KR101163584B1 - Apparatus for cleaning substrate using brush - Google Patents

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Abstract

기판 세정 장치가 제공된다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치는 회전하는 브러쉬 사이에 기판이 지나가며 세정 공정이 이루어지는 기판 세정 장치에 있어서, 회전하는 제 1 샤프트의 외주면에 형성된 제 1 브러쉬, 회전하는 제 2 샤프트의 외주면에 형성된 제 2 브러쉬 및 제 1 샤프트에 연결되어 제 1 샤프트를 회전시키는 제 1 구동부를 포함하고, 제 1 샤프트 및 제 2 샤프트의 내부는 자기력을 가지는 물질로 형성되어, 제 1 구동부에 의해 연결된 제 1 샤프트가 회전을 하면 제 1 샤프트와 제 2 샤프트 사이의 자기력에 의해 제 2 샤프트도 상호 회전을 한다. A substrate cleaning apparatus is provided. In the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the substrate cleaning apparatus is a substrate passing between the rotating brush, the cleaning process is performed, the first brush formed on the outer peripheral surface of the rotating first shaft, the outer peripheral surface of the rotating second shaft A second drive formed in the first brush and a first drive connected to the first shaft to rotate the first shaft, wherein the first shaft and the inside of the second shaft are formed of a material having a magnetic force, and are connected by the first drive. When the first shaft rotates, the second shaft also rotates mutually by the magnetic force between the first shaft and the second shaft.

브러쉬, 세정, 기판 Brush, cleaning, substrate

Description

기판 세정 장치{Apparatus for cleaning substrate using brush}Apparatus for cleaning substrate using brush}

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 회전하는 브러쉬를 이용한 마찰력으로 기판을 세정하는 기판 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate by a friction force using a rotating brush.

일반적으로, 평판 표시 패널에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 장치가 연구 통용되고 있다. 그 중에서도 LCD가 여러 가지의 단점에도 불구하고 화질이 우수하며 저전력을 사용한다는 점에서 가장 많이 사용되고 있다.In general, various devices such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescent display (ELD), and a vacuum fluorescent display (VFD) have been commonly used in the flat panel display panel. Among them, LCD is the most used in that it has excellent image quality and uses low power despite various disadvantages.

이러한 액정 패널을 제작하는 과정에서 매우 많은 세정 공정을 거치게 된다. 이러한 세정을 위한 방법으로는 순수를 분사하거나, 순수에 초음파 등을 가하여 기판 위에 증착된 유기물이나 무기물을 제거하는 방법을 사용한다. 또 다른 세정 방법으로 기판의 표면에 부착된 이물질을 회전하는 브러시의 마찰에 의해 제거하는 방법이 널리 사용되고 있다. In the process of manufacturing the liquid crystal panel is subjected to a lot of cleaning process. As a method for cleaning, a method of spraying pure water or applying ultrasonic waves to pure water to remove organic or inorganic substances deposited on a substrate is used. As another cleaning method, a method of removing foreign matter adhered to the surface of the substrate by friction of a rotating brush is widely used.

브러쉬를 이용한 세정 방법을 보다 자세히 설명하면, 외주면에 브러쉬가 형성된 샤프트가 상부와 하부 이단으로 형성되고, 상하부 샤프트 사이를 기판이 지나 가면서 기판의 상면과 하면에 대하여 각각 상부의 샤프트에 형성된 브러쉬와 하부의 샤프트에 형성된 브러쉬에 의해 세정이 수행된다. In more detail, the brush cleaning method using a brush is formed on the outer circumferential surface of the upper and lower two stages of the brush, and the brush and the lower portion formed on the upper and lower surfaces of the upper and lower surfaces of the substrate as the substrate passes between the upper and lower shafts. Cleaning is performed by a brush formed on the shaft of the.

이때, 상부의 샤프트와 하부의 샤프트는 각각의 구동부에 연결되어 회전을 하게 된다. At this time, the upper shaft and the lower shaft is connected to each driving unit to rotate.

