JP2002338513A - フェノキシ酢酸誘導体の製造中間体およびその使用方法 - Google Patents
フェノキシ酢酸誘導体の製造中間体およびその使用方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 β3−アドレナリン受容体刺激作用を有し、
肥満症、高血糖症、腸管運動亢進に起因する疾患、頻
尿、尿失禁、うつ病、胆石または腸管運動亢進に起因す
る疾患の予防あるいは治療薬として有用なフェノキシ酢
酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製造中間
体およびその使用方法を提供する。 【解決手段】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1は低級アルキルであり、Ｒ2は低級アルキル
または水素原子であり、Ｒ3は水素原子またはＣＨ2ＣＯ
2Ｒ基（Ｒは低級アルキルである）であり、Ｘは水素原
子または水酸基である〕で表わされる化合物、および該
化合物を使用する一般式 【化２】 （式中、Ｒは低級アルキルである）で表わされるフェノ
キシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製
造方法。
肥満症、高血糖症、腸管運動亢進に起因する疾患、頻
尿、尿失禁、うつ病、胆石または腸管運動亢進に起因す
る疾患の予防あるいは治療薬として有用なフェノキシ酢
酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製造中間
体およびその使用方法を提供する。 【解決手段】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1は低級アルキルであり、Ｒ2は低級アルキル
または水素原子であり、Ｒ3は水素原子またはＣＨ2ＣＯ
2Ｒ基（Ｒは低級アルキルである）であり、Ｘは水素原
子または水酸基である〕で表わされる化合物、および該
化合物を使用する一般式 【化２】 （式中、Ｒは低級アルキルである）で表わされるフェノ
キシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製
造方法。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、医薬品として有用
なフェノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容され
る塩を製造するための新規な製造中間体およびその使用
方法に関する。
なフェノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容され
る塩を製造するための新規な製造中間体およびその使用
方法に関する。
【０００２】さらに詳しく述べれば、本発明は、β3−
アドレナリン受容体刺激作用を有し、肥満症、高血糖
症、腸管運動亢進に起因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ
病、胆石または腸管運動亢進に起因する疾患の予防ある
いは治療薬として有用な一般式（ＩＶ）
アドレナリン受容体刺激作用を有し、肥満症、高血糖
症、腸管運動亢進に起因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ
病、胆石または腸管運動亢進に起因する疾患の予防ある
いは治療薬として有用な一般式（ＩＶ）
【化５】 （式中、Ｒは低級アルキルを表わす）で表わされるフェ
ノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を
製造するために有用な新規な製造中間体およびその使用
方法に関するものである。
ノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を
製造するために有用な新規な製造中間体およびその使用
方法に関するものである。
【０００３】
【従来の技術】一般式（ＩＶ）で表わされるフェノキシ
酢酸誘導体の製造方法として、ＷＯ００／０２８４６公
報に一般式（Ｖ）
酢酸誘導体の製造方法として、ＷＯ００／０２８４６公
報に一般式（Ｖ）
【化６】 （式中、Ｒ4は低級アルコキシ基を表わし、Ｒ5、Ｒ6は
低級アルキルを表わし、Ｙはｐ−トルエンスルホニルオ
キシ基、メタンスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などを表わす）で表わされるアルキル化
剤と、式（ＩＩＩ）
低級アルキルを表わし、Ｙはｐ−トルエンスルホニルオ
キシ基、メタンスルホニルオキシ基、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などを表わす）で表わされるアルキル化
剤と、式（ＩＩＩ）
【化７】 で表わされるアミンとを塩基の存在下または非存在下で
反応させる方法が開示されているが、本発明の一般式
（Ｉ）で表わされる化合物については何ら記載されてい
ない。
反応させる方法が開示されているが、本発明の一般式
（Ｉ）で表わされる化合物については何ら記載されてい
ない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はβ3−
アドレナリン受容体刺激作用を有し、肥満症、高血糖
症、腸管運動亢進に起因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ
病、胆石または腸管運動亢進に起因する疾患の予防ある
いは治療薬として有用な前記一般式（ＩＶ）で表わされ
るフェノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容され
る塩を簡便かつ高収率で製造するために有用な新規な製
造中間体およびその使用方法を提供することである。
アドレナリン受容体刺激作用を有し、肥満症、高血糖
症、腸管運動亢進に起因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ
病、胆石または腸管運動亢進に起因する疾患の予防ある
いは治療薬として有用な前記一般式（ＩＶ）で表わされ
るフェノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容され
る塩を簡便かつ高収率で製造するために有用な新規な製
造中間体およびその使用方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、文献未記載の新規な
前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を見出し、さらに
該化合物を使用して前記一般式（ＩＶ）で表わされるフ
ェノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩
を収率よく製造できるという知見を得、本発明を完成す
るに至った。
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、文献未記載の新規な
