JP2002353638A - Multi-layer copper-clad board suitable for mass productive carbon dioxide laser boring process - Google Patents

Multi-layer copper-clad board suitable for mass productive carbon dioxide laser boring process

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JP2002353638A
JP2002353638A JP2001156987A JP2001156987A JP2002353638A JP 2002353638 A JP2002353638 A JP 2002353638A JP 2001156987 A JP2001156987 A JP 2001156987A JP 2001156987 A JP2001156987 A JP 2001156987A JP 2002353638 A JP2002353638 A JP 2002353638A
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JP
Japan
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copper
copper foil
clad board
carbon dioxide
reference mark
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Application number
JP2001156987A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Ikeguchi
信之 池口
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low cost multi-layer copper-clad board having a reference mark for boring formed thereon and having good mass productivity and workability for forming a small diameter blind via-hole by directly irradiating the multi-layer copper-clad board with a carbon dioxide laser beam after removing copper foil from the surface thereof beforehand. SOLUTION: The multi-layer copper-clad board is manufactured by forming a reference mark at the end part of inner layer copper foil and forming a lamination so that the laminated material does not cover the reference mark. A small diameter blind via-hole can be bored by irradiating the multi-layer copper-clad board with a dioxide laser beam while reading the exposed reference mark by a CCD camera without removing the copper foil and the insulating layer on the reference mark after forming the lamination. The hole can be formed with good mass productivity and workability at a low cost.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、銅箔の一部をあらかじ
め加工除去してから、この部分に炭酸ガスレーザーを照
射してブラインドビア孔を形成するための多層銅張板に
関し、これを用いて得られたプリント配線板は、小径の
孔を有し、細密なパターンが形成された高密度の小型プ
リント配線板として、新規な半導体プラスチックパッケ
ージ用、マザーボード用等に使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer copper-clad board for forming a blind via hole by irradiating a part of a copper foil in advance with a carbon dioxide gas laser and then irradiating the part with a carbon dioxide gas laser. The printed wiring board obtained by using the same is used as a high-density small printed wiring board having a small diameter hole and a fine pattern formed thereon, for a new semiconductor plastic package, a new motherboard, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、炭酸ガスレーザーでブラインドビ
ア孔あけする場合、孔あけするためにCCDカメラで読み
込む基準マークは、多層銅張板の内層板の銅箔を加工し
て形成し、この内層板の銅箔表面に必要により化学処理
を施し、その上にプリプレグ及び銅箔を置き、加熱、加
圧下に積層成形して作製するために、基準マークは銅箔
と絶縁層の下に存在し、この基準マークをCCDカメラで
読み込むためには、表層の銅箔をエッチング除去して硬
化した樹脂層の上から読み込むか、銅箔と絶縁層を座ぐ
り等で削って基準マークを露出し、これを読み込む等、
作業性、量産性、コスト面で問題のあるものであった。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a blind via hole is formed with a carbon dioxide gas laser, a reference mark read by a CCD camera for making the hole is formed by processing a copper foil of an inner layer of a multilayer copper clad board. If necessary, apply a chemical treatment to the copper foil surface of the board, place a prepreg and copper foil on it, laminate it under heating and pressurization, and make a fiducial mark under the copper foil and insulating layer. In order to read this fiducial mark with a CCD camera, read the copper foil on the surface layer from the hardened resin layer by etching and remove it, or expose the fiducial mark by shaving the copper foil and insulating layer with a counterbore etc. Read this,
There were problems with workability, mass productivity, and cost.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、多層銅張板
の銅箔の一部をあらかじめ加工した上から炭酸ガスレー
ザーを照射して孔あけするに際し、CCDカメラで読み込
む基準マークを、何も加工せずにそのまま使用できるよ
うにし、作業性、量産性、価格の点で優位な高密度プリ
ント配線板を作製するための多層銅張板を提供するもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION In the present invention, when a part of copper foil of a multilayer copper clad board is pre-processed and a carbon dioxide laser is irradiated to form a hole, a reference mark read by a CCD camera is used. It is intended to provide a multilayer copper-clad board for manufacturing a high-density printed wiring board which is advantageous in terms of workability, mass productivity, and price without processing.

【0004】[0004]

