JP2002287133A - 表示装置及びこれに使用する反射板 - Google Patents
表示装置及びこれに使用する反射板Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、工程を増やすことなく、且つ信頼
性を低下させることのない反射型または透反型の表示装
置そしてこれに使用される反射板を提供することを目的
とする。 【解決手段】 二枚のガラス基板１１，１２の間に構成
される表示セルと、一方のガラス基板の内面に設けら
れ、表面が保護層１２ｂにより覆われている金属製反射
板１２ａと、から成る表示装置１０であって、上記保護
層１２ｂが、導電性薄膜から構成されるように、表示装
置１０を構成する。
性を低下させることのない反射型または透反型の表示装
置そしてこれに使用される反射板を提供することを目的
とする。 【解決手段】 二枚のガラス基板１１，１２の間に構成
される表示セルと、一方のガラス基板の内面に設けら
れ、表面が保護層１２ｂにより覆われている金属製反射
板１２ａと、から成る表示装置１０であって、上記保護
層１２ｂが、導電性薄膜から構成されるように、表示装
置１０を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶表示装
置やエレクトロクロミック素子等の反射型の表示装置に
関し、特に表示セル内に設けられた反射板の構成に関す
るものである。
置やエレクトロクロミック素子等の反射型の表示装置に
関し、特に表示セル内に設けられた反射板の構成に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば液晶表示装置やエレクトロ
クロミック素子等の反射型の表示装置を反射型として構
成するために、表示セルの内側または外側に、高反射率
の反射板が設けられている。ところで、近年の表示のフ
ァインパターン化や高品位化に伴って、表示セルの外側
に反射板を設けると、視差が顕著に発生することになる
ことから、反射板は表示セルの内側に設けられるように
なってきている。このような表示セル内に反射板を設け
た表示装置として、ドットマトリックスタイプの表示装
置や防眩ミラーがあり、これらは例えば以下に示すよう
に構成されている。
クロミック素子等の反射型の表示装置を反射型として構
成するために、表示セルの内側または外側に、高反射率
の反射板が設けられている。ところで、近年の表示のフ
ァインパターン化や高品位化に伴って、表示セルの外側
に反射板を設けると、視差が顕著に発生することになる
ことから、反射板は表示セルの内側に設けられるように
なってきている。このような表示セル内に反射板を設け
た表示装置として、ドットマトリックスタイプの表示装
置や防眩ミラーがあり、これらは例えば以下に示すよう
に構成されている。
【０００３】図３は、ドットマトリックスタイプの反射
型ゲスト−ホスト液晶表示装置の一例を示している。図
３において、液晶表示装置１は、それぞれ内面に電極２
ａ，３ａを備え且つ互いに所定間隔に保持された二枚の
ガラス基板２，３と、これらのガラス基板２，３の周縁
に沿ってガラス基板２，３の間の空間を封止するシール
材４と、この空間内に封入された液晶層５と、この空間
の外側に延びる上記電極２ａ，３ａに接続された端子部
６と、から構成されている。
型ゲスト−ホスト液晶表示装置の一例を示している。図
３において、液晶表示装置１は、それぞれ内面に電極２
ａ，３ａを備え且つ互いに所定間隔に保持された二枚の
ガラス基板２，３と、これらのガラス基板２，３の周縁
に沿ってガラス基板２，３の間の空間を封止するシール
材４と、この空間内に封入された液晶層５と、この空間
の外側に延びる上記電極２ａ，３ａに接続された端子部
６と、から構成されている。
【０００４】上記電極２ａ，３ａのうち、前側のガラス
基板２の内面に形成された電極２ａは、透明電極であっ
て、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚のＩＴＯ
（酸化インジウム）膜により成膜され、パターニングに
よりストライプパターンとして形成されている。また、
後側のガラス基板３の内面に形成された電極３ａは、内
面反射板を兼用する金属電極であって、例えばスパッタ
法により１３００Åの膜厚のアルミ膜により成膜され、
例えばレジストを使用したフォトパターニング法によ
り、ストライプパターンとして形成されている。
基板２の内面に形成された電極２ａは、透明電極であっ
て、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚のＩＴＯ
（酸化インジウム）膜により成膜され、パターニングに
よりストライプパターンとして形成されている。また、
後側のガラス基板３の内面に形成された電極３ａは、内
面反射板を兼用する金属電極であって、例えばスパッタ
法により１３００Åの膜厚のアルミ膜により成膜され、
例えばレジストを使用したフォトパターニング法によ
り、ストライプパターンとして形成されている。
【０００５】ここで、ガラス基板２，３は、各電極２
ａ，３ａのストライプパターンが互いに直交するように
重ね合わされている。このストライプパターンは、例え
ば線幅が３００μｍ，線間が２０μｍに選定されてい
る。さらに、上記各電極２ａ，３ａは、それぞれその側
縁に端子部６が接続されている。尚、電極２ａは、その
ストライプパターンの方向に基づいて、図４に示すよう
に、端子部６が接続されている。
ａ，３ａのストライプパターンが互いに直交するように
重ね合わされている。このストライプパターンは、例え
ば線幅が３００μｍ，線間が２０μｍに選定されてい
る。さらに、上記各電極２ａ，３ａは、それぞれその側
縁に端子部６が接続されている。尚、電極２ａは、その
ストライプパターンの方向に基づいて、図４に示すよう
に、端子部６が接続されている。
【０００６】また、ガラス基板３の電極３ａは、その表
面が保護層３ｂにより覆われている。この保護層３ｂ
