JP2002361168A - 薄膜乾燥方法 - Google Patents

薄膜乾燥方法

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JP2002361168A
JP2002361168A JP2001166769A JP2001166769A JP2002361168A JP 2002361168 A JP2002361168 A JP 2002361168A JP 2001166769 A JP2001166769 A JP 2001166769A JP 2001166769 A JP2001166769 A JP 2001166769A JP 2002361168 A JP2002361168 A JP 2002361168A
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JP
Japan
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thin film
base material
drying
hot plate
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001166769A
Other languages
English (en)
Inventor
Akinori Matsui
昭憲 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 乾燥時の基材の反りを防止して薄膜の乾燥ム
ラを防ぐ乾燥方法を提供する。 【解決手段】 例えば、上面に薄膜材料2が塗布された
基材1上に、基材1の縁周部に対応した形状の押さえ治
具5を載置し、この押さえ治具5で基材1の縁周部を押
圧しながらホットプレート3上に載置して、基材1の下
面を加熱する。押さえ治具5での押圧により基材1の反
りを防ぐことができる。押さえ治具5は、例えば高伝熱
性を有する金属材料を使用して形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、基材の上面に塗
布された薄膜材料を乾燥させる薄膜乾燥方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、有機EL表示パネルの発光層を
製膜するような場合、ガラス板等の所定の基材上に、高
分子有機材料を使用して薄膜を形成することが行われて
いる。
【0003】従来は、図4の如く、所定の薄膜形成装置
にて基材1上に薄膜材料2を塗布した後、薄膜材料2を
塗布した面を上向けにした状態で、これを直ちに予め温
めておいたホットプレート3上に移動させ、乾燥を行っ
ていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来においては、例え
ば300mm×400mmの大寸法の基材1上に対し
て、薄膜材料2を塗布した直後にホットプレート3上で
乾燥作業を行うと、基材1の薄膜材料2を塗布した面
(上面)に比べて、ホットプレート3に面した面(下
面)の温度が急激に増大して膨張してしまうことから、
基材1の縁周部が瞬時に上側に反ってしまうことがあ
る。そうすると、反ってしまった基材1の縁周部がホッ
トプレート3から離間してしまうため、基材1の全面を
均一に加熱できなくなってしまう。したがって、基材1
の一部(例えば縁周部)の乾きが不十分になってしまう
虞があり、基材1の反りによって薄膜材料2が流れてし
まう等の原因により、膜厚が不均一となって最終的に均
一発光が得られなくなる虞があった。
【0005】また、完全に薄膜材料2が乾ききる迄に時
間が掛かるという問題もあった。
【0006】そこで、この発明の課題は、乾燥時の基材
の反りを防止して薄膜の乾燥ムラを防止し得るととも
に、乾燥時間が短くて済む薄膜乾燥方法を提供すること
にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
請求項1に記載の発明は、基材の上面に塗布された薄膜
材料を乾燥させる薄膜乾燥方法であって、前記薄膜材料
が塗布された前記基材の上面に、当該基材の縁周部に対
応して形成された押さえ治具を載置する工程と、前記押
さえ治具で前記基材の縁周部を下方に押圧した状態で、
前記基材をホットプレート上に載置し、当該ホットプレ
ートで前記基材の下面を加熱する工程とを備えるもので
ある。
【0008】請求項2に記載の発明は、基材の上面の複
