JP2002287325A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001091340A JP3921953B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | マスク、マスクの製造方法、微細構造体の製造方法、及び液晶ディスプレイの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001091340A JP3921953B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | マスク、マスクの製造方法、微細構造体の製造方法、及び液晶ディスプレイの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002287325A JP2002287325A (ja) | 2002-10-03 |
| JP2002287325A5 true JP2002287325A5 (enExample) | 2005-03-03 |
| JP3921953B2 JP3921953B2 (ja) | 2007-05-30 |
Family
ID=18945970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001091340A Expired - Fee Related JP3921953B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | マスク、マスクの製造方法、微細構造体の製造方法、及び液晶ディスプレイの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3921953B2 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4515012B2 (ja) * | 2002-08-07 | 2010-07-28 | 大日本印刷株式会社 | パターンデータの作製方法およびフォトマスク |
| JP5031173B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2012-09-19 | 大日本印刷株式会社 | 撮像装置と撮像装置におけるマイクロレンズの形成方法 |
| JP5673718B2 (ja) * | 2006-07-21 | 2015-02-18 | 大日本印刷株式会社 | 階調マスク |
| JP5228390B2 (ja) * | 2006-07-21 | 2013-07-03 | 大日本印刷株式会社 | 階調マスク |
| JP5200439B2 (ja) * | 2006-07-21 | 2013-06-05 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2009237419A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Hoya Corp | 多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 |
| JP2010020146A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置 |
| JP5510865B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2014-06-04 | 住友化学株式会社 | 防眩処理方法、防眩フィルムの製造方法および金型の製造方法 |
| JP5671788B2 (ja) * | 2009-07-13 | 2015-02-18 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ基板用フォトマスク及びカラーフィルタ基板 |
| CN102054279A (zh) * | 2009-11-02 | 2011-05-11 | 住友化学株式会社 | 随机图案的生成方法 |
| JP2011118328A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ランダムパターンの作成方法 |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001091340A patent/JP3921953B2/ja not_active Expired - Fee Related
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