JP2002335067A - 樹脂物質にテクスチャーを付け、樹脂物質をデスミアリングおよび除去するための溶剤膨潤組成物 - Google Patents

樹脂物質にテクスチャーを付け、樹脂物質をデスミアリングおよび除去するための溶剤膨潤組成物

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スーザン・グリーン
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イナ・シニッツカヤ
John E Graves
ジョン・イー・グレイブス
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】溶剤膨潤組成物および樹脂物質にテクスチャー
をつけ基体から樹脂物質をデスミアし、除去して、高い
一体性結合の金属樹脂結合を実現する。 【解決手段】ラクトン膨潤組成物は樹脂物質の表面に多
孔質テクスチャーを形成するためのエッチングのため
に、樹脂物質を状態調節するために使用される。多孔質
テクスチャーはテクスチャーが付けられた樹脂物質と堆
積された金属との間で高度に一体化された結合が形成さ
れるように、樹脂物質の上に金属が堆積することを可能
とする。樹脂物質と金属との間のそのような結合は、金
属と樹脂の結合の剥離を防止する。ラクトン溶剤膨潤組
成物は基体からの樹脂物質のデスメアもする。ラクトン
溶剤膨潤組成物は、プリント配線板の製造に使用される
樹脂物質を処理するためにも使用される。テクスチャー
が付けられた樹脂物質の上に金属をメッキすることがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は溶剤膨潤組成物および樹脂物質に
テクスチャーをつけ、基体から樹脂物質をデスミア(d
esmear)し、除去する方法に関する。より詳細に
は、本発明はラクトン含有溶剤膨潤組成物および樹脂物
質にテクスチャーをつけ、基体から樹脂物質をデスミア
し、除去する方法に関する。
【0002】非導電性基体を連続した金属コーティング
あるいはパターン付けられたまたは不連続金属コーティ
ングまたはメッキでコーティングまたはメッキすること
は、さまざまな産業および用途において長年採用されて
きた。このような基体は、プラスチックシートの両面に
積層またはクラッディングされた薄い金属箔を有し、非
導電性プラスチックが2つの金属表面に挟まれた樹脂シ
ートから構成される複合基体であることが多い。金属ク
ラッドおよび樹脂を貫通して孔があけられることが多
く、穴をあけられた箇所の樹脂が露出する。複合基体
は、金属メッキされた後、電気または電子用途用プリン
ト回路板の製造に使用することができる。
【0003】樹脂含有物質において穴をあける操作の結
果、孔の内壁または円筒部分上の樹脂のスミアが生じる
ことが多い。この樹脂スミアは主に孔を形成するプロセ
ス中における樹脂成分の分解温度を超える温度の発生ま
たは使用が原因である。
【0004】エポキシ含浸ガラス繊維積層材、たとえば
プリント回路板を製造するために用いられるものに孔を
あける場合、物質に対するドリル先端の摩擦により先端
の温度が上昇する。しばしば、多くの樹脂系の分解温度
を超えるドリル先端温度が発生する。したがって物質に
穴があけられる過程でドリル先端は樹脂状成分を集め、
この樹脂の集まりが孔の円筒部分に付着する。有機絶縁
基体中の内部コンダクターと接触させるためのレーザー
ドリル操作においては、同様の樹脂の集まりまたはスミ
アが、露出したコンダクター表面上に発生する。
【0005】孔壁上の樹脂スミアの問題は、用途によっ
ては無視できるが、時々、たとえばプリント回路板の製
造においては除去しなければならない。プリント回路板
はさまざまな電子用途に使用され、重量および空間を節
約できる。プリント回路板は、1またはそれ以上の回路
層を含み、各回路層は1またはそれ以上の誘電体の層に
より互いに分離される。回路層は、ポリマー基体上の銅
層にパターンをつけることにより形成される。プリント
回路は、その後、当業界に一般的な技術、たとえば回路
トレース、すなわち、所望の回路パターンにおける別個
の回路線を明確にし、製造するために、プリントおよび
エッチングすることにより銅層上に形成される。回路パ
ターンが形成されたら、誘電層、典型的にはエポキシ、
エポキシ/ガラスまたはポリイミドなどの樹脂含有物質
により互いに分離された複数の回路層を含むスタックが
形成される。一旦スタックが形成されると、これは熱お
よび圧力に供されて積層された多層回路板が形成され
る。このような多層回路板を製造する際、複数の平行な
平面状金属コンダクターを含む樹脂含有物質において孔
が形成され、該孔は、2またはそれ以上の平行な金属コ
ンダクターと垂直で、これとつながっている。2または
それ以上の金属コンダクター間に導電性経路を形成する
ために孔の壁面を金属化することが望ましい。このよう
な場合、導電的接触が金属化された孔の壁面と金属コン
ダクター間で達成しなければならないならば、金属コン
ダクター中の孔壁面から樹脂スミアを除去しなければな
らない。したがって、銅クラッドベースポリマー基板を
貫通して、または内部コンダクター面を含むラミネー
ト、たとえば多層回路板を貫通して回路板孔があけられ
る場合、金属化された、またはメッキされたスルーホー
ル(through−hole)の適切な機能を達成す
るためには、孔の壁に露出した金属表面上のスミアを除
去しなければならない。
【0006】前記のようなメッキされたスルーホール
は、樹脂またはプラスチックラミネートの両面上に金属
コンダクターを有するプリント回路板、あるいは多層ボ
ードにおける2またはそれ以上のさまざまな平面および
表面コンダクター層間の電気的接続として有用である。
この機能に必要な電気的および機械的結合性は、孔と接
触している金属コンダクターの部分の全内周から樹脂物
質を確実に完全に除去することにより達成される。
【0007】樹脂スミアを除去するための多くの方法が
知られている。たとえば、気化により樹脂成分を除去す
るプラズマが広く用いられている。もう一つの方法は機
械的方法で、このような孔を通して研磨粒子の乾燥また
は湿潤流れを流すことを含む。同様の方法は、研磨剤の
濃厚なスラリーを孔を通すために液圧を使用する。しか
しながら、これらの機械的方法は時間がかかり、制御が
困難で、所定の回路板におけるすべての孔中のスミアを
完全に除去することは困難である。
【0008】化学的方法は、プリント回路板製造中に形
成された孔のスミア除去のために使用される。最も一般
的な方法は、過マンガン酸カリウムまたはナトリウムな
どの過マンガン酸塩溶液での処理である。一般に、この
ような過マンガン酸塩溶液はアルカリ性である。
【0009】過マンガン酸塩処理は、たとえばプリント
配線板製造において使用される誘電体などの樹脂物質の
表面にテクスチャーをつけたり、ミクロ粗化するために
も使用することができる。理論に限定されることを意図
しないが、このようなテクスチャーがつけられた表面
は、金属、特に銅の樹脂物質への付着性を向上させると
考えられる。樹脂物質は金属に対して比較的低い親和性
を示し、樹脂物質と金属コーティング間により強力な結
合を得るためには、当該分野ではしばしば樹脂表面をミ
クロ粗化したりまたはテクスチャーをつけたりして、表
面と金属コーティング間にロッキング(lockin
g)またはキーイング(keying)させる。したが
って、樹脂物質を過マンガン酸塩処理でテクスチャーづ
けすることは、樹脂物質上に金属コーティングをするの
に重要である。
【0010】過マンガン酸塩処理は、連続して使用され
る3つの異なる処理溶液を要する。これらは(1)溶剤
膨潤溶液、(2)過マンガン酸塩デスミア溶液、および
(3)中和溶液である。これらの3つの処理溶液のそれ
ぞれの間に水すすぎ浴を使用しつつ、プリント配線板を
各溶液に浸漬するかまたは他の方法で接触させる。
【0011】溶剤膨潤溶液または組成物は、典型的には
樹脂物質を過マンガン酸塩処理によりさらに除去しやす
くする有機溶剤または溶剤の混合物を含む。そのような
溶剤膨潤組成物は一般にアルカリ性である。たとえば、
欧州特許出願番号EP454929(Retallic
kら)は、まず基体を水、ブチルカルビトール、エチレ
ングリコールおよび水酸化ナトリウムの組成物、すなわ
ち溶剤膨潤組成物と接触させ、続いて水性アルカリ性過
マンガン酸塩溶液と接触させることにより、金属のポリ
イミド基体への付着性を向上させる方法を開示する。
【0012】米国特許第5985040号(Caran
oら)は、約10体積%から約30体積%のガンマブチ
ロラクトンおよび約70体積%から約90体積%のN−
メチル−2−ピロリドンの溶剤膨潤組成物を使用したプ
リント配線板の製造における過マンガン酸塩テクスチャ
ー付け段階を開示している。
【0013】米国特許第5015339号(Pendl
eton)は、プリント配線板の製造における過マンガ
ン酸塩テクスチャー付け段階を開示している。該特許に
おいて、アルカリ金属水酸化物およびグリコールエーテ
ルまたは他の溶剤、たとえばN−メチルピロリドン
(「NMP」)を使用した溶剤膨潤段階が開示されてい
る。
【0014】米国特許第4086128号(Sugio
ら)は、過酸化水素および硫酸エッチング段階の前に樹
脂物質を膨潤させるためのさまざまな溶剤を開示してい
る。酸と溶剤の組合せは開示されていない。
