JP2002321940A - 陽極接合用結晶化ガラス - Google Patents

陽極接合用結晶化ガラス

Info

Publication number
JP2002321940A
JP2002321940A JP2001125148A JP2001125148A JP2002321940A JP 2002321940 A JP2002321940 A JP 2002321940A JP 2001125148 A JP2001125148 A JP 2001125148A JP 2001125148 A JP2001125148 A JP 2001125148A JP 2002321940 A JP2002321940 A JP 2002321940A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
crystallized glass
anodic bonding
silicon
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001125148A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4582679B2 (ja
Inventor
Seiji Miyazaki
誠司 宮崎
Tomotaka Mori
智隆 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Techno Glass Co Ltd
Original Assignee
Asahi Techno Glass Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Techno Glass Corp filed Critical Asahi Techno Glass Corp
Priority to JP2001125148A priority Critical patent/JP4582679B2/ja
Publication of JP2002321940A publication Critical patent/JP2002321940A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4582679B2 publication Critical patent/JP4582679B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0036Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents
    • C03C10/0045Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and a divalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3 and MgO as main constituents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シリコンとの熱膨張係数差を最小限に抑え、
陽極接合温度を250℃以下である陽極接合用結晶化ガ
ラスを提供すること。 【解決手段】 β−石英またはβ−石英固溶体を主結晶
とする陽極接合用結晶化ガラスにおいて、モル%表示で
SiO2:60〜69%、Al23:12〜18%、L
2O:3〜6%、Na2O:3〜6%、MgO:1〜6
%、ZnO:0〜4%、TiO2:1〜6%、ZrO2
0〜3%を含有し、かつNa2O/Li2Oのモル比を
0.8〜1.3とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体センサの部
材などとして使用され、シリコンと好適に陽極接合でき
る結晶化ガラスに関する。なお、本明細書中で使用する
単なる“%”表示は“モル%”を示すものとする。
【0002】
【従来技術】従来、気体や液体の圧力、あるいは動体の
加速度を計測する半導体センサが、自動車や計測機器の
分野において広く実用化されている。これらは、主にシ
リコンにかかる歪や、静電容量変化を検知するものであ
り、マイクロマシニング技術により、小形化、低コスト
化および高感度化が進められている。
【0003】一方、半導体センサの部材には、シリコン
を支持する台座や基板として、シリコンに近い熱膨張係
数を有するガラスが用いられている。このガラスは、接
着剤などを用いない陽極接合法によって、シリコンと接
合ができる特徴も兼ね備えており、接合界面での残留歪
が極力抑えられることから、センサ特性の向上に寄与し
てきた。
【0004】陽極接合とは、ガラス中に含まれる易移動
性陽イオンの動きやすい温度まで加熱し、シリコン側を
陽極とし、ガラス側を陰極にして直流電圧を印加して両
者を加熱接合する方法である。ガラス中の陽イオンが陰
極へ移動した結果、シリコンとの界面の非架橋酸素イオ
ンがシリコンと共有結合するため、強固な接合がなされ
るといわれている。
【0005】従来、このような用途に適したガラスとし
て、低膨張のアルミノケイ酸ガラスが発明され、特開平
4−83733号公報に開示されている。これらのガラ
スの熱膨張曲線はシリコンの熱膨張曲線に近似し、いず
れも陽極接合できるための易移動性陽イオンとしてナト
リウムを含有しているのが特徴である。
【0006】しかしながら、ナトリウムはガラスの熱膨
張を急激に高める成分であるため、含有量に制限があ
り、その結果陽極接合中に移動しうるナトリウムイオン
の量も制限される。陽極接合を効率よく行なうために
は、より多くのナトリウムイオンを移動させることが不
可欠であり、そのため高温、高電圧が必要とされる。具
体的には、400℃、800V前後で行われているのが
実情である。
【0007】一方、近年マイクロマシニング技術の発展
により、センサが高集積化および複雑構造化に移行して
おり、シリコン、ガラスの積層、サンドイッチ構造の素
子も開発され、1個の部材で複数回の陽極接合が行われ
るようになってきた。また、基板上に回路やパターン等
を形成後、陽極接合する工程も増加してきた。
【0008】このような状況下、陽極接合の効率化の要
求とともに、センサ素子の接合時の熱的なダメージの防
止に陽極接合時の温度の低温化が求められてきた。特開
平5−9039号公報では、ガラス中に結晶を析出させ
