JP2002332282A - 光学活性なフラバノン及びクロマノン類の製造法 - Google Patents
光学活性なフラバノン及びクロマノン類の製造法Info
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Abstract
(2)を反応させて化合物(3)とし、これを閉環後加
水分解する光学活性フラバノン又はクロマノン類の製造
法。 【化1】 【効果】 本発明方法によれば、医薬品や化粧品原料と
して有用な光学活性フラバノン及びクロマノン類が高収
率で得られる。
Description
配合成分として有用なフラバノン及びクロマノン類の光
学活性体の選択的な製造法に関する。
マノン誘導体が存在しており、その中には様々な生理活
性を示す物質が含まれている。例えば、フラバノン誘導
体としては、ナリンゲニン(Naringenin)、ヘスペレチ
ン(Hesperetin)等が、クロマノン誘導体としてはディ
クタホリン−A(Dictafolin-A)、LL−D253α等が
知られている。これらの化合物は、2位に不斉炭素原子
を有しており、天然には光学活性体として存在する。
か報告されているものの、光学活性体の合成法について
は、光学活性なメチル p−トリルスルホキシドを用い
る方法が報告されているにすぎない(TETRAHEDRON:Asym
metry 10(1999) 2739-2747,Tetrahedron Vol.46, No.1
8. pp6565-6574, 1990)。
従来の方法においては、(1)メチル p−トリルスル
ホキシドの反応部位がクロマン骨格の3位であることか
ら不斉炭素を2個にしてしまうため副生物を多く経由す
ることになる;(2)クロマン骨格の2位へのメチル化
やフェニル化反応後は光学分割が必要になる等の問題が
あった。従って、本発明の目的は光学分割操作をするこ
となく、選択的に光学活性なフラバノン及びクロマノン
類を製造する方法を提供することにある。
チルアルデヒドから容易に得られるチオアセタール化合
物を原料として用い、これに光学活性なエポキシドを反
応させた後、閉環し、次いでチオアセタール基を加水分
解によりケトンに変換すれば、選択的に光学活性なフラ
バノン又はクロマノン類が得られることを見出し、本発
明を完成するに至った。
る。
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル基又はヒド
ロキシアルキル基を示し;R3はヒドロキシ基及び/又
はアルコキシ基が置換していてもよいフェニル基、又は
メチル基を示し;nは2又は3の数を示し;*は不斉炭
素原子の位置を示す)
るチオアセタール化合物に一般式(2)で表される光学
活性エポキシドを反応させて一般式(3)で表される光
学活性アルコールを得、これを閉環させて一般式(4)
で表される光学活性スピロ化合物を得、次いでこれを加
水分解することを特徴とする光学活性フラバノン又はク
ロマノン類の製造法を提供するものである。
記一般式(4)で表される光学活性スピロ化合物を提供
するものである。
れるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、
イソプロポキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基が挙
げられるが、このうちメトキシ基が特に好ましい。アル
キル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基
等の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられるが、このう
ちメチル基が特に好ましい。ヒドロキシアルキル基とし
ては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等の炭
素数1〜4のヒドロキシアルキル基が挙げられるが、ヒ
ドロキシメチル基が特に好ましい。R3で示されるアル
コキシ置換フェニル基としては、炭素数1〜4のアルコ
キシ基が置換したフェニル基が挙げられ、メトキシフェ
ニル基が好ましい。
基又はメトキシ基が特に好ましい。R3としてはヒドロ
キシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、ヒドロキシ
基とメトキシ基が置換したフェニル基、ジメトキシフェ
ニル基、メチル基が好ましい。
(1)は、例えば、サリチルアルデヒド類にエチレンチ
オグリコール又は1,3−プロパンジチオールを反応さ
せることにより得ることができる。また、光学活性なエ
ポキシ化合物(2)のうち、R 3がメチル基又はフェニ
ル基である化合物(2)は市販されており、容易に入手
することができる。またR3がヒドロキシ基及び/又は
アルコキシ基が置換したフェニル基である化合物(2)
はJ. Org. Chem., 61, 5372(1996)の記載に準じて合成
することができる。
ポキシ化合物(2)との反応は、まずチオアセタール化
合物(1)をn−ブチルリチウム等のアルキルリチウム
で処理した後にエポキシ化合物(2)を反応させること
により行われる。チオアセタール化合物(1)のアルキ
