用ボックス２０と同一部分
については、同一符号を付し、その説明は省略する。
２０の外観図である。図６は、このＭＴＰプレート用ボ
ックス２２０の断面図である。なお、その説明に当たっ
て、前述したＭＴＰプレート用ボックス２０と同一部分
については、同一符号を付し、その説明は省略する。
【００４６】ＭＴＰプレート用ボックス２２０は、前述
したＭＴＰプレート用ボックス２０に対し、その開口
を、ヘッド１０に設けられた針（図示略）が通過可能な
複数の貫通孔２６が形成された蓋部材２５で閉塞した構
成になっている。そのため、この複数の貫通孔２６は、
蓋部材２５をＭＴＰプレート用ボックス２２０の開口に
取付けた状態で、室２１内に位置決めされたＭＴＰプレ
ート６０の溶液貯留孔６２の開口６３の位置と合致する
ように形成されている。
したＭＴＰプレート用ボックス２０に対し、その開口
を、ヘッド１０に設けられた針（図示略）が通過可能な
複数の貫通孔２６が形成された蓋部材２５で閉塞した構
成になっている。そのため、この複数の貫通孔２６は、
蓋部材２５をＭＴＰプレート用ボックス２２０の開口に
取付けた状態で、室２１内に位置決めされたＭＴＰプレ
ート６０の溶液貯留孔６２の開口６３の位置と合致する
ように形成されている。
【００４７】この構成によれば、ＭＴＰプレート用ボッ
クス２２０の外部に対する開放部分の面積の縮小をはか
ることができ、室２１から外部への水蒸気の拡散を制限
することができ、ＭＴＰプレート用ボックス２０の室２
１内だけを加湿状態に保つための周壁部２２０ｓの高さ
ｈを短縮することができる。また、貫通孔２６は全体と
して一つの大きな孔となっていてもよい。
クス２２０の外部に対する開放部分の面積の縮小をはか
ることができ、室２１から外部への水蒸気の拡散を制限
することができ、ＭＴＰプレート用ボックス２０の室２
１内だけを加湿状態に保つための周壁部２２０ｓの高さ
ｈを短縮することができる。また、貫通孔２６は全体と
して一つの大きな孔となっていてもよい。
【００４８】
【発明の効果】本発明のマイクロアレイ作成装置によれ
ば、ＭＴＰプレートを、専用のボックスの中にセット
し、その中の湿度および温度を制御することによって、
ＭＴＰプレート内のサンプル溶液の蒸発だけを抑えるこ
とが可能になり、作成中のマイクロアレイの支持体上に
スポットしたサンプル溶液の乾燥を損なうこともない。
これにより、マイクロアレイ作成に長時間かかる場合
も、安定してスポットを行うことができる。
ば、ＭＴＰプレートを、専用のボックスの中にセット
し、その中の湿度および温度を制御することによって、
ＭＴＰプレート内のサンプル溶液の蒸発だけを抑えるこ
とが可能になり、作成中のマイクロアレイの支持体上に
スポットしたサンプル溶液の乾燥を損なうこともない。
これにより、マイクロアレイ作成に長時間かかる場合
も、安定してスポットを行うことができる。
【図１】本発明の一実施の形態に係るマイクロアレイ作
成装置１の構成図である。
成装置１の構成図である。
【図２】上記実施の形態のマイクロアレイ作成装置１に
備えられたＭＴＰプレート用ボックス２０の外観図であ
る。
備えられたＭＴＰプレート用ボックス２０の外観図であ
る。
【図３】ＭＴＰプレート用ボックス２０の断面図であ
る。
る。
【図４】本実施の形態のマイクロアレイ作成装置１の動
作説明図である。
作説明図である。
【図５】別のＭＴＰプレート用ボックス２２０の外観図
である。
である。
【図６】ＭＴＰプレート用ボックス２２０の断面図であ
る。
る。
【図７】従来のマイクロアレイ作成装置１０１の構成図
である。
である。
【図８】抽出位置ＡにセットされるＭＴＰプレートの外
観図である。
観図である。
１ マイクロアレイ作成装置 ４ 移動ユニット １１ コントローラ １０ ヘッド ２０ ＭＴＰプレート用ボックス（囲繞部材） ２０ｓ 周壁部 ２１ 室 ２３ 充填管 ３０ 蒸気発生装置（加湿手段） ３５ 冷却装置（冷却手段） ３６ 湿度センサ ６０ ＭＴＰプレート（マイクロタイタープレート） ７０ 支持体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立花 光廣 神奈川県横浜市中区尾上町６丁目81番地 日立ソフトウエアエンジニアリング株式会 社内
Claims (4)
- 【請求項１】 マイクロタイタープレートが載置され
て、該マイクロタイタープレートから溶液がピックアッ
プされるピックアップ位置と、マイクロアレイが載置さ
れて、該マイクロアレイに前記溶液がスポットされるス
ポット位置とを有するマイクロアレイ作成装置であっ
て、 前記スポット位置よりも前記ピックアップ位置における
湿度を高める加湿手段を備えることを特徴とするマイク
ロアレイ作成装置。 - 【請求項２】 前記加湿手段は、前記プレート部材を取
り囲む囲繞部材を有することを特徴とする請求項１記載
のマイクロアレイ作成装置。 - 【請求項３】 マイクロタイタープレートが載置され
て、該マイクロタイタープレートから溶液がピックアッ
プされるピックアップ位置と、マイクロアレイが載置さ
れて、該マイクロアレイに前記溶液がスポットされるス
ポット位置とを有するマイクロアレイ作成装置であっ
て、 前記マイクロタイタープレートを冷却する冷却手段を備
えることを特徴とするマイクロアレイ作成装置。 - 【請求項４】 前記冷却手段は、前記マイクロアレイを
０〜１５℃に冷却するものであることを特徴とする請求
項３記載のマイクロアレイ作成装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001172989A JP2002365302A (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | マイクロアレイ作成装置 |
| US10/160,872 US20030003020A1 (en) | 2001-06-07 | 2002-05-31 | Apparatus for preparing microarrays |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001172989A JP2002365302A (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | マイクロアレイ作成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002365302A true JP2002365302A (ja) | 2002-12-18 |
Family
ID=19014524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001172989A Pending JP2002365302A (ja) | 2001-06-07 | 2001-06-07 | マイクロアレイ作成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030003020A1 (ja) |
| JP (1) | JP2002365302A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128955A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corp | 液体吐出装置およびバイオチップの製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3246093A1 (en) | 2003-10-24 | 2017-11-22 | Aushon Biosystems, Inc. | Apparatus and method for dispensing fluid, semi-solid and solid samples |
| CH711362B1 (de) * | 2015-07-29 | 2019-11-15 | Tecan Schweiz Ag | Steuergerät für relative Feuchtigkeit. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2001234739A1 (en) * | 2000-02-02 | 2001-08-14 | Cartesian Technologies, Inc. | Method and apparatus for developing dna microarrays |
| US6770441B2 (en) * | 2000-02-10 | 2004-08-03 | Illumina, Inc. | Array compositions and methods of making same |
-
2001
- 2001-06-07 JP JP2001172989A patent/JP2002365302A/ja active Pending
-
2002
- 2002-05-31 US US10/160,872 patent/US20030003020A1/en not_active Abandoned
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128955A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Seiko Epson Corp | 液体吐出装置およびバイオチップの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030003020A1 (en) | 2003-01-02 |
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