は、絶縁層から構成されており、例えばスパッタ法によ
り３００Åの膜厚のＳｉＯ2 により成膜されると共に、
端子部６が接続される領域では、表示セル完成後に除去
されている。
面が保護層３ｂにより覆われている。この保護層３ｂ
は、絶縁層から構成されており、例えばスパッタ法によ
り３００Åの膜厚のＳｉＯ2 により成膜されると共に、
端子部６が接続される領域では、表示セル完成後に除去
されている。
【０００７】このような構成の液晶表示装置１によれ
ば、双方の端子部６から、ガラス基板２，３の電極２
ａ，３ａの各ストライプパターンに対して、適宜に選択
的に電圧を印加する。これにより、互いに対向する電極
２ａ，３ａのストライプパターンの領域（ドット領域）
にて、内部の液晶層５の液晶分子が電圧により整列し、
図３にて上方から入射した光が、液晶層５を透過して、
電極３ａにより反射され、再び液晶層５を透過して、上
方に向かって出射することにより、反射によるドット表
示が行なわれ、全体としてドットマトリックス表示が行
なわれるようになっている。
ば、双方の端子部６から、ガラス基板２，３の電極２
ａ，３ａの各ストライプパターンに対して、適宜に選択
的に電圧を印加する。これにより、互いに対向する電極
２ａ，３ａのストライプパターンの領域（ドット領域）
にて、内部の液晶層５の液晶分子が電圧により整列し、
図３にて上方から入射した光が、液晶層５を透過して、
電極３ａにより反射され、再び液晶層５を透過して、上
方に向かって出射することにより、反射によるドット表
示が行なわれ、全体としてドットマトリックス表示が行
なわれるようになっている。
【０００８】また、図５は、ゲストーホスト型の液晶セ
ルを利用した防眩ミラーの一例を示している。図５にお
いて、防眩ミラー７は、それぞれ内面に電極８ａ，９ａ
を備え且つ互いに所定間隔に保持された二枚のガラス基
板８，９と、これらのガラス基板８，９の周縁に沿って
ガラス基板８，９の間の空間を封止するシール材４と、
この空間内に封入された二色性色素分子を含有する液晶
層５と、この空間の外側に延びる上記電極８ａの両端に
接続された端子部６と、から構成されている。
ルを利用した防眩ミラーの一例を示している。図５にお
いて、防眩ミラー７は、それぞれ内面に電極８ａ，９ａ
を備え且つ互いに所定間隔に保持された二枚のガラス基
板８，９と、これらのガラス基板８，９の周縁に沿って
ガラス基板８，９の間の空間を封止するシール材４と、
この空間内に封入された二色性色素分子を含有する液晶
層５と、この空間の外側に延びる上記電極８ａの両端に
接続された端子部６と、から構成されている。
【０００９】上記電極８ａ，９ａのうち、前側のガラス
基板８の内面に形成された電極８ａは、透明電極であっ
て、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚のＩＴＯ
膜により成膜され、ミラー部分に対応する所謂べたパタ
ーン８ａ１と、電極９ａに接続される端子電極パターン
８ａ２と、を有するように形成されている。
基板８の内面に形成された電極８ａは、透明電極であっ
て、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚のＩＴＯ
膜により成膜され、ミラー部分に対応する所謂べたパタ
ーン８ａ１と、電極９ａに接続される端子電極パターン
８ａ２と、を有するように形成されている。
【００１０】そして、電極８ａは、それぞれべたパター
ン８ａ１及び端子電極パターン８ａ２の端縁に、それぞ
れ端子部６が接続されている。また、後側のガラス基板
９の内面に形成された電極９ａは、内面反射板を兼用す
る金属電極であって、例えばスパッタ法により１３００
Åの膜厚のアルミ膜により成膜され、所謂べたパターン
として形成されている。
ン８ａ１及び端子電極パターン８ａ２の端縁に、それぞ
れ端子部６が接続されている。また、後側のガラス基板
９の内面に形成された電極９ａは、内面反射板を兼用す
る金属電極であって、例えばスパッタ法により１３００
Åの膜厚のアルミ膜により成膜され、所謂べたパターン
として形成されている。
【００１１】また、ガラス基板９の電極９ａは、その表
面が保護層９ｂにより覆われている。この保護層９ｂ
は、絶縁層から構成されており、例えばスパッタ法によ
り３００Åの膜厚のＳｉＯ2 により成膜されると共に、
側縁の接続領域では、ガラス基板８の端子電極パターン
８ａ２と接続するために除去されている。そして、電極
９ａは、例えば銀ペースト９ｃにより、電極８ａの端子
電極パターン８ａ２に電気的に接続されるようになって
いる。
面が保護層９ｂにより覆われている。この保護層９ｂ
は、絶縁層から構成されており、例えばスパッタ法によ
り３００Åの膜厚のＳｉＯ2 により成膜されると共に、
側縁の接続領域では、ガラス基板８の端子電極パターン
８ａ２と接続するために除去されている。そして、電極
９ａは、例えば銀ペースト９ｃにより、電極８ａの端子
電極パターン８ａ２に電気的に接続されるようになって
いる。
【００１２】このような構成の防眩ミラー１によれば、
双方の端子部６から、ガラス基板８，９の電極８ａ，９
ａの各パターンに対して、電圧を印加する。これによ
り、互いに対向する電極２ａ，３ａのべたパターンの領
域（ミラー部分）にて、内部の液晶層５の二色性色素分
子及び液晶分子が電圧により基板に対して垂直に整列
し、図５にて上方から入射した光が、二色性色素に吸収
されることなしに液晶層５を透過して、電極３ａにより
反射され、再び液晶層５を透過して、上方に向かって出
射することにより、全体としてミラーとして作用するよ
うになっている。尚、電極８ａ，９ａ間の電圧印加がな
くなると、液晶層５の液晶分子の整列が解除されるの
で、液晶層５に入射した光は、二色性色素分子により吸
収され反射率が低くなり、いわゆる防眩ミラーとして作
用する。
双方の端子部６から、ガラス基板８，９の電極８ａ，９
ａの各パターンに対して、電圧を印加する。これによ
