JP2002304751A

JP2002304751A - フォーカス制御装置及びフォーカス制御方法

Info

Publication number: JP2002304751A
Application number: JP2001110509A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Nihei; 靖厚二瓶
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2001-04-09
Filing date: 2001-04-09
Publication date: 2002-10-18

Abstract

(57)【要約】【課題】ＡＧＣのゲイン量に比例したオフセットが発
生しても、基準電圧を制御して安定したＡＧＣを持った
光ディスク装置を提供する。【解決手段】基準電圧生成部１３のゲイン比較部１３
１（ゲイン比較手段）で、ある設定された基準ゲイン信
号とＦＥ信号生成部５のＡＧＣのゲイン量を表すゲイン
調整信号を比較する。基準電圧選択部１３２（基準電圧
選択手段）で、選択信号が“Ｌ”のとき基準電圧１を、
選択信号が“Ｈ”のとき基準電圧２を出力する。この基
準電圧とＦＥ信号を比較器１０で比較して層信号を得
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォーカス制御装
置及びフォーカス制御方法に関し、さらに詳しくは、Ａ
ＧＣ（Automatic Gain Control）を搭載した光ディスク
装置のフォーカス制御装置及びフォーカス制御方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、光ディスクを高容量化するため
に、複数の記録層を積層してなる多層構造の光ディスク
が提案されている。この光ディスクは、図示は省略する
が、透明基板とアルミ反射層との間に、複数の記録層を
積層して構成されている。そして、この複数の記録層
は、それぞれ光の透過率が順に小さくなっており、それ
ぞれの記録層の間には、透明樹脂のスペーサが設けられ
ている。このような多層構造の光ディスクに対してフォ
ーカス合わせを行う場合、まず、フォーカスアクチュエ
ータを駆動するのであるが、これにより、対物レンズを
介して照射されたレーザビームの焦点が、各記録層に順
に移動することとなる。

【０００３】図６は、従来の光ディスク装置における多
層光ディスクのためのフォーカス制御の構成を示すブロ
ック図である。この構成は、多層光ディスク１と、対物
レンズ３を上下に移動させるアクチュエータ２と、アク
チュエータ２と対物レンズ３を通して、光ディスク１に
光ビームを照射させ、反射光を受光する光学系（図示せ
ず）を搭載しているキャリッジ４と、光ディスク１に照
射されるレーザ焦点のずれ量を示すフォーカスエラー信
号(ＦＥ信号)を生成する、フォーカスエラー信号生成部
５と、フォーカスエラー信号に基づいて、レーザのスポ
ット焦点を合わせるようアクチュエータ２を制御するた
めの、フォーカス制御信号を出力する位相補償部６と、
対物レンズ３を下から上または、上から下に移動させる
信号を出力するフォーカスサーチ信号生成部７と、フォ
ーカス制御信号とフォーカスサーチ信号の切替えを行う
フォーカス制御切替えスイッチ８と、フォーカス制御切
替えスイッチ８で選択された信号を、アクチュエータ２
を駆動することができる駆動信号に変換するためのアク
チュエータドライバ９と、ＦＥ信号と基準電圧１を比較
し、ＦＥ信号が基準電圧１より低いときは“Ｌ”レベル
を、ＦＥ信号が基準電圧より大きいときは“Ｈ”レベル
を出力する比較器１０と、比較器１０の出力信号の立ち
上がりでカウントするカウンタ１１と、ＦＥ信号、カウ
ンタ１１等の値に基づいて、フォーカス制御切替スイッ
チ８の制御を行う、フォーカス制御切替部１２により構
成されている。