【0015】特にプリント配線板の製造量を増大させる
ために、プロセス工程数、各プロセス段階の時間または
両者を減少させることが求められてきた。各プロセス工
程の時間を減少させることは、プリント配線板製造の水
平法にとっては垂直法と対照的に特に重要である。水平
法は高価な装置を使用するので、垂直法よりも費用がか
かる。樹脂物質上の溶剤膨潤および過マンガン酸塩滞留
時間は垂直法におけるよりも水平法においての方が短
い。溶剤膨潤および過マンガン酸塩は短期間内で有効に
樹脂をデスミアし、テクスチャー付けしなければならな
い。さらに、プリント配線板の製造において非常に望ま
しい多くの樹脂物質は高いTg値、たとえば約150℃
〜約180℃またはそれ以上を有し、多くの溶剤膨潤お
よびテクスチャー付組成物に対して化学的に耐性であ
る。このような高Tg樹脂は、シーケンシャルビルドア
ップ(「SBU」)用途における使用に特に適してい
る。
【0016】前記のように、テクスチャー付により樹脂
物質と金属コーティング間の付着性が向上される。樹脂
と金属コーティング間の付着性が不十分であると、温度
による寸法変化が異なり、その結果、金属化された製品
のそり、ふくれおよび割れが生じる可能性がある。した
がって、製品がかなりの温度の変動を受けるすべての用
途には樹脂基体と金属層間の強力な付着性が必須であ
る。さらに重要なことには、樹脂と金属層間の協力な付
着性は、生成物の使用中に層間剥離が起こらないように
する。したがって、製品の寿命がのびる。
【0017】したがって、樹脂物質と金属層間の接着性
を向上させるために、樹脂物質のテクスチャーを実質的
に増大させるのに有効な溶剤膨潤技術が必要とされてい
る。
【0018】本発明は、ラクトンを含む溶剤膨潤組成物
に関し、さらにエッチング剤によるテクスチャー付また
はミクロ粗面化のために、溶剤膨潤により樹脂基体が状
態調節されるように樹脂基体を処理するために組成物を
使用する方法に関する。ラクトン含有溶剤膨潤組成物
は、状態調節された樹脂基体をエッチング剤と接触させ
た際に、樹脂基体の多孔性テクスチャーが得られるよう
に樹脂基体を状態調節するのに十分な量においてラクト
ンを含むのが有利である。多孔性樹脂基体は、堆積され
た金属が樹脂表面上のアンカー(anchor)とな
り、樹脂と高い一体性結合を形成する機械的手段を提供
する。このような高い一体性結合は、金属化された基体
のそり、ふくれおよび割れを防止する。さらに、金属樹
脂結合は容易に層間剥離しない。
【0019】加えて、本発明のラクトン含有溶剤膨潤組
成物および方法は、基体から樹脂をデスミアし、除去す
る有効な方法を提供する。ラクトンは、溶剤膨潤組成物
において単独で用いることができるか、あるいはアミド
または他の有機溶剤と混合することができる。本発明
は、プリント配線板の製造において使用される樹脂物質
についての使用に特に有効である。
【0020】有利には、溶剤膨潤組成物および方法は、
プリント回路板を製造する水平および垂直法のいずれに
おいても有効に用いることができる。該溶剤膨潤組成物
は短い滞留時間中使用することができ、したがって水平
回路板製造法に非常に適した溶剤膨潤組成物および方法
を提供する。さらに、溶剤膨潤組成物および方法は、高
および低Tg樹脂のどちらをテクスチャー付けおよびデ
スミアするためにも有効に使用することができる。
【0021】本発明の第一の目的は、実質的にエッチン
グ剤でテクスチャー付けされるように樹脂物質を状態調
節する1またはそれ以上のラクトンを含有する組成物を
提供することである。
【0022】本発明のもう一つの目的は、基体から樹脂
物質を除去する1またはそれ以上のラクトンを含有する
組成物を提供することである。
【0023】本発明のさらにもう一つの目的は、まず樹
脂物質を1またはそれ以上のラクトンを含有する組成物
と接触させ;次に該樹脂物質をエッチング組成物と接触
させる段階を含む、基体の樹脂物質に実質的にテクスチ
ャーを付ける方法を提供することである。
【0024】本発明のさらにもう一つの目的は、1また
はそれ以上のラクトンを含む組成物と樹脂基体をまず接
触させ;次に樹脂基体をエッチング組成物を接触させる
段階を含む、樹脂基体において形成された孔の内壁から
樹脂をデスミアする方法を提供することである。
【0025】本発明のさらなる利点および目的は、以下
の詳細な説明および請求の範囲を読むと当業者には明ら
かになるであろう。
【0026】(図面の簡単な説明)図1A−Bは、標準
的デスミア(de−smear)化学反応でテクスチャ
ー付けされたIsola樹脂物質(1A)およびPol
yclad(登録商標)樹脂物質(1B)の2000倍
でとった電子顕微鏡写真である;図2A−Bは、40%
bvイプシロン−カプロラクトン/30%bvN−メチ
ル−2−ピロリドンおよび残分の水の溶液でテクスチャ
ー付けされたIsola樹脂物質(2A)およびPol
yclad樹脂物質(2B)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である;図3A−Bは、40%bvガンマ−
ブチロラクトン/30%bvN−メチル−2−ピロリド
ン溶液および残分の水の溶液でテクスチャー付けされた
Isola樹脂物質(3A)およびPolyclad樹
脂物質(3B)の2000倍でとった電子顕微鏡写真で
ある;図4A−Jは、10%〜50%bv水性イプシロ
ン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたIs
ola樹脂物質(4A、C、E、GおよびI)および1
0%〜50%bv水性イプシロン−カプロラクトン溶液
でテクスチャー付けされたPolyclad樹脂物質
(4B、D、F、HおよびJ)の2000倍でとった電
子顕微鏡写真である。図5A−Jは、10%〜50%b
v水性ガンマ−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付け
されたIsola樹脂物質(5A、C、E、Gおよび
I)および10%〜50%bv水性ガンマ−ブチロラク
トン溶液でテクスチャー付けされたPolyclad樹
脂物質(5B、D、F、HおよびJ)の2000倍でと
った電子顕微鏡写真である。図6A−Dは、10%〜1
5%bv水性ガンマ−カプロラクトン溶液でテクスチャ
ー付けされたIsola樹脂物質(6AおよびC)およ
び10%〜15%bv水性ガンマ−カプロラクトン溶液
でテクスチャー付けされたPolyclad樹脂物質
(6BおよびD)の2000倍でとった電子顕微鏡写真
である。図7は、樹脂物質の重量変化/mg/cm
溶剤成分の濃度(体積%)をプロットした、溶剤膨潤組
成物で処理された樹脂物質の重量損失(実測値および予
想値)を示すグラフである。図8は、樹脂物質の重量変
化/mg/cm対溶剤成分の濃度(体積%)をプロッ
トした、溶剤膨潤組成物で処理された樹脂物質の重量損
失(実測値および予想値)を示すもう一つのグラフであ
る。
【0027】本明細書において使用される略語は特記し
ない限り以下の意味を有する:g=グラム;mg=ミリ
グラム;cm=センチメートル;DI=脱イオン水;℃
=摂氏度;M=モル濃度;g/l=グラム/リットル;
bv=体積基準;wt%=重量百分率;およびTg=ガ
ラス転移温度。
【0028】「プリント回路板」および「プリント配線
板」なる用語は本明細書全体にわたって交換可能に用い
られる。「アルキル」または「アルカン」なる用語は、
直鎖、分枝または環状アルキルまたはアルカンを意味す
る。同様に、「アルケニル」または「アルケン」なる用
語は、直鎖、分枝または環状アルケニルまたはアルケン
を意味する。すべての量は特記しない限り体積パーセン
トである。すべての数の範囲は両端を含み、組合せ可能
である。
【0029】本発明の溶剤膨潤組成物は1またはそれ以
上のラクトンを含む。溶剤膨潤組成物は、状態調節また
は処理された樹脂物質がエッチングされた場合に、該樹
脂物質が実質的にテクスチャーづけられたり、あるいは
ミクロ粗面化されるように樹脂物質を状態調節するかま
たは処理するために用いられる。使用できるラクトンと
しては、状態調節された樹脂物質のエッチングにより、
多孔性テクスチャーがその上に形成されるように樹脂物
質を状態調節するのに十分な量の任意の適当なラクトン
が挙げられる。本発明の範囲内で定義される多孔性と
は、液体または気体で満たされた微細な開放された空間
が貫入している固体の状態を意味する。多孔度(P)
は、全体積中の開放された空間の百分率として表すこと
ができる。本発明のラクトン溶剤膨潤法により、少なく
とも約40%の多孔度が得られる。好ましくは本発明の
方法は約60%から約90%の多孔度を提供する。さら
に、本発明の方法は基体から樹脂物質をデスミアまたは
除去するのに十分な量においてラクトンを使用すること
ができる。
【0030】樹脂物質上に多孔質テクスチャーを提供お
よび/または基体から樹脂物質をデスミアすることがで
きる適当なラクトンとしては、これに限定されないが、
カプロラクトン、バレロラクトン、ブチロラクトンまた
はその誘導体が挙げられる。このようなラクトンの例と
しては、これに限定されないが、イプシロン−カプロラ
クトン、ガンマ−カプロラクトン、ガンマ−バレロラク
トンおよびその誘導体が挙げられる。好ましいラクトン
は、イプシロン−カプロラクトン、およびガンマ−カプ
ロラクトン、およびその誘導体からなる。
