JP2001028475A - Manufacture of polybenzazole fabric base-material printed wiring board - Google Patents

Manufacture of polybenzazole fabric base-material printed wiring board

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JP2001028475A
JP2001028475A JP11201306A JP20130699A JP2001028475A JP 2001028475 A JP2001028475 A JP 2001028475A JP 11201306 A JP11201306 A JP 11201306A JP 20130699 A JP20130699 A JP 20130699A JP 2001028475 A JP2001028475 A JP 2001028475A
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JP
Japan
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printed wiring
wiring board
copper
copper foil
hole
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Application number
JP11201306A
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Japanese (ja)
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Hidenori Kanehara
秀憲 金原
Nobuyuki Ikeguchi
信之 池口
Mitsuru Nozaki
充 野崎
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic base-material printed wiring board of light weight, low rigidity and low thermal expansion factor. SOLUTION: A polybenzazole fabric is used as a base material while a multifunctional ester cyanate resin composition is preferred to be used as a thermo-setting resin, with which an insulating inorganic filler is mixed by 10-80 wt.% to provide a copper-plated laminated board. On the copper foil of it, an organic material comprising, by 3-97 vol.%, at least one kind among metal compound powder, carbon powder, and metal powder of melting-point 900 deg.C or above while coupling energy being 300 kJ/mol or above is arranged. A carbon dioxide energy selected among 20-60 mJ/pulse is directly poured on it for boring, providing a printed wiring board. Thus, a printed wiring board of high heat- resistance, low thermal expansion factor, and low rigidity which is excellent in solder's heat-resistance after moisture-absorption, anti-migration characteristics, and hole connection reliability is manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、電気絶縁
性、熱膨張率等に優れたポリベンザゾール繊維布基材銅
張積層板を用いた低密度のプリント配線板の製造方法に
関する。この銅張積層板を用いたプリント配線板は、軽
量で、半導体が直接搭載される、主として薄型で小型の
半導体プラスチックパッケージ用として使用される。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a low-density printed wiring board using a copper-clad laminate of a polybenzazole fiber cloth excellent in heat resistance, electrical insulation, coefficient of thermal expansion and the like. A printed wiring board using this copper-clad laminate is lightweight and is mainly used for thin and small semiconductor plastic packages on which semiconductors are directly mounted.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリント配線板に使用される基材
としては、無機の繊維ではガラス繊維が知られており、
広く使用されている。これは剛性はあるが、熱膨張率が
大きく、半導体チップを搭載した場合、加熱処理などで
半導体チップに応力がかかり、割れる等の問題点があっ
た。さらにはガラス繊維の比重が有機繊維に比べて大き
く、近年ますます軽量化する電子機器用途に対し、より
軽量の有機繊維布が要求されてきている。この要求に応
えるべく、全芳香族ポリアミド繊維布、液晶ポリエステ
ル繊維布が使用されてきている。しかしながら、全芳香
族ポリアミド繊維布は、吸湿後の電気絶縁性と耐熱性等
に問題があり、液晶ポリエステル繊維布は、耐熱性、熱
膨張率等が今一歩であった。また、上記有機繊維布、ポ
リベンザゾール繊維布は、その強度のために、メカニカ
ルドリルで孔あけすると、切れが悪いために孔壁にケバ
が残存する等の欠点が見られた。加えてメカニカルドリ
ルによる孔壁は一般に200μm以上であり、150μ
m以下の孔を直接炭酸ガスレーザーを照射して銅張板に
あけることはできなかった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a substrate used for a printed wiring board, glass fiber is known as an inorganic fiber.
Widely used. Although it has rigidity, it has a large coefficient of thermal expansion, and when a semiconductor chip is mounted, stress is applied to the semiconductor chip by heat treatment or the like, which causes a problem such as cracking. Furthermore, the specific gravity of glass fiber is larger than that of organic fiber, and in recent years, a lighter weight organic fiber cloth has been required for electronic devices that are becoming lighter and lighter. In order to meet this demand, a wholly aromatic polyamide fiber cloth and a liquid crystal polyester fiber cloth have been used. However, the wholly aromatic polyamide fiber cloth has problems in electrical insulation and heat resistance after moisture absorption, and the liquid crystal polyester fiber cloth has only one step in heat resistance, coefficient of thermal expansion and the like. In addition, the organic fiber cloth and the polybenzazole fiber cloth had a drawback such that when drilled with a mechanical drill due to their strength, the cuts were poor and fluff remained on the hole walls. In addition, the hole wall by a mechanical drill is generally 200 μm or more, and 150 μm or more.
It was not possible to directly irradiate holes of less than m in the copper clad board by directly irradiating a carbon dioxide laser.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
点を解決した、耐熱性、電気絶縁性、熱膨張率に優れた
高密度のプリント配線板の製造方法を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for manufacturing a high-density printed wiring board excellent in heat resistance, electrical insulation and coefficient of thermal expansion, which solves the above problems.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、特に小型、軽
量のプリント配線板の製造方法に関する。この基材とし
てポリベンザゾール繊維の不織布、織布を用いることに
より、ガラス繊維布に比べて軽量で、剛性率が低く、低
熱膨張率のプリント配線板が作成できる。又、孔あけに
おいては、メカニカルドリルでは孔壁に毛羽が発生する
ために、レーザーでの孔あけが適している。レーザーと
してはエキシマレーザー、YAGレーザー、炭酸ガスレー
ザーが使用可能である。しかしエキシマレーザー、YAG
レーザーは加工速度が遅く、作業性、価格の点で不利で
ある。好適には、炭酸ガスレーザーを、エネルギー20
〜60mJ/パルスの範囲で、銅張積層板の表面に酸化金
属処理又は薬液処理を行うか、融点900℃以上で、且つ
結合エネルギー300kJ/mol以上の金属化合物粉、カーボ
ン粉、金属粉の1種或いは2種以上3〜97vol%含む有機
物、好ましくは樹脂よりなる組成物を配置し、炭酸ガス
レーザーを照射して孔あけを行う。こうすることによ
り、加工性、作業性に優れ、かつ孔品質の良好なプリン
ト配線板が作成できる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board which is particularly small and lightweight. By using a nonwoven fabric or woven fabric of polybenzazole fiber as the base material, a printed wiring board that is lighter in weight, lower in rigidity and lower in thermal expansion coefficient than glass fiber cloth can be produced. In drilling, a laser drill is suitable because a mechanical drill generates fluff on the hole wall. Excimer laser, YAG laser, and carbon dioxide laser can be used as the laser. But excimer laser, YAG
Lasers are disadvantageous in processing speed, workability and cost. Preferably, a carbon dioxide laser is used with an energy of 20.
Metal oxide treatment or chemical treatment on the surface of the copper-clad laminate in the range of 6060 mJ / pulse, or one of metal compound powder, carbon powder and metal powder having a melting point of 900 ° C. or more and a binding energy of 300 kJ / mol or more. A composition comprising an organic substance, preferably a resin, containing 3 to 97 vol% of one or more species is disposed, and a hole is formed by irradiating a carbon dioxide laser. By doing so, a printed wiring board having excellent workability and workability and good hole quality can be produced.

【0005】さらに孔あけ後に、孔周辺に銅箔のバリが
発生するため、このバリを除去する必要がある。バリの
除去は、機械研磨でも実施できるが、完全に除去するの
は困難であり、薬液による除去が最適である。このバリ
除去を行うと同時に、表裏の銅箔を厚み方向に一部除去
して、好ましくは3〜5μmの厚みとなるようにする。
Further, after drilling holes, burrs of the copper foil are generated around the holes, and it is necessary to remove the burrs. Removal of burrs can also be performed by mechanical polishing, but it is difficult to completely remove them, and removal with a chemical solution is optimal. Simultaneously with this deburring, the front and back copper foils are partially removed in the thickness direction so that the thickness is preferably 3 to 5 μm.

