JP2002336843A - アンモニア含有排水の浄化装置および浄化方法 - Google Patents
アンモニア含有排水の浄化装置および浄化方法Info
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- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】簡易な機器構成でスケーリンク゛を発生させることな
く機器の信頼性を確保し、安定運転が維持できるNH3 含
有排水の浄化装置および浄化方法を提供する。 【解決手段】NH3 含有排水にアルカリを添加して被処理
液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で調整された被
処理液をキャリアガスと気液接触させて該被処理液に含
まれるNH3 を除去する放散塔と、該放散塔上部から排出
されるNH3 を回収して処理する手段と、前記放散塔下部
に貯留する、NH3 が除去された処理液を回収する手段
と、前記放散塔下部に前記キャリアカ゛スを供給する手段とを
備えたNH3 含有排水の浄化装置であって、前記放散塔内
の上部に前記被処理液を噴霧するスフ゜レー手段および該スフ゜
レー手段から噴霧される噴霧液を回収する手段を一組以上
配置し、前記被処理液を該放散塔上部から順に各スフ゜レー
手段を介して前記キャリアカ゛スと接触させるようにしたこと
を特徴とするアンモニア含有排水の浄化装置。
く機器の信頼性を確保し、安定運転が維持できるNH3 含
有排水の浄化装置および浄化方法を提供する。 【解決手段】NH3 含有排水にアルカリを添加して被処理
液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で調整された被
処理液をキャリアガスと気液接触させて該被処理液に含
まれるNH3 を除去する放散塔と、該放散塔上部から排出
されるNH3 を回収して処理する手段と、前記放散塔下部
に貯留する、NH3 が除去された処理液を回収する手段
と、前記放散塔下部に前記キャリアカ゛スを供給する手段とを
備えたNH3 含有排水の浄化装置であって、前記放散塔内
の上部に前記被処理液を噴霧するスフ゜レー手段および該スフ゜
レー手段から噴霧される噴霧液を回収する手段を一組以上
配置し、前記被処理液を該放散塔上部から順に各スフ゜レー
手段を介して前記キャリアカ゛スと接触させるようにしたこと
を特徴とするアンモニア含有排水の浄化装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はアンモニア含有排水
の浄化装置および浄化方法に係り、特に火力発電所など
から排出される排水中に含まれるアンモニア（ＮＨ3 ）
を効率よく、かつ安定して除去することができるアンモ
ニア含有排水の浄化装置および浄化方法に関する。
の浄化装置および浄化方法に係り、特に火力発電所など
から排出される排水中に含まれるアンモニア（ＮＨ3 ）
を効率よく、かつ安定して除去することができるアンモ
ニア含有排水の浄化装置および浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、地球環境保全に対する関心の高ま
りや、平成５年に海域の富栄養化対策としての規制が施
行されたこともあり、排水中の窒素除去に対する新しい
処理技術の開発が求められている。従来から排水中の窒
素を除去する方法としてはアンモニア含有排水を空気ま
たは蒸気を用いて気相中に放散除去するアンモニアスト
リッピング法が知られている。このアンモニアストリッ
ピング法は、比較的処理が簡単で設備費、運転費が安い
利点を有するため、分離した高濃度のＮＨ3 ガスを触媒
で酸化分解する方法と組合わせ、総合的な無害化方式と
して、現有のし尿処理施設においても採用されている。
りや、平成５年に海域の富栄養化対策としての規制が施
行されたこともあり、排水中の窒素除去に対する新しい
処理技術の開発が求められている。従来から排水中の窒
素を除去する方法としてはアンモニア含有排水を空気ま
たは蒸気を用いて気相中に放散除去するアンモニアスト
リッピング法が知られている。このアンモニアストリッ
ピング法は、比較的処理が簡単で設備費、運転費が安い
利点を有するため、分離した高濃度のＮＨ3 ガスを触媒
で酸化分解する方法と組合わせ、総合的な無害化方式と
して、現有のし尿処理施設においても採用されている。
【０００３】図３は従来技術によるアンモニア浄化装置
の説明図である。この装置は、アンモニア含有排水１を
貯留する排水槽２と、アンモニア含有排水１のｐＨを調
整する反応槽４０と、該反応槽４０で生じた固形物を除
去する沈殿槽４２と、固形物が除去された排水１を中継
槽４５および熱交換器５を経て放散塔１０の上部に供給
する放散塔供給ポンプ４６と、該放散塔１０の下部にキ
ャリアガスとしての蒸気および空気を供給する蒸気供給
装置１３および空気ブロア７と、該放散塔１０の下部に
設けられた処理水を貯留する液溜部１２と、該処理水を
貯留する処理水槽８と、前記放散塔１０の上部から排出
されるアンモニア含有ガスを処理する加熱器１４および
触媒塔１５とから主として構成される。
の説明図である。この装置は、アンモニア含有排水１を
貯留する排水槽２と、アンモニア含有排水１のｐＨを調
整する反応槽４０と、該反応槽４０で生じた固形物を除
去する沈殿槽４２と、固形物が除去された排水１を中継
槽４５および熱交換器５を経て放散塔１０の上部に供給
する放散塔供給ポンプ４６と、該放散塔１０の下部にキ
ャリアガスとしての蒸気および空気を供給する蒸気供給
装置１３および空気ブロア７と、該放散塔１０の下部に
設けられた処理水を貯留する液溜部１２と、該処理水を
貯留する処理水槽８と、前記放散塔１０の上部から排出
されるアンモニア含有ガスを処理する加熱器１４および
触媒塔１５とから主として構成される。
【０００４】このような構成において、アンモニア含有
排水１は排水槽２に一旦貯留された後、排水供給ポンプ
４により反応槽４０に供給される。反応槽４０では苛性
ソーダ供給装置３から供給される苛性ソーダにより排水
１のｐＨが８〜１０程度に調整され、これにより反応槽
４０内では水酸化マグネシウム等が固形物として析出す
る。析出した水酸化マグネシウム等の固形物は、粒子径
が小さくそのままでは沈降しにくいため、凝集剤供給装
置４１から凝集剤を添加して粒子径を大きくして固形物
の沈降を容易にする。次に排水１は沈澱槽４２に供給さ
