JP2002329761A - Transfer apparatus, cleaning apparatus and development apparatus - Google Patents

Transfer apparatus, cleaning apparatus and development apparatus

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JP2002329761A
JP2002329761A JP2001130740A JP2001130740A JP2002329761A JP 2002329761 A JP2002329761 A JP 2002329761A JP 2001130740 A JP2001130740 A JP 2001130740A JP 2001130740 A JP2001130740 A JP 2001130740A JP 2002329761 A JP2002329761 A JP 2002329761A
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substrate
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magnet
transfer
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer apparatus which can protect raising dust and carry out easily such as maintenance. SOLUTION: The transfer apparatus is constructed so that a first gear 52 and a second gear 55 are located in a clearance and a drive force of a motor 44 is transmitted to a transfer roller 43 by attraction of permanent magnets 48, 49 deposited on the gears 52, 55 respectively, thereby, the raising dust can be protected without the gears contacted each other. Moreover, the transfer apparatus is constructed so that a shaft component 53 can be easily removed together with a bearing 45 and the first gear 52, etc., by locating a cutout portion 41a on a holding component 41, thereby, maintenance of, e.g. the bearing 45, the first gear 52, or mechanisms under the apparatus can be easily made.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶製造工程にお
いて液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LC
D)等に使用されるガラス基板を搬送する搬送装置、基
板の洗浄を行う洗浄装置及び現像処理を行う現像装置に
関する。
The present invention relates to a liquid crystal display (LC) in a liquid crystal manufacturing process.
The present invention relates to a transport device for transporting a glass substrate used in D) and the like, a cleaning device for cleaning a substrate, and a developing device for performing a developing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】LCDの製造工程において、LCD用の
ガラス基板上にITO(Indium Tin Oxide)の薄膜や電
極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に
用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用
される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジスト
をガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像す
る。
2. Description of the Related Art In a process of manufacturing an LCD, a photolithography technique similar to that used for manufacturing a semiconductor device is used to form an ITO (Indium Tin Oxide) thin film and an electrode pattern on a glass substrate for an LCD. Used. In the photolithography technique, a photoresist is applied to a glass substrate, exposed, and further developed.

【0003】これらレジスト塗布、露光及び現像の一連
の処理は、従来から、塗布、現像あるいはベーキング等
の各処理を行う塗布現像処理システムによって行われて
おり、処理ユニットへガラス基板を搬送する手段とし
て、例えばガラス基板を真空吸着により保持する搬送ア
ームを使用したり、あるいは回転軸を有する複数の搬送
ローラ上にガラス基板を載置させ、この搬送ローラの回
転により基板を搬送するコロ搬送を使用したりしてい
る。
Conventionally, a series of processes such as resist coating, exposure and development have been performed by a coating and developing system which performs various processes such as coating, developing and baking. For example, a transfer arm that holds a glass substrate by vacuum suction is used, or a glass substrate is placed on a plurality of transfer rollers having a rotation axis, and a roller transfer that transfers the substrate by rotation of the transfer roller is used. Or

【0004】そこで、このようなコロ搬送装置として、
例えば特開平11−208839号公報には、非接触状
態に近接対向する永久磁石を介して駆動軸の回転を搬送
ローラのローラ軸に伝えるようにし、これにより、従来
のようなギヤ同士の噛合部分や、ベルトとプーリとの接
触部分といった複雑な構成を単純化でき、発塵を防止で
きる搬送装置が開示されている。
Therefore, as such a roller conveying device,
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-2088839 discloses that the rotation of a drive shaft is transmitted to a roller shaft of a conveying roller via a permanent magnet which is close to and opposed to a non-contact state. Also, a transport device that can simplify a complicated configuration such as a contact portion between a belt and a pulley and that can prevent dust generation is disclosed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に開示された搬送装置では、搬送ローラ30両端のロ
ーラ軸31は支持枠材20に軸受21を介して挿通され
ているのみであり、例えば、搬送ローラ30を取り外す
ことができない構造となっているので、軸受21部分や
搬送ローラ30、永久磁石33等のメンテナンス、ある
いは搬送ローラ30より下方にある機械類のメンテナン
スが困難である。
However, in the transfer device disclosed in the above publication, the roller shafts 31 at both ends of the transfer roller 30 are only inserted through the support frame member 20 through the bearing 21. Since the transport roller 30 cannot be removed, it is difficult to maintain the bearing 21, the transport roller 30, the permanent magnet 33, and the like, or to maintain machinery below the transport roller 30.

【0006】以上のような事情に鑑み、本発明の目的
は、発塵を防止でき、メンテナンス等を容易に行うこと
ができる搬送装置を提供することにあり、また、この搬
送装置を用いた洗浄装置及び現像装置を提供することに
ある。
In view of the circumstances described above, it is an object of the present invention to provide a transporting device that can prevent dust generation and can easily perform maintenance and the like, and also provides cleaning using the transporting device. An apparatus and a developing device are provided.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第1の観点は、回転可能な軸部材に設けら
れ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬
送させる少なくとも1対のローラと、上端に切り欠き部
を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支す
る保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第1の磁石
が配置された第1のギヤと、前記第1のギヤに対して隙
間を空けて設けられ、前記第1のギヤの表面形状に対向
して第2の磁石が配置された第2のギヤと、前記第2の
ギヤを回転駆動させる駆動部とを具備する。
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention relates to at least one pair of a shaft member provided on a rotatable shaft member for supporting both ends of a substrate and transporting the substrate by rotation. And a holding portion having a notch at the upper end thereof, the holding portion detachably supporting the shaft member at the notch portion, and a first magnet connected to the shaft member and having a first magnet disposed on a surface thereof. A first gear, a second gear provided with a gap with respect to the first gear, and a second magnet arranged to face a surface shape of the first gear; A drive unit for rotating the gear.

【0008】このような構成によれば、第1のギヤと第
2のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤ
に設けられた第1の磁石と第2の磁石の間の吸引力によ
り駆動部の駆動力が1対のローラに伝達されるように構
成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵
を防止することができる。
According to such a configuration, the first gear and the second gear are arranged with a gap therebetween, and the attraction between the first magnet and the second magnet provided in each gear. Since the driving force of the driving unit is transmitted to the pair of rollers by the force, the gears do not come into contact with each other and dust generation can be prevented.

【0009】また、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸
支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容
易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことがで
きる。
Further, since the shaft member is removably supported by the notch, the shaft member can be easily removed at the time of maintenance, and the maintenance can be easily performed.

【0010】本発明の一の形態によれば、前記第1のギ
ヤ又は第2のギヤのうち少なくとも一方は、前記磁石が
螺旋状に配置されている。
According to one embodiment of the present invention, at least one of the first gear and the second gear has the magnet arranged in a spiral.

【0011】このような構成によれば、例えば上記公報
に記載の搬送装置では、永久磁石を回転方向に並設した
だけの構成であるので、回転中に永久磁石の吸引力に大
小の「波」が生じることにより搬送ローラの回転動作の
滑らかさが得られず、基板の搬送に悪影響を与えるおそ
れがあったが、本実施形態では、第1のギヤにおける第
1の磁石及び第2のギヤにおける第2の磁石を螺旋状に
配置する構成としたことにより、ギヤ同士の回転動作を
滑らかにすることができる。従って基板に悪影響を与え
ることなく搬送できる。
According to such a configuration, for example, in the transfer device described in the above-mentioned publication, since the permanent magnets are simply arranged side by side in the rotation direction, the magnitude of the wave is increased or decreased by the attraction force of the permanent magnets during rotation. ), The smoothness of the rotation operation of the transport roller cannot be obtained, which may adversely affect the transport of the substrate. However, in the present embodiment, the first magnet and the second gear in the first gear are used. By arranging the second magnet in a spiral shape in the above, the rotation operation between the gears can be made smooth. Therefore, the substrate can be transported without adversely affecting the substrate.

【0012】本発明の一の形態によれば、前記第1のギ
ヤの表面は略鞍型形状であり、前記第2のギヤの表面
は、前記第1のギヤの略鞍型形状に対応した曲面であ
る。
According to one aspect of the present invention, the surface of the first gear has a substantially saddle shape, and the surface of the second gear corresponds to the substantially saddle shape of the first gear. It is a curved surface.