【0006】ポリベンザゾール繊維布基材熱硬化性樹脂
銅張積層板の絶縁層として、多官能性シアン酸エステ
ル、該シアン酸エステルプレポリマーを必須成分とす
る、硬化後のガラス転移温度が150℃以上の耐熱性の
熱硬化性樹脂を使用することにより、レーザー加工時の
孔壁形状が良好となる。さらに、孔壁間が狭くなり、ラ
イン/スペースも狭くなってくるために、この熱硬化性
樹脂を使用すると、耐マイグレーション性、プレッシャ
ークッカー処理後の耐熱性等に優れており、高密度プリ
ント配線板用樹脂として好適である。加えて、樹脂に充
填剤を加えることにより、炭酸ガスレーザーの孔あけに
よる孔壁の形状をさらに良好にすることが可能であり、
信頼性の非常に優れた高密度のプリント配線板を作成す
ることができる。また、プリント配線板は、片面、両面
銅張積層板だけでなく、同様の基材、樹脂組成を用いて
多層板を用いて作成される。
As an insulating layer of a copper-clad laminate of a polybenzazole fiber cloth base thermosetting resin, a polyfunctional cyanate ester and the cyanate ester prepolymer are essential components, and the glass transition temperature after curing is 150. By using a thermosetting resin having a heat resistance of not less than ° C., the hole wall shape at the time of laser processing is improved. Furthermore, since the space between the hole walls becomes narrower and the line / space becomes narrower, the use of this thermosetting resin provides excellent migration resistance, heat resistance after pressure cooker treatment, etc., and high density printed wiring. It is suitable as a resin for plates. In addition, by adding a filler to the resin, it is possible to further improve the shape of the hole wall by drilling the carbon dioxide laser,
A high-density printed wiring board having extremely high reliability can be manufactured. In addition, the printed wiring board is produced not only by using a single-sided and double-sided copper-clad laminate, but also by using a multilayer board using the same base material and resin composition.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明は、基材としてポリベンザ
ゾール繊維の不織布、織布を用い、これに熱硬化性樹脂
組成物を含浸、乾燥して得られるBステージのプリプレ
グを積層成形して得られる銅張積層板を用いて作成され
るプリント配線板の製造方法に関する。さらに、この熱
硬化性樹脂組成物に、絶縁性無機充填剤が10〜80重量
%、好ましくは20〜70重量%となるように配合し、均一に
混合する。更に熱硬化性樹脂として、多官能性シアン酸
エステル、該シアン酸エステルプレポリマーを必須成分
として使用することにより、炭酸ガスレーザーで孔あけ
した場合の孔接続信頼性に優れたものが得られ、プリン
ト配線板の積層板自体の耐熱性、剛性が向上し、吸湿後
の電気絶縁性や耐熱性、耐マイグレーション性等に優れ
たものを得ることができた。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention uses a nonwoven fabric or woven fabric of polybenzazole fiber as a base material, impregnates with a thermosetting resin composition, and forms a B-stage prepreg obtained by drying. The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board produced using a copper-clad laminate obtained by the above method. Further, the thermosetting resin composition contains 10 to 80% by weight of an insulating inorganic filler.
%, Preferably 20 to 70% by weight, and uniformly mixed. Further, as a thermosetting resin, by using a polyfunctional cyanate ester and the cyanate ester prepolymer as an essential component, a material having excellent hole connection reliability when a hole is formed by a carbon dioxide laser can be obtained. The heat resistance and rigidity of the laminate itself of the printed wiring board were improved, and a laminate excellent in electrical insulation after heat absorption, heat resistance, migration resistance and the like was obtained.

【0008】本発明で使用されるポリベンザゾール繊維
とは、ポリベンザゾールポリマーより得られる繊維であ
る。ポリベンザゾールは、ポリベンゾオキサゾールホモ
ポリマー、ポリベンゾチアゾールホモポリマー及びそれ
らのランダム、シーケンシャル或いはブロックコポリマ
ーを言う。具体的には、Wolfeらの「Liquid Crystallin
e Polymer Compositions, Process and Products」U.S.
Patent 4, 703,103(October 27, 1987)、「Liquid Crys
talline Polymer Compositions, Process andProduct
s」U.S.Patent 4,533,692(August 6, 1985)、「Liquid
Crystalline Poly(2,6-Benzothriazole) Compositions,
Process and Products」U.S.Patent 4,533,724(August
6, 1985)、「Liquid Crystalline Polymer Compositio
ns, Process and Products」U.S.Patent 4,533,693(Aug
ust 6, 1985)、Eversの「Thermooxidetively Stable Ar
ticulated p-Benzobisoxazole and p-Benzobisthiazole
Polymers」U.S.Patent$,359,567(November 16, 198
2)、Thaiらの「Method for making Heterocyclic Block
Copolymer」U.S.Patent 4,578,432(March 25, 1986)等
に記載されているものが使用される。
[0008] The polybenzazole fiber used in the present invention is a fiber obtained from a polybenzazole polymer. Polybenzazole refers to polybenzoxazole homopolymers, polybenzothiazole homopolymers and their random, sequential or block copolymers. Specifically, Wolfe et al.'S "Liquid Crystallin
e Polymer Compositions, Process and Products '' US
Patent 4, 703,103 (October 27, 1987), `` Liquid Crys
talline Polymer Compositions, Process and Product
s '' US Patent 4,533,692 (August 6, 1985), `` Liquid
Crystalline Poly (2,6-Benzothriazole) Compositions,
Process and Products '' USPatent 4,533,724 (August
6, 1985), `` Liquid Crystalline Polymer Compositio
ns, Process and Products '' USPatent 4,533,693 (Aug
ust 6, 1985), Evers's `` Thermooxidetively Stable Ar
ticulated p-Benzobisoxazole and p-Benzobisthiazole
Polymers '' USPatent $, 359,567 (November 16, 198
2), Thai et al.'S `` Method for making Heterocyclic Block
Copolymer "US Patent 4,578,432 (March 25, 1986) and the like are used.

【0009】ポリベンザゾールポリマーに含まれる構造
単位としては、好ましくはライオトロピック液晶ポリマ
ーから選択され、モノマー単位は下記構造式、化1〜化
8から選択されているモノマー単位からなり、さらに好
ましくは、下記構造式、化1〜3から選択されたモノマ
ー単位からなる。
The structural unit contained in the polybenzazole polymer is preferably selected from a lyotropic liquid crystal polymer, and the monomer unit is composed of a monomer unit selected from the following structural formulas: And a monomer unit selected from the following structural formulas and Chemical Formulas 1 to 3.

【0010】[0010]

【化1】 Embedded image

【化2】 Embedded image

【化3】 Embedded image

【化4】 Embedded image

【化5】 Embedded image

【化6】 Embedded image

【化7】 Embedded image

【化8】 ポリベンザゾールポリマーのドープを形成するための好
適な溶媒としては、クレゾールやそのポリマーを溶解し
得る非酸化性の酸が含まれる。好適な酸溶媒としては、
ポリリン酸、メタンスルホン酸及び高濃度の硫酸或いは
それらの混合物が挙げられ、さらに好適なものとして
は、ポリリン酸及びメタンスルホン酸が挙げられる。
Embedded image Suitable solvents for forming the polybenzazole polymer dope include cresol and non-oxidizing acids that can dissolve the polymer. Suitable acid solvents include
Examples thereof include polyphosphoric acid, methanesulfonic acid and high-concentration sulfuric acid or a mixture thereof, and more preferable examples include polyphosphoric acid and methanesulfonic acid.

【0011】溶液のポリマー濃度は、好ましくは、少な
くとも約7重量%である。さらに好ましくは、少なくと
も10〜14重量%である。
[0011] The polymer concentration of the solution is preferably at least about 7% by weight. More preferably, it is at least 10 to 14% by weight.

【0012】好適なポリマーやコポリマー或いはドープ
は公知の方法によって合成される。例えば、WolfらのU.
S,Patent 4,533,693、SybertらのU.S.Patent 4,772,678
、HarrisらのU.S,Patent 4,847,350 の方法が使用さ
れる。ポリベンザゾールポリマーは、Gregoly らのU.S.
Patent 5,089,591 では、脱水性の酸溶媒中での比較的
高温、高剪断条件下において、高反応速度での高分子量
化が可能である。
[0012] Suitable polymers, copolymers or dopes are synthesized by known methods. For example, Wolf et al.
S, Patent 4,533,693, US Patent 4,772,678 by Sybert et al.
The method of Harris et al., US Patent 4,847,350 is used. Polybenzazole polymers are available from Gregoly et al.
In Patent 5,089,591, it is possible to increase the molecular weight at a high reaction rate under a relatively high temperature and high shear condition in a dehydrating acid solvent.