る結晶化ガラスを用いることにより、低温化が図られて
きた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た特開平5−9039号公報には、ガラス中にβ−石英
固溶体の結晶を析出させることで、陽極接合時の低温化
を図ったものの、シリコンの熱膨張係数が34×10-7
/℃であるのに対し、前記実施例に開示されている結晶
化ガラスの熱膨張係数は27×10-7〜31×10-7
℃とシリコンのものよりも低いものしか得られていな
い。すなわち、この熱膨張差により陽極接合後に熱歪が
生じる恐れが高く、センサの感度および精度の向上を図
ることが難しいという課題があった。
【0010】したがって、本発明は上記課題を解決する
ために、シリコンとの熱膨張係数差を最小限に抑え、陽
極接合温度が250℃以下である陽極接合用結晶化ガラ
スを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明者ら
は、β−石英またはβ−石英固溶体を主結晶とする結晶
化ガラスの陽極接合時の加熱温度を低温に維持しつつ熱
膨張係数をシリコンのものと近似させるために、SiO
2、Al23、Li2O、Na2O、MgO、ZnO、B2
3、BaO、TiO2、P25、ZrO2等のβ−石英
またはβ−石英固溶体の生成や熱膨張係数に影響を与え
る成分の結晶化ガラス中の含有量を研究した結果、Li
2OおよびNa2Oの結晶化ガラス中の含有量および含有
比率を規定することによって、加熱温度を低温に維持し
つつ結晶化ガラスの熱膨張係数を調整できることを見出
した。
【0012】すなわち、本発明の請求項1に対応する発
明は、β−石英またはβ−石英固溶体を主結晶とする陽
極接合用結晶化ガラスにおいて、モル%表示でNa
2O:3〜6%およびLi2O:3〜6%を含有し、かつ
Na2O/Li2Oのモル比が0.8〜1.3とした。
【0013】この陽極接合用結晶化ガラスにおいて、ガ
ラス中にβ−石英またはβ−石英固溶体を析出させて
も、Na2Oはガラス相に残存し、陽極接合時に易移動
性陽イオンとして作用する。すなわち、結晶化ガラスの
体積抵抗率を小さくし、250℃以下の温度でシリコン
と結晶化ガラスとの陽極接合を可能にする必須成分であ
る。また、熱膨張係数を増加させる成分でもあり、結晶
化前の母ガラスの粘性を低くし、溶融性を改善する成分
でもある。
【0014】そして、その含有量が3%よりも少ない場
合は、シリコンと結晶化ガラスとの陽極接合時の加熱温
度が250℃を超え好ましくない。一方、6%を超える
場合は、ガラス相と結晶相との熱膨張差が広がるため、
結晶化の際に割れやすくなるとともに、化学的耐久性が
悪化する傾向がある。
【0015】Li2Oはβ−石英固溶体を構成するため
の必須成分である。このβ−石英固溶体が析出された結
晶化ガラスでは、Na2Oの含有により上昇された母ガ
ラスの熱膨張係数を低下させることができる。また、結
晶化前の母ガラスの粘性を低下させ、溶融性を改善する
成分でもある。
【0016】そして、その含有量が3%よりも少ない場
合は、母ガラスの溶融が困難となるとともに、結晶化す
るときの析出する結晶が少なくなり熱膨張係数の調整が
困難となる。一方、6%を超える場合は、ガラス相と結
晶相との熱膨張差が広がるため、結晶化の際に割れやす
くなるとともに、熱膨張係数の調整が困難となる。
【0017】また、上記したように、Na2O、Li2
それぞれの含有量を規定する他、Na2O/Li2Oのモ
ル比を規定することにより、結晶化ガラスの陽極接合時
の加熱温度を低温に抑えたまま、結晶化ガラスの熱膨張
係数を調整することができる。
【0018】そして、このモル比が0.8よりも小さい
場合は、ガラス中に析出する結晶相の熱膨張係数を小さ
くする影響が大きくなり、結果として結晶化ガラスとシ
リコンとの熱膨張係数の差が広がってしまい、陽極接合
後に熱歪が生じてしまう。一方、モル比が1.3より大
きい場合は、ガラス相に残存するNa2Oの熱膨張係数
を大きくする影響が大きくなり、結果として結晶化ガラ
スとシリコンとの熱膨張係数の差が広がってしまい、陽
極接合後に熱歪が生じ、センサの感度および精度の向上
が図れない。
【0019】本発明の請求項2に対応する発明は、請求
項1記載の陽極接合用結晶化ガラスにおいて、30℃か
ら400℃における平均熱膨張係数が31×10-7〜3
7×10-7/℃であり、陽極接合温度を250℃以下と
した。
【0020】本発明の請求項3に対応する発明は、請求
項1または2記載の陽極接合用結晶化ガラスにおいて、
モル%表示で、SiO2:60〜69%、Al23:1
2〜18%、Li2O:3〜6%、Na2O:3〜6%、
MgO:1〜6%、ZnO:0〜4%、TiO2:1〜
6%、ZrO2:0〜3%を含有するようにした。
【0021】本発明の結晶化ガラスについて、各成分の
組成の限定理由を以下に示す。SiO2は母ガラスを熱
処理したときに生じるβ−石英またはβ−石英固溶体を
構成する必須成分であり、また、ガラス骨格となるもの
である。その含有量が60%より少ないと、結晶の析出
が少なくなるとともに、化学的耐久性が悪化する傾向が
あり、69%を超えると母ガラスの粘性が増大し溶融性
が著しく悪化する。好ましくは62〜67%の範囲であ
る。
【0022】Al23はβ−石英固溶体を構成する成分
であるとともに、母ガラスの安定性と化学的耐久性を向
上させる成分である。その含有量が12%より少ない
と、結晶の析出が少なくなるとともに分相化傾向が大き
くなり、18%を超えてしまうと、母ガラスを均質に溶
融することが困難となる。好ましくは13〜16%の範
囲である。
【0023】MgOはβ−石英に固溶しうる成分である
とともに、母ガラスを安定にし、溶融性を向上させる成
分であり、熱膨張係数の微調整に有効な成分でもある。
その含有量が1%より少ないと、溶融性の向上および熱
膨張係数の微調整できるという効果がなく、6%を越え
ると、異種結晶が析出しやすくなるとともに体積抵抗率
が大きくなる。好ましくは2〜5%の範囲である。
【0024】ZnOは任意成分であるが、ガラス中に含
有することにより、MgOと同様な効果を得られる成分
である。しかし、その含有量が4%を越えると、異種結
晶が析出しやすくなる。好ましくは3%までである。
【0025】TiO2は結晶核形成に有効な成分であ
り、微細で均一な結晶を析出させる役割を果たす。その
含有量が1%より少ないと、結晶核が少なくなり主結晶