【０００４】図７は、フォーカスエラー信号生成部５の
内部構成を示すブロック図である。ここではフォーカス
エラーを非点収差法で検出し、ＡＧＣ（Automatic Gain
Control）を搭載した場合について示す。非点収差法
は、光ディスクからの反射光をシリンドリカルレンズの
性質を利用して、４分割ＰＤ（Photo Detector）で受光
したビームの形状からフォーカスエラーを検出するもの
であり、公知の技術である。フォーカスエラー信号生成
部５の構成は、４つのＰＤ５１ａ（Ａ）、５１ｂ
（Ｂ）、５１ｃ（Ｃ）、５１ｄ（Ｄ）で構成されている
４分割ＰＤ５１と、この４分割ＰＤ５１の出力に対し
(Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ)の演算を行い、和信号ＳＵＭ１を生成
する演算器５２と、４分割ＰＤ５１の出力に対し(Ａ＋
Ｃ−Ｂ−Ｄ)の演算を行い、フォーカスエラー信号ＦＥ
１を生成する演算器５３と、ゲイン調整信号の大きさに
よりゲイン量が変わり、それぞれ和信号ＳＵＭ２、フォ
ーカスエラー信号ＦＥ２を出力するＶＣＡ（Voltage-Co
ntrolled Amplifier）５４、５５と、与えられた信号Ｓ
ＵＭ２のレベルが常にある値(例えば１[Ｖ])で一定とな
るように、ＶＣＡ５４のゲインを調整するための、ゲイ
ン調整信号を出力するＡＧＣ制御部５６により構成さ
れ、このゲイン調整信号はフォーカスエラー信号用のＶ
ＣＡ５５にも供給され、ＦＥ１はＶＣＡ５４と同じゲイ
ンで増幅されＦＥ２として出力される。

【０００５】図８は、図７のフォーカスエラー信号生成
部５の動作を説明するための各部の波形である。図７、
図８を併せて参照してフォーカスエラー信号生成部５の
動作について説明する。図８は２層ディスクに対して、
対物レンズ３を下から上へ移動させたときのＡＧＣ前、
ＡＧＣ後のＦＥ信号、和信号の変化の様子を示したもの
である。図８(a)はＡＧＣ前のＦＥ信号（図７のＦＥ
１）であり、まず対物レンズ３を下から上へ移動させる
と、４つのＰＤ５１ａ（Ａ）、５１ｂ（Ｂ）、５１ｃ
（Ｃ）、５１ｄ（Ｄ）に光ビームが照射され、徐々にゼ
ロ（つまり、Ａ＋Ｃ−Ｂ−Ｄの演算結果がゼロ）になり
合焦する。その過程で信号ＦＥ１がＳ字カーブとなる。
従って、信号ＦＥ１がゼロになったポイントで信号ＳＵ
Ｍ１が最大となり、図８(b)のようになる。次に、同様
にして２層目のＳ字波形、和信号ＳＵＭ１のピークが現
れる。ここに示すように２層目は１層目に比べ反射率が
低いので、２層目のＳ字波形の振幅、和信号のピークは
１層目と比べ小さくなっている。これにＡＧＣを施して
１層目と２層目で振幅が同じとなるようにするのがＡＧ
Ｃの役割である。