【0013】本発明においては、ポリベンザゾール繊維
は、そのままの繊維を糸として使用し、織布にする。ま
た、一定長に切断し、これを湿式法、乾式法等の公知の
方法で不織布として使用してもよい。
In the present invention, the polybenzazole fiber is made into a woven fabric by using the fiber as it is as a yarn. Further, the nonwoven fabric may be cut into a predetermined length and used as a nonwoven fabric by a known method such as a wet method or a dry method.

【0014】本発明で使用される熱硬化性樹脂組成物の
樹脂としては、一般に公知の熱硬化性樹脂が使用され
る。具体的には、エポキシ樹脂、多官能性シアン酸エス
テル樹脂、 多官能性マレイミドーシアン酸エステル樹
脂、多官能性マレイミド樹脂、不飽和基含有ポリフェニ
レンエーテル樹脂等が挙げられ、1種或いは2種類以上
が組み合わせて使用される。耐湿性、耐マイグレーショ
ン性、吸湿後の電気的特性等の点から多官能性シアン酸
エステル樹脂組成物が好適である。ガラス転移温度は、
各種樹脂を配合して硬化後に150℃以上であるものがが
孔壁の形状の点からも好ましい。
As the resin of the thermosetting resin composition used in the present invention, generally known thermosetting resins are used. Specific examples include an epoxy resin, a polyfunctional cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide-cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide resin, and an unsaturated group-containing polyphenylene ether resin. Are used in combination. A polyfunctional cyanate resin composition is preferred in terms of moisture resistance, migration resistance, electrical properties after moisture absorption, and the like. The glass transition temperature is
It is preferable that various resins be mixed and cured to have a temperature of 150 ° C. or higher from the viewpoint of the shape of the hole wall.

【0015】本発明の好適な熱硬化性樹脂分である多官
能性シアン酸エステル化合物とは、分子内に2個以上の
シアナト基を有する化合物である。具体的に例示する
と、1,3-又は1,4-ジシアナトベンゼン、1,3,5-トリシア
ナトベンゼン、1,3-、1,4-、1,6-、1,8-、2,6-又は2,7-
ジシアナトナフタレン、1,3,6-トリシアナトナフタレ
ン、4,4-ジシアナトビフェニル、ビス(4-ジシアナトフ
ェニル)メタン、2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパ
ン、2,2-ビス(3,5-ジブロモー4-シアナトフェニル)プロ
パン、ビス(4-シアナトフェニル)エーテル、ビス(4-シ
アナトフェニル)チオエーテル、ビス(4-シアナトフェニ
ル)スルホン、トリス(4-シアナトフェニル)ホスファイ
ト、トリス(4-シアナトフェニル)ホスフェート、及びノ
ボラックとハロゲン化シアンとの反応により得られるシ
アネート類などである。
The polyfunctional cyanate compound which is a preferred thermosetting resin component of the present invention is a compound having two or more cyanato groups in the molecule. Specific examples include 1,3- or 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2 , 6- or 2,7-
Dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4-dicyanatobiphenyl, bis (4-dicyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2- Bis (3,5-dibromo-4-cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) thioether, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, tris (4-cy (Anatophenyl) phosphite, tris (4-cyanatophenyl) phosphate, and cyanates obtained by reacting novolak with cyanogen halide.

【0016】これらのほかに特公昭41-1928、同43-1846
8、同44-4791、同45-11712、同46-41112、同47-26853及
び特開昭51-63149等に記載の多官能性シアン酸エステル
化合物類も用いられ得る。また、これら多官能性シアン
酸エステル化合物のシアナト基の三量化によって形成さ
れるトリアジン環を有する分子量400〜6,000 のプレポ
リマーが使用される。このプレポリマーは、上記の多官
能性シアン酸エステルモノマーを、例えば鉱酸、ルイス
酸等の酸類;ナトリウムアルコラート等、第三級アミン
類等の塩基;炭酸ナトリウム等の塩類等を触媒として重
合させることにより得られる。このプレポリマー中には
一部未反応のモノマーも含まれており、モノマーとプレ
ポリマーとの混合物の形態をしており、このような原料
は本発明の用途に好適に使用される。一般には可溶な有
機溶剤に溶解させて使用する。
In addition to these, Japanese Patent Publication Nos. 41-1928 and 43-1846
8, polyfunctional cyanate compounds described in JP-A-44-4791, JP-A-45-11712, JP-A-46-41112, JP-A-47-26853 and JP-A-51-63149 can also be used. Further, a prepolymer having a molecular weight of 400 to 6,000 and having a triazine ring formed by trimerization of a cyanato group of these polyfunctional cyanate compounds is used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate ester monomer with a catalyst such as an acid such as a mineral acid or a Lewis acid; a base such as a tertiary amine such as sodium alcoholate; or a salt such as sodium carbonate. It can be obtained by: The prepolymer also contains some unreacted monomers and is in the form of a mixture of the monomer and the prepolymer, and such a raw material is suitably used for the purpose of the present invention. Generally, it is used after being dissolved in a soluble organic solvent.

【0017】エポキシ樹脂としては、一般に公知のもの
が使用できる。具体的には、液状或いは固形のビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂;ブタ
ジエン、ペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、ジシク
ロペンチルエーテル等の二重結合をエポキシ化したポリ
エポキシ化合物類;ポリオール、水酸基含有シリコン樹
脂類とエポハロヒドリンとの反応によって得られるポリ
グリシジル化合物類等が挙げられる。これらは1種或い
は2種類以上が組み合わせて使用され得る。
As the epoxy resin, a generally known epoxy resin can be used. Specifically, liquid or solid bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin; butadiene, pentadiene, vinylcyclohexene, dicyclopentyl ether, etc. And polyglycidyl compounds obtained by reacting a polyol, a hydroxyl-containing silicone resin with an epohalohydrin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0018】ポリイミド樹脂としては、一般に公知のも
のが使用され得る。具体的には、多官能性マレイミド類
とポリアミン類との反応物、特公昭57-005406 に記載の
末端三重結合のポリイミド類が挙げられる。
As the polyimide resin, generally known ones can be used. Specific examples include a reaction product of a polyfunctional maleimide and a polyamine, and a polyimide having a terminal triple bond described in JP-B-57-005406.

【0019】これらの熱硬化性樹脂は、単独でも使用さ
れるが、特性のバランスを考え、適宜組み合わせて使用
するのが良い。
These thermosetting resins may be used alone, but it is preferable to use them in an appropriate combination in consideration of the balance of properties.