が粗大化する。6%を越えても、これ以上の結晶核とし
ての効果は得られないとともに、母ガラスの失透化傾向
が強くなる。好ましくは1〜4%の範囲である。
【0026】ZrO2は任意成分であるが、ガラス中に
含有することにより、TiO2と同様な効果を得られる
成分である。しかし、その含有量が3%を超えると、未
溶融物として母ガラスに残存する可能性が高くなる。好
ましくは2%までである。
【0027】上記結晶化ガラスの成分には記載しなかっ
たが、その他の任意成分として、B 23、P25、K2
O、CaO、SrO、BaO、Sb23、SO3、塩化
物、フッ化物等を適宜含有してもよい。
【0028】B23およびP25は母ガラスの溶融性向
上のために効果のある成分であるが、主結晶の粒径を増
大させ、体積抵抗率を増大させる傾向があるので、含有
するとしてもそれぞれ3%以下が望ましい。
【0029】また、K2O、CaO、SrOおよびBa
Oも母ガラスの溶融性向上のために含有することができ
るが、各成分が2%を超えると、結晶化ガラスの体積抵
抗率が大きくなり、陽極接合温度の低温化を阻害する。
【0030】Sb23、SO3、塩化物およびフッ化物
は母ガラスの溶融の際の清澄剤として、少なくとも一種
の成分を1%まで含有してもよい。
【0031】本発明の請求項4に対応する発明は、シリ
コンを接合する台座において、請求項1ないし3のいず
れかに記載された結晶化ガラスを使用した。また、本発
明の請求項5に対応する発明は、シリコン基体からなる
圧力検出部と、この圧力検出部に接合された台座とを備
えた半導体センサにおいて、前記台座に請求項4記載の
台座を使用した。このように、上記した結晶化ガラスを
半導体センサに使用することにより、圧力検出部として
使用されるシリコンとの接合性および接合強度も良好な
ものが得られる。
【0032】
【発明の実施の形態】この実施の形態の陽極接合用結晶
化ガラスは、酸化物組成でSiO2:60〜69%、A
23:12〜18%、Li2O:3〜6%、Na2O:
3〜6%、MgO:1〜6%、ZnO:0〜4%、Ti
2:1〜6%、ZrO2:0〜3%を含有したものを母
ガラスとする。または、この組成の他にP25:0〜3
%やB 23:0〜3%を加えたものを母ガラスとする。
そして、この母ガラスを1550〜1650℃で加熱溶
融した後、型材等に流し込み成形、徐冷してガラスブロ
ックを作製する。その後、ガラスブロックを700〜9
00℃まで加熱し、1〜24時間保持して所定量の主結
晶(β−石英またはβ−石英固溶体)を析出、成長させ
冷却後、所定サイズに加工する。なお、結晶核を効率よ
く析出させるために、上記加熱の前に、1次熱処理とし
て650〜780℃で1〜5時間の熱処理工程を加えて
も構わない。また、清澄剤として、Sb23、SO3
塩化物、フッ化物を少なくとも一種添加してもよい。
【0033】このようにして得られた本発明の陽極接合
用結晶化ガラスは、易移動性陽イオンを多く含むので、
250℃以下の低温で陽極接合が可能となり、また、N
2O/Li2Oのモル比が0.8〜1.3の範囲内にあ
るので、30〜400℃までの平均熱膨張係数が31×
10-7〜37×10-7/℃となり、シリコンの熱膨張曲
線に極めて近似している。したがって、本発明の結晶化
ガラスを使用することによって、陽極接合後の接合体の
熱的なダメージが極めて軽微に抑えられ、センサ特性の
向上を図ることができた。
【0034】
【実施例】本発明の実施例を表1に示す。
【表1】
【0035】(実施例1)陽極接合用結晶化ガラスはS
iO2:64%、Al23:15%、Li2O:5.7
%、Na2O:5.2%、MgO:2%、ZnO:3
%、TiO2:2%、ZrO2:2%、P25:0.4
%、Sb23:0.6%を含有したものを母ガラスとす
る。この母ガラスは酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩
等の原料を調合して得ている。そして、調合した原料を
1630℃の抵抗加熱式電気炉に投入し、10時間溶融
し、脱泡、均質化した後、型材に流し込み、所定温度で
徐冷し、ガラスブロックを作製した。次に、このガラス
ブロックを電気炉で800℃で3時間保持し、結晶を析
出させ、徐冷後結晶化ガラスブロックを形成した。この
結晶化ガラスは透明なものとなっていた。
【0036】この結晶化ガラスブロックをX線回折装置
により分析したところ回折パターンからβ−石英または
β−石英固溶体が主結晶として析出していた。また、β
−石英およびβ−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子顕
微鏡により、観察したところ最大の結晶粒径のものでも
150nmを超えるものはなかった。
【0037】そして、上記結晶化ガラスブロックの熱膨
張を測定する試験片と陽極接合用に表面を鏡面研磨した
板材(φ100mm)を加工した。この試験片を用いて
示差熱膨張計により、熱膨張率を測定し30℃〜400
℃までの平均熱膨張係数を計算したところ、32×10
-7/℃であった。
【0038】また、陽極接合は、図1に示すようなカー
ボンからなるヒーター3、4と電極3、5を兼ね備えた
装置内に、シリコンウェハー1と鏡面研磨した結晶化ガ
ラス板材2を配置し、真空中でヒーター3、4を通電加
熱し、所定温度まで昇温後、シリコン側をプラス、結晶
化ガラス側をマイナスにし800Vの直流電圧を10分
間印加することで行なった。なお、加熱温度を190
℃、220℃、250℃とし、接合サンプルの外観観察
の結果、それぞれの温度で90%、92%、95%接合
領域が形成され、剥れも生じることなく良好な接合が得
られた。この外観観察では、陽極接合後結晶化ガラス側
からの目視で接合部を見て接合領域を割り出した。
【0039】また、シリコン−結晶化ガラスの接合体の
平均強度について、ダイシングにより小片にしたサンプ
ルの両側に治具を接着し引張強度試験機を用いて測定し
たところ、前記加熱温度190℃、220℃、250℃
のサンプルごとに8MPa、6MPa、6MPaの強度
を有していた。この測定に関しては、全てのサンプルで
結晶化ガラスとシリコンとの接合面の剥れたときの力を
測定できたものではなく、接合面よりも結晶化ガラスま
たはシリコン自体が破損する場合もあったので、接合温
度によって強度が強くなるまたは弱くなるという相関は
得られなかった。
【0040】(実施例2)陽極接合用結晶化ガラスはS
