JP2002293027A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の波長域により短波長に発振波長を有す
る半導体レーザーを用いる高密度光ディスクシステム
（ＤＶＤ−Ｒ）に適用可能であって、有機溶剤に対する
溶解性が高く、耐光性、保存安定性に優れた光記録媒体
を提供する 【解決手段】 基板上に直接又は下引き層を介し記録層
を設け、さらにその上に必要に応じ反射層、保護層又は
接着層及び第二の基板を設けてなる光記録媒体におい
て、該記録層が下記一般式（Ｉ）で示されるホルマザン
金属キレート色素を少なくとも１種含有してなることを
特徴とする。（式中、Ｒはフッ素置換されたアルキル基
を表し、Ｙは窒素原子を含む置換基を有していてもよい
５員環または６員環を形成する残基を表し、Ｚは置換基
を有していてもよいアリール基を表す。Ｍは金属原子を
表し、ｎはＭに配位するホルマザン配位子の数を表
す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光記録媒体に関する
ものであって、特に光ビームを照射することにより、記
録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、
情報の記録、再生を行ない、かつ追記が可能な光情報記
録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
てコンパクトディスク（ＣＤ）規格に対応した記録可能
なＣＤ（ＣＤ−Ｒ）が商品化されている。この光記録媒
体は、記録層に波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を照
射し、記録層に物理あるいは化学的な変化を起こし、ま
た反射光を検出することにより、情報を記録再生する。
加えて現在では、次世代大容量光ディスクとしてＤＶＤ
−Ｒの開発が進められている。記録容量の向上の要素技
術は、記録ピット微小化のための記録材料開発、ＭＰＥ
Ｇ２に代表される画像圧縮技術の採用、記録ピット読み
とりのための半導体レーザの短波長化等の技術開発が必
要である。

【０００３】ところで最近、より短波長の半導体レーザ
の開発が進み、波長６３０〜６６０ｎｍの赤色半導体レ
ーザが実用化されている。しかし、これまで赤色波長域
の半導体レーザは、バーコードリーダ、計測器用に６７
０ｎｍ帯のＡｌＧａＩｎＰレーザダイオードが商品化さ
れているのみであったが、光ディスクの高密度化に伴
い、赤色レーザが本格的に光ストレージ市場で使用され
つつある。この赤色レーザによれば、短波長化によりビ
ーム径をより小さくすることができるので、高密度の光
記録媒体の作用が可能となる。ＤＶＤドライブの場合、
光源として約６３５ｎｍ帯と約６５５ｎｍ帯のレーザダ
イオードの２つの波長で規格化されている。高密度記録
のためには、波長はより短波長であるのが望ましく、追
記メディア用ドライブとしては波長６３５ｎｍが好まし
い。一方、再生専用のＤＶＤ−ＲＯＭドライブは波長約
６５５ｎｍで商品化されている。

【０００４】このような状況下で最も好ましいＤＶＤ−
Ｒメディアは、波長約６３５ｎｍ及び約６５０ｎｍで記
録、再生が可能なメディア（ＤＶＤ−Ｒ）で、それに適
用できる耐光性、保存安定性に優れた記録材料が望まれ
ている。そして昨今、記録材料として、ポリメチン色素
及びアゾ金属キレート色素の開発が盛んに進められてい
る（特開平１０−８３５７７号、特開平１０−１１９４
３４号、特開平１０−１４９５８３号、特開平１０−１
８８３３９号、特開平１０−２７８４２６号、特開平８
−２９５８１１号、特開平８−２９５８１２号、特開平
９−３３２７７２号、特開平９−３９３９４号、特開平
１０−６６５０号、特開平１０−５８８２８号、特開平
１０−１５７２９３号、特開平１０−１５７３００号、
特開平１０−１８８３４０号、特開平１０−１８８３４
１号公報）。