【0013】このような構成によれば、第1のギヤの表
面と第2のギヤの表面との対向面積を大きくすることが
でき、確実に駆動部の動力を伝達することができる。、
本発明の一の形態によれば、前記第1のギヤの近傍に配
置され、該第1のギヤが所定の位置に配置されたことを
検知する手段を具備する。
[0013] According to such a configuration, the facing area between the surface of the first gear and the surface of the second gear can be increased, and the power of the drive unit can be transmitted reliably. ,
According to one embodiment of the present invention, there is provided a means arranged near the first gear for detecting that the first gear is arranged at a predetermined position.

【0014】本発明の一の形態によれば、前記検知手段
は1対の発光部及び受光部からなる光センサである。
According to one embodiment of the present invention, the detecting means is an optical sensor including a pair of a light emitting unit and a light receiving unit.

【0015】本発明の一の形態によれば、前記検知手段
は前記第1の磁石による磁場を検出する磁気センサであ
る。
According to one embodiment of the present invention, the detecting means is a magnetic sensor for detecting a magnetic field generated by the first magnet.

【0016】このような構成によれば、第1のギヤが正
常位置に配置されたことを確認することができ、第1の
ギヤが所定の正常位置に配置されずにギヤ部が機能しな
いという事態を防止できる。
According to such a configuration, it is possible to confirm that the first gear is disposed at the normal position, and that the first gear is not disposed at the predetermined normal position and the gear section does not function. The situation can be prevented.

【0017】本発明の一の形態によれば、前記第1のギ
ヤが所定の位置に配置されたときに、前記第1の磁石の
近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が
前記第1の磁石の近傍位置に引きつけられることによ
り、前記第1のギヤが正常位置に配置されたことを確認
するスイッチが接続される。
According to one embodiment of the present invention, when the first gear is arranged at a predetermined position, the movable unit is provided with a movable part which is attracted to a position near the first magnet, and the movable part is By being attracted to a position near the first magnet, a switch for confirming that the first gear is located at a normal position is connected.

【0018】このような構成によれば、第1の磁石の磁
力を利用した簡単な構成で、第1のギヤが正常位置に配
置されたことを確認することができる。
According to such a configuration, it is possible to confirm that the first gear is located at the normal position with a simple configuration utilizing the magnetic force of the first magnet.

【0019】本発明の第2の観点は、回転可能な軸部材
に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により
基板を搬送させる少なくとも1対のローラと、上端に切
り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在
に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第
1の磁石が配置された第1のギヤと、前記第1のギヤに
対して隙間を空けて設けられ、前記第1のギヤの表面形
状に対向して第2の磁石が配置された第2のギヤと、前
記第2のギヤを回転駆動させる駆動部とを備える搬送装
置と、前記1対のローラにより搬送される基板の上部に
それぞれ配置され、基板に対して回転しながら基板を洗
浄するブラシと、前記ブラシにより洗浄された基板上に
洗浄液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾
燥させる手段とを具備する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided at least one pair of rollers provided on a rotatable shaft member, supporting both ends of the substrate and transporting the substrate by rotation, and a notch at an upper end, A holding portion that detachably supports the shaft member at the notch portion, a first gear connected to the shaft member and having a first magnet disposed on a surface thereof, and a first gear. A transfer device provided with a gap, a second gear in which a second magnet is arranged to face the surface shape of the first gear, and a drive unit for rotating and driving the second gear; A brush disposed on the substrate conveyed by the pair of rollers, for cleaning the substrate while rotating with respect to the substrate, a means for supplying a cleaning liquid onto the substrate cleaned by the brush, Means to blow air on To Bei.

【0020】このような構成によれば、保持部材に切り
欠き部を設けることにより軸部材を第1のギヤ、1対の
ローラ及とともに、着脱自在に容易に取り外せる構成と
したので、例えば、軸部材の軸受け部分や第1のギヤ、
あるいは装置下部の機械類のメンテナンスを容易に行う
ことができる。特に、本洗浄装置においては、洗浄処理
に使用する洗浄液等が上記搬送装置に付着する場合があ
り定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的
である。
According to such a configuration, the shaft member can be detachably and easily removed together with the first gear and the pair of rollers by providing the notch in the holding member. The bearing portion of the member, the first gear,
Alternatively, maintenance of the machinery under the apparatus can be easily performed. In particular, the present cleaning apparatus is more effective because a cleaning liquid or the like used for the cleaning process may adhere to the transport apparatus and requires periodic maintenance.

【0021】本発明の一の形態によれば、前記ブラシ、
前記洗浄液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向
に対して相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段
の移動速度を可変にする手段とを更に具備する。
According to one aspect of the present invention, the brush,
The apparatus further includes moving means for relatively moving the cleaning liquid supply means and the drying means with respect to the transport direction of the substrate, and means for varying the moving speed of the moving means.

【0022】このような構成によれば、ブラシ、洗浄液
供給手段及び前記乾燥手段の移動速度が可変とされてい
るので、搬送装置による基板の搬送速度を一定の速度に
定めた場合であっても、多種の基板の処理内容に応じて
移動速度を定め洗浄処理を行うことができる。
According to such a configuration, since the moving speed of the brush, the cleaning liquid supply means and the drying means is variable, even when the transfer speed of the substrate by the transfer device is set to a constant speed. In addition, the cleaning speed can be determined by determining the moving speed according to the processing content of various types of substrates.

【0023】本発明の第3の観点は、回転可能な軸部材
に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により
基板を搬送させる少なくとも1対のローラと、上端に切
り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在
に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第
1の磁石が配置された第1のギヤと、前記第1のギヤに
対して隙間を空けて設けられ、前記第1のギヤの表面形
状に対向して第2の磁石が配置された第2のギヤと、前
記第2のギヤを回転駆動させる駆動部とを備える搬送装
置と、前記1対のローラにより搬送される基板の上部に
それぞれ配置され、基板上に現像液を供給する手段と、
前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手
段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを更
に具備する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided at least one pair of rollers provided on a rotatable shaft member, supporting both ends of the substrate and transporting the substrate by rotation, and a notch at the upper end, A holding portion that detachably supports the shaft member at the notch portion, a first gear connected to the shaft member and having a first magnet disposed on a surface thereof, and a first gear. A transfer device provided with a gap, a second gear in which a second magnet is arranged to face the surface shape of the first gear, and a drive unit for rotating and driving the second gear; A means for supplying a developer onto the substrate, the means being arranged on an upper part of the substrate conveyed by the pair of rollers, respectively;
The apparatus further includes means for supplying a rinsing liquid onto the substrate to which the developer has been supplied, and means for blowing air onto the substrate to dry the substrate.

【0024】このような構成によれば、保持部材に切り
欠き部を設けることにより軸部材を第1のギヤ、1対の
ローラ及とともに容易に取り外せる構成としたので、例
えば、軸部材の軸受け部分や第1のギヤのメンテナンス
を容易に行うことができる。特に、本現像装置において
は、現像処理に使用する現像液等が上記搬送装置に付着
する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるの
でより効果的である。
According to such a configuration, the shaft member can be easily removed together with the first gear, the pair of rollers and the like by providing the notch portion in the holding member. And maintenance of the first gear can be easily performed. In particular, the present developing apparatus is more effective because a developer or the like used in the developing process may adhere to the transporting apparatus and requires regular maintenance.

【0025】本発明の一の形態によれば、前記現像液供
給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段を基板
の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、前
記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備す
る。
According to one embodiment of the present invention, a moving means for relatively moving the developing solution supply means, the rinsing liquid supply means and the drying means with respect to the substrate transport direction, and a movement of the moving means Means for varying the speed.

【0026】このような構成によれば、現像液供給手
段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段の移動速度
が可変とされているので、搬送装置による基板の搬送速
度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板の
処理内容に応じて移動速度を定め現像処理を行うことが
できる。
According to such a configuration, since the moving speeds of the developer supply means, the rinsing liquid supply means and the drying means are variable, the transfer speed of the substrate by the transfer device is set to a constant speed. Even in this case, the developing speed can be determined by setting the moving speed according to the processing content of various types of substrates.

【0027】本発明の更なる特徴と利点は、添付した図
面及び発明の実施の形態の説明を参酌することによりよ
り一層明らかになる。
Further features and advantages of the present invention will become more apparent by referring to the accompanying drawings and the description of the embodiments of the present invention.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0029】図1は本発明の搬送装置が適用されるLC
D基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図
2はその正面図、また図3はその背面図である。
FIG. 1 shows an LC to which the transfer apparatus of the present invention is applied.
FIG. 2 is a plan view showing a coating and developing processing system for the D substrate, FIG. 2 is a front view thereof, and FIG. 3 is a rear view thereof.

