JP2002361598A - 光学システムにおけるモジュールの位置のダイナミックな操作方法 - Google Patents

光学システムにおけるモジュールの位置のダイナミックな操作方法

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JP2002361598A JP2001351023A JP2001351023A JP2002361598A JP 2002361598 A JP2002361598 A JP 2002361598A JP 2001351023 A JP2001351023 A JP 2001351023A JP 2001351023 A JP2001351023 A JP 2001351023A JP 2002361598 A JP2002361598 A JP 2002361598A
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    • G—PHYSICS
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の方法は、光学システム内のモジュー
ルまたは部品のダイナミックな操作および調節方法を提
供する。 【解決手段】 モジュールまたは部品例えばレンズは相
対的経路変移を決定する検出器を有する少なくとも２つ
のアクチュエータにより変移され、部品の位置は少なく
とも２つのセンサにより決定され、アクチュエータとセ
ンサは制御ループにより通信する。機械的インパルスが
アクチュエータにより部品に与えられ、そのタイミング
は意図的に変化される。アクチュエータの移動は部品の
設定位置（Ｓsetpoint）に関する決定された位置（Ｓn
actual）の関数として指令された時間的に変化する速度
プロファイルにより実行され、その後にその位置（Ｓn
actu al）が再決定される。これらのステップは部品2 が
所望の位置（Ｓsetpoint）に到達するまで繰り返され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はサブμｍ領域の光学
システムにおいて、モジュールまたは部品のダイナミッ
クな操作および調節方法に関する。とくに本発明は、半
導体の製造のためのサブμｍ領域のマイクロリソグラフ
投影、露光対物レンズにおけるモジュールまたは部品の
ダイナミックな操作および調節方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】サブμｍ領域の光学システムのモジュー
ルまたは部品を調節するために、従来は極めて精巧な調
節プロセスのみしか知られておらず、このプロセスは熟
練した技術者により“手動で”行われる必要がある。こ
のような目的を達成するためにたとえばスクリューまた
はウォーム駆動装置等により対応したステップアップま
たはステップダウン伝導が行われる制御素子が使用され
る。
【０００３】当業者はまた振動またはインパルスにより
部品の非常に微細な再調節が可能であり、その振動また
はインパルスは、たとえば小型ハンマーによって対応し
た部品に与えられることができることを認識している。
【０００４】ドイツ国特許第 42 36 795 C1 号明細書に
は、機械的部品を調節するための対応した装置が記載さ
れている。調節を必要とする部品は、上述のハンマーに
匹敵する方法で調節されるように部品の取付け台に対し
てストライカー（striker ）ピンによってインパルスを
与える機械的パルス発生器を使用して変移させられ、こ
の明細書に示された特定のケースはミラート関連したも
のである。
【０００５】上記の文献に記載されているこの機構は摩
擦ロックによって部品を保持することを意図されたもの
であり、部品をそれらのクランプに対してシフトするこ
とを可能にするために対応的に強い力を必要とするの
で、それもまた比較的面倒である。
【０００６】この方法において、また光学システム中で
振動が発生し、隣接した領域における部品の調節がずれ
やすくなる。
【０００７】少なくともインパルスの印加された時点
で、振動により所望される映像の光学品質が確保できな
いという事実は、上述した文献に記載されている装置の
別の欠点とみなされなければならないことは明らかであ
る。したがって、この装置は、ダイナミックな操作、す
なわち、光学システムの動作中に通常使用される再設定
に適しない。
【０００８】しかしながら、本質的にサブμｍ領域では
部品の連続的な移動によって可能な操作または調節もな
されない。それは、この場合回避できない機械的な粗さ
（ラフネス）と不正確さによる影響が生じ、その結果、