【0031】溶剤膨潤組成物はまた、1またはそれ以上
のラクトンに加えてアミドも含むことができる。適当な
アミドとしては、樹脂物質を膨潤させ、樹脂物質をテク
スチャー付けのために状態調節するのに有効なアミドが
挙げられる。このようなアミドとしては、これに限定さ
れないが、N−メチル−2−ピロリドン、2−ピロリド
ン、N−エチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル
−2−ピロリドン、N−ドデシル−2−ピロリドン、N
−(2−ヒドロキシエチル)−2−ピロリドン、または
ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。好ましいアミ
ドは、N−メチル−2−ピロリドンおよびN−(2−ヒ
ドロキシエチル)−2−ピロリドンからなる。
【0032】含めることができる任意の有効溶剤は、樹
脂物質を膨潤させるのに有効な任意の有機溶剤であり、
これに限定されないが、たとえばグリコール、グリコー
ルエーテル、グリコールエーテルアセテート、ケトン、
エステル、アルデヒド、アルコール、複素環式アミンな
どが挙げられる。適当な有機溶剤としては、これに限定
されないが、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、(C−C)グリコールエーテル、たとえば、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエ
ーテルおよびジプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、(C−C)グリコールエーテルアセテート、た
とえば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテ
ル、(C−C12)アルキルアセテート、たとえばエ
チルアセテート、アミルアセテート、ブチルアセテー
ト、プロピルアセテート、エチルラクテート;エチルブ
チレート、アセトン、ヘキサノン、ペンタノン、グリオ
キサール、テトラヒドロフランなどが挙げられる。さら
に、アルキレンカーボネート、たとえばエチレンカーボ
ネート、プロピレンカーボネーなども使用することがで
きる。このような溶剤は一般に商業的に入手可能であ
り、さらに精製せずに使用することができる。好ましい
溶剤としては、アルキレンカーボネート、特にエチレン
カーボネートおよびプロピレンカーボネートが挙げられ
る。かかる溶剤は高引火点溶剤であり、回路板製造中に
前記の任意の溶剤のいくつかのような引火性の危険性が
ない。さらに、アミドN−(2−ヒドロキシエチル)−
2−ピロリドンは高引火点を有し、1またはそれ以上の
ラクトンと混合することができる好ましいアミドであ
る。
【0033】樹脂物質のエッチングにより樹脂上に多孔
性テクスチャーが形成される、および/または樹脂基体
がデスミアされるようにラクトンが樹脂物質を状態調節
するならば、本発明を実施するために任意の量の前記ラ
クトンを使用することができる。一般に、溶剤膨潤組成
物中のラクトンの量は、組成物の全体積に基づいて約
0.25%から約100%bvであり、好ましくは約2
0%から約80%bvであり、より好ましくは約30%
から約60%bvである。好ましいラクトン溶剤膨潤組
成物は、少なくとも約20%bv、好ましくは少なくと
も約30%bv、最も好ましくは少なくとも約40%b
vのイプシロン−カプロラクトンと残りの水を含む。も
う一つの好ましいラクトン溶剤膨潤組成物は、約1.0
%bvから約20%bv、好ましくは約10%bvから
約15%bvのガンマ−カプロラクトンと残りの水を含
む。
【0034】溶剤膨潤組成物においてアミドを1または
それ以上のラクトンと組み合わせる場合、アミドは一般
的に組成物の全体積に基づいて約1%から約99%bv
である。好ましくは、アミドは一般的に組成物の約40
%から約80%bvである。ラクトンの量は一般的に約
0.25%bvから約99%bvの範囲であり、好まし
くは約5%bvから約30%bvの範囲である。残りは
水、任意の有機溶剤、またはその組合せであることがで
きる。ラクトンおよびアミドを含む組成物の例は、イプ
シロン−カプロラクトンおよびN−メチル−2−ピロリ
ドンである。各成分は樹脂物質の何らかの多孔性テクス
チャーが得られるのに十分な量において用いられる。イ
プシロン−カプロラクトンは少なくとも約10%bvか
らの範囲である。N−メチル−ピロリドンは少なくとも
約10%bvからの範囲である。好ましくは、イプシロ
ン−カプロラクトンおよびN−メチル−2−ピロリドン
はそれぞれ配合物の少なくとも約20%bvを構成す
る。好ましい範囲はイプシロンカプロラクトンは約20
%bvから約70%bvであり、イプシロンN−メチル
−2−ピロリドンは約20%bvから約70%bvであ
る。最も好ましくは、イプシロンカプロラクトンが約3
0%bvから約50%bvの範囲であり、N−メチル−
2−ピロリドンが約30%bvから約50%bvの範囲
である。イプシロンカプロラクトン配合物の例は、約3
0%bvのイプシロンカプロラクトン/約50%bvの
N−メチル−2−ピロリドンと残りの水を含み;約30
%bvのイプシロン−カプロラクトン/約40%bvの
N−メチル−2−ピロリドンおよび残りの水を含む。
【0035】好ましいガンマ−カプロラクトン配合物
は、約0.5%bvから約20%bvのガンマ−カプロ
ラクトンおよび約80%bvから約99.5%bvのN
−メチル−2−ピロリドンを含む。最も好ましいガンマ
−カプロラクトン配合物は、約5%bvのガンマ−カプ
ロラクトン/約75%bvのN−メチル−2−ピロリド
ンと残りの水を含む。
【0036】もう一つの適当な組合せは、ガンマ−ブチ
ロラクトンとN−メチル−2−ピロリドンである。好ま
しくは、ガンマ−ブチロラクトンは少なくとも約30%
bv、好ましくは約40%bvから約70%bvの濃度
である。N−メチル−2−ピロリドンは約20%bv〜
約50%bvの濃度である。残りは水、または任意の有
機溶剤、またはその混合物であってよい。
【0037】前記の任意の有機溶剤は、使用する場合、
約0.5%〜約30%bv、好ましくは約5%から約1
5%bvの量において用いることができる。かかる溶剤
は、基体から樹脂物質をデスミアまたは除去するのを助
けるために用いられる。
【0038】本発明のラクトン溶剤膨潤組成物は所望に
より1またはそれ以上の湿潤剤を含むことができる。適
当な湿潤剤としては、これに限定されないが、アニオン
性、カチオン性および非イオン性界面活性剤が挙げら
れ、好ましくはカチオン性および非イオン性界面活性剤
である。このような湿潤剤を使用する場合、これらは約
0.1重量%から約10重量%の量において存在する。
界面活性剤の具体的な量は、最少の実験で当業者により
容易に決定できる。
【0039】本発明のラクトン溶剤膨潤組成物の成分
は、任意の適当な方法によるかまたは当業界で一般的な
混合装置により混合することができる。1またはそれ以
上のラクトンを1またはそれ以上のアミドあるいは前記
の任意の有機化合物または水と混合することができる。
所望の組合せが混和性でない場合は、溶剤膨潤の成分を
分散させるのに十分な量において界面活性剤を添加する
ことができる。
【0040】本発明の組成物は、その後のエポキシ樹
脂、他の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂およびその混合物
などの樹脂除去段階の前にさまざまな樹脂物質を膨潤さ
せるために使用することができる。樹脂はまた、強化
材、たとえば有機および無機繊維または不織布を含むこ
とができる。本発明の組成物は公知樹脂を膨潤させるた
めに使用することができる。好ましくは、本発明の組成
物は高Tg樹脂を膨潤させるために使用することができ
る。「高Tg樹脂」とは、樹脂のガラス転移温度が約1
50℃またはそれ以上であることを意味する。このよう
な高Tg樹脂はシーケンシャルビルドアップ(「SB
U」)用途において特に適している。
【0041】選択された具体的な用途および加工条件に
応じて、広範囲におよぶ樹脂を本発明にしたがって膨潤
させることができる。本発明はFR−4ボードなどのプ
リント配線板製造において使用される樹脂物質を膨潤さ
せるのに特に適している。適当な樹脂としては、これに
限定されないが、エポキシ樹脂、たとえば二官能性およ
び多官能性エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート
エステル樹脂、ビスマレイミドトリアジン(「BT」)
樹脂、樹脂コートされた銅(「RCC」)タイプの物
質、エポキシ/ポリフェニレンオキシド樹脂など、なら
びにその複合体が挙げられる。本発明の組成物は他の樹
脂、たとえば、これに限定されないが、アクリロニトリ
ルブタジエンスチレン、ポリカーボネート(「P
C」)、ポリフェニレンオキシド(「PPO」)、ポリ
フェニレンエーテル([PPE」)、ポリフェニレンス
ルフィド(「PPS」)、ポリスルホン(「PS」)、
ポリアミド、ポリエステル、たとえばポリエチレンテレ
フタレート(「PET」)およびポリブチレンテレフタ
レート(「PBT」)、ポリエーテルエーテルケトン
([PEEK」)、液晶ポリマー、ポリウレタン、ポリ
エーテルイミド、およびその複合体を膨潤させるのにも
有用であることは当業者には理解されるであろう。
