JP2002271029A - Printed wiring board and manufacturing method therefor - Google Patents

Printed wiring board and manufacturing method therefor

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JP2002271029A
JP2002271029A JP2001070223A JP2001070223A JP2002271029A JP 2002271029 A JP2002271029 A JP 2002271029A JP 2001070223 A JP2001070223 A JP 2001070223A JP 2001070223 A JP2001070223 A JP 2001070223A JP 2002271029 A JP2002271029 A JP 2002271029A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board which can reduce its loop inductance and a manufacturing method for the printed wiring board. SOLUTION: A chip capacitor 20 is arranged in the printed wiring board 10, so the distance between an IC chip 90 and the chip capacitor 20 becomes short and the loop inductance can be reduced. The surfaces of 1st and 2nd electrodes 21 and 22 of the chip capacitor 20 are flattened with conductive paste 26. When a non-through hole 43 is bored in the inter-layer resin insulating layer 40, no resin is left, so that the reliability of the connection between the electrodes 21 and 22 when the via hole 46 is formed can be increased.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】ICチップなどの電子部品を
載置するプリント配線板に関し、特にコンデンサを内蔵
するプリント配線板に関するのもである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board on which electronic components such as IC chips are mounted, and more particularly to a printed wiring board having a built-in capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、コンピュータ内部においては、電
源とICチップ間の配線距離が長く、この配線部分のル
ープインダクタンスは非常に大きいものとなっている。
このため、高速動作時のIC駆動電圧の変動も大きくな
り、ICの誤動作の原因となり得る。また、電源電圧を
安定化させることも困難である。このため、電源供給の
補助として、コンデンサをプリント配線板の表面に実装
している。
2. Description of the Related Art Usually, inside a computer, a wiring distance between a power supply and an IC chip is long, and a loop inductance of this wiring portion is very large.
For this reason, the fluctuation of the IC drive voltage during the high-speed operation increases, which may cause the IC to malfunction. It is also difficult to stabilize the power supply voltage. For this reason, a capacitor is mounted on the surface of the printed wiring board to assist in power supply.

【0003】即ち、電圧変動となるループインダクタン
スは、図19(A)に示す電源からプリント配線板30
0内の電源線を介してICチップ270の電源端子27
2Pまでの配線長、及び、ICチップ270のアース端
子272Eから電源からプリント配線板300内のアー
ス線を介して電源までの配線長に依存する。また、逆方
向の電流が流れる配線同志、例えば、電源線とアース線
との間隔を狭くすることでループインダクタンスを低減
できる。このため、図19(B)に示すように、プリン
ト配線板300にチップコンデンサ298を表面実装す
ることで、ICチップ270と電源供給源となるチップ
コンデンサ292とを結んでいるプリント配線板300
内の電源線とアース線との配線長を短くするとともに、
配線間隔を狭くすることで、ループインダクタンスを低
減することが行われていた。
[0003] That is, the loop inductance that causes the voltage fluctuation is changed from the power supply shown in FIG.
Power supply terminal 27 of IC chip 270
It depends on the wiring length up to 2P and the wiring length from the ground terminal 272E of the IC chip 270 to the power supply from the power supply via the ground wire in the printed wiring board 300. Further, the loop inductance can be reduced by reducing the distance between the wirings in which the current flows in the opposite direction, for example, the distance between the power supply line and the ground line. For this reason, as shown in FIG. 19B, by mounting the chip capacitor 298 on the printed wiring board 300, the printed wiring board 300 connecting the IC chip 270 and the chip capacitor 292 serving as a power supply source.
Shorten the wiring length between the power line and the ground line inside
It has been practiced to reduce the loop inductance by reducing the wiring interval.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、IC駆
動電圧変動の原因となる電圧降下の大きさは周波数に依
存する。このため、ICチップの駆動周波数の増加に伴
い、図19(B)を参照して上述したようにチップコン
デンサを表面に実装させてもなおループインダクタンス
を低減できず、IC駆動電圧の変動を十分に抑えること
が難しくなった。
However, the magnitude of the voltage drop that causes the fluctuation of the IC driving voltage depends on the frequency. Therefore, as the driving frequency of the IC chip increases, the loop inductance cannot be reduced even if the chip capacitor is mounted on the surface as described above with reference to FIG. It became difficult to control.

【0005】このため、本発明者は、プリント配線板内
にチップコンデンサを収容するとの着想を持った。コン
デンサを基板に埋め込む技術としては、特開平6−32
6472号、特開平7−263619号、特開平10−
256429号、特開平11−45955号、特開平1
1−126978号、特開平11−312868号等が
ある。
For this reason, the present inventor has an idea of accommodating a chip capacitor in a printed wiring board. As a technique for embedding a capacitor in a substrate, see Japanese Unexamined Patent Publication No.
6472, JP-A-7-263619, JP-A-10-
No. 256429, JP-A-11-45555, JP-A-1
1-112678 and JP-A-11-31868.

【0006】特開平6−326472号には、ガラスエ
ポキシからなる樹脂基板に、コンデンサを埋め込む技術
が開示されている。この構成により、電源ノイズを低減
し、かつ、チップコンデンサを実装するスペースが不要
になり、絶縁性基板を小型化できる。また、特開平7−
263619号には、セラミック、アルミナなどの基板
にコンデンサを埋め込む技術が開示されている。この構
成により、電源層及び接地層の間に接続することで、配
線長を短くし、配線のインダクタンスを低減している。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-326472 discloses a technique for embedding a capacitor in a resin substrate made of glass epoxy. With this configuration, power supply noise is reduced, and a space for mounting a chip capacitor is not required, and the size of the insulating substrate can be reduced. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open
No. 263619 discloses a technique for embedding a capacitor in a substrate made of ceramic, alumina, or the like. With this configuration, by connecting between the power supply layer and the ground layer, the wiring length is shortened and the wiring inductance is reduced.

【0007】しかしながら、上述した技術は、ICチッ
プからコンデンサの距離をあまり短くできず、ICチッ
プの更なる高周波数領域においては、現在必要とされる
ようにインダクタンスを低減することができなかった。
特に、樹脂製の多層ビルドアップ配線板においては、セ
ラミックから成るコンデンサと、樹脂からなるコア基板
及び層間樹脂絶縁層の熱膨張率の違いから、チップコン
デンサの端子とバイアホールとの間に断線、チップコン
デンサと層間樹脂絶縁層との間で剥離、層間樹脂絶縁層
にクラックが発生し、長期に渡り高い信頼性を達成する
ことができなかった。
[0007] However, the above-described technique cannot make the distance between the IC chip and the capacitor very short, and cannot reduce the inductance as required at present in a higher frequency region of the IC chip.
In particular, in a resin-made multilayer build-up wiring board, disconnection between a terminal of a chip capacitor and a via hole due to a difference in thermal expansion coefficient between a capacitor made of ceramic and a core substrate made of resin and an interlayer resin insulating layer. Peeling occurred between the chip capacitor and the interlayer resin insulation layer, cracks occurred in the interlayer resin insulation layer, and high reliability could not be achieved for a long period of time.

【0008】本発明は上述した課題を解決するためなさ
れたものであり、その目的とするところは、ループイン
ダクタンスを低減できると共に高い信頼性を有するプリ
ント配線板、及びその製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a printed wiring board which can reduce loop inductance and has high reliability, and a method of manufacturing the same. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、請求項1では、コア基板に樹脂絶縁層と導体回路
とを積層してなるプリント配線板であって、前記コア基
板は、少なくとも1層以上である絶縁樹脂層で形成され
た接続層と、コンデンサ収納し2層以上の樹脂層からな
る収容層と、から構成され、前記コンデンサのメタライ
ズからなる電極の表面には、導電性ペーストが塗布され
ていることを技術的特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board having a resin insulating layer and a conductive circuit laminated on a core substrate, wherein the core substrate has at least A conductive paste is formed on the surface of the metallized electrode of the capacitor, comprising a connection layer formed of at least one insulating resin layer, and a housing layer housing the capacitor and comprising two or more resin layers. Is a technical feature.

【0010】コア基板上に層間樹脂絶縁層を設けて、該
層間樹脂絶縁層にバイアホールもしくはスルーホールを
施して、導電層である導体回路を形成するビルドアップ
法によって形成する回路を意味している。それらには、
セミアディティブ法、フルアディティブ法のいずれかを
用いることができる。
A circuit formed by a build-up method in which an interlayer resin insulating layer is provided on a core substrate, a via hole or a through hole is formed in the interlayer resin insulating layer, and a conductive circuit as a conductive layer is formed. I have. They include
Either a semi-additive method or a full-additive method can be used.

【0011】請求項1では、プリント配線板内にコンデ
ンサを配置するため、ICチップとコンデンサとの距離
が短くなり、ループインダクタンスを低減することがで
きる。また、コア基板は、少なくとも1層以上の接続層
と、コンデンサを収容する収容層からなり、厚みの厚い
収容層内にコンデンサを収容するため、コア基板が厚く
ならず、コア基板上に層間樹脂絶縁層と導体回路とを積
層してもプリント配線板を厚くすることがない。
According to the first aspect, since the capacitor is arranged in the printed wiring board, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, and the loop inductance can be reduced. Further, the core substrate includes at least one or more connection layers and a housing layer for housing the capacitor. Since the capacitor is housed in the thick housing layer, the core substrate does not become thick, and the interlayer resin is formed on the core substrate. Even when the insulating layer and the conductive circuit are laminated, the printed wiring board does not become thick.

【0012】空隙には、樹脂を充填させることが望まし
い。コンデンサ、コア基板間の空隙をなくすことによっ
て、内蔵されたコンデンサが、挙動することが小さくな
るし、コンデンサを起点とする応力が発生したとして
も、該充填された樹脂により緩和することができる。ま
た、該樹脂には、コンデンサとコア基板との接着やマイ
グレーションの低下させるという効果も有する。
It is desirable to fill the void with a resin. By eliminating the gap between the capacitor and the core substrate, the built-in capacitor is less likely to behave, and even if a stress originating from the capacitor is generated, the stress can be reduced by the filled resin. The resin also has the effect of reducing adhesion and migration between the capacitor and the core substrate.

【0013】また、コンデンサの電極の表面に導電ペー
ストを塗布してあるため、表面が完全にフラットにな
る。このため、樹脂層にレーザで開口を穿設した際に、
電極の表面に樹脂が残ることが無くなり、該電極とめっ
きによるバイアホールとの接続信頼性を高めることがで
きる。
Further, since the conductive paste is applied to the surface of the electrode of the capacitor, the surface becomes completely flat. For this reason, when an opening is formed in the resin layer with a laser,
The resin does not remain on the surface of the electrode, and the connection reliability between the electrode and the via hole formed by plating can be improved.

【0014】請求項2では、コア基板に樹脂絶縁層と導
体回路とを積層してなるプリント配線板であって、前記
コア基板は、少なくとも1層以上である絶縁樹脂層で形
成された接続層と、コンデンサ収納し2層以上の樹脂層
からなる収容層でから構成され、両面にコンデンサと接
続させるビアが形成され、前記コンデンサのメタライズ
からなる電極の表面には、導電性ペーストが塗布されて
いることを技術的特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board formed by laminating a resin insulating layer and a conductive circuit on a core substrate, wherein the core substrate comprises at least one or more insulating resin layers. And a capacitor housing and a housing layer formed of two or more resin layers. Vias are formed on both sides to be connected to the capacitor, and a conductive paste is applied to the surface of the metallized electrode of the capacitor. Is a technical feature.

【0015】請求項2では、プリント配線板内にコンデ
ンサを配置するため、ICチップとコンデンサとの距離
が短くなり、ループインダクタンスを低減することがで
きる。また、コア基板は、少なくとも1層以上の接続層
と、コンデンサを収容する収容層からなり、厚みの厚い
収容層内にコンデンサを収容するため、コア基板が厚く
ならず、コア基板上に層間樹脂絶縁層と導体回路とを積
層してもプリント配線板を厚くすることがない。
According to the second aspect, since the capacitor is arranged in the printed wiring board, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, and the loop inductance can be reduced. Further, the core substrate includes at least one or more connection layers and a housing layer for housing the capacitor. Since the capacitor is housed in the thick housing layer, the core substrate does not become thick, and the interlayer resin is formed on the core substrate. Even when the insulating layer and the conductive circuit are laminated, the printed wiring board does not become thick.