れ、ここで析出した固形物はスラリとして沈澱槽４２の
下部から脱水機供給ポンプ４３によって抜出され、脱水
機４４に供給され、固形物と液に分離される。一方、沈
澱槽４２によって固形物が除去された排水１は一旦中継
槽４５に供給され、苛性ソーダ供給装置３より供給され
る苛性ソーダによって再度ｐＨが１０〜１１程度に調整
され、放散塔供給ポンプ４６によって熱交換器５に送ら
れる。熱交換器５で約１００℃まで予熱された排水１
は、放散塔１０の上部に供給される。
排水１は排水槽２に一旦貯留された後、排水供給ポンプ
４により反応槽４０に供給される。反応槽４０では苛性
ソーダ供給装置３から供給される苛性ソーダにより排水
１のｐＨが８〜１０程度に調整され、これにより反応槽
４０内では水酸化マグネシウム等が固形物として析出す
る。析出した水酸化マグネシウム等の固形物は、粒子径
が小さくそのままでは沈降しにくいため、凝集剤供給装
置４１から凝集剤を添加して粒子径を大きくして固形物
の沈降を容易にする。次に排水１は沈澱槽４２に供給さ
れ、ここで析出した固形物はスラリとして沈澱槽４２の
下部から脱水機供給ポンプ４３によって抜出され、脱水
機４４に供給され、固形物と液に分離される。一方、沈
澱槽４２によって固形物が除去された排水１は一旦中継
槽４５に供給され、苛性ソーダ供給装置３より供給され
る苛性ソーダによって再度ｐＨが１０〜１１程度に調整
され、放散塔供給ポンプ４６によって熱交換器５に送ら
れる。熱交換器５で約１００℃まで予熱された排水１
は、放散塔１０の上部に供給される。
【０００５】放散塔１０内部には１０〜２０mm程度のリ
ング状の充填物が無作為に充填された充填層１１が設け
られている。また放散塔１０下部には空気ブロワ７によ
って供給される空気および蒸気供給装置１３によって供
給される蒸気がキャリアガスとして供給され、充填層１
１の上部から流下する排水と充填層１１の下部から上昇
するキャリアガスが充填物の表面で効率よく気液接触
し、排水中のアンモニアを脱気する。アンモニアが脱気
された処理水は、液溜部１２に溜められた後、放散塔抜
出ポンプ６によって抜出され、熱交換器５に送られて排
水と熱交換した後、処理水槽８に送られる。一方、脱気
したアンモニアを高濃度で含むキャリアガスは放散塔１
０の上部から排出され、加熱器１４で所定の温度まで加
熱された後、触媒塔１５に導入され、触媒上で酸化分解
し、Ｎ2 とＨ2 Ｏに分解され、大気に放出される。
ング状の充填物が無作為に充填された充填層１１が設け
られている。また放散塔１０下部には空気ブロワ７によ
って供給される空気および蒸気供給装置１３によって供
給される蒸気がキャリアガスとして供給され、充填層１
１の上部から流下する排水と充填層１１の下部から上昇
するキャリアガスが充填物の表面で効率よく気液接触
し、排水中のアンモニアを脱気する。アンモニアが脱気
された処理水は、液溜部１２に溜められた後、放散塔抜
出ポンプ６によって抜出され、熱交換器５に送られて排
水と熱交換した後、処理水槽８に送られる。一方、脱気
したアンモニアを高濃度で含むキャリアガスは放散塔１
０の上部から排出され、加熱器１４で所定の温度まで加
熱された後、触媒塔１５に導入され、触媒上で酸化分解
し、Ｎ2 とＨ2 Ｏに分解され、大気に放出される。
【０００６】石炭焚きや重油焚きの火力発電所から排出
される排ガス中の燃焼灰やＳＯ2 ガスを除去する乾式電
気集塵機や湿式脱硫装置から排出される排水には、アン
モニア態窒素とともにマグネシウムなどが多く含まれて
いる。このマグネシウムは、通常硫酸マグネシウムや水
酸化マグネシウムの形態で存在するが、水酸化マグネシ
ウムはアルカリ性下で析出する性質を有する。一方、ア
ンモニアストリッピング法では、放散塔でのアンモニア
のストリッピングを容易にするためにあらかじめ排水に
苛性ソーダ等を添加してそのｐＨを高く調整する必要が
ある。従って、放散塔内で水酸化マグネシウムが析出
し、放散塔内の充填物表面にスケーリングが生じる。放
散塔内の充填層には１０〜２０mmのリング状の充填物が
無作為に詰められており、その隙間が狭く、スケーリン
グが発生すると隙間が塞がれて液やキャリアガスの流路
が確保できなくなり、充填層の圧力損失が増加し、排水
が充填層内に滞留して流下しなくなるフラッディング現
象が発生し、安定運転が困難となる場合がある。
される排ガス中の燃焼灰やＳＯ2 ガスを除去する乾式電
気集塵機や湿式脱硫装置から排出される排水には、アン
モニア態窒素とともにマグネシウムなどが多く含まれて
いる。このマグネシウムは、通常硫酸マグネシウムや水
酸化マグネシウムの形態で存在するが、水酸化マグネシ
ウムはアルカリ性下で析出する性質を有する。一方、ア
ンモニアストリッピング法では、放散塔でのアンモニア
のストリッピングを容易にするためにあらかじめ排水に
苛性ソーダ等を添加してそのｐＨを高く調整する必要が
ある。従って、放散塔内で水酸化マグネシウムが析出
し、放散塔内の充填物表面にスケーリングが生じる。放
散塔内の充填層には１０〜２０mmのリング状の充填物が
無作為に詰められており、その隙間が狭く、スケーリン
グが発生すると隙間が塞がれて液やキャリアガスの流路
が確保できなくなり、充填層の圧力損失が増加し、排水
が充填層内に滞留して流下しなくなるフラッディング現
象が発生し、安定運転が困難となる場合がある。
【０００７】図３に示すように、従来技術では、放散塔
１０に排水１を供給する前に、シックナ等の沈殿槽４２
や遠心分離器等の脱水機４４を設置し、析出する水酸化
マグネシウム等をあらかじめ除去する方法が採られてい
る。また析出する水酸化マグネシウム等の固形物粒子は
細かい粒子であり、そのままでは沈降分離しにくいた
め、凝集剤供給装置４１を設置して反応槽４０に凝集剤
を添加して固形物粒子を大きくして沈降し易くした上
で、上記沈殿槽４２に供給する必要があった。従って、
システムが複雑になり、また充填層内でスケーリングが
発生しない程度まで水酸化マグネシウムを除去するため
には排水のｐＨを１０以上に高めて水酸化マグネシウム
の析出量を増加させる必要があるが、排水のｐＨを高く
しすぎると、この時点で排水中のアンモニアの一部が放
出されるため、放出したアンモニアを処理するための新
たな設備が必要になり、また苛性ソーダの添加量が増加
することにより運転費が高くなるという問題があった。
１０に排水１を供給する前に、シックナ等の沈殿槽４２
や遠心分離器等の脱水機４４を設置し、析出する水酸化
マグネシウム等をあらかじめ除去する方法が採られてい