【発明が解決するための手段】多層銅張板の銅箔の一部
をエッチング除去し、この上から炭酸ガスレーザーを照
射してブラインドビア孔をあける場合、CCDカメラで読
み込む基準マークが必要である。この基準マークは内層
板の端部に銅箔を加工して作製するが、この場合に内層
板を少し積層サイズより大きくし、はみ出した箇所に基
準孔を形成し、積層しても樹脂流れで樹脂が基準マーク
を被覆しないようにすることにより、この多層銅張板を
前加工して基準マークを露出する必要もなく、作業性面
で煩雑さもなく、価格の点でもコストダウンできるもの
であり、量産性に優れたものが得られた。
When a part of the copper foil of the multilayer copper clad board is etched and removed, and a carbon dioxide laser is irradiated thereon to form a blind via hole, a reference mark read by a CCD camera is required. is there. This reference mark is made by processing copper foil at the end of the inner layer plate.In this case, the inner layer plate is slightly larger than the lamination size, a reference hole is formed in the protruding part, By preventing the resin from covering the reference mark, there is no need to pre-process this multilayer copper clad plate to expose the reference mark, there is no complexity in terms of workability, and the cost can be reduced in terms of price. A product excellent in mass productivity was obtained.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明は、多層銅張板の孔をあけ
る銅箔箇所を事前にエッチング、ドリル、YAGレーザー
等公知の方法で孔あけし、この上から炭酸ガスレーザー
を照射し、小径のブラインドビア孔を形成していく加工
法において、レーザー照射時に照射の基準となる基準マ
ークをCCDカメラで読み込み、そこからの距離でレーザ
ーを照射して孔あけを行うが、この基準マークを多層銅
張板の内層板端部の表面の銅箔を加工して、一般には円
形の銅箔を0.5〜1.0mmφで残すか、円形にエッチングし
て形成するにあたり、この内層板を積層材料サイズより
少し大きくしておき、積層成形時に端部の基準マークが
樹脂流れで 被覆されないようにしておく。こうするこ
とにより、積層成形後、基準マーク上の銅箔、絶縁層を
座ぐり等の事前の加工をしないで、そのまま基準マーク
を読み込みながら孔加工できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a copper foil portion for drilling a hole in a multilayer copper clad board is previously drilled by a known method such as etching, drilling, and YAG laser, and a carbon dioxide laser is irradiated from above. In the processing method to form a small diameter blind via hole, a reference mark that is a reference for irradiation at the time of laser irradiation is read with a CCD camera, and laser is irradiated at a distance from there, and drilling is performed. When processing the copper foil on the surface of the end of the inner layer board of the multilayer copper clad board, generally leave a circular copper foil with a diameter of 0.5 to 1.0 mmφ or form it by etching it into a circular shape, the size of this inner layer Make it slightly larger so that the reference mark at the end is not covered with the resin flow during lamination molding. In this way, after lamination molding, the hole can be formed while reading the fiducial mark as it is, without prior processing such as spotting the copper foil and the insulating layer on the fiducial mark.

【0006】本発明の多層銅張板の内層板は、積層する
サイズに比べ、少し大きめとする。この端部に基準マー
クを作製する。積層する積層材料であるBステージ樹脂
組成物シートは、この基準マークより小さめとし、積層
成形で樹脂が流れ、 被覆されないようにする。一般に
は5〜50mm小さめとする。
[0006] The inner layer board of the multilayer copper clad board of the present invention is slightly larger than the size to be laminated. A reference mark is formed at this end. The B-stage resin composition sheet, which is a laminated material to be laminated, is made smaller than the fiducial mark so that the resin flows during lamination molding and is not covered. Generally, it should be 5 to 50 mm smaller.

【0007】本発明の多層銅張板は、一般に公知の多層
銅張板であり、内層板、積層材料はいずれも基材補強さ
れたもの、フィルム基材のもの、補強基材の無い樹脂単
独のもの等が使用可能である。しかしながら、寸法収縮
等の点からガラス布基材銅張板が好ましい。
[0007] The multilayer copper-clad board of the present invention is a generally known multilayer copper-clad board, and the inner layer board and the laminated material are each reinforced with a base material, a film base material, or a resin alone without a reinforced base material. Can be used. However, a glass-cloth-based copper-clad plate is preferred from the viewpoint of dimensional shrinkage and the like.

【0008】内層銅張板、積層材料の基材としては、一
般に公知の、有機、無機の織布、不織布が使用できる。
具体的には、無機の繊維としては、E、S、D、M、NE
ガラス等の繊維等が挙げらる。又、有機繊維としては、
全芳香族ポリアミド、液晶ポリエステル、ポリベンザゾ
ールの繊維等が挙げられる。これらは、混抄でも良い。
ポリイミドフィルム等のフィルム類も使用可能である。
As the base material for the inner layer copper-clad board and the laminated material, generally known organic and inorganic woven fabrics and nonwoven fabrics can be used.
Specifically, E, S, D, M, NE
Examples include fibers such as glass. Also, as organic fiber,
Examples thereof include wholly aromatic polyamide, liquid crystal polyester, and polybenzazole fibers. These may be mixed.
Films such as a polyimide film can also be used.

【0009】本発明で使用される銅張板、積層材料の熱
硬化性樹脂組成物の樹脂としては、一般に公知の熱硬化
性樹脂が使用される。具体的には、エポキシ樹脂、多官
能性シアン酸エステル樹脂、多官能性マレイミドーシア
ン酸エステル樹脂、多官能性マレイミド樹脂、不飽和基
含有ポリフェニレンエーテル樹脂等が挙げられ、1種或
いは2種類以上が組み合わせて使用される。出力の高い
炭酸ガスレーザー照射による加工でのスルーホール形状
の点からは、ガラス転移温度が150℃以上の熱硬化性樹
脂組成物が好ましく、耐湿性、耐マイグレーション性、
吸湿後の電気的特性等の点から多官能性シアン酸エステ
ル樹脂組成物が好適である。
As the resin of the thermosetting resin composition of the copper clad board and the laminated material used in the present invention, generally known thermosetting resins are used. Specifically, an epoxy resin, a polyfunctional cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide-cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide resin, an unsaturated group-containing polyphenylene ether resin, and the like, and one or more kinds Are used in combination. From the viewpoint of through-hole shape in processing by high-output carbon dioxide laser irradiation, a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 150 ° C or higher is preferable, and has moisture resistance, migration resistance,
A polyfunctional cyanate resin composition is preferred from the viewpoint of electrical properties after moisture absorption.