【0042】典型的には、樹脂物質はプリント配線板ま
たはプリント配線板の内層などの基体上に配置される。
一般に、樹脂物質を本発明の組成物と接触させる。この
ような接触は、任意の手段、たとえば樹脂物質または樹
脂物質を含む基体を本発明の組成物を含む容器中に浸漬
するか、または本発明の組成物を樹脂物質上にスプレー
するか、または浸漬とスプレーの組合せによる。本発明
は垂直または水平系のいずれかにおいて有利に使用する
ことができる。
【0043】樹脂物質を本発明の組成物と約30分まで
の時間接触させることができる。実際の時間は、使用し
た具体的な樹脂、ラクトン、組成物中の任意の追加的成
分、たとえばアミドまたは任意の有機溶剤、組成物の温
度、テクスチャー付けされるかまたは除去される樹脂物
質の量などによって変わる。好ましくは時間は約30秒
から約15分であり、より好ましくは約1分から約10
分である。本発明の溶剤膨潤組成物はさまざまな温度で
用いることができる。実際の温度は、溶剤膨潤において
使用される具体的な成分およびかかる成分の濃度に応じ
て変わる。典型的には、本発明の組成物は約20℃〜約
95℃、好ましくは約25℃〜約85℃で使用すること
ができる。
【0044】樹脂物質を膨潤させ、テクスチャー付けの
ために樹脂物質を状態調節するのに十分な時間、樹脂物
質を本発明のラクトン溶剤膨潤組成物と接触させたら、
樹脂物質を組成物との接触からはずす。樹脂物質をその
後所望により水でリンスすることができ、好ましくはリ
ンスする。
【0045】状態調節された樹脂物質にその後エッチン
グによりテクスチャーを付ける。任意の公知エッチング
組成物を使用することができる。好ましくは、状態調節
された樹脂物質を過マンガン酸塩組成物でエッチングす
ることにより、テクスチャーを付ける。このような過マ
ンガン酸塩エッチング組成物は当業者にはよく知られて
いる。一般にこのような過マンガン酸塩組成物は、1ま
たはそれ以上の過マンガン酸塩イオン供給源、1または
それ以上の水酸化物イオン供給源および水を含む。適当
な過マンガン酸塩イオン供給源としては、これに限定さ
れないが、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリ
ウムなどが挙げられる。過マンガン酸塩の濃度は一般に
約20g/l〜約150g/lの範囲である。
【0046】任意のアルカリ金属水酸化物またはアルカ
リ土類金属水酸化物を過マンガン酸塩エッチング組成物
において水酸化物イオン供給源として使用することがで
きる。水酸化物イオン供給源はアルカリ金属水酸化物で
あるのが好ましい。適当なアルカリ金属水酸化物として
は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化ルビジウム、および水酸化セシウムが挙げら
れる。水酸化物イオン供給源が水酸化ナトリウムまたは
水酸化カリウムであるのが好ましい。水酸化物イオン供
給源の混合物も使用することができる。典型的には、水
酸化物イオン供給源は本発明の組成物において、過マン
ガン酸塩エッチング組成物のpHが約12−14になる
ような量において使用することができる。
【0047】他の樹脂物質を過マンガン酸塩エッチング
組成物と接触させると、次にこれを典型的には水でリン
スし、その後、希酸/過酸化水素などで中和する。
【0048】本発明の組成物はまた、樹脂基体からの樹
脂、たとえば樹脂スミアの除去において有用である。特
に、本発明は金属化、樹脂状基体における孔の内壁から
の樹脂のデスミア、多層回路板の孔洗浄プロセス、およ
び回路板のエッチバック(etchback)プロセス
のための樹脂基体を調製するのに有用である。該基体は
プリント配線板であるのが好ましい。プリント配線板
が、エポキシ樹脂、ガラス/エポキシ樹脂、ポリイミド
樹脂、シアネートエステル樹脂、ビスマレイミドトリア
ジン(「BT」)樹脂、樹脂コートされた銅(「RC
C」)タイプの物質およびその複合体を含むのがさらに
好ましい。
【0049】テクスチャー付けおよび/または除去され
る樹脂、たとえば樹脂スミアを含む基体は、本発明の組
成物および方法を用いた任意の公知手段により加工する
ことができる。たとえば、プリント配線板(「PW
B」)の製造において、以下の段階が典型的に用いられ
る。 1.PWBを本発明の溶剤膨潤組成物とエッチングの前
に接触させる。このような溶剤膨潤組成物は、テクスチ
ャーを付けるための樹脂を状態調節し、油分または汚れ
を除去し、樹脂および金属両方の基体表面が均一に濡れ
るのを助け、樹脂を透過し、樹脂を若干軟化させ、これ
により樹脂を過マンガン酸塩が浸蝕するのを助ける。別
の態様において、本発明の溶剤膨潤組成物を当業界で一
般的な任意の手段により音波処理することができる。 2.清浄化されたPWBをその後所望によりリンスし
て、洗浄液を除去する。 3.リンスしたPWBを過マンガン酸塩エッチング組成
物と、所望の樹脂テクスチャー付けおよび/または除去
が起こるのに十分な時間接触させる。使用される実際の
条件は、所望のエッチングの種類により変わり、たとえ
ばテクスチャー付けおよびデスミアは短時間しか必要な
いが、エッチバックは長い時間を要する。テクスチャー
付けおよび/またはデスミアの適当な時間は、約30秒
から約30分であり、好ましくは約90秒から約10分
である。別の態様において、過マンガン酸塩エッチング
組成物を当業界において公知の任意の手段により音波処
理することができる。 4.過マンガン酸塩エッチング後、PWBを完全にリン
スする。 5.リンスしたPWBを次に酸中和溶液、たとえば希硫
酸および過酸化水素と接触させて、実質的にすべての過
マンガン酸塩およびマンガン残留物をボードから除去す
る。 6.酸中和後に、PWBを再びリンスする。PWBはそ
の後の金属化の準備ができる。
【0050】PWBの金属化は、当該分野において任意
の適当な方法により行うことができる。適当な方法とし
ては、これに限定されないが、PWBの無電解メッキま
たはダイレクトプレーティングが挙げられる。PWBは
樹脂成分ならびに金属クラッディング成分のどちらも含
むことが多い。金属クラッディングは、銅、ニッケルま
たは回路構成として使用される任意の他の適当な金属で
あってもよい。有利には、PWBの樹脂物質の多孔質テ
クスチャーがつけられた表面は、堆積される金属がその
上に固定されるためのアンカー構造を提供する。このよ
うな樹脂物質上に堆積された金属を保持するための機械
的手段は、PBWの金属と樹脂物質間の付着性を向上さ
せる。したがって、電気メッキの、特にスルーホール壁
面における樹脂からの剥離は、PWBが採用された電子
装置の寿命期間中はないかまたは著しく少ない。スルー
ホール壁面における樹脂からの電気メッキの剥離は内部
接続の欠陥につながる。また、金属化された製品のそ
り、ふくれおよび割れが軽減または防止される。
【0051】電気メッキが行われる場合、多孔性テクス
チャーがつけられたPWBの樹脂物質は、アクチベータ
ーを使用することにより導電性にされる。このようなア
クチベーターは貴金属または非貴金属のコロイド触媒で
あってもよい。多くの市販のアクチベーターは1または
それ以上の貴金属(Au、Ag、Pt、Pd、Ir、R
h、Ru、およびOs)を含む。特に好ましい貴金属
は、Pd、Pt、Ag、およびAuである。最も好まし
いのはパラジウムである。パラジウムはスズ−パラジウ
ムコロイド、たとえば商業的に入手可能なCircup
osit3344(Shipley Company,
Marlborough,MA,USAから入手可能)
として使用されることが多い。適当な非貴金属として
は、これに限定されないが、CuおよびNiが挙げられ
る。好ましい非貴金属は銅である。銅は酸化銅としてコ
ロイド触媒において用いられることが多い。
【0052】有利には、貴金属および非貴金属コロイド
触媒がテクスチャー付けされた樹脂物質に施用される場
合、コロイド粒子は表面の孔内に捕捉され、テクスチャ
ー付けされた樹脂状表面の上部に堆積する。多孔性テク
スチャーがつけられた樹脂物質中に分散されたコロイド
触媒粒子は、金属を樹脂の孔中および表面上に堆積させ
るシード(seed)として作用する。このような金属
層は樹脂表面にわたって連続し、テクスチャー付けされ
た樹脂表面の孔中にしっかりと固定されて、金属層の樹
脂表面に対する高い一体性結合を形成する。
【0053】本発明のラクトン溶剤膨潤組成物および方
法を当該分野において使用される任意の無電解メッキ法
の樹脂基体を調製するために使用することができる。無
電解メッキの一方法の例は、以下の一連の段階にしたが
ったプロセスである: 1.金属クラッド、本発明のラクトン溶剤膨潤エッチン
グおよび中和法に従ってテクスチャー付けされたエポキ
シ樹脂PWBを接触させる。 2.PWBを水で約4分間リンスする。 3.PWBをセンシタイザーで処理して、触媒ピックア
ップ(pick−up)を最適化する。 4.PWBを水で約4分間リンスする。 5.ミクロエッチ(microetch)において金属
クラッドラミネートを約2分間エッチングする。 6.PWBを水で約4分間リンスする。 7.PWBをプレディップ溶液で約1分間処理する。 8.PWBをスズ/パラジウム触媒で約4分間処理す
る。 9.PWBを水で約4分間リンスする。 10.PWBの金属クラッディングおよびテクスチャー
付けされた樹脂物質上に金属を無電解堆積させる。 11.無電解堆積された金属でコートされたPWB上に
