JP2002359443A - Connection structure of high-frequency package and wiring board - Google Patents

Connection structure of high-frequency package and wiring board

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JP2002359443A
JP2002359443A JP2002055878A JP2002055878A JP2002359443A JP 2002359443 A JP2002359443 A JP 2002359443A JP 2002055878 A JP2002055878 A JP 2002055878A JP 2002055878 A JP2002055878 A JP 2002055878A JP 2002359443 A JP2002359443 A JP 2002359443A
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wiring board
signal line
frequency
frequency package
connection structure
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Yoshio Tsukiyama
良男 築山
Masato Shiobara
正人 塩原
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Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the connecting structure of a high frequency package and a wiring board, whose high-frequency transmission characteristics are superior without causing deteriorating of the transmission characteristics, even with high-frequency signal having a wide band, ranging from 20 GHz to 80 GHz at connection of the high-frequency packet to the wiring board. SOLUTION: An interval between conductive vias 24a and 24b for connecting ground layers 22 and 23 formed on both main faces 11a and 11b of a high-frequency transmission line substrate 20 constituting the high-frequency package 10, and an interval between conductive vias 36a and 36b for connecting ground layers 34 and 35 formed on both main faces 31a and 31b of a wiring board 30, on which the high-frequency package 10, is mounted, are set under the consideration of the relative dielectric constant of the high-frequency transmission line substrate 20 and the relative dielectric constant of the wiring board 30, so that the high-frequency transmission characteristics between the high-frequency transmission line substrate 20 and the wiring board 30 are enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造に関し、より詳細には20GHz
以上の高周波信号の伝送特性を劣化させることなく高周
波パッケ−ジと配線基板とを電気的に接続させることが
可能な高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a connection structure between a high-frequency package and a wiring board, and more particularly to a connection structure of 20 GHz.
The present invention relates to a connection structure between a high-frequency package and a wiring board that can electrically connect the high-frequency package and the wiring board without deteriorating the transmission characteristics of the high-frequency signal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の高周波パッケ−ジは、誘電体基板
上に形成された半導体素子実装領域及びその周辺部の高
周波回路を環状枠体及びこの上に設けられた蓋体で封止
することにより構成されている。半導体素子実装領域に
実装された半導体素子は、前記枠体の側壁部を貫通して
形成された信号線層と接続されており、半導体素子が搭
載された高周波パッケ−ジの信号線層が配線基板の信号
線層と接続されることによりパッケ−ジ外部との高周波
信号の入出力が可能になる。このような高周波パッケ−
ジと配線基板との接続においては、高周波信号特性を劣
化させることなく高周波信号を入出力することが可能な
パッケ−ジ構造及び信号線路の形成が求められる。
2. Description of the Related Art In a conventional high-frequency package, a semiconductor element mounting region formed on a dielectric substrate and a high-frequency circuit in a peripheral portion thereof are sealed with an annular frame and a lid provided thereon. It consists of. The semiconductor element mounted in the semiconductor element mounting area is connected to a signal line layer formed through the side wall of the frame, and the signal line layer of the high-frequency package on which the semiconductor element is mounted is connected to a wiring. By being connected to the signal line layer of the substrate, it is possible to input and output high-frequency signals to and from the outside of the package. Such a high-frequency package
In the connection between the package and the wiring board, it is required to form a package structure and a signal line capable of inputting and outputting a high-frequency signal without deteriorating high-frequency signal characteristics.

【0003】図18は、従来のこの種の高周波パッケ−
ジと配線基板との接続構造を示した模式図であり、
(a)は側面断面図、(b)は(a)におけるB−B線
断面斜視図である。
FIG. 18 shows a conventional high-frequency package of this type.
FIG. 2 is a schematic view showing a connection structure between a semiconductor device and a wiring board,
(A) is a side cross-sectional view, and (b) is a BB cross-sectional perspective view in (a).

【0004】誘電体基板41は厚さTの略直方体板形状
に形成されており、誘電体基板41の下面41bにはグ
ランド層42が形成される一方、誘電体基板41の上面
41aの所定箇所には、環状の誘電体製の枠体44が形
成されている。枠体内側領域44dにおける誘電体基板
上面41aの所定箇所には、幅がw1 の薄膜状の回路部
43aが複数個形成される一方、枠体44を挟んで回路
部43aと対向する外側領域44eには、これと同様
(幅がw1 )のリ−ド部43bがそれぞれ形成されてい
る。回路部43aの一端部とリ−ド部43bの一端部と
は幅がw2 の導体部43cを介して接続されており、こ
の導体部43cは枠体44の壁部44a内に埋設されて
いる。これら回路部43a、リ−ド部43b、導体部4
3cを含んで信号線層43が構成されている。
The dielectric substrate 41 is formed in a substantially rectangular parallelepiped plate shape having a thickness T. A ground layer 42 is formed on a lower surface 41b of the dielectric substrate 41, while a predetermined portion of an upper surface 41a of the dielectric substrate 41 is provided. Is formed with an annular dielectric frame 44. The predetermined portion of the dielectric substrate top surface 41a in the frame body-side region 44d, while the width of a thin-film circuit portion 43a of w 1 is formed in plural, the outer region facing the circuit portion 43a across the frame 44 A lead portion 43b having the same width (w 1 ) is formed at 44e. One end portion of the circuit portion 43a and the Li - the end of the de-portion 43b is connected width via a conductor portion 43c of w 2, the conductor portion 43c is embedded in the wall portion 44a of the frame 44 I have. These circuit section 43a, lead section 43b, conductor section 4
The signal line layer 43 includes 3c.

【0005】また導体部43cとこの近傍の壁部44a
とを含んで構成される回路の特性インピーダンスを、回
路部43a、リード部43bのそれと同等にするため、
導体部43cの幅w2 は回路部43a及びリード部43
bの幅w1 よりも小さい値に設定されている。そして信
号線層43における反射損失を抑えて伝送損失を小さく
するために、回路部43a、リード部43b、導体部4
3cにおける各特性インピーダンスの整合が図られてい
る。
A conductor 43c and a wall 44a near the conductor 43c
In order to make the characteristic impedance of the circuit configured by including the same as that of the circuit portion 43a and the lead portion 43b,
Width w 2 of the conductive portion 43c circuit portion 43a and a lead portion 43
b is set to a value smaller than the width w 1 of. In order to reduce the transmission loss by suppressing the reflection loss in the signal line layer 43, the circuit portion 43a, the lead portion 43b, the conductor portion 4
3c, the characteristic impedances are matched.

【0006】枠体内側領域44dにおける誘電体基板上
面41aの略中央部には半導体素子45が実装されるよ
うになっており、半導体素子45のパッド45aと回路
部43aの他端部とはボンディングワイヤ45bを介し
て接続されるようになっている。枠体44の上面には蓋
体46が接合(ハーメチックシール)されるようになっ
ており、この蓋体46により誘電体基板41上の枠体内
側領域44dが封止されるようになっている。これら誘
電体基板41、グランド層42、信号線層43、枠体4
4、蓋体46等を含んでマイクロストリップラインタイ
プの高周波パッケージ40が構成されている。
A semiconductor element 45 is mounted on a substantially central portion of the dielectric substrate upper surface 41a in the frame inner region 44d, and a pad 45a of the semiconductor element 45 is bonded to the other end of the circuit section 43a. The connection is made via a wire 45b. A lid 46 is joined (hermetic seal) to the upper surface of the frame body 44, and the frame body inner region 44d on the dielectric substrate 41 is sealed by the lid body 46. . These dielectric substrate 41, ground layer 42, signal line layer 43, frame 4
4. The microstrip line type high-frequency package 40 includes the lid 46 and the like.

【0007】そして高周波パッケ−ジ40の信号線層4
3のリ−ド部43bは、配線基板50に形成された信号
線層52の一端と外部リ−ド端子53を介して電気的に
接続されるようになっている。
The signal line layer 4 of the high-frequency package 40
The third lead portion 43b is electrically connected to one end of a signal line layer 52 formed on the wiring board 50 via an external lead terminal 53.

【0008】このような接続構造により、高周波信号
(図示せず)は、配線基板50の信号線層52から外部
リ−ド端子53を介して高周波パッケ−ジ40の信号線
層43のリード部43bより導体部43c、回路部43
a等を介して半導体素子45に入力される一方、高周波
パッケ−ジ40の半導体素子45より出力された高周波
信号は、信号線層43の回路部43aより導体部43
c、リード部43b、そして外部リ−ド端子53を介し
て配線基板50の信号線層52に出力されるようになっ
ている。
With such a connection structure, a high-frequency signal (not shown) is supplied from the signal line layer 52 of the wiring board 50 to the lead portion of the signal line layer 43 of the high-frequency package 40 via the external lead terminal 53. 43b, the conductor portion 43c and the circuit portion 43
a, the high-frequency signal output from the semiconductor element 45 of the high-frequency package 40 is transmitted from the circuit section 43a of the signal line layer 43 to the conductor section 43a.
The signal is output to the signal line layer 52 of the wiring board 50 via the lead c, the lead portion 43b, and the external lead terminal 53.

【0009】しかしながらこのように構成された高周波
パッケ−ジ40と配線基板50との接続構造では、外部
リ−ド端子53での特性インピ−ダンスを信号線層4
3、52と等しくすることは非常に困難であり、外部リ
−ド端子53と配線基板50上の信号線層52間、およ
び外部リ−ド端子53と高周波パッケ−ジ40の信号線
層43のリ−ド部43bとの間で、特性インピ−ダンス
の不整合が大きくなり、外部リ−ド端子53と配線基板
50上の信号線層52との接合部、および外部リ−ド端
子53と高周波パッケ−ジ40の信号線層43との接合
部における特性インピ−ダンスの不整合を原因とする信
号反射が大きくなるという問題があった。
However, in the connection structure between the high-frequency package 40 and the wiring board 50 thus configured, the characteristic impedance at the external lead terminal 53 is reduced by the signal line layer 4.
It is very difficult to make them equal to 3 and 52. Therefore, the external lead terminals 53 and the signal line layer 52 on the wiring board 50, and the external lead terminals 53 and the signal line layer 43 of the high-frequency package 40. The mismatch of the characteristic impedance between the lead portion 43b and the external lead terminal 53 and the signal line layer 52 on the wiring board 50, and the external lead terminal 53 There is a problem that the signal reflection caused by the mismatch of the characteristic impedance at the junction between the signal line layer 43 of the high-frequency package 40 and the signal line 43 increases.

【0010】このような問題に対処するため、高周波パ
ッケ−ジと配線基板との接続に外部リ−ド端子を使用す
ることなく、高周波パッケ−ジの信号線層の配線構造等
を改良して、高周波パッケ−ジの信号線層と配線基板の
信号線層とを直接接続するものが提案されている。
In order to cope with such a problem, the wiring structure of the signal line layer of the high-frequency package is improved without using an external lead terminal for connecting the high-frequency package to the wiring board. There has been proposed a device in which a signal line layer of a high-frequency package is directly connected to a signal line layer of a wiring board.

【0011】特開2000−164764号公報には、
マイクロストリップの伝送モ−ドの伝送線路を有する高
周波パッケ−ジと配線基板との信号線層どうしの接続部
分の両側にそれぞれ接続パッドを形成し、該接続パッド
を介して高周波パッケ−ジ内部に形成されたグランド層
と配線基板内部に形成されたグランド層とを接続する接
続導体路(スル−ホ−ル導体)を設けることによって、
高周波信号の伝送特性を劣化させることなく、高周波パ
ッケ−ジと配線基板とを接続できることが開示されてい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-164768 discloses that
Connection pads are formed on both sides of the connection portion between the signal line layers of the high-frequency package having the transmission line of the microstrip transmission mode and the wiring board, and the connection pads are formed inside the high-frequency package via the connection pads. By providing a connection conductor path (through-hole conductor) for connecting the formed ground layer and the ground layer formed inside the wiring board,
It is disclosed that a high-frequency package can be connected to a wiring board without deteriorating transmission characteristics of a high-frequency signal.

【0012】図19は、特開2000−164764号
公報記載の高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造を
示した側面断面図である。また図20は図19に示した
高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造の要部を示し
た図であり、(a)は高周波パッケ−ジの上面図、
(b)は高周波パッケ−ジの下面図、(c)は配線基板
の上面図である。
FIG. 19 is a side sectional view showing a connection structure between a high-frequency package and a wiring board described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-164768. FIG. 20 is a diagram showing a main part of a connection structure between the high-frequency package and the wiring board shown in FIG. 19, (a) is a top view of the high-frequency package,
(B) is a bottom view of the high-frequency package, and (c) is a top view of the wiring board.

【0013】図中61は、セラミック等からなる誘電体
基板を示しており、誘電体基板61の上面の所定箇所に
は、キャップ状の蓋体62がシ−ル部63を介して接合
されている。蓋体62の内側領域62aにおける誘電体
基板61上面の所定箇所には複数の信号線層64が形成
され、信号線層64の一端は半導体素子65と接続され
ている。
In the figure, reference numeral 61 denotes a dielectric substrate made of ceramic or the like. A cap-shaped lid 62 is joined to a predetermined portion of the upper surface of the dielectric substrate 61 via a seal portion 63. I have. A plurality of signal line layers 64 are formed at predetermined positions on the upper surface of the dielectric substrate 61 in the inner region 62 a of the cover 62, and one end of the signal line layer 64 is connected to the semiconductor element 65.

【0014】誘電体基板61内部にはグランド層66
が、スリット孔66aを除いて誘電体基板61の全面に
わたり形成されており、グランド層66と信号線層64
とから第3の高周波伝送路Cとしてのマイクロストリッ
プ線路が形成されている。
A ground layer 66 is provided inside the dielectric substrate 61.
Are formed over the entire surface of the dielectric substrate 61 except for the slit hole 66a, and the ground layer 66 and the signal line layer 64 are formed.
Thus, a microstrip line as the third high-frequency transmission line C is formed.

【0015】さらに、誘電体基板61の下面の所定箇所
には、信号線層67が形成されており、信号線層67と
グランド層66とから第1の高周波伝送線路Aとしての
マイクロストリップ線路が形成されている。また、信号
線層67の一端部67aを挟んで、その両側に接続パッ
ド68が形成されており、信号線層67の一端部67a
と接続パッド68とで接続部69が形成されている。ま
た、接続パッド68とグランド層66とはスル−ホ−ル
導体70により接続されている。そして、第1の信号伝
送線路Aと第3の信号伝送線路Cとは、スロット孔66
aを介して、電磁結合され、両線路A、C間で信号の伝
達が行われる。これら、誘電体基板61、信号線層6
4、グランド層66、信号線層67、蓋体62等を含ん
で高周波パッケ−ジ60が構成されている。
Further, a signal line layer 67 is formed at a predetermined position on the lower surface of the dielectric substrate 61, and a microstrip line as the first high-frequency transmission line A is formed from the signal line layer 67 and the ground layer 66. Is formed. Further, connection pads 68 are formed on both sides of one end 67a of the signal line layer 67, and one end 67a of the signal line layer 67 is formed.
And the connection pad 68 form a connection portion 69. The connection pad 68 and the ground layer 66 are connected by a through-hole conductor 70. Further, the first signal transmission line A and the third signal transmission line C are
The signal is electromagnetically coupled via a, and a signal is transmitted between the two lines A and C. These dielectric substrate 61, signal line layer 6
4. The high-frequency package 60 includes the ground layer 66, the signal line layer 67, the lid 62, and the like.

【0016】また図中80は、高周波パッケ−ジ60を
実装するための配線基板を示している。配線基板80を
構成する誘電体基板81の上面には、高周波パッケ−ジ
60の誘電体基板61の裏面に形成された接続部69と
整合する位置に、第2の高周波伝送線路Bとしての信号
線層82とその両側に接続パッド83とが形成され、誘
電体基板81の内部にはグランド層84が形成され、接
続パッド83とグランド層84とがスル−ホ−ル導体8
5によって接続されている。また、配線基板80の表面
には、凹部81aが形成されている。
Reference numeral 80 in the figure denotes a wiring board on which the high-frequency package 60 is mounted. The signal as the second high-frequency transmission line B is provided on the upper surface of the dielectric substrate 81 constituting the wiring substrate 80 at a position matching the connection portion 69 formed on the back surface of the dielectric substrate 61 of the high-frequency package 60. A line layer 82 and connection pads 83 are formed on both sides thereof, a ground layer 84 is formed inside the dielectric substrate 81, and the connection pads 83 and the ground layer 84 are connected to the through-hole conductors 8.
5 are connected. In addition, a concave portion 81a is formed on the surface of the wiring board 80.