iO2:61%、Al23:17%、Li2O:5.3
%、Na2O:4.3%、MgO:3%、ZnO:4
%、TiO2:5%、Sb23:0.4%となるよう
に、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を調合
する。そして調合した原料を1600℃の抵抗加熱式電
気炉に投入し、11時間溶融し、実施例1と同様にガラ
スブロックを作製した。次に、このガラスブロックを電
気炉で730℃で2時間熱処理を行ない、ガラス中に結
晶核の生成を行ない、次いで、830℃で2時間熱処理
を行ない、ガラス中に結晶を析出させ、結晶化ガラスブ
ロックを形成した。この結晶化ガラスブロックも透明な
ものとなっていた。
【0041】この結晶化ガラスブロックをX線回折装置
により分析したところ回折パターンからβ−石英または
β−石英固溶体が主結晶として析出されていた。また、
β−石英およびβ−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子
顕微鏡により、観察したところ最大の結晶粒径のもので
も100nmを超えるものはなかった。
【0042】そして、この結晶化ガラスの30〜400
℃までの平均熱膨張係数を示差熱膨張計により測定した
ところ、31×10-7/℃であった。また、実施例1と
同様に、シリコンと結晶化ガラス板材との接合試験を行
なったところ、190℃では91%、220℃では94
%、250℃では95%で、いずれの加熱温度でも接合
領域が90%以上形成され、良好な接合が得られた。
【0043】また、シリコン−結晶化ガラスの接合体の
平均強度について、引張強度試験機を用いて測定したと
ころ、前記加熱温度190℃、220℃、250℃のサ
ンプルごとに6MPa、9MPa、8MPaの強度を有
していた。
【0044】(実施例3)陽極接合用結晶化ガラスの母
ガラスはSiO2:66%、Al2 3:15%、Li
2O:3.9%、Na2O:4.3%、MgO:4%、Z
nO:3%、TiO2:2%、ZrO2:1%、P25
0.5%、Sb23:0.3%となるように、酸化物、
水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を調合する。そして
調合した原料を1620℃の抵抗加熱式電気炉に投入
し、11時間溶融し、実施例1と同様にガラスブロック
を作製した。次に、このガラスブロックを電気炉で75
0℃で24時間熱処理を行ない、ガラス中に結晶を析出
させ、結晶化ガラスブロックを形成した。
【0045】この結晶化ガラスブロックをX線回折装置
により分析したところ回折パターンからβ−石英または
β−石英固溶体が主結晶として析出されていた。また、
β−石英およびβ−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子
顕微鏡により、観察したところ最大の結晶粒径のもので
も130nmを超えるものはなかった。
【0046】そして、この結晶化ガラスの30〜400
℃までの平均熱膨張係数を示差熱膨張計により測定した
ところ、34×10-7/℃であった。また、実施例1と
同様に、シリコンと結晶化ガラス板材との接合試験を行
なったところ、190℃では90%、220℃では93
%、250℃では95%で、いずれの加熱温度でも接合
領域が90%以上形成され、良好な接合が得られた。
【0047】また、シリコン−結晶化ガラスの接合体の
平均強度について、引張強度試験機を用いて測定したと
ころ、前記加熱温度190℃、220℃、250℃のサ
ンプルごとに7MPa、7MPa、11MPaの強度を
有していた。
【0048】(実施例4)陽極接合用結晶化ガラスの母
ガラスはSiO2:62%、Al2 3:17%、Li
2O:4.8%、Na2O:4.6%、MgO:5%、Z
nO:2%、TiO2:3%、ZrO2:1%、Sb
23:0.6%となるように、酸化物、水酸化物、炭酸
塩、硝酸塩等の原料を調合する。そして調合した原料を
1600℃の抵抗加熱式電気炉に投入し、10時間溶融
し、実施例1と同様にガラスブロックを作製した。次
に、このガラスブロックを電気炉で750℃で2時間熱
処理を行ない、ガラス中に結晶核の生成を行ない、次い
で、830℃で2時間熱処理を行ない、ガラス中に結晶
を析出させ、結晶化ガラスブロックを形成した。
【0049】この結晶化ガラスブロックをX線回折装置
により分析したところ回折パターンからβ−石英または
β−石英固溶体が主結晶として析出されていた。また、
β−石英およびβ−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子
顕微鏡により、観察したところ最大の結晶粒径のもので
も160nmを超えるものはなかった。
【0050】そして、この結晶化ガラスの30〜400
℃までの平均熱膨張係数を示差熱膨張計により測定した
ところ、33×10-7/℃であった。また、実施例1と
同様に、シリコンと結晶化ガラス板材との接合試験を行
なったところ、190℃では91%、220℃では93
%、250℃では96%で、いずれの加熱温度でも接合
領域が90%以上形成され、良好な接合が得られた。
【0051】また、シリコン−結晶化ガラスの接合体の
平均強度について、引張強度試験機を用いて測定したと
ころ、前記加熱温度190℃、220℃、250℃のサ
ンプルごとに8MPa、5MPa、7MPaの強度を有
していた。
【0052】(実施例5)陽極接合用結晶化ガラスの母
ガラスはSiO2:68%、Al2 3:13%、Li
2O:3.2%、Na2O:4.1%、MgO:4%、Z
nO:2%、TiO2:1%、ZrO2:2%、P25
1%、B23:1%、Sb23:0.7%となるよう
に、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を調合
する。そして調合した原料を1650℃の抵抗加熱式電
気炉に投入し、12時間溶融し、実施例1と同様にガラ
スブロックを作製した。次に、800℃で10時間熱処
理を行ない、ガラス中に結晶を析出させ、結晶化ガラス
ブロックを形成した。
【0053】この結晶化ガラスブロックをX線回折装置
により分析したところ回折パターンからβ−石英または
β−石英固溶体が主結晶として析出されていた。また、
β−石英およびβ−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子