り、互いに対向する電極２ａ，３ａのべたパターンの領
域（ミラー部分）にて、内部の液晶層５の二色性色素分
子及び液晶分子が電圧により基板に対して垂直に整列
し、図５にて上方から入射した光が、二色性色素に吸収
されることなしに液晶層５を透過して、電極３ａにより
反射され、再び液晶層５を透過して、上方に向かって出
射することにより、全体としてミラーとして作用するよ
うになっている。尚、電極８ａ，９ａ間の電圧印加がな
くなると、液晶層５の液晶分子の整列が解除されるの
で、液晶層５に入射した光は、二色性色素分子により吸
収され反射率が低くなり、いわゆる防眩ミラーとして作
用する。
【００１３】さらに、反射表示及び透過表示の双方を行
なうことができるようにした、所謂透反型の表示装置も
多く利用されるようになってきており、このような透反
型の表示装置においては、上述した金属電極３ａ，９ａ
を薄膜化してハーフミラーとしたり、透過のために例え
ば１ドットの１／４の面積の反射板を除去する等によ
り、透過及び反射を実現するようにしている。
なうことができるようにした、所謂透反型の表示装置も
多く利用されるようになってきており、このような透反
型の表示装置においては、上述した金属電極３ａ，９ａ
を薄膜化してハーフミラーとしたり、透過のために例え
ば１ドットの１／４の面積の反射板を除去する等によ
り、透過及び反射を実現するようにしている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成のドットマトリックス型液晶表示装置１及び防
眩ミラー７においては、後方のガラス電極３，９の内面
に形成された電極３ａ，９ａが、反射板として使用され
るようになっているが、これらの電極３ａ，９ａは、表
面参加を防止するために、保護層３ｂ，９ｂにより覆わ
れており、これらの保護層３ｂ，９ｂはＳｉＯ2 やＳｉ
Ｏ等の絶縁性の薄膜により構成されている。
うな構成のドットマトリックス型液晶表示装置１及び防
眩ミラー７においては、後方のガラス電極３，９の内面
に形成された電極３ａ，９ａが、反射板として使用され
るようになっているが、これらの電極３ａ，９ａは、表
面参加を防止するために、保護層３ｂ，９ｂにより覆わ
れており、これらの保護層３ｂ，９ｂはＳｉＯ2 やＳｉ
Ｏ等の絶縁性の薄膜により構成されている。
【００１５】しかしながら、端子部６または銀ペースト
９ｃを電極３ａ，９ａに接続するために、このような接
続領域に関して、電極３ａ，９ａは、導電性を確保する
ために露出している必要があることから、上記保護層３
ｂ，９ｂを除去しなければならない。このため、例えば
ＣＦ3 を使用したドライエッチング工程や、レジストを
使用したフォトパターニングのためのレジストマスク形
成工程等が必要になり、工程数が増えてしまい、コスト
が高くなってしまう。
９ｃを電極３ａ，９ａに接続するために、このような接
続領域に関して、電極３ａ，９ａは、導電性を確保する
ために露出している必要があることから、上記保護層３
ｂ，９ｂを除去しなければならない。このため、例えば
ＣＦ3 を使用したドライエッチング工程や、レジストを
使用したフォトパターニングのためのレジストマスク形
成工程等が必要になり、工程数が増えてしまい、コスト
が高くなってしまう。
【００１６】また、金属電極３ａの一部が露出している
ことにより、この部分にて金属の酸化や腐蝕が発生する
ことがあり、表示装置の信頼性が損なわれてしまう。こ
のような問題は、前述した透反型の表示装置においても
発生する。
ことにより、この部分にて金属の酸化や腐蝕が発生する
ことがあり、表示装置の信頼性が損なわれてしまう。こ
のような問題は、前述した透反型の表示装置においても
発生する。
【００１７】本発明は、以上の点から、工程を増やすこ
となく、且つ信頼性を低下させることのない、反射型ま
たは透反型の表示装置そしてこれに使用される反射板を
提供することを目的としている。
となく、且つ信頼性を低下させることのない、反射型ま
たは透反型の表示装置そしてこれに使用される反射板を
提供することを目的としている。
【００１８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明の第
一の構成によれば、二枚のガラス基板の間に構成される
表示セルと、一方のガラス基板の内面に設けられ、表面
が保護層により覆われている金属製反射板と、から成る
表示装置であって、上記保護層が、導電性薄膜から構成
されていることを特徴とする、表示装置により、達成さ
れる。
一の構成によれば、二枚のガラス基板の間に構成される
表示セルと、一方のガラス基板の内面に設けられ、表面
が保護層により覆われている金属製反射板と、から成る
表示装置であって、上記保護層が、導電性薄膜から構成
されていることを特徴とする、表示装置により、達成さ
れる。
【００１９】また、上記目的は、本発明の第二の構成に
よれば、二枚のガラス基板の間に構成される表示セルに
て、一方のガラス基板の内面に設けられ、表面が保護層
により覆われている金属製の反射板であって、上記保護
層が、導電性薄膜から構成されていることを特徴とす
る、反射板により、達成される。
よれば、二枚のガラス基板の間に構成される表示セルに
て、一方のガラス基板の内面に設けられ、表面が保護層
により覆われている金属製の反射板であって、上記保護
層が、導電性薄膜から構成されていることを特徴とす
る、反射板により、達成される。
【００２０】本発明による表示装置または反射板は、好
ましくは、上記金属製反射板が、表示セルの表示のため
の電極としても使用される。
ましくは、上記金属製反射板が、表示セルの表示のため
の電極としても使用される。
【００２１】本発明による表示装置または反射板は、好
ましくは、上記保護層が、ＩＴＯ薄膜である。
ましくは、上記保護層が、ＩＴＯ薄膜である。
【００２２】上記構成によれば、反射板を覆う保護層
が、導電性薄膜好ましくはＩＴＯ膜から構成されている
ので、好ましくは表示のための電極としても使用される