る。また析出する水酸化マグネシウム等の固形物粒子は
細かい粒子であり、そのままでは沈降分離しにくいた
め、凝集剤供給装置４１を設置して反応槽４０に凝集剤
を添加して固形物粒子を大きくして沈降し易くした上
で、上記沈殿槽４２に供給する必要があった。従って、
システムが複雑になり、また充填層内でスケーリングが
発生しない程度まで水酸化マグネシウムを除去するため
には排水のｐＨを１０以上に高めて水酸化マグネシウム
の析出量を増加させる必要があるが、排水のｐＨを高く
しすぎると、この時点で排水中のアンモニアの一部が放
出されるため、放出したアンモニアを処理するための新
たな設備が必要になり、また苛性ソーダの添加量が増加
することにより運転費が高くなるという問題があった。
【０００８】このように、従来の充填物層を備えた放散
塔では、充填物の表面でアンモニアを含有する排水とキ
ャリアガスが気液接触するため、接触効率は高くなる
が、火力発電所等から排出される排水中にマグネシウム
が含まれている場合、水酸化マグネシウム等の固形物が
析出し、スケーリングすると、充填層内が閉塞し、液が
流下しなくなり、圧力損失の増加の原因となり、安定運
転が困難となる。また固形物をあらかじめ除去するに
は、前処理装置として固形物を分離するためのシックナ
や脱水機を設置する必要があり、また前処理装置におい
て析出させた固形物を分離し易くするために凝集剤を添
加する必要があり、設備費や運転費が増加することにも
なる。
塔では、充填物の表面でアンモニアを含有する排水とキ
ャリアガスが気液接触するため、接触効率は高くなる
が、火力発電所等から排出される排水中にマグネシウム
が含まれている場合、水酸化マグネシウム等の固形物が
析出し、スケーリングすると、充填層内が閉塞し、液が
流下しなくなり、圧力損失の増加の原因となり、安定運
転が困難となる。また固形物をあらかじめ除去するに
は、前処理装置として固形物を分離するためのシックナ
や脱水機を設置する必要があり、また前処理装置におい
て析出させた固形物を分離し易くするために凝集剤を添
加する必要があり、設備費や運転費が増加することにも
なる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来技
術では、マグネシウムやカルシウムを多量に含有する排
水のアンモニアストリッピングにおける放散塔内のスケ
ーリングに対して充分な考慮がなされておらず、機器の
信頼性が低下し、また設備費、運転費等が高価になると
いう問題があった。本発明の課題は、上記した従来技術
の問題点を解決し、簡易な機器構成で、アンモニアスト
リッピング装置のトラブルの原因となるスケーリングを
発生させることなく、機器の信頼性を確保し、安定運転
を維持することができるアンモニア含有排水の浄化装置
および浄化方法を提供することにある。
術では、マグネシウムやカルシウムを多量に含有する排
水のアンモニアストリッピングにおける放散塔内のスケ
ーリングに対して充分な考慮がなされておらず、機器の
信頼性が低下し、また設備費、運転費等が高価になると
いう問題があった。本発明の課題は、上記した従来技術
の問題点を解決し、簡易な機器構成で、アンモニアスト
リッピング装置のトラブルの原因となるスケーリングを
発生させることなく、機器の信頼性を確保し、安定運転
を維持することができるアンモニア含有排水の浄化装置
および浄化方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み、鋭意検討した結果、放散塔内にアンモニア含有
排水を噴霧してキャリアガスと気液接触させるスプレノ
ズルと、噴霧した液を回収する手段とを複数段設け、回
収した液をさらに下流（キャリアガス上流）のスプレノ
ズルから噴霧させて逐次気液接触させることにより、上
記課題を達成することができることを見いだし、本発明
に到達したものである。上記課題を達成するために本願
で特許請求される発明は以下の通りである。
に鑑み、鋭意検討した結果、放散塔内にアンモニア含有
排水を噴霧してキャリアガスと気液接触させるスプレノ
ズルと、噴霧した液を回収する手段とを複数段設け、回
収した液をさらに下流（キャリアガス上流）のスプレノ
ズルから噴霧させて逐次気液接触させることにより、上
記課題を達成することができることを見いだし、本発明
に到達したものである。上記課題を達成するために本願
で特許請求される発明は以下の通りである。
【００１１】（１）アンモニア含有排水にアルカリを添
加して被処理液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で
調整された被処理液をキャリアガスと気液接触させて該
被処理液に含まれるアンモニアを除去する放散塔と、該
放散塔上部から排出されるアンモニアを回収して処理す
る手段と、前記放散塔下部に貯留する、アンモニアが除
去された処理液を回収する手段と、前記放散塔下部に前
記キャリアガスを供給する手段とを備えたアンモニア含
有排水の浄化装置であって、前記放散塔内の上部から順
に前記被処理液を噴霧するスプレー手段および該スプレ
ー手段から噴霧される噴霧液を回収する手段を一組以上
配置し、前記被処理液を該放散塔上部から順に各スプレ
ー手段を介して前記キャリアガスと接触させるようにし
たことを特徴とするアンモニア含有排水の浄化装置。 （２）前記噴霧液を回収する手段が、前記放散塔の内周
壁に下向きドーナツ状に配設された集液板と、該集液板
の下方であって該放散塔の中央部に該集液板と所定の間
隙を隔てて配設された、該集液板で捕集された噴霧液お
よび下降する噴霧液を捕集するトレーとを備えているこ
とを特徴とする（１）に記載のアンモニア含有排水の浄
化装置。
加して被処理液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で
調整された被処理液をキャリアガスと気液接触させて該
被処理液に含まれるアンモニアを除去する放散塔と、該
放散塔上部から排出されるアンモニアを回収して処理す
る手段と、前記放散塔下部に貯留する、アンモニアが除
去された処理液を回収する手段と、前記放散塔下部に前
記キャリアガスを供給する手段とを備えたアンモニア含
有排水の浄化装置であって、前記放散塔内の上部から順
に前記被処理液を噴霧するスプレー手段および該スプレ
ー手段から噴霧される噴霧液を回収する手段を一組以上
配置し、前記被処理液を該放散塔上部から順に各スプレ
