JP2002338560A - エポキシ化合物の製造方法 - Google Patents
エポキシ化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP2002338560A JP2002338560A JP2001142981A JP2001142981A JP2002338560A JP 2002338560 A JP2002338560 A JP 2002338560A JP 2001142981 A JP2001142981 A JP 2001142981A JP 2001142981 A JP2001142981 A JP 2001142981A JP 2002338560 A JP2002338560 A JP 2002338560A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- carbon
- producing
- epoxy compound
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 32
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 50
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 26
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 11
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 12
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 11
- -1 alicyclic olefins Chemical class 0.000 description 10
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003622 immobilized catalyst Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 2
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MBVAQOHBPXKYMF-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;rhodium Chemical compound [Rh].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O MBVAQOHBPXKYMF-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- IYWJIYWFPADQAN-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;ruthenium Chemical compound [Ru].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O IYWJIYWFPADQAN-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LVGLLYVYRZMJIN-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;rhodium Chemical group [Rh].[Rh].[Rh].[Rh].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] LVGLLYVYRZMJIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQZFAUXPNWSLBI-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;ruthenium Chemical group [Ru].[Ru].[Ru].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] NQZFAUXPNWSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YLPJWCDYYXQCIP-UHFFFAOYSA-N nitroso nitrate;ruthenium Chemical compound [Ru].[O-][N+](=O)ON=O YLPJWCDYYXQCIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- BALRIWPTGHDDFF-UHFFFAOYSA-N rhodium Chemical compound [Rh].[Rh] BALRIWPTGHDDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H rhodium(3+);trisulfate Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- HSSMNYDDDSNUKH-UHFFFAOYSA-K trichlororhodium;hydrate Chemical compound O.Cl[Rh](Cl)Cl HSSMNYDDDSNUKH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 炭素−炭素不飽和結合及びエポキシ基を含有
