JP2002363121A - 光学活性１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法 - Google Patents
光学活性１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法Info
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- JP2002363121A JP2002363121A JP2001252805A JP2001252805A JP2002363121A JP 2002363121 A JP2002363121 A JP 2002363121A JP 2001252805 A JP2001252805 A JP 2001252805A JP 2001252805 A JP2001252805 A JP 2001252805A JP 2002363121 A JP2002363121 A JP 2002363121A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/16—Preparation of ethers by reaction of esters of mineral or organic acids with hydroxy or O-metal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
- C07C309/64—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C309/65—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
- C07C309/66—Methanesulfonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/07—Optical isomers
Abstract
(57)【要約】
【課題】（Ｓ）−４−フェノキシフェニル ２−（２−
ピリジルオキシ）プロピル エーテルの重要な製造中間
体である（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−
２−プロパノールを高い光学純度で工業的に容易に製造
する新しい方法を提供することを課題とする。 【解決手段】一般式（１） （式中、Ｒ1はハロゲン原子、ニトロ基またはＣ１−Ｃ
４アルキル基を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ４アルキル基又は
置換されていてもよいフェニル基を表す。）で示される
エステル化合物と、４−フェノキシフェノールとを塩基
の存在下に反応させることにより（Ｓ）−１−（４−フ
ェノキシフェノキシ）−２−プロパノール製造する。
ピリジルオキシ）プロピル エーテルの重要な製造中間
体である（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−
２−プロパノールを高い光学純度で工業的に容易に製造
する新しい方法を提供することを課題とする。 【解決手段】一般式（１） （式中、Ｒ1はハロゲン原子、ニトロ基またはＣ１−Ｃ
４アルキル基を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ４アルキル基又は
置換されていてもよいフェニル基を表す。）で示される
エステル化合物と、４−フェノキシフェノールとを塩基
の存在下に反応させることにより（Ｓ）−１−（４−フ
ェノキシフェノキシ）−２−プロパノール製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学活性な１−（４
−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法
に関する。
−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法
に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】特開
昭６０−２１５６７１号公報において式（２）
昭６０−２１５６７１号公報において式（２）
【化２】 で示される（Ｓ）−４−フェノキシフェニル ２−（２
−ピリジルオキシ）プロピル エーテル（以下、Ｓ−ピ
リプロキシフェンと記す。）は高い有害生物防除効力を
有すること、及びＳ−ピリプロキシフェンは下式（３）
で示される（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）
−２−プロパノールから製造できることが記載されてい
る。
−ピリジルオキシ）プロピル エーテル（以下、Ｓ−ピ
リプロキシフェンと記す。）は高い有害生物防除効力を
有すること、及びＳ−ピリプロキシフェンは下式（３）
で示される（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）
−２−プロパノールから製造できることが記載されてい
る。
【化３】 さらに該公報には式（３）で示される（Ｓ）−１−（４
−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールを製造す
る方法として、（Ｓ）−乳酸エチルから製造する方法及
び（Ｓ）−プロピレンオキシドから製造する方法が記載
されている。本発明はＳ−ピリプロキシフェンの重要な
製造中間体である（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノ
キシ）−２−プロパノールを高い光学純度で工業的に容
易に製造する新しい方法を提供することを課題とする。
−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールを製造す
る方法として、（Ｓ）−乳酸エチルから製造する方法及
び（Ｓ）−プロピレンオキシドから製造する方法が記載