ー手段を介して前記キャリアガスと接触させるようにし
たことを特徴とするアンモニア含有排水の浄化装置。 （２）前記噴霧液を回収する手段が、前記放散塔の内周
壁に下向きドーナツ状に配設された集液板と、該集液板
の下方であって該放散塔の中央部に該集液板と所定の間
隙を隔てて配設された、該集液板で捕集された噴霧液お
よび下降する噴霧液を捕集するトレーとを備えているこ
とを特徴とする（１）に記載のアンモニア含有排水の浄
化装置。
【００１２】（３）前記捕集板と前記トレーとの間隙
が、該間隙を通過するキャリアガスの流速が１〜３ｍ／
ｓの範囲になるように設定されることを特徴とする
（１）または（２）に記載のアンモニア含有排水の浄化
装置。 （４）アンモニア含有排水にアルカリを添加して被処理
液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で調整された被
処理液をキャリアガスと気液接触させて該被処理液に含
まれるアンモニアを除去する放散塔と、該放散塔上部か
ら排出されるアンモニアを回収して処理する手段と、前
記放散塔下部に貯留する、アンモニアが除去された処理
液を回収する手段と、前記放散塔下部に前記キャリアガ
スを供給する手段とを備えたアンモニア含有排水の浄化
装置であって、前記放散塔を複数設置し、各放散塔内に
前記被処理液を噴霧するスプレー手段、該噴霧液を回収
する手段、放散塔下部にキャリアガスを供給するキャリ
アガス入口および放散塔上部に該キャリアガスを排出す
るキャリアガス出口を設け、前記複数の放散塔のうち一
の放散塔のキャリアガス出口と他の放散塔のキャリアガ
ス入口を順に連設して前記複数の放散塔に一連のガス流
路を形成するとともに、該ガス流路の最下流側の放散塔
のスプレー手段に前記反応槽からの被処理液を供給し、
かつ該放散塔下部から回収した噴霧液を、前記ガス流路
とは逆方向の一連の液流路を形成するように、他の放散
塔のスプレー手段に順に供給する手段を設け、各放散塔
内で順に気液接触を行わせるようにしたことを特徴とす
るアンモニア含有排水の浄化装置。 （５）前記スプレー手段が、ホロコーン型スプレーノズ
ルであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに
記載のアンモニア含有排水の浄化装置。
が、該間隙を通過するキャリアガスの流速が１〜３ｍ／
ｓの範囲になるように設定されることを特徴とする
（１）または（２）に記載のアンモニア含有排水の浄化
装置。 （４）アンモニア含有排水にアルカリを添加して被処理
液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で調整された被
処理液をキャリアガスと気液接触させて該被処理液に含
まれるアンモニアを除去する放散塔と、該放散塔上部か
ら排出されるアンモニアを回収して処理する手段と、前
記放散塔下部に貯留する、アンモニアが除去された処理
液を回収する手段と、前記放散塔下部に前記キャリアガ
スを供給する手段とを備えたアンモニア含有排水の浄化
装置であって、前記放散塔を複数設置し、各放散塔内に
前記被処理液を噴霧するスプレー手段、該噴霧液を回収
する手段、放散塔下部にキャリアガスを供給するキャリ
アガス入口および放散塔上部に該キャリアガスを排出す
るキャリアガス出口を設け、前記複数の放散塔のうち一
の放散塔のキャリアガス出口と他の放散塔のキャリアガ
ス入口を順に連設して前記複数の放散塔に一連のガス流
路を形成するとともに、該ガス流路の最下流側の放散塔
のスプレー手段に前記反応槽からの被処理液を供給し、
かつ該放散塔下部から回収した噴霧液を、前記ガス流路
とは逆方向の一連の液流路を形成するように、他の放散
塔のスプレー手段に順に供給する手段を設け、各放散塔
内で順に気液接触を行わせるようにしたことを特徴とす
るアンモニア含有排水の浄化装置。 （５）前記スプレー手段が、ホロコーン型スプレーノズ
ルであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに
記載のアンモニア含有排水の浄化装置。
【００１３】（６）アンモニア含有排水にアルカリを添
加してｐＨを調整した被処理液を放散塔に噴霧してキャ
リアガスと接触させ、該被処理液中のアンモニアを該キ
ャリアガスに移行させて除去するアンモニア含有排水の
浄化方法であって、前記放散塔内の被処理液の噴霧とキ
ャリアガスとの接触を向流下で行うとともに、該被処理
液の噴霧を多段で行い、かつ前段の液の噴霧で回収され
た処理液を次段の噴霧液として用いることを特徴とする
アンモニア含有排水の浄化方法。 （７）前記被処理液のｐＨが８〜１１であることを特徴
とする（６）に記載のアンモニア含有排水の浄化方法。 （８）前記キャリアガスと被処理液との向流接触をキャ
リアガスの流速が１〜３ｍ／ｓの範囲で行うことを特徴
とする（６）または（７）に記載のアンモニア含有排水
の浄化方法。
加してｐＨを調整した被処理液を放散塔に噴霧してキャ
リアガスと接触させ、該被処理液中のアンモニアを該キ
ャリアガスに移行させて除去するアンモニア含有排水の
浄化方法であって、前記放散塔内の被処理液の噴霧とキ
ャリアガスとの接触を向流下で行うとともに、該被処理
液の噴霧を多段で行い、かつ前段の液の噴霧で回収され
た処理液を次段の噴霧液として用いることを特徴とする
アンモニア含有排水の浄化方法。 （７）前記被処理液のｐＨが８〜１１であることを特徴
とする（６）に記載のアンモニア含有排水の浄化方法。 （８）前記キャリアガスと被処理液との向流接触をキャ
リアガスの流速が１〜３ｍ／ｓの範囲で行うことを特徴
とする（６）または（７）に記載のアンモニア含有排水
の浄化方法。
【００１４】
【作用】本発明のアンモニア含有排水の浄化装置および
浄化方法によれば、放散塔内に充填層を設けることな
く、放散塔内の上部に被処理液を噴霧するスプレー手段
および該スプレー手段から噴霧された噴霧液を回収する
手段を一組以上配置し、被処理液を該放散塔上部から順
に各スプレー手段を介して噴霧させ、キャリアガスと順
に気液接触させるため、放散塔内の気液接触部の空間を
広くとることができ、これにより、放散塔内でのスケー
リングの発生を防止することができる。また従来のよう
にあらかじめアンモニア含有排水に前処理を施して水酸
化マグネシウム等の固形物を除去する設備を設ける必要
がなく、装置の簡素化と安定した運転が可能となり、さ
らに放散塔内での気液接触が効率よく行われるため、高
いアンモニア脱気性能を得ることができる。