【0020】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、組成物
本来の特性が損なわれない範囲で、所望に応じて種々の
添加物を配合することができる。これらの添加物として
は、不飽和ポリエステル等の重合性二重結合含有モノマ
ー類及びそのプレポリマー類;ポリブタジエン、エポキ
シ化ブタジエン、マレイン化ブタジエン、ブタジエン-
アクリロニトリル共重合体、ポリクロロプレン、ブタジ
エン-スチレン共重合体、ポリイソプレン、ブチルゴ
ム、フッ素ゴム、天然ゴム等の低分子量液状〜高分子量
のelasticなゴム類;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン、ポリ-4-メチルペンテン、ポリスチレン、AS
樹脂、ABS樹脂、MBS樹脂、スチレン-イソプレンゴム、
ポリエチレン-プロピレン共重合体、4-フッ化エチレン-
6-フッ化エチレン共重合体類;ポリカーボネート、ポリ
フェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエステル、ポ
リフェニレンサルファイド等の高分子量プレポリマー若
しくはオリゴマー;ポリウレタン等が例示され、適宜使
用される。また、その他、公知の有機の充填剤、染料、
顔料、増粘剤、滑剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、
光増感剤、難燃剤、光沢剤、重合禁止剤、チキソ性付与
剤等の各種添加剤が、所望に応じて適宜組み合わせて用
いられる。必要により、反応基を有する化合物は硬化
剤、触媒が適宜配合される。尚、炭酸ガスレーザーで孔
あけする場合、樹脂に黒色の染料、顔料を配合するのが
孔壁形状、孔品質等の点から好ましい。
Various additives can be added to the thermosetting resin composition of the present invention, if desired, as long as the inherent properties of the composition are not impaired. These additives include polymerizable double bond-containing monomers such as unsaturated polyesters and prepolymers thereof; polybutadiene, epoxidized butadiene, maleated butadiene, butadiene-
Low molecular weight liquid to high molecular weight elastic rubbers such as acrylonitrile copolymer, polychloroprene, butadiene-styrene copolymer, polyisoprene, butyl rubber, fluororubber, natural rubber; polyethylene, polypropylene, polybutene, poly-4-methyl Penten, polystyrene, AS
Resin, ABS resin, MBS resin, styrene-isoprene rubber,
Polyethylene-propylene copolymer, 4-fluoroethylene-
6-fluorinated ethylene copolymers; high molecular weight prepolymers or oligomers such as polycarbonate, polyphenylene ether, polysulfone, polyester, and polyphenylene sulfide; and polyurethane are exemplified and used as appropriate. In addition, other known organic fillers, dyes,
Pigments, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents,
Various additives such as a photosensitizer, a flame retardant, a brightener, a polymerization inhibitor, and a thixotropy-imparting agent are used in an appropriate combination as required. If necessary, the compound having a reactive group is appropriately blended with a curing agent and a catalyst. When a hole is formed by a carbon dioxide gas laser, it is preferable to mix a black dye and a pigment with the resin from the viewpoint of the hole wall shape, the hole quality and the like.

【0021】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、それ自体
は加熱により硬化するが硬化速度が遅く、作業性、経済
性等に劣るため使用した熱硬化性樹脂に対して公知の熱
硬化触媒を用い得る。使用量は、熱硬化性樹脂100重量
部に対して0.005〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量部
である。
The thermosetting resin composition of the present invention can be cured by heating itself, but has a low curing rate and is inferior in workability and economical efficiency. Can be used. The amount used is 0.005 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the thermosetting resin.

【0022】無機の絶縁性充填剤としては、一般に公知
のものが使用できる。具体的には、天然シリカ、焼成シ
リカ、アモルファスシリカ等のシリカ類;ホワイトカー
ボン、チタンホワイト、アエロジル、クレー、タルク、
ウオラストナイト、天然マイカ、合成マイカ、カオリ
ン、マグネシア、アルミナ、パーライト、水酸化アルミ
ニウム、水酸化マグネシウム等が挙げられる。添加量
は、10〜80重量%、好適には20〜70重量%である。粒子径
は、1μm以下が好ましい。
As the inorganic insulating filler, generally known ones can be used. Specifically, silicas such as natural silica, calcined silica, and amorphous silica; white carbon, titanium white, aerosil, clay, talc,
Examples include wollastonite, natural mica, synthetic mica, kaolin, magnesia, alumina, perlite, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide. The amount added is 10 to 80% by weight, preferably 20 to 70% by weight. The particle diameter is preferably 1 μm or less.

【0023】最外層の銅箔は、一般に公知のものが使用
できる。好適には厚さ3〜12μmの電解銅箔等が使用され
る。内層の銅箔は、好適には9〜70μmの電解銅箔等が使
用される。
As the outermost copper foil, generally known ones can be used. Preferably, an electrolytic copper foil or the like having a thickness of 3 to 12 μm is used. As the copper foil of the inner layer, an electrolytic copper foil of 9 to 70 μm or the like is preferably used.

【0024】銅張積層板の製造方法は特に制限はない
が、例えば、まず上記ポリベンザゾール繊維布基材に熱
硬化性樹脂組成物を含浸、乾燥させてBステージとし、
好適には、樹脂組成物含有量40〜70wt%となるようにプ
リプレグを作成する。次に、このプリプレグを所定枚数
用い、少なくとも片面に銅箔を配置して、加熱、加圧下
に積層成形し、銅張積層板とする。もちろん、銅以外に
も、その合金、ニッケル箔などが使用できるが、電解銅
箔が最適である。また、この銅張積層板に回路を形成
し、必要により表面処理を施し、同一のプリプレグを用
いて積層成形して得られた多層板も同様である。
The method for producing the copper-clad laminate is not particularly limited. For example, first, the polybenzazole fiber cloth base material is impregnated with a thermosetting resin composition and dried to form a B stage.
Preferably, the prepreg is prepared so that the content of the resin composition is 40 to 70 wt%. Next, a predetermined number of the prepregs are used, a copper foil is arranged on at least one side, and lamination molding is performed under heating and pressure to obtain a copper-clad laminate. Of course, besides copper, its alloy, nickel foil and the like can be used, but electrolytic copper foil is most suitable. The same applies to a multilayer board obtained by forming a circuit on this copper-clad laminate, subjecting it to a surface treatment if necessary, and laminating and molding using the same prepreg.

【0025】このポリベンザゾール繊維布基材銅張積層
板にスルーホール用貫通孔、ブラインドホール用孔をあ
ける場合、レーザーを使用するのが好ましい。具体的に
は、炭酸ガスレーザー、また加工速度は遅いが、エキシ
マレーザー、YAGレーザー等、一般に公知のものが使用
できる。しかし、作業性、経済性の点から、炭酸ガスレ
ーザーが好ましい。炭酸ガスレーザーで孔あけする場
合、レーザーを照射する面の孔形成位置の銅箔表面に、
金属化合物粉、カーボン粉、金属粉の1種或いは2種以
上を含む樹脂組成物からなる塗膜、又はシートを配置
し、あるいは酸化金属処理、薬液処理を銅表面に施し、
直接目的とする径まで絞った炭酸ガスーレーザーを照射
することにより表面の銅箔、又は裏面の銅箔の孔あけを
行なう。バックアップシートは、表面光沢のある金属板
の上に樹脂層があるシートを使用するのが、貫通した炭
酸ガスレーザーの反射で裏面孔部の変形等が発生するの
を防ぐためにも好ましい。また、あらかじめ表層の金属
箔をエッチング除去しておき、炭酸ガスレーザーを照射
して孔あけする方法等、一般に公知の方法も使用し得
る。ブラインドビアの場合、一般に銅メッキ前にデスミ
ア処理を行う。また、貫通孔の場合も、孔内に銅箔が露
出している場合、デスミア処理を行うのが良い。プラズ
マ処理等の公知の樹脂除去処理も使用できる。
When a through-hole for a through-hole and a hole for a blind hole are made in the copper-clad laminate of polybenzazole fiber cloth base material, it is preferable to use a laser. Specifically, generally known lasers such as a carbon dioxide laser and an excimer laser or a YAG laser can be used although the processing speed is low. However, a carbon dioxide laser is preferred in terms of workability and economy. When drilling with a carbon dioxide gas laser, on the copper foil surface at the hole formation position on the surface irradiated with the laser,
Metal compound powder, carbon powder, arrange a coating film or sheet made of a resin composition containing one or more of metal powder, or perform metal oxide treatment, chemical solution treatment on the copper surface,
By directly irradiating a carbon dioxide laser squeezed to a target diameter, the copper foil on the front surface or the copper foil on the rear surface is drilled. As the backup sheet, it is preferable to use a sheet having a resin layer on a metal plate having a glossy surface, in order to prevent deformation of the back surface hole due to reflection of the penetrated carbon dioxide laser. In addition, a generally known method such as a method in which the surface metal foil is removed by etching in advance and a hole is formed by irradiating a carbon dioxide gas laser may be used. In the case of a blind via, desmear processing is generally performed before copper plating. Also, in the case of a through hole, desmearing is preferably performed when the copper foil is exposed in the hole. A known resin removal treatment such as a plasma treatment can also be used.