ルリチウム処理は、例えばチオアセタール化合物(1)
の無水テトラヒドロフラン溶液中に約−20℃でn−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液を滴下して攪拌することに
より行なわれる。また、続くエポキシ化合物の反応は、
例えばエポキシ化合物(2)の無水テトラヒドロフラン
溶液を添加して攪拌することにより行なわれる。
を用いるのが好ましい。すなわち、トリフェニルホスフ
ィンの無水テトラヒドロフラン溶液にジエチル アゾジ
カルボキシレート等のジアルキル アゾジカルボキシレ
ートを加え、室温で1〜数時間攪拌する。これに化合物
(3)のテトラヒドロフラン溶液を加えて室温で1〜数
時間攪拌すればよい。
ば塩化水銀(II)等を用いて行うのが好ましい。反応
は、例えば塩化水銀(II)と炭酸カルシウムをアセトニ
トリル−水の混合溶液に懸濁させ、これに化合物(4)
を加えて室温で攪拌すればよい。
物(2)の立体配置により、目的とする化合物(5)の
立体配置が決定される。反応の途中で立体配置は反転
し、光学純度の高い光学活性な化合物(5)を高収率で
得ることができる。
が、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではな
い。
ム溶液に1.3当量の1,3−プロパンジチオールを加
え、さらに三フッ化ホウ素エーテル錯体0.25当量を
加え、室温で24時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加え反応を停止させ、塩化メチ
レンで2回抽出し有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後濾過し、減圧下溶媒を留去、得られ
た結晶を塩化メチレン・ヘキサンの混合溶媒で再結晶を
行ない、下記式のチオアセタールを得た(収率95
%)。
フェニル) アルゴンガス雰囲気下チオアセタール(1)の無水テト
ラヒドロフラン溶液を−18℃に冷却し、2.5当量の
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1.5mol/L)
を加え、同温度で3時間攪拌した。反応混合物に(R)
−(+)−スチレンオキシド(または(S)−(−)−
スチレンオキシド)のテトラヒドロフラン溶液を加え、
さらに同温度で3時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム
水溶液を加えエーテルで3回抽出し、エーテル層を食塩
水で2回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後
溶媒を減圧留去する。残渣をクロマトグラフィーで分離
し油状物質として下記の光学活性アルコールをそれぞれ
得た。
ンの無水テトラヒドロフラン溶液に4当量のジエチルア
ゾジカルボキシレートを加え、1時間攪拌した。反応混
合物に上記(2)で得た光学活性アルコール(R体又は
S体のテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間攪
拌した。反応混合物に水を加え、エーテルで3回抽出
後、食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾
過し溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー(塩
化メチレン:ヘキサン=1:1)で分離後、塩化メチレ
ン、ヘキサンにて再結晶を行ない、下記の閉環体をそれ
ぞれ得た。得られた閉環体のフェニル基の絶対配置は、
アルコール体とは逆転していた。
ル) アルゴンガス雰囲気下、アセトニトリル−水4:1の混
合溶液に2.5当量の塩化水銀(II)を懸濁させ、炭酸
カルシウムを加え、さらに上記(3)で得た閉環体(R
体又はS体)を加え、室温で1時間攪拌した。反応混合
物をセライトを通して濾過した後、塩化メチレンで3回
抽出し、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過後溶媒を減圧留去しシリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離後、塩化メチレン・ヘキサンで再結晶を行な
い、R−(+)−フラバノン及びS−(−)−フラバノ
ンをそれぞれ得た。
ロフラン溶液を−18℃に冷却し、2.5当量のn−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液(1.5mol/L)を加
え、同温度で3時間攪拌した。反応混合物に(S)−
(+)−プロピレンオキシド(または(R)−(−)−
プロピレンオキシド)のテトラヒドロフラン溶液を加
え、さらに同温度で3時間攪拌した。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えエーテルで3回抽出し、エーテル層を
食塩水で2回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾
過後溶媒を減圧留去する。残渣をクロマトグラフィーで