【0016】また、コンデンサの電極の表面に導電ペー
ストを塗布してあるため、表面が完全にフラットにな
る。このため、樹脂層にレーザで開口を穿設した際に、
電極の表面に樹脂が残ることが無くなり、該電極とめっ
きによるバイアホールとの接続信頼性を高めることがで
きる。更に、コア基板の両面にバイアホールを設けてあ
るため、ICチップと基板内に収容したコンデンサと
を、また、外部接続基板に配置された電源と基板内に収
容したコンデンサとを最短の距離で接続できる。このた
め、電源からICチップへ瞬時に電圧を補うことがで
き、速やかにIC駆動電圧を安定させることができる。
Further, since the conductive paste is applied to the surface of the electrode of the capacitor, the surface becomes completely flat. For this reason, when an opening is formed in the resin layer with a laser,
The resin does not remain on the surface of the electrode, and the connection reliability between the electrode and the via hole formed by plating can be improved. Furthermore, since via holes are provided on both sides of the core board, the IC chip and the capacitor housed in the board, and the power supply arranged on the external connection board and the capacitor housed in the board are kept at the shortest distance. Can connect. Therefore, the voltage can be instantaneously supplemented from the power supply to the IC chip, and the IC drive voltage can be quickly stabilized.

【0017】請求項3では、コンデンサの電極の導電性
ペースト上に金属層を設けてあるため、電極でのマイグ
レーションの発生を防止することができ、また、接続抵
抗を更に低減することができる。
According to the third aspect, since the metal layer is provided on the conductive paste of the electrode of the capacitor, it is possible to prevent the occurrence of migration at the electrode and further reduce the connection resistance.

【0018】請求項4では、コンデンサの表面に、粗化
処理を施す。これにより、セラミックから成るチップコ
ンデンサと樹脂からなる接着層、層間樹脂絶縁層との密
着性が高くなり、ヒートサイクル試験を実施しても界面
での接着層、層間樹脂絶縁層の剥離が発生することがな
い。
According to a fourth aspect, the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment. Thereby, the adhesion between the chip capacitor made of ceramic and the adhesive layer made of resin and the interlayer resin insulating layer is increased, and the adhesive layer and interlayer resin insulating layer are separated at the interface even when the heat cycle test is performed. Nothing.

【0019】請求項5では、コンデンサの表面に、シー
ラルカップリング、樹脂被膜の塗布等の濡れ性改善処理
を施す。これにより、セラミックから成るチップコンデ
ンサと樹脂からなる接着層、層間樹脂絶縁層との密着性
が高くなり、ヒートサイクル試験を実施しても界面での
接着層、層間樹脂絶縁層の剥離が発生することがない。
According to a fifth aspect of the present invention, the surface of the capacitor is subjected to a wettability improving treatment such as a seal coupling or a resin coating. Thereby, the adhesion between the chip capacitor made of ceramic and the adhesive layer made of resin and the interlayer resin insulating layer is increased, and the adhesive layer and interlayer resin insulating layer are separated at the interface even when the heat cycle test is performed. Nothing.

【0020】請求項8では、コンデンサ間にICチップ
と外部基板との接続用配線を配設し、コンデンサを信号
線が通過しないため、高誘電体によるインピーダンス不
連続による反射、及び、高誘電体通過による伝搬遅延が
発生しない。電源用のコンデンサを備えることで、IC
チップに大電力を容易に供給することが可能となる。グ
ランド用コンデンサを備えることで、プリント配線板の
信号伝搬のノイズを低減することができる。
According to the eighth aspect of the present invention, wiring for connecting the IC chip to the external substrate is provided between the capacitors, and the signal line does not pass through the capacitors. No propagation delay occurs due to passage. By providing a capacitor for power supply, IC
Large power can be easily supplied to the chip. Providing the ground capacitor can reduce noise in signal propagation on the printed wiring board.

【0021】また、接続用配線を配設することにより、
コンデンサの下部にも、配線を施すことが可能となる。
そのために配線の自由度が増して、高密度化、小型化を
することが出来る。
Further, by disposing the connection wiring,
Wiring can also be provided below the capacitor.
Therefore, the degree of freedom of wiring is increased, and higher density and smaller size can be achieved.

【0022】請求項9では、基板内に収容したコンデン
サに加えて表面にコンデンサを配設してある。プリント
配線板内にコンデンサが収容してあるために、ICチッ
プとコンデンサとの距離が短くなり、ループインダクタ
ンスを低減し、瞬時に電源を供給することができ、一
方、プリント配線板の表面にもコンデンサが配設してあ
るので、大容量のコンデンサを取り付けることができ、
ICチップに大電力を容易に供給することが可能とな
る。
In the ninth aspect, a capacitor is provided on the surface in addition to the capacitor housed in the substrate. Since the capacitor is housed in the printed wiring board, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, the loop inductance is reduced, and power can be supplied instantaneously. Because a capacitor is provided, a large-capacity capacitor can be attached.
Large power can be easily supplied to the IC chip.

【0023】請求項10では、表面のコンデンサの静電
容量は、内層のコンデンサの静電容量以上であるため、
高周波領域における電源供給の不足がなく、所望のIC
チップの動作が確保される。
According to the tenth aspect, the capacitance of the capacitor on the surface is larger than the capacitance of the capacitor in the inner layer.
There is no shortage of power supply in the high frequency range, and the desired IC
The operation of the chip is ensured.

【0024】請求項11では、表面のコンデンサのイン
ダクタンスは、内層のコンデンサのインダクタンス以上
であるため、高周波領域における電源供給の不足がな
く、所望のICチップの動作が確保される。
According to the eleventh aspect, since the inductance of the capacitor on the surface is equal to or greater than the inductance of the capacitor in the inner layer, there is no shortage of power supply in a high-frequency region, and a desired operation of the IC chip is ensured.

【0025】請求項12では、外縁の内側に電極の形成
されたチップコンデンサを用いるため、バイアホールを
経て導通を取っても外部電極が大きく取れ、アライメン
トの許容範囲が広がるために、接続不良がなくなる。
In the twelfth aspect, since a chip capacitor having an electrode formed inside the outer edge is used, a large external electrode can be obtained even when conduction is established through a via hole, and the allowable range of alignment is widened. Disappears.

【0026】請求項13では、マトリクス状に電極が形
成されたコンデンサを用いるので、大判のチップコンデ
ンサをコア基板に収容することが容易になる。そのた
め、静電容量を大きくできるので、電気的な問題を解決
することができる。さらに、種々の熱履歴などを経ても
プリント配線板に反りが発生し難くなる。
In the thirteenth aspect, since a capacitor having electrodes formed in a matrix is used, it is easy to accommodate a large chip capacitor in the core substrate. Therefore, the capacitance can be increased, so that an electrical problem can be solved. Further, even after various thermal histories, the printed wiring board is less likely to warp.

【0027】請求項14では、コンデンサに多数個取り
用のチップコンデンサを複数連結させてもよい。それに
よって、静電容量を適宜調整することができ、適切にI
Cチップを動作させることができる。
In a fourteenth aspect, a plurality of chip capacitors for multi-cavity may be connected to the capacitor. As a result, the capacitance can be adjusted appropriately, and I
The C chip can be operated.

【0028】請求項15では、絶縁性接着剤の熱膨張率
を、収容層よりも小さく、即ち、セラミックからなるコ
ンデンサに近いように設定してある。このため、ヒート
サイクル試験において、コア基板を構成する収容層とコ
ンデンサとの間に熱膨張率差から内応力が発生しても、
コア基板にクラック、剥離等が生じ難く、高い信頼性を
達成できる。
According to a fifteenth aspect, the coefficient of thermal expansion of the insulating adhesive is set to be smaller than that of the encasing layer, that is, close to that of a ceramic capacitor. For this reason, in the heat cycle test, even if internal stress occurs due to the difference in thermal expansion coefficient between the housing layer and the capacitor constituting the core substrate,
Cracks, peeling, and the like are less likely to occur on the core substrate, and high reliability can be achieved.

【0029】請求項16のプリント配線板の製造方法
は、少なくとも以下(a)〜(e)の工程を備えること
を技術的特徴とする: (a)心材に樹脂を含有させてなる第1の樹脂材料にコ
ンデンサ収容用の通孔を形成する工程; (b)前記通孔を形成した第1の樹脂材料に、第2の樹
脂材料を貼り付けて、コンデンサ収容部を有する収容層
を形成する工程; (c)前記収容層にメタライズ電極の上に導電性ペース
トを塗布したコンデンサを収納する工程; (d)前記(c)工程の収容層に第3の絶縁樹脂層を張
り付けてコア基板を形成する工程; (e)前記第3の絶縁樹脂層に前記コンデンサの電極へ
至る開口を設けてバイアホールを形成する工程。
The technical feature of the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 16 is that it comprises at least the following steps (a) to (e): (a) a first method in which a resin is contained in a core material; Forming a through hole for accommodating the capacitor in the resin material; (b) attaching a second resin material to the first resin material in which the through hole has been formed to form a housing layer having a capacitor housing portion. (C) a step of housing a capacitor having a conductive paste applied on a metallized electrode in the housing layer; and (d) attaching a third insulating resin layer to the housing layer in the step (c) to form a core substrate. (E) forming a via hole in the third insulating resin layer by providing an opening to an electrode of the capacitor.

【0030】請求項17のプリント配線板の製造方法
は、少なくとも以下(a)〜(e)の工程を備えること
を技術的特徴とする: (a)心材に樹脂を含有させてなる第1の樹脂材料にコ
ンデンサ収容用の通孔を形成する工程; (b)第2の樹脂材料に、前記第1の樹脂材料のコンデ
ンサ収容部に該当する位置へメタライズ電極の上に導電
性ペーストを塗布したコンデンサを配設させる工程; (c)前記(a)工程を経た第1の樹脂材料と前記
(b)工程を経た第2の樹脂材料を貼り付けてコンデン
サを収納した収容層を形成する工程; (d)前記収容層に第3の絶縁樹脂層を張り付けコア基
板を形成する工程; (e)前記第3の絶縁樹脂層に前記コンデンサの電極へ
至る開口を設けてバイアホールを形成する工程。
The method for manufacturing a printed wiring board according to the seventeenth aspect is characterized by comprising at least the following steps (a) to (e): (a) a first material in which a resin is contained in a core material; Forming a through hole for accommodating a capacitor in the resin material; (b) applying a conductive paste on the metallized electrode to a position corresponding to the capacitor accommodating portion of the first resin material on the second resin material; (C) attaching the first resin material that has passed through the step (a) and the second resin material that has passed through the step (b) to form a housing layer that houses the capacitor; (D) a step of attaching a third insulating resin layer to the housing layer to form a core substrate; (e) a step of forming a via hole by providing an opening to the electrode of the capacitor in the third insulating resin layer.