する化合物の炭素−炭素不飽和結合を効率よく、選択的
に水素化して着色の少ないエポキシ化合物を製造する方
法を提供する。 【解決手段】 貴金属を炭素質担体に担持した触媒であ
って、しかも触媒のメジアン径が5μm以下である触媒
を用いることを特徴とする方法。
する化合物の炭素−炭素不飽和結合を効率よく、選択的
に水素化して着色の少ないエポキシ化合物を製造する方
法を提供する。 【解決手段】 貴金属を炭素質担体に担持した触媒であ
って、しかも触媒のメジアン径が5μm以下である触媒
を用いることを特徴とする方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ化合物の
製造法に関する。詳しくは、エポキシ基と炭素ー炭素不
飽和結合を有する化合物の不飽和結合を特定の触媒を用
いて選択的に水素化する方法に関する。本発明により得
られたエポキシ樹脂は、塗料、コーティング材料、バイ
ンダー樹脂等への用途が期待される。
製造法に関する。詳しくは、エポキシ基と炭素ー炭素不
飽和結合を有する化合物の不飽和結合を特定の触媒を用
いて選択的に水素化する方法に関する。本発明により得
られたエポキシ樹脂は、塗料、コーティング材料、バイ
ンダー樹脂等への用途が期待される。
【0002】
【従来の技術】エピクロロヒドリンとビスフェノールA
とを反応させて得られるビスフェノールA型エポキシ樹
脂は、汎用型エポキシ樹脂としてコーティング材料、電
気絶縁材料、積層物、構造材料等に従来より広く使用さ
れている。しかしながら、ビスフェノール型エポキシ樹
脂は芳香環を有するために耐候性に難点があり、特に耐
候性が必要な用途には、シクロヘキセン系の脂環状オレ
フィンを過酢酸によりエポキシ化したものが耐候性エポ
キシ樹脂として市販されている。
とを反応させて得られるビスフェノールA型エポキシ樹
脂は、汎用型エポキシ樹脂としてコーティング材料、電
気絶縁材料、積層物、構造材料等に従来より広く使用さ
れている。しかしながら、ビスフェノール型エポキシ樹
脂は芳香環を有するために耐候性に難点があり、特に耐
候性が必要な用途には、シクロヘキセン系の脂環状オレ
フィンを過酢酸によりエポキシ化したものが耐候性エポ
キシ樹脂として市販されている。
【0003】一方、過酸によるエポキシ樹脂の代わり
に、ビスフェノール型エポキシ樹脂の芳香環を水素化し
て対応する脂環状エポキシ樹脂を製造する試みが従来か
らいろいろと提案されている。この場合、核水素化の際
に、エポキシ基の分解をできるだけ押さえることが必要
である。高温で反応するとエポキシ基の分解が促進され
るため、触媒としては低温で高い芳香環の水素化活性を
示すことが必要である。
に、ビスフェノール型エポキシ樹脂の芳香環を水素化し
て対応する脂環状エポキシ樹脂を製造する試みが従来か
らいろいろと提案されている。この場合、核水素化の際
に、エポキシ基の分解をできるだけ押さえることが必要
である。高温で反応するとエポキシ基の分解が促進され
るため、触媒としては低温で高い芳香環の水素化活性を
示すことが必要である。
【0004】従来技術としては、例えば、米国特許第3
336241号明細書にはロジウムまたはルテニウムを
不活性な担体に担持した触媒を用いる方法、特開平8−
48676号公報及び特開平8−53370号公報には
均質ルテニウム触媒を用いる方法、特開平10−204
002号公報には活性炭にルテニウムとナトリウムを担
持した触媒を用いる方法、本発明者の提案に係る特開平
11−217379号公報にはロジウムまたはルテニウ
ムを比表面積が5〜600m2/gの範囲にある炭素質
担体に担持した触媒を用いる方法及び特開2000−2
26380号公報にはルテニウム担持触媒を用いてエー
テル溶媒中、脂肪酸エステルの存在下に反応を行う方法
が記載されている。触媒の粒子径については米国特許第
3336241号明細書の中にfinely−divi
dedなカーボンという記載があるものの公知文献に記
載されている方法における触媒の粒子径は10μm以上
である。
336241号明細書にはロジウムまたはルテニウムを
不活性な担体に担持した触媒を用いる方法、特開平8−
48676号公報及び特開平8−53370号公報には
均質ルテニウム触媒を用いる方法、特開平10−204
002号公報には活性炭にルテニウムとナトリウムを担
持した触媒を用いる方法、本発明者の提案に係る特開平
11−217379号公報にはロジウムまたはルテニウ
ムを比表面積が5〜600m2/gの範囲にある炭素質
担体に担持した触媒を用いる方法及び特開2000−2
26380号公報にはルテニウム担持触媒を用いてエー
テル溶媒中、脂肪酸エステルの存在下に反応を行う方法
が記載されている。触媒の粒子径については米国特許第
3336241号明細書の中にfinely−divi
dedなカーボンという記載があるものの公知文献に記
載されている方法における触媒の粒子径は10μm以上