【０００５】ポリメチン色素中、特にシアニン色素は、
光学特性的には優れており信号特性も満足すべき特性が
得られるものの、耐光性が極めて悪くそれ単独では実用
に耐えない。その改良として、光安定化材の開発が進め
られているが（特開平１０−１０９４７５号、特開平１
０−１０９４７６号、特開平１０−１３４４１３号、特
開平１０−１５１８６１号、特開平１０−１６６７３９
号公報）、光安定化能と信号特性を両立するものは未だ
見いだされていない。また、アゾ金属キレート色素も信
号特性は満足すべき特性が得られるが（特開平８−２９
５０７９号、特開平９−１９３５４６号、特開平１０−
１５２６２３号、特開平１０−１５４３５０）、充分な
耐光性は得られていない。

【０００６】一方、ホルマザン金属キレート色素は光安
定性が極めて高いことが知られ、光記録材料としての応
用が試みられてきたが（特開平８−２９５０７９号、特
開平９−１９３５４６号、特開平１０−１５２６２３
号、特開平１０−１５４３５０号）、何れも吸収波長が
長く、ＤＶＤ−Ｒ用記録材料としては適していなかっ
た。また、シアニン色素の光安定化材としての応用も試
みられているが、光安定化機能が効率よく発揮できるた
めには、主色素の吸収波長に近接した吸収特性を有する
ホルマザン色素が必要となる。その意味で従来のホルマ
ザン金属キレート色素は吸収波長が長波長すぎ、充分な
光安定化能力を発揮できていなかった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記従
来システムに比べて、短波長に発振波長を有する半導体
レーザーを用いる高密度光ディスクシステムに適用可能
な、有機溶剤に対して溶解性が高く、耐光性、保存安定
性および、記録信号特性、特にジッター・感度・変調度
・プッシュプル特性に優れたＤＶＤ−Ｒ用のホルマザン
金属キレート記録材料を提供することである。本発明の
他の目的は、ＤＶＤ−Ｒ用記録色素として優れた信号特
性、特に優れたジッター・感度・変調度・プッシュプル
特性を示すポリメチン色素及びアゾ金属色素の光安定性
を向上させるホルマザン金属キレート光安定化材を提供
することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は検討した結
果、特定の構造を有するホルマザン金属キレート色素を
主成分とする記録層が上記特性を有することを見出し、
発振波長６３０〜７００ｎｍ以下の半導体レーザーを用
いる高密度光ディスクシステムに適用可能で記録信号特
性に優れた光記録媒体の開発に至った。即ち、本発明の
上記課題は下記（１）〜（９）によって達成される。

【０００９】（１）基板上に直接又は下引き層を介し記
録層を設け、さらにその上に必要に応じ反射層、保護層
又は接着層及び第二の基板を設けてなる光記録媒体にお
いて、該記録層が下記一般式（Ｉ）で示される化合物を
少なくとも１種含有してなることを特徴とする光記録媒
体。

【化２】 （式中、Ｒはフッ素置換されたアルキル基を表し、Ｙは
窒素原子を含む置換又は無置換の５員環または６員環を
形成する残基を表し、Ｚは置換又は無置換のアリール基
を表す。Ｍは金属原子を表し、ｎはＭに配位するホルマ
ザン配位子の数を表す。）

【００１０】（２）前記一般式（Ｉ）中、Ｍが鉄、コバ
ルト、ニッケル、銅または亜鉛であることを特徴とする
上記（１）に記載の光記録媒体。

【００１１】（３）前記一般式（Ｉ）中、置換基Ｒが直
鎖または枝分れした炭素数１から５のフッ化アルキル基
であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の
光記録媒体。

【００１２】（４）前記一般式（Ｉ）中、置換基Ｒがト
リフルオロメチル基であることを特徴とする上記（３）
に記載の光記録媒体。

【００１３】（５）前記一般式（Ｉ）中、窒素原子を含
む置換又は無置換の５員環または６員環が置換又は無置
換のトリアジン環であることを特徴とする上記（１）〜
（４）のいずれかに記載の光記録媒体。

【００１４】（６）前記記録層が、前記一般式（Ｉ）で
表される化合物と５５０〜６３０ｎｍに吸収極大波長を
有する光吸収性色素との混合層からなることを特徴とす
る上記（１）〜（５）のいずれかに記載の光記録媒体。