【0030】この塗布現像処理システム1は、複数のガ
ラス基板Gを収容するカセットCを載置するカセットス
テーション2と、基板Gにレジスト塗布および現像を含
む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた
処理部3と、露光装置32との間で基板Gの受け渡しを
行うためのインターフェース部4とを備えており、処理
部3の両端にそれぞれカセットステーション2及びイン
ターフェース部4が配置されている。
The coating and developing system 1 includes a cassette station 2 on which a cassette C for accommodating a plurality of glass substrates G is mounted, and a plurality of processing units for performing a series of processes including resist coating and developing on the substrates G. And an interface unit 4 for transferring the substrate G between the exposure unit 32 and the cassette station 2 and the interface unit 4 at both ends of the processing unit 3, respectively. I have.

【0031】カセットステーション2は、カセットCと
処理部3との間でLCD基板の搬送を行うための搬送機
構10を備えている。そして、カセットステーション2
においてカセットCの搬入出が行われる。また、搬送機
構10はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路
12上を移動可能な搬送アーム11を備え、この搬送ア
ーム11によりカセットCと処理部3との間で基板Gの
搬送が行われる。
The cassette station 2 has a transport mechanism 10 for transporting the LCD substrate between the cassette C and the processing section 3. And cassette station 2
, A cassette C is loaded and unloaded. The transport mechanism 10 includes a transport arm 11 that can move on a transport path 12 provided along the direction in which the cassettes are arranged. The transport arm 11 transports the substrate G between the cassette C and the processing unit 3. Done.

【0032】処理部3には、カセットステーション2に
おけるカセットCの配列方向(Y方向)に垂直方向(X
方向)に延設された主搬送部3aと、この主搬送部3a
に沿って、レジスト塗布処理ユニット(CT)を含む各
処理ユニットが並設された上流部3b及び現像処理ユニ
ット(DEV)18を含む各処理ユニットが並設された
下流部3cとが設けられている。
The processing section 3 has a direction (X direction) perpendicular to the arrangement direction (Y direction) of the cassettes C in the cassette station 2.
Main transport section 3a extending in the direction
Along the line, there is provided an upstream section 3b in which the respective processing units including the resist coating processing unit (CT) are arranged side by side, and a downstream section 3c in which the respective processing units including the development processing unit (DEV) 18 are arranged side by side. I have.

【0033】主搬送部3aには、X方向に延設された搬
送路31と、この搬送路31に沿って移動可能に構成さ
れガラス基板GをX方向に搬送する搬送シャトル23と
が設けられている。この搬送シャトル23は、例えば支
持ピンにより基板Gを保持して搬送するようになってい
る。また、主搬送部3aのインターフェース部4側端部
には、処理部3とインターフェース部4との間で基板G
の受け渡しを行う垂直搬送ユニット7が設けられてい
る。
The main transfer section 3a is provided with a transfer path 31 extending in the X direction, and a transfer shuttle 23 configured to be movable along the transfer path 31 and to transfer the glass substrate G in the X direction. ing. The transport shuttle 23 holds and transports the substrate G by, for example, support pins. The substrate G is disposed between the processing unit 3 and the interface unit 4 at the end of the main transport unit 3a on the interface unit 4 side.
Is provided.

【0034】上流部3bにおいて、カセットステーショ
ン2側端部には、基板Gに洗浄処理を施すスクラバ洗浄
処理ユニット(SCR)20が設けられ、このスクラバ
洗浄処理ユニット(SCR)20の上段に基板G上の有
機物を除去するためのエキシマUV処理ユニット(e−
UV)19が配設されている。スクラバ洗浄処理ユニッ
ト(SCR)20には、本発明に係るコロ搬送型の搬送
装置50が設けられており、これについては後述する。
In the upstream section 3b, a scrubber cleaning processing unit (SCR) 20 for cleaning the substrate G is provided at the end of the cassette station 2 side, and the substrate G is disposed above the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20. Excimer UV processing unit (e-
UV) 19 is provided. The scrubber cleaning unit (SCR) 20 is provided with a roller transfer type transfer device 50 according to the present invention, which will be described later.

【0035】スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20
の隣には、ガラス基板Gに対して熱的処理を行うユニッ
トが多段に積み上げられた熱処理系ブロック24及び2
5が配置されている。これら熱処理系ブロック24と2
5との間には、垂直搬送ユニット5が配置され、搬送ア
ーム5aがZ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつ
θ方向に回動可能とされているので、両ブロック24及
び25における各熱処理系ユニットにアクセスして基板
Gの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理
部3における垂直搬送ユニット7についてもこの垂直搬
送ユニット5と同一の構成を有している。
Scrubber cleaning unit (SCR) 20
Next to the heat treatment system blocks 24 and 2 in which units for performing thermal treatment on the glass substrate G are stacked in multiple stages.
5 are arranged. These heat treatment system blocks 24 and 2
5, the vertical transfer unit 5 is disposed, and the transfer arm 5a is movable in the Z direction and the horizontal direction, and is rotatable in the θ direction. The substrate G is transported by accessing the heat treatment system unit. The vertical transport unit 7 in the processing section 3 has the same configuration as the vertical transport unit 5.

【0036】図2に示すように、熱処理系ブロック24
には、基板Gにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキ
ングユニット(BEKE)が2段、HMDSガスにより
疎水化処理を施すアドヒージョンユニット(AD)が下
から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック25
には、基板Gに冷却処理を施すクーリングユニット(C
OL)が2段、アドヒージョンユニット(AD)が下か
ら順に積層されている。
As shown in FIG. 2, the heat treatment system block 24
Has two stages of baking units (BEKE) for performing a heat treatment before applying a resist to the substrate G, and adhesion units (AD) for performing a hydrophobic treatment with an HMDS gas are sequentially stacked from the bottom. On the other hand, the heat treatment system block 25
, A cooling unit (C for cooling the substrate G)
OL) are stacked in two stages, and adhesion units (AD) are stacked in order from the bottom.

【0037】熱処理系ブロック25に隣接してレジスト
処理ブロック15がX方向に延設されている。このレジ
スト処理ブロック15は、基板Gにレジストを塗布する
レジスト塗布処理ユニット(CT)と、減圧により前記
塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット(V
D)と、基板Gの周縁部のレジストを除去するエッジリ
ムーバ(ER)とが一体的に設けられて構成されてい
る。このレジスト処理ブロック15には、レジスト塗布
処理ユニット(CT)からエッジリムーバ(ER)にか
けて移動する図示しないサブアームが設けられており、
このサブアームによりレジスト処理ブロック15内で基
板Gが搬送されるようになっている。
A resist processing block 15 extends in the X direction adjacent to the heat treatment system block 25. The resist processing block 15 includes a resist coating unit (CT) for applying a resist to the substrate G and a reduced-pressure drying unit (V) for drying the applied resist under reduced pressure.
D) and an edge remover (ER) for removing the resist at the peripheral edge of the substrate G are provided integrally. The resist processing block 15 is provided with a sub arm (not shown) that moves from the resist coating processing unit (CT) to the edge remover (ER).
The substrate G is transported in the resist processing block 15 by the sub arm.

【0038】レジスト処理ブロック15に隣接して多段
構成の熱処理系ブロック26が配設されており、この熱
処理系ブロック26には、基板Gにレジスト塗布後の加
熱処理を行うプリベーキングユニット(PREBAK
E)が3段積層されている。
A multi-stage heat treatment system block 26 is provided adjacent to the resist processing block 15. The heat treatment system block 26 includes a prebaking unit (PREBAK) for performing a heat treatment after applying a resist to the substrate G.
E) are stacked in three layers.

【0039】下流部3cにおいては、図3に示すよう
に、インターフェース部4側端部に熱処理系ブロック2
9が設けられており、これには、クーリングユニット
(COL)、露光後現像処理前の加熱処理を行うポスト
エクスポージャーベーキングユニット(PEBAKE)
が2段、下から順に積層されている。。
In the downstream section 3c, as shown in FIG.
9, a cooling unit (COL), a post-exposure baking unit (PEBAKE) for performing a heat treatment after exposure and before a development process.
Are stacked in two stages from the bottom. .

