JP2002313688A - Wafer-bonding apparatus - Google Patents

Wafer-bonding apparatus

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JP2002313688A
JP2002313688A JP2001117182A JP2001117182A JP2002313688A JP 2002313688 A JP2002313688 A JP 2002313688A JP 2001117182 A JP2001117182 A JP 2001117182A JP 2001117182 A JP2001117182 A JP 2001117182A JP 2002313688 A JP2002313688 A JP 2002313688A
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Japan
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wafer
bonding
bonding apparatus
spacer
stage
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhito Nunotani
谷 伸 仁 布
Yoshiro Ishida
田 芳 郎 石
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent void from being generated in an adhesion interface as much as possible, and at the same time to allow a wafer-bonding apparatus to be used even in vacuum. SOLUTION: The wafer-bonding apparatus comprises a stage 11 where a first wafer 2a is placed; a spacer section 13 that can travel in a horizontal direction and supports a second wafer 2b so that it opposes a first wafer with a specific interval; a guide section 11a that is provided on the stage, positions the first and second wafers, and at the same time fixes the first and second wafers so that they do not move horizontally; an adhesion mechanism 15 that has a hp section in a smooth projection shape, allows the second wafer to adhere the first one from the center of the second wafer toward the outer periphery when the tip section is brought into contact with nearly the center of the second wafer, and then is subjected to force for pressing the second wafer; and a press force generation section for generating press force.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ接着装置
に関するもので、特にウェーハの接着に使用されるもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer bonding apparatus, and more particularly to a wafer bonding apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、2枚のウェーハの接着を行う際
には、ウェーハ接着装置が用いられる。従来のウェーハ
接着装置を図5を参照して説明する。接着すべき2枚の
ウェーハ2a、2bのうちの一方のウェーハ2aは平坦
なステージ101に真空吸着され、他方のウェーハ2b
は、凸面形状のステージ102に真空吸着される。従っ
て、ウェーハ2bはステージ102に倣い、凸形状に吸
着される。この状態で、両者のウェーハ2a、2bの接
着面をお互いに向い合わせた後、ステージ102を上下
方向に駆動する駆動機構110によってステージ102
を下方に移動させて、ウェーハ2bの中心の凸部分をウ
ェーハ2aの中心に接触させてからウェーハ2a、2b
同士を押し付け合い、接着を行う構成となっている。
2. Description of the Related Art In general, when bonding two wafers, a wafer bonding apparatus is used. A conventional wafer bonding apparatus will be described with reference to FIG. One wafer 2a of the two wafers 2a and 2b to be bonded is vacuum-sucked on a flat stage 101, and the other wafer 2b
Is vacuum-sucked on the stage 102 having a convex shape. Therefore, the wafer 2b follows the stage 102 and is attracted in a convex shape. In this state, after the bonding surfaces of the two wafers 2a and 2b face each other, the stage 102 is driven by a driving mechanism 110 that drives the stage 102 in the vertical direction.
Is moved downward so that the center convex portion of the wafer 2b contacts the center of the wafer 2a, and then the wafers 2a and 2b
The structure is such that they are pressed together and bonded.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このとき、ウェーハを
押しつける際にステージ102が凸のままだと、ウェー
ハ2a、2bヘの圧力が大きくなる。このため、周辺部
を開放して凸状態を緩和してやる必要があるが、図6に
示すように、緩和を急激に行うと接着界面にボイド12
0と呼ばれる空気の泡が混入し、このボイドが残ってし
まうという問題が生じる。このため真空中での接着も行
われているが、真空中だとウェーハの吸着方法が限定さ
れ、凸状の形状が安定して作りにくいとの欠点が有る。
At this time, if the stage 102 remains convex when pressing the wafer, the pressure on the wafers 2a and 2b increases. For this reason, it is necessary to open the peripheral portion to alleviate the convex state. However, as shown in FIG.
There is a problem that air bubbles called “0” are mixed in and the voids remain. For this reason, bonding is performed in a vacuum. However, in a vacuum, the method of adsorbing a wafer is limited, and there is a drawback that it is difficult to stably form a convex shape.