反射板に対して電気的接続を行なう場合に、接続領域に
て保護層を除去する必要がなく、端子部等を保護層に接
続することによって、保護層を介して反射板に対する電
気的接続が行なわれ得ることになる。
が、導電性薄膜好ましくはＩＴＯ膜から構成されている
ので、好ましくは表示のための電極としても使用される
反射板に対して電気的接続を行なう場合に、接続領域に
て保護層を除去する必要がなく、端子部等を保護層に接
続することによって、保護層を介して反射板に対する電
気的接続が行なわれ得ることになる。
【００２３】従って、保護層除去のための工程が不要に
なると共に、反射板の一部が露出することがないので、
金属製の反射板の一部が酸化したり腐蝕するようなこと
がなく、表示装置の信頼性が確保され得ることになる。
なると共に、反射板の一部が露出することがないので、
金属製の反射板の一部が酸化したり腐蝕するようなこと
がなく、表示装置の信頼性が確保され得ることになる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図１乃至図２を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。
を図１乃至図２を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。
【００２５】図１は、本発明による表示装置の第一の実
施形態の構成を示している。図１において、表示装置１
０は、ドットマトリックスタイプの反射型ゲスト−ホス
ト液晶表示装置であって、それぞれ内面に電極１１ａ，
１２ａを備え且つ互いに所定間隔に保持された二枚のガ
ラス基板１１，１２と、これらのガラス基板１１，１２
の周縁に沿ってガラス基板１１，１２の間の空間を封止
するシール材１３と、この空間内に封入された液晶層１
４と、この空間の外側に延びる上記電極１１ａ，１２ａ
に接続された端子部１５と、から構成されている。
施形態の構成を示している。図１において、表示装置１
０は、ドットマトリックスタイプの反射型ゲスト−ホス
ト液晶表示装置であって、それぞれ内面に電極１１ａ，
１２ａを備え且つ互いに所定間隔に保持された二枚のガ
ラス基板１１，１２と、これらのガラス基板１１，１２
の周縁に沿ってガラス基板１１，１２の間の空間を封止
するシール材１３と、この空間内に封入された液晶層１
４と、この空間の外側に延びる上記電極１１ａ，１２ａ
に接続された端子部１５と、から構成されている。
【００２６】上記電極１１ａ，１２ａのうち、前側のガ
ラス基板１１の内面に形成された電極１１ａは、透明電
極であって、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚
のＩＴＯ膜により成膜され、パターニングによりストラ
イプパターンとして形成されている。
ラス基板１１の内面に形成された電極１１ａは、透明電
極であって、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚
のＩＴＯ膜により成膜され、パターニングによりストラ
イプパターンとして形成されている。
【００２７】また、後側のガラス基板１２の内面に形成
された電極１２ａは、内面反射板を兼用する金属電極で
あって、例えばスパッタ法により１３００Åの膜厚のア
ルミ膜により成膜され、例えばレジストを使用したフォ
トパターニング法により、ストライプパターンとして形
成されている。
された電極１２ａは、内面反射板を兼用する金属電極で
あって、例えばスパッタ法により１３００Åの膜厚のア
ルミ膜により成膜され、例えばレジストを使用したフォ
トパターニング法により、ストライプパターンとして形
成されている。
【００２８】ここで、ガラス基板１１，１２は、各電極
１１ａ，１２ａのストライプパターンが互いに直交する
ように重ね合わされている。このストライプパターン
は、例えば線幅が３００μｍ，線間が２０μｍに選定さ
れている。さらに、上記各電極１１ａ，１２ａは、それ
ぞれその側縁に端子部１５が接続されている。ここで、
電極１２ａは、図１に示すように、導電性の保護膜１２
ｂを介して、端子部１５が接続されている。尚、電極１
１ａは、図１には示されていないが、そのストライプパ
ターンの方向に基づいて、図４に示すと同様にして、端
子部１５が接続されている。
１１ａ，１２ａのストライプパターンが互いに直交する
ように重ね合わされている。このストライプパターン
は、例えば線幅が３００μｍ，線間が２０μｍに選定さ
れている。さらに、上記各電極１１ａ，１２ａは、それ
ぞれその側縁に端子部１５が接続されている。ここで、
電極１２ａは、図１に示すように、導電性の保護膜１２
ｂを介して、端子部１５が接続されている。尚、電極１
１ａは、図１には示されていないが、そのストライプパ
ターンの方向に基づいて、図４に示すと同様にして、端
子部１５が接続されている。
【００２９】また、ガラス基板１２の電極１２ａは、そ
の表面が保護層１２ｂにより覆われている。この保護層
１２ｂは、導電性薄膜から構成されており、例えば連続
スパッタ法により電極１２ａに続いて４００Åの膜厚の
ＩＴＯ膜により成膜される。そして、このように成膜さ
れた保護層１２ｂは、電極１２ａと共に、レジストを使
用したフォトパターニングによって、一括してストライ
プ状にパターニングされる。尚、この場合、保護層１２
ｂの端子部１５の接続領域は除去されない。
の表面が保護層１２ｂにより覆われている。この保護層
１２ｂは、導電性薄膜から構成されており、例えば連続
スパッタ法により電極１２ａに続いて４００Åの膜厚の
ＩＴＯ膜により成膜される。そして、このように成膜さ
れた保護層１２ｂは、電極１２ａと共に、レジストを使
用したフォトパターニングによって、一括してストライ
プ状にパターニングされる。尚、この場合、保護層１２
ｂの端子部１５の接続領域は除去されない。
【００３０】上述した表示装置１０は、実験例として例
えば以下のようにして作製された。先づ、一方のガラス