본 발명이 이루고자 하는 목적은 상하부 이단으로 형성된 브러쉬를 자기력을 이용하여 단일의 구동부로 회전시키도록 하는 것이다.An object of the present invention is to rotate the brush formed in the upper and lower stages to a single drive using a magnetic force.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치는 회전하는 브러쉬 사이에 기판이 지나가며 세정 공정이 이루어지는 기판 세정 장치에 있어서, 회전하는 제 1 샤프트의 외주면에 형성된 제 1 브러쉬; 회전하는 제 2 샤프트의 외주면에 형성된 제 2 브러쉬; 및 상기 제 1 샤프트에 연결되어 상기 제 1 샤프트를 회전시키는 제 1 구동부를 포함하고, 상기 제 1 샤프트 및 상기 제 2 샤프트의 내부는 자기력을 가지는 물질로 형성되어, 상기 제 1 구동부에 의해 연결된 제 1 샤프트가 회전을 하면 상기 제 1 샤프트와 상기 제 2 샤프트 사이의 자기력에 의해 상기 제 2 샤프트도 상호 회전을 한다. In order to achieve the above object, a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the substrate cleaning device is a cleaning process is performed by passing the substrate between the rotating brush, comprising: a first brush formed on the outer peripheral surface of the rotating first shaft; A second brush formed on an outer circumferential surface of the rotating second shaft; And a first driving part connected to the first shaft to rotate the first shaft, wherein the first shaft and the inside of the second shaft are formed of a material having a magnetic force, and are connected by the first driving part. When the first shaft rotates, the second shaft also rotates by a magnetic force between the first shaft and the second shaft.

상기한 바와 같은 본 발명의 기판 세정 장치에 따르면 단일의 구동부를 이용하여 복수의 브러쉬 샤프트를 회전시킬 수가 있어서 구동부의 제작과 관련한 비용을 줄일 수 있다는 장점이 있다. According to the substrate cleaning apparatus of the present invention as described above, a plurality of brush shafts can be rotated using a single driving unit, thereby reducing the costs associated with manufacturing the driving unit.

실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of the embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다 Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하, 본 발명의 실시예들에 의하여 기판 세정 장치를 설명하기 위한 도면들을 참고하여 본 발명에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings for describing a substrate cleaning apparatus according to embodiments of the present invention.

먼저, 도 1과 도 2를 참조로 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 설명하기로 한다. First, a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

도 1 은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 측단면도이고, 도 2는 도 1에서 A-A 방향으로 본 단면도이다. 1 is a side cross-sectional view of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view seen in the A-A direction in FIG.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는 공정 챔버(100)를 구비하며, 공정 챔버(100)의 양측에는 서로 대응되게 유입구(102)와 유출구(104)가 형성되어 있다. 그리고 공정 챔버(100) 내부에는 유입구(102)에서 유출구(104)로 이어지는 컨베이어(10)가 설치되어 있어 기판(G)을 일 방향으로 이송할 수 있다. 이와 같은 컨베이어(10)는 하부에 일정 간격으로 설치된 다수의 롤러(20)들에 의해 일 방향으로 기판(G)을 이송시킬 수가 있다. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention includes a process chamber 100, and both sides of the process chamber 100 correspond to each other. 104 is formed. In addition, the conveyor 10 is installed in the process chamber 100 from the inlet 102 to the outlet 104 so that the substrate G may be transferred in one direction. Such a conveyor 10 may transfer the substrate G in one direction by a plurality of rollers 20 installed at regular intervals below.

그리고, 공정 챔버(100) 내부에는 컨베이어(10)를 통해 이송되는 기판(G)의 상하부면과 접촉하여 마찰력에 의해 이물질을 제거하는 제 1 브러쉬와 제 2 브러쉬(110a, 110b)가 상하로 대향하여 설치되어 있다. 이하, 설명의 편의를 위해 상부에 형성된 제 1 브러쉬(110a)를 기판(G)의 상부면을 세정하는 상부 브러쉬(110a)라 칭하고, 하부에 형성된 제 2 브러쉬(110b)를 기판(G)의 하부면을 세정하는 하부 브러쉬(110b)라고 칭하기로 한다. In addition, the first and second brushes 110a and 110b, which contact with the upper and lower surfaces of the substrate G transferred through the conveyor 10 and remove foreign substances by frictional force, are disposed in the process chamber 100. It is installed toward. Hereinafter, for convenience of description, the first brush 110a formed at the upper portion is referred to as the upper brush 110a for cleaning the upper surface of the substrate G, and the second brush 110b formed at the lower portion is referred to as the substrate G. This will be referred to as a lower brush 110b for cleaning the lower surface.