【００１５】（７）前記光吸収性色素がポリメチン色素
又はアゾ金属キレート色素であり、該ポリメチン色素又
はアゾ金属キレート色素の最大吸収波長の−５０ｎｍよ
り長波長に吸収極大波長を有する一般式（Ｉ）で表され
るとの混合層からなる上記（１）〜（６）のいずれかに
記載の光記録媒体。

【００１６】（８）前記ポリメチン色素がシアニン色素
である上記（７）に記載の光記録媒体。

【００１７】（９）上記（１）〜（８）のいずれかに記
載の光記録媒体において、６３０〜７００ｎｍの波長の
光を用いて情報の記録および再生を行うことを特徴とす
る光記録媒体。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明の光記録媒体は、追記型光ディスクの構造
（基板上に記録層を設けたものを２枚貼り合わせたいわ
ゆるエアーサンドイッチ構造）としてもよく、ＣＤ−Ｒ
構造（基板上に記録層、反射層、保護層を積層した構
造）としてもよく、またＣＤ−Ｒ構造を貼り合わせた構
造としてもよい。

【００１９】（基板）用いる基板としては基板側より記
録再生を行なう場合のみ使用レーザーに対して透明でな
ければならず、記録層側から記録、再生を行なう場合基
板は透明である必要はない。基板材料としては例えば、
ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック又は、ガラ
ス、セラミックあるいは、金属などを用いることができ
る。なお、基板の表面にトラッキング用の案内溝や、案
内ピット、さらにアドレス信号などのプリフォーマット
などが形成されていても良い。

【００２０】（記録層）記録層はレーザー光の照射によ
り何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報
を記録するものであって、この記録層中には本発明の前
記一般式（Ｉ）で示される化合物を少なくとも１種含有
してなることが必要である。

【００２１】一般式（Ｉ）中のＲは直鎖または分岐のフ
ッ素置換されたアルキル基を表し、Ｙは窒素原子を含む
置換または無置換の５員環または６員環であり、チアゾ
ール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、オキサゾ
ール環、トリアゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾ
ール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピ
ラジン環、トリアジン環、キノリン環等を形成する残基
を表す。これらの含窒素複素環は、置換基を有していて
も良いし、他の芳香環が縮合していても良い。Ｚはアリ
ール基を表し、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
基、カルボキシル基又はそのエステル、ニトリル基、ニ
トロ基等の置換基を有していても良い。Ｍは２価の金属
原子を表し、ｎはＭに配位するホルマザン配位子の数を
表す。

【００２２】金属原子の具体例は、チタン、バナジウ
ム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、
亜鉛、ジリコニウム、ニオブ、モリブデン、テクネニウ
ム、ルテニウム、ロジウム、パラジウム等が挙げられる
が、光学特性、保存安定性及び光安定性の面から、特に
鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウムが好ま
しく、コバルト、ニッケル、銅がより好ましい。

【００２３】上記アルキル基の具体例は、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の一級アルキル基、
イソブチル基、イソアミル基、２−メチルブチル基、２
−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチ
ルペンチル基、２−エチルブチル基、２−メチルヘキシ
ル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、
５−メチルヘキシル基、２−エチルペンチル基、３−エ
チルペンチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘ
プチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル
基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、イ
ソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、１−エチルプロピル
基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル
基、１−メチルヘプチル基、１−エチルブチル基、１，
３−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１
−エチル−２−メチルプロピル基、１−メチルヘキシル
基、１−エチルヘプチル基、１−プロピルブチル基、１
−イソプロピル−２−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルブチル基、１−エチル−２−メチルブチル
基、１−プロピル−２−メチルプロピル基、１−メチル
ヘプチル基、１−エチルヘキシル基、１−プロピルペン
チル基、１−イソプロピルペンチル基、１−イソプロピ
ル−２−メチルブチル基、１−イソプロピル−３−メチ
ルブチル基、１−メチルオクチル基、１−エチルヘプチ
ル基、１−プロピルヘキシル基、１−イソブチル−３−
メチルブチル基等の二級アルキル基、ネオペンチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ
−アミル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の三級アルキル
基、シクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、
４−エチルシクロヘキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロヘキシル基、４−（２−エチルヘキシル）シクロヘ
キシル基、ボルニル基、イソボルニル基（アダマンチル
基）等のシクロアルキル基等が挙げられる。