基板１２上に、電極１２ａとしてのアルミの反射膜と保
護層１２ｂとしてのＩＴＯ膜を、連続スパッタ法によ
り、反射膜を膜厚１３００Åで、ＩＴＯ膜を膜厚４００
Åで成膜した。次に、この反射膜及びＩＴＯ膜を、レジ
ストを使用したフォトパターニング法により、一括して
ストライプ状にパターンニングした。また、他方のガラ
ス基板１１上に、電極１１ａとしてのＩＴＯ膜を、スパ
ッタ法により、膜厚１２００Åで成膜し、ストライプ状
にパターニングした。そして、上記双方のガラス基板１
１，１２を、ストライプパターンが互いに対向して直交
するように重ね合わせ、通常の液晶セル組立方法に従っ
て、液晶セルを作製した。最後に、外部回路と接続する
ための端子部１５を、圧着等により電極１１ａ及び保護
層１２ｂの側縁に対して接続し、表示装置１０が完成し
た。
えば以下のようにして作製された。先づ、一方のガラス
基板１２上に、電極１２ａとしてのアルミの反射膜と保
護層１２ｂとしてのＩＴＯ膜を、連続スパッタ法によ
り、反射膜を膜厚１３００Åで、ＩＴＯ膜を膜厚４００
Åで成膜した。次に、この反射膜及びＩＴＯ膜を、レジ
ストを使用したフォトパターニング法により、一括して
ストライプ状にパターンニングした。また、他方のガラ
ス基板１１上に、電極１１ａとしてのＩＴＯ膜を、スパ
ッタ法により、膜厚１２００Åで成膜し、ストライプ状
にパターニングした。そして、上記双方のガラス基板１
１，１２を、ストライプパターンが互いに対向して直交
するように重ね合わせ、通常の液晶セル組立方法に従っ
て、液晶セルを作製した。最後に、外部回路と接続する
ための端子部１５を、圧着等により電極１１ａ及び保護
層１２ｂの側縁に対して接続し、表示装置１０が完成し
た。
【００３１】本発明実施形態による液晶表示装置１０に
よれば、双方の端子部１５から、ガラス基板１１，１２
の電極１１ａ，１２ａの各ストライプパターンに対し
て、適宜に選択的に電圧を印加する。これにより、互い
に対向する電極１１ａ，１２ａのストライプパターンの
領域（ドット領域）にて、内部の液晶層１４が電圧によ
り整列し、図１にて上方から入射した光が、液晶層１４
を透過して、電極１２ａにより反射され、再び液晶層１
４を透過して、上方に向かって出射することにより、反
射によるドット表示が行なわれ、全体としてドットマト
リックス表示が行なわれるようになっている。
よれば、双方の端子部１５から、ガラス基板１１，１２
の電極１１ａ，１２ａの各ストライプパターンに対し
て、適宜に選択的に電圧を印加する。これにより、互い
に対向する電極１１ａ，１２ａのストライプパターンの
領域（ドット領域）にて、内部の液晶層１４が電圧によ
り整列し、図１にて上方から入射した光が、液晶層１４
を透過して、電極１２ａにより反射され、再び液晶層１
４を透過して、上方に向かって出射することにより、反
射によるドット表示が行なわれ、全体としてドットマト
リックス表示が行なわれるようになっている。
【００３２】この場合、金属反射板としての電極１２ａ
は、導電性薄膜による保護層１２ｂにより覆われている
ので、端子部１５を電極１２ａに対して電気的に接続す
るために、保護層１２ｂの一部を除去する必要がない。
従って、保護層１２ｂの一部を取除くために、ドライエ
ッチング等の工程が不要であり、また電極１２ａ及び保
護層１２ｂが連続スパッタ法により、一回の成膜工程で
成膜されるので、工程数が少なくて済み、製造コストが
低減され得ることになる。
は、導電性薄膜による保護層１２ｂにより覆われている
ので、端子部１５を電極１２ａに対して電気的に接続す
るために、保護層１２ｂの一部を除去する必要がない。
従って、保護層１２ｂの一部を取除くために、ドライエ
ッチング等の工程が不要であり、また電極１２ａ及び保
護層１２ｂが連続スパッタ法により、一回の成膜工程で
成膜されるので、工程数が少なくて済み、製造コストが
低減され得ることになる。
【００３３】さらに、上述した実験例による表示装置１
０を外部装置と接続して表示を行ないながら、温度６０
℃，湿度９０％の高温高湿槽にて信頼性試験を行なった
ところ、従来構成の表示装置１では、１２０時間で接続
領域で露出した電極の腐蝕による断線によって、端子部
５本分で表示が不灯になる不良が発生したが、上記表示
装置１０では、電極のエッジ付近にやや腐蝕が観察され
るが、１０００時間経過後でも不良発生はなかった。
０を外部装置と接続して表示を行ないながら、温度６０
℃，湿度９０％の高温高湿槽にて信頼性試験を行なった
ところ、従来構成の表示装置１では、１２０時間で接続
領域で露出した電極の腐蝕による断線によって、端子部
５本分で表示が不灯になる不良が発生したが、上記表示
装置１０では、電極のエッジ付近にやや腐蝕が観察され
るが、１０００時間経過後でも不良発生はなかった。
【００３４】図２は、本発明による表示装置の第二の実
施形態を示している。図２において、表示装置２０は、
ゲストーホスト型液晶セルを利用した防眩ミラーであっ
て、それぞれ内面に電極２１ａ，２２ａを備え且つ互い
に所定間隔に保持された二枚のガラス基板２１，２２
と、これらのガラス基板２１，２２の周縁に沿ってガラ
ス基板２１，２２の間の空間を封止するシール材２３
と、この空間内に封入された液晶層２４と、この空間の
外側に延びる上記電極２１ａの両端に接続された端子部
２５と、から構成されている。
施形態を示している。図２において、表示装置２０は、
ゲストーホスト型液晶セルを利用した防眩ミラーであっ
て、それぞれ内面に電極２１ａ，２２ａを備え且つ互い
に所定間隔に保持された二枚のガラス基板２１，２２
と、これらのガラス基板２１，２２の周縁に沿ってガラ
ス基板２１，２２の間の空間を封止するシール材２３
と、この空間内に封入された液晶層２４と、この空間の
外側に延びる上記電極２１ａの両端に接続された端子部
２５と、から構成されている。
【００３５】上記電極２１ａ，２２ａのうち、前側のガ
ラス基板２１の内面に形成された電極２１ａは、透明電
