JP2002346918A - 両面研磨装置 - Google Patents

両面研磨装置

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JP2002346918A
JP2002346918A JP2001161064A JP2001161064A JP2002346918A JP 2002346918 A JP2002346918 A JP 2002346918A JP 2001161064 A JP2001161064 A JP 2001161064A JP 2001161064 A JP2001161064 A JP 2001161064A JP 2002346918 A JP2002346918 A JP 2002346918A
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JP
Japan
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arm
platen
surface plate
outer peripheral
double
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JP2001161064A
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English (en)
Inventor
Shunji Hakomori
駿二 箱守
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SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上定盤の撓みを抑えることにより被研磨物の
研磨精度を高める。 【解決手段】 上定盤22の上方にアーム11を位置
し、アーム11と上定盤22とを吊下げ部材18によっ
て連結する。アーム11の外周端面部に駆動ブラケット
28を設け、駆動ブラケット28に対応する上定盤22
の外周端面部の部分に駆動ピン27を設け、駆動ピン2
7を駆動ブラケット28の溝29に係合させる。駆動源
からの駆動力は、アーム11からアーム11外周端面部
の駆動ブラケット28、上定盤22外周端面部の駆動ピ
ン27を介して上定盤22側に伝達され、上定盤22が
回転駆動させられる。動力伝達部が上定盤22の外周端
面部に位置しているので、回転モーメントが上定盤22
の研磨面に作用することはなく、上定盤が撓むことはな
く、被研磨物9の研磨精度を高めることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、アルミディス
ク、半導体ウエハ等の薄板を研磨する両面研磨装置に関
し、特に、研磨時における上定盤の撓みを防止すること
ができる両面研磨装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の両面研磨装置の一例が特許第3
133300号公報に記載されている。すなわち、この
両面研磨装置は、回転可能に設けられる下定盤と、下定
盤の上方に回転可能かつ上下移動可能に設けられる上定
盤と、下定盤の中心部に回転可能に設けられるサンギア
と、下定盤の外周側に回転可能に設けられるインターナ
ルギアと、下定盤の上面側に設けられるとともに、サン
ギア及びインターナルギアに噛合されて、両ギアの回転
に追従して自転、公転可能であり、かつ複数枚のワーク
を保持可能な複数枚のキャリアとを具えている。
【0003】この場合、サンギアは駆動軸により回転駆
動され、下定盤は中空の駆動軸により回転駆動され、上
定盤は上定盤駆動軸により回転駆動され、インターナル
ギアは回転体により回転駆動されるようになっている。
【0004】また、上定盤駆動軸は、連結機構を介して
駆動プレートに連結され、駆動プレートは支持ブロック
及びホルダーを介して上定盤に連結され、上定盤駆動軸
の駆動力は、連結機構、駆動プレート、支持ブロック及
びホルダーを介して上定盤側に伝達されるようになって
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成の両面研磨装置にあっては、上定盤の上面側
に設けたホルダーと駆動プレートの下面側に設けた支持
ブロックとをフローティング状態で連結しているが、両
者の連結部が上定盤の研磨面の上方に位置しているため
に、両者の連結部に作用するモーメントによって上定盤
に撓みが発生してしまい、この上定盤の撓みにより被研
磨物の被研磨面にうねり等が発生し、被研磨物の研磨精