前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を見出し、さらに
該化合物を使用して前記一般式（ＩＶ）で表わされるフ
ェノキシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩
を収率よく製造できるという知見を得、本発明を完成す
るに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、β3−アドレナリン
受容体刺激作用を有し、肥満症、高血糖症、腸管運動亢
進に起因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ病、胆石または
腸管運動亢進に起因する疾患の予防あるいは治療薬とし
て有用な前記一般式（ＩＶ）で表わされるフェノキシ酢
酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を製造する
ために有用な新規な中間体に関し、以下の一般式（Ｉ）
受容体刺激作用を有し、肥満症、高血糖症、腸管運動亢
進に起因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ病、胆石または
腸管運動亢進に起因する疾患の予防あるいは治療薬とし
て有用な前記一般式（ＩＶ）で表わされるフェノキシ酢
酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を製造する
ために有用な新規な中間体に関し、以下の一般式（Ｉ）
【化８】 ［式中、Ｒ1は低級アルキルであり、Ｒ2は低級アルキル
または水素原子であり、Ｒ3は水素原子またはＣＨ2ＣＯ
2Ｒ基（Ｒは低級アルキルである）であり、Ｘは水素原
子または水酸基である］で表わされる化合物を包含す
る。
または水素原子であり、Ｒ3は水素原子またはＣＨ2ＣＯ
2Ｒ基（Ｒは低級アルキルである）であり、Ｘは水素原
子または水酸基である］で表わされる化合物を包含す
る。
【０００７】また本発明は、一般式（ＩＩ）
【化９】 （式中、Ｒは低級アルキルである）で表わされるヘミア
セタールと、式（ＩＩＩ）
セタールと、式（ＩＩＩ）
【化１０】 で表わされるアミンとを還元剤の存在下で反応させ、そ
の後、必要であれば薬理学的に許容される塩を形成する
ことを特徴とする、一般式（ＩＶ）
の後、必要であれば薬理学的に許容される塩を形成する
ことを特徴とする、一般式（ＩＶ）
【化１１】 （式中、Ｒは低級アルキルである）で表わされるフェノ
キシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製
造方法に関する。
キシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製
造方法に関する。
【０００８】本発明において、低級アルキルとは炭素数
１から６の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を表わ
し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基
などが挙げられる。ハロゲンとは、塩素原子、臭素原子
またはヨウ素原子を表わす。
１から６の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を表わ
し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基
などが挙げられる。ハロゲンとは、塩素原子、臭素原子
またはヨウ素原子を表わす。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、以下のスキームに
従って製造することができる。
一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、以下のスキームに
従って製造することができる。
【化１２】 （式中、Ｒ1およびＲは上記定義の通りであり、Ｚはハ
ロゲンを表わす）
ロゲンを表わす）
【００１０】本発明において使用される前記式（ＩＩ
Ｉ）で表わされるアミンは、市販のエナンチオマー混合
物を常法に従い光学分割するか、文献記載の方法などに
より製造することができる（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈ
ｅｍ．，２０巻，７号，９７８〜９８１頁（１９７
７））。
Ｉ）で表わされるアミンは、市販のエナンチオマー混合
物を常法に従い光学分割するか、文献記載の方法などに
より製造することができる（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈ
ｅｍ．，２０巻，７号，９７８〜９８１頁（１９７
７））。
【００１１】（工程ａ）本発明の前記一般式（ＶＩＩ）
で表わされるフェノール誘導体は、市販の２，５−キシ
レノールと前記一般式（ＶＩ）で表わされるグリオキサ
ールジ（低級アルキル）アセタールとをアルカリ金属水
酸化物水溶液（例えば、水酸化ナトリウム水溶液）の存
在下、１０〜７０℃の温度で１〜１０時間反応させるこ
とにより製造することができる。反応終了後、反応液を
希酸（例えば、希塩酸）を用いて中和することにより結
晶を析出させ、これをろ過、乾燥することにより目的と
する一般式（ＶＩＩ）で表わされるフェノール誘導体を
得ることができる。フェノール誘導体（ＶＩＩ）は、精
製して次の工程に使用してもよいが、精製することなく
次の工程に供しても何ら支障がない。
で表わされるフェノール誘導体は、市販の２，５−キシ
レノールと前記一般式（ＶＩ）で表わされるグリオキサ
ールジ（低級アルキル）アセタールとをアルカリ金属水
酸化物水溶液（例えば、水酸化ナトリウム水溶液）の存
在下、１０〜７０℃の温度で１〜１０時間反応させるこ
とにより製造することができる。反応終了後、反応液を
希酸（例えば、希塩酸）を用いて中和することにより結
晶を析出させ、これをろ過、乾燥することにより目的と
する一般式（ＶＩＩ）で表わされるフェノール誘導体を
得ることができる。フェノール誘導体（ＶＩＩ）は、精
製して次の工程に使用してもよいが、精製することなく
次の工程に供しても何ら支障がない。
【００１２】（工程ｂ）本発明の前記一般式（ＶＩＩ
Ｉ）で表わされるフェノキシ酢酸エステル誘導体は、前
記一般式（ＶＩＩ）で表わされるフェノール誘導体とＺ
ＣＨ2ＣＯ2Ｒとを不活性溶媒中、塩基の存在下、０〜１
００℃の温度で１〜２４時間反応させることにより製造
することができる。本反応に使用できる不活性溶媒とし
ては、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、アセト
ニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミドなどを挙げることができ、これらの
不活性溶媒を単独でまたは２種以上混合して使用するこ
とができる。塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸セシウムなどを使用することができ