【0017】そして、高周波パッケ−ジ60の下面の第
1の高周波伝送線路Aと、配線基板の上面の第2の高周
波伝送線路Bとを対面させて、その信号線層67の一端
部67aと信号線層82の一端部82aとを半田等の接
合材71により接合するとともに、接続パッド68と接
続パッド83とも合わせて接合することにより、高周波
パッケ−ジ60と配線基板80との接続が行われてい
る。
Then, the first high-frequency transmission line A on the lower surface of the high-frequency package 60 and the second high-frequency transmission line B on the upper surface of the wiring board are opposed to each other. The high-frequency package 60 and the wiring board 80 are connected by joining the one end 82a of the signal line layer 82 with the joining material 71 such as solder and joining the connection pads 68 and 83 together. Have been done.

【0018】このような接続パッド68及びスル−ホ−
ル導体70を備えた高周波パッケ−ジ60と接続パッド
83及びスル−ホ−ル導体85を備えた配線基板80と
の接続構造では、マイクロストリップの伝送モ−ドの伝
送線路を有し、電磁結合により信号伝達が行われる高周
波パッケ−ジ60と、同様にマイクロストリップの伝送
モ−ドの伝送線路を有する配線基板80との間の接続性
を高めることができ、スル−ホ−ル導体85が形成され
ていない配線基板と接続した場合と比較して、30GH
z〜40GHzの周波数帯域における挿入損失S21の劣
化を抑制できるとしている。
The connection pad 68 and the through-hole
The connection structure between the high-frequency package 60 provided with the micro-strip conductor 70 and the wiring board 80 provided with the connection pad 83 and the through-hole conductor 85 has a transmission line of a microstrip transmission mode, The connectivity between the high-frequency package 60 for transmitting a signal by coupling and the wiring board 80 having a transmission line of a microstrip transmission mode can be enhanced, and the through-hole conductor 85 can be provided. 30 GH in comparison with the case where it is connected to a wiring board on which no
It is the degradation of the insertion loss S 21 can be suppressed in the frequency band of Z~40GHz.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】図18に示した高周波
パッケ−ジ40と配線基板50との接続構造において
は、上述したように、外部リ−ド端子53を介した接続
部分での信号の反射損失が増大し、効率よく信号を伝達
することができず、特に20GHzを越えるような準ミ
リ波帯以上では、伝送特性を良好に維持することができ
ないという課題があった。
In the connection structure between the high-frequency package 40 and the wiring board 50 shown in FIG. 18, the signal transmission at the connection portion via the external lead terminal 53 is performed as described above. There has been a problem that the reflection loss is increased, the signal cannot be transmitted efficiently, and especially in the quasi-millimeter wave band exceeding 20 GHz, the transmission characteristics cannot be maintained well.

【0020】また、図19、図20に示した高周波パッ
ケ−ジ60と配線基板80との接続構造においては、3
0GHz〜40GHzの周波数帯域における挿入損失S
21の低減が確認され、伝送特性(挿入損失S21)が改善
されるものの、40GHz以上では、伝送特性が大きく
劣化する傾向にあり、40GHz以上のさらに高周波側
の帯域においては、伝送特性を向上させることができな
いという課題があった。
In the connection structure between the high-frequency package 60 and the wiring board 80 shown in FIGS.
Insertion loss S in the frequency band of 0 GHz to 40 GHz
Although the transmission characteristics (insertion loss S 21 ) are improved by reducing 21 , the transmission characteristics tend to be significantly degraded above 40 GHz, and the transmission characteristics are improved in the higher frequency band above 40 GHz. There was a problem that it was not possible.

【0021】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、高周波パッケ−ジを配線基板に接続する場合にお
いて、20GHz〜80GHzの広帯域の高周波信号で
あっても伝送特性を劣化させることなく、高周波伝送特
性に優れた高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造を
提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and when a high-frequency package is connected to a wiring board, transmission characteristics are not deteriorated even with a high-frequency signal in a wide band of 20 GHz to 80 GHz. It is an object of the present invention to provide a connection structure between a high-frequency package having excellent high-frequency transmission characteristics and a wiring board.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段及びその効果】上記したよ
うに、従来の高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造
においては、80GHz程度の高周波帯域に至る広帯域
の高周波信号を、その伝送特性を劣化させることなく伝
送させることができなかった。
As described above, in a conventional connection structure between a high-frequency package and a wiring board, a transmission characteristic of a wide-band high-frequency signal up to a high-frequency band of about 80 GHz is obtained. It could not be transmitted without degradation.

【0023】そこで本発明者は、高周波パッケ−ジを構
成する高周波伝送線路基板及び配線基板に形成された導
体ビアの間隔に着目し、高周波パッケ−ジに形成される
導体ビアの間隔と、配線基板に形成される導体ビアの間
隔とを各基板を構成する誘電体基板の比誘電率を考慮し
て設定することによって、さらに高周波側の高周波信号
の伝送特性を劣化させることなく伝送させることができ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
Therefore, the present inventor pays attention to the interval between the conductor vias formed on the high-frequency transmission line substrate and the wiring substrate constituting the high-frequency package, and considers the interval between the conductor vias formed on the high-frequency package and the wiring. By setting the distance between the conductor vias formed on the substrate and the relative permittivity of the dielectric substrate constituting each substrate, it is possible to transmit the signal without deteriorating the transmission characteristics of the high frequency signal on the high frequency side. They have found that they can do this and have completed the present invention.

【0024】上記目的を達成するために本発明に係る高
周波パッケ−ジと配線基板との接続構造(1)は、高周
波パッケ−ジを構成する高周波伝送線路基板の両主面に
形成されたグランド層を接続する第1の導体ビア列の間
隔と、前記高周波パッケ−ジが搭載される配線基板の両
主面に形成されたグランド層を接続する第2の導体ビア
列の間隔とが、これら高周波伝送線路基板と配線基板と
の間における高周波伝送特性を高めるために、前記高周
波伝送線路基板の比誘電率と前記配線基板の比誘電率と
を考慮して設定されていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, a connection structure (1) for connecting a high-frequency package to a wiring board according to the present invention comprises a ground formed on both main surfaces of a high-frequency transmission line substrate constituting the high-frequency package. The spacing between the first conductor via rows connecting the layers and the spacing between the second conductor via rows connecting the ground layers formed on both main surfaces of the wiring board on which the high-frequency package is mounted are determined by the following. In order to enhance high-frequency transmission characteristics between the high-frequency transmission line substrate and the wiring substrate, the high-frequency transmission line substrate is set in consideration of the relative dielectric constant of the high-frequency transmission line substrate and the relative dielectric constant of the wiring substrate. .

【0025】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(1)によれば、前記高周波パッケ−ジと前記配線
基板との接続箇所での反射損失の増大を抑制し、また伝
送損失の低減を図ることができ、より波長の短い高周波
領域に渡って伝送特性に優れた高周波パッケ−ジと配線
基板との接続構造とすることができる。
According to the connection structure (1) between the high-frequency package and the wiring board, it is possible to suppress an increase in reflection loss at a connection portion between the high-frequency package and the wiring board and to reduce a transmission loss. Therefore, a connection structure between the high-frequency package and the wiring board having excellent transmission characteristics over a high-frequency region having a shorter wavelength can be obtained.

【0026】また、本発明に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造(2)は、上記高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造(1)において、前記高周波伝送
線路基板の比誘電率をεr1、前記配線基板の比誘電率を
εr2、信号線を伝播する高周波の真空中における波長を
λ0 、前記第1の導体ビア列の間隔をWp 、及び前記第
2の導体ビア列の間隔をWb とした場合、Wp <λ0
(2×εr1 1/2 )、かつWb <λ0 /(2×εr2 1/2
の範囲でWp 及びWb が設定されていることを特徴とし
ている。
The connection structure (2) between the high-frequency package and the wiring board according to the present invention is the same as the connection structure (1) between the high-frequency package and the wiring board according to the present invention. Ε r1 , the relative permittivity of the wiring board is ε r2 , the wavelength in a high-frequency vacuum propagating through the signal line is λ 0 , the interval between the first conductor via rows is W p , and the second conductor If the interval of the vias column was a W b, W p <λ 0 /
(2 × ε r1 1/2 ) and W b0 / (2 × ε r2 1/2 )
Wp and Wb are set in the range of.

【0027】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(2)によれば、前記高周波伝送線路基板に形成さ
れる信号線の略垂直方向に放射された高周波信号におけ
る、第1の導体ビア列の間隔Wp に起因する共振の発生
を防止するとともに、リップルの発生を防止することが
でき、かつ前記配線基板に形成される信号線の略垂直方
向に放射された高周波信号における、第2の導体ビア列
の間隔Wb に起因する共振の発生を防止するとともに、
リップルの発生を防止することができる。
According to the connection structure (2) between the high-frequency package and the wiring board, the first conductive via in the high-frequency signal radiated in a direction substantially perpendicular to the signal line formed on the high-frequency transmission line board is provided. thereby preventing the occurrence of resonance due to the distance W p of columns, it is possible to prevent the occurrence of ripples, and the high-frequency signal radiated in a substantially perpendicular direction of the signal lines formed on the wiring board, the second thereby preventing the occurrence of resonance due to the distance W b conductive via columns,
The occurrence of ripple can be prevented.

【0028】従って、前記高周波パッケ−ジと前記配線
基板との接続箇所での反射損失の増大を抑制し、また伝
送損失の低減を図ることができ、より波長の短い高周波
領域に渡って高周波伝送特性に優れた高周波パッケ−ジ
と配線基板との接続構造とすることができる。
Therefore, it is possible to suppress an increase in reflection loss at a connection point between the high-frequency package and the wiring board and to reduce a transmission loss, and to transmit a high-frequency signal over a high-frequency region having a shorter wavelength. A connection structure between the high-frequency package and the wiring board having excellent characteristics can be obtained.

【0029】また、本発明者らは、高周波パッケ−ジに
形成される第1の導体ビア列の間隔と、配線基板に形成
される第2の導体ビア列の間隔とを各基板を構成する誘
電体基板の比誘電率を考慮して設定するとともに、前記
高周波パッケ−ジと前記配線基板との接合部におけるギ
ャップや信号線の幅を調整することによって、実装性を
向上させるとともに、伝送特性をさらに優れたものにで
きることを見出した。
Further, the present inventors configure each substrate with the interval between the first conductor via rows formed on the high-frequency package and the interval between the second conductor via rows formed on the wiring board. By setting in consideration of the relative permittivity of the dielectric substrate, and by adjusting the gap and the width of the signal line at the junction between the high-frequency package and the wiring substrate, the mountability is improved and the transmission characteristics are improved. Was found to be even better.

【0030】すなわち、本発明に係る高周波パッケ−ジ
と配線基板との接続構造(3)は、上記高周波パッケ−
ジと配線基板との接続構造(2)において、前記高周波
パッケ−ジが、前記高周波伝送線路基板の一主面側に第
1の信号線と、該第1の信号線と前記第1のグランド層
との間に設けられた第1のギャップと、前記高周波伝送
線路基板の他主面側に、その一端が前記配線基板と接合
され、他端が第3の導体ビアを介して前記第1の信号線
と接続された第2の信号線と、該第2の信号線と前記第
1のグランド層との間に設けられた第2のギャップとを
備え、前記配線基板が、前記高周波パッケ−ジとの接合
面側に第3の信号線と、該第3の信号線と前記第2のグ
ランド層との間に設けられた第3のギャップとを備え、
前記高周波パッケ−ジと前記配線基板との接合部におけ
る前記第2のギャップの幅が、前記接合部以外の前記第
2のギャップの幅よりも大きく設定されている、及び/
又は、前記接合部における前記第3のギャップの幅が、
前記接合部以外の前記第3のギャップの幅よりも大きく
設定されていることを特徴としている。
That is, the connection structure (3) between the high-frequency package and the wiring board according to the present invention comprises the above-described high-frequency package.
In the connection structure (2) between the high-frequency transmission line substrate and the first signal line, the first signal line, the first signal line, and the first ground are connected to one main surface of the high-frequency transmission line substrate. A first gap provided between the first substrate and the other main surface of the high-frequency transmission line substrate, one end of which is connected to the wiring substrate, and the other end of which is connected to the first conductive via via a third conductive via. A second signal line connected to the second signal line, and a second gap provided between the second signal line and the first ground layer. A third signal line on the side of the joint surface with the first die, and a third gap provided between the third signal line and the second ground layer;
The width of the second gap at the junction between the high-frequency package and the wiring board is set to be larger than the width of the second gap other than the junction.
Or, the width of the third gap at the junction is:
The width of the third gap other than the joint is set to be larger than the width of the third gap.

【0031】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(3)によれば、前記接合部における前記第2のギ
ャップの幅が、前記接合部以外の前記第2のギャップの
幅よりも大きく設定されている、及び/又は、前記接合
部における前記第3のギャップの幅が、前記接合部以外
の前記第3のギャップの幅よりも大きく設定されている
ので、前記接合部における前記第2の信号線、及び/又
は前記第3の信号線のインピ−ダンスの低下を抑制する
ことができ、前記接合部におけるインピ−ダンスの整合
性を高めることができる。特に、中間周波数帯域(10
GHz〜40GHz)における反射損失の増大をより一
層抑制することが可能となり、伝送特性をさらに向上さ
せることができる。
According to the connection structure (3) between the high-frequency package and the wiring board, the width of the second gap at the joint is larger than the width of the second gap other than the joint. Since the width of the third gap is set and / or the width of the third gap at the joint is set to be larger than the width of the third gap other than the joint, the second gap at the joint is formed. Of the third signal line and / or the third signal line can be suppressed, and the matching of the impedance at the junction can be improved. In particular, the intermediate frequency band (10
(GHz to 40 GHz), it is possible to further suppress an increase in reflection loss, and it is possible to further improve transmission characteristics.

【0032】なお、前記接合部における前記第2のギャ
ップの幅は、前記接合部における前記第2の信号線のイ
ンピーダンスを前記接合部以外の前記第2の信号線のイ
ンピーダンス(通常50Ω)に近づけることができるよ
うにできるだけ広げることが好ましいが、その上限値は
前記第1の導体ビア列の間隔により自ら制限される。
[0032] The width of the second gap at the junction is such that the impedance of the second signal line at the junction is close to the impedance of the second signal line other than the junction (usually 50Ω). It is preferable to widen as much as possible, but the upper limit is self-limited by the interval between the first conductor via rows.

【0033】同様に、前記接合部における前記第3のギ
ャップの幅は、前記接合部における前記第3の信号線の
インピーダンスを前記接合部以外の前記第3の信号線の
インピーダンス(通常50Ω)に近づけることができる
ようにできるだけ広げることが好ましいが、その上限値
は前記第2の導体ビア列の間隔により自ら制限される。
Similarly, the width of the third gap at the junction is determined by changing the impedance of the third signal line at the junction to the impedance of the third signal line other than the junction (usually 50Ω). It is preferable to widen as much as possible so that it can be approached, but the upper limit is limited by the interval between the second conductor via rows.

【0034】また、前記ギャップ幅の広がりにより前記
高周波パッケ−ジと前記配線基板との接続作業を容易に
行うことが可能になるとともに、短絡等の接続不良発生
をより確実に防止して、実装性を向上させることができ
る。
The widening of the gap width makes it easy to connect the high-frequency package to the wiring board, and more reliably prevents connection failure such as short circuit. Performance can be improved.

【0035】また、本発明に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造(4)は、上記高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造(3)において、前記高周波伝送
線路基板において前記接合部からさらに信号線の長さ方
向に幅が大きく設定される前記第2のギャップ部分の長
さをDp 、前記配線基板において前記接合部からさらに
前記第3の信号線の長さ方向に幅が大きく設定される第
3のギャップ部分の長さをDb とした場合、0<Dp
λ0 /4(εr1/2+1/2)1/2 、及び/又は0<D
b ≦λ0 /4(εr2/2+1/2)1/2 の関係が成立す
ることを特徴としている。
Further, the connection structure (4) for connecting the high-frequency package and the wiring board according to the present invention is the same as the connection structure (3) for connecting the high-frequency package and the wiring board, in the connection structure for the high-frequency transmission line board. The length of the second gap portion, whose width is set to be larger in the length direction of the signal line from the portion, is D p , and the width of the wiring board in the length direction of the third signal line is further from the junction. If the D b the length of the third gap part is set larger, 0 <D p
λ 0/4 (ε r1 / 2 + 1/2) 1/2, and / or 0 <D
b ≦ λ 0/4 (ε r2 / 2 + 1/2) 1/2 relationship is characterized by the establishment.

【0036】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(4)によれば、前記長さDp、前記長さDb が、
上記関係が成立するように設定されるので、前記長さD
p 、前記長さDb 分だけ、幅が大きく設定されたギャッ
プ部分における前記第2の信号線及び/又は前記第3の
信号線のインピ−ダンスの低下を抑制することができ
る。したがって、前記第2の信号線と前記第3の信号線
との前記接合部におけるインピーダンスの整合性をさら
に高めることができる。
According to the connection structure (4) between the high-frequency package and the wiring board, the lengths D p and D b are:
Since the above relationship is established, the length D
p, wherein the length D b min only, Inpi of the second signal line and / or the third signal lines in the set gap portion width increases - it is possible to suppress a decrease of the dance. Therefore, it is possible to further improve the impedance matching at the junction between the second signal line and the third signal line.