されている。本発明はＳ−ピリプロキシフェンの重要な
製造中間体である（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノ
キシ）−２−プロパノールを高い光学純度で工業的に容
易に製造する新しい方法を提供することを課題とする。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者は、高い光学純
度の（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−
プロパノールを工業的に容易に製造する方法を鋭意検討
した結果、一般式（１）
度の（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−
プロパノールを工業的に容易に製造する方法を鋭意検討
した結果、一般式（１）
【化４】 （式中、Ｒ1はハロゲン原子、ニトロ基またはＣ１−Ｃ
４アルキル基を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ４アルキル基又は
置換されていてもよいフェニル基を表す。）で示される
エステル化合物と４−フェノキシフェノールとを塩基の
存在下に反応させることにより光学純度が高い（Ｓ）−
１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノール
を容易に得ることができることを見出し本発明を完成し
た。
４アルキル基を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ４アルキル基又は
置換されていてもよいフェニル基を表す。）で示される
エステル化合物と４−フェノキシフェノールとを塩基の
存在下に反応させることにより光学純度が高い（Ｓ）−
１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノール
を容易に得ることができることを見出し本発明を完成し
た。
【０００４】即ち、本発明は一般式（１）で示されるエ
ステル化合物と、４−フェノキシフェノールとを塩基の
存在下に反応させることを特徴とする（Ｓ）−１−（４
−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノール製造法
（以下、本発明製造法と記す。）を提供する。
ステル化合物と、４−フェノキシフェノールとを塩基の
存在下に反応させることを特徴とする（Ｓ）−１−（４
−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノール製造法
（以下、本発明製造法と記す。）を提供する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明において置換されていても
よいフェニル基としては、例えばＣ１−Ｃ４アルキル基
で置換されていてもよいフェニル基が挙げられる。本発
明製造法に用いられる一般式（１）で示される化合物と
しては、例えば、一般式（１）においてＲ1がニトロ基
である化合物、一般式（１）においてＲ1がメチル基で
ある化合物、一般式（１）においてＲ1が塩素原子であ
る化合物、一般式（１）においてＲ1が臭素原子である
化合物、一般式（１）においてＲ2がメチル基である化
合物、一般式（１）においてＲ2がエチル基である化合
物、一般式（１）においてＲ2がフェニル基である化合
物、一般式（１）においてＲ2が４−メチルフェニル基
である化合物が挙げられる。その具体的な化合物として
は例えば（表１）に示される化合物が挙げられる。
よいフェニル基としては、例えばＣ１−Ｃ４アルキル基
で置換されていてもよいフェニル基が挙げられる。本発
明製造法に用いられる一般式（１）で示される化合物と
しては、例えば、一般式（１）においてＲ1がニトロ基
である化合物、一般式（１）においてＲ1がメチル基で
ある化合物、一般式（１）においてＲ1が塩素原子であ
る化合物、一般式（１）においてＲ1が臭素原子である
化合物、一般式（１）においてＲ2がメチル基である化
合物、一般式（１）においてＲ2がエチル基である化合
物、一般式（１）においてＲ2がフェニル基である化合
物、一般式（１）においてＲ2が４−メチルフェニル基
である化合物が挙げられる。その具体的な化合物として
は例えば（表１）に示される化合物が挙げられる。
【０００６】
【化５】 で示される化合物
【０００７】
【表１】
【０００８】本発明製造法に用いられる塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ
金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等のアルカリ金属炭酸塩、カリウム−ｔ−ブト
キシド、カリウム−ｔ−アミロキシド等のアルカリ金属
アルコキシドが挙げられる。
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ
金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム
等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等のアルカリ金属炭酸塩、カリウム−ｔ−ブト
キシド、カリウム−ｔ−アミロキシド等のアルカリ金属
アルコキシドが挙げられる。
【０００９】本発明製造法において一般式（１）で示さ
れる化合物、４−フェノキシフェノール及び塩基の量の
割合は、一般式（１）で示されるエステル化合物１モル
に対して、４−フェノキシフェノールが通常１〜３モル
の割合、塩基が通常２〜５モルの割合である。
れる化合物、４−フェノキシフェノール及び塩基の量の
割合は、一般式（１）で示されるエステル化合物１モル
に対して、４−フェノキシフェノールが通常１〜３モル
の割合、塩基が通常２〜５モルの割合である。
【００１０】本発明製造法は一般式（１）で示されるエ
ステル化合物と４−フェノキシフェノールとを塩基の存