顕微鏡により、観察したところ最大の結晶粒径のもので
も120nmを超えるものはなかった。
【0054】そして、この結晶化ガラスの30〜400
℃までの平均熱膨張係数を示差熱膨張計により測定した
ところ、36×10-7/℃であった。また、実施例1と
同様に、シリコンと結晶化ガラス板材との接合試験を行
なったところ、190℃では85%、220℃では92
%、250℃では93%となり、190℃では接合領域
が90%を超えなかったが、強度的には7MPaと十分
なものが得られた。また、220℃では10MPa、2
50℃では12MPaの強度を有していた。
【0055】(実施例6)陽極接合用結晶化ガラスの母
ガラスはSiO2:67%、Al2 3:14%、Li
2O:3.7%、Na2O:3.8%、MgO:6%、Z
nO:1%、TiO2:2%、ZrO2:1%、P25
0.7%、Sb23:0.8%となるように、酸化物、
水酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を調合する。そして
調合した原料を1620℃の抵抗加熱式電気炉に投入
し、12時間溶融し、実施例1と同様にガラスブロック
を作製した。次に、このガラスブロックを電気炉で75
0℃で2時間熱処理を行ない、ガラス中に結晶核の生成
を行ない、次いで、830℃で2時間熱処理を行ない、
ガラス中に結晶を析出させ、結晶化ガラスブロックを形
成した。
【0056】この結晶化ガラスブロックをX線回折装置
により分析したところ回折パターンからβ−石英または
β−石英固溶体が主結晶として析出されていた。また、
β−石英およびβ−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子
顕微鏡により、観察したところ最大の結晶粒径のもので
も150nmを超えるものはなかった。
【0057】そして、この結晶化ガラスの30〜400
℃までの平均熱膨張係数を示差熱膨張計により測定した
ところ、34×10-7/℃であった。また、実施例1と
同様に、シリコンと結晶化ガラス板材との接合試験を行
なったところ、190℃では88%、220℃では92
%、250℃では94%となり、190℃では接合領域
が90%を超えなかったが、強度的には6MPaと十分
なものが得られた。また、220℃では8MPa、25
0℃では7MPaの強度を有していた。
【0058】本実施例では、JIS C 2141「電
気絶縁用セラミック材料試験方法」を用いて測定した結
果、250℃での体積抵抗率が1.1×106Ω・cm2
〜4.0×106Ω・cm2となり、陽極接合を行なうに
は十分に低い値であった。この250℃での体積抵抗率
が5.0×106Ω・cm2を超えてしまうと、ナトリウ
ムイオンが移動し辛くなり、良好に陽極接合ができなく
なる。
【0059】上記した実施例では、印加電圧を800V
とし、印加時間を10分としたが、印加電圧を500V
としても印加時間を30分にするようにすれば、良好な
接合領域および接合強度が得られる。
【0060】(比較例)比較例1は、陽極接合用ガラス
にホウケイ酸ガラスを用いた例である。このガラスは平
均熱膨張係数が32×10-7/℃で接合するシリコンと
近く接合後の歪による不具合が生じるおそれはないが、
シリコンとの接合時の加熱温度を350℃まで上昇させ
なければ接合できなかった。
【0061】比較例2および3は、本願と同様にLi2
OおよびNa2Oを含む母ガラスを加熱処理して、結晶
を析出させた結晶化ガラスを用いた例である。これらの
ガラスは、シリコンとの接合時の加熱温度が190℃で
も、接合領域が90%、80%となっており、強度的に
は問題なかったが、平均熱膨張係数が27×10-7
℃、38×10-7/℃とシリコンの平均熱膨張係数との
差が大きすぎるため、接合後に熱歪が生じた。
【0062】表1中には記載しなかったが、ガラス中の
Na2OおよびLi2Oの含有割合がそれぞれ3〜6%で
あり、かつNa2O/Li2Oが0.8〜1.3の範囲内
であっても、ガラスの結晶化が不十分でガラス相中にL
2Oが多く残存した場合には、ガラス相中に存在する
Na2Oとの混合アルカリ効果でナトリウムイオンの移
動が抑制され、体積膨張率が増大し、陽極接合の低温化
を達成することができなかった。
【0063】
【発明の効果】本発明の結晶化ガラスは、易移動性陽イ
オンを多く含有しているため、250℃以下の温度で陽
極接合ができ、かつ熱膨張係数が31×10−7〜37
×10−7/℃とシリコンと近い値を示す。本発明の結
晶化ガラスは、シリコンと熱膨張係数が近いのみなら
ず、低温でシリコンと陽極接合できるため、冷却後のシ
リコン−結晶化ガラス接合体の熱歪みが極めて小さく、
優れたセンサ特性を有するシリコン−結晶化ガラス接合
体が得られる。さらに、陽極接合の歩留向上、タクト短
縮の効果も有する。また、センサ回路保護だけでなく、
比較的熱に弱い部材の使用範囲を広げる効果を有する。
したがって、本発明の結晶化ガラスは、シリコンと陽極
接合する結晶化ガラスとして好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】陽極接合の概要を説明する説明図である。
【図2】NaOとLiOのモル比と熱膨張係数の関
係を示すグラフである。
【符号の説明】
1…シリコン、2…陽極接合用結晶化ガラス、3…マイ
ナス電極兼陰極側ヒータ、4…陽極側ヒータ、5…プラ
ス電極
フロントページの続き Fターム(参考) 4G062 AA11 BB01 CC09 CC10 DA06 DB04 DC01 DC02 DC03 DD01 DD02 DD03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA03 EB03 EC01 EC02 EC03 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG02 EG03 FA01 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GB02 GC01 GD01 GE01 GE02 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH10 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN29 NN40 QQ02 4M112 AA01 CA41 DA18 EA13 FA09