【0040】熱処理系ブロック29に隣接して現像処理
を行う現像処理ユニット(DEV)18がX方向に延設
されている。この現像処理ユニット(DEV)18の隣
には熱処理系ブロック28及び27が配置され、これら
熱処理系ブロック28と27との間には、上記垂直搬送
ユニット5と同一の構成を有し、両ブロック28及び2
7における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬
送ユニット6が設けられている。また、現像処理ユニッ
ト(DEV)18端部の上には、i線処理ユニット(i
―UV)33が設けられている。現像処理ユニット(D
EV)18には、上記コロ搬送型の搬送装置50と同一
の構成を有する搬送装置51が設けられている。
A development processing unit (DEV) 18 for performing development processing is provided adjacent to the heat treatment system block 29 and extends in the X direction. Heat treatment system blocks 28 and 27 are disposed adjacent to the development processing unit (DEV) 18, and have the same configuration as the vertical transport unit 5 between these heat treatment system blocks 28 and 27. 28 and 2
In FIG. 7, a vertical transfer unit 6 accessible to each heat treatment system unit is provided. An i-line processing unit (i) is provided on the end of the development processing unit (DEV) 18.
-UV) 33 is provided. Development processing unit (D
The EV 18 is provided with a transport device 51 having the same configuration as the roller transport type transport device 50.

【0041】熱処理系ブロック28には、クーリングユ
ニット(COL)、基板Gに現像後の加熱処理を行うポ
ストベーキングユニット(POBAKE)が2段、下か
ら順に積層されている。一方、熱処理系ブロック27も
同様に、クーリングユニット(COL)、ポストベーキ
ングユニット(POBAKE)が2段、下から順に積層
されている。
In the heat treatment system block 28, a cooling unit (COL) and a post-baking unit (POBAKE) for performing a heat treatment after development on the substrate G are stacked in two stages from the bottom. On the other hand, in the heat treatment system block 27, similarly, a cooling unit (COL) and a post-baking unit (POBAKE) are stacked in two stages from the bottom.

【0042】インターフェース部4には、正面側にタイ
トラー及び周辺露光ユニット(Titler/EE)2
2が設けられ、垂直搬送ユニット7に隣接してエクステ
ンションクーリングユニット(EXTCOL)35が、
また背面側にはバッファカセット34が配置されてお
り、これらタイトラー及び周辺露光ユニット(Titl
er/EE)22とエクステンションクーリングユニッ
ト(EXTCOL)35とバッファカセット34と隣接
した露光装置32との間で基板Gの受け渡しを行う垂直
搬送ユニット8が配置されている。この垂直搬送ユニッ
ト8も上記垂直搬送ユニット5と同一の構成を有してい
る。
The interface unit 4 includes a titler and a peripheral exposure unit (Title / EE) 2 on the front side.
2, and an extension cooling unit (EXTCOL) 35 is provided adjacent to the vertical transport unit 7.
A buffer cassette 34 is disposed on the back side, and the titler and the peripheral exposure unit (Titl)
er / EE) 22, an extension cooling unit (EXTCOL) 35, and a vertical transport unit 8 for transferring a substrate G between the buffer cassette 34 and the adjacent exposure device 32. The vertical transport unit 8 has the same configuration as the vertical transport unit 5.

【0043】図4及び図5は第1の実施形態に係る搬送
装置50、51のそれぞれ平面図及び側面図を示す。な
お、このスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20にお
ける搬送装置50と現像処理ユニット(DEV)におけ
る搬送装置51とは、その長手方向の長さが異なる他、
その構成は同一である。
FIGS. 4 and 5 are a plan view and a side view, respectively, of the transfer devices 50 and 51 according to the first embodiment. The transport device 50 in the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20 and the transport device 51 in the development processing unit (DEV) are different from each other in length in the longitudinal direction.
Its configuration is the same.

【0044】この搬送装置50、51の架台60の側部
にはモータ44が取り付けられ、このモータ44により
シャフト54が回転可能にガラス基板Gの搬送方向(X
方向)に沿って軸架されている。架台60の上部左右に
は、保持部材41が搬送方向に延設されており、これら
保持部材41間には、上端に形成された切り欠き部41
aで1対のベアリング45により軸支された複数の軸部
材53が掛け渡され、これら軸部材53にはガラス基板
Gの両端を支持するとともに回転により搬送する1対の
搬送ローラ43が取り付けられている。
A motor 44 is attached to the side of the gantry 60 of the transfer devices 50 and 51, and the shaft 44 can be rotated by the motor 44 in the transfer direction (X
Direction). On the left and right of the upper part of the gantry 60, holding members 41 extend in the transport direction, and between these holding members 41, a notch 41 formed at the upper end is provided.
a, a plurality of shaft members 53 supported by a pair of bearings 45 are laid over the shaft members 53. A pair of conveyance rollers 43 that support both ends of the glass substrate G and convey by rotation are attached to the shaft members 53. ing.

【0045】1対の搬送ローラ43にはそれぞれ凸部4
3aが設けられており、この凸部43a上にガラス基板
Gが載置されるようになっている。また、凸部43aに
はその基板Gの載置面に沿って図示しないOリングが装
着され基板Gの搬送時における衝撃が吸収されるように
なっている。
Each of the pair of transport rollers 43 has a projection 4
3a is provided, and the glass substrate G is placed on the projection 43a. Further, an O-ring (not shown) is attached to the convex portion 43a along the mounting surface of the substrate G so as to absorb an impact when the substrate G is transported.

【0046】また、ガラス基板Gの搬送の際に基板Gの
撓みを防止するために、軸部材53には1対の搬送ロー
ラ43の間に基板Gの裏面側を支持する支持ローラ64
が設けられている。
In order to prevent the substrate G from being bent when the glass substrate G is transported, a support roller 64 for supporting the back side of the substrate G is provided between the pair of transport rollers 43.
Is provided.

【0047】図5を参照して、この搬送装置50、51
の両端部には、上述したように外部との間で基板Gの受
け渡しを行うための複数の受け渡しピン46が配置さ
れ、図6に示すように、これら複数の受け渡しピン46
は駆動部58の昇降駆動により連結部材47を介して一
体的に、基板Gの裏面側から昇降駆動されるようになっ
ている。
Referring to FIG. 5, the transfer devices 50, 51
A plurality of transfer pins 46 for transferring the substrate G to the outside as described above are arranged at both ends of the transfer pin 46. As shown in FIG.
Is driven up and down integrally from the back surface side of the substrate G via the connecting member 47 by the up and down driving of the driving unit 58.

【0048】図6に示すように、上記ベアリング45は
切り欠き部41aにおける溝部41bに軸部材53とと
もに着脱自在に嵌合している。軸部材53の一端には、
略鞍型形状の第1のギヤ52が設けられており、図7に
示すように、この第1のギヤ52の略鞍型形状部分の表
面には、複数の永久磁石48が軸部材53の軸方向(Y
方向)に螺旋状に配置されている。そしてこの第1のギ
ヤ52との間に隙間を設けて、略鞍型形状に対応して断
面が円形状の上記シャフト54が設けられている。図8
に示すように、このシャフト54の表面部分には、第2
のギア55として複数の永久磁石49が第1のギヤ52
における複数の永久磁石48に対応する位置及び大きさ
で螺旋状に配置されている。このような構成によってモ
ータ44の駆動により第2のギヤ55が回転し、磁石4
8と磁石49とが引きつけられて第1のギヤ52が回転
することで基板Gが搬送されるようになっている。
As shown in FIG. 6, the bearing 45 is removably fitted together with the shaft member 53 into the groove 41b in the notch 41a. At one end of the shaft member 53,
A substantially saddle-shaped first gear 52 is provided. As shown in FIG. 7, a plurality of permanent magnets 48 are provided on the surface of the substantially saddle-shaped portion of the first gear 52. Axial direction (Y
Direction) spirally. A gap is provided between the first gear 52 and the shaft 54 having a circular cross section corresponding to the substantially saddle shape. FIG.
As shown in FIG.
A plurality of permanent magnets 49 as the first gear 52
Are helically arranged at positions and sizes corresponding to the plurality of permanent magnets 48 in FIG. With such a configuration, the second gear 55 is rotated by the driving of the motor 44 and the magnet 4
8 and the magnet 49 are attracted to rotate the first gear 52, so that the substrate G is transferred.