深刻な問題を生じ、部品の不所望の位置変化が発生する
ためである。例えば、本発明者の経験によると、比例お
よび、または積分および、または微分制御方式により動
作する従来技術の全ての制御方法では、数ナノメ−トル
の精密な範囲で部品の配置することにおいて満足のいく
結果が得られなかった。これは恐らく、例えば微細な粗
さで反映される前述の機械的不正確度と、非常に不均一
なスリップ−スティック効果と、機械的部品の僅かな偏
差、例えば固体状態の接合部等の硬直性によるものであ
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、特に対応する部品をダイナミックに操作し調整する
ことができ、非常に僅かな数の方法ステップによって、
サブμｍ領域内の対応部品を非常に正確な位置に変移さ
せることができる方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の１特徴によれ
ば、この目的は、サブμｍ領域の光学システム内のモジ
ュールまたは部品をダイナミックに操作する方法によっ
て達成され、この方法においては、前記モジュールまた
は部品は少なくとも２つのアクチュエータによって変移
され、それらのアクチュエータは少なくともそれらの相
対的経路変移を決定するための検出器を有し、モジュー
ルまたは部品の位置は少なくとも２つのセンサにより決
定され、検出器を有するアクチュエータとセンサは制御
ループ方式によって互いに通信し、アクチュエータによ
って少なくとも１つの機械的インパルスが前記モジュー
ルまたは部品に印加される。この時、インパルスのタイ
ミングは意図的に変化されることができ、このような目
的のためにアクチュエータの変移がモジュールまたは部
品の設定位置（Ｓsetpoint）に対る決定位置（Ｓn ac
tual）の関数として指令された時間的に変化する速度プ
ロファイルによって行われ、モジュールまたは部品の前
記位置（Ｓn actual）は速度プロファイルが行われた後
に再決定され、前記方法のステップは前記モジュールま
たは部品の所望の位置（Ｓsetpoint）に到達するまで繰
り返される。
【００１１】この脈絡において、本発明者は驚くべき予
期しなかったことを発見したが、それはアクチュエータ
が速度プロファイルを行い、その後決定された実際の位
置に基づいて設定点と実際との差を整合させる追加的な
速度プロファイルをさらに実行する２つの連続的に構成
された方法ステップによって、非常に迅速に、すなわち
これらのステップを単に数回繰り返すだけで部品を非常
に迅速に位置付けることが可能であることである。
【００１２】３乃至最大５のステップで配置を完了でき
ることがテストで示され、本発明は極めて迅速に、ダイ
ナミックな操作、即ち光学システムの動作中にマイクロ
リソグラフ投影露光対物レンズのモジュールまたは部品
の再調節に適合するる特別なメリットを提供する。
【００１３】通常の制御方法（ＰＩＤ制御装置）に対し
て従来技術の説明で述べた問題と比較して、本発明によ
る方法は光学素子をさらに迅速および良好に高い信頼性
で操作することを可能にする。
【００１４】サブμｍ領域のマイクロリソグラフ投影露
光対物レンズの既知の問題点、すなわち微細なラフネ
ス、例えば固体ジョイントのスチフネスなどのような機
械部品のスリップ−スティック効果および微細な偏差等
による問題点は、部品またはモジュールが所望するマイ
クロリソグラフ投影露光対物レンズの設定点に対する実
際のマイクロリソグラフ投影露光対物レンズの反覆的な
近似化が可能になる本発明にかかる方法によって特定の
適切な方式により補償できる。
【００１５】前述したエラーにより決して正確に実現さ
れることができなかった特定された設定点値と実際値と
の間の少なくとも概略的な関係は線形形態である必要が
あることが基本的に指摘されなければならない。前述し
た線形関数によって少なくとも極めて粗く近似化される
ことができるけれども、この関係の実際の関数は非常に
“ワイルド”であり、不安定な曲線である。しかし、可
変速度プロファイルによって到達され、それによってア
クチュエータが駆動される実現される位置付けステップ
が十分にラフなものであるならば、値はこの特定の勾配
に沿って指向し、それによって不安定な設定点／実際の
関数曲線上において実際に達成される個別的なポイント
が反復方式によって所望の設定点の値に近接するように
なる。
【００１６】前述の方法の特に好ましい実施形態では、
この場合、速度プロファイルがそれぞれ初期速度から増
加する少なくとも１つの速度勾配と、最終速度まで下降
する少なくとも１つの速度勾配を有することが非常に好
ましく、その速度勾配の傾斜は移動する、一般的に各ス