度が大幅に低下してしまう。
【0006】この発明は、前記のような従来のもののも
つ問題点を解決したものであって、上定盤に撓みが発生
するのを防止することにより被研磨物の被研磨面にうね
り等が発生するのを防止し、これにより被研磨物の研磨
精度を大幅に高めることができる両面研磨装置を提供す
ることを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するためにこの発明は、回転可能に設けられる下定盤
と、該下定盤の上方に上下動可能かつ回転可能に設けら
れる上定盤と、下定盤の中心部に回転可能に設けられる
サンギアと、下定盤の外周側に回転可能に設けられるイ
ンターナルギアと、下定盤の上部に設けられるととも
に、サンギア及びインターナルギアに噛合して両ギアの
回転に追従して自転、公転可能であり、かつ被研磨物を
保持可能なキャリアとを具えた両面研磨装置において、
前記上定盤の上方にアームを設けて該アームを駆動源に
連結するとともに、該アームの外周端面部又は前記上定
盤の外周端面部の何れか一方に径方向外方に突出する駆
動ピンを設け、前記アームの外周端面部又は前記上定盤
の外周端面部の何れか他方に前記駆動ピンが回転方向に
所定のクリアランスをもって係合する溝を有する駆動ブ
ラケットを設け、前記駆動ピンと前記駆動ブラケットと
により前記アーム側の駆動力を前記上定盤側に伝達する
駆動力伝達機構を構成した手段を採用したものである。
また、前記アームと前記上定盤とを吊下げ部材を介して
相対的に接離可能に連結した手段を採用したものであ
る。さらに、前記上定盤を上下方向に2つに分割し、上
側上定盤を前記アーム側に一体に連結し、前記アーム及
び前記上側上定盤と前記下側上定盤とを吊下げ部材を介
して相対的に接離可能に連結した手段を採用したもので
ある。さらに、前記吊下げ部材はチェーン、シャフト又
はワイヤーである手段を採用したものである。さらに、
前記駆動源は、前記下定盤の下方又は前記上定盤の上方
に位置する手段を採用したものである。
【0008】
【作用】この発明は、前記のような手段を採用したこと
により、駆動源の駆動力は、駆動源からアームに伝達さ
れるとともに、アームの外周端面部から駆動力伝達機構
の駆動ピン及び駆動ブラケットを介して上定盤の外周端
面部に伝達され、上定盤が回転駆動されることになる。
さらに、アームと上定盤とは吊下げ部材を介して相対的
に接離可能に連結されることになり、上定盤のみの荷重
又はアームと上定盤の合計荷重が下定盤に加えられるこ
とになる。さらに、上定盤を上下方向に2つに分割した
場合には、吊り下げ部材を介して下側上定盤のみの荷重
又はアームと上側及び下側上定盤の合計荷重が下定盤側
に加えられることになる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面に示すこの発明の実施
の形態について説明する。図1〜図5には、この発明に
よる両面研磨装置の第1の実施の形態が示されていて、
この両面研磨装置1は、回転可能に設けられる下定盤2
と、下定盤2の上方に回転可能かつ上下移動可能に設け
られる上定盤22と、上定盤22の上方に回転可能かつ
上下動可能に設けられるアーム11と、アーム11と上
定盤22との間に設けられる動力伝達機構26と、下定
盤2の中心部に回転可能に設けられるサンギア6及びド
ライバー4と、下定盤2の外周側に回転可能に設けられ
るインターナルギア7と、下定盤2の上面側に設けられ
るとともに、サンギア6及びインターナルギア7に噛合
して両ギア6、7の回転に追従して自転、公転可能であ
り、かつ少なくとも1つの被研磨物9を保持可能なキャ
リア8とを具えている。
【0010】下定盤2は、円板状に形成されるものであ
って、中心部には上下方向に貫通する孔3が設けられ、
上面側には研磨パッドが貼着されるようになっている。
下定盤2は、下定盤2の下方に位置する駆動源(図示せ
ず)に連結され、駆動源の作動時に水平方向に回転駆動
するようになっている。下定盤2の中心部の孔3内には
下方から駆動軸30が挿通するようになっている。駆動
軸30は、下定盤2の下方に位置する駆動源(図示せ
ず)に連結されるようになっている。なお、下定盤2の
上面側に研磨パッドを貼着しなくても良いものである。
【0011】ドライバー4は、円柱状に形成されるもの
であって、駆動軸30の上端部に一体に連結され、駆動
軸30と一体に水平方向に回動駆動するようになってい
る。ドライバー4の外周面には上下方向を向く係合溝5
が4箇所に設けられ、この係合溝5内に後述するアーム
11側のドライバーフック17が係合するようになって