【0037】また、接合部分に長さDp 、長さDb ほど
前記接合部の幅に余裕を持たせることができ、前記高周
波パッケ−ジと前記配線基板との接続作業を一層容易に
行うことが可能になるとともに、短絡等の接続不良発生
をさらに減らすことができ、実装性をさらに向上させる
ことができる。
Further, the length D p in the bonding portion, it is possible to provide a margin to the width of the joint as the length D b, the high-frequency package - performed more easily the connection work between di and the wiring substrate In addition to this, the occurrence of connection failure such as a short circuit can be further reduced, and the mountability can be further improved.

【0038】また、本発明に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造(5)は、上記高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造(3)又は(4)において、前記
高周波伝送線路基板における前記第1の信号線の前記第
3の導体ビア接続側端部から前記配線基板接続側一側面
までの間の所定領域部分には、前記第1のグランド層が
形成されていないことを特徴としている。
The connection structure (5) between the high-frequency package and the wiring board according to the present invention is the same as the connection structure (3) or (4) between the high-frequency package and the wiring board. The first ground layer is not formed in a predetermined area portion of the substrate from the third conductor via connection end of the first signal line to one side surface of the wiring board connection side. Features.

【0039】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(5)によれば、前記所定領域部分には、前記第1
のグランド層が形成されていないことにより、前記第2
の信号線と前記第1のグランド層との間、及び前記第3
の信号線と前記第1のグランド層との間の容量成分を小
さくすることができ、特に高周波領域における伝送特性
の劣下を阻止し、より一層の高周波領域に渡ってインピ
ーダンスの整合を図り、より伝送特性に優れた高周波パ
ッケ−ジと配線基板との接続構造とすることができる。
According to the connection structure (5) between the high-frequency package and the wiring board, the first region is provided in the predetermined region.
The ground layer is not formed,
Between the first signal line and the first ground layer and the third signal line.
The capacitance component between the signal line of the first and the first ground layer can be reduced, in particular, the deterioration of the transmission characteristics in the high frequency region is prevented, and the impedance is matched over a higher frequency region. A connection structure between the high-frequency package and the wiring board having more excellent transmission characteristics can be obtained.

【0040】また、本発明に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造(6)は、上記高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造(5)において、前記所定領域部
分が、少なくとも前記第1の信号線の前記第3の導体ビ
ア側の端部から前記配線基板接続側一側面までの間の前
記第2の信号線に対向する部分を含んでいることを特徴
としている。
In the connection structure (6) for connecting a high-frequency package and a wiring board according to the present invention, in the connection structure (5) for connecting the high-frequency package and the wiring board, at least the predetermined region portion may be at least one of It is characterized in that it includes a portion facing the second signal line between the end of the first signal line on the third conductor via side and one side surface of the wiring board connection side.

【0041】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(6)によれば、前記第2の信号線と前記第1のグ
ランド層との間、及び前記第3の信号線と前記第1のグ
ランド層との間の容量成分をさらに小さくすることがで
き、より高周波側における前記第2の信号線に関するイ
ンピーダンスの低下を抑制することにより、前記接合部
におけるインピーダンスの整合性を高めることができ
る。
According to the connection structure (6) between the high-frequency package and the wiring board, the connection between the second signal line and the first ground layer and the connection between the third signal line and the first signal line. The capacitance component between the second signal line and the ground layer can be further reduced, and the impedance matching at the junction can be improved by suppressing the lowering of the impedance related to the second signal line on the higher frequency side. .

【0042】また、本発明に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造(7)は、上記高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造(5)又は(6)において、前記
所定領域部分が前記高周波パッケ−ジの封止部にかかる
場合には、前記高周波パッケ−ジを封止するための蓋
体、又は前記封止部に形成される枠体が、絶縁材料を用
いて構成されていることを特徴としている。
The connection structure (7) for connecting the high-frequency package and the wiring board according to the present invention is the same as the connection structure (5) or (6) for connecting the high-frequency package and the wiring board, wherein Is applied to the sealing portion of the high-frequency package, a lid for sealing the high-frequency package, or a frame formed in the sealing portion is formed using an insulating material. It is characterized by having.

【0043】上記高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造(7)によれば、前記所定領域部分の前記第1のグ
ランド層を形成していないことで得ることのできる高周
波領域での伝送特性の劣下を防止する効果を確実に得る
ことができる。
According to the connection structure (7) between the high-frequency package and the wiring board, the transmission characteristic in the high-frequency region can be obtained by not forming the first ground layer in the predetermined region. The effect of preventing inferiority can be reliably obtained.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る高周波パッケ
−ジと配線基板との接続構造の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図1は、実施の形態(1)に係る高周波
パッケ−ジと配線基板との接続構造を模式的に示した部
分断面斜視図である。また、図2(a)〜(c)は実施
の形態(1)に係る高周波パッケ−ジと配線基板との接
続構造の要部を拡大して示した模式図であり、(a)は
図1におけるA−A線断面図、(b)は平面図、(c)
は下面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partial cross-sectional perspective view schematically showing a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to Embodiment (1). 2 (a) to 2 (c) are enlarged schematic views showing a main part of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to the embodiment (1), and FIG. 1 is a cross-sectional view taken along line AA, (b) is a plan view, and (c).
Is a bottom view.

【0045】図中20は誘電体基板11を用いて構成さ
れる高周波伝送線路基板を示している。誘電体基板11
はアルミナセラミック等を用いて厚みがT1 の直方体板
形状に形成され、誘電体基板上面11aの所定箇所には
キャップ形状をした蓋体12が接合されている。蓋体1
2は誘電体基板11と略同様の膨張係数を有するコバ−
ルまたはインバ−合金から構成されている。
In the drawing, reference numeral 20 denotes a high-frequency transmission line substrate constituted by using the dielectric substrate 11. Dielectric substrate 11
Thickness with alumina ceramics or the like is formed in a rectangular parallelepiped plate shape of T 1, the lid 12 has a cap shape in the predetermined portion of the dielectric substrate upper surface 11a is joined. Lid 1
Reference numeral 2 denotes a cover having an expansion coefficient substantially similar to that of the dielectric substrate 11.
Or an invar alloy.

【0046】蓋体内側領域12bの略中央部には半導体
素子(図示せず)を搭載するスペ−ス11cが形成さ
れ、スペ−ス11cを挟んで対向する誘電体基板上面1
1aの所定箇所には、幅がw1 の薄膜状の信号線層14
が形成されている。信号線層14の周囲にはギャップg
1 を介してグランド層22が形成されており、これらに
よりコプレナ・ウェ−ブガイドが構成されている。他
方、誘電体基板下面11bの所定箇所には、幅がw2
薄膜状の信号線層15が形成されている。信号線層15
の周囲には、ギャップg2 を介してグランド層23が形
成されており、これらによりコプレナ・ウェ−ブガイド
が構成されている。
A space 11c for mounting a semiconductor element (not shown) is formed substantially at the center of the lid inner region 12b, and the upper surface 1 of the dielectric substrate 1 facing the space 11c is sandwiched therebetween.
1a, the signal line layer 14 in the form of a thin film having a width w 1
Are formed. A gap g is formed around the signal line layer 14.
A ground layer 22 is formed through the first through-hole 1, and these constitute a coplanar wave guide. On the other hand, the predetermined portion of the dielectric substrate bottom surface 11b, width film-like signal line 15 of w 2 is formed. Signal line layer 15
Around the has a ground layer 23 is formed via a gap g 2, these by coplanar-web - Bugaido is formed.

【0047】信号線層14の端部14aには導体ビア1
6の上端部が接続され、導体ビア16の下端部は信号線
層15の端部15aに接続されている。これら信号線層
14、導体ビア16、信号線層15を含んで信号線電極
13が構成されている。
The conductor via 1 is provided at the end 14 a of the signal line layer 14.
6 is connected, and the lower end of the conductor via 16 is connected to the end 15 a of the signal line layer 15. The signal line electrode 13 includes the signal line layer 14, the conductor via 16, and the signal line layer 15.

【0048】信号線層14、15を挟むその両側には、
グランド層22とグランド層23とを接続する導体ビア
24a、24bがそれぞれ形成されている。これら導体
ビア24aどうし、導体ビア24bどうしの間隔はD1
に設定されている。この間隔D1 は、誘電体基板11の
比誘電率をεr1、信号線電極13を伝播する高周波の真
空中における波長をλ0 とするとき、D1 <λ0 /(2
×εr1 1/2 )の範囲に設定されている。したがって、信
号線電極13より信号線層14、15の垂直方向へ放射
された高周波信号が導体ビア24a、24bの隙間D1
を介して誘電体基板11側に漏れ出すのを阻止し、隙間
1 に起因する不要モ−ドによりリップルが発生するの
を防ぐことができる。なお、間隔D1 の下限は小さい程
よいが、誘電体基板11に導体ビア24aどうし、導体
ビア24bどうしを接近して形成する技術により自ら限
定される。
On both sides of the signal line layers 14 and 15,
Conductive vias 24a and 24b connecting the ground layer 22 and the ground layer 23 are formed respectively. The distance between the conductor vias 24a and between the conductor vias 24b is D 1
Is set to When the relative permittivity of the dielectric substrate 11 is ε r1 and the wavelength of a high-frequency wave propagating through the signal line electrode 13 in vacuum is λ 0 , the interval D 1 is D 10 / (2
× ε r1 1/2 ). Therefore, the high-frequency signal radiated from the signal line electrode 13 in the vertical direction of the signal line layers 14 and 15 is applied to the gap D 1 between the conductor vias 24a and 24b.
It is possible to prevent the ripple caused by de - through prevents the leaking to the dielectric substrate 11 side, unnecessary mode due to the gaps D 1. Although reasonable lower limit of the interval D 1 is small, and if the conductor vias 24a on the dielectric substrate 11, is limited itself by technique of forming close was what conductor via 24b.

【0049】また、信号線層14、15を挟んで形成さ
れた導体ビア24aの内側と導体ビア24bの内側との
間隔はWp に設定されている。この間隔Wp は、誘電体
基板11の比誘電率をεr1、信号線電極13を伝播する
高周波の真空中における波長をλ0 とすると、Wp <λ
0 /(2×εr1 1/2 )の範囲で設定されている。したが
って、信号線電極13より信号線層14、15に関して
略垂直方向に放射された高周波信号における、導体ビア
24aと導体ビア24bとの間隔Wp に起因する共振の
発生を防止するとともに、リップルの発生を防止するこ
とができる。また、間隔Wp の下限は小さい程よいが、
実際には、信号線層14、15の幅w1、w2 、ギャッ
プg1 、g2 等により自ら限定される。これらグランド
層22、導体ビア24a、24b、グランド層23を含
んでグランド電極21が構成されている。またこれらグ
ランド電極21と信号線電極13とを含んでコプレナ・
ウェ−ブガイドが構成されており、スペ−ス11c近傍
のコプレナ・ウェ−ブガイド上には、図示しない半導体
素子がワイヤボンディング等により接続されるようにな
っている。
[0049] The distance between the inner inner conductor via 24b of conductor vias 24a formed across the signal line layer 14, 15 is set to W p. Assuming that the relative permittivity of the dielectric substrate 11 is ε r1 and the wavelength of the high-frequency wave propagating through the signal line electrode 13 in vacuum is λ 0 , the interval W p is W p <λ.
It is set in the range of 0 / (2 × ε r1 1/2 ). Therefore, in the high-frequency signal substantially vertically radiating with respect to the signal line layer 14, 15 from the signal line electrode 13, thereby preventing the occurrence of resonance due to the distance W p of the conductor via 24a and the conductor vias 24b, ripple Generation can be prevented. In addition, although the small reasonable lower limit of the interval W p,
Actually, it is limited by the widths w 1 and w 2 of the signal line layers 14 and 15 and the gaps g 1 and g 2 . The ground electrode 21 includes the ground layer 22, the conductor vias 24a and 24b, and the ground layer 23. In addition, these ground electrodes 21 and signal line electrodes 13 include
A wave guide is formed, and a semiconductor element (not shown) is connected to the coplanar wave guide near the space 11c by wire bonding or the like.

【0050】また、図中30は高周波パッケ−ジ10を
搭載するための配線基板を示しており、配線基板30を
構成する誘電体基板31は、アルミナセラミック等を用
いて形成され、誘電体基板上面31aの所定箇所には幅
がw3 の薄膜状の信号線層32が形成されている。信号
線層32の周囲にはギャップg3 を介してグランド層3
4が形成されており、これらによりコプレナ・ウェ−ブ
ガイドが構成されている。他方、誘電体基板下面31b
には、グランド層35が形成されている。
In the drawing, reference numeral 30 denotes a wiring board on which the high-frequency package 10 is mounted. A dielectric substrate 31 constituting the wiring board 30 is formed of alumina ceramic or the like. width is thin-film of the signal line layer 32 w 3 is formed in a predetermined portion of the upper surface 31a. Ground layer 3 around the signal line 32 via a gap g 3
4 are formed, and these constitute a coplanar wave guide. On the other hand, the lower surface 31b of the dielectric substrate
, A ground layer 35 is formed.

【0051】また信号線層32を挟む両側には、グラン
ド層34とグランド層35とを接続する導体ビア36
a、36bがそれぞれ形成されている。これら導体ビア
36aどうし、導体ビア36bどうしの間隔はD2 に設
定されている。この間隔D2 は、誘電体基板31の比誘
電率をεr2、信号線層32を伝播する高周波の真空中に
おける波長をλ0 とするとき、D2 <λ0 /(2×εr2
1/2 )の範囲に設定されている。したがって、信号線層
32の垂直方向へ放射された高周波信号が導体ビア36
a、36bの隙間D2 を介して誘電体基板31側に漏れ
出すのを阻止し、隙間D2 に起因する不要モ−ドにより
リップルが発生するのを防ぐことができる。なお、間隔
2 の下限は小さい程よいが、誘電体基板31に導体ビ
ア36aどうし、導体ビア36bどうしを接近して形成
する技術により自ら限定される。
On both sides of the signal line layer 32, conductive vias 36 connecting the ground layers 34 and 35 are provided.
a and 36b are respectively formed. And how these conductive via 36a, the interval between the conductor via 36b is set to D 2. When the relative permittivity of the dielectric substrate 31 is ε r2 and the wavelength of the high frequency wave propagating through the signal line layer 32 in vacuum is λ 0 , the distance D 2 is D 20 / (2 × ε r2
1/2 ) range. Therefore, the high-frequency signal radiated in the vertical direction of the signal line layer 32 is
a, 36b through the gap D 2 of the prevent leaking to the dielectric substrate 31 side, unnecessary due to the gap D 2 mode - it is possible to prevent the ripple caused by de. Although small reasonable lower limit of the interval D 2, and if the conductor vias 36a on the dielectric substrate 31, is limited itself by technique of forming close was what conductor via 36b.

【0052】また、信号線層32を挟んで形成された導
体ビア36aの内側と導体ビア36bの内側との間隔は
b に設定されている。この間隔Wb は、誘電体基板3
1の比誘電率をεr2、信号線層32を伝播する高周波の
真空中における波長をλ0 とすると、Wb <λ0 /(2
×εr2 1/2 )の範囲で設定されている。したがって、信
号線層32の略垂直方向に放射された高周波信号におけ
る、導体ビア36aと導体ビア36bとの間隔Wb に起
因する共振の発生を防止するとともに、リップルの発生
を防止することができる。なお、間隔Wb の下限は小さ
い程よいが、実際には、信号線層32の幅w3 、ギャッ
プg3 等により自ら限定される。これらグランド層3
4、導体ビア36a、36b、グランド層35を含んで
グランド電極33が構成されている。
[0052] The distance between the inner inner conductor via 36b of conductor vias 36a formed across the signal line layer 32 is set to W b. This interval W b is set to the dielectric substrate 3
Assuming that the relative permittivity of 1 is ε r2 , and the wavelength of the high frequency wave propagating through the signal line layer 32 in vacuum is λ 0 , W b0 / (2
× ε r2 1/2 ). Therefore, it is possible in the high-frequency signal radiated in a substantially vertical direction of the signal line layer 32, thereby preventing the occurrence of resonance due to the spacing W b of the conductive via 36a and the conductor vias 36b, to prevent the occurrence of ripples . Although reasonable lower limit smaller spacing W b, in practice, the width w 3 of the signal line layer 32 is limited itself by the gap g 3, and the like. These ground layers 3
4. The ground electrode 33 includes the conductor vias 36a and 36b and the ground layer 35.