【0031】請求項18のプリント配線板の製造方法
は、少なくとも以下(a)〜(f)の工程を備えること
を技術的特徴とする: (a)心材に樹脂を含有させてなる第1の樹脂材料にコ
ンデンサ収容用の通孔を形成する工程; (b)第2の樹脂材料にバイアホールとなる貫通孔を設
けて、前記第1の樹脂材料のコンデンサ収容部に該当す
る位置へメタライズ電極の上に導電性ペーストを塗布し
たコンデンサを配設させる工程; (c)前記(a)工程を経た第1の樹脂材料と前記
(b)工程を経た第2の樹脂材料を貼り付けてコンデン
サを収納した収容層を形成する工程; (d)前記収容層に第3の絶縁樹脂層を張り付けコア基
板を形成させる工程; (e)前記第3の絶縁樹脂層に前記コンデンサの電極へ
至る開口を設ける工程; (f)前記第1の樹脂材料の貫通孔及び第3の樹脂材料
の開口に導体膜を形成してバイアホールとする工程。
The technical feature of the method for manufacturing a printed wiring board according to the eighteenth aspect is to provide at least the following steps (a) to (f): (a) A first method in which a core material contains a resin. Forming a through-hole for accommodating a capacitor in the resin material; (b) providing a through-hole serving as a via hole in the second resin material, and metallizing the electrode to a position corresponding to the capacitor accommodating portion of the first resin material Disposing a capacitor having a conductive paste applied thereon; (c) attaching the first resin material having undergone the above (a) step and the second resin material having undergone the above (b) step to form a capacitor; (D) attaching a third insulating resin layer to the containing layer to form a core substrate; (e) forming an opening in the third insulating resin layer to reach the electrode of the capacitor. Providing step; (f) Step of the via hole in serial through-hole and the opening of the third resin material of the first resin material to form a conductive film.

【0032】請求項16、17のプリント配線板の製造
方法では、コア基板内にチップコンデンサを収容するこ
とが可能となり、ループインダクタンスを低減させたプ
リント配線板を提供できる。
According to the printed wiring board manufacturing method of the present invention, the chip capacitor can be accommodated in the core substrate, and a printed wiring board with reduced loop inductance can be provided.

【0033】また、コンデンサの電極の表面に導電ペー
ストを塗布してあるため、表面が完全にフラットにな
る。このため、樹脂層にレーザで開口を穿設した際に、
電極の表面に樹脂が残ることが無くなり、該電極とめっ
きによるバイアホールとの接続信頼性を高めることがで
きる。
Since the conductive paste is applied to the surface of the electrode of the capacitor, the surface becomes completely flat. For this reason, when an opening is formed in the resin layer with a laser,
The resin does not remain on the surface of the electrode, and the connection reliability between the electrode and the via hole formed by plating can be improved.

【0034】請求項18のプリント配線板の製造方法で
は、コア基板内にチップコンデンサを収容することが可
能となり、ループインダクタンスを低減させたプリント
配線板を提供できる。
According to the method for manufacturing a printed wiring board of the eighteenth aspect, the chip capacitor can be accommodated in the core substrate, and a printed wiring board with reduced loop inductance can be provided.

【0035】また、コンデンサの電極の表面に導電ペー
ストを塗布してあるため、表面が完全にフラットにな
る。このため、樹脂層にレーザで開口を穿設した際に、
電極の表面に樹脂が残ることが無くなり、該電極とめっ
きによるバイアホールとの接続信頼性を高めることがで
きる。更に、コア基板の両面にバイアホールを設けてあ
るため、ICチップと基板内に収容したコンデンサと
を、また、外部接続基板に配置された電源と基板内に収
容したコンデンサとを最短の距離で接続できる。このた
め、電源からICチップへ瞬時に電圧を補うことがで
き、速やかにIC駆動電圧を安定させることができる。
Further, since the conductive paste is applied to the surface of the capacitor electrode, the surface becomes completely flat. For this reason, when an opening is formed in the resin layer with a laser,
The resin does not remain on the surface of the electrode, and the connection reliability between the electrode and the via hole formed by plating can be improved. Furthermore, since via holes are provided on both sides of the core board, the IC chip and the capacitor housed in the board, and the power supply arranged on the external connection board and the capacitor housed in the board are kept at the shortest distance. Can connect. Therefore, the voltage can be instantaneously supplemented from the power supply to the IC chip, and the IC drive voltage can be quickly stabilized.

【0036】請求項19のプリント配線板の製造方法で
は、コンデンサを収容した収容層と第3の樹脂材料と
を、両面に圧力を加えて張り合わせコア基板を形成する
ため、表面が平坦化され、高い信頼性を備える層間樹脂
絶縁層及び導体回路を積層することができる。
In the method for manufacturing a printed wiring board according to the nineteenth aspect, since the encasing layer accommodating the capacitor and the third resin material are bonded to each other by applying pressure to both surfaces to form a core substrate, the surface is flattened. An interlayer resin insulating layer and a conductor circuit having high reliability can be laminated.

【0037】本発明の層間樹脂絶縁層、接続層において
使用する熱硬化型樹脂フィルムは、酸または酸化剤に可
溶性の粒子(以下、可溶性粒子という)が酸または酸化
剤に難溶性の樹脂(以下、難溶性樹脂という)中に分散
したものである。なお、本発明で使用する「難溶性」
「可溶性」という語は、同一の酸または酸化剤からなる
溶液に同一時間浸漬した場合に、相対的に溶解速度の早
いものを便宜上「可溶性」と呼び、相対的に溶解速度の
遅いものを便宜上「難溶性」と呼ぶ。
In the thermosetting resin film used in the interlayer resin insulating layer and the connection layer of the present invention, particles which are soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble particles”) are hardly soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as a resin). , Hardly soluble resin). In addition, the "poorly soluble" used in the present invention
The term "soluble" refers to a substance having a relatively high dissolution rate when immersed in a solution containing the same acid or oxidizing agent for the same time as "soluble" for convenience, and a substance having a relatively low dissolution rate for convenience. Called "poorly soluble".

【0038】上記可溶性粒子としては、例えば、酸また
は酸化剤に可溶性の樹脂粒子(以下、可溶性樹脂粒
子)、酸または酸化剤に可溶性の無機粒子(以下、可溶
性無機粒子)、酸または酸化剤に可溶性の金属粒子(以
下、可溶性金属粒子)等が挙げられる。これらの可溶性
粒子は、単独で用いても良いし、2種以上併用してもよ
い。
Examples of the soluble particles include resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble resin particles”), inorganic particles soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble inorganic particles”), and an acid or an oxidizing agent. Soluble metal particles (hereinafter referred to as “soluble metal particles”) and the like. These soluble particles may be used alone or in combination of two or more.

【0039】上記可溶性粒子の形状は特に限定されず、
球状、破砕状等が挙げられる。また、上記可溶性粒子の
形状は、一様な形状であることが望ましい。均一な粗さ
の凹凸を有する粗化面を形成することができるからであ
る。
The shape of the soluble particles is not particularly limited.
Spherical, crushed and the like. The shape of the soluble particles is desirably a uniform shape. This is because a roughened surface having unevenness with a uniform roughness can be formed.

【0040】上記可溶性粒子の平均粒径としては、0.
1〜10μmが望ましい。この粒径の範囲であれば、2
種類以上の異なる粒径のものを含有してもよい。すなわ
ち、平均粒径が0.1〜0.5μmの可溶性粒子と平均
粒径が1〜3μmの可溶性粒子とを含有する等である。
これにより、より複雑な粗化面を形成することができ、
導体回路との密着性にも優れる。なお、本発明におい
て、可溶性粒子の粒径とは、可溶性粒子の一番長い部分
の長さである。
The average particle size of the above-mentioned soluble particles is 0.1.
1 to 10 μm is desirable. Within this particle size range, 2
More than one kind of particles having different particle sizes may be contained. That is, it contains soluble particles having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm and soluble particles having an average particle size of 1 to 3 μm.
Thereby, a more complicated roughened surface can be formed,
Excellent adhesion to conductor circuits. In the present invention, the particle size of the soluble particles is the length of the longest portion of the soluble particles.

【0041】上記可溶性樹脂粒子としては、熱硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂等からなるものが挙げられ、酸あるい
は酸化剤からなる溶液に浸漬した場合に、上記難溶性樹
脂よりも溶解速度が速いものであれば特に限定されな
い。上記可溶性樹脂粒子の具体例としては、例えば、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフ
ェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等から
なるものが挙げられ、これらの樹脂の一種からなるもの
であってもよいし、2種以上の樹脂の混合物からなるも
のであってもよい。
Examples of the soluble resin particles include those made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and the like. When immersed in a solution containing an acid or an oxidizing agent, the soluble resin particles have a higher dissolution rate than the hardly soluble resin. If it is, there is no particular limitation. Specific examples of the soluble resin particles include, for example, those made of epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, fluororesin, and the like, and may be made of one of these resins. Alternatively, it may be composed of a mixture of two or more resins.

【0042】また、上記可溶性樹脂粒子としては、ゴム
からなる樹脂粒子を用いることもできる。上記ゴムとし
ては、例えば、ポリブタジエンゴム、エポキシ変性、ウ
レタン変性、(メタ)アクリロニトリル変性等の各種変
性ポリブタジエンゴム、カルボキシル基を含有した(メ
タ)アクリロニトリル・ブタジエンゴム等が挙げられ
る。これらのゴムを使用することにより、可溶性樹脂粒
子が酸あるいは酸化剤に溶解しやすくなる。つまり、酸
を用いて可溶性樹脂粒子を溶解する際には、強酸以外の
酸でも溶解することができ、酸化剤を用いて可溶性樹脂
粒子を溶解する際には、比較的酸化力の弱い過マンガン
酸塩でも溶解することができる。また、クロム酸を用い
た場合でも、低濃度で溶解することができる。そのた
め、酸や酸化剤が樹脂表面に残留することがなく、後述
するように、粗化面形成後、塩化パラジウム等の触媒を
付与する際に、触媒が付与されなたかったり、触媒が酸
化されたりすることがない。
As the soluble resin particles, resin particles made of rubber can also be used. Examples of the rubber include polybutadiene rubber, various modified polybutadiene rubbers such as epoxy-modified, urethane-modified, (meth) acrylonitrile-modified, and (meth) acrylonitrile-butadiene rubber containing a carboxyl group. By using these rubbers, the soluble resin particles are easily dissolved in an acid or an oxidizing agent. In other words, when dissolving the soluble resin particles using an acid, an acid other than a strong acid can be dissolved, and when dissolving the soluble resin particles using an oxidizing agent, permanganese having a relatively weak oxidizing power is used. Acid salts can also be dissolved. Even when chromic acid is used, it can be dissolved at a low concentration. Therefore, the acid or the oxidizing agent does not remain on the resin surface, and as described later, when a catalyst such as palladium chloride is applied after forming the roughened surface, the catalyst is not applied or the catalyst is oxidized. Or not.

【0043】上記可溶性無機粒子としては、例えば、ア
ルミニウム化合物、カルシウム化合物、カリウム化合
物、マグネシウム化合物およびケイ素化合物からなる群
より選択される少なくとも一種からなる粒子等が挙げら
れる。
Examples of the soluble inorganic particles include particles made of at least one selected from the group consisting of aluminum compounds, calcium compounds, potassium compounds, magnesium compounds and silicon compounds.

【0044】上記アルミニウム化合物としては、例え
ば、アルミナ、水酸化アルミニウム等が挙げられ、上記
カルシウム化合物としては、例えば、炭酸カルシウム、
水酸化カルシウム等が挙げられ、上記カリウム化合物と
しては、炭酸カリウム等が挙げられ、上記マグネシウム
化合物としては、マグネシア、ドロマイト、塩基性炭酸
マグネシウム等が挙げられ、上記ケイ素化合物として
は、シリカ、ゼオライト等が挙げられる。これらは単独
で用いても良いし、2種以上併用してもよい。
Examples of the aluminum compound include alumina and aluminum hydroxide. Examples of the calcium compound include calcium carbonate and
Examples of the potassium compound include potassium carbonate.Examples of the magnesium compound include magnesia, dolomite, and basic magnesium carbonate.Examples of the silicon compound include silica and zeolite. Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0045】上記可溶性金属粒子としては、例えば、
銅、ニッケル、鉄、亜鉛、鉛、金、銀、アルミニウム、
マグネシウム、カルシウムおよびケイ素からなる群より
選択される少なくとも一種からなる粒子等が挙げられ
る。また、これらの可溶性金属粒子は、絶縁性を確保す
るために、表層が樹脂等により被覆されていてもよい。
Examples of the soluble metal particles include, for example,
Copper, nickel, iron, zinc, lead, gold, silver, aluminum,
Examples include particles made of at least one selected from the group consisting of magnesium, calcium, and silicon. These soluble metal particles may have a surface layer coated with a resin or the like in order to ensure insulation.