いる。
【0012】サンギア6は、円板状に形成されるもので
あって、駆動軸30のドライバー4の下部に一体に連結
され、駆動軸30と一体に水平方向に回転駆動するよう
になっている。サンギア6の外周面には所定のギアが設
けられ、このギアと後述するキャリア8のギアとが相互
に噛合するようになっている。
【0013】インターナルギア7は、下定盤2の外周側
に設けられる環状をなすものであって、内周面には所定
のギアが設けられ、このギアと後述するキャリア8のギ
アとが相互に噛合するようになっている。インターナル
ギア7は、下定盤2の下方に位置する駆動源(図示せ
ず)に連結され、駆動源の作動時に水平方向に回転する
ようになっている。
【0014】キャリア8は、円板状に形成されるもので
あって、少なくとも1箇所に上下方向に貫通する孔が設
けられ、この孔内にアルミディスク、半導体ウエハ等の
円板状の被研磨物9が装填されるようになっている。キ
ャリア8の外周面には所定のギアが設けられ、このギア
とサンギア6のギア及びインターナルギア7のギアとが
相互に噛合するようになっている。キャリア8は、下定
盤2の上部に少なくとも1枚設ければ良いものである。
【0015】駆動軸30の軸線方向上方には上下動用シ
リンダ(図示せず)が設けられ、この上下動用シリンダ
のロッド(図示せず)に吊り軸10が連結されるように
なっている。吊り軸10にはアーム11及び吊下げ部材
18を介して上定盤22が連結されるようになってい
る。
【0016】アーム11は、吊り軸10の下端部に連結
される円板状の基部12と、基部12の外周部に一体に
連結される斜め下方に向って放射状に広がる6本の斜部
13と、各斜部13の先端から水平方向に延出する支持
部14とから構成されている。各支持部14には上下方
向に貫通する孔15が1箇所に設けられ、この孔15内
を後述する吊下げ部材18のチェーン19が挿通するよ
うになっている。基部12の下面側にはL型状の支持部
材16が一体に連結され、この支持部材16にアーム1
1とドライバー4とを一体に連結するドライバーフック
17が回動自在に設けられるようになっている。ドライ
バーフック17はカムフォロア等を使用することができ
る。なお、アーム11は、前記の形状に限定することな
く、他の形状であっても良いものであり、例えば、円板
状の基部12の外周部に、垂直方向下方を向く連結部材
を一体に設け、その下端に水平を向く支持部を一体に設
ける構成等としても良いものである(図示せず)。
【0017】吊下げ部材18は、アーム11の支持部1
4の孔15内を所定のクリアランスをもって挿通するチ
ェーン19と、支持部14の上面側に設けられる円板状
の固定板21とから構成されている。チェーン19の上
端は支持部14の孔15を挿通して固定板21に連結さ
れ、下端は上定盤22の上面側に連結されるようになっ
ている。この場合、チェーン19は、アーム11と上定
盤22とを接触させたときに所定の弛みが生じる長さに
調整されている。
【0018】上定盤22は、円板状に形成されるもので
あって、中心部には上下方向に貫通する孔25が設けら
れ、下面側には研磨パッドが貼着されるようになってい
る。上定盤22は、吊下げ部材18を介してアーム11
に連結され、吊下げ部材18を介してアーム11と一体
に上下方向に移動可能となっている。そして、アーム1
1の下降位置を調整することにより上定盤22のみの荷
重又は上定盤22とアーム11との合計荷重を下定盤2
側に加えることができるものである。なお、上定盤22
の下面側に研磨パッドを貼着しなくても良いものであ
る。
【0019】上定盤22の外周部とアーム11の外周部
との間には動力伝達機構26が設けられるようになって
いる。動力伝達機構26は、各アーム11の外周端面部
に一体に設けられる駆動ブラケット28と、各駆動ブラ
ケット28に対応する上定盤22の外周端面部の部分に
一体に設けられる駆動ピン27とから構成されている。
駆動ブラケット28には上定盤22の中心方向を向くU
形状の溝29が貫通した状態で設けられ、この溝29内
に駆動ピン27が上下方向及び上定盤22の回転方向に
所定のクリアランスをもって係合するようになってい
る。駆動ブラケット28の溝29と駆動ピン27とのク
リアランスは、アーム11の支持部14の孔15と吊下
げ部材18のチェーン19とのクリアランスよりも小さ
く設定されている。駆動ピン27にはカムフォロア等を
使用することができる。駆動ブラケット28及び駆動ピ
ン27は、上定盤22の外周端面部とアーム11の外周
端面部との間に3セット以上設ける必要がある。なお、