テップごとに次第に小さくなる経路セクションにしたが
って整合されることが好ましい。非常に大きい経路セク
ションにおける速度勾配は比較的緩やか増加し、その後
はより平坦な、または選択的に一定速度になり、それに
続き下降する速度勾配を経て対応する最終速度に到達す
る。非常に小さい位置付けステップしか必要とされない
ならば、非常に急峻に立ち上がる速度勾配と、その直後
に再度非常に急峻に下降する速度勾配によりアクチュエ
ータに対応して非常に小さい変移だけを与えるような小
さいインパルスが与えられることが可能である。
【００１７】この場合、速度変化は急速であるにもかか
わらず、勾配は非常に穏やかな速度変化を与え、比較的
振動のない方法で実行されることができる。
【００１８】初期速度と最終速度の値は、特に好ましい
方法の実施形態にしたがってこの場合、両者ともゼロで
あり、それによって急峻なインパルスと比較して非常に
穏やかなアクチュエータおよび部品の調節が実現され
る。
【００１９】前述の方法により、モジュールまたは部品
の実際の位置から所望の設定点マイクロリソグラフ投影
露光対物レンズへのダイナミックな操作に適した非常に
高速度の整合が可能であり、機械的な不正確度、スリッ
プ−スティック効果、微細な粗さ、アクチュエータの対
応する誤差により生じるエラーは除去されて非常に好都
合であることが認められた。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明のさらに有効な構成は、特
許請求の範囲および図面を参照する以下与えられた例示
的な実施形態において認められることができる。図１
は、ここではレンズ2 である操作される示されたモジュ
ール2 を有する半導体の製造におけるマイクロリソグラ
フ投影露光対物レンズ１を有する光学システムの概略図
を示している。この場合、レンズ2 の操作は、２つのア
クチュエータ3 、4 により実行されることを意図してお
り、アクチュエータは例えば電気的に駆動された設計で
あってもよい。
【００２１】２つのアクチュエータ3 、4 の各々はイン
クリメント検出器として設計された検出器5 を有する
が、この検出器は発生した変移に関する情報、またはア
クチュエータ3 、4 の少なくとも相対的な変移に関する
情報を出力し、その情報を対応する制御ライン6 を介し
てそれぞれの増幅器素子7 またはモータ調節装置8 へ伝
送する。対応する接続素子を介して、モータ調節装置は
またアクチュエータ3 、4 の動作に必要な電力Ｐelをシ
ステムに与え、例えばバスシステム9 等のさらに別のラ
イン9 によってデータ処理ユニット10に接続されてい
る。このデータ処理ユニット10はさらに外部部品11に接
続されることができ、これはそれ自体は知られており、
それによってその設定点値が特定されることができる。
【００２２】前述したこの操作チェーン12に加えて、機
構は獲得チェーン13を有し、これも同様にバスシステ
ム、恐らく同一のバスシステム9 を通してデータ処理ユ
ニット10へ接続されている。この獲得チェーン13は基本
的に、２つの異なる空間方向でレンズ2 の位置を記録す
るように設計されている２つのセンサ14、15と、さらに
例えば増幅器16、復調装置等の機能電子部品からなる。
【００２３】前述した本発明の方法によると、アクチュ
エータ3 、4 は異なる空間方向でレンズ2 を変移するこ
とができ、その端部には例えばレバー構造等として設計
されている機械的伝達素子17、18（概略的に図示）が存
在してもよい。レンズ2 の位置が対応してアクチュエー
タ3 、4 により操作された後、レンズ2 の正確な位置は
２つのセンサ14、15により記録され、データ処理ユニッ
ト10へ通知される。所望の設定点位置がまだセンサ14、
15により測定された実際の位置と同じでないならば、デ
ータ処理ユニット10はアクチュエータ3 、4 によりさら
にレンズ2 の変移を開始し、これらの方法のステップは
少なくとも許容可能な誤差の範囲内で所望の設定点位置
が得られるまで繰返される。
【００２４】図２は、レンズ2 が操作される場合にアク
チュエータ3 または4 により行われる速度プロファイル
19のグラフを示している。この場合に、電気的に駆動さ
れたアクチュエータ3 または4 によって、このような速
度プロファイル19は例えばアクチュエータに印加される
対応する電圧プロファイルによって特定されることがで
きる。例えば流体アクチュエータのような他のタイプの
アクチュエータの場合に、対応する圧力プロファイルが
生成されてアクチュエータへ与えられる必要がある。原
理的に、このような速度プロファイル19がアクチュエー
タ3 、4 によって行われる限り、これは本発明の方法に