在下に反応させることを特徴とする。該反応は通常、メ
タノール、エタノール、プロパノール等のアルコール
類、水及びこれらの混合溶媒中で行われるか、又は、水
と非水溶性有機溶媒（例えばトルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類）との２相系中で行われる。反応温度
は、通常−２０〜６０℃の範囲である。反応時間は、通
常０．１〜１００時間の範囲である。
ステル化合物と４−フェノキシフェノールとを塩基の存
在下に反応させることを特徴とする。該反応は通常、メ
タノール、エタノール、プロパノール等のアルコール
類、水及びこれらの混合溶媒中で行われるか、又は、水
と非水溶性有機溶媒（例えばトルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類）との２相系中で行われる。反応温度
は、通常−２０〜６０℃の範囲である。反応時間は、通
常０．１〜１００時間の範囲である。
【００１１】また、該反応には相間移動触媒を共存させ
ることもできる。反応に用いることができる相間移動触
媒としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロミ
ド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロ
ミド等のホスホニウム塩、１８−クラウン−６等のクラ
ウンエーテル及びトリス（３，６−ジオキサヘプチル）
アミンが挙げられる。反応に相間移動触媒を用いる場
合、その量は一般式（１）で示される化合物１モルに対
して通常０．０１〜０．１モルの割合である。該反応を
水と非水溶性有機溶媒との２相系中で行う場合には、相
間移動触媒を共存させることが好ましい。
ることもできる。反応に用いることができる相間移動触
媒としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロミ
ド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロ
ミド等のホスホニウム塩、１８−クラウン−６等のクラ
ウンエーテル及びトリス（３，６−ジオキサヘプチル）
アミンが挙げられる。反応に相間移動触媒を用いる場
合、その量は一般式（１）で示される化合物１モルに対
して通常０．０１〜０．１モルの割合である。該反応を
水と非水溶性有機溶媒との２相系中で行う場合には、相
間移動触媒を共存させることが好ましい。
【００１２】該反応は、例えば薄層クロマトグラフィ
ー、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー
等により一般式（１）で示される化合物の消失を確認す
ることにより終点を決定することができる。反応後は例
えば反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出、乾燥、濃
縮等の後処理操作を行い、必要に応じてカラムクロマト
グラフィー、蒸留等の操作に付すことにより、目的とす
る（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プ
ロパノールを単離することができる。
ー、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー
等により一般式（１）で示される化合物の消失を確認す
ることにより終点を決定することができる。反応後は例
えば反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出、乾燥、濃
縮等の後処理操作を行い、必要に応じてカラムクロマト
グラフィー、蒸留等の操作に付すことにより、目的とす
る（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プ
ロパノールを単離することができる。
【００１３】Ｓ−ピリプロキシフェンは、上記の（Ｓ）
−１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノー
ルと２−フルオロピリジン又は２−クロロピリジンとを
反応させることにより製造することができる。該反応
は、通常溶媒中、塩基の存在下に行われる。反応に用い
られる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。反応に
用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の
アルカリ金属水素化物及び水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。反応に
用いられる試剤の量は（Ｓ）−１−（４−フェノキシフ
ェノキシ）−２−プロパノール １モルに対して、塩基
は通常１〜２モルの範囲、２−フルオロピリジン又は２
−クロロピリジンは通常１〜３モルの範囲である。反応
温度は通常−２０〜６０℃の範囲であり、反応時間は通
常１〜１００時間の範囲である。反応後は例えば反応混
合物を水に注加し、有機溶媒抽出、乾燥、濃縮等の後処
理操作を行い、必要に応じてカラムクロマトグラフィ
ー、再結晶等の操作に付することによりＳ−ピリプロキ
シフェンを単離することができる。
−１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノー
ルと２−フルオロピリジン又は２−クロロピリジンとを
反応させることにより製造することができる。該反応
は、通常溶媒中、塩基の存在下に行われる。反応に用い
られる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂
肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
の酸アミド類及びこれらの混合物が挙げられる。反応に
用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の