【0010】本発明の好適な熱硬化性樹脂分である多官
能性シアン酸エステル化合物とは、分子内に2個以上の
シアナト基を有する化合物である。具体的に例示する
と、1,3-又は1,4-ジシアナトベンゼン、1,3,5-トリシア
ナトベンゼン、1,3-、1,4-、1,6-、1,8-、2,6-又は2,7-
ジシアナトナフタレン、1,3,6-トリシアナトナフタレ
ン、4,4-ジシアナトビフェニル、ビス(4-ジシアナトフ
ェニル)メタン、2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパ
ン、2,2-ビス(3,5-ジブロモー4-シアナトフェニル)プロ
パン、ビス(4-シアナトフェニル)エーテル、ビス(4-シ
アナトフェニル)チオエーテル、ビス(4-シアナトフェニ
ル)スルホン、トリス(4-シアナトフェニル)ホスファイ
ト、トリス(4-シアナトフェニル)ホスフェート、および
ノボラックとハロゲン化シアンとの反応により得られる
シアネート類などである。
The polyfunctional cyanate compound which is a preferred thermosetting resin component of the present invention is a compound having two or more cyanato groups in a molecule. Specific examples include 1,3- or 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2 , 6- or 2,7-
Dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4-dicyanatobiphenyl, bis (4-dicyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2- Bis (3,5-dibromo-4-cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) thioether, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, tris (4-cy (Anatophenyl) phosphite, tris (4-cyanatophenyl) phosphate, and cyanates obtained by reacting novolak with cyanogen halide.

【0011】これらのほかに特公昭41-1928、同43-1846
8、同44-4791、同45-11712、同46-41112、同47-26853及
び特開昭51-63149等に記載の多官能性シアン酸エステル
化合物類も用いら得る。また、これら多官能性シアン酸
エステル化合物のシアナト基の三量化によって形成され
るトリアジン環を有する分子量400〜6,000 のプレポリ
マーが使用される。このプレポリマーは、上記の多官能
性シアン酸エステルモノマーを、例えば鉱酸、ルイス酸
等の酸類;ナトリウムアルコラート等、第三級アミン類
等の塩基;炭酸ナトリウム等の塩類等を触媒として重合
させることにより得られる。このプレポリマー中には一
部未反応のモノマーも含まれており、モノマーとプレポ
リマーとの混合物の形態をしており、このような原料は
本発明の用途に好適に使用される。一般には可溶な有機
溶剤に溶解させて使用する。
In addition to these, Japanese Patent Publication Nos. 41-1928 and 43-1846
8, polyfunctional cyanate compounds described in JP-A-44-4791, JP-A-45-11712, JP-A-46-41112, JP-A-47-26853 and JP-A-51-63149 can also be used. Further, a prepolymer having a molecular weight of 400 to 6,000 and having a triazine ring formed by trimerization of a cyanato group of these polyfunctional cyanate compounds is used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate ester monomer with a catalyst such as an acid such as a mineral acid or a Lewis acid; a base such as a tertiary amine such as sodium alcoholate; or a salt such as sodium carbonate. It can be obtained by: The prepolymer also contains some unreacted monomers and is in the form of a mixture of the monomer and the prepolymer, and such a raw material is suitably used for the purpose of the present invention. Generally, it is used after being dissolved in a soluble organic solvent.

【0012】エポキシ樹脂としては、一般に公知のもの
が使用できる。具体的には、液状或いは固形のビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ブタ
ジエン、ペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、ジシク
ロペンチルエーテル等の二重結合をエポキシ化したポリ
エポキシ化合物類;ポリオール、水酸基含有シリコン樹
脂類とエポハロヒドリンとの反応によって得られるポリ
グリシジル化合物類等が挙げられる。これらは1種或い
は2種類以上が組み合わせて使用され得る。
As the epoxy resin, a generally known epoxy resin can be used. Specifically, liquid or solid bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, butadiene, pentadiene, vinylcyclohexene, dicyclopentyl ether, etc. And polyglycidyl compounds obtained by reacting a polyol, a hydroxyl-containing silicone resin with an epohalohydrin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0013】ポリイミド樹脂としては、一般に公知のも
のが使用され得る。具体的には、多官能性マレイミド類
とポリアミン類との反応物、特公昭57-005406 に記載の
末端三重結合のポリイミド類が挙げられる。
As the polyimide resin, generally known ones can be used. Specific examples include a reaction product of a polyfunctional maleimide and a polyamine, and a polyimide having a terminal triple bond described in JP-B-57-005406.