極であって、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚
のＩＴＯ膜により成膜され、ミラー部分に対応する所謂
べたパターン２１ａ１と、電極２２ａに接続される端子
電極パターン２１ａ２と、を有するように形成されてい
る。そして、電極８ａは、それぞれべたパターン８ａ１
及び端子電極パターン８ａ２の端縁に、それぞれ端子部
６が接続されている。
ラス基板２１の内面に形成された電極２１ａは、透明電
極であって、例えばスパッタ法により１２００Åの膜厚
のＩＴＯ膜により成膜され、ミラー部分に対応する所謂
べたパターン２１ａ１と、電極２２ａに接続される端子
電極パターン２１ａ２と、を有するように形成されてい
る。そして、電極８ａは、それぞれべたパターン８ａ１
及び端子電極パターン８ａ２の端縁に、それぞれ端子部
６が接続されている。
【００３６】また、後側のガラス基板２２の内面に形成
された電極２２ａは、内面反射板を兼用する金属電極で
あって、例えばスパッタ法により１３００Åの膜厚のア
ルミ膜により成膜され、所謂べたパターンとして形成さ
れている。さらに、ガラス基板２２の電極２２ａは、そ
の表面が保護層２２ｂにより覆われている。
された電極２２ａは、内面反射板を兼用する金属電極で
あって、例えばスパッタ法により１３００Åの膜厚のア
ルミ膜により成膜され、所謂べたパターンとして形成さ
れている。さらに、ガラス基板２２の電極２２ａは、そ
の表面が保護層２２ｂにより覆われている。
【００３７】この保護層２２ｂは、導電性薄膜から構成
されており、例えば連続スパッタ法により電極２１ａに
続いて４００Åの膜厚のＩＴＯ膜により成膜される。そ
して、電極２２ａは、保護槽２２ｂを介して、例えば銀
ペースト２６により、電極２１ａの端子電極パターン２
１ａ２に電気的に接続されるようになっている。尚、こ
の場合、保護槽２２ｂの端子部２５の接続領域は除去さ
れない。
されており、例えば連続スパッタ法により電極２１ａに
続いて４００Åの膜厚のＩＴＯ膜により成膜される。そ
して、電極２２ａは、保護槽２２ｂを介して、例えば銀
ペースト２６により、電極２１ａの端子電極パターン２
１ａ２に電気的に接続されるようになっている。尚、こ
の場合、保護槽２２ｂの端子部２５の接続領域は除去さ
れない。
【００３８】上述した表示装置２０は、実験例として例
えば以下のようにして作製された。先づ、一方のガラス
基板２２上に、電極２２ａとしてのアルミの反射膜と保
護層２２ｂとしてのＩＴＯ膜を、連続スパッタ法によ
り、反射膜を膜厚１３００Åで、ＩＴＯ膜を膜厚４００
Åで成膜した。次に、他方のガラス基板１１上に、電極
２１ａとしてのＩＴＯ膜を、スパッタ法により、膜厚１
２００Åで成膜し、ミラー部分のべたパターン２１ａ１
と端子電極パターン２１ａ２をパターニングした。そし
て、ガラス基板２２の電極２２ａの端縁（ガラス基板２
１の端子電極パターン２１ａ２に対向する領域）に銀ペ
ースト２６を塗布して、上記双方のガラス基板１１，１
２を重ね合わせ、通常の液晶セル組立方法に従って、液
晶セルを作製した。最後に、外部回路と接続するための
端子部２５を、圧着等により電極２１ａのべたパターン
２１ａ１及び端子電極パターン２１ａ２の端縁に対して
接続し、表示装置１０が完成した。
えば以下のようにして作製された。先づ、一方のガラス
基板２２上に、電極２２ａとしてのアルミの反射膜と保
護層２２ｂとしてのＩＴＯ膜を、連続スパッタ法によ
り、反射膜を膜厚１３００Åで、ＩＴＯ膜を膜厚４００
Åで成膜した。次に、他方のガラス基板１１上に、電極
２１ａとしてのＩＴＯ膜を、スパッタ法により、膜厚１
２００Åで成膜し、ミラー部分のべたパターン２１ａ１
と端子電極パターン２１ａ２をパターニングした。そし
て、ガラス基板２２の電極２２ａの端縁（ガラス基板２
１の端子電極パターン２１ａ２に対向する領域）に銀ペ
ースト２６を塗布して、上記双方のガラス基板１１，１
２を重ね合わせ、通常の液晶セル組立方法に従って、液
晶セルを作製した。最後に、外部回路と接続するための
端子部２５を、圧着等により電極２１ａのべたパターン
２１ａ１及び端子電極パターン２１ａ２の端縁に対して
接続し、表示装置１０が完成した。
【００３９】このような構成の防眩ミラーとしての表示
装置２０によれば、双方の端子部２５から、ガラス基板
２１，２２の電極２１ａ，２２ａの各パターンに対し
て、電圧を印加する。これにより、互いに対向する電極
２ａ，３ａのべたパターンの領域（ミラー部分）にて、
内部の液晶層２４の液晶分子が電圧により整列し、図２
にて上方から入射した光が、液晶層２４を透過して、電
極２２ａにより反射され、再び液晶層２４を透過して、
上方に向かって出射することにより、全体としてミラー
として作用するようになっている。尚、電極２１ａ，２
２ａ間の電圧印加がなくなると、液晶層２４の液晶分子
の整列が解除されるので、液晶層２４に入射した光は、
二色性色素分子により吸収され反射率が低くなり、いわ
ゆる防眩ミラーとして作用する。
装置２０によれば、双方の端子部２５から、ガラス基板
２１，２２の電極２１ａ，２２ａの各パターンに対し
て、電圧を印加する。これにより、互いに対向する電極
２ａ，３ａのべたパターンの領域（ミラー部分）にて、
内部の液晶層２４の液晶分子が電圧により整列し、図２
にて上方から入射した光が、液晶層２４を透過して、電
極２２ａにより反射され、再び液晶層２４を透過して、
上方に向かって出射することにより、全体としてミラー
として作用するようになっている。尚、電極２１ａ，２
２ａ間の電圧印加がなくなると、液晶層２４の液晶分子
の整列が解除されるので、液晶層２４に入射した光は、
二色性色素分子により吸収され反射率が低くなり、いわ
ゆる防眩ミラーとして作用する。
【００４０】この場合、金属反射板としての電極２２ａ
は、導電性薄膜による保護層２２ｂにより覆われている
ので、銀ペースト２６により電極２２ａを端子電極パタ
ーン２１ａ２に対して電気的に接続するために、保護層