상부 및 하부 브러시(110a, 110b)는 원통형의 외주면에 탄력성 있는 세정모들이 형성되어 있으며, 이동하는 기판(G)의 표면 전체를 브러싱할 수 있도록 기판(G)의 폭보다 넓게 형성되어 있다. 이러한 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)는 각각 제 1 샤프트와 제 2 샤프트(120a, 120b)에 장착되어 있어 샤프트(120a, 120b)의 회전에 의해 회전하면서, 이동하는 기판(G)의 표면을 세정할 수가 있다. 마찬가지로 제 1 샤프트(120a)를 상부 샤프트(120a)라 칭하고 제 2 샤프트(120b)를 하부 샤프트(120b)라 칭하기로 한다. 상부 및 하부 샤프트(120a, 120b)의 구동에 대해서는 도 3 내지 도 5를 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다. The upper and lower brushes 110a and 110b have elastic hairs formed on the outer circumferential surface of the cylinder, and are wider than the width of the substrate G so as to brush the entire surface of the moving substrate G. The upper and lower brushes 110a and 110b are mounted on the first and second shafts 120a and 120b, respectively, and rotate the surface of the substrate G while rotating by the rotation of the shafts 120a and 120b. I can wash it. Similarly, the first shaft 120a will be referred to as the upper shaft 120a and the second shaft 120b will be referred to as the lower shaft 120b. The driving of the upper and lower shafts 120a and 120b will be described in more detail with reference to FIGS. 3 to 5.

또한, 공정 챔버(100) 내부에는 세정액을 분사하는 분사 노즐(200)이 설치되어 있어 컨베이어(10)를 통해 이동하는 기판(G) 표면으로 세정액을 분사할 수가 있다. 이 때, 세정액은 기판(G)과 브러시(110a, 110b) 사이에서 윤활유 역할을 함과 동시에 기판(G) 상의 이물질을 제거하게 된다. 그리고 공정 챔버(100) 내에는 세정 공정을 마친 기판(G)의 상하부로 공기를 분사하여 기판(G) 표면을 건조시키는 에어 나이프(300)가 설치될 수도 있다. In addition, an injection nozzle 200 for spraying the cleaning liquid is provided in the process chamber 100, and the cleaning liquid may be sprayed onto the surface of the substrate G moving through the conveyor 10. At this time, the cleaning liquid serves as a lubricant between the substrate G and the brushes 110a and 110b and removes foreign substances on the substrate G. In the process chamber 100, an air knife 300 may be installed to dry the surface of the substrate G by injecting air to the upper and lower portions of the substrate G after the cleaning process.

그리고, 상부 및 하부 샤프트(120a, 120b)의 양단은 상부 및 하부 브라켓(130a, 130b)에 의해 공정 챔버(100)에 고정되어 있으며, 상부 및 하부 브라켓(130a, 130b) 내에는 샤프트(120a, 120b)가 회전할 수 있도록 베어링이 설치될 수 있다. 그리고 상부 및 하부 샤프트(120a, 120b) 중 어느 하나의 일단은 공정 챔버(100)의 외부로 연장되어 구동부(140)에 연결되어 있다. In addition, both ends of the upper and lower shafts 120a and 120b are fixed to the process chamber 100 by the upper and lower brackets 130a and 130b, and the shafts 120a and 120b are disposed in the upper and lower brackets 130a and 130b. Bearings may be installed to allow 120b) to rotate. One end of any one of the upper and lower shafts 120a and 120b extends to the outside of the process chamber 100 and is connected to the driving unit 140.