【００２４】更に、これら一級及び二級アルキル基は、
水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ基、シア
ノ基、置換又は無置換のアリール基、置換又は無置換の
複素環残基等を以て置換されていてもよく、また酸素、
硫黄、窒素等の原子を介して前記のアルキル基で置換さ
れていてもよい。酸素を介して置換されているアルキル
基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エ
トキシメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル
基、エトキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、
メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、ピペリジノ
基、モルホリノ基等が、硫黄を介して置換されているア
ルキル基としては、メチルチオエチル基、エチルチオエ
チル基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基
等が、窒素を介して置換されているアルキル基として
は、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル
基、ジエチルアミノプロピル基等が挙げられる。

【００２５】上記アリール基の具体例には、フェニル
基、ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズ
レニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−
インダセニル基、ｓ−インダセニル基、アセナフタレニ
ル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントラ
ニル基、アントラニル基、フルオラセニル基、アセフェ
ナントラレニル基、アセアントリレン基、トリフェニレ
ニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等
が挙げられる。更に、これらアリール基は、水酸基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、カルボキシ基、シアノ基、置換
又は無置換のアリール基、置換又は無置換の複素環残基
等を以て置換されていてもよく、また酸素、硫黄、窒素
等の原子を介して前記のアルキル基で置換されていても
よい。

【００２６】上記アルコキシ基の具体例は、酸素原子に
直接置換又は無置換のアルキル基が結合されているもの
であればよく、アルキル基の具体例としては前述の具体
例を挙げることができ、上記アリールオキシ基の具体例
は、酸素原子に直接置換又は無置換のアリール基が結合
されているものであればよく、アリールの具体例として
は前述の具体例を挙げることができる。

【００２７】記録層の形成に当たっては、本発明の一般
式（Ｉ）で表される色素化合物（ホルマザン金属キレー
ト色素）が１種、又は２種以上の組み合わせで用いても
良い。さらに、本発明のホルマザン金属キレート色素は
光学特性、記録感度、信号特性などの向上の目的で他の
有機色素及び金属、金属化合物と混合又は積層化して用
いても良い。

【００２８】前記他の有機色素の例としては、ポリメチ
ン色素、ナフタロシアニン色素、フタロシアニン色素、
スクアリリウム色素、クロコニウム色素、ピリリウム色
素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素（インダン
スレン色素）、キサンテン色素、トリフェニルメタン色
素、アズレン色素、テトラヒドロコリン色素、フェナン
スレン色素、トリフェノチアジン色素及びその金属錯体
化合物などが挙げられる。また、金属、金属化合物の例
としてはＩｎ、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、
Ａｌ、Ｂｅ、ＴｅＯ_２、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄ、などが挙
げられ、それぞれを分散混合あるいは積層の形態で用い
ることができる。

【００２９】また、上記の他の有機色素を光安定化材と
して用いる場合は、５５０〜６３０ｎｍに吸収極大波長
を有する色素が選択され、これと本発明のホルマザン金
属キレートを混合して使用する。この場合、本発明のホ
ルマザン金属キレート色素は、上記他の有機色素（光安
定化材）の最大吸収波長−５０ｎｍより長波長に吸収を
持つことがその効率上好ましい。これら波長域の選択に
より、吸収体近傍の長波長域である６３０〜７００ｎｍ
において記録材色素の最も大きな屈折率が得られるた
め、発振波長６３０〜７００ｎｍの半導体レーザー適合
性を得ると同時に、最大の記録再生効率（変調度）が得
られる。

