JP2002363149A - N−置換ニトロアニリン誘導体の製造法 - Google Patents
N−置換ニトロアニリン誘導体の製造法Info
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Abstract
供すること。 【解決手段】 一般式(1) (式中、Xは、同一または相異なり、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基等)で示されるニトロアニリン化合
物と一般式(2) (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基等)で示さ
れる酸無水物または一般式(3) で示される酸ハロゲン化物とを、アルカリ金属化合物ま
たはアルカリ土類金属化合物の存在下に反応させること
を特徴とする一般式(4) (式中、X、nおよびR1は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法。
Description
中間体として有用な下記一般式(4)および一般式
(6)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法に関する。
ニトロアニリン誘導体の一般的な製造法は、トリメチル
シリルエステルとp−トリフルオロメチル安息香酸酸無
水物から調整した混合酸酸無水物をアシル化剤とし、触
媒としてTiCl4および銀塩存在下合成する方法(Ch
em. Lett., 1993, 6, 1053.)や、固体酸触媒存在下過
剰量の酸酸無水物を用いてアシル化する方法(J. Chem.
Soc. Perkin Trans. 1, 1998, 1913.)、さらには、ピ
リジン存在下過剰量の酸塩化物を用い、70℃でアシル
化する方法などが知られている(J. Am. Chem. Soc., 1
937, 59, 2003.)。
は、シリルエステル、p−トリフルオロメチル安息香酸
無水物、及び、銀塩など高価な反応剤を使用することに
よる価格面での問題や、過剰量のアシル化剤を使用する
ことによる精製負荷の増大と価格面での問題、高温条件
では不安定な基質は分解する可能性があるなどの大きな
問題があり、一般的なN−置換ニトロアニリン誘導体の
工業的製造法としては必ずしも充分なものとは言い難い
ものであった。
されるN−置換ニトロアニリン誘導体の工業的に有利な
製造法の開発が望まれていた。
を解決すべく鋭意研究を行った結果、ニトロアニリン化
合物に対し約1.6当量以上のアルカリ金属水素化物を
塩基として用いることにより、室温以下の穏やかな条件
で当モルのアシル化剤を用いても収率良くN−置換ニト
ロアニリン誘導体を合成できることを見いだし、本発明
を完成するに至った。すなわち、一般式(1) (式中、Xは、同一または相異なり、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
フェニルアルキル基、(ハロゲン、アミノ、ニトロ、ア
ルキルで置換されていてもよい)ベンゾイル基、アルコ
キシカルボニル基、フェニルアルコキシ基、(ハロゲ
ン、アミノ、ニトロ、アルキルで置換されていてもよ
い)フェニル基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
ラルキルアシルアミノ基、アルキルチオ基、アラルキル
チオ基、アリールチオ基、ホルミル基、N,N−ジアル
キルアミノ基、置換されていてもよいアルケニル基、置
換されていてもよいアルキニル基または、ピペリジル基
を示し、nは0〜4の整数を示す。あるいは、ベンゼン
環とXn全体で、キノリン、フルオレン、ナフタレン環
を表わしてもよい。)で示されるニトロアニリン化合物
と一般式(2) (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6
〜15のアリール基、炭素数7〜15のアラルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基(ただし、t−ブトキシ基
を除く。)、炭素数6〜15のアリールオキシ基、また
は炭素数7〜15のアラルキルオキシ基を示す。)で示