である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来法
におけるルテニウムを用いる触媒はロジウムに比べてメ
タルあたりの活性が非常に低く、十分な活性を得るには
触媒量を増やしたり、反応圧を上げる必要があった。ま
た、米国特許第3336241号明細書等に記載された
ロジウム担持触媒についてはルテニウム触媒に比べて活
性は高いものの、そのレベルは満足できるものでなかっ
た。また、いずれの触媒でも反応温度を上げると水素化
活性は向上するものの、エポキシ基の分解が促進された
り、触媒中のメタルが溶出し、生成物が着色する等の問
題があった。
におけるルテニウムを用いる触媒はロジウムに比べてメ
タルあたりの活性が非常に低く、十分な活性を得るには
触媒量を増やしたり、反応圧を上げる必要があった。ま
た、米国特許第3336241号明細書等に記載された
ロジウム担持触媒についてはルテニウム触媒に比べて活
性は高いものの、そのレベルは満足できるものでなかっ
た。また、いずれの触媒でも反応温度を上げると水素化
活性は向上するものの、エポキシ基の分解が促進された
り、触媒中のメタルが溶出し、生成物が着色する等の問
題があった。
【0006】本発明はエポキシ基含有化合物の水素化反
応において、化合物の炭素−炭素不飽和結合を選択的に
水素化することができる活性の高い触媒であって特に水
素化反応中に触媒中のメタルの溶出による着色が少ない
触媒を提供することを目的とする。
応において、化合物の炭素−炭素不飽和結合を選択的に
水素化することができる活性の高い触媒であって特に水
素化反応中に触媒中のメタルの溶出による着色が少ない
触媒を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、この水素化の際
に、ロジウムまたはルテニウムなどの貴金属を炭素質担
体に担持した触媒であって、かつ触媒のメジアン径が5
μm以下である触媒を用いると、エポキシ基含有化合物
の炭素−炭素不飽和結合の選択的水素化反応において極
めて高い活性を示し、かつ、反応後の反応液の着色が少
ないことを見出し、本発明を完成するに至った。
を解決するために鋭意検討した結果、この水素化の際
に、ロジウムまたはルテニウムなどの貴金属を炭素質担
体に担持した触媒であって、かつ触媒のメジアン径が5
μm以下である触媒を用いると、エポキシ基含有化合物
の炭素−炭素不飽和結合の選択的水素化反応において極
めて高い活性を示し、かつ、反応後の反応液の着色が少
ないことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】即ち、本発明は少なくとも1個の炭素−炭
素不飽和結合及び少なくとも1個のエポキシ基を有する
化合物の炭素−炭素不飽和結合を選択的に水素化してエ
ポキシ化合物を製造する方法において、貴金属を炭素質
担体に担持した触媒であって、かつ触媒のメジアン径が
5μm以下である触媒を用いることを特徴とするエポキ
シ化合物の製造方法を要旨とするものである。
素不飽和結合及び少なくとも1個のエポキシ基を有する
化合物の炭素−炭素不飽和結合を選択的に水素化してエ
ポキシ化合物を製造する方法において、貴金属を炭素質
担体に担持した触媒であって、かつ触媒のメジアン径が
5μm以下である触媒を用いることを特徴とするエポキ
シ化合物の製造方法を要旨とするものである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられる出発原料は、少なくとも一個の炭素
−炭素不飽和結合及び少なくとも一個のエポキシ基を有
する化合物である。これは、モノマー、オリゴマー又は
ポリマーのいずれでもよい。具体的には、エポキシ基を
有する芳香環化合物、不飽和脂肪族化合物、不飽和環状
脂肪族化合物、不飽和復素環化合物等が挙げられる。中
でも、炭素−炭素不飽和結合が芳香環を形成している化
合物であるのが好ましい。
本発明に用いられる出発原料は、少なくとも一個の炭素
−炭素不飽和結合及び少なくとも一個のエポキシ基を有
する化合物である。これは、モノマー、オリゴマー又は
ポリマーのいずれでもよい。具体的には、エポキシ基を
有する芳香環化合物、不飽和脂肪族化合物、不飽和環状
脂肪族化合物、不飽和復素環化合物等が挙げられる。中
でも、炭素−炭素不飽和結合が芳香環を形成している化
合物であるのが好ましい。
【0010】この芳香環化合物の具体例としては、例え
ば、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテ
ル、ハイドロキノンのジグリシジルエーテル、レゾルシ
ンのジグリシジルエーテル、一般式(I)で表されるビ
スフェノールA又はビスフェノールFとエピクロルヒド
リンとを原料とするエポキシ樹脂、一般式(II)で表さ
れるフェノールノボラック樹脂又はクレゾールノボラッ
ク樹脂のポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
ば、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテ
ル、ハイドロキノンのジグリシジルエーテル、レゾルシ
ンのジグリシジルエーテル、一般式(I)で表されるビ
スフェノールA又はビスフェノールFとエピクロルヒド
リンとを原料とするエポキシ樹脂、一般式(II)で表さ