金属をダイレクトプレーティングする。
【0054】適当なアクチベータまたはコロイド触媒は
すでに記載した。アクセレレーターは任意であり、無電
解メッキにおいて金属の供給源を提供する浴から金属メ
ッキにおけるアクチベーターの触媒活性を増大または最
適化するために使用される。当該分野において使用され
る任意のアクセレレーターを使用することができる。好
ましいアクセレレーターの例は、フルオロボレートベー
スのアクセレレーターである。無電解メッキにおいて金
属の供給源を提供する適当な浴は、無電解メッキ分野で
使用される任意の浴である。このような浴中の成分の種
類および量は広範囲におよぶ。たとえば、無電解銅堆積
のための水性浴は、約5.0重量%から約25重量%の
硫酸銅、約20g/lから約40g/lの錯生成剤、た
とえばEDTA、約0.5g/lから約8g/lの還元
剤、たとえばホルムアルデヒドおよび約3g/lから約
15g/lの水酸化ナトリウムを含む。
【0055】本発明をプリント配線板プロセスに関して
記載してきたが、本発明は樹脂の膨潤が望ましいさまざ
まな樹脂基体にも応用できることは当業者には理解でき
るであろう。
【0056】前記のように、本発明の利点は、金属層が
樹脂物質上に堆積して、金属と樹脂間に高い一体性の機
械的結合を形成されるように樹脂物質がテクスチャー付
けされることである。樹脂と金属間の付着性は、樹脂か
ら金属が容易に分離しないようなものである。したがっ
て、本発明は多孔性テクスチャーの樹脂が望ましい用途
に特に適している。
【0057】意外なことに、樹脂除去速度は、本発明の
組成物中のラクトンの濃度を調節することにより制御で
きることが見いだされた。ラクトン濃度が増大すると、
一定時間中に基体から除去される樹脂の量が増大する。
したがって、本発明は、1またはそれ以上のラクトンの
組成物中の濃度を調節する段階を含む、1またはそれ以
上のラクトンを含む組成物を用いた樹脂の除去速度を制
御する方法を提供する。ラクトン濃度は、ラクトン量の
増減、アミド、有機溶剤または水を組成物に添加するこ
とによるなど、さまざまな手段により調節することがで
きる。
【0058】以下の実施例は本発明のさまざまな態様を
説明することを意図するものであって、いずれの態様に
おいても本発明の範囲を制限することを意図するもので
はない。
【0059】実施例 以下の比較試験により、本発明のラクトン溶剤膨潤組成
物は、樹脂と堆積した金属間に高い一体性結合が形成さ
れるようにエッチング剤でのテクスチャー付けのため
に、樹脂物質を状態調節することが示された。さらに、
該試験により、本発明のラクトン溶剤膨潤は樹脂重量を
減少させ、PWB調製中のデスミアリング処理に適して
いることが示された。
【0060】本発明のラクトン溶剤膨潤組成物を、その
樹脂物質を膨潤させ、テクスチャー付けのために状態調
節し、除去する能力に関して試験するために、2種の樹
脂物質を使用した。使用した一方の樹脂物質は、Dur
aver(登録商標)−E−Cu品質117エポキシ系
物質(Isola Laminate Systems
Corp.,La Crosse,WI,USAから
入手可能)であり、第二のものはPolyclad37
0エポキシ系物質(Polyclad Laminat
es、Inc.,Franklin,NII,USAか
ら入手可能)であった。Duraver−E−Cu品質
117エポキシ系物質(Isola)は約150℃〜約
200℃のTgを有していた。Isola樹脂物質のデ
ータを以下の表に記載する。ベース物質を約7.5cm
×7.5cmのクーポンに切り出し、厚さは約1.6m
mであった。各クーポンは10から15個のスルーホー
ルを有していた。スルーホールの直径は約1.0mmで
あった。2組のIsolaクーポンを試験し、1組のP
olycladクーポンを試験した。Polyclad
クーポンおよび1組のIsolaクーポンは銅クラッド
であった。銅クラッドでないベアラミネートIsola
クーポンを樹脂の損失およびデスミアリングに関して試
験した。ベアラミネートIsolaクーポンの重量損失
データを表に示す。
【0061】各クーポンを約105℃(約220°F)
の公知コンベクションオーブン中で約1時間一定重量に
達するまで乾燥した。各クーポンを標準的分析用天秤で
秤量した。各クーポンを溶剤膨潤組成物で約15分間約
85℃(185°F)で処理した。それぞれの処理した
クーポンをその後水で約4分間リンスし、続いて約15
分間約85℃でエッチングして、クーポンにテクスチャ
ーをつけた。使用したエッチング剤は、Circupo
sit4310アルカリ性過マンガン酸塩エッチング浴
(Shipley Company,Marlboro
ugh,MAから入手可能)であった。エッチングが完
了した後、各クーポンを水で約4分間リンスし、続い
て、すべての過マンガン酸塩残留物を該クーポンから除
去するために該クーポンを中和剤で処理した。使用した
中和剤は、希硫酸と過酸化水素の水溶液であった。次に
すべてのクーポンを乾燥させるために約105℃の公知
コンベクションオーブン中に約48時間にわたって入れ
た。乾燥後、ベアラミネートクーポンを標準的分析用天
秤を用いて秤量して、該クーポンからの重量損失および
樹脂の損失を測定した。状態調節およびエッチングの前
後のそれぞれのベアラミネートクーポンの重量を以下の
表に記載する。重量変化も記載する。各Isolaのベ
アラミネートクーポンの表面積も測定し、重量変化/表
面積を計算した。各クーポンの重量/重量表面積におけ
る変化により、デスミア処理による樹脂の損失のさらに
正確な比較ができた。
【0062】使用した溶剤膨潤組成物は、イプシロン−
カプロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン(NM
P)と混合したイプシロン−カプロラクトン、ガンマ−
カプロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン(NM
P)と混合したガンマ−カプロラクトン、ガンマ−バレ
ロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)と
混合したガンマ−バレロラクトン、ガンマ−ブチロラク
トン(対照)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)
と混合したガンマ−ブチロラクトン、およびN−メチル
−2−ピロリドン(NMP)(対照)であった。使用し
たラクトンの量は、約1%bvから約50%bvの範囲
であった。組成物の残りは、各溶剤膨潤組成物を約10
0%bvとする水であった。クーポンを処理するために
溶剤膨潤において使用される具体的な成分および各成分
の量を以下の表の記載する。
【0063】1またはそれ以上のスルーホールの表面が
テクスチャー付けに関して試験されるように各クーポン
を横に切断しておいた。標準的走査電子顕微鏡を用いて
調査を行った。すべてのクーポンをテクスチャーについ
て試験し、テクスチャーの質を記録した。不十分なテク
スチャーはPとし、中程度のテクスチャーはM、良好な
テクスチャーはGとした(以下の表参照)。不十分にテ
クスチャー付けされた樹脂物質は電子顕微鏡で見ると平
滑および/または屋根板様または泥板岩様外観を呈して
いた。本発明の範囲内の屋根板様または泥岩板様外観と
は、ギザギザしているかまたは一様でない重複層を意味
する。中程度のテクスチャーは、樹脂物質においてある
程度の多孔性を示し、屋根板様または平滑な表面が観察
されなかった。良好なテクスチャーは、著しい多孔性を
示した。このような孔は、溶剤膨潤処理された樹脂物質
の約50%に広がっていた。電子顕微鏡に取り付けたカ
メラで顕微鏡写真を撮った。各顕微鏡写真は約2000
倍でとった。顕微鏡写真を図1A−B〜6A−Dに示
す。
【0064】1つの銅クラッドIsolaおよび1つの
銅クラッドPolycladクーポンをCircupo
sit3302(対照)およびHole Prep41
25(対照)(いずれもグリコールエーテル溶剤膨潤調
製物)(Shipley Companyから入手可
能)で処理した。Hole Prep4125で処理し
たクーポンの数値は以下の表には記載していない。図1
A−1Bは、それぞれCircuposit3302お
よびHole Prep4125の標準的Shiple
y溶剤膨潤組成物で処理されたIsolaおよびPol
yclad370樹脂物質の顕微鏡写真を示す。結果は
不十分であった。顕微鏡写真は屋根板様または泥岩板様
外観を示し、多孔性は見られなかった。図3A(Iso
la)および3B(Polyclad370)において
示すように、40%bvのガンマ−ブチロラクトン/3
0%bvN−メチル−2−ピロリドンと残りの水を含む
溶剤膨潤組成物でも不十分な結果が得られた。顕微鏡写
真は屋根板様の樹脂物質を示した。図3Bにおいて一様
でないかまたは屋根板様の重複層は特に顕著である。
【0065】図5A−5Jはガンマ−ブチロラクトンで
処理されたIsola樹脂物質(5A、C、E、G、お
よびI)およびPolyclad370樹脂物質(5
B、D、F、H、およびJ)の顕微鏡写真を示す。図5
A−B、C−D、E−F、G−HおよびI−Jに示す樹
脂物質はそれぞれ10%bv、20%bv、30%b
v、40%bvおよび50%bvの濃度のガンマ−ブチ
ロラクトンで処理した。ガンマ−ブチロラクトンの濃度