【0046】上記可溶性粒子を、2種以上混合して用い
る場合、混合する2種の可溶性粒子の組み合わせとして
は、樹脂粒子と無機粒子との組み合わせが望ましい。両
者とも導電性が低くいため樹脂フィルムの絶縁性を確保
することができるとともに、難溶性樹脂との間で熱膨張
の調整が図りやすく、樹脂フィルムからなる層間樹脂絶
縁層にクラックが発生せず、層間樹脂絶縁層と導体回路
との間で剥離が発生しないからである。
When two or more of the above-mentioned soluble particles are used in combination, the combination of the two types of soluble particles is preferably a combination of resin particles and inorganic particles. Both have low conductivity, so that the insulation of the resin film can be ensured, and thermal expansion can be easily adjusted with the poorly soluble resin, and no crack occurs in the interlayer resin insulation layer made of the resin film. This is because peeling does not occur between the interlayer resin insulating layer and the conductor circuit.

【0047】上記難溶性樹脂としては、層間樹脂絶縁層
に酸または酸化剤を用いて粗化面を形成する際に、粗化
面の形状を保持できるものであれば特に限定されず、例
えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、これらの複合体等
が挙げられる。また、これらの樹脂に感光性を付与した
感光性樹脂であってもよい。感光性樹脂を用いることに
より、層間樹脂絶縁層に露光、現像処理を用いてビア用
開口を形成することできる。これらのなかでは、熱硬化
性樹脂を含有しているものが望ましい。それにより、め
っき液あるいは種々の加熱処理によっても粗化面の形状
を保持することができるからである。
The hardly soluble resin is not particularly limited as long as it can maintain the shape of the roughened surface when the roughened surface is formed using an acid or an oxidizing agent in the interlayer resin insulating layer. Examples thereof include thermosetting resins, thermoplastic resins, and composites thereof. Further, a photosensitive resin obtained by imparting photosensitivity to these resins may be used. By using a photosensitive resin, a via opening can be formed in the interlayer resin insulating layer by using exposure and development processes. Among these, those containing a thermosetting resin are desirable. Thereby, the shape of the roughened surface can be maintained even by the plating solution or various heat treatments.

【0048】上記難溶性樹脂の具体例としては、例え
ば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン
樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独
で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらに
は、1分子中に、2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂がより望ましい。前述の粗化面を形成することが
できるばかりでなく、耐熱性等にも優れてるため、ヒー
トサイクル条件下においても、金属層に応力の集中が発
生せず、金属層の剥離などが起きにくいからである。
Specific examples of the hardly soluble resin include, for example, epoxy resin, phenol resin, phenoxy resin,
Examples thereof include a polyimide resin, a polyphenylene resin, a polyolefin resin, and a fluorine resin. These resins may be used alone or in combination of two or more. Further, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is more desirable. Not only can the above-described roughened surface be formed, but also excellent in heat resistance, etc., even under heat cycle conditions, stress concentration does not occur in the metal layer, and peeling of the metal layer does not easily occur. Because.

【0049】上記エポキシ樹脂としては、例えば、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノールF型エポキシ
樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基
を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、
トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂
等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種
以上を併用してもよい。それにより、耐熱性等に優れる
ものとなる。
Examples of the epoxy resin include cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, alkylphenol novolak type epoxy resin, biphenol F type epoxy resin, and naphthalene type epoxy resin. Resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxidized product of condensate of phenols and aromatic aldehyde having phenolic hydroxyl group,
Triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Thereby, it becomes excellent in heat resistance and the like.

【0050】本発明で用いる樹脂フィルムにおいて、上
記可溶性粒子は、上記難溶性樹脂中にほぼ均一に分散さ
れていることが望ましい。均一な粗さの凹凸を有する粗
化面を形成することができ、樹脂フィルムにビアやスル
ーホールを形成しても、その上に形成する導体回路の金
属層の密着性を確保することができるからである。ま
た、粗化面を形成する表層部だけに可溶性粒子を含有す
る樹脂フィルムを用いてもよい。それによって、樹脂フ
ィルムの表層部以外は酸または酸化剤にさらされること
がないため、層間樹脂絶縁層を介した導体回路間の絶縁
性が確実に保たれる。
In the resin film used in the present invention, it is desirable that the soluble particles are substantially uniformly dispersed in the poorly soluble resin. A roughened surface having unevenness with a uniform roughness can be formed, and even when a via or a through hole is formed in a resin film, the adhesion of a metal layer of a conductive circuit formed thereon can be secured. Because. Alternatively, a resin film containing soluble particles only in the surface layer forming the roughened surface may be used. Thereby, since the portions other than the surface layer of the resin film are not exposed to the acid or the oxidizing agent, the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulating layer is reliably maintained.

【0051】上記樹脂フィルムにおいて、難溶性樹脂中
に分散している可溶性粒子の配合量は、樹脂フィルムに
対して、3〜40重量%が望ましい。可溶性粒子の配合
量が3重量%未満では、所望の凹凸を有する粗化面を形
成することができない場合があり、40重量%を超える
と、酸または酸化剤を用いて可溶性粒子を溶解した際
に、樹脂フィルムの深部まで溶解してしまい、樹脂フィ
ルムからなる層間樹脂絶縁層を介した導体回路間の絶縁
性を維持できず、短絡の原因となる場合がある。
In the above resin film, the compounding amount of the soluble particles dispersed in the poorly soluble resin is preferably 3 to 40% by weight based on the resin film. If the amount of the soluble particles is less than 3% by weight, it may not be possible to form a roughened surface having desired irregularities. If the amount exceeds 40% by weight, the soluble particles may be dissolved using an acid or an oxidizing agent. In addition, there is a case where the resin film is melted to a deep portion of the resin film and the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulating layer made of the resin film cannot be maintained, which may cause a short circuit.

【0052】上記樹脂フィルムは、上記可溶性粒子、上
記難溶性樹脂以外に、硬化剤、その他の成分等を含有し
ていることが望ましい。上記硬化剤としては、例えば、
イミダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤、グアニジン系
硬化剤、これらの硬化剤のエポキシアダクトやこれらの
硬化剤をマイクロカプセル化したもの、トリフェニルホ
スフィン、テトラフェニルホスフォニウム・テトラフェ
ニルボレート等の有機ホスフィン系化合物等が挙げられ
る。
The resin film desirably contains a curing agent and other components in addition to the soluble particles and the hardly soluble resin. As the curing agent, for example,
Imidazole-based curing agents, amine-based curing agents, guanidine-based curing agents, epoxy adducts of these curing agents and microcapsules of these curing agents, and organic materials such as triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium, and tetraphenylborate. Phosphine compounds and the like can be mentioned.

【0053】上記硬化剤の含有量は、樹脂フィルムに対
して0.05〜10重量%であることが望ましい。0.
05重量%未満では、樹脂フィルムの硬化が不十分であ
るため、酸や酸化剤が樹脂フィルムに侵入する度合いが
大きくなり、樹脂フィルムの絶縁性が損なわれることが
ある。一方、10重量%を超えると、過剰な硬化剤成分
が樹脂の組成を変性させることがあり、信頼性の低下を
招いたりしてしまうことがある。
The content of the curing agent is desirably 0.05 to 10% by weight based on the resin film. 0.
If the amount is less than 05% by weight, the resin film is insufficiently cured, so that the degree of penetration of the acid or the oxidizing agent into the resin film is increased, and the insulating property of the resin film may be impaired. On the other hand, when the content exceeds 10% by weight, an excessive curing agent component may modify the composition of the resin, which may cause a decrease in reliability.

【0054】上記その他の成分としては、例えば、粗化
面の形成に影響しない無機化合物あるいは樹脂等のフィ
ラーが挙げられる。上記無機化合物としては、例えば、
シリカ、アルミナ、ドロマイト等が挙げられ、上記樹脂
としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアクリル樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、メラ
ニン樹脂、オレフィン系樹脂等が挙げられる。これらの
フィラーを含有させることによって、熱膨脹係数の整合
や耐熱性、耐薬品性の向上などを図りプリント配線板の
性能を向上させることができる。
Examples of the other components include fillers such as inorganic compounds or resins which do not affect the formation of the roughened surface. As the inorganic compound, for example,
Examples of the resin include silica, alumina, and dolomite. Examples of the resin include a polyimide resin, a polyacryl resin, a polyamideimide resin, a polyphenylene resin, a melanin resin, and an olefin resin. By incorporating these fillers, the performance of the printed wiring board can be improved by matching the thermal expansion coefficient, improving heat resistance and chemical resistance, and the like.

【0055】また、上記樹脂フィルムは、溶剤を含有し
ていてもよい。上記溶剤としては、例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートやトル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。こ
れらは単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよ
い。
Further, the resin film may contain a solvent. As the solvent, for example, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone,
Ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These may be used alone or in combination of two or more.

【0056】[0056]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図を参照して説明する。先ず、本発明の第1実施形態に
係るプリント配線板の構成について図6、図7を参照し
て説明する。図6は、プリント配線板10の断面を示
し、図7は、図6に示すプリント配線板10にICチッ
プ90を搭載し、ドータボード94側へ取り付けた状態
を示している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the configuration of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 6 shows a cross section of the printed wiring board 10, and FIG. 7 shows a state where the IC chip 90 is mounted on the printed wiring board 10 shown in FIG.

【0057】図6に示すようにプリント配線板10は、
チップコンデンサ20と、チップコンデンサ20を収容
するコア基板30と、ビルドアップ層80A、80Bを
構成する層間樹脂絶縁層60とからなる。コア基板30
は、コンデンサ20を収容する収容層31と接続層40
とからなる。接続層40には、バイアホール46及び導
体回路48が形成され、層間樹脂絶縁層60には、バイ
アホール66及び導体回路68が形成されている。本実
施形態では、ビルドアップ層が1層の層間樹脂絶縁層6
0からなるが、ビルドアップ層は、複数の層間樹脂絶縁
層からなることができる。
As shown in FIG. 6, the printed wiring board 10
The chip capacitor 20 includes a core substrate 30 that houses the chip capacitor 20, and an interlayer resin insulation layer 60 that forms the build-up layers 80A and 80B. Core substrate 30
Are a housing layer 31 for housing the capacitor 20 and a connection layer 40
Consists of Via holes 46 and conductor circuits 48 are formed in the connection layer 40, and via holes 66 and conductor circuits 68 are formed in the interlayer resin insulation layer 60. In the present embodiment, the build-up layer has one interlayer resin insulation layer 6.
However, the build-up layer may include a plurality of interlayer resin insulation layers.

【0058】チップコンデンサ20は、図14(A)に
示すように第1電極21と第2電極22と、該第1、第
2電極に挟まれた誘電体23とから成り、該誘電体23
には、第1電極21側に接続された第1導電膜24と、
第2電極22側に接続された第2導電膜25とが複数枚
対向配置されている。第1電極21及び第2電極の表面
には導電性ペースト26が被せてある。
As shown in FIG. 14A, the chip capacitor 20 includes a first electrode 21 and a second electrode 22, and a dielectric 23 sandwiched between the first and second electrodes.
A first conductive film 24 connected to the first electrode 21 side;
A plurality of second conductive films 25 connected to the second electrode 22 side are arranged facing each other. A conductive paste 26 covers the surfaces of the first electrode 21 and the second electrode.