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 β−石英またはβ−石英固溶体を主結晶
    とする結晶化ガラスにおいて、モル%表示でNa2O:
    3〜6%およびLi2O:3〜6%を含有し、かつNa2
    O/Li2Oのモル比が0.8〜1.3であることを特
    徴とする陽極接合用結晶化ガラス。
  2. 【請求項2】 30℃から400℃における平均熱膨張
    係数が31×10-7〜37×10-7/℃であり、陽極接
    合温度が250℃以下であることを特徴とする請求項1
    記載の陽極接合用結晶化ガラス。
  3. 【請求項3】 モル%表示で、SiO2:60〜69
    %、Al23:12〜18%、Li2O:3〜6%、N
    2O:3〜6%、MgO:1〜6%、ZnO:0〜4
    %、TiO2:1〜6%、ZrO2:0〜3%を含有する
    ことを特徴とする請求項1または2記載の陽極接合用結
    晶化ガラス。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかに記載され
    た結晶化ガラスからなることを特徴とするシリコン接合
    用台座。
  5. 【請求項5】 シリコン基体からなる圧力検出部と、こ
    の圧力検出部に接合された台座とを備えた半導体センサ
    において、前記台座が請求項4記載の台座であることを
    特徴とする半導体センサ。
JP2001125148A 2001-04-24 2001-04-24 陽極接合用結晶化ガラス Expired - Lifetime JP4582679B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001125148A JP4582679B2 (ja) 2001-04-24 2001-04-24 陽極接合用結晶化ガラス