れるフェノールノボラック樹脂又はクレゾールノボラッ
ク樹脂のポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0011】
【化1】
【0012】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示
し、nは0ないし40である) この中、式(I)で示されるビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、及び式(II)で表されるオルソクレゾールノボ
ラックのポリグリシジルエーテルが好ましく、この中、
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(式(I)の
n=1)及びそのオリゴマーが特に好ましい。
し、nは0ないし40である) この中、式(I)で示されるビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、及び式(II)で表されるオルソクレゾールノボ
ラックのポリグリシジルエーテルが好ましく、この中、
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(式(I)の
n=1)及びそのオリゴマーが特に好ましい。
【0013】なお、ビスフェノールAのジグリシジルエ
ーテルは例えばエピコート827,828として、又そ
のオリゴマーはエピコート834として、また、式(I
I)のものはエピコート152、154、180S65
としてジャパンエポキシレジン株式会社より市販されて
いる。本発明に用いられる水素化触媒は、貴金属、とり
わけロジウムまたはルテニウムを炭素質担体に担持した
触媒であって、かつ触媒のメジアン径が5μm以下である
ものである。本発明に使用される炭素質担体は、小粒径
の炭素質担体、なかでもカーボンブラック、特にアセチ
レンブラックが好ましい。活性炭やグラファイトを細か
く粉砕したものでもよい。カーボンブラックが好ましい
理由としては、反応基質が立体的に大きく、水素化反応
が触媒表面で進行するため、小粒径のカーボンブラック
に担持した触媒では反応に寄与する活性点の数が増加す
るため活性が向上すると考えられる。また、反応終了
後、触媒中のメタルの溶出によって反応液が着色すると
生成物の品質に悪影響を与えるが、カーボンブラックの
ような小粒径の担体に担持した場合、触媒調製時にメタ
ルが還元されやすいためメタルの溶出が抑制され生成物
の品質が向上する。
ーテルは例えばエピコート827,828として、又そ
のオリゴマーはエピコート834として、また、式(I
I)のものはエピコート152、154、180S65
としてジャパンエポキシレジン株式会社より市販されて
いる。本発明に用いられる水素化触媒は、貴金属、とり
わけロジウムまたはルテニウムを炭素質担体に担持した
触媒であって、かつ触媒のメジアン径が5μm以下である
ものである。本発明に使用される炭素質担体は、小粒径
の炭素質担体、なかでもカーボンブラック、特にアセチ
レンブラックが好ましい。活性炭やグラファイトを細か
く粉砕したものでもよい。カーボンブラックが好ましい
理由としては、反応基質が立体的に大きく、水素化反応
が触媒表面で進行するため、小粒径のカーボンブラック
に担持した触媒では反応に寄与する活性点の数が増加す
るため活性が向上すると考えられる。また、反応終了
後、触媒中のメタルの溶出によって反応液が着色すると
生成物の品質に悪影響を与えるが、カーボンブラックの
ような小粒径の担体に担持した場合、触媒調製時にメタ
ルが還元されやすいためメタルの溶出が抑制され生成物
の品質が向上する。
【0014】触媒の粒径としては小さいほど水素化の活
性は向上するが、反応後の触媒分離の容易さから0.1
〜5mμmのものが好ましく、表面積が0.2〜3m2
/gのものがより好ましく、0.2〜1m2/gのもの
が特に好ましい。ここでいう粒径とはレーザ回折/散乱
式粒度分布測定装置(HORIBA LA−910)で
測定したメジアン径のことを示す。
性は向上するが、反応後の触媒分離の容易さから0.1
〜5mμmのものが好ましく、表面積が0.2〜3m2
/gのものがより好ましく、0.2〜1m2/gのもの
が特に好ましい。ここでいう粒径とはレーザ回折/散乱
式粒度分布測定装置(HORIBA LA−910)で
測定したメジアン径のことを示す。
【0015】本発明の触媒は、触媒となる貴金属の化合
物を溶解して溶液とし、炭素質担体に担持させ必要に応
じて還元処理を施して調製される。貴金属化合物、例え
ば、ロジウム化合物としては加熱分解可能なものであれ
ば特に制限はなく、塩化ロジウム、硝酸ロジウム、硫酸
ロジウム等の無機塩、ロジウムアセチルアセトナート等
の有機金属化合物、テトラロジウムドデカカルボニル等
の配位化合物が挙げられるが、対アニオンのヘテロ元素
が残存すると活性が低下したり、また、有機ロジウム化
合物は高価であることから塩化ロジウムを用いることが
好ましい。ルテニウム化合物としては、塩化ルテニウ
ム、硝酸ルテニウムニトロシル等の無機塩、ルテニウム
アセチルアセトナート等の有機金属化合物、トリルテニ
ウムドデカカルボニル等の配位化合物が挙げられる。
物を溶解して溶液とし、炭素質担体に担持させ必要に応