【0026】炭酸ガスレーザーの出力は特に限定しない
が、好適には出力20〜60mJ/パルスの1エネルギーを選
び、数パルス照射して貫通孔、ビア孔を形成する。この
場合、最初に高エネルギーで照射した後、エネルギーを
変えて加工することが可能である。孔あけした場合、孔
周辺はバリが発生する。銅箔が薄い場合、その後のソフ
トエッチング等でバリは少なくなるが、銅箔が厚い場
合、バリは除去することが信頼性を向上させるために好
ましい。そのため、炭酸ガスレーザー照射後、銅箔の両
表面を平面的にエッチングし、もとの銅箔を厚さ方向に
一部エッチング除去することにより、同時にバリもエッ
チング除去する。得られた銅箔は細密パターン形成に適
しており、高密度のプリント配線板に適した孔周囲の両
面の銅箔が残存したスルーホールメッキ用貫通孔及び/
又はビア孔を形成する。
The output of the carbon dioxide gas laser is not particularly limited. Preferably, one energy of an output of 20 to 60 mJ / pulse is selected, and several pulses are irradiated to form through holes and via holes. In this case, it is possible to perform processing by changing the energy after irradiating with high energy first. When a hole is drilled, burrs are generated around the hole. When the copper foil is thin, burrs are reduced by subsequent soft etching or the like, but when the copper foil is thick, it is preferable to remove the burrs in order to improve reliability. Therefore, after the carbon dioxide laser irradiation, both surfaces of the copper foil are etched two-dimensionally, and the original copper foil is partially etched away in the thickness direction, thereby simultaneously removing burrs by etching. The obtained copper foil is suitable for forming a fine pattern, and the copper foil on both sides around the hole suitable for a high-density printed wiring board has a through hole for through-hole plating and / or
Alternatively, a via hole is formed.

【0027】本発明で、炭酸ガスレーザーを直接照射し
て孔あけする銅箔表面には酸化金属処理又は薬液処理を
施すか、あるいは金属化合物粉、カーボン粉、金属粉の
1種或いは2種以上を含む有機物を配置して、炭酸ガス
レーザーの銅箔の直接孔あけに使用される。酸化金属粉
としては、融点900℃以上で、且つ、結合エネルギー300
kJ/mol 以上の金属化合物の粉体が使用される。具体的
には、酸化物としては、酸化チタン等のチタニア類;酸
化マグネシウム等のマグネシア類;酸化鉄等の鉄酸化物
類;酸化ニッケル等のニッケル酸化物類;酸化亜鉛等の
亜鉛酸化物類;二酸化珪素、二酸化マンガン、酸化アル
ミニウム、希土類酸化物、酸化錫等のスズ酸化物類;酸
化タングステン等のタングステン酸化物類、等が挙げら
れる。非酸化物としては、炭化珪素、炭化タングステ
ン、窒化硼素、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミニウ
ム、硫酸バリウム等、一般に公知のものが挙げられる。
その他、カーボン類も使用できる。更に銀、アルミニウ
ム、ビスマス、コバルト、銅、鉄、マンガン、モリブデ
ン、ニッケル、錫、イタン、亜鉛等の単体、或いはそれ
らの合金が使用される。これらは、一種或いは二種以上
が組み合わせて使用される。平均粒子径は、特に限定し
ないが、1μm以下が好ましい。使用量は特に限定しない
が、3〜97vol%が使用される。これらは有機物、特に樹
脂組成物に配合されて使用される。樹脂組成物は、レー
ザー加工後の残存物除去の点からも水溶性樹脂が好まし
い。水溶性樹脂としては、特に制限はないが、混練して
銅箔表面に塗布、乾燥した場合、或いはシート状とした
場合、剥離欠落のないものを選択して使用する。例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエーテ
ル、澱粉等、一般に公知のものが挙げられる。
In the present invention, the surface of the copper foil to be drilled by directly irradiating a carbon dioxide laser is subjected to metal oxide treatment or chemical treatment, or one or more of metal compound powder, carbon powder and metal powder. Is used for direct drilling of copper foil with carbon dioxide laser. Metal oxide powder has a melting point of 900 ° C or higher and a binding energy of 300
A powder of a metal compound of kJ / mol or more is used. Specifically, oxides include titanias such as titanium oxide; magnesias such as magnesium oxide; iron oxides such as iron oxide; nickel oxides such as nickel oxide; zinc oxides such as zinc oxide. Tin oxides such as silicon dioxide, manganese dioxide, aluminum oxide, rare earth oxides and tin oxide; and tungsten oxides such as tungsten oxide. Examples of the non-oxide include generally known materials such as silicon carbide, tungsten carbide, boron nitride, silicon nitride, titanium nitride, aluminum nitride, and barium sulfate.
In addition, carbons can also be used. Further, a simple substance such as silver, aluminum, bismuth, cobalt, copper, iron, manganese, molybdenum, nickel, tin, itanium or zinc, or an alloy thereof is used. These are used alone or in combination of two or more. The average particle size is not particularly limited, but is preferably 1 μm or less. The use amount is not particularly limited, but 3 to 97 vol% is used. These are used by being blended with an organic substance, particularly a resin composition. The resin composition is preferably a water-soluble resin also from the viewpoint of removing residue after laser processing. There is no particular limitation on the water-soluble resin, but when kneaded and applied to the surface of the copper foil and dried, or when formed into a sheet, a resin having no peeling-off is selected and used. For example, generally known materials such as polyvinyl alcohol, polyester, polyether, starch and the like can be mentioned.

【0028】金属化合物粉、カーボン粉、又は金属粉と
樹脂とからなる組成物を作成する方法は、特に限定しな
いが、ニーダー等で無溶剤にて高温で練り、熱可塑性フ
ィルムにシート状に押し出して付着する方法、水に水溶
性樹脂を溶解させ、これに上記粉体を加え、均一に攪拌
混合したものを用い、塗料として熱可塑性フィルムに塗
布、乾燥して塗膜を形成するか、直接銅箔上に塗布、乾
燥して塗膜とする方法等が使用される。厚みは、特に限
定しないが、好適には塗膜厚み30〜100μmとする、フィ
ルムに付着させた場合、好適には総厚み30〜200μmのシ
ートとする。シートとした場合、好適には樹脂層を銅箔
側に配置し、加熱、加圧下にラミネートして使用するこ
とが好ましい。
The method for preparing the metal compound powder, carbon powder, or the composition comprising the metal powder and the resin is not particularly limited, but is kneaded at a high temperature without solvent in a kneader or the like, and extruded into a thermoplastic film into a sheet. A method of adhering, dissolving the water-soluble resin in water, adding the above powder to this, and using a homogeneously stirred mixture, apply it to a thermoplastic film as a paint and dry to form a coat or directly A method of coating and drying a copper foil to form a coating film is used. The thickness is not particularly limited, but is preferably 30 to 100 μm in thickness of the coating film. When attached to a film, it is preferably a sheet having a total thickness of 30 to 200 μm. In the case of a sheet, it is preferable that the resin layer is disposed on the copper foil side and laminated under heat and pressure.

【0029】バックアップシートは、好適には、上記水
溶性樹脂層を銅張板裏面に配置し、その外側に金属板を
置いて貫通孔あけに使用される。水溶性樹脂は、銅箔に
接着させて使用するのが好ましい。本発明で使用される
酸化金属処理としては、一般に公知の処理が挙げられ
る。具体的には、黒色酸化銅処理、MM処理(MacDarmid
社)等が用いられる。また薬液処理としては、CZ処理
(メック社)等が挙げられる。
The backup sheet is preferably used for drilling through holes by disposing the water-soluble resin layer on the back surface of the copper-clad board and placing a metal plate on the outside thereof. It is preferable to use the water-soluble resin by bonding it to a copper foil. Examples of the metal oxide treatment used in the present invention include generally known treatments. Specifically, black copper oxide treatment, MM treatment (MacDarmid
Is used. Examples of the chemical treatment include CZ treatment (Mec).