【0059】ここで、第1電極21及び第2電極22
は、Ni、Pb、又は、Ag金属のメタライズからな
る。導電性ペースト26は、Cu、Ni又はAg等の金
属粒子を含むペーストからなる。ここで、金属粒子の粒
径は、0.1〜10μmが望ましく、とくに1〜5μm
が最適である。導電性ペーストとしては、金属粒子に、
エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリフェニレンスル
フィド(PPS)樹脂を加えた有機系導電性ペーストが
望ましい。この導電性ペースト26の厚みは、1〜30
μmが望ましい。1μm未満では、電極表面の凹凸を無
くすことができず、一方、30μmを越えても、特に効
果が向上しないからである。ここで、5〜20μmの厚
みが最も望ましい。なお、2種類以上の径の異なる粒子
を配合したペーストを用いることもでき、更に、2種類
以上の異なる金属ペーストを被覆することも可能であ
る。
Here, the first electrode 21 and the second electrode 22
Consists of metallization of Ni, Pb or Ag metal. The conductive paste 26 is made of a paste containing metal particles such as Cu, Ni or Ag. Here, the particle size of the metal particles is preferably 0.1 to 10 μm, particularly 1 to 5 μm.
Is optimal. As the conductive paste, metal particles,
An organic conductive paste to which a thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyphenylene sulfide (PPS) resin is added is desirable. The thickness of the conductive paste 26 is 1 to 30.
μm is desirable. If the thickness is less than 1 μm, unevenness on the electrode surface cannot be eliminated, while if it exceeds 30 μm, the effect is not particularly improved. Here, a thickness of 5 to 20 μm is most desirable. Note that a paste containing two or more types of particles having different diameters can be used, and further, two or more types of different metal pastes can be coated.

【0060】チップコンデンサの電極21,22は、メ
タライズからなり表面に凹凸がある。このため、金属層
を剥き出した状態で用いると、層間樹脂絶縁層40にレ
ーザで非貫通孔43を穿設する工程において、該凹凸に
樹脂が残ることがある。この際には、当該樹脂残さによ
り第1、第2電極21,22とバイアホール46との接
続不良が発生する。本実施形態においては、導電性ペー
スト26によって第1、第2電極21,22の表面が平
滑になり、電極上に被覆された非貫通孔43を穿設した
際に、樹脂残さが残らず、バイアホール46を形成した
際の電極21,22との接続信頼性を高めることができ
る。
The electrodes 21 and 22 of the chip capacitor are made of metallized and have irregularities on the surface. Therefore, when the metal layer is used in a state where the metal layer is exposed, the resin may remain on the unevenness in the step of forming the non-through hole 43 in the interlayer resin insulating layer 40 by laser. In this case, the connection between the first and second electrodes 21 and 22 and the via hole 46 occurs due to the resin residue. In the present embodiment, the surfaces of the first and second electrodes 21 and 22 are smoothed by the conductive paste 26, and when the non-through holes 43 covered on the electrodes are formed, no resin residue remains. Connection reliability with the electrodes 21 and 22 when the via hole 46 is formed can be improved.

【0061】更に、チップコンデンサ20のセラミック
から成る誘電体23の表面には粗化層23aが設けられ
ている。このため、セラミックから成るチップコンデン
サ20と樹脂からなる接着剤32及び層間樹脂絶縁層4
0との密着性が高く、ヒートサイクル試験を実施しても
界面での接着剤32及び層間樹脂絶縁層40の剥離が発
生することがない。この粗化層23aは、焼成後に、チ
ップコンデンサ20の表面を研磨することにより、ま
た、焼成前に、粗化処理を施すことにより形成できる。
Further, a roughened layer 23a is provided on the surface of the dielectric 23 made of ceramic of the chip capacitor 20. Therefore, the chip capacitor 20 made of ceramic, the adhesive 32 made of resin, and the interlayer resin insulation layer 4 are formed.
Therefore, the adhesive 32 and the interlayer resin insulating layer 40 do not peel off at the interface even when the heat cycle test is performed. The roughened layer 23a can be formed by polishing the surface of the chip capacitor 20 after firing, or by performing a roughening process before firing.

【0062】図7に示すように上側のビルドアップ層8
0Aのバイアホール66には、ICチップ90のパッド
92S1、92S2、92P1,92P2へ接続するた
めのバンプ76が形成されている。一方、下側のビルド
アップ層80Bのバイアホール66には、ドータボード
94のパッド96S1、96S2、96P1、96P2
へ接続するためのバンプ76が配設されている。コア基
板30にはスルーホール36が形成されている。
As shown in FIG. 7, the upper build-up layer 8
Bumps 76 for connecting to pads 92S1, 92S2, 92P1, and 92P2 of IC chip 90 are formed in via hole 66 of 0A. On the other hand, pads 96S1, 96S2, 96P1, 96P2 of the daughter board 94 are provided in the via holes 66 of the lower buildup layer 80B.
A bump 76 is provided for connection to the substrate. A through hole 36 is formed in the core substrate 30.

【0063】ICチップ90の信号用のパッド92S2
は、バンプ76−導体回路68−バイアホール66−ス
ルーホール36−バイアホール66−バンプ76を介し
て、ドータボード94の信号用のパッド96S2に接続
されている。一方、ICチップ90の信号用のパッド9
2S1は、バンプ76−バイアホール66−スルーホー
ル36−バイアホール66−バンプ76を介して、ドー
タボード94の信号用のパッド96S1に接続されてい
る。
Signal pad 92S2 of IC chip 90
Are connected to the signal pad 96S2 of the daughter board 94 via the bump 76, the conductor circuit 68, the via hole 66, the through hole 36, the via hole 66, and the bump 76. On the other hand, the signal pad 9 of the IC chip 90
2S1 is connected to a signal pad 96S1 of the daughter board 94 via a bump 76-via hole 66-through hole 36-via hole 66-bump 76.

【0064】ICチップ90の電源用パッド92P1
は、バンプ76−バイアホール66−導体回路48−バ
イアホール46を介してチップコンデンサ20の第1電
極21へ接続されている。一方、ドータボード94の電
源用パッド96P1は、バンプ76−バイアホール66
−スルーホール36−導体回路48−バイアホール46
を介してチップコンデンサ20の第1電極21へ接続さ
れている。
Power supply pad 92P1 of IC chip 90
Is connected to the first electrode 21 of the chip capacitor 20 via the bump 76-via hole 66-conductor circuit 48-via hole 46. On the other hand, the power supply pad 96P1 of the daughter board 94 is connected to the bump 76-via hole 66.
-Through hole 36-Conductor circuit 48-Via hole 46
To the first electrode 21 of the chip capacitor 20.

【0065】ICチップ90の電源用パッド92P2
は、バンプ76−バイアホール66−導体回路48−バ
イアホール46を介してチップコンデンサ20の第2電
極22へ接続されている。一方、ドータボード94の電
源用パッド96P2は、バンプ76−バイアホール66
−スルーホール36−導体回路48−バイアホール46
を介してチップコンデンサ20の第2電極22へ接続さ
れている。
Power supply pad 92P2 of IC chip 90
Is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20 via a bump 76-via hole 66-conductor circuit 48-via hole 46. On the other hand, the power supply pad 96P2 of the daughter board 94 is connected to the bump 76 and the via hole 66.
-Through hole 36-Conductor circuit 48-Via hole 46
Is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20 via the.

【0066】本実施形態のプリント配線板10では、I
Cチップ90の直下にチップコンデンサ20を配置する
ため、ICチップとコンデンサとの距離が短くなり、電
力を瞬時的にICチップ側へ供給することが可能にな
る。即ち、ループインダクタンスを決定するループ長さ
を短縮することができる。
In the printed wiring board 10 of the present embodiment, I
Since the chip capacitor 20 is disposed immediately below the C chip 90, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, so that power can be instantaneously supplied to the IC chip. That is, the loop length that determines the loop inductance can be reduced.

【0067】更に、チップコンデンサ20とチップコン
デンサ20との間にスルーホール36を設け、チップコ
ンデンサ20を信号線が通過しない。このため、コンデ
ンサを通過させた際に発生する高誘電体によるインピー
ダンス不連続による反射、及び、高誘電体通過による伝
搬遅延を防ぐことができる。
Further, a through hole 36 is provided between the chip capacitors 20 so that a signal line does not pass through the chip capacitor 20. For this reason, it is possible to prevent reflection due to impedance discontinuity due to the high dielectric substance that occurs when passing through the capacitor, and propagation delay due to passage through the high dielectric substance.

【0068】また、プリント配線板の裏面側に接続され
る外部基板(ドータボード)94とコンデンサ20の第
1端子21,第2端子22とは、ICチップ側の接続層
40に設けられたバイアホール46及びコア基板に形成
されたスルーホール36を介して接続される。即ち、心
材を備え加工が困難な収容層31に通孔を形成してコン
デンサの端子と外部基板とを直接接続しないため、接続
信頼性を高めることができる。
An external board (daughter board) 94 connected to the back side of the printed wiring board and the first terminal 21 and the second terminal 22 of the capacitor 20 are connected to via holes provided in the connection layer 40 on the IC chip side. 46 and through a through hole 36 formed in the core substrate. That is, since a through hole is formed in the housing layer 31 having the core material and which is difficult to process, and the terminal of the capacitor is not directly connected to the external substrate, the connection reliability can be improved.

【0069】更に、本実施形態では、図6に示すように
コア基板30の通孔37の下面とチップコンデンサ20
との間に接着剤32を介在させ、通孔37の側面とチッ
プコンデンサ20との間に樹脂充填剤32aを充填して
ある。ここで、接着剤32及び樹脂充填剤32aの熱膨
張率を、コア基板30及び接着層40よりも小さく、即
ち、セラミックからなるチップコンデンサ20に近いよ
うに設定してある。このため、ヒートサイクル試験にお
いて、コア基板及び接着層40とチップコンデンサ20
との間に熱膨張率差から内応力が発生しても、コア基板
及び接着層40にクラック、剥離等が生じ難く、高い信
頼性を達成できる。また、マイグレーションの発生を防
止することも出来る。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 6, the lower surface of the through hole 37 of the core substrate 30 and the chip capacitor 20
An adhesive 32 is interposed therebetween, and a resin filler 32 a is filled between the side surface of the through hole 37 and the chip capacitor 20. Here, the thermal expansion coefficients of the adhesive 32 and the resin filler 32a are set to be smaller than those of the core substrate 30 and the adhesive layer 40, that is, close to the chip capacitor 20 made of ceramic. Therefore, in the heat cycle test, the core substrate and the adhesive layer 40 and the chip capacitor 20
Even if internal stress is generated due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the core substrate and the adhesive layer 40, cracks, peeling, and the like hardly occur, and high reliability can be achieved. Further, occurrence of migration can be prevented.

【0070】第1実施形態のプリント配線板の製造工程
について、図1〜図6を参照して説明する。先ず、心材
にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ35を4枚積層
してなる積層板31αにチップコンデンサ収容用の通孔
37を形成し、一方、プリプレグ35を2枚積層してな
る積層板31βを用意する(図1(A))。ここで、プ
リプレグとして、エポキシ以外でも、BT、フェノール
樹脂あるいはガラスクロスなどの強化材を含有したもの
を用い得る。次に、積層板31αと積層板31βとを重
ね収容層31を形成した後、通孔37内に図14(A)
を参照して上述したチップコンデンサ20を収容させる
(図1(B))。ここで、該通孔37とチップコンデン
サ20との間に接着剤32を介在させることが好適であ
る。なお、本願で用いられる樹脂や層間樹脂絶縁層は融
点が300℃以下であるため、350℃を越える温度を
加えると溶解、軟化もしくは炭化してしまう。接着剤3
2は、熱膨張率がコア基板よりも小さいものが望まし
い。
The manufacturing process of the printed wiring board according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. First, a through hole 37 for accommodating a chip capacitor is formed in a laminated plate 31α formed by laminating four prepregs 35 in which a core material is impregnated with an epoxy resin, and a laminated plate 31β formed by laminating two prepregs 35 is formed. Prepare (FIG. 1A). Here, as the prepreg, a material containing a reinforcing material such as BT, phenol resin or glass cloth other than epoxy can be used. Next, after stacking the laminated plate 31α and the laminated plate 31β to form the accommodation layer 31, FIG.
The chip capacitor 20 described above is accommodated with reference to FIG. 1 (FIG. 1B). Here, it is preferable that the adhesive 32 is interposed between the through hole 37 and the chip capacitor 20. Since the melting point of the resin and the interlayer resin insulating layer used in the present application is 300 ° C. or less, when a temperature exceeding 350 ° C. is applied, the resin is dissolved, softened, or carbonized. Adhesive 3
It is desirable that 2 has a smaller coefficient of thermal expansion than the core substrate.