る。ＺＣＨ2ＣＯ2Ｒとしては、ＣｌＣＨ2ＣＯ2Ｒ、Ｂｒ
ＣＨ2ＣＯ2Ｒを使用することができる。ＺＣＨ 2ＣＯ2Ｒ
および塩基は、通常、フェノール誘導体（ＶＩ）に対し
て１〜５当量の範囲から適宜選択して使用することがで
きる。ＺＣＨ2ＣＯ2Ｒと塩基のモル比は、通常、等モル
が使用されるが、いずれか一方を過剰に使用しても良
い。反応終了後、常法により抽出、濃縮することにより
目的とする一般式（ＶＩＩＩ）で表わされるフェノキシ
酢酸エステル誘導体を得ることができる。フェノキシ酢
酸エステル誘導体（ＶＩＩＩ）は、精製して次の工程に
使用してもよいが、精製することなく次の工程に供して
も何ら支障がない。
Ｉ）で表わされるフェノキシ酢酸エステル誘導体は、前
記一般式（ＶＩＩ）で表わされるフェノール誘導体とＺ
ＣＨ2ＣＯ2Ｒとを不活性溶媒中、塩基の存在下、０〜１
００℃の温度で１〜２４時間反応させることにより製造
することができる。本反応に使用できる不活性溶媒とし
ては、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、アセト
ニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミドなどを挙げることができ、これらの
不活性溶媒を単独でまたは２種以上混合して使用するこ
とができる。塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸セシウムなどを使用することができ
る。ＺＣＨ2ＣＯ2Ｒとしては、ＣｌＣＨ2ＣＯ2Ｒ、Ｂｒ
ＣＨ2ＣＯ2Ｒを使用することができる。ＺＣＨ 2ＣＯ2Ｒ
および塩基は、通常、フェノール誘導体（ＶＩ）に対し
て１〜５当量の範囲から適宜選択して使用することがで
きる。ＺＣＨ2ＣＯ2Ｒと塩基のモル比は、通常、等モル
が使用されるが、いずれか一方を過剰に使用しても良
い。反応終了後、常法により抽出、濃縮することにより
目的とする一般式（ＶＩＩＩ）で表わされるフェノキシ
酢酸エステル誘導体を得ることができる。フェノキシ酢
酸エステル誘導体（ＶＩＩＩ）は、精製して次の工程に
使用してもよいが、精製することなく次の工程に供して
も何ら支障がない。
【００１３】（工程ｃ）本発明の一般式（ＩＸ）で表わ
されるアセタール誘導体は、前記一般式（ＶＩＩＩ）で
表わされるフェノキシ酢酸エステル誘導体を不活性溶媒
中、還元剤の存在下、−３０〜３０℃の温度で１０分〜
１２時間反応させることにより製造することができる。
本反応に使用できる不活性溶媒としては、例えば、テト
ラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサ
ン等のエーテル類、酢酸エチルなどの有機カルボン酸エ
ステル類、アセトニトリルなどを挙げることができ、こ
れらの不活性溶媒を単独でまたは２種以上混合して使用
することができる。還元剤としては、ヨウ化ナトリウム
／トリアルキルクロロシラン（例えば、トリメチルクロ
ロシラン、トリエチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチ
ルクロロシランなど）などを使用することができ、通
常、フェノキシ酢酸エステル誘導体（ＶＩＩＩ）に対し
て２〜６当量の範囲から適宜選択して使用することがで
きる。反応終了後、常法により抽出、濃縮することによ
り目的とする一般式（ＩＸ）で表わされるアセタール誘
導体を得ることができる。アセタール誘導体（ＩＸ）
は、精製して次の工程に使用してもよいが、精製するこ
となく次の工程に供しても何ら支障がない。
されるアセタール誘導体は、前記一般式（ＶＩＩＩ）で
表わされるフェノキシ酢酸エステル誘導体を不活性溶媒
中、還元剤の存在下、−３０〜３０℃の温度で１０分〜
１２時間反応させることにより製造することができる。
本反応に使用できる不活性溶媒としては、例えば、テト
ラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサ
ン等のエーテル類、酢酸エチルなどの有機カルボン酸エ
ステル類、アセトニトリルなどを挙げることができ、こ
れらの不活性溶媒を単独でまたは２種以上混合して使用
することができる。還元剤としては、ヨウ化ナトリウム
／トリアルキルクロロシラン（例えば、トリメチルクロ
ロシラン、トリエチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチ
ルクロロシランなど）などを使用することができ、通
常、フェノキシ酢酸エステル誘導体（ＶＩＩＩ）に対し
て２〜６当量の範囲から適宜選択して使用することがで
きる。反応終了後、常法により抽出、濃縮することによ
り目的とする一般式（ＩＸ）で表わされるアセタール誘
導体を得ることができる。アセタール誘導体（ＩＸ）
は、精製して次の工程に使用してもよいが、精製するこ
となく次の工程に供しても何ら支障がない。
【００１４】（工程ｄ）本発明の一般式（ＩＩ）で表わ
されるヘミアセタール誘導体は、前記一般式（ＩＸ）で
表わされるアセタール誘導体を不活性溶媒中、酸を使用
して０〜５０℃の温度で０．５〜２４時間加水分解し、
反応終了後、常法により抽出、濃縮後、必要に応じて酢
酸と共にＲＯＨを加えることにより製造することができ
る。本反応に使用できる不活性溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン等
のエーテル類、アセトンなどのケトン類、アセトニトリ
ルなどを挙げることができ、これらの不活性溶媒を単独
でまたは２種以上混合し、必要に応じて水を添加して使
用することができる。酸としては、５〜２０％過塩素
酸、１〜１０％塩酸、１〜１０％硫酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、トリフルオロ酢酸などが使用でき、通常、ア
セタール誘導体(ＩＸ)に対して０．１〜２．５当量の範
囲から適宜選択して使用することができる。ヘミアセタ
ール誘導体（ＩＩ）は、精製して次の工程に使用しても
よいが、精製することなく次の工程に供しても何ら支障
がない。
されるヘミアセタール誘導体は、前記一般式（ＩＸ）で
表わされるアセタール誘導体を不活性溶媒中、酸を使用
して０〜５０℃の温度で０．５〜２４時間加水分解し、
反応終了後、常法により抽出、濃縮後、必要に応じて酢
酸と共にＲＯＨを加えることにより製造することができ
る。本反応に使用できる不活性溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン等
のエーテル類、アセトンなどのケトン類、アセトニトリ
ルなどを挙げることができ、これらの不活性溶媒を単独
でまたは２種以上混合し、必要に応じて水を添加して使
用することができる。酸としては、５〜２０％過塩素
酸、１〜１０％塩酸、１〜１０％硫酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸、トリフルオロ酢酸などが使用でき、通常、ア
セタール誘導体(ＩＸ)に対して０．１〜２．５当量の範
囲から適宜選択して使用することができる。ヘミアセタ
ール誘導体（ＩＩ）は、精製して次の工程に使用しても