浄化方法によれば、放散塔内に充填層を設けることな
く、放散塔内の上部に被処理液を噴霧するスプレー手段
および該スプレー手段から噴霧された噴霧液を回収する
手段を一組以上配置し、被処理液を該放散塔上部から順
に各スプレー手段を介して噴霧させ、キャリアガスと順
に気液接触させるため、放散塔内の気液接触部の空間を
広くとることができ、これにより、放散塔内でのスケー
リングの発生を防止することができる。また従来のよう
にあらかじめアンモニア含有排水に前処理を施して水酸
化マグネシウム等の固形物を除去する設備を設ける必要
がなく、装置の簡素化と安定した運転が可能となり、さ
らに放散塔内での気液接触が効率よく行われるため、高
いアンモニア脱気性能を得ることができる。
【００１５】また放散塔内での気液接触部の空間を広く
すると、気液接触効率の低下が生じるが、本発明では、
放散塔の上部に設けたスプレー手段から被処理液を噴霧
して微細な液滴としてキャリアガスと接触させることに
より、接触する被処理液の比表面積を増大させることが
でき、さらにこのような気液接触を順に複数回行わせる
ため、放散塔内での気液接触部の空間が広くても、高い
気液接触効率を確保することができる。上記スプレー手
段としては、微細な液滴を傘状に噴霧することができる
ホロコーン型のスプレーノズルが好ましく用いられる
が、これと同等の機能を有する他のスプレーノズルであ
ってもよい。このホロコーン型のスプレー手段は、内部
部品がなく、０．１〜０．２ＭＰａ程度の圧力で液を供
給すると内部で旋回が発生し、平均液滴径１０００〜１
５００μｍの範囲で液を噴霧させることができ、また固
形物を１０〜２０％で含む液（スラリ）の場合でもスケ
ーリングが発生することなくスプレーすることができ
る。
すると、気液接触効率の低下が生じるが、本発明では、
放散塔の上部に設けたスプレー手段から被処理液を噴霧
して微細な液滴としてキャリアガスと接触させることに
より、接触する被処理液の比表面積を増大させることが
でき、さらにこのような気液接触を順に複数回行わせる
ため、放散塔内での気液接触部の空間が広くても、高い
気液接触効率を確保することができる。上記スプレー手
段としては、微細な液滴を傘状に噴霧することができる
ホロコーン型のスプレーノズルが好ましく用いられる
が、これと同等の機能を有する他のスプレーノズルであ
ってもよい。このホロコーン型のスプレー手段は、内部
部品がなく、０．１〜０．２ＭＰａ程度の圧力で液を供
給すると内部で旋回が発生し、平均液滴径１０００〜１
５００μｍの範囲で液を噴霧させることができ、また固
形物を１０〜２０％で含む液（スラリ）の場合でもスケ
ーリングが発生することなくスプレーすることができ
る。
【００１６】またスプレーノズルから噴霧された微細な
液滴は、噴射口より傘状に広がって噴霧されるため、短
時間で液滴が塔内壁に衝突して塔内壁面を伝わって落下
する濡れ壁を形成し易い。濡れ壁が形成されると、キャ
リアガスと接触する液の比表面積が液滴の場合に比べて
約１／２程度少なくなり、気液接触効率も約１／２程度
に低下する。しかし、本発明では、スプレーノズルで噴
霧された噴霧液は、その下方に設けた噴霧液を回収する
手段により回収され、回収された液はさらにその下方に
設けたスプレーノズルから噴霧させるため、各スプレー
ノズルから噴霧された液滴は、塔内壁に衝突して塗れ壁
となる前に噴霧液を回収する手段で回収されることにな
り、常に微細な液滴の状態でキャリアガスと接触でき、
気液接触面積を大きい状態に維持することができ、上記
のような気液接触効率の低下を回避することができる。
液滴は、噴射口より傘状に広がって噴霧されるため、短
時間で液滴が塔内壁に衝突して塔内壁面を伝わって落下
する濡れ壁を形成し易い。濡れ壁が形成されると、キャ
リアガスと接触する液の比表面積が液滴の場合に比べて
約１／２程度少なくなり、気液接触効率も約１／２程度
に低下する。しかし、本発明では、スプレーノズルで噴
霧された噴霧液は、その下方に設けた噴霧液を回収する
手段により回収され、回収された液はさらにその下方に
設けたスプレーノズルから噴霧させるため、各スプレー
ノズルから噴霧された液滴は、塔内壁に衝突して塗れ壁
となる前に噴霧液を回収する手段で回収されることにな
り、常に微細な液滴の状態でキャリアガスと接触でき、
気液接触面積を大きい状態に維持することができ、上記
のような気液接触効率の低下を回避することができる。
【００１７】上記噴霧液を回収する手段としては、放散
塔の内周壁に下向きドーナツ状に配された集液板と、該
集液板の下方であって該放散塔の中央部に配されたトレ
ーとを備え、該集液板とトレーが、キャリアガスが塔内
壁側から中央部に流通できるガス流路を形成するように
配置されたものが好ましく用いられる。このような回収
手段を用いることにより、気液接触する液およびキャリ
アガスのショートパスを防ぐことができ、また液が滞留
しにくいために液中の固形物が堆積することによるスケ
ーリングの発生を効率よく防止することができる。
塔の内周壁に下向きドーナツ状に配された集液板と、該
集液板の下方であって該放散塔の中央部に配されたトレ
ーとを備え、該集液板とトレーが、キャリアガスが塔内
壁側から中央部に流通できるガス流路を形成するように
配置されたものが好ましく用いられる。このような回収
手段を用いることにより、気液接触する液およびキャリ
アガスのショートパスを防ぐことができ、また液が滞留
しにくいために液中の固形物が堆積することによるスケ
ーリングの発生を効率よく防止することができる。
【００１８】さらに液とガスとの平衡関係より、上部の
スプレー部に較べて下部のスプレー部では液中のアンモ
ニア濃度は小さくなるが、キャリアガス中のアンモニア
分圧は上部のスプレー部に較べて下部のスプレー部では
逆に低くなる。従って、上部のスプレー部において、あ
る程度アンモニアを脱気して液中のアンモニア濃度が低
くなった液は、下部のスプレー部ではアンモニア分圧の
低いキャリアガスと接触することから、さらにアンモニ
アの脱気が行われ、高いアンモニア脱気性能を得ること
ができる。なお、従来技術においても、放散塔内に設置
する充填層の空隙率を増加させることによりスケーリン
グの発生を抑制することはできるが、気液接触効率の低
下を防止するために、充填層の高さを高くする必要があ
り、設備費が増加するなどの問題が生じる。
スプレー部に較べて下部のスプレー部では液中のアンモ
ニア濃度は小さくなるが、キャリアガス中のアンモニア