が低いほど、テクスチャー付けが少なくなる。各顕微鏡
写真において、テクスチャーは屋根板様であった。最も
よくテクスチャーづけられた表面は、顕微鏡写真5Iに
示すように50%ガンマ−ブチロラクトンで処理したI
sola樹脂物質であった。クーポンはよくテクスチャ
ーづけられていたが、テクスチャーは屋根板様であっ
た。観察可能な多孔性はなかった。
【0066】図2Aおよび2Bは、40%bvイプシロ
ン−カプロラクトン/30%bvN−メチル−2−ピロ
リドンを含む溶剤膨潤組成物で処理されたIsola
(2A)およびPolyclad370(2B)の顕微
鏡写真を示す。いずれの樹脂物質に関しても良好なテク
スチャーが得られた。図2Aおよび2Bは広範囲におよ
ぶ多孔性を示す。
【0067】図4A、C、E、G、およびIは、それぞ
れ10%bv、20%bv、30%bv、40%bv、
および50%bvのイプシロン−カプロラクトン配合物
で処理されたIsolaクーポンの顕微鏡写真を示す。
図4B、D、F、H、およびJは、それぞれ10%b
v、20%bv、30%bv、40%bv、および50
%bvのイプシロン−カプロラクトン配合物で処理され
たPolycladクーポンの顕微鏡写真を示す。10
%bvイプシロン−カプロラクトン配合物では不十分な
結果が得られた。図4A−4Bは、多孔性表面の形成が
なく、多少屋根板様であった。樹脂物質上の多孔性表
面、または中程度の表面は、図4C−4Dにおいて孔が
形成されはじめることによりわかるように、20%bv
イプシロン−カプロラクトンから形成され始めた。良好
なテクスチャー、または多孔性は、図4E−4Jにおい
てみられるように、30%bvまたはそれ以上のイプシ
ロン−カプロラクトン配合物で得られた。
【0068】図6Aおよび6Cは、それぞれ10%bv
ガンマ−カプロラクトンおよび15%bvガンマ−カプ
ロラクトンで処理されたIsola樹脂物質の電子顕微
鏡写真を示す。図6Bおよび6Dは、それぞれ10%b
vガンマ−カプロラクトンおよび15%bvガンマ−カ
プロラクトンで処理されたPolyclad樹脂物質の
電子顕微鏡写真を示す。図6Cおよび6Dにおける広範
囲におよぶ多孔性によりわかるように15%ガンマ−カ
プロラクトンで良好なテクスチャーが得られた。図6A
および6Bにおいてみられるように、10%bvガンマ
−カプロラクトンで中程度のテクスチャーが得られた。
多孔性表面は図6Aおよび6Bにおいて明らかである
が、多孔性は、良好なテクスチャーを示す図6Cおよび
6Dにおけるほど顕著ではない。
【0069】顕微鏡写真において示される最良のテクス
チャーまたは多孔性形成は、イプシロン−カプロラクト
ンおよびガンマ−カプロラクトン配合物から得られた。
このような良好なテクスチャーは、40%bvイプシロ
ン−カプロラクトン/30%bvN−メチル−2−ピロ
リドンならびに30%bvイプシロン−カプロラクトン
およびさらに高い濃度、および15%bvガンマ−カプ
ロラクトンから特に得られた。ラクトン配合物について
の最悪の結果は、ガンマ−ブチロラクトン配合物から得
られた。
【0070】以下の表は、多くの他の溶剤膨潤組成物に
ついてのさらなるデータを示す。樹脂物質のテクスチャ
ー付けについての最良の結果は、カプロラクトン配合物
から、特にカプロラクトンをN−メチル−2−ピロリド
ンと組み合わせた場合に得られた。N−メチル−2−ピ
ロリドンと組み合わせた少なくとも10%bvのイプシ
ロン−カプロラクトンを含むサンプル10〜31では、
樹脂クーポン上に中程度から良好なテクスチャー、すな
わち、顕著な多孔性が生じた。中程度または良好なテク
スチャー付けされた樹脂物質をもたらすこのような配合
物は、樹脂物質と堆積した金属間に高い一体性結合を形
成することができる。
【0071】サンプル37〜54およびサンプル57〜
59により示されようにN−メチル−2−ピロリドンの
有無によらずガンマ−ブチロラクトン配合物から最悪の
テクスチャーが得られた。しかしながら、少なくとも3
0%bvのガンマ−ブチロラクトンおよび少なくとも4
0%bvのN−メチル−2−ピロリドンを含む配合物に
ついて、中程度のテクスチャー、すなわち多少の多孔
性、および良好なテクスチャー、すなわち著しい多孔性
が得られた(サンプル55〜56およびサンプル60〜
61およびサンプル63〜66参照)。50重量%まで
のN−メチル−2−ピロリドンのみを含む配合物はすべ
て樹脂物質のテクスチャーが不十分であった(サンプル
2〜6参照)。したがって、少なくとも30%bvのガ
ンマ−ブチロラクトンおよび少なくとも40%bvのN
−メチル−2−ピロリドンを含む配合物は、樹脂に対す
る金属の高い一体性結合を形成することができるような
適当なテクスチャー付けされた樹脂物質を製造する。
【0072】多くのサンプルにおいて、表から得られる
樹脂物質についての重量損失データは、重量損失の減少
と樹脂の中程度から良好なテクスチャーの間には相関関
係があることを示す。たとえば、サンプル12−21を
参照。テクスチャーが向上するにつれ(MからGへ)、
重量損失は減少する傾向にある。サンプル26、および
29〜31において、重量増加が良好なテクスチャー付
けとともに起こる。重量の増大は、おそらくはクーポン
によりある程度の溶剤が保持されることによるのであろ
う。
【0073】図7および8は、5種の異なる溶剤膨潤組
成物で処理された樹脂物質(ベアラミネートIsol
a)の重量損失の予想値および実測値を対比したもので
ある。図7は、溶剤膨潤組成物の濃度の増加に対する樹
脂物質重量損失のグラフである。溶剤膨潤組成物中のN
−メチル−2−ピロリドンの濃度が増大するにつれ、樹
脂の重量損失は増大する。ガンマ−ブチロラクトンの場
合、濃度が増大するにつれ、樹脂の重量損失は減少し
た。ガンマ−ブチロラクトンとN−メチル−2−ピロリ
ドンの組合せから予想される結果は、重量損失が増大
し、各成分が40%bvおよび50%bvの濃度では重
量損失が若干減少する。しかしながら、実際の結果は、
各成分濃度が約20%bvから約50%bvまで増大す
るにつれ重量損失は著しく減少した。
【0074】図8のグラフは同様の結果を示した。樹脂
物質の重量損失は、N−メチル−2−ピロリドンの濃度
が減少するにつれ増大した。対照的に、イプシロン−カ
プロラクトンの濃度が増大するにつれ、重量損失は減少
した。N−メチル−2−ピロリドンおよびイプシロン−
カプロラクトンで処理された樹脂物質の予想される重量
損失は、N−メチル−2−ピロリドンのために重量損失
が全体的に増大する。しかしながら、実際の結果は、樹
脂物質の重量損失が減少した。重量損失における減少の
一部は、おそらくは多少の溶剤保持のためである。イプ
シロン−カプロラクトンおよびN−メチル−2−ピロリ
ドンからなる溶剤膨潤で状態調節されたクーポンは良好
なテクスチャーを示した。一般に、重量減少が少ないほ
ど、または重量増加が多いほど良好なテクスチャーが得
られる。
【0075】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【図面の簡単な説明】
【図1A】 図1Aは、標準的デスミア(de−sme
ar)化学反応でテクスチャー付けされたIsola樹
脂物質(1A)の2000倍でとった電子顕微鏡写真で
ある。
【図1B】 図1Bは、標準的デスミア(de−sme
ar)化学反応でテクスチャー付けされたPolycl
ad(登録商標)樹脂物質(1B)の2000倍でとっ
た電子顕微鏡写真である。
【図2A】 図2Aは、40%bvイプシロン−カプロ
ラクトン/30%bvN−メチル−2−ピロリドンおよ
び残分の水の溶液でテクスチャー付けされたIsola
樹脂物質(2A)の2000倍でとった電子顕微鏡写真
である。
【図2B】 図2Bは、40%bvイプシロン−カプロ
ラクトン/30%bvN−メチル−2−ピロリドンおよ
び残分の水の溶液でテクスチャー付けされたPolyc
lad樹脂物質(2B)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図3A】 図3Aは、40%bvガンマ−ブチロラク
トン/30%bvN−メチル−2−ピロリドン溶液およ
び残分の水の溶液でテクスチャー付けされたIsola
樹脂物質(3A)の2000倍でとった電子顕微鏡写真
である。
【図3B】 図3Bは、40%bvガンマ−ブチロラク
トン/30%bvN−メチル−2−ピロリドン溶液およ
び残分の水の溶液でテクスチャー付けされたPolyc
lad樹脂物質(3B)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図4A】 図4Aは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIs
ola樹脂物質(4A)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図4B】 図4Bは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたP
olyclad樹脂物質(4B)の2000倍でとった
電子顕微鏡写真である。
【図4C】 図4Cは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIs
ola樹脂物質(4C)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図4D】 図4Dは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたP
olyclad樹脂物質(4D)の2000倍でとった
電子顕微鏡写真である。
【図4E】 図4Eは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIs
ola樹脂物質(4E)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図4F】 図4Fは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたP
olyclad樹脂物質(4F)の2000倍でとった
電子顕微鏡写真である。
【図4G】 図4Gは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIs
ola樹脂物質(4G)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図4H】 図4Hは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたP
olyclad樹脂物質(4H)の2000倍でとった
電子顕微鏡写真である。
【図4I】 図4Iは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIs
ola樹脂物質(4I)の2000倍でとった電子顕微
鏡写真である。
【図4J】 図4Jは、10%〜50%bv水性イプシ
ロン−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたP
olyclad樹脂物質(4J)の2000倍でとった
電子顕微鏡写真である。
【図5A】 図5Aは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(5A)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図5B】 図5Bは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(5B)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図5C】 図5Cは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(5C)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図5D】 図5Dは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(5D)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図5E】 図5Eは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(5E)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図5F】 図5Fは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(5F)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図5G】 図5Gは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(5G)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図5H】 図5Hは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(5H)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図5I】 図5Iは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(5I)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図5J】 図5Jは、10%〜50%bv水性ガンマ
−ブチロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(5J)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図6A】 図6Aは、10%〜15%bv水性ガンマ
−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(6A)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図6B】 図6Bは、10%〜15%bv水性ガンマ
−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(6B)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図6C】 図6Cは、10%〜15%bv水性ガンマ
−カプロラクトン溶液でテクスチャー付されたIsol
a樹脂物質(6C)の2000倍でとった電子顕微鏡写
真である。
【図6D】 図6Dは、10%〜15%bv水性ガンマ
−カプロラクトン溶液でテクスチャー付けされたPol
yclad樹脂物質(6D)の2000倍でとった電子
顕微鏡写真である。
【図7】 図7は、樹脂物質の重量変化/mg/cm
対溶剤成分の濃度(体積%)をプロットした、溶剤膨潤
組成物で処理された樹脂物質の重量損失(実測値および
予想値)を示すグラフである。
【図8】 図8は、樹脂物質の重量変化/mg/cm
対溶剤成分の濃度(体積%)をプロットした、溶剤膨潤
組成物で処理された樹脂物質の重量損失(実測値および
予想値)を示すもう一つのグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デボラウ・ブイ・ハースト イギリス,ウォーリックシャー・シーブイ 11・4エフエス,ナニートン,アトルボロ ー,コンウィー・クローズ・2 (72)発明者 マーク・エー・プール イギリス,ウォーリックシャー・シーブイ 22・7イーエー,ラグビー,ビルトン,ス パイサー・プレイス・50 (72)発明者 スーザン・グリーン イギリス,ウォーリックシャー・シーブイ 37・7エルピー,ストラットフォード・オ ン・エイボン,シップストーン・ロード・ 70 (72)発明者 イナ・シニッツカヤ アメリカ合衆国マサチューセッツ州01776, サッドベリー,ピークハム・ロード・250 (72)発明者 ジョン・イー・グレイブス イギリス,ウォーリックシャー・シーブイ 11・6ワイティー,ナニートン,ブリック スハム・クローズ・4 Fターム(参考) 5E343 AA02 AA12 BB71 EE01 EE13 FF23 GG01 GG11

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶剤膨潤組成物と樹脂物質を接触させた
    際に溶剤膨潤組成物が樹脂物質を状態調節し、状態調節
    された樹脂物質のエッチングにより多孔質テクスチャー
    の状態調節された樹脂物質が得られるのに十分な量にお
    いてラクトンを含む溶剤膨潤組成物。
  2. 【請求項2】 ラクトンがイプシロン−カプロラクト
    ン、ガンマ−カプロラクトン、ガンマ−バレロラクト
    ン、またはその誘導体を含む請求項1記載の溶剤膨潤組
    成物。
  3. 【請求項3】 さらにアミドを含む請求項1記載の溶剤
    膨潤組成物。
  4. 【請求項4】 エチレングリコール、ジエチレングリコ
    ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
    ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
    トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
    ル、(C−C )グリコールエーテル、(C
    )グリコールエーテルアセテート、(C
    12)アルキルアセテート、エチルラクテート、エチ
    ルブチレート、アセトン、ヘキサノン、ペンタノン、グ
    リオキサール、アルキレンカーボネートまたはその混合
    物の1またはそれ以上の有機溶剤をさらに含む、請求項
    1記載の溶剤膨潤組成物。
  5. 【請求項5】 樹脂物質が約150℃またはそれ以上の
    Tgを有する請求項1記載の溶剤膨潤組成物。
  6. 【請求項6】 樹脂物質をエッチング剤で多孔質テクス
    チャーにするのに状態調節するために十分な量において
    ラクトンを含む溶剤膨潤組成物と樹脂物質を接触させ;
    状態調節された樹脂物質をエッチング剤と接触させて、
    状態調節された樹脂物質を多孔質テクスチャーにするこ
    とを含む樹脂物質の処理方法。
  7. 【請求項7】 樹脂物質のTgが150℃またはそれ以
    上である請求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】 樹脂物質がプリント配線板、またはその