【0053】そして、上記高周波パッケ−ジ10を配線
基板30に実装するにあたっては、高周波パッケ−ジ1
0の下面の信号線層15と、配線基板30の上面の信号
線層32とを対面させて、信号線層15の端部15bと
信号線層32の端部32aとを、半田等の接合材37に
より接合する。なお、信号線層15と信号線層32との
重なり合った接合部の幅D3 は、接続部分における反射
損失を極力抑えて伝送特性を更に良好なものとするため
にも小さい程よい。したがって、高周波パッケ−ジ10
と配線基板30との接続強度を考慮して、適切な接続幅
3 を設定するようにすればよい。
When mounting the high-frequency package 10 on the wiring board 30, the high-frequency package 1
0, the signal line layer 15 on the lower surface and the signal line layer 32 on the upper surface of the wiring board 30 face each other, and the end 15b of the signal line layer 15 and the end 32a of the signal line layer 32 are joined by soldering or the like. It is joined by the material 37. Note that the width D 3 of the overlapped junction between the signal line layer 15 and the signal line layer 32 is preferably as small as possible in order to minimize reflection loss at the connection portion and further improve transmission characteristics. Therefore, the high-frequency package 10
And in consideration of the connection strength between the wiring board 30, it is sufficient to set the appropriate connection width D 3.

【0054】このように構成された高周波パッケ−ジ1
0と配線基板30との接続構造では、高周波信号(図示
せず)は、配線基板30の信号線層端部32aより接合
材37を介し、高周波パッケ−ジ10の信号線層端部1
5b、信号線電極13、信号線層端部14bを介して半
導体素子(図示せず)に入力される一方、半導体素子よ
り信号線層端部14b、信号線電極13、信号線層端部
15b、そして接合材37を介して、配線基板30の信
号線層32に出力される。
The high-frequency package 1 constructed as described above
In the connection structure between the wiring board 30 and the wiring board 30, a high-frequency signal (not shown) is transmitted from the signal line layer end 32a of the wiring board 30 via the bonding material 37 to the signal line layer end 1 of the high-frequency package 10.
5b, the signal line electrode 13, and the signal line layer end 14b are input to a semiconductor element (not shown), while the signal is input from the semiconductor element to the signal line layer end 14b, the signal line electrode 13, and the signal line layer end 15b. Then, it is output to the signal line layer 32 of the wiring board 30 via the bonding material 37.

【0055】上記実施の形態(1)に係る高周波パッケ
−ジ10と配線基板30との接続構造によれば、高周波
領域において信号の伝送特性に影響を及ぼす高周波伝送
線路基板20の比誘電率と配線基板30の比誘電率とを
考慮して、高周波伝送線路基板20の両主面に形成され
たグランド層22、23を接続する導体ビア24aと導
体ビア24bとの間隔と、配線基板30の両主面に形成
されたグランド層34、35を接続する導体ビア36a
と導体ビア36bとの間隔とが設定されている。従っ
て、高周波パッケ−ジ10と配線基板30との接続箇所
での反射損失の増大を抑制し、伝送損失の低減を図るこ
とができ、より波長の短い高周波領域に渡って伝送特性
に優れた高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造とす
ることができる。
According to the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the embodiment (1), the relative permittivity of the high-frequency transmission line substrate 20 which affects the signal transmission characteristics in the high-frequency region is reduced. Considering the relative permittivity of the wiring board 30, the distance between the conductor vias 24a and 24b connecting the ground layers 22 and 23 formed on both main surfaces of the high-frequency transmission line board 20, Conductor via 36a connecting ground layers 34 and 35 formed on both main surfaces
And the distance between the conductor via 36b. Accordingly, it is possible to suppress an increase in reflection loss at a connection portion between the high-frequency package 10 and the wiring board 30, to reduce a transmission loss, and to obtain a high-frequency signal having excellent transmission characteristics over a high-frequency region with a shorter wavelength. A connection structure between the package and the wiring board can be provided.

【0056】また、高周波パッケ−ジ10の導体ビア2
4aと導体ビア24bとの間隔をWp 、及び配線基板3
0の導体ビア36aと導体ビア36bとの間隔をWb
した場合、Wp <λ0 /(2×εr1 1/2 )、かつWb
λ0 /(2×εr2 1/2 )の範囲でWp 及びWb が設定さ
れているので、信号線電極13より信号線層14、15
に関して略垂直方向に放射された高周波信号における、
導体ビア24aと導体ビア24bとの間隔Wp に起因す
る共振の発生を防止するとともに、リップルの発生を防
止することができ、かつ信号線層32の略垂直方向に放
射された高周波信号における、導体ビア36aと導体ビ
ア36bとの間隔Wb に起因する共振の発生を防止する
とともに、リップルの発生を防止することができる。
The conductor via 2 of the high-frequency package 10
The distance between the conductive vias 4a and the conductive vias 24b is W p ,
If the distance between the conductive via 36a and the conductor vias 36b of 0 was W b, W p <λ 0 / (2 × ε r1 1/2), and W b <
Since W p and W b are set within the range of λ 0 / (2 × ε r2 1/2 ), the signal line layers 14 and 15 are transmitted from the signal line electrode 13.
In a high frequency signal radiated in a substantially vertical direction with respect to
Thereby preventing the occurrence of resonance due to the distance W p of the conductor via 24a and the conductor vias 24b, it is possible to prevent the occurrence of ripples, and the high-frequency signal radiated in a substantially vertical direction of the signal line layer 32, thereby preventing the occurrence of resonance due to the spacing W b of the conductive via 36a and the conductor vias 36b, it is possible to prevent the occurrence of ripples.

【0057】従って、高周波パッケ−ジ10と配線基板
30との接続箇所での反射損失の増大を抑制し、また伝
送損失の低減を図ることができ、より波長の短い高周波
領域に渡って高周波特性に優れた高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造とすることができる。
Therefore, it is possible to suppress an increase in reflection loss at the connection point between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 and to reduce a transmission loss, and to achieve a high-frequency characteristic over a high-frequency region with a shorter wavelength. And a connection structure between the high-frequency package and the wiring board which is excellent in quality.

【0058】また、上記した実施の形態(1)に係る高
周波パッケージ10と配線基板30との接続構造では、
高周波パッケ−ジ10の誘電体基板11の下方が開放さ
れている接続構造について説明したが、別の実施の形態
のものでは、誘電体基板11の下方位置に配線基板30
が配置されていてもよい。この場合、信号線層15の幅
2 や信号線層15、グランド層23間のギャップg2
は、配線基板30の誘電体基板31の比誘電率の値を考
慮して再設計するのが望ましい。
In the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the first embodiment,
Although the connection structure in which the lower portion of the high-frequency package 10 is opened below the dielectric substrate 11 has been described, in another embodiment, the wiring substrate 30 is located below the dielectric substrate 11.
May be arranged. In this case, the width w 2 of the signal line layer 15 and the gap g 2 between the signal line layer 15 and the ground layer 23 are set.
It is desirable to redesign the wiring board 30 in consideration of the value of the dielectric constant of the dielectric substrate 31 of the wiring board 30.

【0059】また、上記した実施の形態(1)に係る高
周波パッケージ10と配線基板30との接続構造では、
信号線層15と信号線層32とを半田付けにより接続し
たが、別の実施の形態では、高周波パッケ−ジ10の信
号線層15の一端部15aもしくは配線基板30の信号
線層32の一端部32aにバンプを形成しておき、該バ
ンプにより、高周波パッケ−ジ10と配線基板30とを
接続することにより伝送損失をさらに抑制することがで
きる。
In the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the above-described embodiment (1),
Although the signal line layer 15 and the signal line layer 32 are connected by soldering, in another embodiment, one end 15a of the signal line layer 15 of the high-frequency package 10 or one end of the signal line layer 32 of the wiring board 30 is used. By forming a bump on the portion 32a and connecting the high-frequency package 10 and the wiring board 30 with the bump, transmission loss can be further suppressed.

【0060】図3(a)〜(c)は、実施の形態(2)
に係る高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造の主要
部を拡大して示した模式図であり、(a)は断面図、
(b)は平面図、(c)は下面図である。なお、実施の
形態(1)と同一機能を有する構成部分については、同
一の符号を付すこととする。
FIGS. 3A to 3C show an embodiment (2).
FIG. 2 is an enlarged schematic view showing a main part of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to the first embodiment.
(B) is a plan view, and (c) is a bottom view. Note that components having the same functions as those of the embodiment (1) are denoted by the same reference numerals.

【0061】実施の形態(2)に係る高周波パッケ−ジ
と配線基板との接続構造が実施の形態(1)に係る高周
波パッケ−ジと配線基板の接続構造と相違する点は、高
周波パッケ−ジの構造にある。
The connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (2) is different from the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (1). In the structure of the di.

【0062】高周波パッケ−ジ10Aを構成する高周波
伝送線路基板20Aの誘電体基板11の下面には、半導
体素子19を搭載するための凹部11dが形成されてお
り、誘電体基板下面11bの所定箇所には、キャップ形
状をした蓋体12が接合されている。蓋体内側領域12
bの凹部11dと壁部12aとの間の所定箇所には、幅
がw1 の薄膜状の信号線層14が形成されている。信号
線層14の端部14bは半導体素子19のパット部19
aとワイヤ19bを介して接続されている。蓋体12の
側壁部外側領域12cにおいて、側壁部12aを挟んで
信号線層14と対向する箇所には、幅がw4 の薄膜状の
信号線層17が形成されている。
On the lower surface of the dielectric substrate 11 of the high-frequency transmission line substrate 20A constituting the high-frequency package 10A, a concave portion 11d for mounting the semiconductor element 19 is formed. Is joined to a lid 12 having a cap shape. Lid inner region 12
The predetermined portion between the concave portion 11d and the wall portion 12a of b, the width is formed film-like signal line 14 of w 1. The end portion 14b of the signal line layer 14 is
a through a wire 19b. A thin-film-like signal line layer 17 having a width of w 4 is formed in a portion of the lid 12 opposite to the signal line layer 14 with the side wall portion 12a interposed therebetween in the outer region 12c of the side wall portion.

【0063】信号線層14、17の周囲にはギャップg
1 、g4 を介してグランド層22、26が一体的に形成
されており、これらによりコプレナ・ウェ−ブガイドが
構成されている。他方、誘電体基板上面11aの所定箇
所には、幅がw2 の薄膜状の信号線層15が形成されて
いる。信号線層15の周囲には、ギャップg2 を介して
グランド層23が形成されており、これらによりコプレ
ナ・ウェ−ブガイドが構成されている。
A gap g is formed around the signal line layers 14 and 17.
1, g 4 through the ground layer 22, 26 are formed integrally, they by coplanar-web - Bugaido is formed. On the other hand, the predetermined portion of the dielectric substrate top surface 11a, a width of a thin film-like signal line 15 of w 2 is formed. Around the signal line 15, and ground layer 23 is formed via a gap g 2, these by coplanar-web - Bugaido is formed.

【0064】信号線層14、17の端部14a、17a
には導体ビア16の下端部がそれぞれ接続され、導体ビ
ア16の上端部は信号線層15の両端部15a、15b
に接続されている。これら信号線層14、導体ビア1
6、信号線層15、導体ビア16、信号線層17を含ん
で信号線電極13が構成されている。
Ends 14a, 17a of signal line layers 14, 17
Are connected to the lower ends of the conductor vias 16, respectively, and the upper ends of the conductor vias 16 are both ends 15a, 15b of the signal line layer 15.
It is connected to the. These signal line layer 14 and conductor via 1
The signal line electrode 13 includes the signal line layer 15, the conductor via 16, and the signal line layer 17.

【0065】信号線層14、15、17を挟むその両側
には、グランド層22、26とグランド層23とを接続
する導体ビア24a、24bがそれぞれ形成されてい
る。これら導体ビア24aどうし、導体ビア24bどう
しの間隔D1 は、実施の形態(1)と同様にD1 <λ0
/(2×εr1 1/2 )を満たすように設定されている。ま
た、導体ビア24aの内側と導体ビア24bの内側との
間隔Wp は、実施の形態(1)と同様にWp <λ0
(2×εr1 1/2 )を満たすように設定されている。これ
らグランド層22、導体ビア24a、24b、グランド
層23、導体ビア24a、24b、グランド層26を含
んでグランド電極21が構成されている。またこれらグ
ランド電極21と信号線電極13とを含んでコプレナ・
ウェ−ブガイドが構成されている。また、図中30は高
周波パッケ−ジ10Aを搭載する配線基板を示してお
り、実施の形態(1)における配線基板30と略同様の
構成となっている。
Conductor vias 24a and 24b for connecting the ground layers 22 and 26 and the ground layer 23 are formed on both sides of the signal line layers 14, 15 and 17, respectively. The distance D 1 between the conductor vias 24 a and between the conductor vias 24 b is set to D 10 as in the first embodiment.
/ (2 × ε r1 1/2 ) is set. Further, the distance W p between the inside of the conductor via 24a and the inside of the conductor via 24b is W p0 /, as in the first embodiment.
(2 × ε r1 1/2 ) is set. The ground electrode 21 includes the ground layer 22, the conductor vias 24a and 24b, the ground layer 23, the conductor vias 24a and 24b, and the ground layer 26. In addition, these ground electrodes 21 and signal line electrodes 13 are
A wave guide is configured. In the drawing, reference numeral 30 denotes a wiring board on which the high-frequency package 10A is mounted, which has substantially the same configuration as the wiring board 30 in the embodiment (1).

【0066】そして、上記高周波パッケ−ジ10Aを配
線基板30に実装するにあたっては、高周波パッケ−ジ
10Aの下面の信号線層17と、配線基板30の上面の
信号線層32とを対向させて、信号線層17の端部17
bと信号線層32の端部32aとを、半田等の接合材3
7により接合する。なお、信号線層17と信号線層32
との重なり合った接合部の幅D3 は、接続部分における
反射損失を極力抑えて伝送特性を更に良好なものとする
ためにも小さい程よい。したがって、実施の形態(1)
と同様に高周波パッケ−ジ10Aと配線基板30との接
続強度を考慮して、適切な接続幅D3 を設定するように
すればよい。
In mounting the high-frequency package 10A on the wiring board 30, the signal line layer 17 on the lower surface of the high-frequency package 10A and the signal line layer 32 on the upper surface of the wiring board 30 are opposed to each other. End 17 of signal line layer 17
b and the end 32a of the signal line layer 32 are connected to a bonding material 3 such as solder.
7 are joined. The signal line layer 17 and the signal line layer 32
The width D 3 of the joined portion overlapping with the above is preferably as small as possible in order to minimize reflection loss at the connection portion and further improve transmission characteristics. Therefore, Embodiment (1)
Similarly to the high-frequency package - in consideration of the connection strength between di 10A and the wiring board 30, it is sufficient to set the appropriate connection width D 3.

【0067】このように構成された高周波パッケ−ジ1
0Aと配線基板30との接続構造では、高周波信号(図
示せず)は、配線基板30の信号線層端部32aより接
合材37を介し、高周波パッケ−ジ10Aの信号線層端
部17b、信号線電極13、信号線層端部14bを介し
て半導体素子19に入力される一方、半導体素子19よ
り信号線層端部14b、信号線電極13、信号線層端部
17b、そして接合材37を介して、配線基板30の信
号線層32に出力される上記実施の形態(2)における
高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造においても、
実施の形態(1)と略同様な効果を得ることができる。
さらに、高周波パッケ−ジ10Aにおける半導体素子実
装領域11dを、配線基板30との接続面側に設けるこ
とにより、全体の厚みを小さくすることができ、実装部
分の省スペ−ス化を図ることができる。
The high-frequency package 1 constructed as described above
In the connection structure between the circuit board 0A and the wiring board 30, a high-frequency signal (not shown) is transmitted from the signal line layer end 32a of the wiring board 30 via the bonding material 37 to the signal line layer end 17b of the high-frequency package 10A. While being input to the semiconductor element 19 through the signal line electrode 13 and the signal line layer end 14b, the semiconductor element 19 causes the signal line layer end 14b, the signal line electrode 13, the signal line layer end 17b, and the bonding material 37 to be input. In the connection structure between the high-frequency package and the wiring board in the above-described embodiment (2), which is output to the signal line layer 32 of the wiring board 30 through
It is possible to obtain substantially the same effects as in the embodiment (1).
Further, by providing the semiconductor element mounting area 11d in the high-frequency package 10A on the connection surface side with the wiring board 30, the overall thickness can be reduced, and the space for the mounting portion can be reduced. it can.

【0068】次に実施の形態(3)に係る高周波パッケ
−ジと配線基板との接続構造について説明する。図4
は、実施の形態(3)に係る高周波パッケ−ジと配線基
板との接続構造を説明するための高周波パッケ−ジ及び
配線基板の要部を拡大して示した分解模式図であり、
(a)は平面図、(b)は下面図である。なお、実施の
形態(1)と同一機能を有する構成部分については、同
一の符号を付すこととする。
Next, the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (3) will be described. FIG.
FIG. 5 is an exploded schematic view showing an enlarged main part of the high-frequency package and the wiring board for describing a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (3);
(A) is a plan view, (b) is a bottom view. Note that components having the same functions as those of the embodiment (1) are denoted by the same reference numerals.