分圧は上部のスプレー部に較べて下部のスプレー部では
逆に低くなる。従って、上部のスプレー部において、あ
る程度アンモニアを脱気して液中のアンモニア濃度が低
くなった液は、下部のスプレー部ではアンモニア分圧の
低いキャリアガスと接触することから、さらにアンモニ
アの脱気が行われ、高いアンモニア脱気性能を得ること
ができる。なお、従来技術においても、放散塔内に設置
する充填層の空隙率を増加させることによりスケーリン
グの発生を抑制することはできるが、気液接触効率の低
下を防止するために、充填層の高さを高くする必要があ
り、設備費が増加するなどの問題が生じる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面により説明す
る。図１は、本発明の一実施例を示すアンモニア含有排
水の浄化装置の説明図である。図１において、図４と異
なる点は、凝集剤供給装置４１、沈殿層４２、脱水機供
給ポンプ４３、脱水機４４、中継槽４５を設置せず、か
つ放散塔１０に充填槽１１を設ける代わりに、放散塔１
０の上部から順に上段スプレーノズル２０、中段スプレ
ーノズル２１および下段スプレーノズル２３を設置し、
上段スプレーノズル２０および中段スプレーノズル２１
の下部にそれぞれ噴霧液回収手段としての集液板３１お
よび上段トレー２３、中段トレー２４をそれぞれ設置
し、さらにこれらのトレー２３、２４で回収された液を
それぞれスプレーノズル２１、２２に供給するために、
上段集水管２５および中段集水管２６と、上段集水タン
ク２７および中段集水タンク２８と、上段循環ポンプ２
９および中段循環ポンプ３０とを設けた点である。
る。図１は、本発明の一実施例を示すアンモニア含有排
水の浄化装置の説明図である。図１において、図４と異
なる点は、凝集剤供給装置４１、沈殿層４２、脱水機供
給ポンプ４３、脱水機４４、中継槽４５を設置せず、か
つ放散塔１０に充填槽１１を設ける代わりに、放散塔１
０の上部から順に上段スプレーノズル２０、中段スプレ
ーノズル２１および下段スプレーノズル２３を設置し、
上段スプレーノズル２０および中段スプレーノズル２１
の下部にそれぞれ噴霧液回収手段としての集液板３１お
よび上段トレー２３、中段トレー２４をそれぞれ設置
し、さらにこれらのトレー２３、２４で回収された液を
それぞれスプレーノズル２１、２２に供給するために、
上段集水管２５および中段集水管２６と、上段集水タン
ク２７および中段集水タンク２８と、上段循環ポンプ２
９および中段循環ポンプ３０とを設けた点である。
【００２０】このような構成において、アンモニア含有
排水１は、排水槽２に一旦排水槽２に溜められた後、排
水供給ポンプ４によって反応槽４０に供給される。反応
槽４０では苛性ソーダ供給装置３から供給される苛性ソ
ーダによって液のｐＨが８〜１１程度に調整され、その
後、放散塔供給ポンプによって放散塔１０に供給されて
上段スプレーノズル２０から噴霧される。上段スプレー
ノズル２０からは０．１〜０．２ＭＰａ程度の圧力で排
水が噴霧され、空気ブロワ７および蒸気供給装置１３に
よって供給されたキャリアガスと気液接触し、排水中の
アンモニアの一部が脱気する。一部のアンモニアを脱気
して塔壁に拡散した液滴は、集液手段として放散塔１０
の内周に沿って設けられた集液板３１によって上段トレ
ー２３に集められ、上段集水管２５を通って上段集水タ
ンク２７に供給される。上段集水タンク２７内の液は、
上段循環ポンプ２９によって昇圧され、中段スプレーノ
ズル２１に供給され、同様に０．１〜０．２ＭＰａの圧
力で噴霧され、キャリアガスと気液接触し、液中のアン
モニアの一部をさらに脱気する。
排水１は、排水槽２に一旦排水槽２に溜められた後、排
水供給ポンプ４によって反応槽４０に供給される。反応
槽４０では苛性ソーダ供給装置３から供給される苛性ソ
ーダによって液のｐＨが８〜１１程度に調整され、その
後、放散塔供給ポンプによって放散塔１０に供給されて
上段スプレーノズル２０から噴霧される。上段スプレー
ノズル２０からは０．１〜０．２ＭＰａ程度の圧力で排
水が噴霧され、空気ブロワ７および蒸気供給装置１３に
よって供給されたキャリアガスと気液接触し、排水中の
アンモニアの一部が脱気する。一部のアンモニアを脱気
して塔壁に拡散した液滴は、集液手段として放散塔１０
の内周に沿って設けられた集液板３１によって上段トレ
ー２３に集められ、上段集水管２５を通って上段集水タ
ンク２７に供給される。上段集水タンク２７内の液は、
上段循環ポンプ２９によって昇圧され、中段スプレーノ
ズル２１に供給され、同様に０．１〜０．２ＭＰａの圧
力で噴霧され、キャリアガスと気液接触し、液中のアン
モニアの一部をさらに脱気する。
【００２１】その後、液は集液板３１によって中段トレ
ー２４に集められ、中段集水管２６を通って中段集水タ
ンク２８に供給される。中段集水タンク２８内の液は、
中段循環ポンプ３０によって昇圧され、下段スプレーノ
ズル２２に供給され、同様に０．１〜０．２ＭＰａの圧
力で噴霧され、キャリアガスと気液接触し、液中のアン
モニアの一部をさらに脱気する。その後、液は液溜部１
２に溜められ、放散塔抜出しポンプ６によって熱交換器
５を経て処理水槽８に供給される。一方、脱気したアン
モニアを高濃度で含むキャリアガスは放散塔１０の上部
から排出され、加熱器１４で所定の温度まで加熱された
後、触媒塔１５に導入され、触媒上で酸化分解し、Ｎ2
とＨ2 Ｏに分解され、大気に放出される。
ー２４に集められ、中段集水管２６を通って中段集水タ
ンク２８に供給される。中段集水タンク２８内の液は、
中段循環ポンプ３０によって昇圧され、下段スプレーノ
ズル２２に供給され、同様に０．１〜０．２ＭＰａの圧
力で噴霧され、キャリアガスと気液接触し、液中のアン
モニアの一部をさらに脱気する。その後、液は液溜部１
２に溜められ、放散塔抜出しポンプ６によって熱交換器
５を経て処理水槽８に供給される。一方、脱気したアン
モニアを高濃度で含むキャリアガスは放散塔１０の上部
から排出され、加熱器１４で所定の温度まで加熱された
後、触媒塔１５に導入され、触媒上で酸化分解し、Ｎ2
とＨ2 Ｏに分解され、大気に放出される。
【００２２】図２は、本発明における気液接触部の一例
を示す模式図である。図２において、アンモニア含有排
水１は、上段スプレーノズル２０から噴霧されるが、液
滴は傘状に拡がり、放散塔１０内壁に向かって落下す
る。該液滴は集液板３１によって上段トレー２３の方向
に流下し、集められた液は上段集水管２５を通って図示