おいては重要なことではない。
【００２５】図２に示されている速度／時間曲線図の例
を参照にしながら、例示として選択された幾つかのこの
ような速度プロファイル19を説明する。
【００２６】第１の速度プロファイル20は、設定点と、
センサ14、15により決定された実際の位置との間に非常
に大きな差があるときに選択される。この場合速度プロ
ファイル20は初期速度（ここでは０）から増加する速度
勾配21と、操作される経路の大部分で処理されるほぼ一
定の速度22と、その後最終速度に低下する速度勾配23か
ら形成される。この特定の例示的な実施形態では、初期
速度と最終速度は両者とも０である。しかしながら、こ
れらは原理上、基本的にダイナミック操作の場合、以前
の操作によって到達された０ではない最終値または初期
値であってもよく、他方では非常に異なり、即ち例えば
非常に大きい初期速度と非常に小さい最終速度であって
もよい。
【００２７】第２の速度プロファイル24は、さらに急峻
な上昇勾配25と、その後すぐに下降する勾配26からな
る。このような速度プロファイル24は例えばレンズ2 が
アクチュエータ3 、4 により非常に小さい経路セクショ
ンを移動することを意図するときに適切なものである。
【００２８】図３は、選択された例を参照してさらに詳
細に所望の設定点位置を反覆的に近似する方法を示して
いる。この場合、必然的に考慮すべきことは、データ処
理ユニット10により特定される経路入力Ｓinと光学シス
テムで得られる経路出力Ｓou t との間に実際に存在する
関係は、少なくともここで操作される数ナノメ−タ程度
の大きさの範囲では決して線形ではなく、例示としてこ
こで示されている曲線27にしたがっており、この特別な
場合に対しても一定であると仮定される。
【００２９】しかしながら少なくとも非常におおまかに
は、この曲線27は直線の補償ライン28により近似される
ことができる。到達される設定点位置Ｓsetpointでは、
位置Ｓ1 がそれ故与えられ、経路セクションΔＳ1 によ
る第１の操作によってそれに直線の補償ライン28にした
がう。しかしながら、曲線27のために、この位置Ｓ1は
所望の位置Ｓsetpointに存在しないで、実際の位置Ｓ1
actualに到達される。獲得チェーン13により、センサ1
4、15は到達したその位置Ｓ1 が設定点位置Ｓse tpoint
に対応しないことを決定する。さらに速度プロファイル
19を使用して、アクチュエータ3 、4 はその後補正経路
ΔＳ2 を適用するが、これは本発明のケースではΔＳ1
よりも非常に小さく、点Ｓ1 から見たとき負のデザイン
である。
【００３０】位置Ｓ2 に到達後、レンズ2 の実際の位置
が現在位置Ｓ2 actualであることが確認される。この位
置Ｓ2 actualもまた所望の設定点位置Ｓsetpointと異な
り、データ処理ユニット10は経路セクションΔＳ3 によ
って位置Ｓ3 への再補正を行い、位置Ｓ3 は曲線27にし
たがって位置Ｓ3 actualに対応する。
【００３１】前述のステップはここで説明した例示的な
実施形態では設定点位置Ｓsetpointが位置Ｓ5 actualで
到達されるまで繰り返して行われる。
【００３２】図示されているように、少なくともほぼ線
形の関係に従っているＳinとＳoutとの間の相関性のた
めに、前記経路セクションΔＳ1 乃至ΔＳ5 のそれぞれ
は次第に小さくなり、それぞれのケースでそれらの符号
を変更する。このような繰り返しの近似により、調節の
目的とダイナミックな操作の両者において、図１で表さ
れている機構によってレンズ2 の所望の設定点位置Ｓ
setpointに非常に迅速に到達することができる。
【００３３】反覆ステップは本発明の方法が進行するに
つれて小さくなるので、その結果さらにこの方法の迅速
な実行を強化し、この方法は“自己学習”タイプの動作
を可能にする。
【００３４】さらに、データ処理ユニット10中の記憶装
置を使用して、行われている動作を記憶し、これにより
得られた値を使用してその後の動作のための初期値の選
択を最適にすることも可能である。このようにして、操
作または調節に関して、特にタイミング特性と実現され
る位置の正確性に関する改良をさらに得ることも可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法を実行する構成の概略平面図。
【図２】本発明の方法による速度プロファイルの例を示
した図。
【図３】選択された例に関する本発明の方法の可能な構