図示はしないが、アーム11側に駆動ピン27を設け、
上定盤22側に駆動ブラケット28を設けるようにして
も良い。また、駆動ピン27と駆動ブラケット28の組
合せに限らず、他の組合せであっても良い。
【0020】そして、上記のように構成したこの実施の
形態による両面研磨装置1のキャリア8の孔内に被研磨
物9を装填し、アーム11と一体に上定盤22を下降さ
せて上定盤22の下面を被研磨物9の上面側に当接さ
せ、アーム11側のドライバーフック17をドライバー
4側の係合溝5内に係合させる。
【0021】そして、この状態で駆動源を作動させて下
定盤2、上定盤22、サンギア6及びインターナルギア
7を回転させると、サンギア6とインターナルギア7と
の協働によりキャリア8が上下定盤2、22間で公転、
自転し、キャリア8に保持されている被研磨物9の上下
面が研磨されるものである。
【0022】この場合、上定盤22を回転駆動させる駆
動力は、駆動源からアーム11に伝達されるとともに、
アーム11からアーム11外周端面部と上定盤22外周
端面部との間の動力伝達機構26(駆動ブラケット28
及び駆動ピン27)を介して上定盤22側に伝達される
ことになる。すなわち、上定盤22の研磨面の外側に動
力伝達部が位置することになる。
【0023】したがって、回転モーメントが上定盤22
の研磨面に作用することはないので、上定盤22が回転
モーメントの作用によって撓むようなことはなく、被研
磨物9の被研磨面に上定盤22の撓みによるうねりが発
生するようなことはなく、被研磨物9の研磨精度を大幅
に高めることができることになる。
【0024】なお、前記の場合、アーム11の上下方向
位置を調整して、最初に上定盤22のみの荷重を被研磨
物9に加えて研磨を行い、次いでアーム11と上定盤2
2との合計荷重を被研磨物9に加えて研磨を行うように
しても良いものである。そして、このような研磨を行う
ことにより、下定盤2の平面度に応じて被研磨物9に対
する荷重を変えることができるので、下定盤2の平面度
に影響されることなく一定の研磨精度が得られることに
なる。
【0025】図6には、この発明による両面研磨装置の
第2の実施の形態が示されていて、この両面研磨装置1
は、吊下げ部材18のチェーン19の代わりにシャフト
20を使用したものであって、その他の構成は前記第1
の実施の形態に示すものと同様である。
【0026】この場合、シャフト20は、アーム11と
上定盤22とを接触させたときにシャフト20の上端部
がアーム11の支持部14の上面から所定の長さ突出す
る長さに調整されている。また、アーム11の支持部1
4の孔15と吊下げ部材18のシャフト20とのクリア
ランスは、駆動ブラケット28の溝と駆動ピン27との
クリアランスよりも大きく設定されている。
【0027】そして、この実施の形態による両面研磨装
置1にあっても、前記第1の実施の形態に示すものと同
様に、上定盤22を回転駆動させる駆動力は、駆動源か
らアーム11に伝達されるとともに、アーム11からア
ーム11外周端面部と上定盤22外周端面部との間の動
力伝達機構26(駆動ブラケット28及び駆動ピン2
7)を介して上定盤22側に伝達されることになる。す
なわち、上定盤22の研磨面の外側に動力伝達部が位置
することになる。
【0028】したがって、回転モーメントが上定盤22
の研磨面に作用することはないので、上定盤22が回転
モーメントの作用によって撓むようなことはなく、被研
磨物9の被研磨面に上定盤22の撓みによるうねりが発
生するようなことはなく、被研磨物9の研磨精度を大幅
に高めることができることになる。
【0029】なお、この実施の形態においても、アーム
11の上下方向位置を調整して、最初に上定盤22のみ
の荷重を被研磨物9に加えて研磨を行い、次いでアーム
11と上定盤22との合計荷重を被研磨物9に加えて研
磨を行うようにしても良いものである。そして、このよ
うな研磨を行うことにより、下定盤2の平面度に応じて
被研磨物9に対する荷重を変えることができるので、下
定盤2の平面度に影響されることなく一定の研磨精度が
得られることになる。
【0030】図7には、この発明による両面研磨装置の
第3の実施の形態が示されていて、この両面研磨装置1
は、上定盤22を上下方向に2つに分割したものであっ
て、その他の構成は前記第1の実施の形態に示すものと
同様である。
【0031】この場合、上側上定盤23はアーム11側
に一体に連結され、アーム11の支持部14の孔15に
対応する上側上定盤23の部分に上下方向に貫通する孔
23aが設けられ、これらの孔15、23a内を吊下げ
部材18のチェーン19が挿通するようになっている。