じて還元処理を施して調製される。貴金属化合物、例え
ば、ロジウム化合物としては加熱分解可能なものであれ
ば特に制限はなく、塩化ロジウム、硝酸ロジウム、硫酸
ロジウム等の無機塩、ロジウムアセチルアセトナート等
の有機金属化合物、テトラロジウムドデカカルボニル等
の配位化合物が挙げられるが、対アニオンのヘテロ元素
が残存すると活性が低下したり、また、有機ロジウム化
合物は高価であることから塩化ロジウムを用いることが
好ましい。ルテニウム化合物としては、塩化ルテニウ
ム、硝酸ルテニウムニトロシル等の無機塩、ルテニウム
アセチルアセトナート等の有機金属化合物、トリルテニ
ウムドデカカルボニル等の配位化合物が挙げられる。
【0016】金属成分の担持量には特に制限はないが、
少ないと触媒の効果が小さくなり、逆に多いとコスト的
に不利になることから、好ましくは1〜10重量%、更
には2〜8重量%の金属を含んでいることが好ましい。
ロジウムまたはルテニウム等の貴金属を炭素質担体に担
持させる方法に特に制限はないが、通常の場合、浸漬法
が用いられる。例えば上記触媒成分の金属化合物を溶解
可能な溶媒、例えば、水に溶解して溶液とし、この溶液
中に炭素質担体を浸漬して含浸担持させる。その後減圧
下溶媒を留去し、必要に応じて還元処理を行う。還元処
理としては気相還元法、あるいは液相還元法のいずれの
方法でも行うことができるが、液相還元で調製した方が
低温で処理するためメタルを高分散に担持できるためよ
り好ましい。
少ないと触媒の効果が小さくなり、逆に多いとコスト的
に不利になることから、好ましくは1〜10重量%、更
には2〜8重量%の金属を含んでいることが好ましい。
ロジウムまたはルテニウム等の貴金属を炭素質担体に担
持させる方法に特に制限はないが、通常の場合、浸漬法
が用いられる。例えば上記触媒成分の金属化合物を溶解
可能な溶媒、例えば、水に溶解して溶液とし、この溶液
中に炭素質担体を浸漬して含浸担持させる。その後減圧
下溶媒を留去し、必要に応じて還元処理を行う。還元処
理としては気相還元法、あるいは液相還元法のいずれの
方法でも行うことができるが、液相還元で調製した方が
低温で処理するためメタルを高分散に担持できるためよ
り好ましい。
【0017】例えば水素ガスを用いて気相で還元する場
合、100〜600℃、好ましくは150〜500℃、
より好ましくは200〜400℃の温度で行われる。こ
こで用いられる還元剤としては、水素以外に一酸化炭素
が挙げられる。また、窒素、アルゴン等の不活性ガスで
希釈した状態で用いてもよい。また、液相で還元する場
合は、まず、ロジウム化合物またはルテニウム化合物な
どの貴金属化合物を担持した後、アルカリ性水溶液で処
理して該貴金属を水酸化物として不溶化、固定化してお
き、これを還元処理するのが好ましい。不溶、固定化に
用いるアルカリ性水溶液のアルカリの種類としてはアン
モニア水や、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液が好まし
く使用できるが、不溶、固定化後の水洗の容易さや、ア
ルカリ金属カチオンの残存等の影響を考慮するとアンモ
ニア水を用いるのが最も好ましい。
合、100〜600℃、好ましくは150〜500℃、
より好ましくは200〜400℃の温度で行われる。こ
こで用いられる還元剤としては、水素以外に一酸化炭素
が挙げられる。また、窒素、アルゴン等の不活性ガスで
希釈した状態で用いてもよい。また、液相で還元する場
合は、まず、ロジウム化合物またはルテニウム化合物な
どの貴金属化合物を担持した後、アルカリ性水溶液で処
理して該貴金属を水酸化物として不溶化、固定化してお
き、これを還元処理するのが好ましい。不溶、固定化に
用いるアルカリ性水溶液のアルカリの種類としてはアン
モニア水や、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液が好まし
く使用できるが、不溶、固定化後の水洗の容易さや、ア
ルカリ金属カチオンの残存等の影響を考慮するとアンモ
ニア水を用いるのが最も好ましい。
【0018】使用するアルカリの量はロジウムまたはル
テニウムなどの貴金属に対して3〜100当量が好まし
く、更には6〜50当量がより好ましい。アルカリ性水
溶液による処理温度は20℃から90℃が好ましく、特
にアンモニア水を用いる場合には、50℃より高温であ
るとアンモニアの脱離が著しくなるので20〜50℃が
より好ましい。
テニウムなどの貴金属に対して3〜100当量が好まし
く、更には6〜50当量がより好ましい。アルカリ性水
溶液による処理温度は20℃から90℃が好ましく、特
にアンモニア水を用いる場合には、50℃より高温であ
るとアンモニアの脱離が著しくなるので20〜50℃が
より好ましい。
【0019】アルカリ性水溶液で不溶、固定化した触媒
はイオン交換水等で充分洗浄する。特にアルカリ金属水
酸化物の水溶液を用いる場合、Na+、K+等のアルカリ
金属カチオンが残存すると水素化活性が低下するので充
分洗浄することが必要である。不溶、固定化した触媒は
ホルマリン、ギ酸あるいはメタノール等を用いて液相で
還元することが好ましい。還元剤の使用量は貴金属に対
して3〜100モル当量、好ましくは6〜50モル当量
である。還元温度は20〜120℃、好ましくは50〜
100℃である。液相で還元した触媒は濾過し、イオン