【0069】実施の形態(3)に係る高周波パッケ−ジ
と配線基板との接続構造が実施の形態(1)に係る高周
波パッケ−ジと配線基板との接続構造と相違する点は、
高周波パッケ−ジ10Bと配線基板30Aとが接合され
る接合部Eの構造にある。
The connection structure between the high frequency package and the wiring board according to the embodiment (3) is different from the connection structure between the high frequency package and the wiring board according to the embodiment (1).
It is in the structure of a joint E where the high-frequency package 10B and the wiring board 30A are joined.

【0070】実施の形態(1)では、高周波パッケ−ジ
10と配線基板30との各誘電体基板11、31の比誘
電率及び厚さが同様な値で、しかも信号線層15の幅w
2 と信号線層32の幅w3 、及びギャップg2 の幅とギ
ャップg3 の幅とが近い値に設定されている場合が想定
されているが、誘電体基板11、31の比誘電率、厚さ
1 、T2 、又は誘電体基板11、31上にそれぞれ形
成される信号線層15、32の幅が実際には大きく異な
る場合もある。
In the embodiment (1), the relative permittivity and the thickness of the dielectric substrates 11 and 31 of the high-frequency package 10 and the wiring substrate 30 are the same, and the width w of the signal line layer 15 is
2 and the width w 3 of the signal line layer 32 and the case where the width of the gap g 2 and the width of the gap g 3 are set to values close to each other, the relative dielectric constant of the dielectric substrates 11 and 31 is assumed. The thicknesses T 1 and T 2 , or the widths of the signal line layers 15 and 32 formed on the dielectric substrates 11 and 31, respectively, may actually differ greatly.

【0071】このような場合、高周波パッケ−ジ10の
信号線層15と配線基板30の信号線層32との接合部
Eにおけるインピーダンスの整合を図るために、信号線
層15、32の幅や、信号線層15、32とグランド層
23、34との間のギャップg2 、g3 の幅等を、誘電
体基板11、31の比誘電率や厚さT1 、T2 に応じ
て、適切な値に設定しなければならない。
In such a case, in order to match the impedance at the junction E between the signal line layer 15 of the high-frequency package 10 and the signal line layer 32 of the wiring board 30, the widths of the signal line layers 15, 32 are adjusted. the width of the gap g 2, g 3 between the signal line 15 and 32 and the ground layer 23, 34, depending on the specific dielectric constant and thickness T 1, T 2 of the dielectric substrate 11 and 31, Must be set to an appropriate value.

【0072】しかしながら、高周波パッケ−ジ10の信
号線層15の幅、配線基板30の信号線層32の幅、ギ
ャップg2 、g3 の幅がそれぞれ異なる値に設定された
場合、例えば、両基板の信号線層15、32の幅は同じ
(w2 =w3 )で、高周波パッケ−ジ10のギャップg
2 の方が配線基板30のギャップg3 よりも小さい場合
(g3 >g2 )、そのまま接続を行うと、接続時のずれ
により、配線基板30の信号線層32と高周波パッケ−
ジ10のグランド層23とが接触して、短絡したり、あ
るいは、半田等を用いた接合時に半田ブリッジが発生し
て、短絡したりして、接続不良となる可能性が高くな
る。
However, when the width of the signal line layer 15 of the high-frequency package 10, the width of the signal line layer 32 of the wiring board 30, and the widths of the gaps g 2 and g 3 are set to different values, for example, The widths of the signal line layers 15 and 32 of the substrate are the same (w 2 = w 3 ), and the gap g of the high-frequency package 10 is
If 2/5 is smaller than the gap g 3 of the wiring board 30 (g 3> g 2) , is performed as it is connected, the displacement at the time of connection, the signal line layer 32 of the wiring board 30 and the high-frequency package -
There is a high possibility that the ground layer 23 of the die 10 comes into contact and short-circuits occur, or a solder bridge is generated at the time of joining using solder or the like and short-circuits occur, resulting in poor connection.

【0073】また、配線基板30の信号線層32の幅w
3 が、高周波パッケ−ジ10の信号線層15とその両側
に設けられたギャップg2 とを含む幅(w2 +2×g
2 )より大きい場合などは、高周波パッケ−ジ10のグ
ランド層23と配線基板30の信号線層32とを短絡さ
せずに接続することは不可能となる。
The width w of the signal line layer 32 of the wiring board 30
3, the high-frequency package - width including the signal line layer 15 di 10 and the gap g 2 provided on both sides thereof (w 2 + 2 × g
2 ) If it is larger than that, it is impossible to connect the ground layer 23 of the high-frequency package 10 and the signal line layer 32 of the wiring board 30 without short-circuiting.

【0074】実施の形態(3)に係る高周波パッケ−ジ
と配線基板との接続構造は、誘電体基板11、31の比
誘電率、厚さT1 、T2 、誘電体基板11、31上に形
成される信号線層15、32Aの幅w2 、w3 、ギャッ
プg2 、g3 の幅wg2、wg3がそれぞれ異なる値に設定
された場合でも、接合部Eにおけるインピ−ダンスの整
合性を高め、優れた伝送特性を備え、さらに実装性を向
上させることができるものとなっている。
The connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (3) is based on the relative permittivity of the dielectric substrates 11 and 31, the thicknesses T 1 and T 2 , and on the dielectric substrates 11 and 31. width of the signal line layer 15,32A formed in the w 2, w 3, even when the width w g2, w g3 of the gap g 2, g 3 is set to different values, Inpi at the junction E - dancing It has improved matching, has excellent transmission characteristics, and can further improve mountability.

【0075】高周波パッケ−ジ10Bを構成する高周波
伝送線路基板20Bの誘電体基板下面11bの所定箇所
には、幅がw2 の薄膜状の信号線層15が形成されてい
る。信号線層15の周囲には、ギャップg2 、ギャップ
21を介してグランド層23が形成されており、接合部E
に形成されているギャップg21の幅wg21 は、接続部E
以外のギャップg2 の幅wg2よりもその幅が大きく設定
されている。
At a predetermined portion of the lower surface 11b of the dielectric substrate of the high-frequency transmission line substrate 20B constituting the high-frequency package 10B, a thin-film signal line layer 15 having a width of w 2 is formed. The gap g 2 and the gap around the signal line layer 15
A ground layer 23 is formed through the junction 21 and the junction E
The width w g21 of the gap g 21 formed at the connection portion E
The width is set to be larger than the width w g2 of the gap g 2 other than.

【0076】また、配線基板30Aを構成する誘電体基
板上面31aの所定箇所には、接合部Eにおける幅がw
31、接合部E以外の幅がw3 の薄膜状の信号線層32A
が形成されている。信号線層32Aの周囲には、ギャッ
プg3 、ギャップg31を介してグランド層34が形成さ
れており、これらによりコプレナ・ウェ−ブガイドが構
成されている。他方、誘電体基板下面31bにはグラン
ド層35が形成されている。
The width at the joint E is w at a predetermined position on the upper surface 31a of the dielectric substrate constituting the wiring substrate 30A.
31 , a thin-film signal line layer 32A having a width w 3 other than the junction E
Are formed. Around the signal line 32A, the gap g 3, and a ground layer 34 is formed via a gap g 31, these by coplanar-web - Bugaido is formed. On the other hand, a ground layer 35 is formed on the lower surface 31b of the dielectric substrate.

【0077】ギャップg21の幅wg21 は、配線基板30
Aの接合部Eにおける信号線層32Aの幅w31及びギャ
ップg31の幅wg31 等を考慮して、適宜設定されるよう
になっている。
The width w g21 of the gap g 21 is equal to the width of the wiring board 30.
Taking into account the width w g31 etc. A signal line width w 31 and gap g 31 of 32A at the junction E of, and is set appropriately.

【0078】また、接合部Eに形成されているギャップ
31の幅wg31 は、接合部Eにおける信号線層32Aの
幅w31が接続部E以外の信号線層32Aの幅w3 より細
く設定されている分だけ、接合部E以外のギャップg3
の幅wg3よりも大きく設定されている。このギャップg
31の幅wg31 は、高周波パッケ−ジ10Bの接合部Eに
おける信号線層15の幅w2 及びギャップg21の幅w
g21 等を考慮して、設定されるようになっている。
The width w g31 of the gap g 31 formed at the junction E is such that the width w 31 of the signal line layer 32A at the junction E is smaller than the width w 3 of the signal line layer 32A other than the connection E. The gap g 3 other than the joint E by the set amount
Is set to be larger than the width w g3 . This gap g
31 the width w of the g31 high-frequency package - the width w of the width w 2 and the gap g 21 of the signal line 15 at the junction E of di 10B
It is set in consideration of g21 and the like.

【0079】すなわち、高周波パッケ−ジ10Bと配線
基板30Aとの接合部Eにおける信号線層15の幅w2
と信号線層32Aの幅w31とを一致させ、さらにギャッ
プg21の幅wg21 とギャップg31の幅wg31 とを一致さ
せる。
That is, the width w 2 of the signal line layer 15 at the junction E between the high-frequency package 10B and the wiring board 30A.
And a width w 31 of the signal line 32A are matched, further match the width w g31 width w g21 and the gap g 31 of the gap g 21.

【0080】その他の構成は、図1及び図2に示したも
のと略同様であるので、ここではその構成の詳細な説明
は省略することとする。このように構成された高周波パ
ッケ−ジ10Bと配線基板30Aとの接続構造では、高
周波信号(図示せず)は、実施の形態(1)に係る高周
波パッケ−ジ10と配線基板30との接続構造と同様に
入出力される。
The other structures are substantially the same as those shown in FIGS. 1 and 2, and a detailed description of the structure is omitted here. In the connection structure between the high-frequency package 10B and the wiring board 30A thus configured, a high-frequency signal (not shown) is used to connect the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the first embodiment. Input and output as well as the structure.

【0081】上記実施の形態(3)に係る高周波パッケ
−ジ10Bと配線基板30Aとの接続構造によれば、上
記実施の形態(1)と略同様の効果を得ることができる
とともに、さらに、接合部Eにおける高周波パッケ−ジ
10Bのギャップg21の幅wg21 が、接合部E以外のギ
ャップg2 の幅wg2より大きく設定され、また配線基板
30Aのギャップg31の幅wg31 が、接合部E以外のギ
ャップg3 の幅wg3よりも大きく設定されているので、
接合部Eにおける信号線層15、32Aのインピ−ダン
スの低下を抑制することができ、接合部Eにおけるイン
ピ−ダンスの整合性を高めることができる。特に、中間
周波数帯域(10GHz〜40GHz)における反射損
失の増大をより一層抑制することができ、伝送特性をさ
らに向上させることができる。また、ギャップg21の幅
g21 、及びギャップg31の幅wg31 の広がりにより高
周波パッケ−ジ10Bと配線基板30Aとの接続作業を
容易に行うことが可能になるとともに、短絡等の接続不
良発生をより確実に防止して、実装性を向上させること
ができる。
According to the connection structure between the high-frequency package 10B and the wiring board 30A according to the above-described embodiment (3), substantially the same effects as those of the above-described embodiment (1) can be obtained. frequency package at the junction E - width w g21 di 10B of the gap g 21 is greater than the width w g2 of the gap g 2 except joint E is set, also the width w g31 of the gap g 31 of the wiring substrate 30A, Since the width w g3 of the gap g 3 other than the joint E is set to be larger,
A decrease in the impedance of the signal line layers 15 and 32A at the junction E can be suppressed, and the impedance matching at the junction E can be improved. In particular, it is possible to further suppress an increase in reflection loss in the intermediate frequency band (10 GHz to 40 GHz), and to further improve transmission characteristics. The width w g21 of the gap g 21, and the high-frequency package by broadening w g31 of the gap g 31 - a it becomes possible to easily perform connecting work between the di 10B and the wiring substrate 30A, such as a short circuit connection failure Generation can be more reliably prevented, and the mountability can be improved.

【0082】なお、上記実施の形態(3)では、高周波
パッケ−ジ10Bと配線基板30Aとの接合部Eにおけ
る信号線層15の幅w2 と信号線層32Aの幅w31とを
一致させ、さらにギャップg21の幅wg21 とギャップg
31の幅wg31 とを一致させた場合(w2 =w31、wg21
=wg31 )について説明したが、高周波パッケ−ジ10
Bと配線基板30Aとの接合部Eにおける信号線層15
の幅w2 と信号線層32Aの幅w31、又はギャップg21
の幅wg21 とギャップg31の幅wg31 を必ずしも一致さ
せる必要はなく、接合部Eにおけるインピーダンスの低
下を十分抑制することができるように、接合部Eにおけ
るギャップg21の幅wg21 が接合部E以外のギャップg
2 の幅wg2よりも大きく、また、接合部Eにおけるギャ
ップg31の幅wg31 が、接合部E以外のギャップg3
幅wg3よりも大きく設定されていればよい。
In the above embodiment (3), the width w 2 of the signal line layer 15 and the width w 31 of the signal line layer 32A at the junction E between the high-frequency package 10B and the wiring board 30A are matched. , further width w g21 and the gap g of the gap g 21
When the width w g31 of 31 is matched (w 2 = w 31 , w g21
= W g31 ), but the high-frequency package 10
Signal line layer 15 at the junction E between B and the wiring board 30A
Width w 2 and the width w 31 of the signal line 32A or gap g 21,
Rather the need to match the width w g31 width w g21 and the gap g 31 necessarily, as a decrease in the impedance at the junction E can be sufficiently suppressed, the width w g21 of the gap g 21 at the junction E are joined Gap other than part E
Greater than the second width w g2, and the width w g31 of the gap g 31 at the junction E is, may be set larger than the width w g3 of the gap g 3 except joint E.

【0083】また、さらに別の実施の形態では、高周波
パッケ−ジ10Bと配線基板30Aとの接合部Eにおけ
る信号線層15の幅w2 と信号線層32Aの幅w31とを
さらに小さくし、その分だけギャップg21の幅wg21
ギャップg31の幅wg31 とを大きくするような構成とす
ることもでき、このような構成とすることで、接合部E
におけるインピーダンスの低下をさらに抑制することが
でき、接合部Eにおけるインピーダンスの整合性をさら
に高めることができる。
In still another embodiment, the width w 2 of the signal line layer 15 and the width w 31 of the signal line layer 32A at the joint E between the high-frequency package 10B and the wiring board 30A are further reduced. , it can also be a correspondingly only so as to increase the width w g31 width w g21 and the gap g 31 of the gap g 21 construction, with such a configuration, the junction E
Can be further suppressed, and the matching of the impedance at the joint E can be further enhanced.

【0084】次に実施の形態(4)に係る高周波パッケ
−ジと配線基板との接続構造について説明する。図5
は、実施の形態(4)に係る高周波パッケ−ジと配線基
板との接続構造を説明するための高周波パッケ−ジ及び
配線基板の要部を拡大して示した分解模式図であり、
(a)は平面図、(b)は下面図である。なお、実施の
形態(1)と同一機能を有する構成部分については同一
の符号を付し、その説明を省略する。
Next, the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (4) will be described. FIG.
FIG. 7 is an exploded schematic view showing an enlarged main part of the high-frequency package and the wiring board for describing a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (4);
(A) is a plan view, (b) is a bottom view. Note that components having the same functions as those of the embodiment (1) are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0085】実施の形態(4)に係る高周波パッケ−ジ
と配線基板との接続構造が実施の形態(1)に係る高周
波パッケ−ジと配線基板との接続構造と相違する点は、
配線基板30Bの構造にある。
The connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (4) is different from the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (1).
This is in the structure of the wiring board 30B.

【0086】配線基板30Bを構成する誘電体基板上面
31aの所定箇所には、接合部Eと、接合部Eからさら
に信号線層32Bの長さ方向に長さD4 分だけ延設され
た領域Fとにおける幅がw31、それ以外の部分の幅がw
3 の薄膜状の信号線層32Bが形成されている。信号線
層32Bの周囲には、ギャップg31、g3 を介してグラ
ンド層34が形成されており、これらによりコプレナ・
ウェ−ブガイドが構成されている。他方、誘電体基板下
面31bにはグランド層35が形成されている。
At a predetermined position on the upper surface 31a of the dielectric substrate constituting the wiring board 30B, a joint E and a region extending from the joint E by a length D 4 in the length direction of the signal line layer 32B are further provided. The width at F is w 31 , and the width of the other parts is w
The third thin film signal line layer 32B is formed. Around the signal line 32B, and the ground layer 34 is formed via a gap g 31, g 3, coplanar, these
A wave guide is configured. On the other hand, a ground layer 35 is formed on the lower surface 31b of the dielectric substrate.