成を示した特性図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０５Ｄ 3/12 ３０４ Ｇ０５Ｄ 3/12 ３０４ ３０６ ３０６Ｒ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ａ ５１５Ｄ (72)発明者 カール−オイゲン・オーベレ ドイツ連邦共和国、デー−73312、ガイス リンゲン、リンデンラインシュトラーセ 241 Ｆターム(参考） 2H044 AC01 DA03 DB08 DC01 DE06 5F046 CB12 CB25 DA14 DA30 5H303 AA06 BB07 CC02 DD01 DD19 EE07 GG11 GG25 HH02 KK02 KK03 KK04 KK14 KK15 KK16 QQ06

Claims (36)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 サブμｍ領域の光学システム内のモジュ
    ールまたは部品をダイナミックに操作する方法におい
    て、 前記モジュールまたは部品は少なくとも２つのアクチュ
    エータによって変移され、それらのアクチュエータは少
    なくともそれらの相対的経路変移を決定する検出器を有
    し、前記モジュールまたは部品の位置は少なくとも２つ
    のセンサにより決定され、検出器を有する前記アクチュ
    エータと前記センサは制御ループ方式によって互いに通
    信し、前記アクチュエータによって前記モジュールまた
    は部品に少なくとも１つの機械的インパルスが印加さ
    れ、 前記インパルスのタイミングは意図的に変化されること
    ができ、このような目的のために前記アクチュエータの
    変移が前記モジュールまたは部品の設定位置（Ｓ
    setpoint）に対る決定位置（Ｓn actual）の関数として
    指令された時間的に変化する速度プロファイルによって
    行われ、前記モジュールまたは部品の前記位置（Ｓn
    actual）は前記速度プロファイルが行われた後に再決定
    され、 前記方法のステップは前記モジュールまたは部品の所望
    の位置（Ｓsetpoint）に到達するまで繰り返されるサブ
    μｍ領域の光学システム内のモジュールまたは部品のダ
    イナミックな操作方法。
  2. 【請求項２】 前記速度プロファイルは初期速度から増
    加する少なくとも１つの速度勾配および最終速度に下降
    する１つの速度勾配を有し、その勾配の傾斜は依然とし
    て移動されている経路セクションにしたがって変化され
    る請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記初期速度および最終速度は両者共に
    ゼロである請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記アクチュエータは電気モータを介し
    てそれぞれ動作され、速度プロファイルを生成するため
    に対応する電圧プロファイルがモータに供給される請求
    項１記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記モータの変移は、前記モータそれぞ
    れのインクリメント検出器としての個別的な少なくとも
    １つの検出器を介して制限される請求項４記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記センサは評価装置、増幅器等を介し
    て獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接続さ
    れ、前記検出器を有するアクチュエータは同様に評価装
    置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チェーン
    として電子データ処理ユニットに接続され、前記電子デ
    ータ処理ユニットによって前記工程が制御される請求項
    １記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記センサは評価装置、増幅器等を介し
    て獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接続さ
    れ、前記検出器を有するアクチュエータは同様に評価装
    置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チェーン
    として電子データ処理ユニットに接続され、前記電子デ
    ータ処理ユニットによって前記工程が調整される請求項