    内層上に配置される請求項6記載の方法。
  9. 【請求項9】 多孔質テクスチャーの樹脂物質をアクチ
    ベーターと接触させて、該アクチベーターが孔内および
    樹脂物質の表面上に分散されるようにする段階をさらに
    含む請求項6記載の方法。
  10. 【請求項10】 連続した金属層が樹脂物質と結合する
    ように、多孔質テクスチャーの樹脂物質の孔内および表
    面上に金属を堆積させる段階をさら含む請求項9記載の
    方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011099087A (ja) * 2009-08-18 2011-05-19 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 金属化のためのポリマー含有基体の製造

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0129547D0 (en) * 2001-12-11 2002-01-30 Astrazeneca Ab Film
EP1635228B1 (en) * 2004-09-09 2009-03-11 Canon Kabushiki Kaisha Image forming apparatus
US8394289B2 (en) * 2006-04-18 2013-03-12 Okuno Chemicals Industries Co., Ltd. Composition for etching treatment of resin molded article
CN101838483B (zh) * 2010-05-11 2012-07-04 华北电网有限公司北京超高压公司 一种溶解型防污闪涂层清除剂及其制备方法
CN102120828B (zh) * 2011-03-18 2012-08-29 常州大学 环氧树脂线路板通孔残渣去除的溶胀液
ITTO20130284A1 (it) * 2013-04-09 2014-10-10 Fond Istituto Italiano Di Tecnologia Procedimento per la produzione di microparticelle polimeriche sagomate
CN104560459A (zh) * 2015-01-19 2015-04-29 通山瑞邦电子科技有限公司 一种多层板膨松剂及其制备方法
DE102015201562A1 (de) * 2015-01-29 2016-08-04 Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf E.V. Verfahren zur Metallisierung von Kunststoffteilen sowie Lösung
CN108929452B (zh) * 2018-07-31 2021-12-03 广东利尔化学有限公司 一种线路板溶胀剂及其制备方法
CN110392489A (zh) * 2019-07-09 2019-10-29 江苏大学 一种基于形状记忆聚合物的可变形线路板的制备方法
CN110804197A (zh) * 2019-10-09 2020-02-18 广东利尔化学有限公司 一种用于pcb除胶的溶胀剂及其制备方法
CN112969304A (zh) * 2021-02-04 2021-06-15 深圳中科利尔科技有限公司 一种溶胀剂及去除线路板孔内残渣的方法
WO2022178235A1 (en) * 2021-02-18 2022-08-25 Integrated Recycling Technologies Corporation Chemical liberation of waste printed circuit boards
CN113293362B (zh) * 2021-05-25 2022-02-11 吉安宏达秋科技有限公司 一种化学镀铜膨松液及其制备方法和应用
CN115044891B (zh) * 2022-06-22 2024-02-06 江西超洋科技有限公司 一种脂肪族羧酸酯类沉铜溶胀剂及其制备方法和应用

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3791986A (en) * 1971-10-28 1974-02-12 Enthone Preconditioner concentrate
US3963590A (en) * 1975-02-25 1976-06-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for electroplating polyoxymethylene
US4086128A (en) * 1976-03-04 1978-04-25 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Process for roughening surface of epoxy resin
US4233344A (en) * 1978-07-20 1980-11-11 Learonal, Inc. Method of improving the adhesion of electroless metal deposits employing colloidal copper activator
US4820548A (en) * 1984-06-07 1989-04-11 Enthone, Incorporated Three step process for treating plastics with alkaline permanganate solutions
DK600484D0 (da) * 1984-12-14 1984-12-14 Cps Kemi Aps Vaeske til fortynding og/eller fjernelse af trykkeri- og serigrafifarver
US4824443A (en) * 1986-12-30 1989-04-25 Bend Research, Inc. Gas separation by composite solvent-swollen membranes
DE3740369A1 (de) * 1987-11-25 1989-06-08 Schering Ag Verfahren zur vorbehandlung von kunststoffen
US4917761A (en) * 1989-08-14 1990-04-17 Eastman Kodak Company Method of rendering polymeric materials hydrophilic for etching
US5178956A (en) * 1989-10-03 1993-01-12 Shipley Company Inc. Pretreatment process for electroless plating of polyimides
US5015339A (en) * 1990-03-26 1991-05-14 Olin Hunt Sub Iii Corp. Process for preparing nonconductive substrates
DK0490726T3 (da) * 1990-12-07 1995-06-26 Atochem Elf Sa Anvendelse af en sammensætning til rensning af maling
EP0629226A1 (en) * 1992-03-06 1994-12-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Composition containing lactone and ester for removing coatings
JP3228833B2 (ja) * 1993-12-14 2001-11-12 東燃ゼネラル石油株式会社 硬化前エポキシ樹脂用洗浄液組成物
DE19539394A1 (de) * 1994-10-13 1996-04-25 Lobeck Concept Ag Farb-, Lack- und Folienablösemittel sowie Verwendung desselben
US5985040A (en) * 1998-09-21 1999-11-16 Electrochemicals Inc. Permanganate desmear process for printed wiring boards
GB0118870D0 (en) * 2001-08-02 2001-09-26 Shipley Co Llc A combined adhesion promotion and direct metallization process

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011099087A (ja) * 2009-08-18 2011-05-19 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 金属化のためのポリマー含有基体の製造

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