【0049】以上のように、第1のギヤ52と第2のギ
ヤ55とが隙間を空けて配置され、それぞれのギヤ52
及び55に設けられた永久磁石48と49との吸引力に
よりモータ44の駆動力が搬送ローラ43に伝達される
ように構成されているので、ギヤ同士が接触することは
なく発塵を防止することができる。
As described above, the first gear 52 and the second gear 55 are arranged with a gap therebetween, and each gear 52
And 55, the driving force of the motor 44 is transmitted to the transport roller 43 by the attraction force of the permanent magnets 48 and 49, so that the gears do not come into contact with each other and dust generation is prevented. be able to.

【0050】また、本実施形態の第1のギヤ52の表面
形状を略鞍型形状とすることにより、第2のギヤ55の
表面形状と第1のギヤ52の表面形状との対向面積を大
きくすることができ、確実にモータ44の動力を伝達す
ることができる。
In addition, by making the surface shape of the first gear 52 of this embodiment substantially a saddle shape, the area of the surface of the second gear 55 and the surface shape of the first gear 52 facing each other is increased. And the power of the motor 44 can be reliably transmitted.

【0051】また、上記公報に記載の搬送装置では、永
久磁石を回転方向に並設しただけの構成であるので、回
転中に永久磁石の吸引力に大小の「波」が生じることに
より搬送ローラの回転動作の滑らかさが得られず、基板
の搬送に悪影響を与えるおそれがあったが、本実施形態
では、第1のギヤにおける永久磁石48及び第2のギヤ
55における永久磁石49を螺旋状に配置する構成とし
たことにより、ギヤ同士の回転動作を滑らかにすること
ができる。
Further, in the transfer device described in the above-mentioned publication, since the permanent magnets are simply arranged side by side in the rotation direction, a large or small "wave" is generated in the attraction force of the permanent magnets during rotation. However, in this embodiment, the permanent magnet 48 of the first gear and the permanent magnet 49 of the second gear 55 are formed in a spiral shape. , It is possible to smoothly rotate the gears.

【0052】また、本実施形態では、保持部材41に切
り欠き部41aを設けることにより軸部材53をベアリ
ング45、第1のギヤ52、搬送ローラ43及び支持ロ
ーラ64とともに容易に取り外せる構成としたので、例
えば、ベアリング45や第1のギヤ52、あるいは上記
受け渡しピン46を備える受け渡し装置等のメンテナン
スを容易に行うことができる。特に、搬送装置50、5
1をスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20及び現像
処理ユニット(DEV)18に適用する場合には、洗浄
処理に使用する洗浄液、あるいは現像処理に使用する現
像液等が付着する場合があり定期的なメンテナンスが必
要とされるのでより効果的である。
In this embodiment, the notch 41a is provided in the holding member 41 so that the shaft member 53 can be easily removed together with the bearing 45, the first gear 52, the transport roller 43 and the support roller 64. For example, maintenance of the bearing 45, the first gear 52, or a transfer device including the transfer pin 46 can be easily performed. In particular, the transfer devices 50, 5
When 1 is applied to the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20 and the developing processing unit (DEV) 18, the cleaning liquid used for the cleaning processing, the developing liquid used for the developing processing, etc. may be adhered, More effective because maintenance is required.

【0053】図9及び図10は、第1のギヤ及び第2の
ギヤの他の実施形態を示す正面図である。この第1のギ
ヤ91は、図9に示すように磁石93をそのN極とS極
を交互に隙間なく配置させて構成されている。また、図
10に示すように、第2のギヤ92は、軸部材54に磁
石94を螺旋状に隙間なく配置させている。このような
構成によってもギヤ同士の回転動作を滑らかにすること
ができる。
FIGS. 9 and 10 are front views showing another embodiment of the first gear and the second gear. As shown in FIG. 9, the first gear 91 is configured by arranging a magnet 93 with its N-pole and S-pole alternately with no gap. As shown in FIG. 10, the second gear 92 has a magnet 94 spirally arranged on the shaft member 54 without any gap. Even with such a configuration, the rotation operation between the gears can be made smooth.

【0054】次に、以上説明した搬送装置50、51を
使用したスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20及び
現像処理ユニット(DEV)18の構成について説明す
る。
Next, the configuration of the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20 and the development processing unit (DEV) 18 using the above-described transport devices 50 and 51 will be described.

【0055】図11は上記スクラバ洗浄処理ユニット
(SCR)20の側面図であり、図12、図13及び図
14はそれぞれ図11におけるA−A線、B−B線及び
C−C線方向の断面図である。搬送装置50の上部には
外カバー71が設けられ、この外カバー71には、ガラ
ス基板Gが搬送されてくる上流側から順にロールブラシ
72、高圧リンスノズル74及びエアナイフ75がそれ
ぞれ取付部材77を介して取り付けられている。これら
ロールブラシ72、高圧リンスノズル74及びエアナイ
フ75を含む処理空間は内カバー76で覆われている。
FIG. 11 is a side view of the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20. FIGS. 12, 13 and 14 are views taken along lines AA, BB and CC in FIG. 11, respectively. It is sectional drawing. An outer cover 71 is provided on the upper portion of the transfer device 50. The outer cover 71 has a roll brush 72, a high-pressure rinsing nozzle 74, and an air knife 75 in order from the upstream side where the glass substrate G is transferred. Attached through. The processing space including the roll brush 72, the high-pressure rinsing nozzle 74, and the air knife 75 is covered with an inner cover 76.

【0056】ロールブラシ72は、例えば基板Gに洗浄
液を供給しながら基板Gに回転接触して比較的大きなゴ
ミ等や汚れが除去されるように構成されている。高圧リ
ンスノズル74は、例えばノズルに設けられた図示しな
い微小孔から高圧洗浄液が噴出されることにより、基板
Gの微小なゴミ等が除去されるように構成されている。
エアナイフ75は、基板Gに対して高圧のエアを吹き付
けることにより基板Gを即座に乾燥させるように構成さ
れている。
The roll brush 72 is configured, for example, so as to rotate and contact the substrate G while supplying a cleaning liquid to the substrate G to remove relatively large dust and dirt. The high-pressure rinsing nozzle 74 is configured, for example, such that minute dust and the like on the substrate G are removed by ejecting a high-pressure cleaning liquid from micro holes (not shown) provided in the nozzle.
The air knife 75 is configured to immediately dry the substrate G by blowing high-pressure air to the substrate G.

【0057】なお、本実施形態において、高圧リンスノ
ズル74に代えて超音波振動を与えた洗浄液により洗浄
処理を行うようにすることも可能である。
In the present embodiment, it is also possible to perform the cleaning process using a cleaning liquid subjected to ultrasonic vibration instead of the high-pressure rinsing nozzle 74.

【0058】図12〜図14に示すように、外カバー7
1は基板Gの方向に延設されたレール82に沿ってロー
ラ81により移動可能に構成されている。この移動機構
としては、例えば図示しないが、モータによるベルト駆
動を使用するようにしてもよいし、あるいはボイスコイ
ルモータ(VCM)等のリニアモータ式の移動機構を使
用するようにしてもよい。このモータの回転数、あるい
はリニアモータのコイルの周波数は可変に制御されるよ
うになっており、基板Gの搬送方向に対して相対的に速
度を可変として移動するように構成されている。
As shown in FIG. 12 to FIG.
1 is configured to be movable by a roller 81 along a rail 82 extending in the direction of the substrate G. As this moving mechanism, for example, although not shown, a belt drive by a motor may be used, or a linear motor type moving mechanism such as a voice coil motor (VCM) may be used. The number of rotations of the motor or the frequency of the coil of the linear motor is variably controlled, and is configured to move at a variable speed relative to the transport direction of the substrate G.

【0059】図15は上記現像処理ユニット(DEV)
18の側面図であり、図16、図17及び図18はそれ
ぞれ図15におけるA−A線、B−B線及びC−C線方
向の断面図である。なお、図15〜18において、図1
1〜図14における構成要素と同一のものについては同
一の符号を付すものとする。
FIG. 15 shows the developing unit (DEV).
18 is a side view, and FIGS. 16, 17 and 18 are cross-sectional views taken along lines AA, BB, and CC in FIG. 15, respectively. 15 to 18, FIG.
1 to 14 are denoted by the same reference numerals.

【0060】この現像処理ユニット(DEV)18の外
カバー71には、ガラス基板Gが搬送されてくる上流側
から順に現像液ノズル83、リンスノズル84及びエア
ナイフ75がそれぞれ取付部材77を介して取り付けら
れている。これら現像液ノズル83、リンスノズル84
及びエアナイフ75を含む処理空間は内カバー76で覆
われている。
A developing solution nozzle 83, a rinsing nozzle 84, and an air knife 75 are attached to the outer cover 71 of the developing unit (DEV) 18 in order from the upstream side where the glass substrate G is conveyed via an attaching member 77. Have been. These developer nozzle 83 and rinse nozzle 84
The processing space including the air knife 75 is covered with an inner cover 76.