    １記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記データ処理ユニットは記憶装置を備
    え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置／実際
    の位置の関数としてその記憶装置に記憶され、この記憶
    データは後続する速度プロファイルに影響を与えるのに
    用いられる請求項６記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記データ処理ユニットは記憶装置を備
    え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置／実際
    の位置の関数としてその記憶装置に記憶され、この記憶
    データは後続する速度プロファイルに影響を与えるのに
    用いられる請求項７記載の方法。
  10. 【請求項１０】 サブμｍ領域の光学システム内のモジ
    ュールまたは部品を調整する方法において、 前記モジュールまたは部品は少なくとも２つのアクチュ
    エータによって変移され、前記少なくとも２つのアクチ
    ュエータは少なくともそれらの相対的経路変移を決定す
    る検出器を有し、前記モジュールまたは部品の位置は少
    なくとも２つのセンサによって決定され、検出器を有す
    る前記アクチュエータと前記センサは制御ループ方式に
    よって互いに通信し、前記アクチュエータによって前記
    モジュールまたは部品に少なくとも１つの機械的インパ
    ルスが印加され、 前記インパルスのタイミングは意図的に変化することが
    でき、このような目的のためにアクチュエータの変移が
    前記モジュールまたは部品の設定位置（Ｓsetp oint）に
    対する決定位置（Ｓn actual）の関数として指令された
    時間的に変化する速度プロファイルによって行われ、前
    記モジュールまたは部品の前記位置（Ｓ n actual）は前
    記速度プロファイルが行われた後に再決定され、 前記方法のステップは、前記モジュールまたは部品が所
    望の位置（Ｓsetpoint）に到達するまで繰り返されるサ
    ブμｍ領域の光学システム内のモジュールまたは部品の
    調整方法。
  11. 【請求項１１】 前記速度プロファイルは初期速度から
    増加する少なくとも１つの速度勾配および最終速度に下
    降する１つの速度勾配を有し、その勾配の傾斜は依然と
    して移動されている経路セクションによって変化される
    請求項１０記載の方法。
  12. 【請求項１２】 前記初期速度および最終速度は両者共
    にゼロである請求項１１記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記アクチュエータは電気モータを介
    してそれぞれ動作され、速度プロファイルを生成するた
    めに、対応する電圧プロファイルがモータに供給される
    請求項１０記載の方法。
  14. 【請求項１４】 前記モータの変移は、前記モータそれ
    ぞれのインクリメント検出器としての個別的な少なくと
    も１つの検出器を介して制限される請求項１３記載の方
    法。
  15. 【請求項１５】 前記センサは、評価装置、増幅器等を
    介して獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接
    続され、前記検出器を有するアクチュエータは、同様に
    評価装置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チ
    ェーンとして電子データ処理ユニットに接続され、前記
    電子データ処理ユニットによって前記工程が制御される
    請求項１０記載の方法。
  16. 【請求項１６】 前記センサは、評価装置、増幅器等を
    介して獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接
    続され、前記検出器を有するアクチュエータは、同様に
    評価装置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チ
    ェーンとして電子データ処理ユニットに接続され、前記
    電子データ処理ユニットによって前記工程が調整される
    請求項１０記載の方法。
  17. 【請求項１７】 前記電子データ処理ユニットは記憶装
    置を備え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置