【0087】接合部Eと領域Fとに形成されているギャ
ップg31の幅wg31 は、接合部Eの信号線層32Bの幅
31が、接合部Eと領域F以外の信号線層32Bの幅w
3 より細く設定されている分だけ、ギャップg3 の幅w
g3よりも大きく設定されている。ギャップg31の幅w
g31 は、高周波パッケ−ジ10の接合部Eにおける信号
線層15の幅w2 及びギャップg2 の幅wg2等を考慮し
て、設定されるようになっている。
[0087] the width w g31 of the gap g 31 that are formed at the junctions E and region F, the width w 31 of the signal line 32B of the junction E are, junction E and region F other than the signal line 32B Width w
Only three are from narrow set minute, the width w of the gap g 3
It is set larger than g3 . Width w of the gap g 31
g31 is a high-frequency package - in consideration of such width w g2 width w 2 and the gap g 2 of the signal line 15 at the junction E of the di-10, is adapted to be set.

【0088】また、領域Fにおける長さD4 は、0<D
4 ≦λ0 /4(εr2/2+1/2)1/2 の範囲で設定さ
れている。したがって、長さD4 分だけ、幅が大きく設
定されたギャップg31部分における信号線層32Bのイ
ンピーダンスの低下を抑制することができ、信号線層1
5と信号線層32Bとの接合部Eにおけるインピーダン
スの整合性を高めることができるようになっている。な
お、長さD4 がλ0 /4(εr2/2+1/2)1/2 より
大きくなると、インピーダンスの低下を抑制する効果が
小さくなって、接合部E以外でのインピーダンスの低下
を抑制することができず、反射損失が増大する影響が大
きくなり、伝送特性が劣化するため好ましくない。
The length D 4 in the area F is 0 <D
It is set in the range of 4 ≦ λ 0/4 (ε r2 / 2 + 1/2) 1/2. Therefore, the length D 4 minutes, it is possible to suppress a decrease in the impedance of the signal line layer 32B in the set gap g 31 partial width is large, the signal line 1
5 and the signal line layer 32B at the junction E can be improved in impedance matching. Incidentally, the length D 4 is greater than λ 0/4 (ε r2 / 2 + 1/2) 1/2, and the effect of suppressing the decrease in impedance is reduced, suppressing the decrease in the impedance of the outside bonding portion E This is not preferable because the influence of the reflection loss increases and the transmission characteristics deteriorate.

【0089】このように構成された高周波パッケ−ジ1
0と配線基板30Bとの接続構造では、高周波信号(図
示せず)は、実施の形態(1)に係る高周波パッケ−ジ
10と配線基板30との接続構造と同様に入出力され
る。
The high-frequency package 1 constructed as described above
In the connection structure between the circuit board 0 and the wiring board 30B, a high-frequency signal (not shown) is input and output similarly to the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the first embodiment.

【0090】上記実施の形態(4)に係る高周波パッケ
−ジ10と配線基板30Bとの接続構造によれば、接合
部Eからさらに信号線層32Bの長さ方向に長さD4
だけ幅が広いギャップg31の領域を延設することによ
り、信号線層32Bのインピ−ダンスの低下を抑制する
ことができる。したがって、例えば、接合部Eにおける
ギャップg31の幅wg31 をインピーダンスの低下を十分
抑制できるほど大きく取ることができない場合でも、信
号線層32Bのインピーダンスの低下を抑制することが
でき、信号線層15と信号線層32Bとの接合部Eにお
けるインピーダンスの整合性をさらに高めることができ
る。また、幅広のギャップg31を長さD4 分だけ延設す
ることにより、接合時に高周波パッケ−ジ10が配線基
板30Bの信号線層32Bの長さ方向に多少ずれたとし
ても、上記長さD4 の範囲内であれば接続不良発生を起
こすことなく確実に接続することができる。したがっ
て、高周波パッケ−ジ10と配線基板30Bとの接続作
業を一層容易に行うことが可能になるとともに、短絡等
の接続不良発生をさらに減らすことができ、実装性をよ
り一層向上させることができる。
According to the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30B according to the above embodiment (4), the width from the joint E to the length of the signal line layer 32B by the length D 4 is further increased. by extending the wide area of the gap g 31, Inpi the signal line 32B - it is possible to suppress a decrease of the dance. Therefore, for example, even when the width w g31 of the gap g 31 at the joint E cannot be made large enough to sufficiently suppress the decrease in the impedance, the decrease in the impedance of the signal line layer 32B can be suppressed, and the signal line layer 32B can be suppressed. It is possible to further enhance the impedance matching at the junction E between the signal line 15 and the signal line layer 32B. Further, by extending the length D 4 minutes a wide gap g 31, the high-frequency package at the time of joining - even di 10 is slightly shifted in the longitudinal direction of the signal line 32B of the wiring substrate 30B, the length it can be securely connected without causing connection failure as long as it is within the range of D 4. Therefore, the connection work between the high-frequency package 10 and the wiring board 30B can be performed more easily, and the occurrence of connection failure such as a short circuit can be further reduced, and the mountability can be further improved. .

【0091】なお上記実施の形態(4)では、配線基板
30B側に関してのみ、幅広のギャップg31が接合部E
からさらに信号線層32Bの長さ方向に長さD4 だけ延
設され場合について説明したが、別の実施の形態では、
高周波パッケ−ジ10側も同様に、幅が大きく設定され
たギャップg21(図4(b)参照)が接合部Eから信号
線層15の長さ方向に延設されていてもよい。あるい
は、配線基板30Bと高周波パッケ−ジ10との両方に
幅が大きく設定されたギャップg31、g21が接合部Eか
ら信号線層32B、15の長さ方向に延設されていても
よい。なお、この場合には、配線基板30B側において
延設される長さD4 と、高周波パッケ−ジ10側におい
て延設される長さD4 との和が、信号線層32B、15
を伝播する高周波信号の波長の4分の1以下に設定され
ることが好ましい。
[0091] Note that in the embodiment (4), only with respect to the wiring substrate 30B side, wider gap g 31 is the junction E
In yet has been described is extended by the length D 4 in the longitudinal direction of the signal line 32B, another embodiment from
Similarly, on the high-frequency package 10 side, a gap g 21 (see FIG. 4B) having a large width may be extended from the joint E in the length direction of the signal line layer 15. Alternatively, gaps g 31 and g 21 whose widths are set to be large in both the wiring board 30B and the high-frequency package 10 may extend from the junction E in the length direction of the signal line layers 32B and 15. . In this case, the length D 4 which extends in the wiring substrate 30B side, the high-frequency package - the sum of the length D 4 which extends in the di 10 side, the signal line 32B, 15
Is preferably set to 以下 or less of the wavelength of the high-frequency signal propagating through.

【0092】次に実施の形態(5)に係る高周波パッケ
−ジと配線基板との接続構造について説明する。図6
は、実施の形態(5)に係る高周波パッケ−ジと配線基
板との接続構造を説明するための高周波パッケ−ジ及び
配線基板の要部を拡大して示した分解模式図であり、
(a)は平面図、(b)は下面図である。なお、実施の
形態(1)と同一機能を有する構成部分については同一
の符号を付し、その説明を省略する。
Next, the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (5) will be described. FIG.
FIG. 9 is an exploded schematic view showing an enlarged main part of the high-frequency package and the wiring board for describing a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (5);
(A) is a plan view, (b) is a bottom view. Note that components having the same functions as those of the embodiment (1) are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0093】高周波パッケ−ジ10Cを構成する高周波
伝送線路基板20Cの誘電体基板上面11aの所定箇所
には、幅がw1 の薄膜状の信号線層14が形成されてい
る。信号線層14の周囲には、ギャップg1 を介してグ
ランド層22が形成されており、これらによりコプレナ
・ウェ−ブガイドが構成されている。
[0093] RF package - the predetermined portion of the dielectric substrate top surface 11a of the high-frequency transmission line substrate 20C constituting the di 10C, width film-like signal line 14 of w 1 is formed. Around the signal line 14 and ground layer 22 is formed via a gap g 1, these by coplanar-web - Bugaido is formed.

【0094】また、信号線層14の導体ビア側端部14
aから配線基板接続側一側面20cまでの間の領域22
aには、グランド層22が形成されていない構成となっ
ている。この領域22aは、少なくとも信号線層15と
対向する部分を含んでおり、幅が(w1 +2×wg1)に
設定された信号線層14の導体ビア側端部14aから配
線基板接続側一側面20cの手前D3 までの間の部分
と、幅が(w3 +2×wg3)に設定された配線基板接続
側一側面20cの手前D3 から配線基板接続側一側面2
0cまでの間の部分とから構成されている。
Further, the conductor via-side end 14 of the signal line layer 14
a to the wiring board connection side one side surface 20c
a has a configuration in which the ground layer 22 is not formed. The region 22a includes at least a portion opposing the signal line layer 15, and extends from the conductor via side end 14a of the signal line layer 14 having a width set to (w 1 + 2 × w g1 ) to the wiring board connection side. and a portion between the up front D 3 sides 20c, the width (w 3 + 2 × w g3 ) line from the front D 3 of which is set to a wiring board connection side one side 20c board connection side one side 2
0c.

【0095】高周波パッケ−ジ10Cでは、領域22a
においてグランド層22を形成しない効果を確実に得る
ために、蓋体12Aは、絶縁材料、例えば、アルミナや
プラスチック等を用いて構成され、その封止には、ガラ
スや樹脂等の接着剤が用いられる。
In the high-frequency package 10C, the region 22a
In order to reliably obtain the effect of not forming the ground layer 22, the lid 12A is made of an insulating material, for example, alumina, plastic, or the like, and an adhesive such as glass or resin is used for sealing. Can be

【0096】あるいは、絶縁材料を用いて構成される蓋
体12Aを用いる代わりに、高周波伝送線路基板20C
の外周部に誘電体基板11と同じ材質の枠状の壁を同時
焼成により形成し、その壁上に、金属製の蓋体あるいは
枠体により封止してもよい。なお、この場合、高周波パ
ッケ−ジ10Cの領域22aにおいてグランド層22を
形成しない効果を確実に得るためには、前記枠状の壁の
高さを0.1mm以上、さらに好ましくは0.2mm以
上に設定することが好ましい。前記枠状の壁の高さが
0.1mmより低いと、金属製の蓋体あるいは枠体によ
る影響で、領域22aにグランド層22を形成しない効
果を十分に発現させることができず、インピーダンスの
整合が不十分となる。
Alternatively, instead of using the lid 12A made of an insulating material, the high-frequency transmission line substrate 20C
A frame-shaped wall of the same material as the dielectric substrate 11 may be formed on the outer peripheral portion by simultaneous firing, and the wall may be sealed with a metal lid or frame. In this case, in order to reliably obtain the effect of not forming the ground layer 22 in the region 22a of the high-frequency package 10C, the height of the frame-shaped wall should be 0.1 mm or more, more preferably 0.2 mm or more. It is preferable to set If the height of the frame-shaped wall is lower than 0.1 mm, the effect of not forming the ground layer 22 in the region 22a cannot be sufficiently exerted due to the influence of the metal lid or the frame, and the impedance of the impedance cannot be reduced. Poor alignment.

【0097】また、高周波パッケ−ジ10Cを構成する
高周波伝送線路基板20Cの誘電体基板下面11bの配
線構造は、図4(b)に示したものと略同様であり、ま
た、配線基板30Aの構造も、図4に示したものと同様
であるので、ここではその詳細な説明を省略することと
する。
The wiring structure of the lower surface 11b of the dielectric substrate of the high-frequency transmission line substrate 20C constituting the high-frequency package 10C is substantially the same as that shown in FIG. 4B. The structure is also the same as that shown in FIG. 4, and a detailed description thereof will be omitted here.

【0098】このように構成された高周波パッケ−ジ1
0Cと配線基板30Aとの接続構造では、高周波信号
(図示せず)は、実施の形態(1)に係る高周波パッケ
−ジ10と配線基板30との接続構造と同様に入出力さ
れる。
The high-frequency package 1 constructed as described above
In the connection structure between the OC and the wiring board 30A, a high-frequency signal (not shown) is input and output similarly to the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the first embodiment.

【0099】上記実施の形態(5)に係る高周波パッケ
−ジ10Cと配線基板30Aとの接続構造によれば、信
号線層14の導体ビア接続側端部14aから配線基板接
続側一側面20cまでの間の領域22aにはグランド層
22が形成されていないことから、信号線層15とグラ
ンド層22との間、及び信号線層32Aとグランド層2
2との間の容量成分を小さくすることができ、特に高周
波領域における伝送特性の劣下を阻止し、より一層の高
周波領域に渡ってインピーダンスの整合を図り、より伝
送特性に優れた接続構造とすることができる。
According to the connection structure between the high-frequency package 10C and the wiring board 30A according to the embodiment (5), from the conductor via connection side end 14a of the signal line layer 14 to the wiring board connection side one side face 20c. The ground layer 22 is not formed in the region 22a between the signal line layer 15 and the ground layer 22, and between the signal line layer 32A and the ground layer 2A.
2 can prevent the deterioration of the transmission characteristics particularly in the high-frequency region, achieve impedance matching over the higher-frequency region, and provide a connection structure with more excellent transmission characteristics. can do.

【0100】また、蓋体12Aが、絶縁材料を用いて構
成されている場合には、領域22aにグランド層22を
形成していないことで得ることのできる高周波領域での
伝送特性の劣下を防止する効果を確実に得ることができ
る。
When the lid 12A is made of an insulating material, the deterioration of the transmission characteristics in the high frequency region, which can be obtained by not forming the ground layer 22 in the region 22a, is reduced. The effect of prevention can be reliably obtained.

【0101】[0101]

【実施例及び比較例】以下、実施例に係る高周波パッケ
−ジと配線基板とを用いて、以下の条件で伝送特性(挿
入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を調査した結
果について説明する。
EXAMPLES AND COMPARATIVE EXAMPLES Hereinafter, the transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) were investigated using the high-frequency package and the wiring board according to the examples under the following conditions. Will be described.

【0102】実施例1、2においては、実施の形態
(1)に係る高周波パッケ−ジ10と配線基板30との
接続構造における、伝送特性(挿入損失S21)、反射特
性(反射損失S11)を調査した。
In Examples 1 and 2, the transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) in the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to Embodiment (1). )investigated.

【0103】また、比較例1には配線基板の導体ビア3
6a、36bが全く形成されていないもの、比較例2に
は高周波パッケ−ジの導体ビア24a、24bが全く形
成されていないもの、比較例3には、高周波パッケ−ジ
の導体ビア24a、24b、及び配線基板の導体ビア3
6a、36bがいずれも形成されていないものを選び、
高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造における、伝
送特性(挿入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を
調査した。
In Comparative Example 1, the conductor via 3 of the wiring board was used.
6a and 36b were not formed at all, Comparative Example 2 was formed without conductor vias 24a and 24b of the high-frequency package, and Comparative Example 3 was formed with conductor vias 24a and 24b of the high-frequency package. , And the conductor via 3 of the wiring board
6a and 36b are not formed, and are selected.
The transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of the connection structure between the high-frequency package and the wiring board were investigated.

【0104】上記各接続構造における伝送特性(挿入損
失S21)、反射特性(反射損失S11)は、TLM(Tran
smission Line Modeling) 法を用いた3次元電磁界シミ
ュレ−ションにより解析を行った。
The transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of each connection structure are TLM (Tran).
The analysis was performed by three-dimensional electromagnetic field simulation using the smission line modeling method.

【0105】実施例1、2、比較例1、2、3に係る高
周波パッケージ10の誘電体基板11の厚さT1 、比誘
電率εr1、信号線層14、15の幅w1 、w2 、信号線
層14、15とグランド層22、23とのギャップg
1 、g2 、配線基板30の誘電体基板31の厚さT2
比誘電率εr2、信号線層32の幅w3 、信号線層32と
グランド層34とのギャップg3 をそれぞれ下記の表1
に示した。
The thickness T 1 , the relative permittivity ε r1 of the dielectric substrate 11 and the width w 1 , w of the signal line layers 14 and 15 of the high-frequency package 10 according to the first and second embodiments and the first to third comparative examples. 2 , the gap g between the signal line layers 14 and 15 and the ground layers 22 and 23
1 , g 2 , the thickness T 2 of the dielectric substrate 31 of the wiring substrate 30,
The relative permittivity ε r2 , the width w 3 of the signal line layer 32, and the gap g 3 between the signal line layer 32 and the ground layer 34 are shown in Table 1 below.
It was shown to.

【0106】[0106]

【表1】 [Table 1]

【0107】また、実施例1、2、比較例1、2、3に
係る高周波パッケ−ジ10の導体ビア24a、24bの
間隔Wp 、及び配線基板10の導体ビア35a、35b
の間隔Wb をそれぞれ下記の表2に示した。なお、接合
部の幅D3 は、実施例1、比較例1〜3では、0.3m
m、実施例2では、0.2mmに設定した。
Further, the distance W p between the conductor vias 24a and 24b of the high-frequency package 10 according to the first and second embodiments and the comparative examples 1, 2 and 3, and the conductor vias 35a and 35b of the wiring board 10
It is shown in Table 2 below and the interval W b, respectively. The width D 3 of the junction, Example 1, Comparative Example 1 to 3, 0.3 m
m, and in Example 2, it was set to 0.2 mm.