アルカリ金属水素化物及び水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。反応に
用いられる試剤の量は（Ｓ）−１−（４−フェノキシフ
ェノキシ）−２−プロパノール １モルに対して、塩基
は通常１〜２モルの範囲、２−フルオロピリジン又は２
−クロロピリジンは通常１〜３モルの範囲である。反応
温度は通常−２０〜６０℃の範囲であり、反応時間は通
常１〜１００時間の範囲である。反応後は例えば反応混
合物を水に注加し、有機溶媒抽出、乾燥、濃縮等の後処
理操作を行い、必要に応じてカラムクロマトグラフィ
ー、再結晶等の操作に付することによりＳ−ピリプロキ
シフェンを単離することができる。
【００１４】また、本発明製造法に用いられる一般式
（１）で示される化合物は、一般式（４）
（１）で示される化合物は、一般式（４）
【化６】 （式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。）で示されるエ
ステル化合物と式（５） Ｒ2ＳＯ2Ｃｌ （５） （式中、Ｒ2は前記と同じ意味を表す。）で示されるス
ルホニルクロリド化合物とを反応させることにより製造
することができる。該反応は通常溶媒中、塩基の存在下
に行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、メチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類及び
これらの混合物が挙げられる。反応に用いられる塩基と
しては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の
有機塩基が挙げられる。反応に用いられる試剤の量は一
般式（４）で示されるエステル化合物１モルに対して、
塩基は通常１〜５モルの範囲、一般式（５）で示される
スルホニルクロリド化合物は通常１〜３モルの範囲であ
る。反応温度は通常−２０〜６０℃の範囲であり、反応
時間は通常１〜１００時間の範囲である。反応後は例え
ば反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出、乾燥、濃縮
等の後処理操作を行い、必要に応じてカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶等の操作に付することにより一般式
（１）で示される化合物を単離することができる。
ステル化合物と式（５） Ｒ2ＳＯ2Ｃｌ （５） （式中、Ｒ2は前記と同じ意味を表す。）で示されるス
ルホニルクロリド化合物とを反応させることにより製造
することができる。該反応は通常溶媒中、塩基の存在下
に行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、メチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類及び
これらの混合物が挙げられる。反応に用いられる塩基と
しては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の
有機塩基が挙げられる。反応に用いられる試剤の量は一
般式（４）で示されるエステル化合物１モルに対して、
塩基は通常１〜５モルの範囲、一般式（５）で示される
スルホニルクロリド化合物は通常１〜３モルの範囲であ
る。反応温度は通常−２０〜６０℃の範囲であり、反応
時間は通常１〜１００時間の範囲である。反応後は例え
ば反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出、乾燥、濃縮
等の後処理操作を行い、必要に応じてカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶等の操作に付することにより一般式
（１）で示される化合物を単離することができる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例及び参考例を挙げて本発明を詳
しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定される
ものではない。なお、実施例中の化合物番号は上記（表
１）に記載の番号を示す。
しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定される
ものではない。なお、実施例中の化合物番号は上記（表
１）に記載の番号を示す。
【００１６】実施例１ トルエン１０ｍｌに（Ｒ）−１−（４−ニトロベンゾイ
ルオキシ）プロピル＝２−メタンスルホネート（化合物
１）１．００ｇ、４−フェノキシフェノール０．９２
ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０３４ｇ及
び水酸化ナトリウム０．３９６ｇを水２．２ｇに溶解し
た水溶液を加え、２５℃で７２時間攪拌した。その後、
反応液に酢酸エチル２０ｍｌ、水２０ｍｌを加え分液し
た。有機層を飽和食塩水２０ｍｌで洗浄、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル＝４／１）に付して、（Ｓ）−１−
（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノール０．
４２８ｇを得た。 無色結晶1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．
２８（３Ｈ，ｄ）、３．７７（１Ｈ，ｄｄ），３．９１
（１Ｈ，ｄｄ）、４．２（１Ｈ，ｍ）、６．８〜７．４
（９Ｈ，ｍ） 光学純度９８．９％ｅ．ｅ．
ルオキシ）プロピル＝２−メタンスルホネート（化合物
１）１．００ｇ、４−フェノキシフェノール０．９２
ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．０３４ｇ及
び水酸化ナトリウム０．３９６ｇを水２．２ｇに溶解し
た水溶液を加え、２５℃で７２時間攪拌した。その後、
反応液に酢酸エチル２０ｍｌ、水２０ｍｌを加え分液し