【0014】これらの熱硬化性樹脂は、単独でも使用さ
れるが、特性のバランスを考え、適宜組み合わせて使用
するのが良い。
These thermosetting resins may be used alone, but it is preferable to use them in combination as appropriate in consideration of the balance of properties.

【0015】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、組成物
本来の特性が損なわれない範囲で、所望に応じて種々の
添加物を配合することができる。これらの添加物として
は、不飽和ポリエステル等の重合性二重結合含有モノマ
ー類及びそのプレポリマー類;ポリブタジエン、エポキ
シ化ブタジエン、マレイン化ブタジエン、ブタジエン-
アクリロニトリル共重合体、ポリクロロプレン、ブタジ
エン-スチレン共重合体、ポリイソプレン、ブチルゴ
ム、アクリルゴム、フッ素ゴム、天然ゴム等の低分子量
液状〜高分子量のelasticなゴム類;ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリブテン、ポリ-4-メチルペンテン、ポ
リスチレン、AS樹脂、ABS樹脂、MBS樹脂、スチレン-イ
ソプレンゴム、ポリエチレン-プロピレン共重合体、4-
フッ化エチレン-6-フッ化エチレン共重合体類;ポリカー
ボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポ
リエステル、ポリフェニレンサルファイド等の高分子量
プレポリマー若しくはオリゴマー;ポリウレタン等が例
示され、適宜使用される。更に、一般に公知のコアシェ
ルゴムも使用できる。また、その他、公知の有機、無機
の充填剤、染料、顔料、増粘剤、滑剤、消泡剤、分散
剤、レベリング剤、光増感剤、難燃剤、光沢剤、重合禁
止剤、チキソ性付与剤等の各種添加剤が、所望に応じて
適宜組み合わせて用いられる。必要により、反応基を有
する化合物は硬化剤、触媒が適宜配合される。
Various additives can be added to the thermosetting resin composition of the present invention, if desired, as long as the inherent properties of the composition are not impaired. These additives include polymerizable double bond-containing monomers such as unsaturated polyesters and prepolymers thereof; polybutadiene, epoxidized butadiene, maleated butadiene, butadiene-
Low molecular weight liquid to high molecular weight elastic rubbers such as acrylonitrile copolymer, polychloroprene, butadiene-styrene copolymer, polyisoprene, butyl rubber, acrylic rubber, fluoro rubber, natural rubber; polyethylene, polypropylene, polybutene, poly- 4-methylpentene, polystyrene, AS resin, ABS resin, MBS resin, styrene-isoprene rubber, polyethylene-propylene copolymer, 4-
Fluorinated ethylene-6-fluorinated ethylene copolymers; high molecular weight prepolymers or oligomers such as polycarbonate, polyphenylene ether, polysulfone, polyester, and polyphenylene sulfide; and polyurethane are exemplified and appropriately used. Further, generally known core-shell rubbers can also be used. In addition, other known organic and inorganic fillers, dyes, pigments, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents, photosensitizers, flame retardants, brighteners, polymerization inhibitors, thixotropic Various additives such as imparting agents are used in combination as needed. If necessary, the compound having a reactive group is appropriately blended with a curing agent and a catalyst.

【0016】本発明に使用する銅張板は、熱硬化性樹脂
組成物の中に、絶縁性無機充填剤を添加できる。特に炭
酸ガスレーザー孔あけ用としては、孔の形状を均質にす
るために10〜79重量%、好ましくは、15〜70重量%添加す
る。絶縁性無機充填剤の種類は特に限定はない。具体的
には、タルク、焼成タルク、水酸化アルミニウム、水酸
化マグネシウム、カオリン、アルミナ、ウオラストナイ
ト、合成雲母、ガラス成分等が挙げられ、更に針状の無
機、有機充填剤も添加でき、1種或いは2種以上を配合
して使用する。
In the copper clad board used in the present invention, an insulating inorganic filler can be added to the thermosetting resin composition. Particularly, for carbon dioxide gas laser drilling, 10 to 79% by weight, preferably 15 to 70% by weight is added in order to make the shape of the hole uniform. The kind of the insulating inorganic filler is not particularly limited. Specific examples include talc, calcined talc, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, kaolin, alumina, wollastonite, synthetic mica, glass components, and the like. Further, acicular inorganic and organic fillers can be added. A mixture of two or more species is used.

【0017】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、それ自体
は加熱により硬化するが硬化速度が遅く、作業性、経済
性等に劣るため使用した熱硬化性樹脂に対して公知の熱
硬化触媒を用い得る。使用量は、熱硬化性樹脂100重量
部に対して0.005〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量部
である。
The thermosetting resin composition of the present invention can be cured by heating itself, but has a low curing rate and is inferior in workability and economic efficiency. Can be used. The amount used is 0.005 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the thermosetting resin.

【0018】本発明で使用する銅張板を作製するのに必
要な銅箔とは、一般に公知の電解銅箔が挙げられる。こ
の銅箔は、外層板としては、好適には厚さ3〜12μmの電
解銅箔、内層板用としては厚さ9〜35μmのものが好適に
使用される。
The copper foil necessary for producing the copper clad board used in the present invention includes generally known electrolytic copper foil. As the copper foil, an electroplated copper foil having a thickness of preferably 3 to 12 μm is preferably used as an outer layer plate, and a copper foil having a thickness of 9 to 35 μm is preferably used for an inner layer plate.