【0004】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
のであって、接着界面にボイドが発生するのを可及的に
防止することができるとともに、真空中でも使用するこ
とが可能なウェーハ接着装置を提供することを目的とす
る。
[0004] The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to prevent the occurrence of voids at the bonding interface as much as possible and to use a wafer bonding method that can be used even in a vacuum. It is intended to provide a device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によるウェーハ接
着装置は、第1のウェーハが載置されるステージと、水
平方向に移動可能でかつ所定の間隔をもって前記第1の
ウェーハに対向するように第2のウェーハを支持するス
ペーサ部と、前記ステージ上に設けられ前記第1および
第2のウェーハを位置決めするとともに前記第1および
第2のウェーハが水平方向に動かないように固定するガ
イド部と、先端部が滑らかな凸形状を有しており、前記
先端部が前記第2のウェーハのほぼ中心に接触した後、
前記第2のウェーハを押圧する力を受けると前記第2の
ウェーハの中心から外周に向かって前記第2のウェーハ
を前記第1のウェーハに接着させる接着機構と、前記押
圧する力を発生する押圧力発生部と、を備えたことを特
徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A wafer bonding apparatus according to the present invention is arranged so that a stage on which a first wafer is mounted is horizontally movable and faces the first wafer at a predetermined interval. A spacer section for supporting a second wafer, and a guide section provided on the stage for positioning the first and second wafers and fixing the first and second wafers so as not to move in the horizontal direction. The tip has a smooth convex shape, and after the tip contacts substantially the center of the second wafer,
A bonding mechanism for bonding the second wafer to the first wafer from the center of the second wafer toward the outer periphery when receiving a pressing force for the second wafer; and a pressing mechanism for generating the pressing force. And a pressure generating unit.

【0006】なお、前記接着機構は、凸形状のバネ部材
と、一端に前記バネ部材が固定され、軸方向に伸縮可能
な伸縮部材とを備え、前記伸縮部材の他端および前記バ
ネ部材から前記押圧する力を受けるように構成しても良
い。
[0006] The bonding mechanism includes a convex spring member, and an elastic member having the spring member fixed to one end and capable of expanding and contracting in the axial direction. It may be configured to receive a pressing force.

【0007】なお、前記接着機構は、上下方向に移動可
能な軸部材と、この軸部材の一端に、口が固定された袋
状のバネ部材を有しており、前記軸部材の他端に前記押
圧する力を受けるように構成しても良い。
The bonding mechanism has a vertically movable shaft member, and a bag-shaped spring member having a mouth fixed at one end of the shaft member. It may be configured to receive the pressing force.

【0008】なお、前記接着機構は、中に加圧された流
体が押し込まれる袋状の弾性部材を備え、前記流体が押
し込まれることにより前記押圧する力が発生するように
構成しても良い。
The bonding mechanism may include a bag-shaped elastic member into which the fluid pressurized is pushed, and the pushing force is generated by pushing the fluid.

【0009】なお、前記スペーサ部は複数個設けられ、
それぞれは、先端部が楔型形状を有しており、前記第2
のウェーハを押す力が前記第2のウェーハに作用したと
き、それぞれのスペーサ部は第2のウェーハの外周方向
に移動することにより第1のウェーハと第2のウェーハ
の間隔が零となるように構成しても良い。
A plurality of the spacer portions are provided,
Each has a wedge-shaped tip, and the second
When the force for pushing the wafer is applied to the second wafer, the respective spacer portions move in the outer peripheral direction of the second wafer so that the distance between the first wafer and the second wafer becomes zero. You may comprise.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明によるウェーハ接着装置の
実施形態を図面を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a wafer bonding apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0011】(第1実施形態)本発明によるウェーハ接
着装置の第1実施形態の構成を図1(a)に示す。この
実施形態のウェーハ接着装置10は、ステージ11と、
スペーサ駆動部12と、複数のスペーサ13と、ウェー
ハ圧縮部15と、荷重センサ19と、圧縮駆動部21,
25と、部材22と、軸部材23と、ストッパ部材27
と、蓋部材28とを備えている。ステージ11には接着
すべき2枚のウェーハ2a、2bのうちの一方のウェー
ハ2aが載置される。このウェーハ2aはステージ11
に設けられているガイド11aによってステージ11上
に位置決めされるとともに水平方向に動かないように固
定される。また、ウェーハ2bもガイド11aによって
位置決めされるとともに水平方向に動かないように固定
される。複数のスペーサ13は、それぞれ、先端部が楔
形状であって、スペーサ駆動部12によって水平方向に
移動可能なように駆動される。そして、これらのスペー
サ13は、接着すべき2枚のウェーハ2a、2bのうち
の他方のウェーハ2bを接着前に、ウェーハ2aと所定
の間隔に保持する。
(First Embodiment) FIG. 1A shows the structure of a first embodiment of the wafer bonding apparatus according to the present invention. The wafer bonding apparatus 10 of this embodiment includes a stage 11,
The spacer drive unit 12, the plurality of spacers 13, the wafer compression unit 15, the load sensor 19, the compression drive unit 21,
25, member 22, shaft member 23, stopper member 27
And a lid member 28. On the stage 11, one of the two wafers 2a and 2b to be bonded is placed. The wafer 2a is placed on the stage 11
The guide 11a is positioned on the stage 11 and fixed so as not to move in the horizontal direction. The wafer 2b is also positioned by the guide 11a and fixed so as not to move in the horizontal direction. Each of the plurality of spacers 13 has a wedge-shaped tip, and is driven by the spacer driving unit 12 so as to be movable in the horizontal direction. These spacers 13 hold the other wafer 2b of the two wafers 2a and 2b to be bonded at a predetermined distance from the wafer 2a before bonding.