た。有機層を飽和食塩水２０ｍｌで洗浄、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘ
キサン／酢酸エチル＝４／１）に付して、（Ｓ）−１−
（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノール０．
４２８ｇを得た。 無色結晶1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．
２８（３Ｈ，ｄ）、３．７７（１Ｈ，ｄｄ），３．９１
（１Ｈ，ｄｄ）、４．２（１Ｈ，ｍ）、６．８〜７．４
（９Ｈ，ｍ） 光学純度９８．９％ｅ．ｅ．
【００１７】（光学純度測定法） 高速液体クロマトグラフィー カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ（ダイセル化学工業
株式会社製） カラム温度：４０℃ 検出器：紫外分光光度計（２５４ｎｍ） 移動層：ヘキサン／２−プロパノール＝９８／２ 流量：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
株式会社製） カラム温度：４０℃ 検出器：紫外分光光度計（２５４ｎｍ） 移動層：ヘキサン／２−プロパノール＝９８／２ 流量：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
【００１８】実施例２ メタノール７ｍｌに（Ｒ）−１−（４−ニトロベンゾイ
ルオキシ）プロピル＝２−メタンスルホネート（化合物
１）０．９９７ｇ、４−フェノキシフェノール１．２３
ｇ及び水酸化ナトリウム０．４１ｇを水０．５ｇに溶解
した水溶液を加え、２５℃で７２時間、さらに５５℃で
５時間攪拌した。その後、反応液に酢酸エチル３０ｍｌ
を加え、水２０ｍｌと分液した。有機層を飽和食塩水２
０ｍｌで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）に
付して、（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−
２−プロパノール０．５７６ｇを得た。 光学純度 ９９．４％ｅ．ｅ．
ルオキシ）プロピル＝２−メタンスルホネート（化合物
１）０．９９７ｇ、４−フェノキシフェノール１．２３
ｇ及び水酸化ナトリウム０．４１ｇを水０．５ｇに溶解
した水溶液を加え、２５℃で７２時間、さらに５５℃で
５時間攪拌した。その後、反応液に酢酸エチル３０ｍｌ
を加え、水２０ｍｌと分液した。有機層を飽和食塩水２
０ｍｌで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）に
付して、（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェノキシ）−
２−プロパノール０．５７６ｇを得た。 光学純度 ９９．４％ｅ．ｅ．
【００１９】次に、本発明製造法に用いる一般式（１）
で示される化合物のあるものの製造法を参考製造例に示
す。
で示される化合物のあるものの製造法を参考製造例に示
す。
【００２０】参考製造例１ トルエン１ｍｌに式（４）
【化７】 で示される（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピル＝４−ニト
ロベンゾエート２．１４ｇ、ピリジン２．６０ｇを加
え、氷冷下メタンスルホニルクロリド１．３ｇを滴下し
た。０℃で２４時間放置した後、反応液を氷水２０ｍｌ
に注加し、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層
を合わせて水、５％塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
濃縮した。得られた結晶を酢酸エチル−ヘキサン（１：
５）から再結晶して（Ｒ）−１−（４−ニトロベンゾイ
ルオキシ）プロピル＝２−メタンスルホネート（化合物
１）２．６４ｇを得た。 融点：８９．５℃ ［α］D −２２．０°（ｃ ２．０５，クロロホル
ム）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．
５２（３Ｈ，ｄ）、３．０５（３Ｈ，ｓ）、４．４０
（１Ｈ，ｄｄ）、４．５３（１Ｈ，ｄｄ）、５．１８
（１Ｈ，ｍ）、８．２〜８．４（４Ｈ，ｍ）
ロベンゾエート２．１４ｇ、ピリジン２．６０ｇを加
え、氷冷下メタンスルホニルクロリド１．３ｇを滴下し
た。０℃で２４時間放置した後、反応液を氷水２０ｍｌ
に注加し、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層
を合わせて水、５％塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
濃縮した。得られた結晶を酢酸エチル−ヘキサン（１：
５）から再結晶して（Ｒ）−１−（４−ニトロベンゾイ
ルオキシ）プロピル＝２−メタンスルホネート（化合物
１）２．６４ｇを得た。 融点：８９．５℃ ［α］D −２２．０°（ｃ ２．０５，クロロホル
ム）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．
５２（３Ｈ，ｄ）、３．０５（３Ｈ，ｓ）、４．４０
（１Ｈ，ｄｄ）、４．５３（１Ｈ，ｄｄ）、５．１８
（１Ｈ，ｍ）、８．２〜８．４（４Ｈ，ｍ）
【００２１】さらに、（Ｓ）−１−（４−フェノキシフ
ェノキシ）−２−プロパノールからＳ−ピリプロキシフ
ェンを製造する方法について参考製造例に示す。
ェノキシ）−２−プロパノールからＳ−ピリプロキシフ
ェンを製造する方法について参考製造例に示す。
【００２２】参考製造例２ テトラヒドロフラン２ｍｌに水素化ナトリウム（６０％
油性）を懸濁し、０℃で（Ｓ）−１−（４−フェノキシ
フェノキシ）−２−プロパノール０．２８２ｇのテトラ
ヒドロフラン１ｍｌを少しずつ加えた。その後、同温で
１時間攪拌し、２−フルオロピリジン０．１４６ｇを加
え、さらに０℃で１時間、次いで２５℃で２４時間攪拌