分離し油状物質として、下記の光学活性アルコールをそ
れぞれ得た。
ンの無水テトラヒドロフラン溶液に4当量のジエチルア
ゾジカルボキシレートを加え、1時間攪拌する。反応混
合物に上記(1)で得た光学活性アルコール(R体又は
S体)のテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間
攪拌した。反応混合物に水を加え、エーテルで3回抽出
後、食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾
過し溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー(塩
化メチレン:ヘキサン=1:1)で分離後、塩化メチレ
ン、ヘキサンにて再結晶を行ない、下記の閉環体をそれ
ぞれ得た。得られた閉環体のフェニル基の絶対配置は、
アルコール体とは逆転していた。
合溶液に2.5当量の塩化水銀(II)を懸濁させ、炭酸
カルシウムを加え、さらに上記(2)で得た閉環体(R
体又はS体)を加え、室温で1時間攪拌した。反応混合
物をセライトを通して濾過した後、塩化メチレンで3回
抽出し、食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過後溶媒を減圧留去しシリカゲルクロマトグラフ
ィーで分離後、塩化メチレン−ヘキサンで再結晶を行な
い、R−(+)−クロマノン及びS−(−)−クロマノ
ンをそれぞれ得た。
料として有用な光学活性フラバノン及びクロマノン類が
高収率で得られる。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1及びR2は、それぞれ水素原子、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、アルキル基又はヒドロキシアルキル
基を示し;nは2又は3の数を示す)で表されるチオア
セタール化合物に一般式(2) 【化2】 (式中、R3はヒドロキシ基及び/又はアルコキシ基が
置換していてもよいフェニル基、又はメチル基を示し;
*は不斉炭素原子の位置を示す)で表される光学活性な
エポキシドを反応させて一般式(3) 【化3】 (式中、R1、R2、R3、n及び*は前記と同じ)で表
される光学活性アルコールを得、これを閉環させて一般
式(4) 【化4】 (式中、R1、R2、R3、n及び*は前記と同じ)で表
される光学活性スピロ化合物を得、次いでこれを加水分
解することを特徴とする一般式(5) 【化5】 (式中、R1、R2、R3、n及び*は前記と同じ)で表
される光学活性フラバノン又はクロマノン類の製造法。 - 【請求項2】 一般式(4) 【化6】 (式中、R1及びR2は、それぞれ水素原子、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、アルキル基又はヒドロキシアルキル
基を示し;R3はヒドロキシ基及び/又はアルコキシ基
が置換していてもよいフェニル基、又はメチル基を示
し;nは2又は3の数を示し;*は不斉炭素原子の位置
を示す)で表される光学活性スピロ化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001136978A JP3829273B2 (ja) | 2001-05-08 | 2001-05-08 | 光学活性なフラバノン及びクロマノン類の製造法 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004113317A1 (de) * | 2003-06-20 | 2004-12-29 | Ernst-Moritz-Arndt- Universität | Neue antimikrobielle chroman-4-one |
JP2005314260A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Japan Science & Technology Agency | フラボンc配糖体の製法 |
WO2008113450A2 (de) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Merck Patent Gmbh | Verwendung von chroman-4-on-derivaten |
JP2011184327A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Eiweiss Kk | アシルシランの製造方法 |
-
2001
- 2001-05-08 JP JP2001136978A patent/JP3829273B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2008113450A3 (de) * | 2007-03-16 | 2009-06-25 | Merck Patent Gmbh | Verwendung von chroman-4-on-derivaten |
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