【0012】ウェーハ圧縮部15は、バネ部材16と、
ベローズ17とを有している。バネ部材16は、ほぼ円
形の形状をしており、ベローズ17の一端に固定された
構成となっている。なお、ベローズ17は軸方向(図面
上では上下方向)に伸縮自在で、他端に蓋部材28が固
定された構成となっている。蓋部材28の上表面にはス
トッパ部材27が固定されている。また、蓋部材28お
よびストッパ部材27には共通の貫通孔が設けられてお
り、この貫通孔に軸部材23が軸方向に自在に可動可能
となるように挿入された構成となっている。軸部材23
の上部には部材22が固定されており、この部材22は
圧縮駆動部21によって上下方向に可動可能なように駆
動される。また、ストッパ部材27は、圧縮駆動部25
によって上下方向に可動可能なように駆動される。な
お、これらの圧縮駆動部21,25は、例えばストッパ
部材27に設けられた荷重センサ19の出力に基づいて
動作する。また、軸部材23の上下の移動は、ウェーハ
2a、2bの中心上で行われる。
The wafer compression section 15 includes a spring member 16 and
And a bellows 17. The spring member 16 has a substantially circular shape and is fixed to one end of the bellows 17. The bellows 17 is configured to be able to expand and contract in the axial direction (vertical direction in the drawing) and to have the lid member 28 fixed to the other end. A stopper member 27 is fixed to the upper surface of the lid member 28. The cover member 28 and the stopper member 27 are provided with a common through hole, and the shaft member 23 is inserted into the through hole so as to be freely movable in the axial direction. Shaft member 23
A member 22 is fixed to the upper part of the member. In addition, the stopper member 27 is
Is driven so as to be movable up and down. These compression driving units 21 and 25 operate based on the output of the load sensor 19 provided on the stopper member 27, for example. The vertical movement of the shaft member 23 is performed on the centers of the wafers 2a and 2b.

【0013】次に、本実施形態のウェーハ接着装置の動
作を図1(a)、(b)を参照して説明する。まず、接
着すべきウェーハ2aをステージ11上に載置する。こ
のときウェーハ2aはガイド11aによって位置決めさ
れる。続いて、スペーサ駆動部12によってスペーサ1
3を内側に移動するように駆動した後、ウェーハ2bを
スペーサ13上に載置する。これにより、ウェーハ2b
はウェーハ2aと所定の間隔を保って保持される。この
状態で圧縮駆動部21によって、部材22が下方に押さ
れるように駆動されると、部材22と一体となっている
軸部材23も下方に押されて下方に移動する。そして、
部材22がストッパ部材27に当たると、このストッパ
部材27が固定されている蓋部材28、およびウェーハ
圧縮部15も下方に移動し、ウェーハ2bに接触する。
すると、荷重センサ19がこれを検知し、圧縮駆動部2
1に通知し、圧縮駆動部21の駆動動作が停止する。そ
の後、スペーサ駆動部12によってスペーサ13を外側
(図1(b)の矢印が示す方向)に移動させるととも
に、圧縮駆動部25がストッパ部材27を下方に押すよ
うに駆動すると、蓋部材28も下方に押され、ウェーハ
圧縮部15のベローズ17およびバネ部材16を介して
ウェーハ2bが幾分かの加重で下方に押されてウェーハ
2bがウェーハ2aに接触する。その後更に圧縮駆動部
25がストッパ部材27を下方に押し、ベローズ17お
よびバネ部材16を介してウェーハ2bの中心に予め設
定された加重が付加されるように駆動する。すると、バ
ネ部材16とベローズ17の反発力によってウェーハ2
bの周辺部もウェーハ2aに接着されるように押される
(図1(b)参照)。
Next, the operation of the wafer bonding apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b). First, the wafer 2a to be bonded is placed on the stage 11. At this time, the wafer 2a is positioned by the guide 11a. Subsequently, the spacer 1 is driven by the spacer driving unit 12.
After the wafer 3 is driven to move inward, the wafer 2 b is placed on the spacer 13. Thereby, the wafer 2b
Is held at a predetermined distance from the wafer 2a. In this state, when the member 22 is driven by the compression drive unit 21 so as to be pushed downward, the shaft member 23 integrated with the member 22 is also pushed downward and moves downward. And
When the member 22 comes into contact with the stopper member 27, the lid member 28 to which the stopper member 27 is fixed and the wafer compression section 15 also move downward and come into contact with the wafer 2b.
Then, the load sensor 19 detects this, and the compression drive unit 2
1, and the drive operation of the compression drive unit 21 stops. Thereafter, the spacer 13 is moved outward (in the direction indicated by the arrow in FIG. 1B) by the spacer driving unit 12 and the compression driving unit 25 is driven to push the stopper member 27 downward. And the wafer 2b is pushed downward by the weight of the wafer 2b via the bellows 17 and the spring member 16 of the wafer compressing section 15, so that the wafer 2b comes into contact with the wafer 2a. Thereafter, the compression drive unit 25 further pushes the stopper member 27 downward, and drives the stopper 2 via the bellows 17 and the spring member 16 so that a predetermined load is applied to the center of the wafer 2b. Then, the repulsive force of the spring member 16 and the bellows 17 causes the wafer 2
The periphery of b is also pressed so as to be bonded to the wafer 2a (see FIG. 1B).