２２ｂの一部を除去する必要がない。従って、保護層２
２ｂの一部を取除くために、ドライエッチング等の工程
が不要であり、また電極２２ａ及び保護層２２ｂが連続
スパッタ法により、一回の成膜工程で成膜されるので、
工程数が少なくて済み、製造コストが低減され得ること
になる。
は、導電性薄膜による保護層２２ｂにより覆われている
ので、銀ペースト２６により電極２２ａを端子電極パタ
ーン２１ａ２に対して電気的に接続するために、保護層
２２ｂの一部を除去する必要がない。従って、保護層２
２ｂの一部を取除くために、ドライエッチング等の工程
が不要であり、また電極２２ａ及び保護層２２ｂが連続
スパッタ法により、一回の成膜工程で成膜されるので、
工程数が少なくて済み、製造コストが低減され得ること
になる。
【００４１】さらに、上述した実験例による表示装置２
０を外部装置と接続して表示を行ないながら、温度６０
℃，湿度９０％の高温高湿槽にて信頼性試験を行なった
ところ、従来構成の表示装置１では、４８０時間で銀ペ
ースト２６を塗布した部分に断線まで至らない腐蝕が確
認されたが、上記表示装置２０では、まったく問題が生
じなかった。このようにして、本発明によれば、上述し
た表示装置１０，２０の実験例に示すように、工程の簡
略化と端子部における信頼性の確保が可能になる。
０を外部装置と接続して表示を行ないながら、温度６０
℃，湿度９０％の高温高湿槽にて信頼性試験を行なった
ところ、従来構成の表示装置１では、４８０時間で銀ペ
ースト２６を塗布した部分に断線まで至らない腐蝕が確
認されたが、上記表示装置２０では、まったく問題が生
じなかった。このようにして、本発明によれば、上述し
た表示装置１０，２０の実験例に示すように、工程の簡
略化と端子部における信頼性の確保が可能になる。
【００４２】上述した実施形態においては、電極１１
ａ，１２ａまたは２１ａ，２２ａ間に電圧を印加したと
き、液晶層２４を構成する液晶分子が基板に対して垂直
に整列する液晶セルについて説明したが、これに限ら
ず、電圧印加を解除したとき、液晶分子が基板に対して
垂直に整列するような液晶セルであっても、本発明を適
用し得ることは明らかである。
ａ，１２ａまたは２１ａ，２２ａ間に電圧を印加したと
き、液晶層２４を構成する液晶分子が基板に対して垂直
に整列する液晶セルについて説明したが、これに限ら
ず、電圧印加を解除したとき、液晶分子が基板に対して
垂直に整列するような液晶セルであっても、本発明を適
用し得ることは明らかである。
【００４３】また、上述した実施形態においては、ドッ
トマトリックスタイプの反射型ゲスト−ホスト液晶表示
装置及び液晶セルを利用した防眩ミラーの場合について
説明したが、これに限らず、他の型式の表示セルを備え
た表示装置、例えばエレクトロクロミック素子等にも本
発明を適用し得ることは明らかである。
トマトリックスタイプの反射型ゲスト−ホスト液晶表示
装置及び液晶セルを利用した防眩ミラーの場合について
説明したが、これに限らず、他の型式の表示セルを備え
た表示装置、例えばエレクトロクロミック素子等にも本
発明を適用し得ることは明らかである。
【００４４】さらに、上述した実施形態においては、反
射板としての電極１２ａ，２２ａが、表示領域としての
ミラー領域またはドット領域の全体に形成される反射型
の表示装置１０，２０について説明したが、これに限ら
ず、電極１２ａ，２２ａが表示領域としてのミラー領域
またはドット領域の一部で除去され、あるいは電極１２
ａ，２２ａが薄膜化されている透反型の表示装置であっ
ても、本発明を適用し得ることは明らかである。
射板としての電極１２ａ，２２ａが、表示領域としての
ミラー領域またはドット領域の全体に形成される反射型
の表示装置１０，２０について説明したが、これに限ら
ず、電極１２ａ，２２ａが表示領域としてのミラー領域
またはドット領域の一部で除去され、あるいは電極１２
ａ，２２ａが薄膜化されている透反型の表示装置であっ
ても、本発明を適用し得ることは明らかである。
【００４５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、反
射板を覆う保護層が、導電性薄膜好ましくはＩＴＯ膜か
ら構成されているので、好ましくは表示のための電極と
しても使用される反射板に対して電気的接続を行なう場
合に、接続領域にて保護層を除去する必要がなく、端子
部等を保護層に接続することによって、保護層を介して
反射板に対する電気的接続が行なわれ得ることになる。
射板を覆う保護層が、導電性薄膜好ましくはＩＴＯ膜か
ら構成されているので、好ましくは表示のための電極と
しても使用される反射板に対して電気的接続を行なう場
合に、接続領域にて保護層を除去する必要がなく、端子
部等を保護層に接続することによって、保護層を介して
反射板に対する電気的接続が行なわれ得ることになる。
【００４６】従って、保護層除去のための工程が不要に
なると共に、反射板の一部が露出することがないので、
金属製の反射板の一部が酸化したり腐蝕するようなこと
がなく、表示装置の信頼性が確保され得ることになる。
このようにして、本発明によれば、工程を増やすことな
く、且つ信頼性を低下させることのない、極めて優れた
反射型または透反型の表示装置そしてこれに使用される
反射板が提供され得る。
なると共に、反射板の一部が露出することがないので、
金属製の反射板の一部が酸化したり腐蝕するようなこと
がなく、表示装置の信頼性が確保され得ることになる。
このようにして、本発明によれば、工程を増やすことな
く、且つ信頼性を低下させることのない、極めて優れた
反射型または透反型の表示装置そしてこれに使用される
反射板が提供され得る。
【図１】本発明による表示装置の第一の実施形態の構成
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図２】本発明による表示装置の第二の実施形態の構成
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図３】従来の表示装置の一例の構成を示す概略断面図