交換水等で充分洗浄した後、洗浄して水素化反応に用い
ることができる。
はイオン交換水等で充分洗浄する。特にアルカリ金属水
酸化物の水溶液を用いる場合、Na+、K+等のアルカリ
金属カチオンが残存すると水素化活性が低下するので充
分洗浄することが必要である。不溶、固定化した触媒は
ホルマリン、ギ酸あるいはメタノール等を用いて液相で
還元することが好ましい。還元剤の使用量は貴金属に対
して3〜100モル当量、好ましくは6〜50モル当量
である。還元温度は20〜120℃、好ましくは50〜
100℃である。液相で還元した触媒は濾過し、イオン
交換水等で充分洗浄した後、洗浄して水素化反応に用い
ることができる。
【0020】液相還元を用いると、塩素が存在する場合
でもイオン交換水等で洗浄して充分過剰の塩素を取り除
くことができるのでより好ましい。水素化反応に使用す
る触媒量は、反応原料100重量部に対して0.05〜
100重量部、好ましくは0.1〜50重量部であるこ
とが好ましいが、反応温度、又は反応圧力等の諸条件に
応じ、実用的な反応速度が得られる範囲内において任意
に選択できる。
でもイオン交換水等で洗浄して充分過剰の塩素を取り除
くことができるのでより好ましい。水素化反応に使用す
る触媒量は、反応原料100重量部に対して0.05〜
100重量部、好ましくは0.1〜50重量部であるこ
とが好ましいが、反応温度、又は反応圧力等の諸条件に
応じ、実用的な反応速度が得られる範囲内において任意
に選択できる。
【0021】本発明の水素化反応での反応温度は、低す
ぎると反応速度が低下し、高すぎるとエポキシ基の水素
化分解が進行することから、通常30〜150℃、好ま
しくは80〜120℃である。また、反応圧力は通常1
〜30MPa、好ましくは3〜10MPaである。反応
方式としては液相懸濁反応或いは固定床反応のいずれも
採用することができる。また、反応溶媒としては出発原
料の溶解性からTHF、ジオキサンのようなエーテル類
や酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチルのよう
なエステル類が好ましく用いられる。本発明の方法に従
って水素化反応を行った後、触媒を濾別し、その後蒸留
により揮発成分を除去し、目的生成物を得ることが出来
る。
ぎると反応速度が低下し、高すぎるとエポキシ基の水素
化分解が進行することから、通常30〜150℃、好ま
しくは80〜120℃である。また、反応圧力は通常1
〜30MPa、好ましくは3〜10MPaである。反応
方式としては液相懸濁反応或いは固定床反応のいずれも
採用することができる。また、反応溶媒としては出発原
料の溶解性からTHF、ジオキサンのようなエーテル類
や酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチルのよう
なエステル類が好ましく用いられる。本発明の方法に従
って水素化反応を行った後、触媒を濾別し、その後蒸留
により揮発成分を除去し、目的生成物を得ることが出来
る。
【0022】
【実施例】以下実施例により本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明は、その要旨を超えない限り、これら実施
例に限定されるものでない。 実施例1 40.0重量%Rhメタル含有塩化ロジウム水和物62
5mgを水6gに溶解させた中に市販のアセチレンブラ
ック4.75gを加え含浸担持した。その後エバポレー
ターで溶媒を除去した。これを28重量%アンモニア水
0.78gを水6mlに溶かした水溶液に加え、室温で
固定化処理を行った。濾別後イオン交換水で洗浄した。
この固定化した触媒をギ酸2gと水20mlの混合液に
加え、加熱還流して5時間還元処理を行った。濾別後、
得られた触媒をイオン交換水で洗浄した後、50℃で乾
燥し、5重量%ロジウム/アセチレンブラック触媒を得
た。この触媒のメジアン粒子径は0.52μmであっ
た。この触媒0.16gを用いて200ml容量の誘導
撹拌式オートクレーブに酢酸エチル20g、2,2−ジ
−(p−グリシドキシーフェニル)―プロパン80g
(ジャパンエポキシレジン社製 エピコート828 エ
ポキシ当量186)を加え、水素を2MPa圧入した
後、110℃まで昇温した。110℃で水素を8MPa
に昇圧し、115℃に昇温して4.2時間反応した。反
応後触媒を濾別し、減圧下揮発分を留去した。1H-NMRス
ペクトルの積分値より芳香環の水素化率を、過塩素酸滴
定法(JIS K7236)によりエホ゜キシ当量を求めた。ここでエポ
キシ当量とはエポキシ基1モルを含むエポキシ樹脂のグ
ラム数を表す。色相は石英10mmセルに濃縮生成物を
入れ、440nmでの透過率を測定して着色の指標とし
た。結果を表1に示す。 比較例1 市販の活性炭を用いた以外実施例1と同様の方法で触媒
を調製した。得られた触媒のメジアン粒子径は25μm
であった。これを用いて反応時間を8時間にした以外実
施例1と同様の方法で反応を行った。結果を表1に示
す。
るが、本発明は、その要旨を超えない限り、これら実施
例に限定されるものでない。 実施例1 40.0重量%Rhメタル含有塩化ロジウム水和物62
5mgを水6gに溶解させた中に市販のアセチレンブラ
ック4.75gを加え含浸担持した。その後エバポレー