【0019】多層銅張板の表層銅箔を加工する方法は特
に限定はなく、一般に公知の方法が使用できる。例え
ば、エッチングによる方法、YAGレーザー等のUVレーザ
ーで孔をあける方法、メカニカルドリルで孔あけする方
法等が挙げられる。表層の銅箔を加工除去した上から炭
酸ガスレーザーを照射して絶縁層を加工してブラインド
ビア孔を加工する。炭酸ガスレーザーの波長は、9.3〜1
0.6μmが使用される。エネルギーは特に限定しないが、
好適には5〜40mJ で、パルス発振で所定パルス照射して
孔あけする。銅箔を加工後は、同一エネルギーを照射し
て孔あけする方法、エネルギーを途中で高くするか、低
くして孔あけする方法、いずれの方法も使用し得る。
The method for processing the surface copper foil of the multilayer copper-clad board is not particularly limited, and a generally known method can be used. For example, there are a method by etching, a method of making holes with a UV laser such as a YAG laser, a method of making holes with a mechanical drill, and the like. After processing and removing the surface copper foil, the insulating layer is processed by irradiating a carbon dioxide laser to form a blind via hole. The wavelength of CO2 laser is 9.3 ~ 1
0.6 μm is used. Energy is not particularly limited,
A predetermined pulse is preferably irradiated by pulse oscillation at 5 to 40 mJ to form a hole. After processing the copper foil, any of a method of irradiating holes with the same energy and a method of piercing by increasing or decreasing the energy on the way can be used.

【0020】加工された孔内部の表層、内層銅箔の樹脂
が接着していた面には1μm程度の樹脂層が銅箔表面に残
存する場合が殆どである。この樹脂層は、エッチング前
にデスミア処理等の一般に公知の処理で事前に除去が可
能であるが、液が小径の孔内部に到達しない場合、内層
の銅箔表面に残存する樹脂層の除去残が発生し、銅メッ
キとの接続不良になる場合がある。従って、より好適に
は、まず気相で孔内部を処理して樹脂の残存層を完全に
除去し、次いで孔内部及び表裏の銅箔バリをエッチング
除去する。気相処理としては一般に公知の処理が使用可
能であるが、例えばプラズマ処理、低圧紫外線処理等が
挙げられる。プラズマは、高周波電源により分子を部分
的に励起し、電離させた低温プラズマを用いる。これ
は、イオンの衝撃を利用した高速の処理、ラジカル種に
よる穏やかな処理が一般には使用され、処理ガスとし
て、反応性ガス、不活性ガスが使用される。反応性ガス
としては、主に酸素が使用され、化学的に表面処理をす
る。不活性ガスとしては、主にアルゴンガスを使用す
る。このアルゴンガス等を使用し、物理的な表面処理を
行う。物理的な処理は、イオンの衝撃を利用して表面を
クリーニングする。低紫外線は、波長が短い領域の紫外
線であり、波長として、184.9nm、253.7nm がピークの
短波長域の波長を照射し、樹脂層を分解除去する。
In most cases, a resin layer of about 1 μm remains on the surface of the surface of the processed hole and the surface of the inner layer copper foil to which the resin has adhered. This resin layer can be removed in advance by a generally known treatment such as a desmear treatment before etching. However, if the liquid does not reach the inside of the small-diameter hole, the removal of the resin layer remaining on the surface of the copper foil of the inner layer remains. May occur, resulting in poor connection with copper plating. Therefore, more preferably, the inside of the hole is first treated in a gas phase to completely remove the residual layer of the resin, and then the inside of the hole and the front and back copper foil burrs are removed by etching. As the gas phase treatment, generally known treatments can be used, and examples thereof include a plasma treatment and a low-pressure ultraviolet treatment. As the plasma, low-temperature plasma in which molecules are partially excited by a high-frequency power source and ionized is used. For this, high-speed processing using ion bombardment and gentle processing using radical species are generally used, and reactive gases and inert gases are used as processing gases. As the reactive gas, oxygen is mainly used, and the surface is chemically treated. As the inert gas, an argon gas is mainly used. Using this argon gas or the like, physical surface treatment is performed. Physical treatment uses ion bombardment to clean the surface. The low ultraviolet ray is an ultraviolet ray having a short wavelength region, and irradiates a short wavelength region having a peak at 184.9 nm and 253.7 nm, and decomposes and removes the resin layer.

【0021】孔内部は、通常の銅メッキを施すことも可
能であるが、また銅メッキで孔内部を一部、好適には80
容積%以上充填することもできる。
The inside of the hole can be subjected to ordinary copper plating.
It can also be filled by volume% or more.