【0014】これにより、ウェーハの中心から外周に向
かって徐々に接着が行われ、ウェーハ2a、2bの接着
界面にボイドの発生を押さえることができる。また、本
実施形態においては、ウェーハをステージ11に載置す
るだけであり、真空吸着を使用していないため、真空中
でも使用することができる。
As a result, the bonding is gradually performed from the center of the wafer toward the outer periphery, and the generation of voids at the bonding interface between the wafers 2a and 2b can be suppressed. In the present embodiment, the wafer is merely placed on the stage 11 and vacuum suction is not used, so that the wafer can be used even in a vacuum.

【0015】(第2の実施形態)次に、本発明によるウ
ェーハ接着装置の第2の実施形態を図2(a)、(b)
を参照して説明する。本実施形態のウェーハ接着装置の
構成を図2(a)に示す。この実施形態のウェーハ接着
装置30は、ステージ11と、スペーサ駆動部12と、
複数のスペーサ13と、荷重センサ19と、圧縮駆動部
31,35と、袋状のバネ材32と、部材34と、スト
ッパ部材36と、軸部材43と、を備えている。ステー
ジ11には接着すべき2枚のウェーハ2a、2bのうち
の一方のウェーハ2aが載置される。このウェーハ2a
はステージ11に設けられているガイド11aによって
ステージ11上に位置決めされるとともに水平方向に動
かないように固定される。また、ウェーハ2bもガイド
11aによって位置決めされるとともに水平方向に動か
ないように固定される。複数のスペーサ13は、それぞ
れ、先端部が楔形状であって、スペーサ駆動部12によ
って水平方向に移動可能なように駆動される。そして、
これらのスペーサ13は、接着すべき2枚のウェーハ2
a、2bのうちの他方のウェーハ2bを接着前に、ウェ
ーハ2aと所定の間隔に保持する。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the wafer bonding apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 (a) and 2 (b).
This will be described with reference to FIG. FIG. 2A shows the configuration of the wafer bonding apparatus of the present embodiment. The wafer bonding apparatus 30 of this embodiment includes a stage 11, a spacer driving unit 12,
A plurality of spacers 13, a load sensor 19, compression driving units 31 and 35, a bag-shaped spring material 32, a member 34, a stopper member 36, and a shaft member 43 are provided. On the stage 11, one of the two wafers 2a and 2b to be bonded is placed. This wafer 2a
Is positioned on the stage 11 by a guide 11a provided on the stage 11, and is fixed so as not to move in the horizontal direction. The wafer 2b is also positioned by the guide 11a and fixed so as not to move in the horizontal direction. Each of the plurality of spacers 13 has a wedge-shaped tip, and is driven by the spacer driving unit 12 so as to be movable in the horizontal direction. And
These spacers 13 are used to attach two wafers 2 to be bonded.
The other of the wafers 2a and 2b is held at a predetermined distance from the wafer 2a before bonding.

【0016】バネ部材32はその袋の口が、ストッパ部
材36に設けられた貫通孔の外周に固定されている。ま
た、軸部材43は、ストッパ部材36に設けられた上記
貫通孔に、軸方向に自在に可動可能となるように挿入さ
れており、軸部材43の他端はバネ部材32の袋の中に
挿入された構成となっている。この部材34は圧縮駆動
部31によって上下方向に可動可能なように駆動され
る。また、ストッパ部材36は、圧縮駆動部35によっ
て上下方向に可動可能なように駆動される。なお、これ
らの圧縮駆動部31,35は、例えばストッパ部材36
に設けられた荷重センサ19の出力に基づいて動作す
る。また、軸部材23の上下の移動は、ウェーハ2a、
2bの中心上で行われる。
The opening of the spring member 32 is fixed to the outer periphery of a through hole provided in the stopper member 36. The shaft member 43 is inserted into the through hole provided in the stopper member 36 so as to be freely movable in the axial direction, and the other end of the shaft member 43 is inserted into the bag of the spring member 32. The configuration has been inserted. The member 34 is driven by the compression drive unit 31 so as to be movable in the vertical direction. In addition, the stopper member 36 is driven by the compression drive unit 35 so as to be movable in the up-down direction. The compression drive units 31 and 35 are provided, for example, with stopper members 36.
It operates based on the output of the load sensor 19 provided in. In addition, the vertical movement of the shaft member 23 corresponds to the wafer 2a,
2b.