【0071】なお、コア基板としてセラミックやAIN
などの基板を用いることはできなかった。該基板は外形
加工性が悪く、コンデンサを収容することができないこ
とがあり、樹脂で充填させても空隙が生じてしまうため
である。
The core substrate is made of ceramic or AIN.
Such a substrate could not be used. This is because the substrate has poor external formability, and may not be able to accommodate a capacitor, and may cause voids even when filled with resin.

【0072】次に、上記チップコンデンサ20を収容す
る積層板31α及び積層板31βからなる収容層の両面
に、樹脂フィルム(接続層)40αを積層させる(図1
(C))。そして、両面からプレスして表面を平坦にす
る。その後、加熱して硬化させることで、チップコンデ
ンサ20を収容する収容層31と接続層40とからなる
コア基板30を形成する(図1(D))。本実施形態で
は、コンデンサ20を収容した収容層31と接続層40
とを、両面に圧力を加えて張り合わせコア基板30を形
成するため、表面が平坦化される。これにより、後述す
る工程で、高い信頼性を備えるように層間樹脂絶縁層6
0及び導体回路68を積層することができる。
Next, a resin film (connection layer) 40α is laminated on both sides of the laminated layer composed of the laminated plate 31α and the laminated plate 31β for accommodating the chip capacitor 20 (FIG. 1).
(C)). And it presses from both surfaces and makes a surface flat. Thereafter, the core substrate 30 including the housing layer 31 housing the chip capacitor 20 and the connection layer 40 is formed by heating and curing (FIG. 1D). In the present embodiment, the housing layer 31 housing the capacitor 20 and the connection layer 40
The pressure is applied to both surfaces to form the core substrate 30, so that the surface is flattened. Thereby, in a process described later, the interlayer resin insulating layer 6 is formed so as to have high reliability.
0 and the conductor circuit 68 can be stacked.

【0073】なお、コア基板の通孔37の側面に樹脂充
填剤32aを充填して、気密性を高めることが好適であ
る。樹脂充填剤32aは、熱膨張率がコア基板よりも小
さいものが望ましい。また、ここでは、樹脂フィルム4
0αには、金属層のないものを用いて積層させている
が、片面に金属層を配設した樹脂フィルム(RCC)を
用いてもよい。即ち、両面板、片面板、金属膜を有しな
い樹脂板、樹脂フィルムを用いることができる。
It is preferable that the side surface of the through hole 37 of the core substrate is filled with the resin filler 32a to improve the airtightness. Desirably, the resin filler 32a has a smaller coefficient of thermal expansion than the core substrate. Also, here, the resin film 4
Although a layer having no metal layer is used for 0α, a resin film (RCC) having a metal layer disposed on one side may be used. That is, a double-sided plate, a single-sided plate, a resin plate having no metal film, and a resin film can be used.

【0074】次に、層間樹脂絶縁層40,コア基板及び
層間樹脂絶縁層40に対して、ドリルでスルーホール用
の300〜500μmの通孔33を穿設する(図2
(A))。そして、CO2レーザ、YAGレーザ、エキ
シマレーザ又はUVレーザにより上面側の層間樹脂絶縁
層40にチップコンデンサ20の第1電極21及び第2
電極22へ至る非貫通孔43を穿設する(図2
(B))。場合によっては、非貫通孔の位置に対応させ
て通孔の穿設されたエリアマスクを載置してレーザでエ
リア加工を行ってもよい。更に、バイアホールの大きさ
や径が異なる物を形成する場合には、混合のレーザによ
って形成させてもよい。この際に、導電性ペースト26
によりチップコンデンサ20の電極21,22の表面が
平滑であるため、樹脂が電極上に残ることがない。
Next, a through hole 33 of 300 to 500 μm for a through hole is drilled in the interlayer resin insulating layer 40, the core substrate and the interlayer resin insulating layer 40 by drilling (FIG. 2).
(A)). Then, the first electrode 21 and the second electrode 21 of the chip capacitor 20 are applied to the interlayer resin insulation layer 40 on the upper surface side by a CO2 laser, a YAG laser, an excimer laser, or a UV laser.
A non-through hole 43 is formed to reach the electrode 22 (see FIG. 2).
(B)). In some cases, an area mask having a through hole may be placed in correspondence with the position of the non-through hole to perform the area processing with a laser. Further, in the case where via holes having different sizes and diameters are formed, they may be formed by a mixed laser. At this time, the conductive paste 26
Accordingly, the surfaces of the electrodes 21 and 22 of the chip capacitor 20 are smooth, so that the resin does not remain on the electrodes.

【0075】その後、デスミヤ処理を施す。引き続き、
表面のパラジウム触媒を付与した後、無電解めっき液に
コア基板30を浸漬し、均一に無電解銅めっき膜44を
析出させる(図2(C))。無電解銅めっき膜44の表
面に粗化層を形成することができる。粗化層はRa(平
均粗度高さ)=0.01〜5μmである。特に望ましい
のは、0.5〜3μmの範囲である。この際に、チップ
コンデンサ20の電極21,22の表面に樹脂が残って
いないため、電極21、22に適正に無電解銅めっき膜
44を形成することができる。
Thereafter, a desmear process is performed. Continued
After applying the palladium catalyst on the surface, the core substrate 30 is immersed in the electroless plating solution to uniformly deposit the electroless copper plating film 44 (FIG. 2C). A roughened layer can be formed on the surface of the electroless copper plating film 44. The roughened layer has Ra (average roughness height) = 0.01 to 5 μm. Particularly desirable is a range of 0.5 to 3 μm. At this time, since no resin remains on the surfaces of the electrodes 21 and 22 of the chip capacitor 20, the electroless copper plating film 44 can be appropriately formed on the electrodes 21 and 22.

【0076】そして、無電解めっき膜44の表面に感光
性ドライフィルムを張り付け、マスクを載置して、露光
・現像処理し、所定パターンのレジスト51を形成する
(図3(A))。ここでは、無電解めっきを用いている
が、スパッタにより銅、ニッケル等の金属膜を形成する
ことも可能である。スパッタはコスト的には不利である
が、樹脂との密着性を改善できる利点がある。そして、
電解めっき液にコア基板30を浸漬し、無電解めっき膜
44を介して電流を流し電解銅めっき膜45を析出させ
る(図3(B))。そして、レジスト51を5%のKOH
で剥離した後、レジスト51下の無電解めっき膜44を
硫酸と過酸化水素混合液でエッチングして除去し、層間
樹脂絶縁層40の非貫通孔43にバイアホール46、接
続層40の表面に導体回路48を、コア基板30の通孔
33にスルーホール36を形成する(図3(C))。
Then, a photosensitive dry film is stuck on the surface of the electroless plating film 44, a mask is placed, and exposure and development are performed to form a resist 51 having a predetermined pattern (FIG. 3A). Here, electroless plating is used, but it is also possible to form a metal film of copper, nickel, or the like by sputtering. Sputtering is disadvantageous in cost, but has the advantage of improving the adhesion to the resin. And
The core substrate 30 is immersed in the electrolytic plating solution, and a current is passed through the electroless plating film 44 to deposit the electrolytic copper plating film 45 (FIG. 3B). Then, the resist 51 is replaced with 5% KOH
Then, the electroless plating film 44 under the resist 51 is removed by etching with a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, the non-through hole 43 of the interlayer resin insulating layer 40 is provided with the via hole 46, and the surface of the connection layer 40 is provided. In the conductor circuit 48, a through hole 36 is formed in the through hole 33 of the core substrate 30 (FIG. 3C).

【0077】導体回路48、バイアホール46及びスル
ーホール36の導体層の表面に粗化層を設ける。酸化
(黒化)−還元処理、Cu−Ni−Pからなる合金など
の無電解めっき膜、あるいは、第二銅錯体と有機酸塩か
らなるエッチング液などのエッチング処理によって粗化
層を施す。粗化層はRa(平均粗度高さ)=0.01〜
5μmである。特に望ましいのは、0.5〜3μmの範
囲である。なお、ここでは粗化層を形成しているが、粗
化層を形成せず後述するように直接樹脂を充填、樹脂フ
ィルムを貼り付けることも可能である。
A roughened layer is provided on the surface of the conductor layer of the conductor circuit 48, the via hole 46, and the through hole 36. The roughened layer is formed by an oxidation (blackening) -reduction treatment, an electroless plating film of an alloy made of Cu-Ni-P, or an etching treatment of an etching solution containing a cupric complex and an organic acid salt. The roughened layer has Ra (average roughness height) = 0.01 to
5 μm. Particularly desirable is a range of 0.5 to 3 μm. Although the roughened layer is formed here, it is also possible to directly fill the resin and attach a resin film as described later without forming the roughened layer.

【0078】引き続き、スルーホール36内に樹脂層3
8を充填させる。樹脂層としては、エポキシ樹脂等の樹
脂を主成分として導電性のない樹脂、銅などの金属ペー
ストを含有させた導電性樹脂のどちらでもよい。この場
合は、熱硬化性エポキシ樹脂に、シリカなどの熱膨張率
を整合させるために含有させたものを樹脂充填材として
充填させる。スルーホール36への樹脂38の充填後、
樹脂フィルム60αを貼り付ける(図4(A))。な
お、樹脂フィルムを貼り付ける代わりに、樹脂を塗布す
ることも可能である。樹脂フィルム60αを貼り付けた
後、フォト、レーザにより、絶縁層60αに開口径20
〜250μmであるバイアホール63を形成してから熱
硬化させる(図4(B))。その後、コア基板に触媒付
与し、無電解めっきへ浸積して、層間樹脂絶縁層60の
表面に均一に厚さ0.9μmの無電解めっき膜64を析
出させ、その後、所定のパターンをレジスト70で形成
させる(図4(C))。
Subsequently, the resin layer 3 is formed in the through hole 36.
8 is filled. As the resin layer, either a resin having no conductivity such as a resin such as an epoxy resin as a main component or a conductive resin containing a metal paste such as copper may be used. In this case, the thermosetting epoxy resin is filled with a material such as silica which is included for matching the coefficient of thermal expansion as a resin filler. After filling the through hole 36 with the resin 38,
The resin film 60α is attached (FIG. 4A). Note that a resin may be applied instead of attaching a resin film. After attaching the resin film 60α, the opening diameter 20 is formed in the insulating layer 60α by photo and laser.
A via hole 63 having a thickness of about 250 μm is formed and then thermally cured (FIG. 4B). Thereafter, a catalyst is applied to the core substrate, and the core substrate is immersed in the electroless plating to uniformly deposit an electroless plating film 64 having a thickness of 0.9 μm on the surface of the interlayer resin insulating layer 60. 70 (FIG. 4C).

【0079】電解めっき液に浸漬し、無電解めっき膜6
4を介して電流を流してレジスト70の非形成部に電解
銅めっき膜65を形成する(図5(A))。レジスト7
0を剥離除去した後、めっきレジスト下の無電解めっき
膜64を溶解除去し、無電解めっき膜64及び電解銅め
っき膜65からなるの導体回路68及びバイアホール6
6を得る(図5(B))。
Immersion in the electrolytic plating solution, the electroless plating film 6
A current is passed through the substrate 4 to form an electrolytic copper plating film 65 on the non-formed portion of the resist 70 (FIG. 5A). Resist 7
Then, the electroless plating film 64 under the plating resist is dissolved and removed, and the conductor circuit 68 including the electroless plating film 64 and the electrolytic copper plating film 65 and the via hole 6 are removed.
6 is obtained (FIG. 5B).

【0080】第2銅錯体と有機酸とを含有するエッチン
グ液により、導体回路68及びバイアホール66の表面
に粗化面(図示せず)を形成した。さらにその表面にSn
置換を行ってもよい。
A roughened surface (not shown) was formed on the surfaces of the conductor circuit 68 and the via hole 66 by using an etching solution containing a second copper complex and an organic acid. In addition, Sn on the surface
Substitutions may be made.