    ／実際の位置の関数としてその記憶装置に記憶され、こ
    の記憶データは後続する速度プロファイルに影響を与え
    るのに用いられる請求項１５記載の方法。
  18. 【請求項１８】 前記データ処理ユニットは記憶装置を
    備え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置／実
    際の位置の関数としてその記憶装置に記憶され、この記
    憶データは後続する速度プロファイルに影響を与えるの
    に用いられる請求項１６記載の方法。
  19. 【請求項１９】 サブμｍ領域のマイクロリソグラフ投
    影露光対物レンズのモジュールまたは部品をダイナミッ
    クに操作する方法において、 前記モジュールまたは部品は少なくとも２つのアクチュ
    エータによって変移され、それらのアクチュエータは少
    なくともそれらの相対的経路変移を決定する検出器を有
    し、前記モジュールまたは部品の位置は少なくとも２つ
    のセンサによって決定され、検出器を有する前記アクチ
    ュエータと前記センサは制御ループ方式によって互いに
    通信し、前記アクチュエータによって前記モジュールま
    たは部品に少なくとも１つの機械的インパルスが印加さ
    れ、 前記インパルスのタイミングは意図的に変化されること
    ができ、このような目的のためにアクチュエータの変移
    が前記モジュールまたは部品の設定位置（Ｓse tpoint）
    に対する決定位置（Ｓn actual）の関数として指令され
    た時間的に変化する速度プロファイルによって行われ、
    前記モジュールまたは部品の前記位置（Ｓn actual）は
    前記速度プロファイルが行われた後で再決定され、 前記方法のステップは、前記モジュールまたは部品の所
    望の位置（Ｓsetpoint）に到達するまで繰り返されるサ
    ブμｍ領域のマイクロリソグラフ投影露光対物レンズの
    モジュールまたは部品のダイナミックな操作方法。
  20. 【請求項２０】 前記速度プロファイルは初期速度から
    増加する少なくとも１つの速度勾配および最終速度に下
    降する少なくとも１つの速度勾配を有し、その勾配の傾
    斜は依然として移動されている経路セクションにしたが
    って変化される請求項１９記載の方法。
  21. 【請求項２１】 前記初期速度および最終速度は両者共
    にゼロである請求項２０記載の方法。
  22. 【請求項２２】 前記アクチュエータは電気モータを介
    してそれぞれ動作され、速度プロファイルを生成するた
    めに対応する電圧プロファイルがモータに供給される請
    求項１９記載の方法。
  23. 【請求項２３】 前記モータの変移は、前記モータそれ
    ぞれのインクリメント検出器としての個別的な少なくと
    も１つの検出器により制限される請求項２２記載の方
    法。
  24. 【請求項２４】 前記センサは、評価装置、増幅器等を
    介して獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接
    続され、前記検出器を有するアクチュエータは同様に評
    価装置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チェ
    ーンとして電子データ処理ユニットに接続され、前記電
    子データ処理ユニットによって前記工程が手順が制御さ
    れる請求項１９記載の方法。
  25. 【請求項２５】 前記センサは、評価装置、増幅器等を
    介して獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接
    続され、前記検出器を有するアクチュエータは同様に評
    価装置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チェ
    ーンとして電子データ処理ユニットに接続され、前記電
    子データ処理ユニットによって前記工程が調整される請
    求項１９記載の方法。
  26. 【請求項２６】 前記電子データ処理ユニットは記憶装
    置を備え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置
    ／実際の位置の関数としてこの記憶装置に記憶され、こ
    の記憶データは後続する速度プロファイルに影響を与え
    るのに用いられる請求項２４記載の方法。