【００３０】上記他の有機色素のうち、５５０ｎｍ〜６
３０ｎｍに吸収最大波長のある色素の好ましい例として
は、ポリメチン色素、クロコニウム色素、ピリリウム色
素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素（インダン
スレン系）、キサンテン色素、トリフェニルメタン色
素、テトラヒドロコリン色素、フェナンスレン色素、ト
リフェノチアジン色素、アゾ金属キレート色素等があ
り、光学特性からポリメチン色素、アゾ金属キレート色
素が特に好ましい。

【００３１】さらに、上記色素中に高分子材料、例えば
アイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天
然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もし
くはシランカップリング剤などを分散混合しても良く、
特性改良の目的で安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散
剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤な
どと散混合してもよい。

【００３２】記録層の形成方法としては蒸着、スパッタ
リング、ＣＶＤまたは溶剤塗布などの通常の手段によっ
て行うことができる。塗布法を用いる場合には上記染料
などを有機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーテ
ィグ、ディピング及び、スピンコーティングなどの慣用
のコーティング法によって行うことが出来る。

【００３３】用いられる有機溶媒としては一般にメタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、などのアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、などのケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチ
ルスルホキシドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチ
ル、酢酸エチルなどのエステル類、クロロホルム、塩化
メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭素、トリクロロエ
タンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、キ
シレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、など
の芳香族類、メトキシエタノール、エトキシエタノール
などのセロソルブ類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素類などが挙
げられる。

【００３４】記録層の膜厚は１００Å〜１０μｍ好まし
くは２００Å〜２０００Åが適当である。

【００３５】（下引き層）下引き層は（ｉ）接着性の向
上、（ii）水又はガスなどのバリアー、（iii）記録層
の保存安定性の向上、（iv）反射率の向上、（ｖ）溶剤
からの基板の保護、（vi）案内溝、案内ピット、プレフ
ォーマットの形成などを目的として使用される。（ｉ）
の目的に対しては高分子材料例えば、アイオノマー樹
脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂、天然樹脂、天然高分
子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子化合物及
び、シランカップリング剤などを用いることができ、
（ii）及び（iii）の目的に対しては上記高分子材料以
外に無機化合物、例えば、ＳｉＯ、ＭｇＦ、ＳｉＯ₂、
ＴｉＯ、ＺｎＯ、ＴｉＮ、ＳｉＮなどがあり、さらに金
属又は半金属例えば、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ、
Ｓｅ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、などを用いることができる。
また、（iv）の目的に対しては金属、例えば、Ａｌ、Ａ
ｕ、Ａｇ等や、金属光沢を有する有機薄膜、例えば、メ
チン染料、キサンテン系染料などを挙げることができ、
（ｖ）、（vi）の目的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬
化樹脂、熱可塑性樹脂等を用いることができる。

【００３６】下引き層の膜厚としては０．０１〜３０μ
ｍであり、好ましくは０．０５〜１０μｍが適当であ
る。

【００３７】（金属反射層）金属反射層は単体で高反射
率の得られる腐食されにくい金属、半金属等が挙げら
れ、材料例としてはＡｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆ
ｅ、Ｓｎなどが挙げられるが、反射率、生産性の点から
Ａｕ、Ａｇ、Ａｌが最も好ましく、これらの金属、半金
属は単独で使用しても良く、２種の合金としても良い。
膜形成法としては蒸着、スッパタリングなどが挙げられ
る。

【００３８】金属反射層の膜厚は５０〜５０００Å、好
ましくは１００〜３０００Åである。

【００３９】（保護層又は基板面ハードコート層）保護
層及び基板面ハードコート層は（ｉ）記録層（反射吸収
層）を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、（ii）記録層
（反射吸収層）の保存安定性の向上、（iii）反射率の
向上等を目的として使用される。これらの目的に対して
は、前記下引き層に示した材料を用いることができる。
また、無機材料として、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、なども用い
ることができ、有機材料としてポリメチルアクリレー
ト、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、
ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭
化水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロ
ロプレンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロ
ジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができ
る。上記材料のうち最も好ましい例としては生産性に優
れた紫外線硬化樹脂である。