【0108】[0108]

【表2】 [Table 2]

【0109】実施例1における条件でシミュレ−ション
を行い、解析した結果、図7に示す伝送特性(挿入損失
21)、反射特性(反射損失S11)が得られた。図7か
ら明らかなように、実施例1に係る高周波パッケ−ジと
配線基板との接続構造では、ビア列間隔による影響を受
ける40GHzを越える付近まで、S21>−1.0d
B、S11<−18dBという優れた伝送特性(挿入損失
21)及び反射特性(反射損失S11)を有していた。
A simulation was performed under the conditions in the first embodiment, and as a result of analysis, the transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) shown in FIG. 7 were obtained. As is clear from FIG. 7, in the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the first embodiment, S 21 > −1.0d until the vicinity of more than 40 GHz affected by the via row interval.
B, had excellent transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of S 11 <−18 dB.

【0110】また図8には、実施例1における条件を満
たすサンプルを作製し、ネットワ−クアナライザを使用
して、高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造におけ
る伝送特性(挿入損失S21)及び反射特性(反射損失S
11)を測定した結果を示している。図8から明らかなよ
うに、約48GHz付近までリップルがなく、約48G
Hz付近までS21>−1.5dB、S11<−18dBと
いう優れた伝送特性(挿入損失S21)及び反射特性(反
射損失S11)を有するものであった。
FIG. 8 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board using a network analyzer by preparing a sample satisfying the conditions in the first embodiment. And reflection characteristics (reflection loss S
11 ) shows the measurement results. As is clear from FIG. 8, there is no ripple up to about 48 GHz,
Up to the vicinity of Hz, it had excellent transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of S 21 > −1.5 dB and S 11 <−18 dB.

【0111】図9は、比較例1における条件でシミュレ
−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性(挿入
損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示している。
高周波パッケ−ジにのみ導体ビア列を有する比較例1で
は、低周波数帯域から、徐々に挿入損失S21が大きくな
る傾向が見られており、40GHz付近では、S21が−
3.0dBに達し、伝送特性が劣化し始めている。
FIG. 9 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions of Comparative Example 1 and analyzing the result.
Frequency package - Comparative Example 1 has a conductive via columns only di, from a low frequency band, it has been gradually tendency that the insertion loss S 21 is increased in the vicinity 40 GHz, S 21 is -
It has reached 3.0 dB, and the transmission characteristics have started to deteriorate.

【0112】また図10は、比較例2における条件でシ
ミュレ−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性
(挿入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示して
いる。配線基板にのみ導体ビア列を有する比較例2で
は、比較例1と同様に低周波数帯域から、徐々に挿入損
失S21が大きくなっており、40GHz付近では、S21
が−2.5dBに達し、伝送特性が劣化し始めている。
FIG. 10 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions of Comparative Example 2 and analyzing the result. In Comparative Example 2 having a conductive via columns only in the wiring substrate, from a low frequency band in the same manner as in Comparative Example 1, and gradually insertion loss S 21 is increased in the vicinity 40 GHz, S 21
Has reached -2.5 dB, and the transmission characteristics have started to deteriorate.

【0113】また図11は、比較例3における条件でシ
ミュレ−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性
(挿入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示して
いる。高周波パッケ−ジ及び配線基板のいずれにも導体
ビア列を有さない比較例3では、比較例1、2よりもさ
らに顕著に低周波数帯域から、挿入損失S21が大きくな
る傾向を示すものであり、伝送特性の劣下が顕著に見ら
れた。
FIG. 11 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions of Comparative Example 3 and analyzing the result. Frequency package - Comparative Example 3 having no conductive via columns in either di- and wiring board, shows further from significantly lower frequency band than the Comparative Examples 1 and 2, the tendency of the insertion loss S 21 is greater The transmission characteristics deteriorated remarkably.

【0114】図12では、実施例2における条件でシミ
ュレ−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性
(挿入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示して
いる。実施例2では、Wp =Wb =0.61mmとしてさらに
高周波化に対応させたものである。図12から明らかな
ように、実施例2に係る高周波パッケ−ジと配線基板と
の接続構造では、約70GHz以下において、S21>−
2.0dB、S11<−14dBという優れた伝送特性
(挿入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を有して
いた。
FIG. 12 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions of the second embodiment and analyzing the result. In Example 2, in which further made to correspond to the high frequency as W p = W b = 0.61mm. As is clear from FIG. 12, in the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the second embodiment, at a frequency of about 70 GHz or less, S 21 > −.
It had excellent transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of 2.0 dB and S 11 <−14 dB.

【0115】また図13には、実施例2における条件を
満たすサンプルを作製し、ネットワ−クアナライザを使
用して、高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造にお
ける伝送特性(挿入損失S21)及び反射特性(反射損失
11)を測定した結果を示している。反射損失S11は、
図12に示したシミュレ−ション結果よりも少し劣化し
ている傾向は見られるものの、挿入損失S21は、0〜8
2GHz付近までの全周波数帯域において、際立ったリ
ップルの発生もなく、伝送損失の低減が図られ、優れた
伝送特性を有するものであった。
FIG. 13 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) in a connection structure between a high-frequency package and a wiring board using a network analyzer by preparing a sample satisfying the conditions in the second embodiment. And the results of measuring reflection characteristics (reflection loss S 11 ). Reflection loss S 11 is,
Simulator shown in FIG. 12 - although the tendency is seen that slightly degraded from Deployment result, the insertion loss S 21 is 0-8
In the entire frequency band up to around 2 GHz, no noticeable ripple was generated, the transmission loss was reduced, and the transmission characteristics were excellent.

【0116】次に、実施例3〜6に係る高周波パッケ−
ジと配線基板との接続構造について説明する。実施例1
では、接合部Eの幅D3 が0.3mmに設定された場合
について説明したが、実施例3〜5では、さらに接合部
Eにおける幅D3 が伝送特性と反射特性とに与える影響
も調べるため、接合部Eの幅D3 を、0.2、0.3、
0.4、0.5mmに変化させた場合の伝送特性につい
ても調査を行った。
Next, the high-frequency packages according to Examples 3 to 6
The connection structure between the device and the wiring board will be described. Example 1
In, the width D 3 of the junction E has been described when it is set to 0.3 mm, in Example 3-5, the width D 3 in yet junction E also examine effects on the reflection and transmission characteristics Therefore, the width D 3 of the joint E is set to 0.2, 0.3,
Investigations were also made on the transmission characteristics when changing to 0.4 and 0.5 mm.

【0117】実施例3では、実施の形態(1)に係る高
周波パッケ−ジ10と配線基板30との接続構造を、実
施例4では、実施の形態(3)に係る高周波パッケ−ジ
10Bと配線基板30Aとの接続構造を、実施例5で
は、実施の形態(4)に係る高周波パッケ−ジ10と配
線基板30Bとの接続構造を使用した。
In the third embodiment, the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring board 30 according to the embodiment (1) is described. In the fourth embodiment, the connection structure between the high-frequency package 10B and the high-frequency package 10B according to the third embodiment is used. In Example 5, the connection structure between the high-frequency package 10 and the wiring substrate 30B according to Embodiment (4) was used as the connection structure with the wiring substrate 30A.

【0118】また、実施例6では、実施の形態(5)に
係る高周波パッケ−ジ10Cと配線基板30Aとの接続
構造を使用して、接合部Eの幅D3 を0.3mmとし、
実施例4との比較を行った。
[0118] In Example 6, the high-frequency package according to the embodiment (5) - with a connection structure between di 10C and the wiring substrate 30A, the width D 3 of the junction E and 0.3 mm,
Comparison with Example 4 was performed.

【0119】実施例3〜6の各接続構造における伝送特
性(挿入損失S21)と、反射特性(反射損失S11)とを
TLM法を用いた3次元電磁界シミュレ−ションにより
解析を行った。
The transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and the reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of each connection structure of Examples 3 to 6 were analyzed by three-dimensional electromagnetic field simulation using the TLM method. .

【0120】実施例3〜6に係る高周波パッケージ1
0、10B、10Cの誘電体基板11の厚さT1 、比誘
電率εr1、信号線層14、15の幅w1 、w2 、信号線
層14、15とグランド層22、23との間のギャップ
1 、g2 の幅wg1、wg2、接合部のギャップg21の幅
g21 、及び配線基板30、30A、30Bの誘電体基
板31の厚さT2 、比誘電率εr2、信号線層32、32
A、32Bの幅w3 、接合部Eの信号線層32、32
A、32Bの幅w31、信号線層32、32A、32Bと
グランド層34とのギャップg3 の幅wg3、接合部Eに
おけるギャップg31の幅wg31 をそれぞれ下記の表3に
示した。
High-frequency Package 1 According to Embodiments 3 to 6
0, 10B, and 10C, the thickness T 1 of the dielectric substrate 11, the relative permittivity ε r1 , the widths w 1 and w 2 of the signal line layers 14 and 15, and the relationship between the signal line layers 14 and 15 and the ground layers 22 and 23. The widths w g1 and w g2 of the gaps g 1 and g 2 therebetween , the width w g21 of the gap g 21 at the junction, the thickness T 2 of the dielectric substrate 31 of the wiring boards 30, 30A and 30B, and the relative permittivity ε r2 , signal line layers 32, 32
A, 32B width w 3 , signal line layers 32, 32 at junction E
Table 3 below shows the width w 31 of A, 32B, the width w g3 of the gap g 3 between the signal line layers 32, 32A, 32B and the ground layer 34, and the width w g31 of the gap g 31 at the junction E. .

【0121】[0121]

【表3】 [Table 3]

【0122】また、実施例3〜6に係る高周波パッケ−
ジ10、10B、10Cの導体ビア24a、24bの間
隔Wp 、及び配線基板30、30A、30Bの導体ビア
35a、35bの間隔Wb をそれぞれ下記の表4に示し
た。なお、実施例3〜6において、導体ビア24aどう
し、導体ビア24bどうしの間隔D1 は0.35mm、
導体ビア36aどうし、導体ビア36bどうしの間隔D
2 は0.70mmに設定した。
The high-frequency packages according to Examples 3 to 6
Di 10 and 10B, shown conductive vias 24a of 10C, distance W p of 24b, and the wiring board 30, 30A, conductive via 35a of 30B, an interval W b and 35b, respectively Table 4 below. In Examples 3-6, and if the conductor vias 24a, spacing D 1 of the and if the conductor vias 24b are 0.35 mm,
Spacing D between conductive vias 36a and conductive vias 36b
2 was set to 0.70 mm.

【0123】[0123]

【表4】 [Table 4]

【0124】実施例3における条件でシミュレ−ション
を行い、解析した結果、図14に示した伝送特性(挿入
損失S21)、反射特性(反射損失S11)が得られた。図
14から明らかなように、実施例3に係る高周波パッケ
−ジと配線基板との接続構造では、幅D3 を0.2mm
から0.5mmに増加させるにつれ、50GHz以下の
中間周波数帯の反射損失S11が増加する傾向が見られ
た。これは、接合部Eの幅D3 が大きくなるにつれて、
接合部Eでの反射損失S11が大きくなりインピーダンス
の整合が取れにくくなるためと考えられる。しかしなが
ら、40GHz以下の周波数帯域では、いずれも、S21
>−1.0dB、S11<−10dBという良好な伝送特
性(挿入損失S21)、及び反射特性(反射損失S11)が
得られた。
Simulation was performed under the conditions in the third embodiment, and as a result of analysis, transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) shown in FIG. 14 were obtained. As apparent from FIG. 14, the high-frequency package according to the third embodiment - In the connection structure between di and the wiring substrate, 0.2 mm width D 3
As increased to 0.5mm from the reflection loss S 11 of the following intermediate frequency band 50GHz tended to increase. This is because as the width D 3 of the joint E increases,
Presumably because the reflection loss S 11 at the junction E are less likely it is consistent of increases and impedance. However, in the frequency band of 40 GHz or less, any of S 21
Good transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of> −1.0 dB and S 11 <−10 dB were obtained.

【0125】図15は、実施例4における条件でシミュ
レ−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性(挿
入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示してい
る。接合部Eにおけるギャップg21、g31の幅wg21
g31 がギャップg2 、g3 の幅wg2、wg3よりも大き
く設定された実施例4では、接合部Eの幅D3 を0.2
mmから0.5mmに増加させても、40GHz以下の
中間周波数帯域では、実施例3のような反射損失S11
増加傾向が見られず、いずれもS21>−0.5dB、S
11<−20dBという極めて優れた伝送特性(挿入損失
21)、及び反射特性(反射損失S11)を有していた。
FIG. 15 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions in the fourth embodiment and analyzing the result. The width w g21 of the gap g 21 at the junction E, g 31 ,
In the fourth embodiment in which w g31 is set to be larger than the widths w g2 and w g3 of the gaps g 2 and g 3 , the width D 3 of the joint E is set to 0.2.
be increased to 0.5mm from mm, the following intermediate frequency band 40 GHz, not observed increase in return loss S 11 as in Example 3, both S 21> -0.5 dB, S
It had extremely excellent transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of 11 <−20 dB.

【0126】なお、実施例4では、高周波パッケ−ジ1
0Bにおける接合部Eのギャップg21の幅wg21 を0.
395mmとすることにより、接合部Eにおける導体ビ
ア24a、24bがグランド層23に覆われない部分が
発生するが、グランド層23に覆われるように、この部
分の導体ビア24a、24bの間隔Wp を大きくするこ
とは、伝送できる最高信号周波数が低下するので好まし
くない。
In the fourth embodiment, the high-frequency package 1
0B, the width w g21 of the gap g 21 of the joint E is set to 0.
By setting it to 395 mm, a portion where the conductor vias 24a and 24b in the joint portion E is not covered by the ground layer 23 is generated. However, the space W p between the conductor vias 24a and 24b in this portion is covered so as to be covered by the ground layer 23. Is not preferable because the maximum signal frequency that can be transmitted decreases.

【0127】図16は、実施例5における条件でシミュ
レ−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性(装
入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示してい
る。配線基板30Bの接合部Eと領域F(D4 =0.2
mmに設定)とに幅wg31のギャップg31が形成されて
いる実施例5では、接合部Eの幅D3 を0.2mmから
0.5mmに増加させても、40GHz以下の中間周波
数帯域では、伝送特性、反射特性ともに変化は小さく、
いずれもS21>−0.5dB、S11<−16dBという
優れた伝送特性(挿入損失S21)、及び反射特性(反射
損失S11)を有する結果が得られた。
FIG. 16 shows a transmission characteristic (charge loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions in the fifth embodiment and analyzing the result. The junction E of the wiring board 30B and the region F (D 4 = 0.2
In Example 5 the gap g 31 of width w g31 in the set mm) is formed, even if the width D 3 of the junction E is increased from 0.2mm to 0.5 mm, the following intermediate frequency band 40GHz Then, the change is small in both transmission characteristics and reflection characteristics,
In each case, excellent transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) of S 21 > −0.5 dB and S 11 <−16 dB were obtained.

【0128】また、実施例4と比較すると、実施例5の
方が、反射損失S11が3dB〜5dB前後大きくなっ
て、反射特性がわずかに劣化しているが、この要因とし
ては、以下のことが考えられる。実施例5では、高周波
パッケ−ジ10の接合部Eのギャップg2 の幅wg2が配
線基板30Bのギャップg31の幅wg31 より0.185
mm小さいために、接合部Eにおけるインピーダンスが
実施例4の場合よりも低下している。一方で、実施例5
では、配線基板30Bの領域Fにおけるギャップg31
幅wg31 が0.395mmと大きく設定されているた
め、この領域Fにおける信号線層32Bのインピーダン
スの低下を抑制することができる。しかしながら、実施
例5では、実施例4に比べて信号線層32Bのインピー
ダンスの不連続部が増加した影響により、反射特性がわ
ずかに劣化したものと考えられる。
[0128] In comparison to Example 4, towards the Example 5, the reflection loss S 11 is increased before and after 3DB~5dB, the reflection characteristic is deteriorated slightly, as this factor, the following It is possible. In Example 5, the high-frequency package - than the width w g31 of the gap g 31 of width w g2 of the gap g 2 of the junction E wiring board 30B di 10 0.185
Since the distance is smaller by 1 mm, the impedance at the joint E is lower than that in the fourth embodiment. On the other hand, Example 5
Since the width w g31 of the gap g 31 in the region F of the wiring board 30B is set as large as 0.395 mm, a decrease in the impedance of the signal line layer 32B in this region F can be suppressed. However, in the fifth embodiment, it is considered that the reflection characteristics slightly deteriorated due to the influence of the increased discontinuity of the impedance of the signal line layer 32B as compared with the fourth embodiment.