そして、チェーン19の上端は支持部14の上面側に位
置する固定板21に連結され、下端は下側上定盤24の
上面側に連結されるようになっている。また、動力伝達
機構26の駆動ピン27は下側上定盤24の外周面に設
けられている。なお、31は、上側上定盤23と下側上
定盤24とが接触したときの衝撃を吸収する弾性体であ
り、弾性体31は、上側上定盤23の下面側又は下側上
定盤24の上面側に設けることができる(この実施の形
態においては、上側上定盤23の下面側に設けてい
る)。
【0032】そして、この実施の形態による両面研磨装
置1にあっても、前記第1の実施の形態に示すものと同
様に、上定盤22を回転駆動させる駆動力は、駆動源か
らアーム11に伝達されるとともに、アーム11から動
力伝達機構26(駆動ピン27及び駆動ブラケット2
8)を介して上定盤22側に伝達されることになる。す
なわち、上定盤22の研磨面の外側に動力伝達部が位置
することになる。
【0033】したがって、回転モーメントが上定盤22
の研磨面に作用することはないので、上定盤22が回転
モーメントの作用によって撓むようなことはなく、被研
磨物9の被研磨面に上定盤22の撓みによるうねりが発
生するようなことはなく、被研磨物9の研磨精度を大幅
に高めることができることになる。
【0034】なお、この実施の形態においても、アーム
11の上下方向位置を調整して、最初に下側上定盤24
のみの荷重を被研磨物9に加えて研磨を行い、次いでア
ーム11、上側上定盤23及び下側上定盤24の合計荷
重を被研磨物9に加えて研磨を行うようにしても良いも
のである。そして、このような研磨を行うことにより、
下定盤2の平面度に応じて被研磨物9に対する荷重を変
えることができるので、下定盤2の平面度に影響される
ことなく一定の研磨精度が得られることになる。
【0035】図8には、この発明による両面研磨装置の
第4の実施の形態が示されていて、この両面研磨装置1
は、吊下げ部材18のチェーン19の代わりにシャフト
20を使用したものであって、その他の構成は前記第3
の実施の形態に示すものと同様である。
【0036】この場合、シャフト20の長さは、アーム
11と上定盤22とを接触させたときにシャフト20の
上端部がアーム11の支持部14の上面から所定の長さ
突出する値に調整されている。また、アーム11の支持
部14の孔15と吊下げ部材18のシャフト20とのク
リアランスは、駆動ブラケット28の溝29と駆動ピン
27とのクリアランスよりも大きく設定されている。
【0037】そして、この実施の形態による両面研磨装
置1にあっても、前記第3の実施の形態に示すものと同
様に、上定盤22を回転駆動させる駆動力は、駆動源か
らアーム11に伝達されるとともに、アーム11からア
ーム11外周端面部と上定盤22外周端面部との間の動
力伝達機構26(駆動ブラケット28及び駆動ピン2
7)を介して上定盤22側に伝達されることになる。す
なわち、上定盤22の研磨面の外側に動力伝達部が位置
することになる。
【0038】したがって、回転モーメントが上定盤22
の研磨面に作用することはないので、上定盤22が回転
モーメントの作用によって撓むようなことはなく、被研
磨物9の被研磨面に上定盤22の撓みによるうねりが発
生するようなことはなく、被研磨物9の研磨精度を大幅
に高めることができることになる。
【0039】なお、この実施の形態においても、アーム
11の上下方向の位置を調整して、最初に下側上定盤2
4のみの荷重を被研磨物9に加えて研磨を行い、次いで
アーム11、上側上定盤23及び下側上定盤24の合計
荷重を被研磨物9に加えて研磨を行うようにしても良い
ものである。そして、このような研磨を行うことによ
り、下定盤2の平面度に応じて被研磨物9に対する荷重
を変えることができるので、下定盤2の平面度に影響さ
れることなく一定の研磨精度が得られることになる。
【0040】なお、前記各実施の形態においては、下定
盤2の下方に位置する駆動源(図示せず)に駆動軸3
0、ドライバー4、及びドライバーフック17を介して
アーム11を連結するように構成したが、ドライバー4
及びドライバーフック17を使用せずに、アーム11の
上方に設けた駆動源(図示せず)にアーム11を連結す
るようにしても良いものである。また、前記各実施の形
態においては、吊下げ部材18にチェーン19、シャフ
ト20を用いたが、ワイヤー(図示せず)を用いても良
いものである。
【0041】
【発明の効果】この発明は、請求項1のように構成した
ことにより、駆動源からの駆動力はアームに伝達される
とともに、アームからアームの外周端面部と上定盤の外