따라서, 기판(G)이 상부 및 하부 브러시(110a, 110b) 사이로 이송되면, 회전되는 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)를 통과하면서 세정모의 브러싱 작용에 의해 기판(G) 표면이 세정된다.Therefore, when the substrate G is transferred between the upper and lower brushes 110a and 110b, the surface of the substrate G is cleaned by the brushing action of the cleaning hair while passing through the upper and lower brushes 110a and 110b which are rotated.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 있어서 브러쉬 부분을 도시한 사시도이고, 도 4는 도 3에서 구동부를 확대한 사시도이며, 도 5는 도 3에서 샤프트의 내부를 도시한 단면도이다. 3 is a perspective view showing a brush portion in the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is an enlarged perspective view of the driving unit in Figure 3, Figure 5 is a cross-sectional view showing the inside of the shaft in Figure 3 to be.

도 3에는 상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d)가 각각 2세트 형성된 상하 2열의 브러쉬를 도시하고 있다. 기판(G)이 브러쉬(120)를 향하여 이동을 하면서 처음으로 만나는 상하부 샤프트(120a, 120b) 세트에 의해 1차 브러쉬 세정이 이루어진 후, 이어서 다시 형성되는 상하부 샤프트(120c, 120d) 세트에 의해 2차 브러쉬 세정이 수행될 수 있다. 3 shows two upper and lower rows of brushes in which two sets of upper shafts 120a and 120c and lower shafts 120b and 120d are formed, respectively. After the first brush cleaning is performed by the set of upper and lower shafts 120a and 120b where the substrate G moves toward the brush 120 for the first time, and then the upper and lower shafts 120c and 120d are formed again. Car brush cleaning can be performed.

이하, 상부와 하부로 이루어진 한 세트의 샤프트(120a, 120b)(120c, 120d)를 기초로 브러쉬를 회전시키는 원리에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, the principle of rotating the brush on the basis of a set of shafts 120a and 120b (120c and 120d) consisting of an upper portion and a lower portion will be described.

전술한 바와 같이 각 샤프트(120)의 외주면에는 브러쉬(110)가 형성된다. 상부 샤프트(120a, 120c))와 하부 샤프트(120b, 120d) 각각에 중 어느 하나에는 구동부(140a, 140b)가 연결되어 연결된 샤프트(120a, 120c)를 회전시킨다. 구동부(140)는 샤프트에 직접 연결된 모터로 구성될 수도 있고, 또는, 밀폐된 공정 챔버의 외부에 형성되어 모터에 의해 회전하는 마그네틱과 샤프트의 일단에 형성된 마그네틱 사이의 자기력에 의해 회전하는 구조일 수도 있고, 당업자에 의해 다양한 변형이 가능하다.  As described above, the brush 110 is formed on the outer circumferential surface of each shaft 120. One of each of the upper shafts 120a and 120c and the lower shafts 120b and 120d is connected to the driving units 140a and 140b to rotate the connected shafts 120a and 120c. The driving unit 140 may be configured as a motor directly connected to the shaft, or may be a structure that is formed outside the closed process chamber and rotated by a magnetic force between the magnetic rotated by the motor and the magnetic formed at one end of the shaft. And various modifications are possible by those skilled in the art.

하지만, 전술한 바와 같이 본 발명에서는 상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d) 각각에 구동부가 연결되는 것이 아니라, 상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d) 중 어느 하나에만 구동부(140a, 140b)가 연결될 수 있다. 도 3 및 도 4에서는 상부 샤프트(120a, 120c)에 구동부(140a, 140b)가 연결된 것을 도시하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. However, as described above, the driving unit is not connected to each of the upper shafts 120a and 120c and the lower shafts 120b and 120d, but any one of the upper shafts 120a and 120c and the lower shafts 120b and 120d may be used. Only one driving unit 140a or 140b may be connected. 3 and 4 illustrate that the driving units 140a and 140b are connected to the upper shafts 120a and 120c, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d)는 모두 자기력을 가지는 물질로 형성될 수 있기 때문에, 구동부(140a, 140b)에 의해 상부 샤프트(120a, 120c)가 회전을 하면, 상부 샤프트와 하부 샤프트(120a, 120b)(120c, 120d) 사이의 자기력에 의해 하부 샤프트(120b, 120d)도 상부 샤프트(120a, 120c)의 회전에 따라 회전할 수가 있다. Since the upper shafts 120a and 120c and the lower shafts 120b and 120d may both be formed of a material having magnetic force, when the upper shafts 120a and 120c rotate by the driving units 140a and 140b, the upper shaft The lower shafts 120b and 120d can also rotate with the rotation of the upper shafts 120a and 120c due to the magnetic force between the lower shafts 120a and 120b and 120c and 120d.