される酸無水物または一般式(3) (式中、R1は前記と同じ意味を表わし、Yはハロゲン
原子を示す。)で示される酸ハロゲン化物とを、アルカ
リ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物の存在下に
反応させることを特徴とする一般式(4) (式中、X、nおよびR1は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法;および、得られた該誘導体と一般式(5) R2−Z (式中、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基、置換されていてもよいアルケニル基、または置換
されていてもよいアルキニル基を示し、Zはヒドロキシ
基、ハロゲン原子またはOSO2R3基(ここでR3はア
ルコキシ基、(ハロゲン原子で置換されていてもよい)
アルキル基、または(アルキル基もしくはハロゲン原子
で置換されていてもよい)アリール基を示す。)で示さ
れる化合物とを反応させることを特徴とする一般式
(6) (式中、R1、R2、Xおよびnは前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法を提供するものである。
本発明の製造法は、上記したとおりであるが、一般式
(4)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体は、単
離して、次工程に用いてもよいが、N−ジ置換体である
一般式(6)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体
を製造する場合には、単離せずに、続いて一般式(5)
で示される化合物と反応させることが工業的には通常、
好ましい。
トロアニリン誘導体を得る製造法について説明する。
化合物において、Xのハロゲン原子としては、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられ、アルキル基、ハロ
アルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、アル
コキシカルボニル基、フェニルアルコキシ基、N−アル
キルアシルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基また
はアルキルチオ基のアルキル部位としては、炭素数1〜
10のアルキル基が挙げられる。N−アラルキルアシル
アミノ基、アラルキルチオ基のアルキル部位としては、
炭素数1〜6のアルキル基等が挙げられ、アリール部位
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アリ
ールチオ基としてはフェニルチオ基、ナフチルチオ基等
が挙げられる。N−アルキルアシルアミノ基、N−アラ
ルキルアシルアミノ基のアシル基としてはホルミル基、
アセチル基、ベンゾイル基、ピバロイル基、トリフルオ
ロアセチル基、トリクロロアセチル基等が挙げられ、
「置換されていてもよいアルケニル基」としてはたとえ
ば、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素
数6〜10のアリール、炭素数6〜10のハロゲノアリ
ールなどから選ばれた置換基で置換されていてもよい炭
素数2〜10のアルケニル基が、「置換されていてもよ
いアルキニル基」としてはたとえば、ハロゲン原子、炭
素数1〜6のアルコキシ基、炭素数6〜10のアリー
ル、炭素数6〜10のハロゲノアリール、トリアルキル
シリル基などから選ばれた置換基で置換されていてもよ
い炭素数2〜10のアルキニル基等が、挙げられる。置
換されていてもよいアルケニル基としてはビニル基、
2,2−ジメチルビニル基、1−プロペニル基、1−ブ
テニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられ、置換され
ていてもよいアルキニル基としてはトリメチルシリルエ
チニル基、1−プロピニル基、1−ブチリル基等が挙げ
られる。
(1)を具体的に例示すると、2−ニトロアニリン、2
−ブロモ−4,6−ジニトロアニリン、6−クロロ−