【００４０】保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は
０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍが
適当である。

【００４１】本発明において、前記下引き層、保護層、
及び、基板面ハードコート層には記録層の場合と同様
に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面
活性剤、可塑剤等を含有させることができる。

【００４２】下記に本発明で用いられるホルマザン金属
キレートの代表的を例示する。

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【００４３】

【実施例】次に実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。

【００４４】（実施例１）深さ１６００Å、半値幅０．
３０μｍ、トラックピッチ０．８μｍの案内溝を有する
厚さ０．６ｍｍの射出成形ポリカーボネート基板上に、
化合物例Ｎｏ.２１と下記シアニン色素１との混合色素
（重量比５／５）をテトラフルオロプロパノールに溶解
した溶液をスピンナー塗布し、厚さ７００Åの有機色素
層を形成し、次いで、スパッタ法により金２０００Åの
反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマ
ーにて５μｍの保護層を設けた後、厚さ０．６ｍｍの射
出成形ポリカーボネート平基板と貼り合わせ光記録媒体
とした。

【化３】

【００４５】（実施例２、３、４、５、６）実施例１に
おける化合物Ｎｏ.２１の代わりに化合物例Ｎｏ．２
３、２５、２７、２９、３３を用いた以外は、実施例１
と全く同様に記録媒体を得た。

【００４６】（実施例７）実施例１におけるシアニン色
素１の代わりに下記アゾ色素１を用いた以外は、実施例
１と全く同様に光記録媒体を得た。

【化４】

【００４７】（比較例１、２、３、４）実施例１で有機
薄膜として、化合物例Ｎｏ.２１の代わりに下記比−
１、比−２、比−３、比−４の化合物を用いて光記録媒
体とした。

【化５】

【００４８】（記録条件）これら光記録媒体に発振波長
６５８ｎｍの半導体レーザー光を用い、トラッキングし
ながらＥＦＭ信号(線速３．０ｍ／ｓｅｃ、最短マーク
長０．４μｍ)を記録し、発振波長６５８ｎｍの半導体
レーザーの連続光（再生パワー０．７ｍＷで再生し、再
生波形を観察した。結果を表６に示す。

【００４９】

【表６】

【００５０】評価結果から、本発明のホルマザン金属キ
レート色素を用いた場合の反射率は比較例（４５〜４６
％）に比べて高反射率（４８〜４９％）を示し、変調度
は比較例（６０〜６２％）に比べて高変調度（６７〜７
５％）を示し、感度は比較例（８．８〜９．６ｍＷ）に
比べて高感度（８．０〜８．５ｍＷ）を示し、プッシュ
プル信号は比較例（４３０〜５３０ｍＶ）に比べて高性
能（５５０〜６２０ｍＶ）を示し、ピットジッターは比
較例（１４．８〜１６．１％）に比べて良好な信号特性
（１０．０〜１０．６％）を示す事が観測された。

【００５１】（実施例９、１０）厚さ１．２ｍｍの射出
成形ポリカーボネート平板上に、上記シアニン色素１と
化合物例Ｎｏ.２１とを重量比(１０／２)及び重量比(１
０／４)の混合物をテトラフルオロプロパノール溶解
し、スピンナー塗布して、厚さ１０００Åの有機色素層
を形成した。この色素薄膜をタングステンランプ、５万
ルクス下に置き、色素の吸光度の変化を測定した。結果
を表７に示す。

【００５２】（実施例１１、１２）実施例９、１０で化
合物(シアニン色素１)の代わりに、(アゾ色素１)を用い
た以外は、実施例９、１０と全く同様に色素薄膜をえ
た。この色素薄膜をタングステンランプ、５万ルクス下
に置き、色素の吸光度の変化を測定した。結果を表７に
示す。

【００５３】（比較例５）実施例９で化合物(シアニン
色素１)のみの色素薄膜とした。この色素薄膜をタング
ステンランプ、５万ルクス下に置き、色素の吸光度の変
化を測定した。結果を表７に示す。