【０００６】次に、ＡＧＣの動作について説明する。図
８(b)は前記で説明した和信号（図７のＳＵＭ１）であ
り、この和信号が常に一定値になるように、ＡＧＣ制御
部５６は、和信号ＳＵＭ１が大きいところはゲインを小
さく、小さいところではゲインを大きくなるように、Ｖ
ＣＡ５４のゲインを図８(c)のように和信号ＳＵＭ１と
対照的に変化させる。同時にＶＣＡ５５のゲインも変化
させ、１層目ではゲインが小さく２層目ではゲインが大
きくなり、ＦＥ２信号は図８(e)に示すように１層目と
２層目のＳ字の振幅が同じになるようになる。次に、図
６で示した構成のフォーカス制御において、２層光ディ
スクの２層目にフォーカス引き込みを行う動作について
説明する。図９は、従来例のフォーカス引き込み時の波
形を示す。まず、図示を省略したシステムコントローラ
から、フォーカス制御切替え部１２に、引きみたい層及
びフォーカス制御切替えスイッチ８をフォーカスサーチ
側８ｂにする指示を送る。また、システムコントローラ
はフォーカスサーチ信号生成部７に、フォーカスサーチ
信号出力の命令を送る。そして、フォーカスサーチ信号
生成部７では、システムコントローラからの命令により
図９(a)に示すフォーカスサーチ信号を出力し、対物レ
ンズ３を下から上へ移動させて行く。対物レンズ３を下
から上へ移動させることにより、前記で説明した通り、
図９(b)のＳ字曲線を２つもったＦＥ信号が得られる。
これは前述したようにＡＧＣが施されているので、１層
目と２層目のＳ字の振幅は同じとなっている。このＦＥ
信号を基準電圧１と比較器１０で比較することにより、
図９(c)に示すようなパルス信号が得られる。このパル
ス信号の立ち上がりでカウンタ１１はカウントアップさ
れる。フォーカス制御切替え部１２では、システムコン
トローラから指示された引き込みたい層(ここでは２層
目)と、カウンタの数が一致したら、ＦＥ信号のゼロク
ロスを検出して、フォーカス制御切替えスイッチ８をサ
ーボ側８ａに切り替えて、フォーカス制御信号を出力す
る位相補償部６にフォーカス制御切替えスイッチ８の中
点８ｃを、アクチュエータドライバ９に接続してフォー
カス引き込みを行い、フォーカスサーボの制御にうつ
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上の説明のとおり、
ＡＧＣを用いることにより１層目、２層目のＳ字振幅が
同じとなるので、１つの基準電圧を用意するだけで各層
に引き込みを行うことができる。しかしながら、図８
(f)に示すようにＡＧＣのゲインに比例して、発生する
オフセットの大きさが変わってしまうことがある。この
ようなオフセットが生じた場合、ＡＧＣ後のフォーカス
エラー信号は、図８(g)のようになり、２層目は基準電
圧１とクロスしなくなってしまう。このようになると、
その層にはフォーカスの引き込みができなくなってしま
う。本発明は、かかる課題に鑑み、ＡＧＣのゲイン量に
比例したオフセットが発生しても、基準電圧を制御して
安定したＡＧＣを持った光ディスク装置を提供すること
を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するために、請求項１の発明は、複数層の光ディスク
のフォーカス制御をＡＧＣを用いて制御するフォーカス
制御装置において、複数の光ビーム検出手段からの信号
を演算処理する演算手段と、該演算手段からの信号ゲイ
ンを制御するゲイン制御手段と、を有するフォーカスエ
ラー信号生成部と、前記ゲイン制御手段からの信号と基
準ゲインを比較するゲイン比較手段と、該ゲイン比較手
段の信号に基づいて複数の異なる基準電圧を選択する基
準電圧選択手段と、を有する基準電圧生成部と、を備え
たことを特徴とする。ＡＧＣ制御で最も問題となるのが
オフセットである。オフセットは、オペアンプの特性や
周辺回路構成、あるいは周囲温度により変化してしま
う。また、ＡＧＣのゲインの変化に対しても変動する要
因をもっている。オフセットをキャンセルする方法は各
種提案されているが、一長一短があり、決定的なものは
ない。本発明では、このオフセットをキャンセルするの
ではなく、オフセットの変動値を検出して、それに合う
ように基準電圧を追従させていく考え方である。そのた
めに、ゲイン制御手段からのゲイン調整信号が、オフセ
ットによりリニアリティが崩れた部分を検出するように
して、基準ゲインから外れた部分と、それ以外の部分で
基準電圧を変化させるものである。これにより、単純な
１種類の基準レベルでの比較ではなく、複数の基準レベ
ルで比較することができる。かかる発明によれば、ゲイ
ン調整信号と基準ゲインを常に比較して基準電圧を選択
するので、オフセットの変動に追従して適正な基準電圧
が選択できる。