【0030】本発明の孔部に発生した銅のバリをエッチ
ング除去する方法としては、特に限定しないが、例え
ば、特開平02-22887、同02-22896、同02-25089、同02-2
5090、同02-59337、同02-60189、同02-166789、同03-25
995、同03-60183、同03-94491、同04-199592、同04-263
488号公報で開示された、薬品で金属表面を溶解除去す
る方法(SUEP法と呼ぶ)による。エッチング速度
は、0.02〜1.0μm/秒で行うのが好ましい。
The method of etching and removing copper burrs generated in the holes according to the present invention is not particularly limited. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 02-22887, 02-22896, 02-25089, and 02-2
5090, 02-59337, 02-60189, 02-166789, 03-25
995, 03-60183, 03-94491, 04-199592, 04-263
No. 488 discloses a method of dissolving and removing a metal surface with a chemical (referred to as a SUEP method). Preferably, the etching rate is 0.02 to 1.0 μm / sec.

【0031】炭酸ガスレーザーは、赤外線波長域にある
9.3〜10.6μmの波長が一般に使用される。本発明の銅張
板は、エキシマレーザー、YAGレーザーでも加工可能で
ある。エキシマレーザーは、一般には248〜308n
m、YAGレーザーは351〜355nmの波長が好適に使用
される。
The carbon dioxide laser is in the infrared wavelength range.
Wavelengths of 9.3 to 10.6 μm are commonly used. The copper clad board of the present invention can be processed by an excimer laser or a YAG laser. Excimer lasers are generally 248-308n
m, YAG laser is preferably used at a wavelength of 351 to 355 nm.

【0032】[0032]

【実施例】以下に実施例、比較例で本発明を具体的に説
明する。尚、特に断らない限り、『部』は重量部を表
す。 実施例1及び2 2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパン900部、ビス(4-
マレイミドフェニル)メタン100部を150℃に熔融させ、
撹拌しながら4時間反応させ、プレポリマーを得た。こ
れをメチルエチルケトンとジメチルホルムアミドの混合
溶剤に溶解した。これにビスフェノールA型エポキシ樹
脂(商品名:エピコート1001、油化シェルエポキシ<株>
製)400部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(商品
名:ESCN-220F、住友化学工業<株>製)600部を加え、均
一に溶解混合した。更に触媒としてオクチル酸亜鉛0.4
部を加え、溶解混合し、これに無機絶縁性充填剤(商品
名:焼成タルク、平均粒径0.4μm、日本タルク<株>
製)500部、及び黒色顔料8部を加え、均一撹拌混合して
ワニスAを得た。このワニスAを、化1のモノマー単位か
らなるポリベンザゾール繊維不織布(実施例1、厚さ10
0μm、樹脂量60重量%)及び織布(実施例2、厚さ200μ
m、樹脂量56重量%)に含浸、乾燥し、ゲル化時間(at17
0℃)120秒のプリプレグ(プリプレグB及びプリプレグC)
を作成した。厚さ12μmの電解銅箔を、上記プリプレグ
B 5枚、プリプレグC 3枚の上下に配置し、200℃、20
kgf/cm2、30mmHg以下の真空下で2時間積層成形し、両面
銅張積層板D及びEを得た。一方、平均粒径0.86μmの黒
色酸化銅粉800部を、ポリビニルアルコール粉体を水に
溶解したワニスに加え、均一に攪拌混合した(ワニス
F)。これを上記両面銅張積層板の上に、厚さ30μm塗
布し、110℃で30分間乾燥して、金属酸化物含有量50wt%
の皮膜を形成した。また、下側には100μmの表面光沢の
あるアルミニウム箔の上に水溶性ポリエステル樹脂を10
0μm塗ったバックアップシートを置き、この上側から、
孔径100μmの孔を900個直接炭酸ガスレーザーで、出力3
5mJ/パルスで6パルス(ショット)かけてスルーホール
用貫通孔をあけた。SUEP法にて、孔周辺の銅箔バリ
を溶解除去すると同時に、表面の銅箔も4μmまで溶解し
た。この板に公知の方法にて銅メッキを15μm(総厚み:1
9μm)施した。この表面に、公知の方法にて回路(ライン
/スペース=50/50μm)、裏面にハンダボール用ランド等
を形成し、半導体チップ搭載部、ボンディングパッド
部、及びハンダボールパッド部を除いてメッキレジスト
で被覆し、ニッケル、金メッキを施し、50mm角のプリン
ト配線板を作成した。このプリント配線板の半導体搭載
部に13mm角の半導体チップを銀ペーストで接着し、ワイ
ヤボンディングし、樹脂封止して半導体プラスチックG
及びHとした。評価結果を表1及び表2に示す。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Unless otherwise specified, “parts” indicates parts by weight. Examples 1 and 2 900 parts of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane,
100 parts of (maleimidophenyl) methane are melted at 150 ° C,
The mixture was reacted for 4 hours with stirring to obtain a prepolymer. This was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide. Add bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 1001, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
) And 600 parts of a cresol novolac type epoxy resin (trade name: ESCN-220F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were uniformly mixed and dissolved. Further, as a catalyst, zinc octylate 0.4
Parts, melt-mix, and add an inorganic insulating filler (trade name: calcined talc, average particle size 0.4 μm, Nippon Talc Co., Ltd.)
500 parts) and 8 parts of a black pigment were added and uniformly stirred and mixed to obtain Varnish A. This varnish A was applied to a polybenzazole fiber nonwoven fabric comprising the monomer unit of Chemical Formula 1 (Example 1, thickness 10).
0 μm, resin content 60% by weight) and woven cloth (Example 2, thickness 200 μm)
m, resin content 56% by weight), dry and gel time (at17
0 ° C) 120 seconds prepreg (prepreg B and prepreg C)
It was created. Electrodeposited copper foil having a thickness of 12 μm was placed above and below the five prepregs B and three prepregs C at 200 ° C and 20 ° C.
Laminate molding was performed for 2 hours under a vacuum of 30 mmHg or less at kgf / cm 2 to obtain double-sided copper-clad laminates D and E. Separately, 800 parts of black copper oxide powder having an average particle size of 0.86 μm was added to a varnish prepared by dissolving polyvinyl alcohol powder in water, and uniformly stirred and mixed (varnish F). This was coated on the double-sided copper-clad laminate at a thickness of 30 μm and dried at 110 ° C. for 30 minutes to obtain a metal oxide content of 50% by weight.
Was formed. On the lower side, a 10 μm water-soluble polyester resin was coated on an aluminum foil with a surface gloss of 100 μm.
Place a backup sheet painted 0μm, and from above,
900 holes with a diameter of 100 μm are directly output by a carbon dioxide gas laser.
Six through-holes (shots) were made at 5 mJ / pulse to form through-holes for through-holes. The copper foil burrs around the holes were dissolved and removed by the SUEP method, and the copper foil on the surface was also dissolved to 4 μm. This plate is plated with copper by a known method at 15 μm (total thickness: 1
9 μm). A circuit (line
/ Space = 50 / 50μm), lands for solder balls, etc. are formed on the back surface, covered with a plating resist except for the semiconductor chip mounting portion, bonding pad portion, and solder ball pad portion, and nickel and gold plating are applied, and 50mm square A printed wiring board was made. A 13 mm square semiconductor chip is bonded to the semiconductor mounting part of this printed wiring board with silver paste, wire-bonded, resin-sealed, and
And H. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0033】実施例3 エポキシ樹脂(商品名:エピコート5045)1400部、エポキ
シ樹脂(商品名:ESCN220F)600部、ジシアンジアミド70
部、2-エチル-4-メチルイミダゾール2部をメチルエチル
ケトンとジメチルホルムアミドの混合溶剤に溶解し、ワ
ニスIを得た。これを実施例1のポリベンザゾール不織
布、織布に含浸、乾燥して、ゲル化時間120秒、樹脂量5
7重量%(不織布)のプリプレグJ、及び樹脂量50wt%(織
布)のプリプレグKを作成した。このプリプレグJを2
枚、その両外側にプリプレグKを各1枚使用し、その外側
に35μmキャリア付き3μmの電解銅箔を配置し、190
℃、20kgf/cm2、30mmHg以下の真空下に積層成形して、
両面銅張積層板Lを作成した。その後、キャリアの35
μm銅箔を剥離し、この上に黒色酸化銅処理を施し、実
施例1と同様に炭酸ガスレーザーで貫通孔をあけ、表層
の黒色酸化銅処理層を5重量%塩酸水溶液で洗浄除去
後、パルス銅メッキを行って孔内部を銅メッキで90容
積%充填し、あとは実施例1と同様にして、プリント配
線板を作成した。評価結果を表1及び表2に示す。
Example 3 1400 parts of epoxy resin (trade name: Epicoat 5045), 600 parts of epoxy resin (trade name: ESCN220F), dicyandiamide 70
And 2 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole were dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide to obtain Varnish I. This was impregnated into the polybenzazole nonwoven fabric and woven fabric of Example 1 and dried to obtain a gelation time of 120 seconds and a resin amount of 5 seconds.
A prepreg J of 7% by weight (non-woven fabric) and a prepreg K of a resin amount of 50% by weight (woven fabric) were prepared. This prepreg J
Prepreg K was used on each of the outer sides, and a 3 μm electrolytic copper foil with a 35 μm carrier was placed on the outer side, and 190
℃, 20kgf / cm 2 , Laminated under vacuum of 30mmHg or less,
A double-sided copper-clad laminate L was prepared. Then the carrier 35
The μm copper foil was peeled off, black copper oxide treatment was performed thereon, a through hole was formed with a carbon dioxide laser in the same manner as in Example 1, and the surface black copper oxide treated layer was washed and removed with a 5% by weight hydrochloric acid aqueous solution. Pulsed copper plating was performed to fill the inside of the hole with copper plating by 90% by volume, and thereafter, a printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0034】実施例4 実施例1のプリプレグCを1枚使用し、この両面に12μ
mの電解銅箔を置き、同様に積層成形して両面銅張積層
板を作成した。この表面に実施例1のワニスFを、厚さ4
0μmとなるように塗布、乾燥してから炭酸ガスレーザー
のエネルギー35mJ/パルス にて4ショット照射して孔径1
00μmの貫通孔を形成した。SUEP法にて孔周辺の銅箔バ
リを溶解除去するとともに表層の銅箔の厚みも4μmまで
溶解した。全体に厚さ17μmの銅メッキを施した後、表
裏に回路を形成し、酸化銅処理を行った。この表裏に実
施例1のプリプレグCを各1枚配置し、その外側に12μm
の電解銅箔を配置し、同様に積層成形して4層板を得
た。これの上に実施例1のワニスFを塗布、乾燥し、35
mJのエネルギーで5ショット照射してスルーホール用貫
通孔を形成し、35mJ/パルス 2ショット、その後10mJ/
パルス 1ショットを照射してブラインドビア孔用の孔を
形成後、SUEP法にて同様に銅箔バリ及び表層の銅箔を4
μmまで溶解すると同時に内層の銅箔バリをも溶解除去
し、デスミア処理を行ってから、銅メッキを17μmまで
付着させ、表裏に回路を形成し、半導体チップ搭載部、
ボンディングパッド部、及び裏面のボールパッド部をメ
ッキレジストで被服後、ニッケルメッキ、金メッキを施
し、プリント配線板とした。この多層プリント配線板の
評価結果を表1及び表2に示す。
Example 4 One prepreg C of Example 1 was used.
m of electrolytic copper foil was placed and similarly laminated and formed to produce a double-sided copper-clad laminate. On this surface, the varnish F of Example 1 was applied with a thickness of 4
After coating and drying to a thickness of 0 μm, irradiate 4 shots with a CO2 laser energy of 35 mJ / pulse and apply a hole diameter of 1
A 00 μm through hole was formed. The copper foil burrs around the holes were dissolved and removed by the SUEP method, and the thickness of the surface copper foil was also dissolved to 4 μm. After copper plating with a thickness of 17 μm was applied to the whole, circuits were formed on the front and back sides, and copper oxide treatment was performed. One prepreg C of Example 1 was placed on each of the front and back sides, and 12 μm
Was placed and similarly laminated and molded to obtain a four-layer plate. On top of this, the varnish F of Example 1 was applied, dried and dried.
Irradiate 5 shots with energy of mJ to form through holes for through holes, 35 mJ / pulse 2 shots, then 10 mJ /
After irradiating a pulse one shot to form a hole for a blind via hole, the copper foil burr and surface copper
Dissolves and removes the inner layer of copper foil burrs at the same time as dissolving to μm, performs desmear treatment, attaches copper plating to 17 μm, forms circuits on the front and back, semiconductor chip mounting part,
After coating the bonding pad portion and the ball pad portion on the back surface with a plating resist, nickel plating and gold plating were performed to obtain a printed wiring board. Tables 1 and 2 show the evaluation results of the multilayer printed wiring board.