数箇所に分離して塗布された薄膜材料を乾燥させる薄膜
乾燥方法であって、前記薄膜材料が塗布された前記基材
の上面に、前記薄膜材料が分離して塗布された複数箇所
同士の間隙部分と前記基材の縁周部とに対応して形成さ
れた押さえ治具を載置する工程と、前記押さえ治具で前
記基材の縁周部と前記間隙部分を下方に押圧した状態
で、前記基材をホットプレート上に載置し、当該ホット
プレートで前記基材の下面を加熱する工程とを備えるも
のである。
【0009】請求項3に記載の発明は、請求項1または
請求項2に記載の薄膜乾燥方法であって、前記押さえ治
具が、高伝熱性を有する金属材料を使用して形成される
ものである。
【0010】請求項4に記載の発明は、基材の上面に塗
布された薄膜材料を乾燥させる薄膜乾燥方法であって、
微細空孔が多数形成された吸着プレートを、ホットプレ
ートで所定の設定温度に加熱する工程と、前記吸着プレ
ート上に前記薄膜材料を塗布した前記基材を載置し、所
定の吸引機により、前記吸着プレートの微細空孔から吸
気して前記基材を前記吸着プレートの主面に吸着しなが
ら、前記ホットプレートで前記基材を加熱する工程とを
備えるものである。
【0011】
【発明の実施の形態】{実施の形態1}図1はこの発明
の実施の形態1に係る薄膜乾燥方法を示す図である。
尚、この実施の形態では、従来の例と同様の機能を有す
る要素については同一符号を付している。
【0012】図1の如く、この薄膜乾燥方法では、ガラ
ス基板等の基材1の上面に高分子有機材料からなる薄膜
材料2を塗布した後、押さえ治具5を基材1の上面(薄
膜材料2の塗布面)の上に乗せる。
【0013】この押さえ治具5は、アルミニウム板等の
金属板が上面視略ロ字型に折曲形成されてなるもので、
押さえ治具5の長径及び短径が、基材1の長径及び短径
よりもそれぞれ僅かに小さく設定されており、押さえ治
具5を基材1側に押さえつけることで、基材1の縁周部
の全てに対して同時に押圧できる形状となっている。
【0014】かかる状態で、基材1を押さえ治具5ご
と、予め温めておいたホットプレート3上に移動させ
る。そして、基材1の下面がホットプレート3上に載置
された瞬間に、直ちに手やロボットアームを用いて、押
さえ治具5を下方に押さえつける。かかる状態を維持し
たまま、ホットプレート3により基材1全体を加熱し、
基材1の上面に塗布された薄膜材料2を乾燥させる。
【0015】このように、基材1の下面がホットプレー
ト3上に載置された瞬間に、押さえ治具5を下方に押さ
えつけながら、基材1上の薄膜材料2を乾燥するので、
従来において、基材1をホットプレート3上に乗せた瞬
間に発生していた基材1の縁周部の反りの発生を防止で
きる。したがって、ホットプレート3によって基材1を
全面に渡って均一に加熱でき、局部的に液状の薄膜材料
2が流れた結果としての液貯まりを防止することで、全
体的な乾燥時間を短縮できる。また、乾ききらなかった
液状の薄膜材料2が流れるといった事態も防止でき、薄
膜の乾燥ムラを防止して膜圧の均一な薄膜を形成するこ
とができる。
【0016】特に、押さえ治具5が高伝熱性を有する金
属製とされているので、ホットプレート3で基材1の下
面を加熱するだけでなく、押さえ治具5で基材1の縁周
部を上面から加熱することもでき、上面の薄膜材料2の
乾燥速度を増大することができる。
【0017】{実施の形態2}図2はこの発明の実施の
形態2に係る薄膜乾燥方法を示す図である。なお、図2
では従来の例及び実施の形態1と同様の機能を有する要
素については同一符号を付している。
【0018】図2の如く、この実施の形態の薄膜乾燥方
法は、基材1の上面の全面に薄膜材料2塗布するのでは
なく、マスクを用いて複数の薄膜形成領域11a〜11
cにそれぞれ局部的に薄膜材料2を塗布した場合におい
て、基材1の縁周部だけでなく、複数の薄膜形成領域1
1a〜11c同士の間の間隙部分をも同時に同一の押さ
え治具5aで押圧することで、基材1の全体的な反りを
防止するものである。
【0019】ここで使用される押さえ治具5aは、図2
のように、基材1の縁周部に対応する平面視略ロ字型の
枠部12と、この枠部12の内周において薄膜形成領域
11a〜11c同士の間の間隙部分に対応するよう形成
された中間部13a,13bとからなる。枠部12の長
径及び短径は、基材1の長径及び短径よりもそれぞれ僅
かに小さく設定されており、押さえ治具5を基材1側に
押さえつけることで、枠部12によって基材1の縁周部
の全てを、中間部13a,13bによって薄膜形成領域