【０００９】また、請求項２の発明は、複数層の光ディ
スクのフォーカス制御をＡＧＣを用いて制御するフォー
カス制御装置において、複数の光ビーム検出手段からの
信号を演算処理する演算手段と、該演算手段からの信号
ゲインを制御するゲイン制御手段と、を有するフォーカ
スエラー信号生成部と、前記ゲイン制御手段からの信号
と参照基準電圧を減算する減算器で構成されている基準
電圧生成部と、を備えたことを特徴とする。ゲイン調整
信号から基準電圧を選択する方法は、デジタル的に、あ
る基準レベルを超えた部分を検出する方法と、アナログ
的に基準電圧を発生させる方法がある。このアナログ的
な方法の一つに、減算器で参照基準電圧とゲイン調整信
号を減算する方法がある。この方法によると、参照基準
電圧のレベルからゲイン調整信号を減算すると、ゲイン
調整信号と相補的な波形が取り出せる。かかる発明によ
れば、基準電圧の波形がゲイン調整信号と相補的な波形
であるため、オフセットの変動にさらに細かく追従した
適正な基準電圧が生成できる。また、回路構成が比較的
簡単である。また、請求項３の発明は、前記参照基準電
圧は任意に変更可能とすることも本発明の有効な手段で
ある。減算器に入力する参照基準電圧は、その電圧から
ゲイン調整信号を減算する元の電圧レベルである。従っ
て、この電圧レベルにより減算器からの出力電圧は異な
ってくる。つまり、大きすぎると比較すべき信号に対し
て基準電圧が高くなり過ぎて適正な閾値を設定できな
い。また、反対に低すぎると、基準電圧が低くなり過ぎ
て同じく適正な閾値を設定できない。いずれにしても、
参照基準電圧は、可変できるようにして、適正値を設定
するのが好ましい。かかる技術手段によれば、参照基準
電圧が任意に変更可能であるので、比較すべき信号に対
して適正な基準電圧を容易に設定できる。また、請求項
４の発明は、複数層の光ディスクのフォーカス制御をＡ
ＧＣを用いて制御するフォーカス制御方法において、フ
ォーカスエラー信号と比較する基準電圧の生成方法はＡ
ＧＣのゲイン量に基づくことを特徴とする。ＡＧＣのゲ
イン量は、ＡＧＣ前の和信号と相補的な関係にある。従
って、ＡＧＣのゲイン量から基準電圧を生成することは
最も理にかなっている。かかる発明によれば、フォーカ
スエラー信号と比較する基準電圧は、ＡＧＣのゲイン量
に基づいて生成することとしたので、フォーカスエラー
信号にＡＧＣのゲインに比例したオフセット量が生じて
も、多層光ディスクの全ての層にフォーカス引き込みを
行うことができる。

【００１０】また、請求項５の発明は、複数層の光ディ
スクのフォーカス制御をＡＧＣを用いて制御するフォー
カス制御方法において、フォーカスエラー信号と比較す
る基準電圧の生成方法はＡＧＣのゲイン量と基準ゲイン
量を比較し、その結果に基づき複数の基準電圧のいずれ
かを選択するようにしたことを特徴とする。ＡＧＣのゲ
イン量と基準ゲイン量を比較することは、デジタル的に
基準電圧を変更するタイミングを設定することである。
この方法はデジタル処理では一般的な手法である。かか
る発明によれば、フォーカスエラー信号と比較する基準
電圧の生成方法は、ＡＧＣのゲイン量と基準ゲイン量を
比較し、その結果に基づき基準電圧１、基準電圧２のい
ずれかを選択するようにしので、２層光ディスクの各層
に応じた基準電圧を用意することができ、フォーカスエ
ラー信号にＡＧＣのゲインに比例したオフセット量が生
じても、より確実に２層光ディスクの各層にフォーカス
引き込みを行うことができる。また、請求項６の発明
は、複数層の光ディスクのフォーカス制御をＡＧＣを用
いて制御するフォーカス制御方法において、フォーカス
エラー信号と比較する基準電圧の生成方法は、参照基準
電圧とゲイン量を表すゲイン調整信号を減算することに
より得ることを特徴とする。かかる発明によれば、フォ
ーカスエラー信号と比較する基準電圧の生成方法は、参
照基準電圧とゲイン量を表すゲイン調整信号を減算する
ことにより得るようにしたので、簡単な方法でフォーカ
スエラー信号にＡＧＣのゲインに比例したオフセット量
が生じても、多層光ディスクの全ての層にフォーカス引
き込みを行うことができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示した実施形
態を用いて詳細に説明する。但し、この実施形態に記載
される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配
置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそ
れのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎな
い。図１は、本発明の実施形態のフォーカス制御装置の
構成を示すブロック図である。図６の従来例と同じ構成
要素には同じ参照番号が付されているので、重複する説
明は省略する。図１と図６の異なる点は、基準電圧生成
部１３が付加されている点である。基準電圧生成部１３
は、ＦＥ信号生成部５から出力されるゲイン調整信号に
基づいてＦＥ信号と比較する基準電圧を出力する。図２
は、本発明の第１の実施形態の基準電圧生成部の構成を
示すブロック図である。図１のＦＥ信号生成部を含めて
示したものである。図２のＦＥ信号生成部５は、図７と
同じ構成である。図２の基準電圧生成部１３のゲイン比
較部１３１（ゲイン比較手段）で、ある設定された基準
ゲイン信号とＦＥ信号生成部５のＡＧＣ（Automatic Ga
in Control）のゲイン量を表すゲイン調整信号を比較す
る。基準電圧選択部１３２（基準電圧選択手段）で、選
択信号が“Ｌ”のとき基準電圧１を、選択信号が“Ｈ”
のとき基準電圧２を出力する。