【0081】上述したプリント配線板にはんだバンプを
形成する。基板の両面に、ソルダーレジスト組成物を塗
布し、乾燥処理を行った後、円パターン(マスクパター
ン)が描画されたフォトマスクフィルム(図示せず)を
密着させて載置し、紫外線で露光し、現像処理する。そ
してさらに、加熱処理し、はんだパッド部分(バイアホ
ールとそのランド部分を含む)の開口部72aを有する
ソルダーレジスト層(厚み20μm)72を形成する(図
5(C))。
A solder bump is formed on the above-mentioned printed wiring board. After applying a solder resist composition to both sides of the substrate and performing a drying process, a photomask film (not shown) on which a circular pattern (mask pattern) is drawn is placed in close contact with the substrate, and is exposed to ultraviolet light. And developing. Further, a heat treatment is further performed to form a solder resist layer (thickness: 20 μm) 72 having an opening 72a in a solder pad portion (including a via hole and a land portion thereof) (FIG. 5C).

【0082】そして、ソルダーレジスト層72の開口部
72aに、半田ペーストを充填する(図示せず)。その
後、開口部72aに充填された半田を 200℃でリフロー
することにより、半田バンプ(半田体)76を形成する
(図6参照)。なお、耐食性を向上させるため、開口部
72aにNi、Au、Ag、Pdなどの金属層をめっ
き、スパッタにより形成することも可能である。
Then, the solder paste is filled into the openings 72a of the solder resist layer 72 (not shown). Thereafter, the solder filled in the opening 72a is reflowed at 200 ° C. to form a solder bump (solder body) 76 (see FIG. 6). In order to improve corrosion resistance, a metal layer such as Ni, Au, Ag, or Pd may be formed in the opening 72a by plating or sputtering.

【0083】次に、該プリント配線板へのICチップの
載置及び、ドータボードへの取り付けについて、図7を
参照して説明する。完成したプリント配線板10の半田
バンプ76にICチップ90の半田パッド92S1、9
2S2、92P1、92P2が対応するように、ICチ
ップ90を載置し、リフローを行うことで、ICチップ
90の取り付けを行う。同様に、プリント配線板10の
半田バンプ76にドータボード94のパッド96S1、
96S2、96P1、96P2をリフローすることで、
ドータボード94へプリント配線板10を取り付ける。
Next, mounting of the IC chip on the printed wiring board and mounting on the daughter board will be described with reference to FIG. Solder pads 92S1, 9 of IC chip 90 are applied to solder bumps 76 of completed printed wiring board 10.
The IC chip 90 is mounted so that the 2S2, 92P1, and 92P2 correspond to each other, and the IC chip 90 is attached by performing reflow. Similarly, the pads 96S1 of the daughter board 94 are attached to the solder bumps 76 of the printed wiring board 10,
By reflowing 96S2, 96P1, 96P2,
The printed wiring board 10 is attached to the daughter board 94.

【0084】引き続き、本発明の第1実施形態の改変例
に係るプリント配線板について、図8を参照して説明す
る。改変例のプリント配線板は、上述した第1実施形態
とほぼ同様である。但し、この改変例のプリント配線板
では、導電性ピン84が配設され、該導電性ピン84を
介してドータボードとの接続を取るように形成されてい
る。
Next, a printed wiring board according to a modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the modified example is substantially the same as the above-described first embodiment. However, in the printed wiring board of this modified example, the conductive pins 84 are provided, and are formed so as to be connected to the daughter board via the conductive pins 84.

【0085】図14(B)に第1改変例に係るチップコ
ンデンサ20の断面を示す。第1実施形態では、コンデ
ンサの表面に粗化処理を施し、樹脂との密着性を高めた
が、改変例では、この代わりに、ポリイミド膜23bを
形成しておくことで、表面濡れ性を改善し、接着剤32
及び層間樹脂絶縁層40との密着性を高め、層間樹脂絶
縁層40の剥離を防止してある。ポリイミド膜の代わり
に、コンデンサの表面にシランカップリング処理を施す
ことも可能である。
FIG. 14B shows a cross section of a chip capacitor 20 according to a first modification. In the first embodiment, the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment to improve the adhesiveness with the resin. However, in a modified example, a polyimide film 23b is formed instead to improve the surface wettability. And adhesive 32
Further, the adhesion to the interlayer resin insulating layer 40 is enhanced, and peeling of the interlayer resin insulating layer 40 is prevented. Instead of the polyimide film, the surface of the capacitor may be subjected to a silane coupling treatment.

【0086】また、第1改変例では、導電性ペースト2
6の上に、無電解銅めっき膜28a及び電解銅めっき膜
28bからなる複合金属膜28を形成されている。複合
金属膜28の厚みは、0.1〜10μmが望ましく、1
〜5μmが最適である。複合金属膜の代わりに、1層の
金属膜を形成することも可能である。
In the first modification, the conductive paste 2
6, a composite metal film 28 composed of an electroless copper plating film 28a and an electrolytic copper plating film 28b is formed. The thickness of the composite metal film 28 is desirably 0.1 to 10 μm.
55 μm is optimal. Instead of a composite metal film, it is also possible to form a single-layer metal film.

【0087】第1改変例では、コンデンサ20の電極2
1,22の導電性ペースト26上に金属層28を設けて
あるため、電極21、22でのマイグレーションの発生
を防止することができ、また、接続抵抗を更に低減する
ことができる。メタライズからなる電極21、22は表
面に凹凸があるが、導電性ペースト26を塗布し、更
に、金属層28を設けることで凹凸を完全に無くすこと
ができ、銅めっきからなるバイアホール46との密着性
を高め、接続抵抗を下げることができる。
In the first modified example, the electrode 2 of the capacitor 20
Since the metal layer 28 is provided on the conductive pastes 1 and 22, the occurrence of migration at the electrodes 21 and 22 can be prevented, and the connection resistance can be further reduced. The electrodes 21 and 22 made of metallization have irregularities on the surface. However, by applying a conductive paste 26 and further providing a metal layer 28, the irregularities can be completely eliminated. Adhesion can be enhanced and connection resistance can be reduced.

【0088】また、上述した第1実施形態では、コア基
板30に収容されるチップコンデンサ20のみを備えて
いたが、第1改変例では、表面及び裏面に大容量のチッ
プコンデンサ86が実装されている。
In the first embodiment described above, only the chip capacitor 20 housed in the core substrate 30 is provided. However, in the first modification, a large-capacity chip capacitor 86 is mounted on the front and back surfaces. I have.

【0089】ICチップは、瞬時的に大電力を消費して
複雑な演算処理を行う。ここで、ICチップ側に大電力
を供給するために、第1改変例では、プリント配線板に
電源用のチップコンデンサ20及びチップコンデンサ8
6を備えてある。このチップコンデンサによる効果につ
いて、図15を参照して説明する。
The IC chip instantaneously consumes a large amount of power and performs complicated arithmetic processing. Here, in order to supply large power to the IC chip side, in the first modified example, the chip capacitor 20 and the chip capacitor 8 for power supply are mounted on the printed wiring board.
6 is provided. The effect of this chip capacitor will be described with reference to FIG.

【0090】図15は、縦軸にICチップへ供給される
電圧を、横軸に時間を取ってある。ここで、二点鎖線C
は、電源用コンデンサを備えないプリント配線板の電圧
変動を示している。電源用コンデンサを備えない場合に
は、大きく電圧が減衰する。破線Aは、表面にチップコ
ンデンサを実装したプリント配線板の電圧変動を示して
いる。上記二点鎖線Cと比較して電圧は大きく落ち込ま
ないが、ループ長さが長くなるので、律速の電源供給が
十分に行えていない。即ち、電力の供給開始時に電圧が
降下している。また、二点鎖線Bは、図6を参照して上
述したチップコンデンサを内蔵するプリント配線板の電
圧降下を示している。ループ長さは短縮できているが、
コア基板30に容量の大きなチップコンデンサを収容す
ることができないため、電圧が変動している。ここで、
実線Eは、図8を参照して上述したコア基板内のチップ
コンデンサ20を、また表面に大容量のチップコンデン
サ86を実装する第1改変例のプリント配線板の電圧変
動を示している。ICチップの近傍にチップコンデンサ
20を、また、大容量(及び相対的に大きなインダクタ
ンス)のチップコンデンサ86を備えることで、電圧変
動を最小に押さえている。
FIG. 15 shows the voltage supplied to the IC chip on the vertical axis and the time on the horizontal axis. Here, the two-dot chain line C
Indicates voltage fluctuation of a printed wiring board without a power supply capacitor. When the power supply capacitor is not provided, the voltage greatly decreases. A broken line A indicates a voltage fluctuation of a printed wiring board having a chip capacitor mounted on the surface. Although the voltage does not drop much as compared with the two-dot chain line C, the rate-limiting power supply cannot be performed sufficiently because the loop length is long. That is, the voltage drops at the start of power supply. A two-dot chain line B indicates a voltage drop of the printed wiring board including the chip capacitor described above with reference to FIG. Although the loop length has been shortened,
Since a large-capacity chip capacitor cannot be accommodated in the core substrate 30, the voltage fluctuates. here,
A solid line E indicates the voltage fluctuation of the printed wiring board of the first modification in which the chip capacitor 20 in the core substrate described above with reference to FIG. 8 and the large-capacity chip capacitor 86 are mounted on the surface. By providing the chip capacitor 20 near the IC chip and the chip capacitor 86 having a large capacity (and a relatively large inductance), voltage fluctuation is minimized.

【0091】引き続き、本発明の第1実施形態の第2改
変例に係るプリント配線板について、図11を参照して
説明する。第2改変例のプリント配線板は、上述した第
1実施形態とほぼ同様である。但し、第1実施形態で
は、コア基板30が収容層31の両面に接続層40が配
設されたが、第2実施形態では、収容層31の上面にの
み接続層40が配設されている。なお、チップコンデン
サの電極には、第1実施形態と同様に導電性ペースト、
或いは、第1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペー
スト及び複合金属層が形成されている。
Next, a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the second modified example is almost the same as the above-described first embodiment. However, in the first embodiment, the connection layers 40 are provided on both sides of the core substrate 30 of the housing layer 31, but in the second embodiment, the connection layers 40 are provided only on the upper surface of the housing layer 31. . In addition, the conductive paste and the electrode of the chip capacitor are provided in the same manner as in the first embodiment.
Alternatively, similarly to the first modification of the first embodiment, the conductive paste and the composite metal layer are formed.

【0092】第1実施形態の第2改変例に係るプリント
配線板の製造工程について、図9及び図10を参照して
説明する。先ず、エポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ
35を4枚積層してなる積層板31αにチップコンデン
サ収容用の通孔37を形成し、一方、プリプレグ35を
2枚積層してなる積層板31βを用意する(図9
(A))。次に、積層板31βの、積層板31αの通孔
形成位置に対応させて接着材32を介してチップコンデ
ンサ20を載置する(図9(B))。そして、積層板3
1αと積層板31βとを重ねチップコンデンサ20の収
容層31を形成する(図9(C))。
The manufacturing process of the printed wiring board according to the second modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. First, a through hole 37 for accommodating a chip capacitor is formed in a laminated plate 31α formed by laminating four prepregs 35 impregnated with epoxy resin, and a laminated plate 31β formed by laminating two prepregs 35 is prepared. (FIG. 9
(A)). Next, the chip capacitor 20 is mounted on the laminated plate 31β via the adhesive 32 so as to correspond to the through hole forming position of the laminated plate 31α (FIG. 9B). And the laminate 3
1α and the laminated plate 31β are overlapped to form the housing layer 31 of the chip capacitor 20 (FIG. 9C).