【0022】[0022]

【実施例】以下に実施例、比較例で本発明を具体的に説
明する。尚、特に断らない限り、『部』は重量部を表
す。 実施例1 2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパン900部、ビス(4-
マレイミドフェニル)メタン100部を150℃で熔融させ、
撹拌しながら4時間反応させ、プレポリマーを得た。こ
れをメチルエチルケトンとジメチルホルムアミドの混合
溶剤に溶解した。これにビスフェノールA型エポキシ樹
脂(商品名:エピコート1001、油化シェルエポキシ<株>
製)400部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(商品
名:ESCN-220F、住友化学工業<株>製)600部を加え、均
一に溶解混合した。更に触媒としてオクチル酸亜鉛0.4
部を加え、溶解混合し、これに無機充填剤(商品名:焼成
タルク、日本タルク<株>、平均粒子径1μm)2000部、及
び黒色顔料8部を加え、均一撹拌混合してワニスAを得
た。このワニスを厚さ100μmのガラス織布に含浸し150
℃で乾燥して、ゲル化時間(at170℃)102秒、ガラス織布
の含有量が50重量%のプリプレグ(プリプレグB)、ゲル化
時間(at170℃)120秒、ガラス織布の含有量が43重量%の
プリプレグ(プリプレグC)を作成した。このプリプレグ
Bを4枚重ね、この両面に厚さ18μmの電解銅箔を配置
し、200℃、20kgf/cm2、30mmHg以下の真空下で2時間積
層成形し、これを切断して340x340mmの両面銅張積層板D
を得た。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Unless otherwise specified, “parts” indicates parts by weight. Example 1 900 parts of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane,
100 parts of (maleimidophenyl) methane are melted at 150 ° C.
The mixture was reacted for 4 hours with stirring to obtain a prepolymer. This was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide. Add bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 1001, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
) And 600 parts of a cresol novolac type epoxy resin (trade name: ESCN-220F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were uniformly mixed and dissolved. Further, as a catalyst, zinc octylate 0.4
2,000 parts of an inorganic filler (trade name: calcined talc, Nippon Talc Co., Ltd., average particle diameter 1 μm), and 8 parts of black pigment, and uniformly stirred and mixed to prepare Varnish A. Obtained. This varnish is impregnated with a 100 μm thick glass woven fabric and
After drying at ℃, the gelling time (at 170 ℃) 102 seconds, the content of glass woven fabric 50% by weight prepreg (prepreg B), the gelation time (at 170 ℃) 120 seconds, the content of glass woven fabric A prepreg (prepreg C) of 43% by weight was prepared. Piled 4 sheets of this prepreg B, placing an electrolytic copper foil having a thickness of 18μm to this two-sided, 200 ℃, 20kgf / cm 2 , and 2 hours laminate molded under vacuum below 30 mmHg, both surfaces of 340x340mm and cut into Copper clad laminate D
I got

【0023】この銅張積層板Dの両面回路を定法にて形
成し、黒色酸化銅処理を施し、この上に 340x340mmサイ
ズのプリプレグCを表裏各1枚置き、その上に12μmの
電解銅箔を配置し、同様に積層成形して4層銅張板を得
た。この周辺を切断除去し、サイズ300x300mmとした。
これを定法にて、メカニカルドリルで孔径250μmの孔を
あけ、デスミア処理後、銅メッキを15μm施し、既存の
方法にて回路、及び周辺端部4隅に孔あけ用基準マーク
を銅箔で0.5mmφで作製し、黒色酸化銅処理を施してか
ら、この表裏にサイズ250x300mmのプリプレグC及び12μ
m電解銅箔を配置し、同様に積層成形して6層銅張板とし
た。基準マークは樹脂流れで 被覆されなかった。デス
ミア処理後、銅メッキを15μm付着させた。このブライ
ンドビア孔をあける箇所の銅箔を、径100μmでエッチン
グ除去し、基準マークをCCDカメラで読み込み、多層板
の銅箔をエッチング除去した上から炭酸ガスレーザーエ
ネルギー15mJで2ショット照射してブラインドビア孔を
形成した。デスミア処理後、銅メッキを15μm付着させ
た後、ハンダボール用ランド等を形成し、少なくとも半
導体チップ搭載部、ボンディング用パッド部、ハンダボ
ールランド部を除いてメッキレジストで被覆し、ニッケ
ル、金メッキを施し、プリント配線板を作成した。この
孔あけ工程で、内層板に形成された孔あけ用基準マーク
の上の銅箔、絶縁層を研削することなく、積層成形後に
すぐ基準マークを読み込むことができ、工程を省略で
き、量産性に優れていることが明らかである。
A double-sided circuit of this copper-clad laminate D is formed by a standard method, black copper oxide treatment is performed, a prepreg C having a size of 340 × 340 mm is placed on each of the front and back sides, and a 12 μm electrolytic copper foil is placed thereon. It arrange | positioned and laminated | stacked similarly, and obtained the 4-layer copper clad board. This periphery was cut and removed to obtain a size of 300 × 300 mm.
Using a standard method, a hole with a hole diameter of 250 μm is drilled with a mechanical drill, copper plating is performed after desmearing, and a reference mark for hole drilling is formed on the circuit and the four corners of the peripheral end by copper foil using a conventional method. Prepared in mmφ, and subjected to black copper oxide treatment, then prepreg C of size 250x300mm and 12μ
An m-electrode copper foil was placed and similarly laminated and molded to form a six-layer copper-clad board. The fiducial mark was not covered by the resin flow. After the desmear treatment, a copper plating of 15 μm was adhered. The copper foil where this blind via hole is to be drilled is etched away with a diameter of 100 μm, the fiducial mark is read with a CCD camera, and the copper foil of the multilayer board is etched and removed. Via holes were formed. After desmearing, after applying copper plating of 15 μm, lands for solder balls are formed, and at least the semiconductor chip mounting portion, bonding pad portions, and solder ball land portions are covered with a plating resist, and nickel and gold plating are applied. To make a printed wiring board. In this drilling process, the reference mark can be read immediately after lamination molding without grinding the copper foil and insulating layer on the reference mark for drilling formed on the inner layer plate. It is clear that it is excellent.