【0017】次に、本実施形態のウェーハ接着装置の動
作を図2(a)、(b)を参照して説明する。まず、接
着すべきウェーハ2aをステージ11上に載置する。こ
のときウェーハ2aはガイド11aによって位置決めさ
れる。続いて、スペーサ駆動部12によってスペーサ1
3を内側に移動するように駆動した後、ウェーハ2bを
スペーサ13上に載置する。これにより、ウェーハ2b
はウェーハ2aと所定の間隔を保って保持される。この
状態で圧縮駆動部31によって、部材34が下方に押さ
れるように駆動され、下方に移動する。そして、部材3
4がストッパ部材36に当たると、このストッパ部材3
6も下方に移動され、袋状のバネ部材32の先端がウェ
ーハ2bの中心に接触する。すると、ストッパ部材36
に設けられた荷重センサ19がこれを検知し、信号が圧
縮駆動部31に送られ、圧縮駆動部31の駆動動作が停
止する。その後、スペーサ駆動部12によってスペーサ
13を外側(図2(b)の矢印が示す方向)に移動させ
るとともに、圧縮駆動部35がストッパ部材36を下方
に押すように駆動すると、袋状のバネ部材32も下方に
押され、ウェーハ2bが幾分かの加重で下方に押されて
ウェーハ2bの中心近傍がウェーハ2aの中心近傍に接
触する。その後更に圧縮駆動部35がストッパ部材36
を下方に押し、ウェーハ2bの中心に予め設定された加
重が付加されるように駆動する。すると、袋状のバネ部
材32が横方向すなわち、矢印38の方向に広がり、ウ
ェーハ2bの周辺部もウェーハ2aに接着されるように
押される(図2(b)参照)。
Next, the operation of the wafer bonding apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2 (a) and 2 (b). First, the wafer 2a to be bonded is placed on the stage 11. At this time, the wafer 2a is positioned by the guide 11a. Subsequently, the spacer 1 is driven by the spacer driving unit 12.
After the wafer 3 is driven to move inward, the wafer 2 b is placed on the spacer 13. Thereby, the wafer 2b
Is held at a predetermined distance from the wafer 2a. In this state, the member 34 is driven by the compression drive unit 31 so as to be pushed downward, and moves downward. And member 3
4 hits the stopper member 36, the stopper member 3
6 is also moved downward, and the tip of the bag-shaped spring member 32 contacts the center of the wafer 2b. Then, the stopper member 36
The load sensor 19 provided in the controller detects this, a signal is sent to the compression drive unit 31, and the drive operation of the compression drive unit 31 stops. Then, when the spacer 13 is moved outward (in the direction indicated by the arrow in FIG. 2B) by the spacer driving unit 12 and the compression driving unit 35 is driven to push the stopper member 36 downward, a bag-shaped spring member is formed. 32 is also pushed downward, and the wafer 2b is pushed downward with some load, so that the vicinity of the center of the wafer 2b contacts the vicinity of the center of the wafer 2a. Thereafter, the compression drive unit 35 further moves the stopper member 36.
Is driven downward so that a predetermined weight is added to the center of the wafer 2b. Then, the bag-shaped spring member 32 spreads in the horizontal direction, that is, in the direction of the arrow 38, and the peripheral portion of the wafer 2b is pressed so as to be bonded to the wafer 2a (see FIG. 2B).

【0018】これにより、ウェーハの中心から外周に向
かって徐々に接着が行われ、ウェーハ2a、2bの接着
界面にボイドの発生を押さえることができる。また、本
実施形態においては、ウェーハをステージ11に載置す
るだけであり、真空吸着を使用していないため、真空中
でも使用することができる。
As a result, the bonding is performed gradually from the center of the wafer toward the outer periphery, and the generation of voids at the bonding interface between the wafers 2a and 2b can be suppressed. In the present embodiment, the wafer is merely placed on the stage 11 and vacuum suction is not used, so that the wafer can be used even in a vacuum.