【００５４】（比較例６）実施例１１で化合物(アゾ色
素１)のみの色素薄膜とした。この色素薄膜をタングス
テンランプ、５万ルクス下に置き、色素の吸光度の変化
を測定した。結果を表７に示す。

【００５５】

【表７】

【００５６】化合物例Ｎｏ．１、８、１９、２０、２
２、２４、３１でも同様に顕著な光安定化効果を得た。

【００５７】

【発明の効果】上記の通り本発明のホルマザン金属キレ
ート色素は、塗布によるコーティングが可能で、耐光
性、保存安定性、記録信号特性、特にジッター・感度・
変調度・プッシュプル特性に優れた記録メディアが提供
できる。

【００５８】請求項１の発明によれば、７００ｎｍ以下
の波長域のレーザー光で高密度記録、再生が可能で耐光
性に優れた光記録媒体が提供できる。請求項２の発明に
よれば、その好ましい化学構造で優れた光記録媒体が提
供できる。請求項３〜５の発明によれば、最適な化学構
造により信号記録性能に優れた光記録媒体が提供でき、
請求項６の発明によれば、光安定化材として用いる光記
録媒体が提供できる。請求項７の発明によれば、光安定
化材としてより効率の良く作用する基本構成を示し、光
記録媒体が提供される。請求項８の発明によれば、その
好ましい材料構成を示し、優れた光記録媒体が提供でき
る。請求項９の発明によれば、記録変調度に優れた光記
録媒体が提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸村 辰也 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 野口 宗 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 岡田 崇 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA32 EA43 FA14 FA15 FB42 FB60 5D029 JA04 JC17

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に直接又は下引き層を介し記録層
   を設け、さらにその上に必要に応じ反射層、保護層又は
   接着層及び第二の基板を設けてなる光記録媒体におい
   て、該記録層が下記一般式（Ｉ）で示される化合物を少
   なくとも１種含有してなることを特徴とする光記録媒
   体。 【化１】 （式中、Ｒはフッ素置換されたアルキル基を表し、Ｙは
   窒素原子を含む置換又は無置換の５員環または６員環を
   形成する残基を表し、Ｚは置換又は無置換のアリール基
   を表す。Ｍは金属原子を表し、ｎはＭに配位するホルマ
   ザン配位子の数を表す。）
2. 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）中、Ｍが鉄、コバル
   ト、ニッケル、銅または亜鉛であることを特徴とする請
   求項１記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 前記一般式（Ｉ）中、置換基Ｒが直鎖ま
   たは枝分れした炭素数１から５のフッ化アルキル基であ
   ることを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）中、置換基Ｒがトリフ
   ルオロメチル基であることを特徴とする請求項１〜３の
   いずれかに記載の光記録媒体。
5. 【請求項５】 前記一般式（Ｉ）中、窒素原子を含む置
   換又は無置換の５員環または６員環が、置換又は無置換
   のトリアジン環であることを特徴とする請求項１〜４の
   いずれかに記載の光記録媒体。
6. 【請求項６】 前記記録層が、前記一般式（Ｉ）で表さ
   れる化合物と５５０〜６３０ｎｍに吸収極大波長を有す
   る光吸収性色素との混合層からなることを特徴とする請
   求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体。
7. 【請求項７】 前記光吸収性色素がポリメチン色素又は
   アゾ金属キレート色素であり、該ポリメチン色素又はア
   ゾ金属キレート色素の最大吸収波長の−５０ｎｍより長
   波長に吸収極大波長を有する一般式（Ｉ）で表される化
   合物との混合層からなることを特徴とする請求項１〜６
   のいずれかに記載の光記録媒体。
8. 【請求項８】 前記ポリメチン色素がシアニン色素であ
   ることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。
9. 【請求項９】 請求項１〜８記載の光記録媒体におい
   て、６３０〜７００ｎｍの波長の光を用いて情報の記録
   および再生を行うことを特徴とする光記録媒体。