よいが、精製することなく次の工程に供しても何ら支障
がない。
【００１５】（工程ｅ）このようにして得られた前記一
般式（ＩＩ）で表されるヘミアセタール誘導体を使用し
て医薬品として有用な前記一般式（ＩＶ）で表されるフ
ェノキシ酢酸誘導体を製造するには、前記一般式（Ｉ
Ｉ）で表されるヘミアセタール誘導体と前記式（ＩＩ
Ｉ）で表されるアミンとを不活性溶媒中、還元剤の存在
下、０〜６０℃の温度で１〜４８時間反応させることに
より、目的とするフェノキシ酢酸誘導体（ＩＶ）へと収
率よく導くことができる。還元剤としては、ＮａＢ
Ｈ4、ＮａＣＮＢＨ3、ＮａＢＨ（ＯＡｃ）3、ＮａＢＨ
（ＯＡｃ）3、ＮａＢＨ（ＯＭｅ）3などの水素化ホウ素
アルカリ金属類、ＢＨ3・ピリジン、ＢＨ3・Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリンなどのボラン類を、必要に応じて酢酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩
酸などの酸またはトリエチルアミンなどの塩基の存在下
で使用するか、あるいは水素雰囲気下で触媒量の金属触
媒（例えば、５〜１０％パラジウムカーボン、ラネーニ
ッケル、酸化白金、パラジウムブラック、１０％白金カ
ーボン（硫黄被毒）など）などを使用することができ
る。還元剤として水素化ホウ素アルカリ金属類、ボラン
類を使用する場合、これらの試薬を通常、ヘミアセター
ル誘導体（ＩＩ）に対して０．５〜５当量の範囲から適
宜選択して使用することができる。本反応に使用するこ
とができる不活性溶媒としては、例えば、テトラヒドフ
ラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエ
ーテル類、メチレンクロリド、１，２−ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素類、酢酸などの有機カルボン
酸類、トルエンなどの炭化水素類、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトニトリルなどが挙げら
れ、これらの溶媒を単独または２種以上混合して使用す
ることができる。反応終了後、必要に応じて不溶物を除
去し、常法により抽出、濃縮することにより目的とする
一般式（ＩＶ）で表されるフェノキシ酢酸誘導体を得る
ことができる。フェノキシ酢酸誘導体（ＩＶ）は、必要
に応じて、常法に従いその薬理学的に許容される塩とす
ることができる。このような塩としては塩酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硫酸、リン酸などの無機酸との酸付
加塩、ギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、プロピオン酸、クエン
酸、コハク酸、酒石酸、フマル酸、酪酸、シュウ酸、マ
ロン酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、炭酸、グルタミ
ン酸、アスパラギン酸などの有機カルボン酸との酸付加
塩を挙げることができる。
般式（ＩＩ）で表されるヘミアセタール誘導体を使用し
て医薬品として有用な前記一般式（ＩＶ）で表されるフ
ェノキシ酢酸誘導体を製造するには、前記一般式（Ｉ
Ｉ）で表されるヘミアセタール誘導体と前記式（ＩＩ
Ｉ）で表されるアミンとを不活性溶媒中、還元剤の存在
下、０〜６０℃の温度で１〜４８時間反応させることに
より、目的とするフェノキシ酢酸誘導体（ＩＶ）へと収
率よく導くことができる。還元剤としては、ＮａＢ
Ｈ4、ＮａＣＮＢＨ3、ＮａＢＨ（ＯＡｃ）3、ＮａＢＨ
（ＯＡｃ）3、ＮａＢＨ（ＯＭｅ）3などの水素化ホウ素
アルカリ金属類、ＢＨ3・ピリジン、ＢＨ3・Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリンなどのボラン類を、必要に応じて酢酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩
酸などの酸またはトリエチルアミンなどの塩基の存在下
で使用するか、あるいは水素雰囲気下で触媒量の金属触
媒（例えば、５〜１０％パラジウムカーボン、ラネーニ
ッケル、酸化白金、パラジウムブラック、１０％白金カ
ーボン（硫黄被毒）など）などを使用することができ
る。還元剤として水素化ホウ素アルカリ金属類、ボラン
類を使用する場合、これらの試薬を通常、ヘミアセター
ル誘導体（ＩＩ）に対して０．５〜５当量の範囲から適
宜選択して使用することができる。本反応に使用するこ
とができる不活性溶媒としては、例えば、テトラヒドフ
ラン、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエ
ーテル類、メチレンクロリド、１，２−ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素類、酢酸などの有機カルボン
酸類、トルエンなどの炭化水素類、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトニトリルなどが挙げら
れ、これらの溶媒を単独または２種以上混合して使用す
ることができる。反応終了後、必要に応じて不溶物を除
去し、常法により抽出、濃縮することにより目的とする
一般式（ＩＶ）で表されるフェノキシ酢酸誘導体を得る
ことができる。フェノキシ酢酸誘導体（ＩＶ）は、必要
に応じて、常法に従いその薬理学的に許容される塩とす
ることができる。このような塩としては塩酸、臭化水素
酸、ヨウ化水素酸、硫酸、リン酸などの無機酸との酸付
加塩、ギ酸、酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、プロピオン酸、クエン
酸、コハク酸、酒石酸、フマル酸、酪酸、シュウ酸、マ
ロン酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、炭酸、グルタミ
ン酸、アスパラギン酸などの有機カルボン酸との酸付加
塩を挙げることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の内容を実施例でさらに詳
細に説明する。なお以下の実施例は本発明を例示するこ
とを意図したものであり、発明の範囲を限定するもので
はない。
細に説明する。なお以下の実施例は本発明を例示するこ
とを意図したものであり、発明の範囲を限定するもので
はない。
【００１７】
【実施例】（実施例１） ４−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノール ５．２％水酸化ナトリウム水溶液６３０ｇ、２，５−キ
シレノール１００ｇ、６０％グリオキサールジメチルア
セタール水溶液２１３ｇおよび水２００ｇの懸濁液を５
５℃で５時間加熱撹拌した。氷浴で冷却し、反応混合物
にアセトニトリル９０ｇ、および７．４％塩酸３８０ｇ
を順次加えた。析出結晶をろ過にて集め、白色結晶の４
−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノール１５０ｇを得た。