2,4−ジニトロアニリン、2,4−ジニトロアニリ
ン、2,6−ジニトロアニリン、2,4−ジニトロ−5
−フルオロアニリン、4−メトキシ−2−ニトロアニリ
ン、4−エトキシ−2−ニトロアニリン、4−アミノ−
3−ニトロベンゾフェノン、4−アミノ−3−ニトロベ
ンゾフルオリド、2,6−ジニトロ−4−メチルアニリ
ン、2,4−ジクロロ−6−ニトロアニリン、4,6−
ジメチル−2−ニトロアニリン、2−メチル−6−ニト
ロアニリン、4,5−ジクロロ−2−ニトロアニリン、
5−クロロ−2−ニトロアニリン、4,5−ジメチル−
2−ニトロアニリン、5−メチル−2−ニトロアニリ
ン、4−フルオロ−2−ニトロアニリン、4−クロロ−
2−ニトロアニリン、4−メチル−2−ニトロアニリ
ン、4,5−ジフルオロ−2−ニトロアニリン、2,4
−ジブロモ−6−ニトロアニリン、4−アミノ−3−ニ
トロベンゾニトリル、メチル4−アミノ−3−ニトロベ
ンゾエート、2−アミノ−3−ニトロ−9−フルオレ
ン、4−ベンジルオキシ−2−ニトロアニリン、3,3
´−ジニトロベンジジン、2,4−ジメチル−3,6−
ジニトロアニリン、2,4−ジニトロ−6−フェニルア
ニリン、4−メトキシ−3−メチル−6−ニトロアニリ
ン、3−ブロモ−4−メトキシ−6−ニトロアニリン、
3−アミノ−2−ニトロフルオレン、5−エトキシ−4
−フルオロ−2−ニトロアニリン、2,4−ジフルオロ
−6−ニトロアニリン、5−クロロ−4−メチル−2−
ニトロアニリン、4−エチル−2−ニトロアニリン、4
−ニトロアニリン、2−ブロモ−4,6−ジニトロアニ
リン、6−クロロ−2,4−ジニトロアニリン、2,5
−ジメトキシ−4−ニトロアニリン、2−シアノ−4−
ニトロアニリン、2−メトキシ−4−ニトロアニリン、
2−アミノ−5−ニトロベンゾフェノン、2−アミノ−
5−ニトロベンゾトリフルオリド、2,6−ジブロモ−
4−ニトロアニリン、2−クロロ−4−ニトロアニリ
ン、2,6−ジクロロ−4−ニトロアニリン、2−メチ
ル−4−ニトロアニリン、5−メトキシ−2−メチル−
4−ニトロアニリン、5−アミノ−2−ニトロベンゾト
リフルオリド、2−ブロモ−6−クロロ−4−ニトロア
ニリン、2−エトキシ−4−ニトロアニリン、2−ブロ
モ−4−ニトロアニリン、2,5−ジクロロ−4−ニト
ロアニリン、2,5−ジメチル−4−ニトロアニリン、
5−ニトロ−2−ビフェニルアミン、5−メチル−4−
ニトロ−o−アニシジン、3−クロロ−6−メチル−4
−ニトロアニリン、2−アミノ−3,5−ジニトロベン
ゾニトリル、6−ブロモ−2−シアノ−4−ニトロアニ
リン、3−クロロ−4−ニトロアニリン、3−メチル−
4−ニトロアニリン、4,5−ジニトロ−2−メチルア
ニリン、5−クロロ−2−メトキシ−4−ニトロアニリ
ン、6−クロロ−2−シアノ−4−ニトロアニリン、
3,5−ジメチル−4−ニトロアニリン、2−クロロ−
4−ニトロ−5−ピペリジン−1−イル−フェニルアミ
ン、2,6−ジメチル−4−ニトロアニリン、エチル
2−アミノ−4−クロロ−5−ニトロベンゾエート、2
−(ベンジルオキシ)−4−ニトロアニリン、メチル
2−アミノ−5−ニトロベンゾエート、4,6−ジニト
ロ−o−トルイジン、3,5−ジクロロ−4−ニトロア
ニリン、2−sec−ブチル−4,6−ジニトロ−フェ
ニルアミン、2−アミノ−5−ニトロ−2´−クロロベ
ンゾフェノン、2−クロロ−6−メチル−4−ニトロア
ニリン、4−ニトロ−2,5−ジエトキシアニリン、N
−メチル−(2−アミノ−3−ニトロ)−アセトアニリ
ド、2−アミノ−5−ニトロ−4−(p−トルイルチ
オ)−アニソール、5−アミノ−6−ニトロキノリン、
2−アミノ−1−ニトロナフタレン、2−ニトロ−1−
ナフチルアミン、1−アミノ−4−ニトロナフタレン、
2−ブロモ−4−ニトロ−1−ナフチルアミン等が挙げ
られる。
たはアルカリ土類金属化合物としては、例えば、アルカ
リ金属水素化物またはアルカリ土類金属水素化物が好ま
しく、特にアルカリ金属水素化物が好ましく、その中で
も特に水素化ナトリウムがより好ましい。アルカリ金属
化合物またはアルカリ土類金属化合物の使用量は、通
常、ニトロアニリン化合物(1)に対して通常、約1.