  27. 【請求項２７】 前記電子データ処理ユニットは記憶装
    置を備え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置
    ／実際の位置の関数としてこの記憶装置に記憶され、こ
    の記憶データは後続する速度プロファイルに影響を与え
    るのに用いられる請求項２５記載の方法。
  28. 【請求項２８】 サブμｍ領域のマイクロリソグラフ投
    影露光対物レンズのモジュールまたは部品を調整する方
    法において、 前記モジュールまたは部品は少なくとも２つのアクチュ
    エータによって変移され、それらのアクチュエータは少
    なくともそれらの相対的な経路変移を決定する検出器を
    有し、前記モジュールまたは部品の位置は少なくとも２
    つのセンサにより決定され、検出器を有する前記アクチ
    ュエータと前記センサは制御ループ方式により互いに通
    信し、前記アクチュエータによって前記モジュールまた
    は部品に少なくとも１つの機械的インパルスが印加さ
    れ、 前記インパルスのタイミングは意図的に変化されること
    ができ、このような目的のためにアクチュエータの変移
    が前記モジュールまたは部品の設定位置（Ｓse tpoint）
    に対する決定位置（Ｓn actual）の関数として指令され
    た時間的に変化する速度プロファイルによって行われ、
    前記モジュールまたは部品の前記位置（Ｓn actual）は
    前記速度プロファイルが行われた後に再決定され、 前記方法のステップは、前記モジュールまたは部品が所
    望の位置（Ｓsetpoint）に到達するまで繰り返されるサ
    ブμｍ領域のマイクロリソグラフ投影露光対物レンズの
    モジュールまたは部品の調整方法。
  29. 【請求項２９】 前記速度プロファイルは初期速度から
    増加する少なくとも１つの速度勾配および最終速度に下
    降する少なくとも１つの速度勾配を有し、その勾配の傾
    斜は依然として移動されている経路セクションにしたが
    って変化される請求項２８記載の方法。
  30. 【請求項３０】 前記初期速度および最終速度は両者共
    にゼロである請求項２９記載の方法。
  31. 【請求項３１】 前記アクチュエータは電気モータを介
    してそれぞれ動作され、速度プロファイルを生成するた
    めに対応する電圧プロファイルがモータに供給される請
    求項２８記載の方法。
  32. 【請求項３２】 前記モータの変移は、前記モータそれ
    ぞれのインクリメント検出器としての個別的な少なくと
    も１つの検出器を介して制限される請求項３１記載の方
    法。
  33. 【請求項３３】 前記センサは、評価装置、増幅器等を
    介して獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接
    続され、前記検出器を有するアクチュエータは同様に評
    価装置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チェ
    ーンとして電子データ処理ユニットに接続され、前記電
    子データ処理ユニットによって前記工程が制御される請
    求項２８記載の方法。
  34. 【請求項３４】 前記センサは、評価装置、増幅器等を
    介して獲得チェーンとして電子データ処理ユニットに接
    続され、前記検出器を有するアクチュエータは同様に評
    価装置（モータ調節装置）、増幅器等を介して操作チェ
    ーンとして電子データ処理ユニットに接続され、前記電
    子データ処理ユニットによって前記工程が調整される請
    求項２８記載の方法。
  35. 【請求項３５】 前記電子データ処理ユニットは記憶装
    置を備え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置
    ／実際の位置の関数としてこの記憶装置に記憶され、こ
    の記憶データは後続する速度プロファイルに影響を与え
    るのに用いられる請求項３３記載の方法。
  36. 【請求項３６】 前記電子データ処理ユニットは記憶装
    置を備え、すでに行われた速度プロファイルが設定位置
    ／実際の位置の関数としてこの記憶装置に記憶され、こ
    の記憶データは後続する速度プロファイルに影響を与え
    るのに用いられる請求項３４記載の方法。
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