２，５−ジメチルフェノール ５．２％水酸化ナトリウム水溶液６３０ｇ、２，５−キ
シレノール１００ｇ、６０％グリオキサールジメチルア
セタール水溶液２１３ｇおよび水２００ｇの懸濁液を５
５℃で５時間加熱撹拌した。氷浴で冷却し、反応混合物
にアセトニトリル９０ｇ、および７．４％塩酸３８０ｇ
を順次加えた。析出結晶をろ過にて集め、白色結晶の４
−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノール１５０ｇを得た。
【００１８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ ｐｐ
ｍ：２．０６（３Ｈ，ｓ），２．１５（３Ｈ，ｓ），
３．０８（３Ｈ，ｓ），３．３５（３Ｈ，ｓ），４．２
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６．７，４．４Ｈｚ），４．９６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝４．４Ｈｚ），６．４９（１Ｈ，ｓ），７．０３
（１Ｈ，ｓ），８．９６（１Ｈ，ｓ）
ｍ：２．０６（３Ｈ，ｓ），２．１５（３Ｈ，ｓ），
３．０８（３Ｈ，ｓ），３．３５（３Ｈ，ｓ），４．２
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６．７，４．４Ｈｚ），４．９６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝４．４Ｈｚ），６．４９（１Ｈ，ｓ），７．０３
（１Ｈ，ｓ），８．９６（１Ｈ，ｓ）
【００１９】（実施例２） ２−［４−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロキシエチ
ル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル 撹拌下のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８１ｇに、室温
にて４−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロキシエチ
ル）−２，５−ジメチルフェノール２０．０ｇ、炭酸カ
リウム１５．８ｇおよびクロロ酢酸エチル１２．４ｇを
加え、混合物を１時間撹拌し、さらに７１℃で２時間撹
拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水および食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層
を減圧下濃縮し、残留物に酢酸エチル／ｎ−ヘキサンの
混合液を加え、析出した結晶をろ過にて集め、白色粉末
性固体の２−［４−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロ
キシエチル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチ
ル２１．３ｇを得た。
ル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル 撹拌下のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８１ｇに、室温
にて４−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロキシエチ
ル）−２，５−ジメチルフェノール２０．０ｇ、炭酸カ
リウム１５．８ｇおよびクロロ酢酸エチル１２．４ｇを
加え、混合物を１時間撹拌し、さらに７１℃で２時間撹
拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水および食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層
を減圧下濃縮し、残留物に酢酸エチル／ｎ−ヘキサンの
混合液を加え、析出した結晶をろ過にて集め、白色粉末
性固体の２−［４−（２，２−ジメトキシ−１−ヒドロ
キシエチル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチ
ル２１．３ｇを得た。
【００２０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ｐｐｍ：
１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２６（３
Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），２．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），３．２２（３Ｈ，ｓ），３．５
０（３Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ），４．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．６
１（２Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，
２．３Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｓ），７．２５（１
Ｈ，ｓ）
１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２６（３
Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），２．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），３．２２（３Ｈ，ｓ），３．５
０（３Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ），４．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．６
１（２Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，
２．３Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｓ），７．２５（１
Ｈ，ｓ）
【００２１】（実施例３） ２−［４−（２，２−ジメトキシエチル）−２，５−ジ
メチルフェノキシ］酢酸エチル 撹拌下のヨウ化ナトリウム７２ｇおよびトリメチルクロ
ロシラン５２ｇのアセトニトリル（１８０ｇ）懸濁液を
塩氷浴で冷却し、２−［４−（２，２−ジメトキシ−１
−ヒドロキシエチル）−２，５−ジメチルフェノキシ］
酢酸エチル５０ｇのアセトニトリル（８０ｇ）溶液を滴
下した。その混合物を３０分撹拌した後、トルエン４０
０ｇ、ピリジン２５ｇを加え、反応混合物をチオ硫酸ナ
トリウム水溶液、クエン酸水溶液、重曹水および食塩水
で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下濃縮して２−［４−（２，２−ジメトキシエ