【００１２】次に、以上の構成における２層光ディスク
の２層目にフォーカスを引き込む動作について図２と図
３を併せて参照して説明する。図３は、本実施形態のフ
ォーカス引き込み時の各部の波形を示す。図示しないシ
ステムコントローラからの命令により図３(a)に示すフ
ォーカスサーチ信号を出力し、対物レンズを下から上へ
移動させて行く。このときのＦＥ信号生成の様子につい
て説明する。図２の４分割ＰＤ５１（ビーム検出手段）
の出力を演算器５２、演算器５３で演算することにより
（演算手段）、ＡＧＣ前のＦＥ信号(図３(b))、ＡＧＣ
前の和信号（図３(c)）が得られる。そしてＳＵＭ１が
一定となるようにＡＧＣ制御部５６（ゲイン制御手段）
により、ＶＣＡ５４のゲインが制御される。そしてＶＣ
Ａ５５も同じゲインに制御される。図３(d)がこのとき
のゲイン調整信号の波形である。このときＶＣＡ５５に
おいて、ゲイン量に比例したオフセットが生じると、得
られるＡＧＣ後のＦＥ信号は図３(f)のように、１層目
と２層目のＳ字レベルが異なってしまう。次に基準電圧
生成の様子について説明する。まず、図２のゲイン比較
部１３１でゲイン調整信号図３(d)と基準ゲインとを比
較する。ゲイン調整信号が基準ゲインより低いレベルで
選択信号図がＬレベルとなり、これにより図３(e)に示
す選択信号が得られる。基準電圧選択部１３２では、あ
らかじめ基準電圧１、基準電圧２を設定しておき、選択
信号が“Ｌ”のとき基準電圧１を、“Ｈ”のとき基準電
圧２を出力する。これにより、図３(f)に示す基準電圧
が得えられる。そして、１層目と２層目のＳ字のレベル
が異なっても基準電圧の違いにより、図１の比較器１０
でＦＥ信号と基準電圧の比較を行うと、図３(g)のパル
ス信号が得られる。このパルス信号の立ち上がりでカウ
ンタ１１はカウントアップされる。フォーカス制御切替
え部１２では、システムコントローラから指示された引
き込みたい層(ここでは２層目)とカウンタの数が一致し
たら、ＦＥ信号のゼロクロスを検出しフォーカス制御切
替えスイッチ８を、サーボ側８ａに切り替えて、フォー
カス制御信号を出力する位相補償部６にフォーカス制御
切替えスイッチ８の中点８ｃを、アクチュエータドライ
バ９に接続してフォーカス引き込みを行い、フォーカス
サーボの制御にうつる。以上のように基準電圧を生成す
ることにより、フォーカスエラー信号にＡＧＣゲインに
比例したオフセットが生じても、目的の層にフォーカス
を引き込むことができる。図４は、本発明の第２の実施
形態の基準電圧生成部の構成を示すブロック図である。
図１のＦＥ信号生成部５を含めて示したものである。図
２のＦＥ信号生成部５は、図７と同じ構成である。