【0019】(第3の実施形態)次に、本発明によるウ
ェーハ接着装置の第3の実施形態を図3および図4
(a)、(b)を参照して説明する。本実施形態のウェ
ーハ接着装置の構成を図3に示す。この実施形態のウェ
ーハ接着装置50は、ステージ11と、スペーサ駆動部
12と、複数のスペーサ13と、圧縮駆動部51と、部
材52と、軸部材53と、ガス挿入部材54と、袋状の
弾性部材56と、ガイド部材57と、荷重センサ58
と、ガス加圧装置59と、を備えている。ステージ11
には接着すべき2枚のウェーハ2a、2bのうちの一方
のウェーハ2aが載置される。このウェーハ2aはステ
ージ11に設けられているガイド11aによってステー
ジ11上に位置決めされるとともに水平方向に動かない
ように固定される。また、ウェーハ2bもガイド11a
によって位置決めされるとともに水平方向に動かないよ
うに固定される。複数のスペーサ13は、それぞれ、先
端部が楔形状であって、スペーサ駆動部12によって水
平方向に移動可能なように駆動される。そして、これら
のスペーサ13は、接着すべき2枚のウェーハ2a、2
bのうちの他方のウェーハ2bを接着前に、ウェーハ2
aと所定の間隔に保持する。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the wafer bonding apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS.
Description will be made with reference to (a) and (b). FIG. 3 shows the configuration of the wafer bonding apparatus according to the present embodiment. The wafer bonding apparatus 50 of this embodiment includes a stage 11, a spacer driving unit 12, a plurality of spacers 13, a compression driving unit 51, a member 52, a shaft member 53, a gas insertion member 54, and a bag-shaped member. Elastic member 56, guide member 57, load sensor 58
And a gas pressurizing device 59. Stage 11
Is mounted on one of the two wafers 2a and 2b to be bonded. The wafer 2a is positioned on the stage 11 by a guide 11a provided on the stage 11, and is fixed so as not to move in the horizontal direction. Further, the wafer 2b is also a guide 11a.
And fixed so as not to move in the horizontal direction. Each of the plurality of spacers 13 has a wedge-shaped tip, and is driven by the spacer driving unit 12 so as to be movable in the horizontal direction. These spacers 13 are used to attach the two wafers 2a and 2a to be bonded.
b before bonding the other wafer 2b
a is kept at a predetermined interval.

【0020】部材52は軸部材53の一端に固定されて
おり、圧縮駆動部51によって上下方向に可動可能なよ
うに駆動される。また部材52は、ガス挿入部材54に
設けられた貫通孔に、軸方向に自在に可動可能となるよ
うに挿入されている。ガス挿入部材54の上記貫通孔の
外周に弾性部材56の袋の口が固定された構成となって
いる。このため、軸部材43の他端は弾性部材56の袋
の中に挿入された構成となっている。弾性部材56は例
えばゴム等から構成される。また、ガス挿入部材54の
上記貫通孔の外周には、下方に行くに連れて広がった形
状のガイド部材が設けられている。袋状の弾性部材56
にはガス挿入部材54を介してガス加圧装置59によっ
て加圧されたガスが供給される。
The member 52 is fixed to one end of a shaft member 53, and is driven by a compression drive unit 51 so as to be movable in the vertical direction. The member 52 is inserted into a through hole provided in the gas insertion member 54 so as to be freely movable in the axial direction. The opening of the bag of the elastic member 56 is fixed to the outer periphery of the through hole of the gas insertion member 54. Therefore, the other end of the shaft member 43 is configured to be inserted into the bag of the elastic member 56. The elastic member 56 is made of, for example, rubber or the like. In addition, a guide member having a shape that expands downward is provided on the outer periphery of the through hole of the gas insertion member 54. Bag-shaped elastic member 56
Is supplied with a gas pressurized by a gas pressurizing device 59 via a gas insertion member 54.

【0021】なお、圧縮駆動部51は、例えば部材52
に設けられた荷重センサ58の出力に基づいて動作す
る。また、軸部材53の上下の移動は、ウェーハ2a、
2bの中心上で行われる。
The compression drive unit 51 includes, for example, a member 52
It operates based on the output of the load sensor 58 provided in. Further, the vertical movement of the shaft member 53 is caused by the wafer 2a,
2b.