チル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル４３
ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ｐｐｍ：１．３０（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２４（３Ｈ，ｓ），
２．２７（３Ｈ，ｓ），２．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．
６Ｈｚ），３．３３（６Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．
６Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，
ｓ），６．９７（１Ｈ，ｓ）
メチルフェノキシ］酢酸エチル 撹拌下のヨウ化ナトリウム７２ｇおよびトリメチルクロ
ロシラン５２ｇのアセトニトリル（１８０ｇ）懸濁液を
塩氷浴で冷却し、２−［４−（２，２−ジメトキシ−１
−ヒドロキシエチル）−２，５−ジメチルフェノキシ］
酢酸エチル５０ｇのアセトニトリル（８０ｇ）溶液を滴
下した。その混合物を３０分撹拌した後、トルエン４０
０ｇ、ピリジン２５ｇを加え、反応混合物をチオ硫酸ナ
トリウム水溶液、クエン酸水溶液、重曹水および食塩水
で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下濃縮して２−［４−（２，２−ジメトキシエ
チル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル４３
ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ｐｐｍ：１．３０（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２４（３Ｈ，ｓ），
２．２７（３Ｈ，ｓ），２．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．
６Ｈｚ），３．３３（６Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．
６Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），６．５０（１Ｈ，
ｓ），６．９７（１Ｈ，ｓ）
【００２２】（実施例４） ２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル 撹拌下の２−［４−（２，２−ジメトキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル４３ｇをアセ
トニトリル１９０ｇに溶解し、１０％過塩素酸２１６ｇ
を加えて室温で１時間撹拌した。反応混合物をトルエン
３４０ｇおよび水２００ｇ間に分配させた後、有機層を
水、５％重曹水および２０％食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残留物をエ
タノール１８０ｇに溶かした後、溶媒を留去した。残留
物をヘキサン８６ｇおよびエタノール３７ｇに溶かし、
結晶種を加えた後、その溶液を０〜１０℃で２時間撹拌
した。ヘキサン２２０ｇを加え、懸濁液を０〜１０℃で
２時間撹拌した。析出した結晶をろ過にて集め、淡黄白
色結晶の２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエ
チル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル２１
ｇを得た。
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル 撹拌下の２−［４−（２，２−ジメトキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル４３ｇをアセ
トニトリル１９０ｇに溶解し、１０％過塩素酸２１６ｇ
を加えて室温で１時間撹拌した。反応混合物をトルエン
３４０ｇおよび水２００ｇ間に分配させた後、有機層を
水、５％重曹水および２０％食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残留物をエ
タノール１８０ｇに溶かした後、溶媒を留去した。残留
物をヘキサン８６ｇおよびエタノール３７ｇに溶かし、
結晶種を加えた後、その溶液を０〜１０℃で２時間撹拌
した。ヘキサン２２０ｇを加え、懸濁液を０〜１０℃で
２時間撹拌した。析出した結晶をろ過にて集め、淡黄白
色結晶の２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエ
チル）−２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル２１
ｇを得た。
【００２３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ ｐｐ
ｍ：１．０６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１１（３Ｈ，
ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．５０〜２．８０（２
Ｈ，ｍ），３．２０〜３．４０（１Ｈ，ｍ），３．６０
〜３．７０（１Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ），４．５０〜４．７０（１Ｈ，ｍ），４．
７３（２Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈ
ｚ），６．５９（１Ｈ，ｓ），６．９３（１Ｈ，ｓ）
ｍ：１．０６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１１（３Ｈ，
ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．５０〜２．８０（２
Ｈ，ｍ），３．２０〜３．４０（１Ｈ，ｍ），３．６０
〜３．７０（１Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ），４．５０〜４．７０（１Ｈ，ｍ），４．
７３（２Ｈ，ｓ），５．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈ
ｚ），６．５９（１Ｈ，ｓ），６．９３（１Ｈ，ｓ）
【００２４】（実施例５） （−）−２−［４−［２−［［（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチルフェノ
キシ］酢酸エチル ２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル５．４ｇ、１
０％パラジウムカーボン（５０％含水品）１．４ｇ、