【0024】実施例2 エポキシ樹脂(商品名:エピコート1001、油化シェルエ
ポキシ<株>製> 300部、及びエポキシ樹脂(商品名:ESC
N220F、住友化学工業<株>製)700部、ジシアンジアミド
35部、2-エチル-4-メチルイミダゾール1部をメチルエチ
ルケトンとジメチルホルムアミドの混合溶剤に溶解し、
均一に攪拌混合してワニスとした。これを厚さ100μmの
ガラス織布に含浸、乾燥して、ゲル化時間150秒、ガラ
ス布の含有量48重量%のプリプレグH、厚さ50μmのガラ
ス布に含浸、乾燥させてゲル化時間170秒、ガラス布の
含有量31重量%のプリプレグIを作成した。
Example 2 300 parts of an epoxy resin (trade name: Epicoat 1001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) and an epoxy resin (trade name: ESC
N220F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 700 parts, dicyandiamide
35 parts, 1 part of 2-ethyl-4-methylimidazole was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide,
A varnish was obtained by uniformly stirring and mixing. This is impregnated in a glass woven cloth having a thickness of 100 μm, dried, gelled for 150 seconds, prepreg H having a glass cloth content of 48% by weight, and impregnated in a glass cloth having a thickness of 50 μm, and dried to be gelled for 170 minutes. In seconds, a prepreg I having a glass cloth content of 31% by weight was prepared.

【0025】このプリプレグHを1枚使用し、上下に35μ
mの電解銅箔を置き、190℃、20kgf/cm2、30mmHgで積層
成形し、切断してサイズ500x500mmの両面銅張積層板を
得た。この板の表裏に回路を形成し、4隅に基準マーク
を作製し、黒色酸化銅処理を施した後、上下にサイズ40
0x500mmの上記プリプレグIを各1枚置き、その両外側に
厚さ12μmの電解銅箔を重ね、同様に積層成形して4層の
多層板Jを作成した。流れた樹脂で基準マークは 被覆さ
れなかった。その後、この4層板の表面銅箔を孔径100
μmでエッチング除去し、CCDカメラで基準マーク読み込
み、13mJで2ショット照射してブラインドビア孔をあけ
た。実施例1と同様に過マンガン酸カリウム水溶液にて
デスミア処理を行なって、同様に銅メッキを行い、同様
にプリント配線板とした。この孔あけ工程で、内層板に
形成された孔あけ用基準マークの上の銅箔、絶縁層を研
削することなく、積層成形後にすぐ基準マークを読み込
むことができ、工程を省略でき、量産性に優れているこ
とが明らかである。
Using one prepreg H, 35 μm up and down
m electrolytic copper foil was placed, laminated and formed at 190 ° C., 20 kgf / cm 2 and 30 mmHg, and cut to obtain a 500 × 500 mm double-sided copper-clad laminate. Circuits were formed on the front and back of this board, fiducial marks were made at the four corners, and black copper oxide treatment was applied.
One prepreg I of 0x500 mm was placed on each sheet, and an electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm was laminated on both outer sides of the prepreg I, and similarly laminated and molded to form a four-layer multilayer board J. The fiducial mark was not covered with the flowing resin. Then, the surface copper foil of this four-layer plate was
Etching was removed at μm, the reference mark was read with a CCD camera, and two shots were irradiated at 13 mJ to make a blind via hole. A desmear treatment was performed with an aqueous solution of potassium permanganate in the same manner as in Example 1, copper plating was performed in the same manner, and a printed wiring board was similarly formed. In this drilling process, the reference mark can be read immediately after lamination molding without grinding the copper foil and insulating layer on the reference mark for drilling formed on the inner layer plate. It is clear that it is excellent.

【0026】比較例1 実施例2において、内層板、プリプレグのサイズを同じ
サイズで積層成形した。これは基準マークの上に樹脂
層、銅箔があるため、これを座ぐりで露出させてからCC
Dカメラで基準マークを読み込み、孔あけを行ったが、
生産性は実施例に比べて大きくダウンした。
Comparative Example 1 In Example 2, the same size of the inner layer plate and the prepreg was laminated and molded. This is because there is a resin layer and copper foil on the fiducial mark.
I read the fiducial mark with the D camera and made a hole,
The productivity was greatly reduced as compared with the embodiment.