である。
である。
【図４】図３の表示装置におけるＡ−Ａ線断面図であ
る。
る。
【図５】従来の表示装置の他の例の構成を示す概略断面
図である。
図である。
１０ 表示装置（ドットマトリックスタイプの反射型
ＧＨ液晶表示装置） １１，１２ ガラス基板 １１ａ 電極 １２ａ 電極 １２ｂ 保護層（導電性薄膜） １３ シール材 １４ 液晶層 １５ 端子部 ２０ 表示装置（液晶セルを利用した防眩ミラー） ２１，２２ ガラス基板 ２１ａ 電極 ２２ａ 電極 ２２ｂ 保護層（導電性薄膜） ２３ シール材 ２４ 液晶層 ２５ 端子部
ＧＨ液晶表示装置） １１，１２ ガラス基板 １１ａ 電極 １２ａ 電極 １２ｂ 保護層（導電性薄膜） １３ シール材 １４ 液晶層 １５ 端子部 ２０ 表示装置（液晶セルを利用した防眩ミラー） ２１，２２ ガラス基板 ２１ａ 電極 ２２ａ 電極 ２２ｂ 保護層（導電性薄膜） ２３ シール材 ２４ 液晶層 ２５ 端子部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA12 DC02 DE04 2H091 FA14Z FA37X GA01 HA08 LA30 2K009 BB06 CC03 EE03 5C094 AA31 AA43 BA27 BA43 CA19 DA13 EA05 ED11 GB01
Claims (6)
- 【請求項１】 二枚のガラス基板の間に構成される表示
セルと、 一方のガラス基板の内面に設けられ、表面が保護層によ
り覆われている金属製反射板と、から成る表示装置であ
って、 上記保護層が、導電性薄膜から構成されていることを特
徴とする、表示装置。 - 【請求項２】 上記金属製反射板が、表示セルの表示の
ための電極としても使用されることを特徴とする、請求
項１に記載の表示装置。 - 【請求項３】 上記保護層が、ＩＴＯ薄膜であることを
特徴とする、請求項１または２に記載の表示装置。 - 【請求項４】 二枚のガラス基板の間に構成される表示
セルにて、一方のガラス基板の内面に設けられ、表面が
保護層により覆われている金属製の反射板であって、 上記保護層が、導電性薄膜から構成されていることを特
徴とする、反射板。 - 【請求項５】 上記金属製反射板が、表示セルの表示の
ための電極としても使用されることを特徴とする、請求
項４に記載の反射板。 - 【請求項６】 上記保護層が、ＩＴＯ薄膜であることを
特徴とする、請求項４または５に記載の反射板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084306A JP2002287133A (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | 表示装置及びこれに使用する反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001084306A JP2002287133A (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | 表示装置及びこれに使用する反射板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002287133A true JP2002287133A (ja) | 2002-10-03 |
Family
ID=18939997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001084306A Pending JP2002287133A (ja) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | 表示装置及びこれに使用する反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002287133A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0743708A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-14 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| JPH0798452A (ja) * | 1993-09-28 | 1995-04-11 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| JP2000066199A (ja) * | 1998-04-08 | 2000-03-03 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器 |
-
2001
- 2001-03-23 JP JP2001084306A patent/JP2002287133A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0743708A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-14 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| JPH0798452A (ja) * | 1993-09-28 | 1995-04-11 | Toppan Printing Co Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| JP2000066199A (ja) * | 1998-04-08 | 2000-03-03 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器 |
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