6モル倍以上、好ましくは1.8〜5モル倍程度であ
り、さらに好ましくは、1.8〜3モル倍程度であり、
単独で使用しても、また、必要に応じて2種類以上を混
合して使用しても良い。
的に例示すると、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪
酸、無水イソ酪酸、無水ピバル酸、無水アクリル酸等の
炭素数2−10の脂肪族カルボン酸無水物や、安息香酸
無水物、o−メチル安息香酸無水物、p−t−ブチル安
息香酸無水物、o−クロロ安息香酸無水物、m−クロロ
安息香酸無水物、p−クロロ安息香酸無水物、p−ニト
ロ安息香酸無水物等の芳香環がハロゲン原子、ニトロ
基、炭素数1−4のアルキル基、炭素数1−4のアルコ
キシ基等の置換基で置換されていても良い芳香族カルボ
ン酸無水物や、ジメチルジカーボネート、ジエチルジカ
ーボネート等のジアルキルジカーボネート類などが挙げ
られる。
のYで表されるハロゲン原子には、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が含まれ、その中でも塩素および臭素原子が
好ましく、特に塩素原子が好ましい。酸ハロゲン化物
(3)を具体的に例示すると、酢酸クロリド、酢酸ブロ
ミド、酢酸アイオダイド、プロピオン酸クロリド、プロ
ピオン酸ブロミド、プロピオン酸アイオダイド、酪酸ク
ロリド、イソ酪酸クロリド、ペンタン酸クロリド、ピバ
ル酸クロリド、アクリル酸クロリド等の炭素数2−10
の脂肪族カルボン酸ハライドや、安息香酸クロリド、安
息香酸ブロミド、安息香酸アイオダイド、o−メチル安
息香酸クロリド、p−t−ブチル安息香酸クロリド、o
−クロロ安息香酸クロリド、m−クロロ安息香酸クロリ
ド、p−クロロ安息香酸クロリド、p−ニトロ安息香酸
クロリド、ナフトイルクロリド等の芳香環がハロゲン原
子、ニトロ基、炭素数1−4のアルキル基、炭素数1−
4のアルコキシ基等の置換基で置換されていてもよい芳
香族カルボン酸ハライドや、メチルオキシカルボニルク
ロリド、エチルオキシカルボニルクロリド、プロピルオ
キシカルボニルクロリド、イソプロピルオキシカルボニ
ルクロリド、イソブチルオキシカルボニルクロリド、ベ
ンジルオキシカルボニルクロリド等のハロゲン化炭酸ア
ルキル類などが挙げられる。
酸塩化物(3)の使用量としては、ニトロアニリン化合
物(1)に対して通常、0.8〜1.5モル倍程度、好
ましくは0.9〜1.3モル倍程度である。
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジ
オキサン等のエーテル系溶媒や、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド等
の極性溶媒や、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素類や、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素溶媒や、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素溶媒が挙げ
られる。好ましくはテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、
ジオキサン等のエーテル系溶媒や、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド等
の極性溶媒が使用される。これらの溶媒は、単独で使用
しても必要に応じて2種類以上混合して用いてもよい。
ニトロアニリン誘導体(4)の濃度としては、特に制限
はないが、通常、0.1〜50重量%、その中でも1〜
20重量%の範囲になるように調節して反応させるのが
工業的には好ましい。
常、系の凝固点より高い温度から還流温度の範囲、好ま
しくは−10℃〜還流温度の範囲から選択することがで
きる。
通常0.1〜60時間の範囲で充分目的を達することが
できる。
出、濃縮等の方法を行うことにより、目的物を得ること
ができ、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー、結
晶化等の方法により精製することもできる。また、反応
終了後の反応液をそのまま次工程に用いることもでき
る。
ニトロアニリン誘導体を得る製造法について説明する。
一般式(5)で示される化合物のR2において、「置換
されていてもよいアルキル基」としてはたとえば、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ、炭素数1〜6の
アルコキシカルボニル、炭素数6〜10のアリール、炭
素数6〜10のハロゲノアリール、などから選ばれた置
換基で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル
基が挙げられ、「置換されていてもよいアルケニル基」
としてはたとえば、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアル
コキシ基、炭素数6〜10のアリール、炭素数6〜10
のハロゲノアリールなどから選ばれた置換基で置換され
ていてもよい炭素数2〜10のアルケニル基が、「置換
されていてもよいアルキニル基」としてはたとえば、ハ
ロゲン原子、炭素数1〜6のアルコキシ、炭素数6〜1
0のアリール、炭素数6〜10のハロゲノアリールなど
から選ばれた置換基で置換されていてもよい炭素数2〜
10のアルキニル基が挙げられる。
て、ハロゲン原子としては、塩素、臭素、沃素が挙げら
れ、「OSO2R3基」のR3のアルコキシ基としては炭
素数1〜10のアルコキシ基が挙げられ、アルキル基と
してはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜
10のアルキル基が挙げられ、アリール基としてはアル
キル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭
素数6〜10のアリール基が挙げられる。
る化合物を具体的に例示すると、ハロゲン化アルキルと
しては、塩化メチル、塩化プロピル、塩化ブチル、塩化
アリル、塩化ベンジル、臭化メチル、臭化エチル、臭化
プロピル、臭化ブチル、臭化イソブチル、臭化イソプロ
ピル、臭化ペンチル、臭化ベンジル、ブロモ酢酸メチ
ル、ブロモ酢酸エチル、ブロモ酢酸t−ブチル、ブロモ
酢酸ベンジル、ヨード酢酸エチル、沃化メチル、沃化エ
チル、沃化ペンチル、沃化アリル、沃化イソブチル、沃
化イソプロピル、沃化イソペンチル、沃化シクロヘキシ
ル、沃化ブチル、沃化プロピル、沃化ヘプチル、メトキ
シメチルクロリド、ベンジルオキシメチルクロリド等が
挙げられ、スルホン酸エステルとしては、メタンスルホ
ン酸アルキルエステル、クロロメタンスルホン酸アルキ
ルエステル、p−トルエンスルホン酸アルキルエステ
ル、トリフルオロメタンスルホン酸アルキルエステル、
ノナフルオロブタンスルホン酸アルキルエステル、硫酸
ジアルキル(該アルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチ
ル基、アリル基、ベンジル基等が挙げられる)等が挙げ
られる。
化合物の量としては、特に制限されるものではないが、
あまり使用量が多いと経済的でなく、精製も困難となる
ため、通常、0.8〜3モル倍程度、好ましくは0.9
〜2モル倍程度である。
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジ
オキサン等のエーテル系溶媒や、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド等
の極性溶媒や、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素類や、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素溶媒や、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素溶媒が挙げ
られる。好ましくはテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、t−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、
ジオキサン等のエーテル系溶媒や、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド等
の極性溶媒が使用される。これらの溶媒は、単独で使用
しても2種類以上混合してもよい。
通常、系の凝固点より高い温度から還流温度の範囲、好
ましくは−10℃〜還流温度の範囲から選択することが
できる。
通常0.1〜60時間の範囲で充分目的を達することが
できる。
出、濃縮等の方法を行うことにより、目的物を得ること
ができ、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー、結
晶化等の方法により精製することもできる。
ン誘導体を工業的に有利に製造することができる。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
ム(60%含有)1.89gをテトラヒドロフラン2
3.76gに懸濁させ、氷冷した。この懸濁液に、2−
ニトロアニリン3.00gのテトラヒドロフラン溶液2
3.79gを1時間かけて滴下し、10分撹拌し、次い
で室温まで昇温して30分撹拌した。この混合物に無水
酢酸2.41gを室温で1時間かけて滴下し、2時間撹
拌した。反応混合物に水を加え、抽出、分液し、有機層
を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ目的
物の収率は84%であった。1 H-NMR (300MHz, CDCl3) : d 10.33 (1H, brs), 8.76
(1H, dd), 8.21 (1H, dd), 7.65 (1H, dt), 7.18 (1H,
dt), 2.30 (3H, s). ; 13C-NMR (75MHz, CDCl3): d 16
9.06, 136.34, 135.98, 134.87, 125.73, 123.23, 122.
19, 25.63.
ウム(60%含有)1.58gをテトラヒドロフラン1
9.80gに懸濁させ、氷冷した。この懸濁液に、2−
ニトロアニリン2.50gのテトラヒドロフラン溶液1
9.83gを1時間かけて滴下し、10分撹拌し、次い
で室温まで昇温して30分撹拌した。この混合物に安息
香酸クロリド2.77gを室温で0.5時間かけて滴下
し、2時間撹拌した。反応混合物を水に加えて分液し、
有機層を水酸化ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した。
得られた有機層を高速液体クロマトグラフィーにて分析
したところ目的物の収率は92%であった。1 H-NMR (300MHz, CDCl3) : d 11.36 (1H, brs), 9.01
(1H, dd), 8.28 (1H, dd), 8.10-7.96 (2H, m), 7.80-
7.67 (1H, m), 7.67-7.50 (3H, m), 7.31-7.15 (1H,
m). ; 13C-NMR (75MHz, CDCl3) : d 166.11, 136.83, 1
36.59, 135.74, 134.41, 133.03, 129.43, 127.75, 12
6.30, 123.69, 122.49.