【0129】図17は、実施例6における条件でシミュ
レ−ションを行い、解析した結果得られた伝送特性(挿
入損失S21)、反射特性(反射損失S11)を示してい
る。領域22aにグランド層22が形成されていない高
周波パッケ−ジ10Cを用いた実施例6では、48GH
z以下における反射損失S11が実施例4より大きくなっ
ているが、挿入損失S21は、どちらもS21>−1.0d
Bとなっている。一方、48GHzよりさらに高周波数
帯域になると、実施例6の方が、実施例4よりも反射損
失S11が小さくなり、また、挿入損失S21は、60GH
zまでS21>−1.5dBとなり、より高周波側におい
て、優れた伝送特性(挿入損失S21)、反射特性(反射
損失S11)を有していた。
FIG. 17 shows a transmission characteristic (insertion loss S 21 ) and a reflection characteristic (reflection loss S 11 ) obtained by performing a simulation under the conditions in the sixth embodiment and analyzing the result. In the sixth embodiment using the high-frequency package 10C in which the ground layer 22 is not formed in the region 22a, 48 GHz is used.
Although the reflection loss S 11 at z or less is larger than that of the fourth embodiment, the insertion loss S 21 is S 21 > −1.0 d in both cases.
B. On the other hand, further comprising a high frequency band than 48 GHz, towards the Example 6, the smaller the reflection loss S 11 than in Example 4, also, the insertion loss S 21 is, 60GH
Up to z, S 21 > −1.5 dB, and on the higher frequency side, excellent transmission characteristics (insertion loss S 21 ) and reflection characteristics (reflection loss S 11 ) were obtained.

【0130】上記結果から明らかなように、実施例1〜
6に係る高周波パッケージと配線基板との接続構造で
は、高周波パッケ−ジの導体ビア列の間隔と、配線基板
の導体ビア列の間隔とが、誘電体基板の比誘電率と配線
基板の比誘電率とを考慮して設定されているため、接続
箇所での伝送特性(挿入損失S21)の劣化を抑制して、
高周波伝送特性を優れたものにすることができた。
As is clear from the above results, Examples 1 to
In the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to No. 6, the spacing between the conductor via rows of the high-frequency package and the spacing between the conductor via rows of the wiring board are determined by the relative permittivity of the dielectric substrate and the relative permittivity of the wiring board. Rate, the transmission characteristics (insertion loss S 21 ) at the connection point are suppressed from deteriorating.
Excellent high-frequency transmission characteristics were obtained.

【0131】また、実施例4では、接合部Eにおける高
周波パッケ−ジ10Bのギャップg21、及び配線基板3
0Aのギャップg31の幅wg31 を、接合部E以外のギャ
ップg2 及びギャップg3 の幅wg2、wg3よりも大きく
設定することにより、接合部Eにおける信号線層15、
32のインピ−ダンスの低下を抑制することができ、接
合部Eにおけるインピ−ダンスの整合性をさらに高める
ことができた。特に、中間周波数帯域における反射損失
11の増大をより一層抑制することができ、伝送特性を
さらに向上させることができた。
In the fourth embodiment, the gap g 21 of the high-frequency package 10B at the junction E and the wiring board 3
By setting the width w g31 of the gap g 31 of 0 A to be larger than the widths w g2 and w g3 of the gaps g 2 and g 3 other than the junction E, the signal line layer 15 at the junction E is
It was possible to suppress a decrease in impedance of No. 32, and to further improve the consistency of the impedance at the joint E. In particular, it is possible to further suppress the increase in return loss S 11 in the intermediate frequency band, it was possible to further improve the transmission characteristics.

【0132】また実施例5では、配線基板30Bの接合
部Eよりさらに信号線層32Bの長さ方向に長さD4
け幅が大きく設定されるギャップg31の領域を延設した
ことにより、信号線層32Bのインピ−ダンスの低下を
抑制することができ、信号線層15と信号線層32Bと
の接合部Eにおけるインピーダンスの整合性を高めるこ
とができた。
[0132] Also in the fifth embodiment, by the extended area of the gap g 31 of length D 4 by the width further the length of the signal line 32B of the junction E of the wiring board 30B is set larger, A decrease in the impedance of the signal line layer 32B can be suppressed, and the impedance matching at the junction E between the signal line layer 15 and the signal line layer 32B can be improved.

【0133】また実施例6では、領域22aにグランド
層22が形成されていない高周波パッケ−ジ10Cを用
いることによって、より高周波側における信号線層15
に関するインピーダンスの低下を抑制し、接合部Eにお
けるインピーダンスの整合性を高めることができ、特に
高周波領域での伝送特性の劣下を防止することができ
た。
In the sixth embodiment, by using the high-frequency package 10C in which the ground layer 22 is not formed in the region 22a, the signal line layer 15 on the higher frequency side is used.
Thus, the impedance matching at the joint E can be improved, and the deterioration of the transmission characteristics particularly in a high frequency region can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態(1)に係る高周波パッケ
−ジと配線基板との接続構造を模式的に示した部分断面
斜視図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional perspective view schematically showing a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to Embodiment (1) of the present invention.

【図2】実施の形態(1)に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造の要部を拡大して示した模式図であ
り、(a)はA−A線断面図、(b)は平面図、(c)
は下面図である。
FIGS. 2A and 2B are enlarged schematic views showing a main part of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to the embodiment (1), wherein FIG. ) Is a plan view, (c)
Is a bottom view.

【図3】実施の形態(2)に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造の要部を拡大して示した模式図であ
り、(a)は断面図、(b)は平面図、(c)は下面図
である。
FIGS. 3A and 3B are enlarged schematic views showing a main part of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to the embodiment (2), wherein FIG. , (C) is a bottom view.

【図4】実施の形態(3)に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造を説明するための高周波パッケ−ジ
及び配線基板の要部を拡大して示した分解模式図であ
り、(a)は平面図、(b)は下面図である。
FIG. 4 is an exploded schematic view showing an enlarged main part of the high-frequency package and the wiring board for describing a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (3); (A) is a plan view, (b) is a bottom view.

【図5】実施の形態(4)に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造を説明するための高周波パッケ−ジ
及び配線基板の要部を拡大して示した分解模式図であ
り、(a)は平面図、(b)は下面図である。
FIG. 5 is an exploded schematic view showing an enlarged main part of the high-frequency package and the wiring board for describing a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (4); (A) is a plan view, (b) is a bottom view.

【図6】実施の形態(5)に係る高周波パッケ−ジと配
線基板との接続構造を説明するための高周波パッケ−ジ
及び配線基板の要部を拡大して示した分解模式図であ
り、(a)は平面図、(b)は下面図である。
FIG. 6 is an exploded schematic view showing an enlarged main part of the high-frequency package and the wiring board for describing a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the embodiment (5); (A) is a plan view, (b) is a bottom view.

【図7】実施例1に係る高周波パッケ−ジと配線基板と
の接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフであ
る。
FIG. 7 is a graph showing a simulation result of a connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the first embodiment.

【図8】実施例1に係る高周波パッケ−ジと配線基板と
の接続構造のネットワ−クアナライザ測定結果を示した
グラフである。
FIG. 8 is a graph showing a network analyzer measurement result of the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the first embodiment.

【図9】比較例1に係る高周波パッケ−ジと配線基板と
の接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフであ
る。
FIG. 9 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to Comparative Example 1.

【図10】比較例2に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 10 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to Comparative Example 2.

【図11】比較例3に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 11 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to Comparative Example 3.

【図12】実施例2に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 12 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to the second embodiment.

【図13】実施例2に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のネットワ−クアナライザ測定結果を示し
たグラフである。
FIG. 13 is a graph showing the results of a network analyzer measurement of the connection structure between the high-frequency package and the wiring board according to the second embodiment.

【図14】実施例3に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 14 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to a third embodiment.

【図15】実施例4に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 15 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to a fourth embodiment.

【図16】実施例5に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 16 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to a fifth embodiment.

【図17】実施例6に係る高周波パッケ−ジと配線基板
との接続構造のシミュレ−ション結果を示したグラフで
ある。
FIG. 17 is a graph showing a simulation result of a connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to a sixth embodiment.

【図18】従来の高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造を示した模式図であり、(a)は側面断面図、
(b)は(a)におけるB−B線断面斜視図である。
18A and 18B are schematic views showing a conventional connection structure between a high-frequency package and a wiring board, wherein FIG.
(B) is a perspective view taken along the line BB in (a).

【図19】従来の別の高周波パッケ−ジと配線基板との
接続構造を模式的に示した側面断面図である。
FIG. 19 is a side sectional view schematically showing a connection structure between another conventional high-frequency package and a wiring board.

【図20】図19の高周波パッケ−ジと配線基板との接
続構造を模式的に示した図であり、(a)は高周波パッ
ケ−ジの上面図、(b)は高周波パッケ−ジの下面図、
(c)は配線基板の上面図である。
20A and 20B are diagrams schematically showing a connection structure between the high-frequency package of FIG. 19 and a wiring board, wherein FIG. 20A is a top view of the high-frequency package and FIG. Figure,
(C) is a top view of the wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、10A、10B、10C 高周波パッケージ 20、20A、20B、20C 高周波伝送線路基板 24a、24b、36a、36b 導体ビア 22、23、34、35 グランド層 30、30A、30B 配線基板 10, 10A, 10B, 10C High-frequency package 20, 20A, 20B, 20C High-frequency transmission line board 24a, 24b, 36a, 36b Conductive via 22, 22, 34, 35 Ground layer 30, 30A, 30B Wiring board

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高周波パッケ−ジを構成する高周波伝送
線路基板の両主面に形成された第1のグランド層を接続
する第1の導体ビア列の間隔と、 前記高周波パッケ−ジが搭載される配線基板の両主面に
形成された第2のグランド層を接続する第2の導体ビア
列の間隔とが、 これら高周波伝送線路基板と配線基板との間における高
周波伝送特性を高めるために、前記高周波伝送線路基板
の比誘電率と前記配線基板の比誘電率とを考慮して設定
されていることを特徴とする高周波パッケ−ジと配線基
板との接続構造。
1. An interval between first conductor via rows connecting first ground layers formed on both main surfaces of a high-frequency transmission line substrate constituting a high-frequency package, and the high-frequency package is mounted. In order to enhance the high-frequency transmission characteristics between the high-frequency transmission line substrate and the wiring substrate, the distance between the second conductor via rows connecting the second ground layers formed on both main surfaces of the wiring substrate A connection structure between a high-frequency package and a wiring board, wherein the connection structure is set in consideration of a relative permittivity of the high-frequency transmission line board and a relative permittivity of the wiring board.
【請求項2】 前記高周波伝送線路基板の比誘電率をε
r1、前記配線基板の比誘電率をεr2、信号線を伝播する
高周波の真空中における波長をλ0 、前記第1の導体ビ
ア列の間隔をWp 、及び前記第2の導体ビア列の間隔を
b とした場合、 Wp <λ0 /(2×εr1 1/2 )、 かつWb <λ0 /(2×εr2 1/2) の範囲でWp 及びWb が設定されていることを特徴とす
る請求項1記載の高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造。
2. The high-frequency transmission line substrate has a relative dielectric constant of ε.
r1 , the relative permittivity of the wiring board is ε r2 , the wavelength in a high-frequency vacuum propagating through the signal line is λ 0 , the interval between the first conductor via rows is W p , and the second conductor via row is If the distance was W b, W p <λ 0 / (2 × ε r1 1/2), and W b0 / W p and W b is set within the range of (2 × ε r2 1/2) 2. The connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記高周波パッケ−ジが、 前記高周波伝送線路基板の一主面側に第1の信号線と、 該第1の信号線と前記第1のグランド層との間に設けら
れた第1のギャップと、 前記高周波伝送線路基板の他主面側に、その一端が前記
配線基板と接合され、他端が第3の導体ビアを介して前
記第1の信号線と接続された第2の信号線と、 該第2の信号線と前記第1のグランド層との間に設けら
れた第2のギャップとを備え、 前記配線基板が、 前記高周波パッケ−ジとの接合面側に第3の信号線と、 該第3の信号線と前記第2のグランド層との間に設けら
れた第3のギャップとを備え、 前記高周波パッケ−ジと前記配線基板との接合部におけ
る前記第2のギャップの幅が、前記接合部以外の前記第
2のギャップの幅よりも大きく設定されている、 及び/又は、前記接合部における前記第3のギャップの
幅が、前記接合部以外の前記第3のギャップの幅よりも
大きく設定されていることを特徴とする請求項2記載の
高周波パッケ−ジと配線基板との接続構造。
3. The high-frequency package is provided on one main surface side of the high-frequency transmission line board, between a first signal line and the first signal line and the first ground layer. A first gap having a second end connected to the wiring substrate on the other main surface side of the high-frequency transmission line substrate, and a second end connected to the first signal line via a third conductive via; 2 signal lines, and a second gap provided between the second signal lines and the first ground layer, wherein the wiring board is provided on a bonding surface side with the high-frequency package. A third signal line; and a third gap provided between the third signal line and the second ground layer, wherein a third gap is provided at a junction between the high-frequency package and the wiring board. The width of the second gap is set to be larger than the width of the second gap other than the joint. The high-frequency package according to claim 2, wherein the width of the third gap at the joint is set to be larger than the width of the third gap other than the joint. -Connection structure between the die and the wiring board.
【請求項4】 前記高周波伝送線路基板において前記接
合部からさらに前記第2の信号線の長さ方向に幅が大き
く設定される前記第2のギャップ部分の長さをDp 、前
記配線基板において前記接合部からさらに前記第3の信
号線の長さ方向に幅が大きく設定される前記第3のギャ
ップ部分の長さをDb とした場合、 0<Dp ≦λ0 /4(εr1/2+1/2)1/2 、 及び/又は0<Db ≦λ0 /4(εr2/2+1/2)
1/2 の関係が成立することを特徴とする請求項3記載の高周
波パッケ−ジと配線基板との接続構造。
4. In the high-frequency transmission line substrate, the length of the second gap portion, whose width is set to be larger in the length direction of the second signal line from the junction, is D p , If the length of the third gap part width in the length direction of the further the third signal line from the junction is set larger and the D b, 0 <D p ≦ λ 0/4 (ε r1 / 2 + 1/2) 1/2, and / or 0 <D b ≦ λ 0/ 4 (ε r2 / 2 + 1/2)
4. The connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to claim 3, wherein a relationship of 1/2 is satisfied.
【請求項5】 前記高周波伝送線路基板における前記第
1の信号線の前記第3の導体ビア接続側端部から前記配
線基板接続側一側面までの間の所定領域部分には、前記
第1のグランド層が形成されていないことを特徴とする
請求項3又は請求項4記載の高周波パッケ−ジと配線基
板との接続構造。
5. The first high-frequency transmission line substrate includes a first region in a predetermined area between an end of the first signal line on the third conductor via connection side and one side surface of the high frequency transmission line substrate on the wiring substrate connection side. 5. The connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to claim 3, wherein a ground layer is not formed.
【請求項6】 前記所定領域部分が、 少なくとも前記第1の信号線の前記第3の導体ビア接続
側端部から前記配線基板接続側一側面までの間の前記第
2の信号線に対向する部分を含んでいることを特徴とす
る請求項5記載の高周波パッケ−ジと配線基板との接続
構造。
6. The predetermined region portion is opposed to the second signal line at least from an end of the first signal line on the third conductor via connection side to one side surface of the wiring board connection side. 6. The connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to claim 5, including a portion.
【請求項7】 前記所定領域部分が前記高周波パッケ−
ジの封止部にかかる場合には、前記高周波パッケ−ジを
封止するための蓋体、又は前記封止部に形成される枠体
が、絶縁材料を用いて構成されていることを特徴とする
請求項5又は請求項6記載の高周波パッケ−ジと配線基
板との接続構造。
7. The high-frequency package according to claim 1, wherein the predetermined area portion is the high-frequency package
In the case of the sealing portion, the lid for sealing the high-frequency package or the frame formed in the sealing portion is formed using an insulating material. A connection structure between a high-frequency package and a wiring board according to claim 5 or 6.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2004051746A1 (en) * 2002-12-05 2006-04-06 松下電器産業株式会社 High frequency circuit and high frequency package
JP2008141406A (en) * 2006-11-30 2008-06-19 Kyocera Corp Substrate for mounting, transmitter, receiver, transmitter/receiver and radar device
JP2010021198A (en) * 2008-07-08 2010-01-28 Renesas Technology Corp Wiring substrate, and semiconductor device using the same
JP2017209121A (en) * 2016-05-23 2017-11-30 株式会社三共 Game machine

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2004051746A1 (en) * 2002-12-05 2006-04-06 松下電器産業株式会社 High frequency circuit and high frequency package
JP2008141406A (en) * 2006-11-30 2008-06-19 Kyocera Corp Substrate for mounting, transmitter, receiver, transmitter/receiver and radar device
JP4745943B2 (en) * 2006-11-30 2011-08-10 京セラ株式会社 Electronic circuit, transmitter, receiver, transceiver
JP2010021198A (en) * 2008-07-08 2010-01-28 Renesas Technology Corp Wiring substrate, and semiconductor device using the same
JP2017209121A (en) * 2016-05-23 2017-11-30 株式会社三共 Game machine

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