した。その後、反応混合物を氷水１０ｍｌに注加し、酢
酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせて
水、５％塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝４／１）に付して、（Ｓ）−４−フ
ェノキシフェニル ２−（２−ピリジルオキシ）プロピ
ル エーテル０．１７７ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．
４８（３Ｈ，ｄ），４．０７（１Ｈ，ｄｄ），４．１９
（１Ｈ，ｄｄ），５．５８（１Ｈ，ｍ），６．７２〜
８．１６（１３Ｈ）
油性）を懸濁し、０℃で（Ｓ）−１−（４−フェノキシ
フェノキシ）−２−プロパノール０．２８２ｇのテトラ
ヒドロフラン１ｍｌを少しずつ加えた。その後、同温で
１時間攪拌し、２−フルオロピリジン０．１４６ｇを加
え、さらに０℃で１時間、次いで２５℃で２４時間攪拌
した。その後、反応混合物を氷水１０ｍｌに注加し、酢
酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせて
水、５％塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキ
サン／酢酸エチル＝４／１）に付して、（Ｓ）−４−フ
ェノキシフェニル ２−（２−ピリジルオキシ）プロピ
ル エーテル０．１７７ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．
４８（３Ｈ，ｄ），４．０７（１Ｈ，ｄｄ），４．１９
（１Ｈ，ｄｄ），５．５８（１Ｈ，ｍ），６．７２〜
８．１６（１３Ｈ）
【００２３】
【発明の効果】本発明により、Ｓ−ピリプロキシフェン
の重要中間体である（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェ
ノキシ）−２−プロパノールを高い光学純度で容易に得
ることができる。
の重要中間体である（Ｓ）−１−（４−フェノキシフェ
ノキシ）−２−プロパノールを高い光学純度で容易に得
ることができる。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1はハロゲン原子、ニトロ基またはＣ１−Ｃ
４アルキル基を表し、Ｒ2はＣ１−Ｃ４アルキル基又は
置換されていてもよいフェニル基を表す。）で示される
エステル化合物と、４−フェノキシフェノールとを塩基
の存在下に反応させることを特徴とする（Ｓ）−１−
（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製
造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001252805A JP2002363121A (ja) | 2001-04-06 | 2001-08-23 | 光学活性１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法 |
| PCT/JP2002/002531 WO2002083612A1 (fr) | 2001-04-06 | 2002-03-18 | Procede pour produire du (s)-1-(4-phenoxyphenoxy)-2-propanol |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001108249 | 2001-04-06 | ||
| JP2001-108249 | 2001-04-06 | ||
| JP2001252805A JP2002363121A (ja) | 2001-04-06 | 2001-08-23 | 光学活性１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002363121A true JP2002363121A (ja) | 2002-12-18 |
Family
ID=26613203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001252805A Pending JP2002363121A (ja) | 2001-04-06 | 2001-08-23 | 光学活性１−（４−フェノキシフェノキシ）−２−プロパノールの製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002363121A (ja) |
| WO (1) | WO2002083612A1 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5731671A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-20 | Iwaki Seiyaku Kk | Preparation of homopiperazine derivative |
| JPS59199673A (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 含窒素複素環化合物、その製造法およびそれを有効成分とする有害生物防除剤 |
-
2001
- 2001-08-23 JP JP2001252805A patent/JP2002363121A/ja active Pending
-
2002
- 2002-03-18 WO PCT/JP2002/002531 patent/WO2002083612A1/ja active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2002083612A1 (fr) | 2002-10-24 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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