【0035】比較例1 実施例1において、無機絶縁性充填剤を用いず、加えて
基材として100μmの厚さの液晶ポリエステル繊維不織布
を用い、同様にプリプレグを作成した。これを用い、実
施例1と同様に両面銅張積層板板を作成した。但し、SU
EP処理は行なわず、スルーホール用貫通孔は径200μmの
ドリルであけ、プリント配線板を作成した。評価結果を
表1及び表2に示す。
Comparative Example 1 A prepreg was prepared in the same manner as in Example 1 except that no inorganic insulating filler was used and a liquid crystal polyester fiber nonwoven fabric having a thickness of 100 μm was used as a substrate. Using this, a double-sided copper-clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1. However, SU
The EP process was not performed, and the through-hole for a through-hole was drilled with a drill having a diameter of 200 μm to produce a printed wiring board. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0036】比較例2 実施例4において、エポキシ樹脂としてエピコート5045
単独を2000部使用し、無機充填剤を使用せずにワニスM
を作成した。これを厚み100μmの全芳香族ポリアミド繊
維不織布に含浸、乾燥し、樹脂量60重量%、ゲル化時
間115秒のプリプレグを得た。これを用い、実施例3と
同様に4層板を作成した。貫通孔は径200μmのメカニカ
ルドリルで、ビア孔は炭酸ガスレーザーで同様に孔あけ
し、SUEP処理を施さずに、デスミア処理を行い、同様に
プリント配線板とした。評価結果を表1及び表2に示
す。
Comparative Example 2 In Example 4, epicoat 5045 was used as the epoxy resin.
Varnish M using 2000 parts alone, no inorganic filler
It was created. This was impregnated into a 100 μm-thick wholly aromatic polyamide fiber nonwoven fabric and dried to obtain a prepreg having a resin amount of 60% by weight and a gel time of 115 seconds. Using this, a four-layer plate was prepared in the same manner as in Example 3. The through-hole was formed with a mechanical drill having a diameter of 200 μm, and the via-hole was similarly drilled with a carbon dioxide gas laser, subjected to desmear treatment without performing SUEP treatment, and similarly formed into a printed wiring board. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0037】比較例3 比較例2のワニスMを用い、これを100μmのガラス
織布に含浸、乾燥して、ゲル化110秒、樹脂量45重
量%のプリプレグNを得た。このプリプレグ4枚を使用
し、表裏に12μmの電解銅箔を配置し、実施例3と同
様に積層成形して両面銅張積層板を作成した。これに計
200μmの貫通孔をメカニカルドリルであけ、SUEP処
理を施さずにデスミア処理を行い、実施例3と同様にプ
リント配線板とした。評価結果を表1及び表2に示す。
Comparative Example 3 The varnish M of Comparative Example 2 was impregnated with a 100 μm glass woven fabric and dried to obtain a prepreg N having a gelation of 110 seconds and a resin amount of 45% by weight. Using these four prepregs, 12 μm electrolytic copper foils were arranged on the front and back, and laminated and molded in the same manner as in Example 3 to prepare a double-sided copper-clad laminate. Through holes of 200 μm in total were drilled with a mechanical drill, and desmearing was performed without performing SUEP processing, to obtain a printed wiring board in the same manner as in Example 3. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0038】[0038]

【表1】 注:ガラス転移温度、℃、 熱膨張率、ppm/℃。[Table 1] Note: Glass transition temperature, ° C, coefficient of thermal expansion, ppm / ° C.