【0022】次に、本実施形態のウェーハ接着装置の動
作を図3および図4(a)、(b)を参照して説明す
る。まず、接着すべきウェーハ2aをステージ11上に
載置する。このときウェーハ2aはガイド11aによっ
て位置決めされる。続いて、スペーサ駆動部12によっ
てスペーサ13を内側に移動するように駆動した後、ウ
ェーハ2bをスペーサ13上に載置する。これにより、
ウェーハ2bはウェーハ2aと所定の間隔を保って保持
される。この状態で圧縮駆動部51によって、部材52
が下方に押されるように駆動されると、部材52に固定
された軸部材53も下方に押されて移動する。そして、
袋状の弾性部材56の先端がウェーハ2bの中心に接触
する。すると、部材52に設けられた荷重センサ58が
これを検知し、信号が圧縮駆動部51に送られ、圧縮駆
動部51の駆動動作が停止する。その後、ガス加圧装置
59によってガス挿入部材54を介して袋状の弾性部材
56に加圧されたガスを供給すると、図4(a)に示す
ように、ガイド部材57が設けられていることにより、
袋状の弾性部材56が横方向に膨らみ、ウェーハ2bが
幾分かの加重で下方に押されてウェーハ2bの中心近傍
がウェーハ2aの中心近傍に接触する。このとき、スペ
ーサ駆動部12によってスペーサ13を外側(図4
(a)の矢印が示す方向)に移動させるとともに、更
に、ガス加圧装置59によってガス挿入部材54を介し
て袋状の弾性部材56に加圧されたガスを供給すると、
ガイド部材57が設けられていることにより、袋状の弾
性部材56も更に横方向に広がり、ウェーハ2bの周辺
部もウェーハ2aに接着されるように押される(図4
(b)参照)。
Next, the operation of the wafer bonding apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4A and 4B. First, the wafer 2a to be bonded is placed on the stage 11. At this time, the wafer 2a is positioned by the guide 11a. Subsequently, after driving the spacer 13 to move inward by the spacer driving unit 12, the wafer 2b is placed on the spacer 13. This allows
The wafer 2b is held at a predetermined distance from the wafer 2a. In this state, the member 52 is
Is driven to be pushed downward, the shaft member 53 fixed to the member 52 is also pushed downward and moves. And
The tip of the bag-shaped elastic member 56 contacts the center of the wafer 2b. Then, the load sensor 58 provided on the member 52 detects this, a signal is sent to the compression drive unit 51, and the drive operation of the compression drive unit 51 stops. Thereafter, when the pressurized gas is supplied to the bag-like elastic member 56 via the gas insertion member 54 by the gas pressurizing device 59, the guide member 57 is provided as shown in FIG. By
The bag-shaped elastic member 56 expands in the lateral direction, and the wafer 2b is pushed downward with some load, so that the vicinity of the center of the wafer 2b contacts the vicinity of the center of the wafer 2a. At this time, the spacer 13 is moved outward by the spacer driving unit 12 (FIG. 4).
(In the direction indicated by the arrow in (a)), and further, the gas pressurized by the gas pressurizing device 59 to the bag-shaped elastic member 56 via the gas inserting member 54 is supplied.
Since the guide member 57 is provided, the bag-shaped elastic member 56 further spreads in the lateral direction, and the peripheral portion of the wafer 2b is pressed so as to be bonded to the wafer 2a (FIG. 4).
(B)).

【0023】これにより、ウェーハの中心から外周に向
かって徐々に接着が行われ、ウェーハ2a、2bの接着
界面にボイドの発生を押さえることができる。また、本
実施形態においては、ウェーハをステージ11に載置す
るだけであり、真空吸着を使用していないため、真空中
でも使用することができる。
As a result, the bonding is gradually performed from the center of the wafer toward the outer periphery, and the generation of voids at the bonding interface between the wafers 2a and 2b can be suppressed. In the present embodiment, the wafer is merely placed on the stage 11 and vacuum suction is not used, so that the wafer can be used even in a vacuum.

【0024】なお、第3の実施形態においては、袋状の
弾性部材56中に押し込まれる流体としてガスを用いた
が、液体であっても良いことは云うまでもない。
In the third embodiment, gas is used as the fluid to be pushed into the bag-like elastic member 56. However, it goes without saying that liquid may be used.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ウ
ェーハの接着界面にボイドが発生するのを可及的に防止
することができるとともに、真空中でも使用することが
できる。
As described above, according to the present invention, the generation of voids at the bonding interface of the wafer can be prevented as much as possible, and the wafer can be used even in a vacuum.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるウェーハ接着装置の第1の実施形
態の構成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a first embodiment of a wafer bonding apparatus according to the present invention.

【図2】本発明によるウェーハ接着装置の第2の実施形
態の構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a second embodiment of the wafer bonding apparatus according to the present invention.

【図3】本発明によるウェーハ接着装置の第3の実施形
態の構成を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a third embodiment of the wafer bonding apparatus according to the present invention.

【図4】本発明によるウェーハ接着装置の第3の実施形
態の動作を説明する図。
FIG. 4 is a view for explaining the operation of a third embodiment of the wafer bonding apparatus according to the present invention.

【図5】従来のウェーハ接着装置の構成を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a conventional wafer bonding apparatus.