しない上段集水タンク２７に供給される。一方、放散塔
１０下部より供給されたキャリアガスは放散塔１０内部
を上昇し、上段トレー２３と放散塔１０内壁との間およ
び上段トレー２３と集液板３１との間をすり抜け（図中
の太線矢印）、上段スプレーノズル２０から噴霧された
液滴と気液接触する。このように集液板３１下方から放
散塔の中心側に向けてキャリアガスが流れることによ
り、液滴が下段にショートパスしにくくなる。
を示す模式図である。図２において、アンモニア含有排
水１は、上段スプレーノズル２０から噴霧されるが、液
滴は傘状に拡がり、放散塔１０内壁に向かって落下す
る。該液滴は集液板３１によって上段トレー２３の方向
に流下し、集められた液は上段集水管２５を通って図示
しない上段集水タンク２７に供給される。一方、放散塔
１０下部より供給されたキャリアガスは放散塔１０内部
を上昇し、上段トレー２３と放散塔１０内壁との間およ
び上段トレー２３と集液板３１との間をすり抜け（図中
の太線矢印）、上段スプレーノズル２０から噴霧された
液滴と気液接触する。このように集液板３１下方から放
散塔の中心側に向けてキャリアガスが流れることによ
り、液滴が下段にショートパスしにくくなる。
【００２３】本発明において、液とキャリアガスとの接
触効率を向上させて液中のアンモニアを脱気し易くする
には、液滴をできるだけ微細な状態にして液滴の比表面
積を大きくすること、および液滴内部の流動化を促進す
ることが重要となる。そのためには落下する液滴と対向
して上昇するキャリアガスの流速を速くし、液滴とキャ
リアガスとの相対速度を大きくするのが有効である。そ
こで、図２に示すように集液板３１は塔内壁から塔中心
に向かって下向きに傾斜するように設置するとともに、
集液板３１と上段トレー２３との間を通過するキャリア
ガスの流速が１〜３ｍ／ｓ程度になるように集液板３１
および上段トレー２３を配置することが好ましい。これ
により、キャリアガスは１〜３ｍ／ｓ程度の流速を維持
したまま液滴と接触することができる。また、液滴とキ
ャリアガスとの相対速度を高くする効果により液滴が微
細になり易く、かつ液滴内部の流動化を促進できるの
で、気液接触効率が向上し、液中のアンモニアが脱気し
易くなる。また集液板３１上に液が滞留しにくいので、
液中の固形物が堆積することによるスケーリングを防止
することができる。
触効率を向上させて液中のアンモニアを脱気し易くする
には、液滴をできるだけ微細な状態にして液滴の比表面
積を大きくすること、および液滴内部の流動化を促進す
ることが重要となる。そのためには落下する液滴と対向
して上昇するキャリアガスの流速を速くし、液滴とキャ
リアガスとの相対速度を大きくするのが有効である。そ
こで、図２に示すように集液板３１は塔内壁から塔中心
に向かって下向きに傾斜するように設置するとともに、
集液板３１と上段トレー２３との間を通過するキャリア
ガスの流速が１〜３ｍ／ｓ程度になるように集液板３１
および上段トレー２３を配置することが好ましい。これ
により、キャリアガスは１〜３ｍ／ｓ程度の流速を維持
したまま液滴と接触することができる。また、液滴とキ
ャリアガスとの相対速度を高くする効果により液滴が微
細になり易く、かつ液滴内部の流動化を促進できるの
で、気液接触効率が向上し、液中のアンモニアが脱気し
易くなる。また集液板３１上に液が滞留しにくいので、
液中の固形物が堆積することによるスケーリングを防止
することができる。
【００２４】本発明に用いられる放散塔の基礎試験機に
おいて、１段スプレーで浄化した場合と、３段スプレー
で浄化した場合の液中のアンモニア濃度を測定し、その
結果を表１に示したが、スプレーノズルの設置を多段に
することによりアンモニアの脱気性能が大幅に向上する
ことが確認された。
おいて、１段スプレーで浄化した場合と、３段スプレー
で浄化した場合の液中のアンモニア濃度を測定し、その
結果を表１に示したが、スプレーノズルの設置を多段に
することによりアンモニアの脱気性能が大幅に向上する
ことが確認された。
【００２５】
【表１】
【００２６】上記の実施の形態では、１つの放散塔内に
スプレー手段と噴霧液回収手段を多段に組合わせた例を
示したが、複数の放散塔を設置した浄化装置であっても
よい。この場合には、複数の放散塔がそれぞれスプレー
手段と、スプレー手段の上方にキャリアガスの出口、ス
プレー手段の下方にキャリアガスの入口および噴霧した
液滴の回収手段としてのタンクを備え、複数の放散塔の
うち一つの放散塔のキャリアガス出口と別の放散塔のキ
ャリガス入口とを逐次接続して一連のガス流路を形成
し、ガス流路の出口、すなわちガス最下流に位置する放
散塔のスプレー手段から、反応槽から供給されたアンモ
ニア含有排水を噴霧し、この放散塔の回収手段にて回収
された液滴をガス流路の上流側に位置する放散塔のスプ
レー手段から噴霧するようにして逐次気液接触が行われ
るように複数の放散塔を配置する。
スプレー手段と噴霧液回収手段を多段に組合わせた例を
示したが、複数の放散塔を設置した浄化装置であっても
よい。この場合には、複数の放散塔がそれぞれスプレー
手段と、スプレー手段の上方にキャリアガスの出口、ス
プレー手段の下方にキャリアガスの入口および噴霧した
液滴の回収手段としてのタンクを備え、複数の放散塔の
うち一つの放散塔のキャリアガス出口と別の放散塔のキ
ャリガス入口とを逐次接続して一連のガス流路を形成
し、ガス流路の出口、すなわちガス最下流に位置する放
散塔のスプレー手段から、反応槽から供給されたアンモ
ニア含有排水を噴霧し、この放散塔の回収手段にて回収
された液滴をガス流路の上流側に位置する放散塔のスプ
レー手段から噴霧するようにして逐次気液接触が行われ
るように複数の放散塔を配置する。
【００２７】
【発明の効果】本発明のアンモニア含有排水の浄化装置
および浄化方法によれば、アンモニアを含む排水から水
酸化マグネシウム等の固形物が放散塔内で析出しても、
スケーリングが発生することなく、簡単な設備構成で、
かつ高い気液接触効率で安定した運転が可能となる。
および浄化方法によれば、アンモニアを含む排水から水
酸化マグネシウム等の固形物が放散塔内で析出しても、
スケーリングが発生することなく、簡単な設備構成で、
かつ高い気液接触効率で安定した運転が可能となる。
【図１】本発明の一実施例を示すアンモニア含有排水の
浄化装置の説明図。
浄化装置の説明図。
【図２】本発明の気液接触部の一例を拡大して示した模
式図。
式図。