이에 관해서 더욱 자세히 설명하면, 도 5에 도시되어 있는 것과 같이 상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d)는 모두 마그네틱으로 형성될 수 있는데, 샤프트(120)의 원주 방향으로 따라 N극과 S극이 교번적으로 형성될 수가 있다. 따라서, 상부 샤프트와 하부 샤프트(120a, 120b)(120c, 120d) 사이의 자기력에 의해 상부 샤프트(120a, 120c)가 회전함에 따라서 하부 샤프트(120b, 120d)도 함께 회전할 수가 있는 것이다. In more detail with respect to this, as shown in FIG. 5, the upper shafts 120a and 120c and the lower shafts 120b and 120d may both be formed magnetically, and the N poles are arranged along the circumferential direction of the shaft 120. And S-poles can be formed alternately. Therefore, as the upper shafts 120a and 120c rotate by the magnetic force between the upper shafts and the lower shafts 120a and 120b (120c and 120d), the lower shafts 120b and 120d can also rotate together.

도 5에 도시되어 있는 것과 같이 제 1 열의 상부 샤프트(120a)가 반시계 방향으로 회전을 하면 N극과 S극의 자기력에 의해 하부 샤프트(120b)는 시계 방향으로 회전할 수가 있다. 마찬가지로 제 2 열의 상부 샤프트(120c)가 시계 방향으로 회전을 하면 N극과 S극의 자기력에 의해 하부 샤프트(120d)는 반시계 방향으로 회전할 수가 있다.As shown in FIG. 5, when the upper shaft 120a in the first row rotates in the counterclockwise direction, the lower shaft 120b may rotate in the clockwise direction by the magnetic forces of the N pole and the S pole. Similarly, when the upper shaft 120c in the second row rotates in the clockwise direction, the lower shaft 120d can rotate in the counterclockwise direction by the magnetic forces of the N pole and the S pole.

이때, 앞 열에 있는 상하 샤프트(120a, 120b) 일 세트와 뒤 열에 있는 상하 샤프트(120c, 120d) 일 세트 사이에는 양 세트 사이에 자기력의 영향을 차단하는 자기력 차단 물질(미도시)이 형성될 수 있다. 어느 한 세트의 회전이 다른 세트의 회전에 영향을 주지 않도록 하기 위함이다. At this time, a magnetic force blocking material (not shown) may be formed between the set of the upper and lower shafts 120a and 120b in the front row and the set of the upper and lower shafts 120c and 120d in the rear row. have. This is to ensure that one set of rotations does not affect the other set of rotations.

따라서, 본 발명에서는 상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d) 중 어느 하나의 샤프트에 연결된 구동부(140a, 140b)로부터 동력을 전달 받아 상부 샤프트(120a, 120c)와 하부 샤프트(120b, 120d)를 동시에 회전시킬 수가 있어서, 구동부를 설계하기 위한 비용을 줄 일 수 있다. Therefore, in the present invention, the power is received from the drive unit (140a, 140b) connected to any one of the upper shaft (120a, 120c) and the lower shaft (120b, 120d), the upper shaft (120a, 120c) and the lower shaft (120b) , 120d) can be rotated at the same time, thereby reducing the cost for designing the drive unit.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구 의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the scope of the following claims rather than the above description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are included in the scope of the present invention. Should be interpreted.

도 1 은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 측단면도이다. 1 is a side cross-sectional view of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에서 A-A 방향으로 본 단면도이다. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 있어서 브러쉬 부분을 도시한 사시도이다. 3 is a perspective view illustrating a brush part in the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention.