ターで溶媒を除去した。これを28重量%アンモニア水
0.78gを水6mlに溶かした水溶液に加え、室温で
固定化処理を行った。濾別後イオン交換水で洗浄した。
この固定化した触媒をギ酸2gと水20mlの混合液に
加え、加熱還流して5時間還元処理を行った。濾別後、
得られた触媒をイオン交換水で洗浄した後、50℃で乾
燥し、5重量%ロジウム/アセチレンブラック触媒を得
た。この触媒のメジアン粒子径は0.52μmであっ
た。この触媒0.16gを用いて200ml容量の誘導
撹拌式オートクレーブに酢酸エチル20g、2,2−ジ
−(p−グリシドキシーフェニル)―プロパン80g
(ジャパンエポキシレジン社製 エピコート828 エ
ポキシ当量186)を加え、水素を2MPa圧入した
後、110℃まで昇温した。110℃で水素を8MPa
に昇圧し、115℃に昇温して4.2時間反応した。反
応後触媒を濾別し、減圧下揮発分を留去した。1H-NMRス
ペクトルの積分値より芳香環の水素化率を、過塩素酸滴
定法(JIS K7236)によりエホ゜キシ当量を求めた。ここでエポ
キシ当量とはエポキシ基1モルを含むエポキシ樹脂のグ
ラム数を表す。色相は石英10mmセルに濃縮生成物を
入れ、440nmでの透過率を測定して着色の指標とし
た。結果を表1に示す。 比較例1 市販の活性炭を用いた以外実施例1と同様の方法で触媒
を調製した。得られた触媒のメジアン粒子径は25μm
であった。これを用いて反応時間を8時間にした以外実
施例1と同様の方法で反応を行った。結果を表1に示
す。
【0023】
【表1】
【0024】
【発明の効果】本発明により、貴金属、とりわけロジウ
ムまたはルテニウムを炭素質担体に担持した触媒であっ
て、かつ触媒のメジアン径が5μm以下である触媒を用
いて、エポキシ基及び炭素−炭素不飽和二重結合を有す
る化合物を水素化するとエポキシ基の分解が抑制され、
水素化活性が高く効率的に炭素−炭素不飽和二重結合を
選択的に水素化することができ、特に着色の少ない生成
物を得ることができる。
ムまたはルテニウムを炭素質担体に担持した触媒であっ
て、かつ触媒のメジアン径が5μm以下である触媒を用
いて、エポキシ基及び炭素−炭素不飽和二重結合を有す
る化合物を水素化するとエポキシ基の分解が抑制され、
水素化活性が高く効率的に炭素−炭素不飽和二重結合を
選択的に水素化することができ、特に着色の少ない生成
物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G069 AA03 AA08 BA08A BA08B BC32A BC33A BC69A BC71B CB02 DA08 EA01Y EB18X EB18Y FA02 FB08 4H039 CA40 CB10
Claims (8)
- 【請求項1】 少なくとも1個の炭素−炭素不飽和結合
及び少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物の炭素
−炭素不飽和結合を選択的に水素化してエポキシ化合物
を製造する方法において、貴金属を炭素質担体に担持し
た触媒であって、かつ触媒のメジアン径が5μm以下で
ある触媒を用いることを特徴とするエポキシ化合物の製
造方法。 - 【請求項2】 少なくとも1個の炭素−炭素不飽和結合
が芳香環を形成しているものである請求項1に記載のエ
ポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項3】 炭素質担体がカーボンブラックである請
求項1又は2に記載のエポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項4】 カーボンブラックがアセチレンブラック
である請求項1〜3のいずれかに記載のエポキシ化合物
の製造方法。 - 【請求項5】 貴金属がロジウムである請求項1〜4の
いずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項6】 反応溶媒としてエーテル類又はエステル
類を用いる請求項1〜5のいずれかに記載のエポキシ化
合物の製造方法。 - 【請求項7】 水素化反応を反応温度30〜150℃、
かつ水素圧1〜30MPaで行う請求項1〜6のいずれ
かに記載のエポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項8】 化合物がエピクロロヒドリンと多価フェ
ノールとを反応させて得られた化合物である請求項1〜
7のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001142981A JP2002338560A (ja) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | エポキシ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001142981A JP2002338560A (ja) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | エポキシ化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002338560A true JP2002338560A (ja) | 2002-11-27 |