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001125148A JP4582679B2 (ja) 2001-04-24 2001-04-24 陽極接合用結晶化ガラス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002321940A true JP2002321940A (ja) 2002-11-08
JP4582679B2 JP4582679B2 (ja) 2010-11-17

Family

ID=18974420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001125148A Expired - Lifetime JP4582679B2 (ja) 2001-04-24 2001-04-24 陽極接合用結晶化ガラス

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4582679B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007197310A (ja) * 2005-12-28 2007-08-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 結晶化ガラスおよびそれを用いた反射鏡基材並びに反射鏡
JP2012231161A (ja) * 2003-02-18 2012-11-22 Corning Inc ガラスベースsoi構造
JP2013028512A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラスおよびガラス基板
KR20150067273A (ko) * 2012-10-04 2015-06-17 코닝 인코포레이티드 유리층 및 유리-세라믹층을 갖는 제품 및 이의 제조 방법
WO2016017435A1 (ja) * 2014-07-30 2016-02-04 日本電気硝子株式会社 結晶化ガラス
US10202303B2 (en) 2012-10-04 2019-02-12 Corning Incorporated Compressively stressed laminated glass article via photosensitive glass and method of making the article
US10357945B2 (en) 2012-10-04 2019-07-23 Corning Incorporated Laminated glass article with ceramic phase and method of making the article
CN111315697A (zh) * 2017-10-31 2020-06-19 康宁股份有限公司 具有高液相线粘度的过铝质锂铝硅酸盐
JP2020203831A (ja) * 2013-08-30 2020-12-24 コーニング インコーポレイテッド イオン交換可能なガラス、ガラスセラミック、およびその製造方法
CN112390534A (zh) * 2019-08-12 2021-02-23 浙江矽瓷科技有限公司 一种可用于气密性封装的低温共烧低电压可阳极键合微晶玻璃材料及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH059039A (ja) * 1991-06-28 1993-01-19 Hoya Corp 結晶化ガラス
JPH07263318A (ja) * 1994-03-25 1995-10-13 Hoya Corp X線マスク又はx線マスク材料の支持体用ガラス、x線マスク材料及びx線マスク

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH059039A (ja) * 1991-06-28 1993-01-19 Hoya Corp 結晶化ガラス
JPH07263318A (ja) * 1994-03-25 1995-10-13 Hoya Corp X線マスク又はx線マスク材料の支持体用ガラス、x線マスク材料及びx線マスク