【0061】現像液ノズル83は、基板G表面に現像液
を供給し現像処理を行うためのノズルである。リンスノ
ズル84は、リンス液を基板Gに供給し基板G上の現像
液を洗い流すためのノズルである。また、エアナイフ7
5は、上記スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20に
おけるエアナイフ75と同一のものである。
The developing solution nozzle 83 is a nozzle for supplying a developing solution to the surface of the substrate G and performing a developing process. The rinsing nozzle 84 is a nozzle for supplying a rinsing liquid to the substrate G and washing away the developing solution on the substrate G. Air knife 7
5 is the same as the air knife 75 in the scrubber cleaning unit (SCR) 20.

【0062】図16〜図18に示すように、スクラバ洗
浄処理ユニット(SCR)20と同様に外カバー71は
基板Gの方向に延設されたレール82に沿ってローラ8
1により移動可能に構成されており、この移動機構とし
ては、例えば図示しないが、モータによるベルト駆動を
使用するようにしてもよいし、あるいはボイスコイルモ
ータ(VCM)等のリニアモータ式の移動機構を使用す
るようにしてもよい。このモータの回転数、あるいはリ
ニアモータのコイルの周波数は可変に制御されるように
なっており、基板Gの搬送方向に対して相対的に速度を
可変として移動するように構成されている。
As shown in FIGS. 16 to 18, similarly to the scrubber cleaning unit (SCR) 20, the outer cover 71 has a roller 8 along a rail 82 extending in the direction of the substrate G.
The moving mechanism is, for example, a motor driven belt drive (not shown), or a linear motor type moving mechanism such as a voice coil motor (VCM). May be used. The number of rotations of the motor or the frequency of the coil of the linear motor is variably controlled, and is configured to move at a variable speed relative to the transport direction of the substrate G.

【0063】以上のように構成された塗布現像処理シス
テム1の処理工程については、先ずカセットC内の基板
Gが処理部3部における上流部3bに搬送される。上流
部3bでは、エキシマUV処理ユニット(e−UV)1
9において表面改質・有機物除去処理が行われる。
In the processing steps of the coating and developing system 1 configured as described above, first, the substrate G in the cassette C is transported to the upstream section 3b in the processing section 3. In the upstream section 3b, an excimer UV processing unit (e-UV) 1
At 9, a surface modification / organic matter removal treatment is performed.

【0064】次にスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)
20において、搬送装置50により基板Gが略水平に搬
送されながら、先ずロールブラシ72による洗浄処理が
行われ、続いて高圧リンス74による高圧洗浄が行わ
れ、最後にエアナイフ75による乾燥処理が行われる。
ここで、外カバー71が基板Gの搬送方向に対して相対
的に移動可能とされ、この移動速度が可変とされている
ので、搬送装置50による基板Gの搬送速度を一定の速
度に定めた場合であっても、多種の基板Gの処理内容に
応じて移動速度を定め処理を行うことができる。
Next, a scrubber cleaning processing unit (SCR)
In 20, while the substrate G is transported substantially horizontally by the transport device 50, a cleaning process is first performed by the roll brush 72, followed by high-pressure cleaning by a high-pressure rinse 74, and finally, a drying process by an air knife 75. .
Here, since the outer cover 71 is relatively movable with respect to the direction of transport of the substrate G, and the moving speed is variable, the transport speed of the substrate G by the transport device 50 is determined to be constant. Even in this case, the moving speed can be determined according to the processing contents of various types of substrates G and the processing can be performed.

【0065】続いて熱処理系ブロック24の最下段部で
垂直搬送ユニットにおける搬送アーム5aにより基板G
が取り出され、同熱処理系ブロック24のベーキングユ
ニット(BEKE)にて加熱処理、アドヒージョンユニ
ット(AD)にて疎水化処理が行われ、熱処理系ブロッ
ク25のクーリングユニット(COL)による冷却処理
が行われる。
Subsequently, at the lowermost part of the heat treatment system block 24, the substrate G is transferred by the transfer arm 5a of the vertical transfer unit.
The heating process is performed in the baking unit (BEKE) of the heat treatment system block 24, the hydrophobic treatment is performed in the adhesion unit (AD), and the cooling process is performed in the cooling unit (COL) of the heat treatment system block 25. Done.

【0066】次に、基板Gは搬送アーム5aから搬送シ
ャトル23に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユ
ニット(CT)に搬送され、レジストの塗布処理が行わ
れた後、減圧乾燥処理ユニット(VD)にて減圧乾燥処
理、エッジリムーバ(ER)にて基板周縁のレジスト除
去処理が順次行われる。
Next, the substrate G is transferred from the transfer arm 5a to the transfer shuttle 23. Then, after being conveyed to a resist coating unit (CT) and subjected to a resist coating process, a reduced pressure drying process is performed by a reduced pressure drying unit (VD), and a resist removal process of a substrate periphery is sequentially performed by an edge remover (ER). Done.

【0067】次に、基板Gは搬送シャトル23から垂直
搬送ユニット7の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブ
ロック26におけるプリベーキングユニット(PREB
AKE)にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック
29におけるクーリングユニット(COL)にて冷却処
理が行われる。続いて基板Gはエクステンションクーリ
ングユニット(EXTCOL)35にて冷却処理される
とともに露光装置にて露光処理される。
Next, the substrate G is transferred from the transfer shuttle 23 to the transfer arm of the vertical transfer unit 7, and is transferred to the pre-baking unit (PREB) in the heat treatment system block 26.
After the heat treatment in AKE), the cooling process is performed in the cooling unit (COL) in the heat treatment system block 29. Subsequently, the substrate G is cooled by an extension cooling unit (EXTCOL) 35 and exposed by an exposure device.

【0068】次に、基板Gは垂直搬送ユニット8及び7
の搬送アームを介して熱処理系ブロック29のポストエ
クスポージャーベーキングユニット(PEBAKE)に
搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユ
ニット(COL)にて冷却処理が行われる。そして基板
Gは垂直搬送ユニット7の搬送アームを介して熱処理系
ブロック29の最下段において搬送装置51の受け渡し
ピン46に受け渡される。
Next, the substrate G is transferred to the vertical transport units 8 and 7
Is transferred to the post-exposure baking unit (PEBAKE) of the heat treatment system block 29 via the transfer arm, where the heat treatment is performed, and then the cooling process is performed in the cooling unit (COL). Then, the substrate G is transferred to the transfer pin 46 of the transfer device 51 at the lowermost stage of the heat treatment system block 29 via the transfer arm of the vertical transfer unit 7.

【0069】そして基板Gは現像処理ユニット(DE
V)において、搬送装置51により基板Gが略水平に搬
送されながら、先ず基板Gに現像液ノズル83による現
像液供給が行われ、続いてリンスノズル84によるリン
ス処理が行われ、最後にエアナイフ75による乾燥処理
が行われる。ここでも外カバー71が基板Gの搬送方向
に対して相対的に移動可能とされ、この移動速度が可変
とされているので、搬送装置51による基板Gの搬送速
度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板G
の処理内容に応じて移動速度を定め処理を行うことがで
きる。
Then, the substrate G is provided with a development processing unit (DE
In (V), while the substrate G is transported substantially horizontally by the transport device 51, first, a developer is supplied to the substrate G by the developer nozzle 83, a rinsing process is performed by the rinse nozzle 84, and finally, the air knife 75 is supplied. Is performed. Also here, the outer cover 71 is relatively movable with respect to the direction of transport of the substrate G, and the moving speed is variable. Even if various kinds of substrates G
The moving speed can be determined according to the processing contents of the above.

【0070】次に、基板Gは熱処理系ブロック28にお
ける最下段から垂直搬送ユニット6の搬送アーム6aに
より受け渡され、熱処理系ブロック28又は27におけ
るポストベーキングユニット(POBAKE)にて加熱
処理が行われ、クーリングユニット(COL)にて冷却
処理が行われる。そして基板Gは搬送機構10に受け渡
されカセットCに収容される。
Next, the substrate G is transferred from the lowermost stage in the heat treatment system block 28 by the transfer arm 6a of the vertical transfer unit 6, and is subjected to heat treatment in the post baking unit (POBAKE) in the heat treatment system block 28 or 27. The cooling process is performed in a cooling unit (COL). Then, the substrate G is transferred to the transport mechanism 10 and stored in the cassette C.