Family
ID=18989187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001142981A Pending JP2002338560A (ja) | 2001-05-14 | 2001-05-14 | エポキシ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002338560A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11167268B2 (en) * | 2019-09-25 | 2021-11-09 | National Tsing Hua University | Catalyst and method for manufacturing the same and method for hydrogenating aromatic epoxy compound |
-
2001
- 2001-05-14 JP JP2001142981A patent/JP2002338560A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11167268B2 (en) * | 2019-09-25 | 2021-11-09 | National Tsing Hua University | Catalyst and method for manufacturing the same and method for hydrogenating aromatic epoxy compound |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6495730B1 (en) | Catalysts for hydrogenation of carboxylic acid | |
US4083809A (en) | Hydrogenation catalyst and method of producing same | |
JPH0474141A (ja) | シクロオレフィンの製造法 | |
US11969711B2 (en) | Carbon-based, precious metal-transition metal composite catalyst and preparation method therefor | |
KR20190081064A (ko) | 카본이 코팅된 실리카-알루미나 담체에 담지된 귀금속-전이금속 복합 촉매 및 이의 제조방법 | |
EP0921141B1 (en) | Process for producing compound having epoxy group | |
JP4122589B2 (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP3616642B2 (ja) | 1,4−ブタンジオールの製造法 | |
JP2002338560A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP2002249488A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP3955349B2 (ja) | 置換芳香族化合物の核水素化方法 | |
JP4268796B2 (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP3793424B2 (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP2001172211A (ja) | シクロドデカノン及びシクロドデカノールの製造法 | |
JP2002338561A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
CN113769741A (zh) | 用于碳酸乙烯酯催化加氢的铜基催化剂及制备方法和应用 | |
JP2002338559A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JPS622849B2 (ja) | ||
JP3791556B2 (ja) | 触媒再生方法 | |
JP2000080053A (ja) | シクロアルキルジメタノ―ルの製造方法 | |
JP2002338562A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP4182659B2 (ja) | グリシジル基含有脂環式化合物の製造方法。 | |
JP2002241465A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
JP4218940B2 (ja) | 触媒およびエポキシ化合物の製造方法 | |
JP2998377B2 (ja) | メタクリルアミドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070904 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080122 |