ン」水素化ナトリウム(60%含有)1.89gをテト
ラヒドロフラン23.76gに懸濁させ、氷冷した。こ
の懸濁液に、2−ニトロアニリン3.00gのテトラヒ
ドロフラン溶液23.1gを1時間かけて滴下し、10
分撹拌し、次いで室温まで昇温して30分撹拌した。こ
の混合物にベンジルオキシカルボニルクロリドの33%
トルエン溶液11.12gを室温で1時間かけて滴下
し、2時間撹拌した。反応混合物に水に加え、トルエン
で抽出、分液し、有機層をさらに水で洗浄した。得られ
た有機層を高速液体クロマトグラフィーにて分析したと
ころ目的物の収率は90%であった。1 H-NMR (300MHz, CDCl3) : d 9.91(1H, brs), 8.57 (1
H, dd), 8.18 (1H, dd),7.66-7.59 (1H, m), 7.48-7.30
(5H, m), 5.24 (3H, s). ; 13C-NMR (75MHz, CDCl3) :
d 152.96, 136.10, 135.89, 135.49, 135.31, 128.67,
128.56, 128.43,125.88, 120.73, 67.62.
素化ナトリウム(60%含有)1.58gをテトラヒド
ロフラン19.8gに懸濁させ、氷冷した。この懸濁液
に、2−ニトロアニリン2.50gのテトラヒドロフラ
ン溶液19.8gを1時間かけて滴下し、10分撹拌
し、次いで室温まで昇温して30分撹拌した。この混合
物に無水酢酸2.01gを室温で1時間かけて滴下し、
2時間撹拌した。続いて、この混合物にジメチル硫酸
2.49gを室温で加え、1時間撹拌した。反応混合物
を水に加えて分液し、有機層を水酸化ナトリウム水溶
液、食塩水で洗浄した。得られた有機層を高速液体クロ
マトグラフィーにて分析したところ目的物の収率は78
%であった。1 H-NMR (300MHz, CDCl3) : d 8.00 (1H, dd), 7.70 (1
H, dd), 7.65 (1H, dt),7.62-7.53 (1H, m), 7.50-7.37
(1H, m), 3.22 (3H, s), 1.83(3H, s).
ム(60%含有)の仕込量を0.95g(ニトロアニリ
ン化合物に対して1.1モル倍)に変更した以外は実施
例1と同様の操作を行った。その結果、目的物の収率は
49%であった。
8)
を解決すべく鋭意研究を行った結果、収率良くN−置換
ニトロアニリン誘導体を合成できることを見いだし、本
発明に至った。すなわち、本発明は、一般式(1) (式中、Xは、同一または相異なり、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
フェニルアルキル基、(ハロゲン、アミノ、ニトロ、ア
ルキルで置換されていてもよい)ベンゾイル基、アルコ
キシカルボニル基、フェニルアルコキシ基、(ハロゲ
ン、アミノ、ニトロ、アルキルで置換されていてもよ
い)フェニル基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
ラルキルアシルアミノ基、アルキルチオ基、アラルキル
チオ基、アリールチオ基、ホルミル基、N,N−ジアル
キルアミノ基、置換されていてもよいアルケニル基、置
換されていてもよいアルキニル基または、ピペリジル基
を示し、nは0〜4の整数を示す。あるいは、ベンゼン
環とXn全体で、キノリン、フルオレン、ナフタレン環
を表わしてもよい。)で示されるニトロアニリン化合物
と一般式(2) (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6
〜15のアリール基、炭素数7〜15のアラルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基(ただし、t−ブトキシ基
を除く。)、炭素数6〜15のアリールオキシ基、また
は炭素数7〜15のアラルキルオキシ基を示す。)で示
される酸無水物または一般式(3) (式中、R1は前記と同じ意味を表わし、Yはハロゲン
原子を示す。)で示される酸ハロゲン化物とを、アルカ
リ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物の存在下に
反応させることを特徴とする一般式(4) (式中、X、nおよびR1は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法;および、得られた該誘導体と一般式(5) R2−Z (式中、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基、置換されていてもよいアルケニル基、または置換
されていてもよいアルキニル基を示し、Zはヒドロキシ
基、ハロゲン原子またはOSO2R3基(ここでR3はア
ルコキシ基、(ハロゲン原子で置換されていてもよい)
アルキル基、または(アルキル基もしくはハロゲン原子
で置換されていてもよい)アリール基を示す。)で示さ
れる化合物とを反応させることを特徴とする一般式
(6) (式中、R1、R2、Xおよびnは前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法を提供するものである。
Claims (6)
- 【請求項1】一般式(1) (式中、Xは、同一または相異なり、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
フェニルアルキル基、(ハロゲン、アミノ、ニトロ、ア
ルキルで置換されていてもよい)ベンゾイル基、アルコ
キシカルボニル基、フェニルアルコキシ基、(ハロゲ
ン、アミノ、ニトロ、アルキルで置換されていてもよ
い)フェニル基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
ラルキルアシルアミノ基、アルキルチオ基、アラルキル