【図6】従来のウェーハ接着装置の問題点を説明する
図。
FIG. 6 is a diagram illustrating a problem of a conventional wafer bonding apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2a、2b 接着すべきウェーハ 11 ステージ 11a ガイド 12 スペーサ駆動部 13 スペーサ 15 ウェーハ圧縮部 16 バネ部材 17 ベローズ 19 荷重センサ 21、25、31、35、51 圧縮駆動部 22 部材 23 軸部材 27 ストッパ部材 28 蓋部材 32 袋状のバネ部材 34 部材 36 ストッパ部材 43 軸部材 52 部材 53 軸部材 54 ガス挿入部材 56 袋状の部材 57 ガイド部材 58 荷重センサ 59 ガス加圧装置 101、102 ステージ 110 駆動機構 2a, 2b Wafer to be bonded 11 Stage 11a Guide 12 Spacer drive unit 13 Spacer 15 Wafer compression unit 16 Spring member 17 Bellows 19 Load sensor 21, 25, 31, 35, 51 Compression drive unit 22 Member 23 Shaft member 27 Stopper member 28 Lid member 32 Bag-shaped spring member 34 Member 36 Stopper member 43 Shaft member 52 Member 53 Shaft member 54 Gas insertion member 56 Bag-shaped member 57 Guide member 58 Load sensor 59 Gas pressurizing device 101, 102 Stage 110 Drive mechanism

フロントページの続き (72)発明者 石 田 芳 郎 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5F031 CA02 HA12 HA24 HA42 JA01 JA45 KA03 KA11 MA21 Continuing from the front page (72) Inventor Yoshiro Ishida 1F, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in the Toshiba Microelectronics Center Co., Ltd. 5F031 CA02 HA12 HA24 HA42 JA01 JA45 KA03 KA11 MA21

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1のウェーハが載置されるステージと、
水平方向に移動可能でかつ所定の間隔をもって前記第1
のウェーハに対向するように第2のウェーハを支持する
スペーサ部と、前記ステージ上に設けられ前記第1およ
び第2のウェーハを位置決めするとともに前記第1およ
び第2のウェーハが水平方向に動かないように固定する
ガイド部と、先端部が滑らかな凸形状を有しており、前
記先端部が前記第2のウェーハのほぼ中心に接触した
後、前記第2のウェーハを押圧する力を受けると前記第
2のウェーハの中心から外周に向かって前記第2のウェ
ーハを前記第1のウェーハに接着させる接着機構と、前
記押圧する力を発生する押圧力発生部と、を備えたこと
を特徴とするウェーハ接着装置。
A stage on which a first wafer is mounted;
The first movable member is movable in a horizontal direction and has a predetermined interval.
A spacer portion for supporting a second wafer so as to face the first wafer, and positioning the first and second wafers provided on the stage, and the first and second wafers do not move in the horizontal direction. And the guide portion has a smooth convex shape at the tip, and when the tip comes into contact with substantially the center of the second wafer and receives a force pressing the second wafer. A bonding mechanism for bonding the second wafer to the first wafer from the center of the second wafer toward the outer periphery, and a pressing force generating unit that generates the pressing force. Wafer bonding equipment.
【請求項2】前記接着機構は、凸形状のバネ部材と、一
端に前記バネ部材が固定され、軸方向に伸縮可能な伸縮
部材とを備え、前記伸縮部材の他端および前記バネ部材
から前記押圧する力を受けることを特徴とする請求項1
記載のウェーハ接着装置。
2. The bonding mechanism according to claim 1, further comprising a spring member having a convex shape, and an elastic member having the spring member fixed at one end and capable of expanding and contracting in the axial direction. 2. A pressure receiving force.
A wafer bonding apparatus as described in the above.
【請求項3】前記接着機構は、上下方向に移動可能な軸
部材と、この軸部材の一端に、口が固定された袋状のバ
ネ部材を有しており、前記軸部材の他端に前記押圧する
力を受けることを特徴とする請求項1記載のウェーハ接
着装置。
3. The bonding mechanism has a vertically movable shaft member, and a bag-shaped spring member having a mouth fixed to one end of the shaft member. The wafer bonding apparatus according to claim 1, wherein the wafer bonding apparatus receives the pressing force.
【請求項4】前記接着機構は、中に加圧された流体が押
し込まれる袋状の弾性部材を備え、前記流体が押し込ま
れることにより前記押圧する力が発生することを特徴と
する請求項1記載のウェーハ接着装置。
4. The bonding mechanism according to claim 1, wherein said bonding mechanism includes a bag-shaped elastic member into which a fluid pressurized is pressed, and said pressing force is generated when said fluid is pressed. A wafer bonding apparatus as described in the above.
【請求項5】前記スペーサ部は複数個設けられ、それぞ
れは、先端部が楔型形状を有しており、前記第2のウェ
ーハを押す力が前記第2のウェーハに作用したとき、そ
れぞれのスペーサ部は第2のウェーハの外周方向に移動
することにより第1のウェーハと第2のウェーハの間隔
が零となるように構成されていることを特徴とする請求
項1乃至4のいずれかに記載のウェーハ接着装置。
5. A plurality of said spacer portions are provided, each of which has a wedge-shaped tip portion, and when a force for pushing said second wafer acts on said second wafer, each of said spacer portions is provided. The spacer according to any one of claims 1 to 4, wherein a distance between the first wafer and the second wafer is reduced to zero by moving the spacer in an outer peripheral direction of the second wafer. A wafer bonding apparatus as described in the above.
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