周端面部の動力伝達機構(駆動ブラケット及び駆動ピ
ン)を介して上定盤側に伝達されることになる。したが
って、動力伝達部が上定盤の研磨面の外側に位置するこ
とになるので、回転モーメントが上定盤の研磨面に作用
するようなことはなくなり、上定盤が回転モーメントに
よって撓むようなことはなく、上定盤の撓みによって被
研磨物の研磨精度が低下するようなことはなく、被研磨
物の研磨精度を大幅に高めることができることになる。
【0042】また、請求項2〜4のように構成したこと
により、吊下げ部材を介して上定盤のみによる荷重又は
アームと上定盤との合計荷重を被研磨物側に加えること
ができるので、下定盤の平面度に応じて被研磨物に対す
る荷重を変えることができることになる。したがって、
下定盤の平面度に影響されることなく一定の研磨精度が
得られることになる。さらに、請求項5のように構成し
たことにより、アームと駆動源との連結部の構造を簡単
にすることができるので、安価なものを提供することが
できることになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による両面研磨装置の第1の実施の形
態を示した概略図である。
【図2】図1に示すもののドライバーとドライバーフッ
クとの関係を示した説明図である。
【図3】図1に示すもののアームの平面図である。
【図4】駆動ピンと駆動ブラケットとの関係を示した説
明図である。
【図5】図4に示すもののA−A線に沿って見た断面図
である。
【図6】この発明による両面研磨装置の第2の実施の形
態を示した概略図である。
【図7】この発明による両面研磨装置の第3の実施の形
態を示した概略図である。
【図8】この発明による両面研磨装置の第4の実施の形
態を示した概略図である。
【符号の説明】
1……両面研磨装置 2……下定盤 3、15、23a、25……孔 4……ドライバー 5……係合溝 6……サンギア 7……インターナルギア 8……キャリア 9……被研磨物 10……吊り軸 11……アーム 12……基部 13……斜部 14……支持部 16……支持部材 17……ドライバーフック 18……吊下げ部材 19……チェーン 20……シャフト 21……固定板 22……上定盤 23……上側上定盤 24……下側上定盤 26……動力伝達機構 27……駆動ピン 28……駆動ブラケット 29……溝 30……駆動軸 31……弾性体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転可能に設けられる下定盤と、該下定
    盤の上方に上下動可能かつ回転可能に設けられる上定盤
    と、下定盤の中心部に回転可能に設けられるサンギア
    と、下定盤の外周側に回転可能に設けられるインターナ
    ルギアと、下定盤の上部に設けられるとともに、サンギ
    ア及びインターナルギアに噛合して両ギアの回転に追従
    して自転、公転可能であり、かつ被研磨物を保持可能な
    キャリアとを具えた両面研磨装置において、 前記上定盤の上方にアームを設けて該アームを駆動源に
    連結するとともに、該アームの外周端面部又は前記上定
    盤の外周端面部の何れか一方に径方向外方に突出する駆
    動ピンを設け、前記アームの外周端面部又は前記上定盤
    の外周端面部の何れか他方に前記駆動ピンが回転方向に
    所定のクリアランスをもって係合する溝を有する駆動ブ
    ラケットを設け、前記駆動ピンと前記駆動ブラケットと
    により前記アーム側の駆動力を前記上定盤側に伝達する
    駆動力伝達機構を構成したことを特徴とする両面研磨装
    置。
  2. 【請求項2】 前記アームと前記上定盤とを吊下げ部材
    を介して相対的に接離可能に連結した請求項1に記載の
    両面研磨装置。
  3. 【請求項3】 前記上定盤を上下方向に2つに分割し、
    上側上定盤を前記アーム側に一体に連結し、前記アーム
    及び前記上側上定盤と前記下側上定盤とを吊下げ部材を
    介して相対的に接離可能に連結した請求項1又は2に記
    載の両面研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記吊下げ部材はチェーン、シャフト又
    はワイヤーである請求項2又は3に記載の両面研磨装
    置。
  5. 【請求項5】 前記駆動源は、前記下定盤の下方又は前
    記上定盤の上方に位置する請求項1〜4の何れかに記載
    の両面研磨装置。
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