チオ基、アリールチオ基、ホルミル基、N,N−ジアル
キルアミノ基、置換されていてもよいアルケニル基、置
換されていてもよいアルキニル基または、ピペリジル基
を示し、nは0〜4の整数を示す。あるいは、ベンゼン
環とXn全体で、キノリン、フルオレン、ナフタレン環
を表わしてもよい。)で示されるニトロアニリン化合物
と一般式(2) (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6
〜15のアリール基、炭素数7〜15のアラルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基(ただし、t−ブトキシ基
を除く。)、炭素数6〜15のアリールオキシ基、また
は炭素数7〜15のアラルキルオキシ基を示す。)で示
される酸無水物または一般式(3) (式中、R1は前記と同じ意味を表わし、Yはハロゲン
原子を示す。)で示される酸ハロゲン化物とを、アルカ
リ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物の存在下に
反応させることを特徴とする一般式(4) (式中、X、nおよびR1は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法。 - 【請求項2】一般式(1) (式中、Xは、同一または相異なり、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、
フェニルアルキル基、(ハロゲン、アミノ、ニトロ、ア
ルキルで置換されていてもよい)ベンゾイル基、アルコ
キシカルボニル基、フェニルアルコキシ基、(ハロゲ
ン、アミノ、ニトロ、アルキルで置換されていてもよ
い)フェニル基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
ラルキルアシルアミノ基、アルキルチオ基、アラルキル
チオ基、アリールチオ基、ホルミル基、N,N−ジアル
キルアミノ基、置換されていてもよいアルケニル基、置
換されていてもよいアルキニル基、またはピペリジル基
を示し、nは0〜4の整数を示す。あるいは、ベンゼン
環とXn全体で、キノリン、フルオレン、ナフタレン環
を表わしてもよい。)で示されるニトロアニリン化合物
と一般式(2) (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6
〜15のアリール基、炭素数7〜15のアラルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基(ただし、t−ブトキシ基
を除く。)、炭素数6〜15のアリールオキシ基、また
は炭素数7〜15のアラルキルオキシ基を示す。)で示
される酸無水物または一般式(3) (式中、R1は前記と同じ意味を示し、Yはハロゲン原
子を示す。)で示される酸ハロゲン化物とを、アルカリ
金属化合物またはアルカリ土類金属化合物の存在下に反
応させ一般式(4) (式中、X、nおよびR1は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体を得、
次いで該誘導体と一般式(5) R2−Z (式中、R2は水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基、置換されていてもよいアルケニル基、または置換
されていてもよいアルキニル基を示し、Zはヒドロキシ
基、ハロゲン原子またはOSO2R3基(ここでR3はア
ルコキシ基、(ハロゲン原子で置換されていてもよい)
アルキル基、または(アルキル基もしくはハロゲン原子
で置換されていてもよい)アリール基を示す。)で示さ
れる化合物とを反応させることを特徴とする一般式
(6) (式中、R1、R2、Xおよびnは前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるN−置換ニトロアニリン誘導体の製造
法。 - 【請求項3】アルカリまたはアルカリ土類金属化合物が
アルカリまたはアルカリ土類金属水素化物である請求項
1または2記載の製造法。 - 【請求項4】アルカリまたはアルカリ土類金属化合物の
使用量がニトロアニリン化合物に対し、1.6モル倍〜
5モル倍である請求項1、2または3記載の製造法。 - 【請求項5】アルカリまたはアルカリ土類金属化合物の
使用量がニトロアニリン化合物に対し、1.8モル倍〜
3モル倍である請求項1、2または3記載の製造法。 - 【請求項6】一般式(1)、(4)、(6)で示される
化合物において、ニトロ基がアミノ基のo−位またはp
−位に存在する化合物である請求項1〜5のいずれかに
記載の製造法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001166195A JP2002363149A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | N−置換ニトロアニリン誘導体の製造法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002363149A true JP2002363149A (ja) | 2002-12-18 |
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Country | Link |
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2001
- 2001-06-01 JP JP2001166195A patent/JP2002363149A/ja active Pending
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