【0071】次に、図19及び図20を参照して搬送装
置50、51の他の実施形態について説明する。なお、
図19及び図20において、上記実施形態における搬送
装置50、51の構成要素と同一のものについては同一
の符号を付すものとする。
Next, another embodiment of the transfer devices 50 and 51 will be described with reference to FIGS. 19 and 20. In addition,
19 and 20, the same components as those of the transport devices 50 and 51 in the above embodiment are denoted by the same reference numerals.

【0072】図19は、第1のギヤ52近傍の平面図で
あり、図20はその断面図である。本実施形態では、保
持部材41の側面に固定された支持体69には可動部6
7が軸68を中心として回動可能に設けられており、可
動部67の一端には例えば磁性体として鉄でなる部材6
5が固定されている。
FIG. 19 is a plan view showing the vicinity of the first gear 52, and FIG. 20 is a sectional view thereof. In the present embodiment, the movable portion 6 is provided on the support 69 fixed to the side surface of the holding member 41.
A movable member 67 is provided at one end with a member 6 made of iron as a magnetic material, for example.
5 is fixed.

【0073】今、例えばメンテナンスのために軸部材5
3が保持部材41に装着されていない状態では、図示し
ないバネ等の弾性体により図19の破線で示す位置に付
勢されて配置されるが、図示するように軸部材53が保
持部材41に装着されると第1のギヤ52の永久磁石4
8の吸引力により鉄部材65が引きつけられて所定の第
1のギヤ52に接しない位置に配置される。これにより
可動部67が回動して、例えば、軸部材53が保持部材
41に装着されて第1のギヤ52が所定の位置に配置さ
れていることをオペレーティング用のディスプレイ等に
表示させるためのスイッチSに、可動部の67の他端6
7aが当接してスイッチが入るような構成になってい
る。
Now, for example, for maintenance, the shaft member 5
When the holding member 3 is not attached to the holding member 41, the holding member 41 is urged to a position shown by a broken line in FIG. 19 by an elastic body such as a spring (not shown). When mounted, the permanent magnet 4 of the first gear 52
The iron member 65 is attracted by the suction force of No. 8 and is disposed at a position where the iron member 65 does not contact the predetermined first gear 52. As a result, the movable portion 67 rotates, for example, to display on the operating display or the like that the shaft member 53 is mounted on the holding member 41 and the first gear 52 is disposed at a predetermined position. The other end 6 of the movable part 67 is connected to the switch S.
7a comes into contact and the switch is turned on.

【0074】このような構成により、例えば、メンテナ
ンスが終了し軸部材53を保持部材41に装着したとき
に第1のギヤ52が所定の位置に配置されていればスイ
ッチSが接続され、第1のギヤ52が所定の位置に配置
されていなければ、スイッチSが接続されず警告を発す
るようにすることができる。従って、第1のギヤが所定
の正常位置に配置されずにギヤ部が機能していないとい
う事態を防止できる。
With such a configuration, for example, if the first gear 52 is arranged at a predetermined position when the maintenance is completed and the shaft member 53 is mounted on the holding member 41, the switch S is connected, and If the gear 52 is not located at a predetermined position, the switch S is not connected and a warning can be issued. Therefore, it is possible to prevent a situation in which the first gear is not located at the predetermined normal position and the gear section does not function.

【0075】図21は、上記スイッチSに代えて、例え
ばフォトダイオード等の発光部及び受光部を有する光セ
ンサRを設けられている。そして受光部による所定の受
光量が得られれば、第1のギヤ52が所定の位置に配置
されたものとし、所定の受光量が得られなければ、第1
のギヤ52が所定の位置に配置されていないものと判断
し警告を発するようにすることができる。
FIG. 21 is provided with an optical sensor R having a light emitting unit and a light receiving unit such as a photodiode, for example, in place of the switch S. If a predetermined amount of light received by the light receiving unit is obtained, it is assumed that the first gear 52 is arranged at a predetermined position.
Is determined not to be located at a predetermined position, and a warning can be issued.

【0076】また、この光センサRに代えて、第1のギ
ヤ52が所定の位置に配置されたときに、永久磁石48
による磁場を検出する磁気センサを設ける構成とし第1
のギヤ52が所定の位置に配置されているかどうかの判
断を行うようにすることも可能である。
When the first gear 52 is placed at a predetermined position instead of the optical sensor R, the permanent magnet 48
A magnetic sensor for detecting a magnetic field due to
It is also possible to determine whether or not the gear 52 is located at a predetermined position.

【0077】本発明は以上説明した実施形態には限定さ
れるものではなく、種々の変形が可能であり、例えば、
上記実施形態では第1のギヤを52を略鞍型形状とした
が、この第1のギヤを第2のギヤと同様に円筒状とし簡
単な構成でギヤを構成するようにしてもよい。
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications are possible.
In the above-described embodiment, the first gear 52 has a substantially saddle-shaped shape. However, the first gear may be formed in a cylindrical shape, similarly to the second gear, to form a gear with a simple configuration.

【0078】[0078]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
着脱可能な軸部材に、永久磁石の吸引力により伝達され
るギヤを設けたことにより、発塵を防止でき、メンテナ
ンス等を容易に行うことができる。
As described above, according to the present invention,
By providing the removable shaft member with a gear transmitted by the attractive force of the permanent magnet, dust generation can be prevented, and maintenance and the like can be performed easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明が適用される塗布現像処理システムの全
体構成を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing the overall configuration of a coating and developing system to which the present invention is applied.

【図2】図1に示す塗布現像処理システムの正面図であ
る。
FIG. 2 is a front view of the coating and developing system shown in FIG.

【図3】図1に示す塗布現像処理システムの背面図であ
る。
FIG. 3 is a rear view of the coating and developing system shown in FIG. 1;

【図4】本発明の第1の実施形態に係る搬送装置の平面
図である。
FIG. 4 is a plan view of the transport device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図4に示す搬送装置の側面図である。FIG. 5 is a side view of the transport device shown in FIG.

【図6】同搬送装置の保持部材及びギヤ部を示す拡大斜
視図である。
FIG. 6 is an enlarged perspective view showing a holding member and a gear portion of the transport device.

【図7】同搬送装置の第1のギヤ部を示す模式図であ
る。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a first gear unit of the transport device.

【図8】同搬送装置の第2のギヤ部を示す模式図であ
る。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a second gear unit of the transport device.

【図9】第1のギヤの他の実施形態を示す模式図であ
る。
FIG. 9 is a schematic view showing another embodiment of the first gear.

【図10】第2のギヤの他の実施形態を示す模式図であ
る。
FIG. 10 is a schematic view showing another embodiment of the second gear.

【図11】一実施形態に係る洗浄処理ユニットの側面図
である。
FIG. 11 is a side view of the cleaning unit according to the embodiment.

【図12】図11におけるA−A線方向の断面図であ
る。
FIG. 12 is a sectional view taken along line AA in FIG.

【図13】図11におけるB−B線方向の断面図であ
る。
13 is a sectional view taken along line BB in FIG.

【図14】図11におけるC−C線方向の断面図であ
る。
FIG. 14 is a sectional view taken along the line CC in FIG. 11;

【図15】一実施形態に係る現像処理ユニットの側面図
である。
FIG. 15 is a side view of the developing unit according to the embodiment.

【図16】図15におけるA−A線方向の断面図であ
る。
16 is a sectional view taken along the line AA in FIG.

【図17】図15におけるB−B線方向の断面図であ
る。
17 is a sectional view taken along the line BB in FIG.

【図18】図15におけるC−C線方向の断面図であ
る。
18 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG.

【図19】他の実施形態に係る搬送装置における検知手
段を示す平面図である。
FIG. 19 is a plan view illustrating a detection unit in a transport device according to another embodiment.

【図20】図19に示す検知手段の側面図である。20 is a side view of the detection means shown in FIG.