11a〜11c同士の間の間隙部分を、それぞれ同時に
押圧できる形状となっている。
【0020】また、押さえ治具5aは、アルミニウム等
の伝熱性の高い金属が使用されており、押さえ治具5a
の枠部12及び中間部13a,13bで基材1を加熱す
ることで、上面の薄膜材料2の乾燥速度を増大する機能
をも有している。
【0021】この薄膜乾燥方法では、ガラス基板等の基
材1の上面に高分子有機材料からなる薄膜材料2を塗布
した後、押さえ治具5aを基材1の上面(薄膜材料2の
塗布面)の上に乗せる。
【0022】かかる状態で、基材1を押さえ治具5aご
と、予め温めておいたホットプレート3上に移動させ
る。そして、基材1の下面がホットプレート3上に載置
された瞬間に、直ちに手やロボットアームを用いて、押
さえ治具5aを下方に押さえつける。かかる状態を維持
したまま、ホットプレート3により基材1全体を加熱
し、基材1の上面に塗布された薄膜材料2を乾燥させ
る。
【0023】このように、基材1の下面がホットプレー
ト3上に載置された瞬間に、押さえ治具5aを下方に押
さえつけながら、基材1上の薄膜材料2を乾燥するの
で、基材1の反りの発生を全面に亘って防止できる。し
たがって、ホットプレート3によって基材1を全面に渡
って均一に加熱でき、局部的に液状の薄膜材料2が流れ
た結果としての液貯まりを防止することで、全体的な乾
燥時間を短縮できる。また、乾ききらなかった液状の薄
膜材料2が流れるといった事態も防止でき、薄膜の乾燥
ムラを防止して膜圧の均一な薄膜を形成することができ
る。
【0024】また、押さえ治具5aとして伝熱性の高い
金属を使用しているので、基材1は、押さえ治具5aで
押さえつけている箇所の付近から乾燥が始まることか
ら、この実施の形態のように枠部12だけでなく中間部
13a,13bでも基材1を加熱でき、乾燥完了までの
時間を短縮することが可能となる。
【0025】{実施の形態3}図3はこの発明の実施の
形態3に係る薄膜乾燥方法を示す図である。なお、図3
では従来の例、実施の形態1及び実施の形態2と同様の
機能を有する要素については同一符号を付している。
【0026】この実施の形態の薄膜乾燥方法は、微細空
孔21が多数形成された吸着プレート22を、前もって
設定温度までホットプレート3で加熱しておき、薄膜材
料2を塗布した後の基材1(図4参照)を吸着プレート
22上に乗せる。
【0027】ここで、吸着プレート22は、アルミニウ
ム等の高伝熱性の金属材料が使用されて下面開放の略箱
形に形成されており、上面に多数の微細空孔21が形成
され、吸着プレート22の排気管22aから、真空ポン
プ等の吸引機により、吸着プレート22内の空気を排気
することで、吸着プレート22の微細空孔21から上方
の空気が吸気される。
【0028】この際、吸着プレート22の上面(主面)
に載置された基材1(図4参照)は、その全面に亘って
微細空孔21に吸引され、よって基材1が吸着プレート
22の上面(主面)に全面に亘って吸着される。
【0029】かかる状態で、ホットプレート3及び吸着
プレート22により基材1を裏面から加熱する。
【0030】このように、基材1の裏面全部を吸着プレ
ート22の上面(主面)に吸着しながら加熱乾燥を行う
ので、基材1の反りの発生を防止できる。
【0031】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、基材の
下面がホットプレート上に載置されると同時に、押さえ
治具を下方に押さえつけながら、基材上の薄膜材料を乾
燥するので、従来において、基材をホットプレート上に
乗せた瞬間に発生していた基材の縁周部の反りの発生を
防止できる。したがって、ホットプレートによって基材
を全面に渡って均一に加熱でき、よって薄膜の乾燥ムラ
を防止することができる。
【0032】請求項2に記載の発明によれば、基材の下
面がホットプレート上に載置された瞬間に、押さえ治具
で基材のうちの薄膜材料が塗布されていない部分及び縁
周部を下方に押さえつけながら、基材上の薄膜材料を乾
燥するので、基材の反りの発生を全面に亘って防止でき
る。したがって、ホットプレートによって基材を全面に
渡って均一に加熱でき、よって薄膜の乾燥ムラを防止す
ることができる。
【0033】請求項3に記載の発明によれば、押さえ治
具が高伝熱性を有する金属製とされているので、ホット
プレートで基材の下面を加熱するだけでなく、押さえ治
具で基材の縁周部等を上面から加熱することもでき、上