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012231161A (ja) * 2003-02-18 2012-11-22 Corning Inc ガラスベースsoi構造
JP2007197310A (ja) * 2005-12-28 2007-08-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 結晶化ガラスおよびそれを用いた反射鏡基材並びに反射鏡
JP2013028512A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラスおよびガラス基板
US10357945B2 (en) 2012-10-04 2019-07-23 Corning Incorporated Laminated glass article with ceramic phase and method of making the article
JP2016500628A (ja) * 2012-10-04 2016-01-14 コーニング インコーポレイテッド ガラス層とガラスセラミック層を有する物品およびその物品の製造方法
KR20150067273A (ko) * 2012-10-04 2015-06-17 코닝 인코포레이티드 유리층 및 유리-세라믹층을 갖는 제품 및 이의 제조 방법
US10202303B2 (en) 2012-10-04 2019-02-12 Corning Incorporated Compressively stressed laminated glass article via photosensitive glass and method of making the article
US10570055B2 (en) 2012-10-04 2020-02-25 Corning Incorporated Article with glass layer and glass-ceramic layer and method of making the article
US11008246B2 (en) 2012-10-04 2021-05-18 Corning Incorporated Compressively stressed laminated glass article via photosensitive glass and method of making the article
KR102129504B1 (ko) * 2012-10-04 2020-07-06 코닝 인코포레이티드 유리층 및 유리-세라믹층을 갖는 제품 및 이의 제조 방법
EP2903945B1 (en) * 2012-10-04 2020-09-02 Corning Incorporated Article with glass layer and glass-ceramic layer and method of making the article
JP7330932B2 (ja) 2013-08-30 2023-08-22 コーニング インコーポレイテッド イオン交換可能なガラス、ガラスセラミック、およびその製造方法
US11667563B2 (en) 2013-08-30 2023-06-06 Corning Incorporated Ion exchangeable glass, glass ceramics and methods for making the same
JP2020203831A (ja) * 2013-08-30 2020-12-24 コーニング インコーポレイテッド イオン交換可能なガラス、ガラスセラミック、およびその製造方法
WO2016017435A1 (ja) * 2014-07-30 2016-02-04 日本電気硝子株式会社 結晶化ガラス
JPWO2016017435A1 (ja) * 2014-07-30 2017-04-27 日本電気硝子株式会社 結晶化ガラス
CN106573826A (zh) * 2014-07-30 2017-04-19 日本电气硝子株式会社 结晶化玻璃
CN111315697A (zh) * 2017-10-31 2020-06-19 康宁股份有限公司 具有高液相线粘度的过铝质锂铝硅酸盐
CN111315697B (zh) * 2017-10-31 2022-10-11 康宁股份有限公司 具有高液相线粘度的过铝质锂铝硅酸盐
US11820706B2 (en) 2017-10-31 2023-11-21 Corning Incorporated Peraluminous lithium aluminosilicates with high liquidus viscosity
CN112390534A (zh) * 2019-08-12 2021-02-23 浙江矽瓷科技有限公司 一种可用于气密性封装的低温共烧低电压可阳极键合微晶玻璃材料及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP4582679B2 (ja) 2010-11-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3762157B2 (ja) 陽極接合用ガラス
KR101808346B1 (ko) 높은 열 및 화학적 안정성을 갖는 무알칼리 유리, 이로부터 제조된 시트, 및 유리의 제조 방법
CN109803937B (zh) 玻璃陶瓷
JP5008214B2 (ja) 低膨張ガラスセラミックス
JP2005145813A (ja) ガラスセラミックおよびその製造方法
JP5387411B2 (ja) 基板用ガラス板
JP2691263B2 (ja) 透明結晶化ガラス
TW201100348A (en) Glass substrate for display and display
JP2010001216A (ja) リチア−アルミナ−シリカを含むガラス組成物および化学的焼戻しに適したガラスならびに化学的に焼戻しされたガラスを用いて製造される物品
WO1991010627A1 (en) Metaphosphate glass composition
JP3800443B2 (ja) ディスプレイ用無アルカリガラス基板及びその製造方法
JP3144830B2 (ja) 結晶化ガラス
JP2002321940A (ja) 陽極接合用結晶化ガラス
WO2024109495A1 (zh) 一种3d微晶玻璃及其制备方法、预晶化微晶玻璃
WO2019150930A1 (ja) ガラス
JP2006036625A (ja) 無アルカリガラス基板
JP3388453B2 (ja) X線マスク又はx線マスク材料の支持体用ガラス、x線マスク材料及びx線マスク
EP3326979A1 (en) Borosilicate glass for pharmaceutical container
JP7327570B2 (ja) 化学強化ガラスおよび結晶化ガラス並びにそれらの製造方法
JP4686858B2 (ja) フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
WO2006064878A1 (ja) ガラス組成物およびその製造方法
JP2011073935A (ja) 結晶化ガラス
JP2008013434A (ja) 耐クラック性に優れた無アルカリガラス
JP2003238202A (ja) 陽極接合用結晶化ガラス
JP2011111364A (ja) 陽極接合用ガラス

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070510

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100507

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100706

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100827

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100827

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4582679

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130910

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130910

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term