【0027】[0027]

【発明の効果】多層銅張板の内層銅箔表面の端部に炭酸
ガスレーザー孔あけ基準マークを形成し、この端部の基
準マークの上に積層材料が 被覆しないようにして積層
成形し、このはみ出した基準マークをCCDカメラで読み
込み、事前に表面の銅箔を加工除去した多層銅張板の上
から炭酸ガスレーザーを照射してブラインドビア孔をあ
けることにより、量産性、作業性に優れ、且つコスト的
にも安価なプリント配線板用ブラインドビア孔が形成さ
れた。
According to the present invention, a carbon dioxide laser drilling reference mark is formed at the end of the surface of the inner layer copper foil of the multilayer copper clad board, and the lamination material is formed so as not to cover the reference mark at this end with the laminating material. This protruding reference mark is read by a CCD camera, and a carbon dioxide laser is irradiated from above on the multilayer copper-clad board whose surface copper foil has been processed and removed to make blind via holes, which is excellent in mass productivity and workability. In addition, a blind via hole for a printed wiring board was formed at a low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例2の加工工程前半。(1)構成、(2)
積層成形された4層銅張板、(3)ブラインドビア孔形
成位置の表層銅箔をエッチング除去、(4)CCDカメラで
読み込み、炭酸ガスレーザーでの孔あけ。
FIG. 1 shows the first half of a processing step of a second embodiment. (1) Configuration, (2)
Four-layer copper clad laminate formed, (3) Surface copper foil at the position where blind via holes are formed is removed by etching, (4) CCD camera is read, and holes are formed with a carbon dioxide laser.

【図2】実施例2の加工工程後半。(5)デスミア処理
して銅メッキ、(6)回路形成。
FIG. 2 shows the second half of the processing step of the second embodiment. (5) Desmear treatment and copper plating, (6) circuit formation.

【図3】比較例1の多層銅張板の従来の炭酸ガスレーザ
ーによる孔あけ及び銅メッキの工程前半。(1)構成、
(2)積層成形された4層銅張板、(3)ブラインドビ
ア孔形成位置の表層銅箔をエッチング除去、(4)基準
マークの座ぐり、(5)CCDカメラで読み込み、炭酸ガス
レーザーでの孔あけ。
FIG. 3 shows the first half of a conventional carbon dioxide laser drilling and copper plating process of the multilayer copper-clad board of Comparative Example 1. (1) Configuration,
(2) Four-layer copper clad laminate formed, (3) Surface copper foil at the position where blind via holes are formed is removed by etching, (4) Counter mark spotting, (5) CCD camera, read with a carbon dioxide laser Drilling holes.

【図4】比較例1の多層銅張板の従来の炭酸ガスレーザ
ーによる孔あけ及び銅メッキの工程後半。(5)デスミ
ア処理して銅メッキ、(6)回路形成。
FIG. 4 shows the second half of the conventional carbon dioxide laser drilling and copper plating process of the multilayer copper-clad board of Comparative Example 1. (5) Desmear treatment and copper plating, (6) circuit formation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

a 4層板外層銅箔 b プリプレグC c 4層板内層回路 d 内層板端部に規制された基準マーク e CCDカメラ f 炭酸ガスレーザーにより孔あけされたブラインド
ビア孔 g 銅メッキされたブラインドビア孔部 h 表層銅箔をエッチング除去した部分 i 外層銅箔及び絶縁層を座ぐりで研削し、内層の基
準マークを露出した箇所
a Four-layer board outer layer copper foil b Pre-preg C c Four-layer board inner layer circuit d Reference mark regulated at end of inner layer board e CCD camera f Blind via hole drilled by carbon dioxide gas laser g Copper-plated blind via hole Part h Surface copper foil removed by etching i External copper foil and insulating layer are ground by counterbore to expose inner layer fiducial marks

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 銅箔の一部をあらかじめ加工除去してか
ら、この部分に炭酸ガスレーザーを照射してブラインド
ビア孔を形成する多層銅張板において、CCDカメラで読
み込む孔あけ用基準マークを内層板の端部に形成し、こ
の内層板の基準孔が多層化された場合に流れた樹脂で被
覆されない範囲に形成されていることを特徴とし、多層
化後にこの基準マークをCCDカメラで読みとり、孔あけ
を行うことを特徴とする炭酸ガスレーザー孔あけ量産加
工に適した多層銅張板。
1. A multi-layer copper-clad board that forms a blind via hole by irradiating a part of a copper foil in advance with a carbon dioxide gas laser and then irradiating the part with a carbon dioxide gas laser. It is formed at the end of the inner layer plate, and the reference hole of this inner layer plate is formed in a range that is not covered with the resin that has flowed when it is multilayered, and this multilayer mark is read by a CCD camera after multilayering. Multilayer copper clad board suitable for mass production processing of carbon dioxide laser drilling characterized by performing drilling.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005286112A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Airex Inc Printed circuit board and its manufacturing method
TWI507108B (en) * 2013-07-29 2015-11-01 Zhen Ding Technology Co Ltd Flexible circuit board and method for manufacturing same

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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