도 4는 도 3에서 구동부를 확대한 사시도이다. 4 is an enlarged perspective view of the driving unit in FIG. 3.

도 5는 도 3에서 샤프트의 내부를 도시한 단면도이다. 5 is a cross-sectional view illustrating the inside of the shaft in FIG. 3.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 공정 챔버100: process chamber

110: 브러쉬110: brush

120: 샤프트120: shaft

140: 구동부140: drive unit

200: 분사 노즐200: spray nozzle

300: 에어 나이프300: air knife

Claims (4)

회전하는 브러쉬 사이에 기판이 지나가며 세정 공정이 이루어지는 기판 세정 장치에 있어서,In a substrate cleaning apparatus in which a cleaning process is performed by passing a substrate between rotating brushes, 내부에 자기력을 가지는 자기물질을 형성하며, 외주면에 브러쉬를 형성하는 한 쌍의 샤프트로 이루어지는 상부 샤프트부;An upper shaft portion forming a magnetic material having a magnetic force therein and comprising a pair of shafts forming a brush on an outer circumferential surface thereof; 상기 기판을 중심으로 상기 상부 샤프트부에 대응하여 위치하고, 내부에 자기력을 가지는 자기물질을 형성하며, 외주면에 브러쉬를 형성하는 한 쌍의 샤프트로 이루어지는 하부 샤프트부; 및A lower shaft part positioned corresponding to the upper shaft part around the substrate, forming a magnetic material having magnetic force therein, and having a pair of shafts forming a brush on an outer circumferential surface thereof; And 상기 상부 샤프트부에 연결되어 상기 상부 샤프트부를 회전시키는 구동부를 포함하며,A driving part connected to the upper shaft part to rotate the upper shaft part, 상기 상부 및 하부 샤프트부에 형성된 브러쉬는 상하 2열로 구성되고,Brushes formed on the upper and lower shaft portion is composed of two rows of upper and lower, 상기 상부 샤프트부를 이루는 한 쌍의 샤프트 사이에 자기력을 차단하는 자기력차단물질이 형성되고, 상기 하부 샤프트부를 이루는 한 쌍의 샤프트 사이에도 자기력을 차단하는 자기력차단물질이 형성되어, 상기 상하 2열로 구성된 2개의 브러쉬 세트에서 각 브러쉬 세트가 독립적으로 회전하고,A magnetic force blocking material for blocking magnetic force is formed between the pair of shafts forming the upper shaft portion, and a magnetic force blocking material for blocking magnetic force is also formed between the pair of shafts forming the lower shaft portion. In each set of brushes, each set of brushes rotates independently, 상기 구동부에 의해 연결된 상기 상부 샤프트부가 회전을 하면, 상기 상부 및 하부 샤프트부 간의 자기력에 의해 상기 하부 샤프트부도 상기 상부 샤프트부와 반대 방향으로 회전을 하는 기판 세정 장치.And the lower shaft portion also rotates in a direction opposite to the upper shaft portion by a magnetic force between the upper and lower shaft portions when the upper shaft portion connected by the driving portion rotates. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 샤프트는 마그네틱으로 형성되는 기판 세정 장치.And the shaft is magnetically formed. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 샤프트의 원주 방향을 따라 N극과 S극이 교번적으로 형성되는 기판 세정 장치. And an N pole and an S pole are alternately formed along the circumferential direction of the shaft. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동부는, 상기 상부 샤프트부를 이루는 한 쌍의 샤프트 중 하나와 연결되어 연결된 샤프트를 회전시키는 제1 구동부 및 상기 상부 샤프트부를 이루는 한 쌍의 샤프트 중 다른 하나와 연결되어 연결된 샤프트를 회전시키는 제2 구동부로 이루어지는 기판 세정 장치. The driving unit may include a first driving unit which rotates a shaft connected to one of the pair of shafts forming the upper shaft part and a second driving unit which rotates a shaft connected to and connected with another one of the pair of shafts forming the upper shaft part. Substrate cleaning device consisting of.
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