（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノ−１−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン−１−オール３．０ｇおよびテトラヒ
ドロフラン３０ｇの懸濁液を水素雰囲気下、４０℃で３
時間撹拌した。触媒をろ過にて除去した後、ろ液を減圧
下濃縮した。残留物をトルエンに溶かし、水、炭酸水素
ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮後、
（−）−２−［４−［２−［［（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチルフェノ
キシ］酢酸エチルを７．３ｇ得た。
ドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチルフェノ
キシ］酢酸エチル ２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル５．４ｇ、１
０％パラジウムカーボン（５０％含水品）１．４ｇ、
（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノ−１−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン−１−オール３．０ｇおよびテトラヒ
ドロフラン３０ｇの懸濁液を水素雰囲気下、４０℃で３
時間撹拌した。触媒をろ過にて除去した後、ろ液を減圧
下濃縮した。残留物をトルエンに溶かし、水、炭酸水素
ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮後、
（−）−２−［４−［２−［［（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチルフェノ
キシ］酢酸エチルを７．３ｇ得た。
【００２５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ｐｐｍ：
０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．３４（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１８（３Ｈ，ｓ），
２．２２（３Ｈ，ｓ），２．６０〜３．００（５Ｈ，
ｍ），４．３１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．４
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），４．６２（２Ｈ，
ｓ），６．４１（１Ｈ，ｓ），６．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），７．０５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．３４（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１８（３Ｈ，ｓ），
２．２２（３Ｈ，ｓ），２．６０〜３．００（５Ｈ，
ｍ），４．３１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．４
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），４．６２（２Ｈ，
ｓ），６．４１（１Ｈ，ｓ），６．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），７．０５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００２６】（実施例６） （−）−２−［４−［２−［［（１Ｓ，２Ｒ）−２−ヒ
ドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチルフェノ
キシ］酢酸エチル塩酸塩 ２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル６８．７ｇ、
１０％パラジウムカーボン（５０％含水品）１７ｇ、
（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノ−１−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン−１−オール３８．０ｇおよびテトラ
ヒドロフラン３８０ｇの懸濁液を水素雰囲気下、４０℃
で５時間撹拌した。触媒をろ過にて除去した後、ろ液を
減圧下濃縮した。残留物をトルエンに溶かし、水、炭酸
水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留
去した。この残渣にトルエン２００ｇおよびエタノール
２１ｇを加え、氷冷下、２０重量％塩化水素含有エタノ
ール３７．３ｇを滴下した。析出した結晶をろ取し、白
色結晶の（−）−２−［４−［２−［［（１Ｓ，２Ｒ）
−２−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−
１−メチルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチ
ルフェノキシ］酢酸エチル塩酸塩を７０．２ｇ得た。
ドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチ
ルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチルフェノ
キシ］酢酸エチル塩酸塩 ２−［４−（２−エトキシ−２−ヒドロキシエチル）−
２，５−ジメチルフェノキシ］酢酸エチル６８．７ｇ、
１０％パラジウムカーボン（５０％含水品）１７ｇ、
（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミノ−１−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン−１−オール３８．０ｇおよびテトラ
ヒドロフラン３８０ｇの懸濁液を水素雰囲気下、４０℃
で５時間撹拌した。触媒をろ過にて除去した後、ろ液を
減圧下濃縮した。残留物をトルエンに溶かし、水、炭酸
水素ナトリウム水溶液および食塩水で順次洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留
去した。この残渣にトルエン２００ｇおよびエタノール
２１ｇを加え、氷冷下、２０重量％塩化水素含有エタノ
ール３７．３ｇを滴下した。析出した結晶をろ取し、白
色結晶の（−）−２−［４−［２−［［（１Ｓ，２Ｒ）
−２−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−
１−メチルエチル］アミノ］エチル］−２，５−ジメチ
ルフェノキシ］酢酸エチル塩酸塩を７０．２ｇ得た。
【００２７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ ｐｐ
ｍ：０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１５（３Ｈ，
ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．８〜３．２（４Ｈ，
ｍ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．７
６（２Ｈ，ｓ），４．９〜５．１（１Ｈ，ｍ），５．８
〜６．０（１Ｈ，ｍ），６．６８（１Ｈ，ｓ），６．７
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，
ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．５
〜９．０（２Ｈ，ｂｒ），９．４１（１Ｈ，ｓ）
ｍ：０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２１
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１５（３Ｈ，
ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．８〜３．２（４Ｈ，
ｍ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．７
６（２Ｈ，ｓ），４．９〜５．１（１Ｈ，ｍ），５．８
〜６．０（１Ｈ，ｍ），６．６８（１Ｈ，ｓ），６．７
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，
ｓ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．５
〜９．０（２Ｈ，ｂｒ），９．４１（１Ｈ，ｓ）
【００２８】
【発明の効果】本発明の製造中間体により一般式（Ｉ
Ｖ）で表わされるフェノキシ酢酸誘導体またはその薬理
学的に許容される塩を簡便かつ収率よく製造することが
でき、該中間体は肥満症、高血糖症、腸管運動亢進に起
因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ病、胆石または腸管運
動亢進に起因する疾患の予防あるいは治療薬のための製
造中間体として有用である。
Ｖ）で表わされるフェノキシ酢酸誘導体またはその薬理
学的に許容される塩を簡便かつ収率よく製造することが
でき、該中間体は肥満症、高血糖症、腸管運動亢進に起
因する疾患、頻尿、尿失禁、うつ病、胆石または腸管運
動亢進に起因する疾患の予防あるいは治療薬のための製
造中間体として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 向山 晴信 長野県南安曇郡穂高町大字有明5944−63 (72)発明者 石川 健宏 長野県南安曇郡豊科町豊科4897−２いせき 館２−Ｄ (72)発明者 小林 淳一 長野県南安曇郡穂高町穂高5908−２セジュ ール平林201 (72)発明者 赤羽 敏 長野県松本市笹賀4246 (72)発明者 原田 弘 長野県東筑摩郡四賀村中川8054 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AC52 AC81 BA25 BA55 BE20 BN10 BN30 BP10 BP30 BT12 BU32 FC50 FE11 4H039 CA71 CB90
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1は低級アルキルであり、Ｒ2は低級アルキル
または水素原子であり、Ｒ3は水素原子またはＣＨ2ＣＯ
2Ｒ基（Ｒは低級アルキルである）であり、Ｘは水素原
子または水酸基である］で表わされる化合物。 - 【請求項２】 Ｒ1、Ｒ2がメチルであり、Ｒ3が水素原
子であり、そしてＸが水酸基である、請求項１に記載の
化合物。 - 【請求項３】 Ｒ1、Ｒ2がメチルであり、そしてＲ3が
エトキシカルボニルメチル基である、請求項１に記載の
化合物。 - 【請求項４】 Ｒ1がエチルであり、Ｒ2が水素原子であ
り、Ｒ3がエトキシカルボニルメチル基であり、そして
Ｘが水素原子である、請求項１に記載の化合物。 - 【請求項５】 一般式（ＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒは低級アルキルである）で表わされるヘミア
セタールと、式（ＩＩＩ） 【化３】 で表わされるアミンとを還元剤の存在下で反応させ、そ
の後、必要であれば薬理学的に許容される塩を形成する
ことを特徴とする、一般式（ＩＶ） 【化４】 （式中、Ｒは低級アルキルである）で表わされるフェノ
キシ酢酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩の製
造方法。 - 【請求項６】 Ｒがエチルである、請求項５に記載の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002064840A JP4132020B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-11 | フェノキシ酢酸誘導体の製造中間体およびその使用方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001068023 | 2001-03-12 | ||
| JP2001-68023 | 2001-03-12 | ||
| JP2002064840A JP4132020B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-11 | フェノキシ酢酸誘導体の製造中間体およびその使用方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002338513A true JP2002338513A (ja) | 2002-11-27 |
| JP4132020B2 JP4132020B2 (ja) | 2008-08-13 |
Family
ID=26611024
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002064840A Expired - Fee Related JP4132020B2 (ja) | 2001-03-12 | 2002-03-11 | フェノキシ酢酸誘導体の製造中間体およびその使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4132020B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6774267B2 (en) * | 2000-02-07 | 2004-08-10 | Clariant France | Phenolic compounds derived from dialkoxyethanals, their preparation process and their application |
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