面の薄膜材料の乾燥速度を増大することができる。
【0034】請求項4に記載の発明によれば、微細空孔
が多数形成された吸着プレートを、ホットプレートで所
定の設定温度に加熱し、吸着プレート上に薄膜材料を塗
布した基材を載置し、所定の吸引機により、吸着プレー
トの微細空孔から吸気して基材を吸着プレートの主面に
吸着しながら、ホットプレートで基材を加熱するので、
基材の反りの発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1に係る薄膜乾燥方法を
示す模式図である。
【図2】この発明の実施の形態2に係る薄膜乾燥方法を
示す模式図である。
【図3】この発明の実施の形態3に係る薄膜乾燥方法を
示す模式図である。
【図4】従来の薄膜乾燥方法を示す図である。
【図5】基材が反った状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
1 基材 2 薄膜材料 3 ホットプレート 5,5a 押さえ治具 11a〜11c 薄膜形成領域 12 枠部 13a〜13b 中間部 21 微細空孔 22 吸着プレート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松井 昭憲 愛知県名古屋市南区菊住1丁目7番10号 株式会社オートネットワーク技術研究所内 Fターム(参考) 3K007 DB03 FA01 FA03 3L113 AA01 AB05 AC01 AC49 AC64 AC74 AC76 BA34 DA10 DA24 4D075 BB05Z BB24Z BB36Z BB56Z CA47 DA06 DB13 DC24

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材の上面に塗布された薄膜材料を乾燥
    させる薄膜乾燥方法であって、 前記薄膜材料が塗布された前記基材の上面に、当該基材
    の縁周部に対応して形成された押さえ治具を載置する工
    程と、 前記押さえ治具で前記基材の縁周部を下方に押圧した状
    態で、前記基材をホットプレート上に載置し、当該ホッ
    トプレートで前記基材の下面を加熱する工程とを備える
    薄膜乾燥方法。
  2. 【請求項2】 基材の上面の複数箇所に分離して塗布さ
    れた薄膜材料を乾燥させる薄膜乾燥方法であって、 前記薄膜材料が塗布された前記基材と前記間隙部分の上
    面に、前記薄膜材料が分離して塗布された複数箇所同士
    の間隙部分と前記基材の縁周部とに対応して形成された
    押さえ治具を載置する工程と、 前記押さえ治具で前記基材の縁周部を下方に押圧した状
    態で、前記基材をホットプレート上に載置し、当該ホッ
    トプレートで前記基材の下面を加熱する工程とを備える
    薄膜乾燥方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の薄膜乾
    燥方法であって、 前記押さえ治具が、高伝熱性を有する金属材料を使用し
    て形成されることを特徴とする薄膜乾燥方法。
  4. 【請求項4】 基材の上面に塗布された薄膜材料を乾燥
    させる薄膜乾燥方法であって、 微細空孔が多数形成された吸着プレートを、ホットプレ
    ートで所定の設定温度に加熱する工程と、 前記吸着プレート上に前記薄膜材料を塗布した前記基材
    を載置し、所定の吸引機により、前記吸着プレートの微
    細空孔から吸気して前記基材を前記吸着プレートの主面
    に吸着しながら、前記ホットプレートで前記基材を加熱
    する工程とを備える薄膜乾燥方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017201219A (ja) * 2016-05-02 2017-11-09 株式会社エナテック 乾燥装置、光照射装置、及び塗布システム
CN112604918A (zh) * 2020-12-12 2021-04-06 安徽新辰光学新材料有限公司 一种梯度式分层烘干通道

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017201219A (ja) * 2016-05-02 2017-11-09 株式会社エナテック 乾燥装置、光照射装置、及び塗布システム
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