【図21】上記検知手段として光センサを使用した場合
を示す平面図である。
FIG. 21 is a plan view showing a case where an optical sensor is used as the detection means.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

G…ガラス基板 S…スイッチ R…光センサ 18…現像処理ユニット 20…スクラバ洗浄処理ユニット 41…保持部材 41a…切り欠き部 43…搬送ローラ 44…モータ 48、49…永久磁石 50.51…搬送装置 52…第1のギヤ 53…軸部材 55…第2のギア 67…可動部 71…外カバー 72…ロールブラシ 74…高圧リンスノズル 75…エアナイフ 81…ローラ 82…レール 83…現像液ノズル 84…リンスノズル G ... Glass substrate S ... Switch R ... Optical sensor 18 ... Development processing unit 20 ... Scrubber cleaning processing unit 41 ... Holding member 41a ... Notch portion 43 ... Transport roller 44 ... Motor 48, 49 ... Permanent magnet 50.51 ... Transport device 52 first gear 53 shaft member 55 second gear 67 movable part 71 outer cover 72 roll brush 74 high-pressure rinsing nozzle 75 air knife 81 roller 82 rail 83 developer nozzle 84 rinsing nozzle

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B65G 49/06 B65G 49/06 Z 5F046 G03F 7/30 501 G03F 7/30 501 H01L 21/027 H01L 21/304 644E 21/304 644 644F 651G 651 651L 21/30 569D Fターム(参考) 2H096 AA27 GA17 GA21 3B116 AA02 AB14 BA02 BA03 BB90 CC01 CC03 3B201 AA02 AB14 BA02 BA03 BB90 BB92 BB98 CC01 CC12 3F033 BB01 BC03 BC07 5F031 CA05 GA53 JA01 JA02 LA01 LA04 MA23 MA24 MA26 PA06 5F046 LA11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B65G 49/06 B65G 49/06 Z 5F046 G03F 7/30 501 G03F 7/30 501 H01L 21/027 H01L 21 / 304 644E 21/304 644 644F 651G 651 651L 21/30 569D F-term (reference) 2H096 AA27 GA17 GA21 3B116 AA02 AB14 BA02 BA03 BB90 CC01 CC03 3B201 AA02 AB14 BA02 BA03 BB90 BB92 BB98 CC01 CC013 LA01 LA04 MA23 MA24 MA26 PA06 5F046 LA11

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両
端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少な
くとも1対のローラと、 上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を
着脱自在に軸支する保持部と、 前記軸部材に接続され、表面に第1の磁石が配置された
第1のギヤと、 前記第1のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第
1のギヤの表面形状に対向して第2の磁石が配置された
第2のギヤと、 前記第2のギヤを回転駆動させる駆動部とを具備するこ
とを特徴とする搬送装置。
An at least one pair of rollers provided on a rotatable shaft member for supporting both ends of a substrate and transporting the substrate by rotation, and a notch at an upper end, wherein the notch forms the shaft. A holding portion that removably supports the member, a first gear connected to the shaft member and having a first magnet disposed on a surface thereof, provided with a gap with respect to the first gear, A transport device comprising: a second gear in which a second magnet is arranged to face the surface shape of the first gear; and a drive unit that drives the second gear to rotate.
【請求項2】 請求項1に記載の搬送装置において、 前記第1のギヤ又は第2のギヤのうち少なくとも一方
は、前記磁石が螺旋状に配置されていることを特徴とす
る搬送装置。
2. The transfer apparatus according to claim 1, wherein at least one of the first gear and the second gear has the magnet arranged spirally.
【請求項3】 請求項1に記載の搬送装置において、 前記第1のギヤの表面は略鞍型形状であり、 前記第2のギヤの表面は、前記第1のギヤの略鞍型形状
に対応した曲面であることを特徴とする搬送装置。
3. The transfer device according to claim 1, wherein the surface of the first gear has a substantially saddle shape, and the surface of the second gear has a substantially saddle shape of the first gear. A transfer device characterized by a corresponding curved surface.
【請求項4】 請求項1から請求項3のうちいずれ1項
に記載の搬送装置において、 前記第1のギヤの近傍に配置され、該第1のギヤが所定
の位置に配置されたことを検知する手段を具備すること
を特徴とする搬送装置。
4. The transfer device according to claim 1, wherein the transfer device is arranged near the first gear, and the first gear is arranged at a predetermined position. A transport device comprising: means for detecting.
【請求項5】 請求項4に記載の搬送装置において、 前記検知手段は1対の発光部及び受光部からなる光セン
サであることを特徴とする搬送装置。
5. The transport device according to claim 4, wherein the detection unit is an optical sensor including a pair of a light emitting unit and a light receiving unit.
【請求項6】 請求項4に記載の搬送装置において、 前記検知手段は前記第1の磁石による磁場を検出する磁
気センサであることを特徴とする搬送装置。
6. The transfer device according to claim 4, wherein the detection unit is a magnetic sensor that detects a magnetic field generated by the first magnet.
【請求項7】 請求項4に記載の搬送装置において、 前記第1のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記
第1の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、 前記可動部が前記第1の磁石の近傍位置に引きつけられ
ることにより、前記第1のギヤが正常位置に配置された
ことを確認するスイッチが接続されること特徴とする搬
送装置。
7. The transfer device according to claim 4, further comprising: a movable portion that is attracted to a position near the first magnet when the first gear is arranged at a predetermined position, Is attracted to a position near the first magnet, thereby connecting a switch for confirming that the first gear is disposed at a normal position.
【請求項8】 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両
端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少な
くとも1対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切
り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、
前記軸部材に接続され、表面に第1の磁石が配置された
第1のギヤと、前記第1のギヤに対して隙間を空けて設
けられ、前記第1のギヤの表面形状に対向して第2の磁
石が配置された第2のギヤと、前記第2のギヤを回転駆
動させる駆動部とを備える搬送装置と、 前記1対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞ
れ配置され、 基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、 前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する
手段と、 基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備する
ことを特徴とする洗浄装置。
8. A rotatable shaft member, having at least one pair of rollers for supporting both ends of the substrate and transporting the substrate by rotation, and a notch at an upper end, wherein the notch forms the shaft. A holding portion for detachably supporting the member,
A first gear connected to the shaft member and having a first magnet disposed on a surface thereof, provided with a gap with respect to the first gear, facing a surface shape of the first gear; A transfer device including a second gear on which a second magnet is disposed, and a driving unit configured to rotationally drive the second gear; and a transfer device disposed on an upper portion of the substrate transferred by the pair of rollers. Cleaning comprising: a brush for cleaning a substrate while rotating the substrate; a unit for supplying a cleaning liquid onto the substrate cleaned by the brush; and a unit for blowing air on the substrate to dry the substrate. apparatus.
【請求項9】 請求項8に記載の搬送装置において、 前記ブラシ、前記洗浄液供給手段及び前記乾燥手段を基
板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、 前記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備
することを特徴とする洗浄装置。
9. The transfer device according to claim 8, wherein the brush, the cleaning liquid supply unit, and the drying unit move relative to the substrate transfer direction, and the moving speed of the movement unit is A cleaning device, further comprising means for making the cleaning device variable.
【請求項10】 回転可能な軸部材に設けられ、基板の
両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少
なくとも1対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該
切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部
と、前記軸部材に接続され、表面に第1の磁石が配置さ
れた第1のギヤと、前記第1のギヤに対して隙間を空け
て設けられ、前記第1のギヤの表面形状に対向して第2
の磁石が配置された第2のギヤと、前記第2のギヤを回
転駆動させる駆動部とを備える搬送装置と、 前記1対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞ
れ配置され、 基板上に現像液を供給する手段と、 前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手
段と、 基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを更に具備
することを特徴とする現像装置。
10. A rotatable shaft member, having at least one pair of rollers for supporting both ends of a substrate and transporting the substrate by rotation, and a notch at an upper end, wherein the notch forms the shaft. A holding portion that detachably supports the member, a first gear connected to the shaft member and having a first magnet disposed on a surface thereof, provided with a gap with respect to the first gear, The second gear is opposed to the surface shape of the first gear.
A second gear on which a magnet is disposed, and a transfer device including a drive unit for rotating and driving the second gear; and a transfer device disposed on an upper portion of the substrate transferred by the pair of rollers. A developing device, further comprising: means for supplying a developing solution; means for supplying a rinsing liquid onto the substrate to which the developing solution has been supplied; and means for blowing air on the substrate to dry it.
【請求項11】 請求項10に記載の現像装置におい
て、 前記現像液供給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾
燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移
動手段と、 前記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備
することを特徴とする現像装置。
11. The developing device according to claim 10, wherein: a moving unit that relatively moves the developing solution supply unit, the rinsing liquid supply unit, and the drying unit with respect to a substrate transport direction; Means for making the moving speed of the developing device variable.
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