【００１３】次に、本発明の第２の実施形態について図
１、図４、図５を用いて説明する。第２の実施形態は図
１の基準電圧生成部１３を図４のように構成したもので
ある。参照基準電圧からゲイン調整信号のレベルを減算
する、減算器１３３で構成されている。次に、以上の構
成における２層光ディスクの２層目にフォーカスを引き
込む動作について図４と図５を併せて参照して説明す
る。図５は、本実施形態のフォーカス引き込み時の各部
の波形を示す。フォーカスサーチ信号生成部７ではシス
テムコントローラからの命令により、図５(a)に示すフ
ォーカスサーチ信号を出力して、対物レンズを下から上
へ移動させて行く。このときのＦＥ信号生成の様子につ
いて説明する。図４の４分割ＰＤ５１の出力を演算器５
２、演算器５３で演算することによりＡＧＣ前のＦＥ信
号図５(b)、ＡＧＣ前の和信号図５(c)が得られる。そし
てＳＵＭ１が一定となるようにＡＧＣ制御部５６によ
り、ＶＣＡ５４のゲインが制御される。そしてＶＣＡ５
５も同じゲインに制御される。図５(d)がこのときのゲ
イン調整信号の波形である。このときＶＣＡ５５におい
て、ゲイン量に比例したオフセットが生じると、ＡＧＣ
後のＦＥ信号は、図５(e)のように１層目と２層目のＳ
字のレベルが異なってしまう。次に、基準電圧生成の様
子について説明する。基準電圧は図５(d)に示してある
ような参照基準電圧から、ゲイン調整信号を減算するこ
とによって得ることができる。得られた基準電圧は、図
５(e)のようになり１層目、２層目両方のＳ字と交叉す
ることができる。そしてこれにより、図１の比較器１０
でＦＥ信号と基準電圧の比較を行うことにより、図５
(f)のパルス信号が得られる。このパルス信号の立ち上
がりでカウンタ１１はカウントアップされる。フォーカ
ス制御切替え部１２では、システムコントローラから指
示された引き込みたい層(ここでは２層目)とカウンタの
数が一致したら、ＦＥ信号のゼロクロスを検出しフォー
カス制御切替えスイッチ８をサーボ側８ａに切り替え
て、フォーカス制御信号を出力する位相補償部６にフォ
ーカス制御切替えスイッチ８の中点８ｃを、アクチュエ
ータドライバ９に接続してフォーカス引き込みを行い、
フォーカスサーボの制御にうつる。

【００１４】以上のように基準電圧を生成することによ
り、フォーカスエラー信号にＡＧＣゲインに比例したオ
フセットが生じても、目的の層にフォーカスを引き込む
ことができる。また、図４の参照基準電圧を可変にする
ことにより、生成される基準電圧のレベルを変えること
ができ、光ディスクの反射率のバラツキなどにより１層
目、２層目のＳ字のずれかたが変わっても対処すること
ができる。

【００１５】

【発明の効果】以上記載のごとく本発明によれば、請求
項１は、ゲイン調整信号と基準ゲインを常に比較して基
準電圧を選択するので、オフセットの変動に追従して適
正な基準電圧が選択できる。請求項２は、基準電圧の波
形がゲイン調整信号と相補的な波形であるため、オフセ
ットの変動にさらに細かく追従した適正な基準電圧が生
成できる。また、回路構成が比較的簡単である。請求項
３は、参照基準電圧が任意に変更可能であるので、比較
すべき信号に対して適正な基準電圧を容易に設定でき
る。請求項４は、フォーカスエラー信号と比較する基準
電圧は、ＡＧＣのゲイン量に基づいて生成することとし
たので、フォーカスエラー信号にＡＧＣのゲインに比例
したオフセット量が生じても、多層光ディスクの全ての
層にフォーカス引き込みを行うことができる。請求項５
は、フォーカスエラー信号と比較する基準電圧の生成方
法は、ＡＧＣのゲイン量と基準ゲイン量を比較し、その
結果に基づき基準電圧１、基準電圧２のいずれかを選択
するようにしので、２層光ディスクの各層に応じた基準
電圧を用意することができ、フォーカスエラー信号にＡ
ＧＣのゲインに比例したオフセット量が生じても、より
確実に２層光ディスクの各層にフォーカス引き込みを行
うことができる。請求項６は、フォーカスエラー信号と
比較する基準電圧の生成方法は、参照基準電圧とゲイン
量を表すゲイン調整信号を減算することにより、簡単な
方法でフォーカスエラー信号にＡＧＣのゲインに比例し
たオフセット量が生じても、多層光ディスクの全ての層
にフォーカス引き込みを行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態のフォーカス制御装置の構成
を示すブロック図である。