【図３】従来技術による浄化装置の説明図。
１…アンモニア含有排水、２…排水槽、３…苛性ソーダ
供給装置、４…排水供給ポンプ、５…熱交換器、６…放
散塔抜出しポンプ、７…空気ブロワ、８…処理水槽、１
０…放散塔、１１…充填層、１２…液溜部、１３…蒸気
供給装置、１４…加熱器、１５…触媒塔、２０…上段ス
プレーノズル、２１…中段スプレーノズル、２２…下段
スプレーノズル、２３…上段トレー、２４…中段トレ
ー、２５…上段集水管、２６…中段集水管、２７…上段
集水タンク、２８…中段集水タンク、２９…上段循環ポ
ンプ、３０…中段循環ポンプ、３１…集液板、４０…反
応槽、４１…凝集剤供給装置、４２…沈澱槽、４３…脱
水機供給ポンプ、４４…脱水機、４５…中継槽、４６…
放散塔供給ポンプ。
供給装置、４…排水供給ポンプ、５…熱交換器、６…放
散塔抜出しポンプ、７…空気ブロワ、８…処理水槽、１
０…放散塔、１１…充填層、１２…液溜部、１３…蒸気
供給装置、１４…加熱器、１５…触媒塔、２０…上段ス
プレーノズル、２１…中段スプレーノズル、２２…下段
スプレーノズル、２３…上段トレー、２４…中段トレ
ー、２５…上段集水管、２６…中段集水管、２７…上段
集水タンク、２８…中段集水タンク、２９…上段循環ポ
ンプ、３０…中段循環ポンプ、３１…集液板、４０…反
応槽、４１…凝集剤供給装置、４２…沈澱槽、４３…脱
水機供給ポンプ、４４…脱水機、４５…中継槽、４６…
放散塔供給ポンプ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｆ 5/20 Ｂ０５Ｂ 15/04 １０４ Ｂ０５Ｂ 15/04 １０４ Ｃ０１Ｃ 1/10 Ａ Ｃ０１Ｃ 1/10 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３１ (72)発明者 吉川 博文 広島県呉市宝町３番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内 Ｆターム(参考） 4D002 AA13 AC10 BA05 BA12 CA07 DA70 EA01 4D011 AA13 AA15 AB01 AB07 AC02 AC04 AD01 AD03 4D037 AA15 AB12 BA24 BB01 BB04 BB05 CA14 4D073 AA10 BB03 DC01 DC23 4G035 AB04 AC39 AE13
Claims (8)
- 【請求項１】 アンモニア含有排水にアルカリを添加し
て被処理液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で調整
された被処理液をキャリアガスと気液接触させて該被処
理液に含まれるアンモニアを除去する放散塔と、該放散
塔上部から排出されるアンモニアを回収して処理する手
段と、前記放散塔下部に貯留する、アンモニアが除去さ
れた処理液を回収する手段と、前記放散塔下部に前記キ
ャリアガスを供給する手段とを備えたアンモニア含有排
水の浄化装置であって、前記放散塔内の上部から順に前
記被処理液を噴霧するスプレー手段および該スプレー手
段から噴霧される噴霧液を回収する手段を一組以上配置
し、前記被処理液を該放散塔上部から順に各スプレー手
段を介して前記キャリアガスと接触させるようにしたこ
とを特徴とするアンモニア含有排水の浄化装置。 - 【請求項２】 前記噴霧液を回収する手段が、前記放散
塔の内周壁に下向きドーナツ状に配設された集液板と、
該集液板の下方であって該放散塔の中央部に該集液板と
所定の間隙を隔てて配設された、該集液板で捕集された
噴霧液および下降する噴霧液を捕集するトレーとを備え
ていることを特徴とする請求項１に記載のアンモニア含
有排水の浄化装置。 - 【請求項３】 前記捕集板と前記トレーとの間隙が、該
間隙を通過するキャリアガスの流速が１〜３ｍ／ｓの範
囲になるように設定されることを特徴とする請求項１ま
たは２に記載のアンモニア含有排水の浄化装置。 - 【請求項４】 アンモニア含有排水にアルカリを添加し
て被処理液のｐＨを調整する反応槽と、該反応槽で調整
された被処理液をキャリアガスと気液接触させて該被処
理液に含まれるアンモニアを除去する放散塔と、該放散
塔上部から排出されるアンモニアを回収して処理する手
段と、前記放散塔下部に貯留する、アンモニアが除去さ
れた処理液を回収する手段と、前記放散塔下部に前記キ
ャリアガスを供給する手段とを備えたアンモニア含有排
水の浄化装置であって、前記放散塔を複数設置し、各放
散塔内に前記被処理液を噴霧するスプレー手段、該噴霧
液を回収する手段、放散塔下部にキャリアガスを供給す
るキャリアガス入口および放散塔上部に該キャリアガス
を排出するキャリアガス出口を設け、前記複数の放散塔
のうち一の放散塔のキャリアガス出口と他の放散塔のキ
ャリアガス入口を順に連設して前記複数の放散塔に一連
のガス流路を形成するとともに、該ガス流路の最下流側
の放散塔のスプレー手段に前記反応槽からの被処理液を
供給し、かつ該放散塔下部から回収した噴霧液を、前記
ガス流路とは逆方向の一連の液流路を形成するように、
他の放散塔のスプレー手段に順に供給する手段を設け、
各放散塔内で順に気液接触を行わせるようにしたことを
特徴とするアンモニア含有排水の浄化装置。 - 【請求項５】 前記スプレー手段が、ホロコーン型スプ
レーノズルであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れかに記載のアンモニア含有排水の浄化装置。 - 【請求項６】 アンモニア含有排水にアルカリを添加し
てｐＨを調整した被処理液を放散塔に噴霧してキャリア
ガスと接触させ、該被処理液中のアンモニアを該キャリ
アガスに移行させて除去するアンモニア含有排水の浄化
方法であって、前記放散塔内の被処理液の噴霧とキャリ
アガスとの接触を向流下で行うとともに、該被処理液の
噴霧を多段で行い、かつ前段の液の噴霧で回収された処
理液を次段の噴霧液として用いることを特徴とするアン
モニア含有排水の浄化方法。 - 【請求項７】 前記被処理液のｐＨが８〜１１であるこ
とを特徴とする請求項６に記載のアンモニア含有排水の
浄化方法。 - 【請求項８】 前記キャリアガスと被処理液との向流接
触をキャリアガスの流速が１〜３ｍ／ｓの範囲で行うこ
とを特徴とする請求項６または７に記載のアンモニア含
有排水の浄化方法。
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