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】<測定方法> 1)孔壁形状 孔の断面を観察し、壁の凹凸、ケバについて観察した。 2)回路パターン切れ、及びショート 実施例、比較例で、孔のあいていない板を同様に作成
し、ライン/スペース=50/50μm の櫛形パターンを作成
した後、拡大鏡でエッチング後の200パターンを目視に
て観察し、パターン切れ、及びショートしているパター
ンの合計を分子に示した。 3)ガラス転移温度 DMA法にて測定した。 4)スルーホール・ヒートサイクル試験 各スルーホールにランド径200μmを作成し、900孔を交
互につなぎ、1サイクルが、260℃・ハンダ・浸せき30秒
→室温・5分 で、200サイクル実施し、抵抗値の変化率
の最大値を示した。 5)プレッシャークッカー処理後の絶縁抵抗値 端子間(ライン/スペース=50/50μm)の櫛形パターン
を作成し、化学処理後、この上に、それぞれ使用したプ
リプレグを1枚重ね、積層成形したものを、121℃・203
kPaで所定時間処理したものを25℃・60%RHにて2時間後
処理し、500VDCを印加60秒後に端子間の絶縁抵抗値を測
定した。 6)耐マイグレーション性 上記5)の試験片を85℃、85%RH、50VDC 印加して、端子
間の絶縁抵抗を測定した。 7)熱膨張率 TMAにて測定した。室温からTgまでタテ方向の値。 8)煮沸後の耐熱性 3時間煮沸後、260℃の半田に30sec. 浸せきし、異常の
有無を見た。
<Measurement method> 1) Hole wall shape The cross section of the hole was observed, and irregularities and fluff on the wall were observed. 2) Cut and short circuit pattern In the examples and comparative examples, a board without holes was created in the same way, a comb pattern of line / space = 50 / 50μm was created, and 200 patterns were etched with a magnifying glass. Was visually observed, and the total of the broken pattern and the short-circuited pattern was shown in the molecule. 3) Glass transition temperature Measured by the DMA method. 4) Through-hole heat cycle test Create a land diameter of 200 μm for each through-hole, connect 900 holes alternately, and carry out 200 cycles at 260 ° C, solder, immersion for 30 seconds → room temperature for 5 minutes, The maximum value of the rate of change of the resistance value is shown. 5) Insulation resistance value after pressure cooker process A comb-shaped pattern between terminals (line / space = 50 / 50μm) was created, and after chemical treatment, one prepreg used was stacked on top of each other and laminated. , 121 ℃ ・ 203
What was treated for a predetermined time at kPa was post-treated for 2 hours at 25 ° C. and 60% RH, and the insulation resistance between terminals was measured 60 seconds after applying 500 VDC. 6) Migration resistance The test piece of 5) was applied at 85 ° C., 85% RH and 50 VDC, and the insulation resistance between the terminals was measured. 7) Thermal expansion coefficient Measured by TMA. Values in the vertical direction from room temperature to Tg. 8) Heat resistance after boiling After boiling for 3 hours, it was immersed in solder at 260 ° C for 30 seconds to check for abnormalities.

【0041】[0041]

【発明の効果】基材として、ポリベンザゾール繊維布を
用い、これに熱硬化性樹脂組成物、好適には多官能性シ
アン酸エステル組成物を用い、絶縁性無機充填剤を配合
して得られた、金属箔張積層板、多層板であって、この
銅張積層板を用いたプリント配線板は、吸湿後の耐熱
性、電気絶縁性、耐マイグレーション性等の信頼性に優
れ、耐熱性等にも優れており、且つ低熱膨張率である。
又、孔加工において、レーザー、好適には銅箔表面に、
融点900℃以上で、且つ、結合エネルギー300kcal/mol
以上の金属化合物粉、カーボン粉、金属粉の1種或いは
2種以上を配合した有機物を配置し、直接高エネルギー
の炭酸ガスレーザーを照射して、銅箔を加工し、貫通孔
及び/又はビア孔を形成することにより、作業性、経済
性等に優れ、孔の接続信頼性にも優れたプリント配線板
の製造方法が提供される。
According to the present invention, a polybenzazole fiber cloth is used as a base material, a thermosetting resin composition, preferably a polyfunctional cyanate composition is used, and an insulating inorganic filler is compounded. The printed wiring board using this copper-clad laminate is excellent in reliability such as heat resistance after absorption of moisture, electrical insulation and migration resistance, and heat resistance. And a low coefficient of thermal expansion.
Also, in drilling, laser, preferably on the copper foil surface,
Melting point above 900 ℃ and binding energy 300kcal / mol
An organic substance containing one or more of the above metal compound powders, carbon powders, and metal powders is arranged, and directly irradiated with a high-energy carbon dioxide laser to process a copper foil, and to form through holes and / or vias. By forming the holes, a method for manufacturing a printed wiring board which is excellent in workability, economy, and the like and excellent in connection reliability of the holes is provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B23K 101:42 (72)発明者 野崎 充 東京都葛飾区新宿6丁目1番1号 三菱瓦 斯化学株式会社東京工場内 Fターム(参考) 4E068 AF01 AJ01 CA02 CA03 DA11 DB01 DB14 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) // B23K 101: 42 (72) Inventor Mitsuru Nozaki 6-1-1 Shinjuku, Katsushika-ku, Tokyo Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Tokyo factory F term (reference) 4E068 AF01 AJ01 CA02 CA03 DA11 DB01 DB14

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリベンザゾール繊維布を基材に使用し
た熱硬化性樹脂銅張積層板の銅箔の上に、融点900℃以
上で、且つ結合エネルギー300kJ/mol以上の金属化合物
粉、カーボン粉及び金属粉の1種或いは2種以上を3〜9
7vol%含有する有機物からなる組成物を配置するか、酸
化金属処理又は薬液処理を施し、炭酸ガスレーザーを直
接照射して孔を形成することを特徴とするプリント配線
板の製造方法。
1. A metal compound powder having a melting point of at least 900 ° C. and a binding energy of at least 300 kJ / mol on a copper foil of a thermosetting resin copper-clad laminate using a polybenzazole fiber cloth as a base material. One or two or more of powder and metal powder 3-9
A method for producing a printed wiring board, comprising arranging a composition composed of an organic substance containing 7 vol% or performing metal oxide treatment or chemical treatment, and directly irradiating a carbon dioxide gas laser to form holes.
【請求項2】 炭酸ガスレーザーのエネルギーが20〜60
mJ/パルスより選ばれたエネルギーを使用することを特
徴とする請求項1記載のプリント配線板の製造方法。
2. The energy of a carbon dioxide laser is 20-60.
The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein energy selected from mJ / pulse is used.
【請求項3】 孔形成後、薬液により孔周辺に発生した
銅箔バリを溶解除去するとともに表層銅箔を厚さ方向に
一部を溶解除去して得られる銅張板を使用したプリント
配線板の製造方法。
3. A printed wiring board using a copper-clad board obtained by dissolving and removing copper foil burrs generated around a hole by a chemical solution after forming a hole and partially dissolving and removing a surface copper foil in a thickness direction. Manufacturing method.
【請求項4】 熱硬化性樹脂が、該熱硬化性樹脂中に絶
縁性無機充填剤を10〜80重量%混合した組成物である請
求項1、2又は3記載のプリント配線板の製造方法。
4. The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein the thermosetting resin is a composition in which an insulating inorganic filler is mixed in the thermosetting resin in an amount of 10 to 80% by weight. .
【請求項5】 該熱硬化性樹脂が、多官能性シアン酸エ
ステル、多官能性シアン酸エステルプレポリマーを必須
成分とする樹脂組成物であることを特徴とする請求項
1、2、3又は4記載のプリント配線板の製造方法。
5. The thermosetting resin is a resin composition containing a polyfunctional cyanate ester and a polyfunctional cyanate ester prepolymer as essential components. 5. The method for manufacturing a printed wiring board according to 4.
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