【図２】本発明の第１の実施形態の基準電圧生成部の構
成を示すブロック図である。

【図３】本発明の第１の実施形態のフォーカス引き込み
時の各部の波形を示す図である。

【図４】本発明の第２の実施形態の基準電圧生成部の構
成を示すブロック図である。

【図５】本発明の第２の実施形態のフォーカス引き込み
時の各部の波形を示す図である。

【図６】従来例のフォーカス制御装置の構成を示すブロ
ック図である。

【図７】従来例のフォーカスエラー信号生成部の構成を
示すブロック図である。

【図８】従来例のフォーカスエラー信号生成部の動作を
説明するための各部の波形を示す図である。

【図９】従来例のフォーカス引き込み時の波形を示す図
である。

【符号の説明】

１光ディスク２アクチュエータ３対物レンズ４キャリッジ５フォーカスエラー信号生成部６位相補償部７フォーカスサーチ信号生成部８フォーカス制御切替スイッチ９アクチュエータドライバ１０比較器１１カウンタ１２フォーカス制御切替部１３基準電圧生成部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数層から成る光ディスクのフォーカス
制御をＡＧＣを用いて制御するフォーカス制御装置にお
いて、複数の光ビーム検出手段からの信号を演算処理する演算
手段と、該演算手段からの信号ゲインを制御するゲイン
制御手段と、を有するフォーカスエラー信号生成部と、前記ゲイン制御手段からの信号と基準ゲインを比較する
ゲイン比較手段と、該ゲイン比較手段の信号に基づいて
複数の異なる基準電圧を選択する基準電圧選択手段と、
を有する基準電圧生成部と、を備えたことを特徴とするフォーカス制御装置。
【請求項２】複数層から成る光ディスクのフォーカス
制御をＡＧＣを用いて制御するフォーカス制御装置にお
いて、複数の光ビーム検出手段からの信号を演算処理する演算
手段と、該演算手段からの信号ゲインを制御するゲイン
制御手段と、を有するフォーカスエラー信号生成部と、前記ゲイン制御手段からの信号と参照基準電圧を減算す
る減算器で構成されている基準電圧生成部と、を備えたことを特徴とするフォーカス制御装置。
【請求項３】前記参照基準電圧は任意に変更可能とす
ることを特徴とする請求項２記載のフォーカス制御装
置。
【請求項４】複数層の光ディスクのフォーカス制御を
ＡＧＣを用いて制御するフォーカス制御方法において、フォーカスエラー信号と比較する基準電圧の生成方法は
ＡＧＣのゲイン量に基づくことを特徴とするフォーカス
制御方法。
【請求項５】複数層の光ディスクのフォーカス制御を
ＡＧＣを用いて制御するフォーカス制御方法において、フォーカスエラー信号と比較する基準電圧の生成方法は
ＡＧＣのゲイン量と基準ゲイン量を比較し、その結果に
基づき複数の基準電圧のいずれかを選択するようにした
ことを特徴とするフォーカス制御方法。
【請求項６】複数層の光ディスクのフォーカス制御を
ＡＧＣを用いて制御するフォーカス制御方法において、フォーカスエラー信号と比較する基準電圧の生成方法
は、参照基準電圧とゲイン量を表すゲイン調整信号を減
算することにより得ることを特徴とするフォーカス制御
方法。