【0093】次に、上記チップコンデンサ20を収容す
る積層板31α及び積層板31βからなる収容層31の
上面に、樹脂フィルム(接続層)40αを積層させる
(図9(D))。そして、両面からプレスして表面を平
坦にする。その後、加熱して硬化させることで、チップ
コンデンサ20を収容する収容層31と接続層40とか
らなるコア基板30を形成する(図10(A))。本実
施形態では、コンデンサ20を収容した収容層31と接
続層40とを、両面に圧力を加えて張り合わせコア基板
30を形成するため、表面が平坦化される。これによ
り、高い信頼性を備えるように層間樹脂絶縁層60及び
導体回路68を積層することができる。
Next, a resin film (connection layer) 40α is laminated on the upper surface of the accommodation layer 31 composed of the laminate 31α and the laminate 31β accommodating the chip capacitor 20 (FIG. 9D). And it presses from both surfaces and makes a surface flat. Thereafter, the core substrate 30 including the housing layer 31 housing the chip capacitor 20 and the connection layer 40 is formed by heating and curing (FIG. 10A). In the present embodiment, the housing layer 31 housing the capacitor 20 and the connection layer 40 are bonded to each other by applying pressure to both surfaces to form the core substrate 30, so that the surface is flattened. Thereby, the interlayer resin insulating layer 60 and the conductor circuit 68 can be laminated so as to have high reliability.

【0094】次に、層間樹脂絶縁層40,コア基板及び
層間樹脂絶縁層40に対して、ドリルでスルーホール用
の300〜500μmの通孔33を穿設する(図10
(B))。そして、CO2レーザ、YAGレーザ、エキ
シマレーザ又はUVレーザにより上面側の層間樹脂絶縁
層40にチップコンデンサ20の第1電極21及び第2
電極22へ至る非貫通孔43を穿設する(図10
(C))。以降の工程は、図2〜図6を参照して上述し
た第1実施形態と同様であるため、説明を省略する。
Next, a through hole 33 of 300 to 500 μm for a through hole is formed in the interlayer resin insulating layer 40, the core substrate and the interlayer resin insulating layer 40 by drilling (FIG. 10).
(B)). Then, the first electrode 21 and the second electrode 21 of the chip capacitor 20 are applied to the interlayer resin insulation layer 40 on the upper surface side by a CO2 laser, a YAG laser, an excimer laser, or a UV laser.
A non-through hole 43 leading to the electrode 22 is formed (FIG. 10).
(C)). Subsequent steps are the same as in the first embodiment described above with reference to FIGS.

【0095】引き続き、本発明の第1実施形態の第3改
変例に係るプリント配線板について、図13を参照して
説明する。第2改変例のプリント配線板は、上述した第
1実施形態の第2改変例とほぼ同様である。但し、第2
改変例では、コア基板30のICチップ側にみにバイア
ホール46が配設されたが、第3改変例では、ICチッ
プ側のみならず、ドータボード側にもバイアホール46
が配設されている。なお、チップコンデンサの電極に
は、第1実施形態と同様に導電性ペースト、或いは、第
1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペースト及び複
合金属層が形成されている。
Next, a printed wiring board according to a third modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the second modification is substantially the same as the second modification of the above-described first embodiment. However, the second
In the modified example, the via hole 46 is provided only on the IC chip side of the core substrate 30, but in the third modified example, the via hole 46 is provided not only on the IC chip side but also on the daughter board side.
Are arranged. A conductive paste is formed on the electrode of the chip capacitor as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0096】この第3改変例においては、裏面側にもバ
イアホール46が配設されているため、チップコンデン
サ20とドータボードとの配線長を短くすることができ
る。
In the third modification, since the via hole 46 is provided also on the back surface side, the wiring length between the chip capacitor 20 and the daughter board can be shortened.

【0097】第3改変例に係るプリント配線板の製造工
程について、図12を参照して説明する。先ず、エポキ
シ樹脂を含浸させたプリプレグ35を4枚積層してなる
積層板31αにチップコンデンサ収容用の通孔37を形
成する。一方、プリプレグ35を2枚積層してなる積層
板31βのチップコンデンサ搭載位置に電極へ至る通孔
39を穿設する(図12(A))。次に、積層板31β
の、積層板31αの通孔形成位置に対応させて接着材3
2を介してチップコンデンサ20を載置する(図12
(B))。そして、積層板31αと積層板31βとを重
ね収容層31を形成する(図12(C))。
A manufacturing process of a printed wiring board according to the third modification will be described with reference to FIG. First, through holes 37 for accommodating chip capacitors are formed in a laminated plate 31α formed by laminating four prepregs 35 impregnated with epoxy resin. On the other hand, a through-hole 39 leading to an electrode is formed at a chip capacitor mounting position of a laminated plate 31β formed by laminating two prepregs 35 (FIG. 12A). Next, the laminated plate 31β
Of the adhesive 3 corresponding to the through hole forming position of the laminated plate 31α.
The chip capacitor 20 is placed via the second capacitor 2 (FIG. 12).
(B)). Then, the laminated plate 31α and the laminated plate 31β are overlapped to form the accommodation layer 31 (FIG. 12C).

【0098】次に、収容層31の上面に、樹脂フィルム
(接続層)40αを積層させる(図12(D))。そし
て、両面からプレスして表面を平坦にする。その後、加
熱して硬化させることで、チップコンデンサ20を収容
する収容層31と接続層40とからなるコア基板30を
形成する(図13参照)。以降の工程は、図2〜図6を
参照して上述した第1実施形態と同様であるため、説明
を省略する。
Next, a resin film (connection layer) 40α is laminated on the upper surface of the housing layer 31 (FIG. 12D). And it presses from both surfaces and makes a surface flat. Thereafter, the core substrate 30 including the housing layer 31 housing the chip capacitor 20 and the connection layer 40 is formed by heating and curing (see FIG. 13). Subsequent steps are the same as in the first embodiment described above with reference to FIGS.

【0099】引き続き、本発明の第2実施形態に係るプ
リント配線板の構成について図16を参照して説明す
る。この第2実施形態のプリント配線板の構成は、上述
した第1実施形態とほぼ同様である。但し、コア基板3
0への収容されるチップコンデンサ20が異なる。図1
6は、チップコンデンサの平面図を示している。図16
(A)は、多数個取り用の裁断前のチップコンデンサを
示し、図中で一点鎖線は、裁断線を示している。上述し
た第1実施形態のプリント配線板では、図16(B)に
平面図を示すようにチップコンデンサの側縁に第1電極
21及び第2電極22を配設してある。図16(C)
は、第2実施形態の多数個取り用の裁断前のチップコン
デンサを示し、図中で一点鎖線は、裁断線を示してい
る。第2実施形態のプリント配線板では、図16(D)
に平面図を示すようにチップコンデンサの側縁の内側に
第1電極21及び第2電極22を配設してある。なお、
チップコンデンサの電極には、第1実施形態と同様に導
電性ペースト、或いは、第1実施形態の第1改変例と同
様に導電性ペースト及び複合金属層が形成されている。
この第2実施形態のプリント配線板では、外縁の内側に
電極の形成されたチップコンデンサ20を用いるため、
容量の大きなチップコンデンサを用いることができる。
Next, the configuration of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of the printed wiring board of the second embodiment is substantially the same as that of the above-described first embodiment. However, the core substrate 3
The chip capacitors 20 housed to 0 are different. Figure 1
6 shows a plan view of the chip capacitor. FIG.
(A) shows a chip capacitor for multi-piece cutting before cutting, and a dashed line in the drawing shows a cutting line. In the printed wiring board of the first embodiment described above, the first electrode 21 and the second electrode 22 are provided on the side edges of the chip capacitor as shown in the plan view of FIG. FIG. 16 (C)
Shows a chip capacitor for multi-cavity before cutting according to the second embodiment, and a dashed line in the drawing indicates a cutting line. In the printed wiring board of the second embodiment, FIG.
As shown in the plan view, a first electrode 21 and a second electrode 22 are provided inside the side edge of the chip capacitor. In addition,
A conductive paste is formed on the electrode of the chip capacitor as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.
In the printed wiring board of the second embodiment, since the chip capacitor 20 having the electrode formed inside the outer edge is used,
A chip capacitor having a large capacity can be used.

【0100】引き続き、第2実施形態の第1改変例に係
るプリント配線板について図17を参照して説明する。
図17は、第1改変例に係るプリント配線板のコア基板
に収容されるチップコンデンサ20の平面図を示してい
る。上述した第1実施形態では、複数個の小容量のチッ
プコンデンサをコア基板に収容したが、第1改変例で
は、大容量の大判のチップコンデンサ20をコア基板に
収容してある。ここで、チップコンデンサ20は、第1
電極21と第2電極22と、誘電体23と、第1電極2
1へ接続された第1導電膜24と、第2電極22側に接
続された第2導電膜25と、第1導電膜24及び第2導
電膜25へ接続されていないチップコンデンサの上下面
の接続用の電極27とから成る。この電極27を介して
ICチップ側とドータボード側とが接続されている。な
お、チップコンデンサの電極には、第1実施形態と同様
に導電性ペースト、或いは、第1実施形態の第1改変例
と同様に導電性ペースト及び複合金属層が形成されてい
る。
Subsequently, a printed wiring board according to a first modification of the second embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 17 is a plan view of the chip capacitor 20 housed in the core substrate of the printed wiring board according to the first modification. In the above-described first embodiment, a plurality of small-capacity chip capacitors are housed in the core substrate. In the first modification, a large-capacity large-format chip capacitor 20 is housed in the core substrate. Here, the chip capacitor 20 is
The electrode 21, the second electrode 22, the dielectric 23, and the first electrode 2
1, a second conductive film 25 connected to the second electrode 22 side, and upper and lower surfaces of a chip capacitor not connected to the first conductive film 24 and the second conductive film 25. And a connection electrode 27. The IC chip side and the daughter board side are connected via the electrodes 27. A conductive paste is formed on the electrode of the chip capacitor as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0101】この第1改変例のプリント配線板では、大
判のチップコンデンサ20を用いるため、容量の大きな
チップコンデンサを用いることができる。また、大判の
チップコンデンサ20を用いるため、ヒートサイクルを
繰り返してもプリント配線板に反りが発生することがな
い。
In the printed wiring board of the first modified example, since the large-sized chip capacitor 20 is used, a large-capacity chip capacitor can be used. Further, since the large chip capacitor 20 is used, the printed wiring board does not warp even if the heat cycle is repeated.

【0102】図18を参照して第2改変例に係るプリン
ト配線板について説明する。図18(A)は、多数個取
り用の裁断前のチップコンデンサを示し、図中で一点鎖
線は、通常の裁断線を示し、図18(B)は、チップコ
ンデンサの平面図を示している。図18(B)に示すよ
うに、この第2改変例では、多数個取り用のチップコン
デンサを複数個(図中の例では3枚)連結させて大判で
用いている。なお、チップコンデンサの電極には、第1
実施形態と同様に導電性ペースト、或いは、第1実施形
態の第1改変例と同様に導電性ペースト及び複合金属層
が形成されている。
A printed wiring board according to a second modification will be described with reference to FIG. FIG. 18A shows a chip capacitor before cutting for multi-cavity cutting, in which a dashed line indicates a normal cutting line, and FIG. 18B shows a plan view of the chip capacitor. . As shown in FIG. 18B, in the second modification, a plurality of chip capacitors (three in the example in the figure) for multi-cavity are connected and used in a large format. The first electrode of the chip capacitor
A conductive paste and a composite metal layer are formed as in the embodiment, or as in the first modification of the first embodiment.

【0103】この第2改変例では、大判のチップコンデ
ンサ20を用いるため、容量の大きなチップコンデンサ
を用いることができる。また、大判のチップコンデンサ
20を用いるため、ヒートサイクルを繰り返してもプリ
ント配線板に反りが発生することがない。
In the second modification, a large-sized chip capacitor 20 is used, so that a large-capacity chip capacitor can be used. Further, since the large chip capacitor 20 is used, the printed wiring board does not warp even if the heat cycle is repeated.

【0104】上述した実施形態では、チップコンデンサ
をプリント配線板に内蔵させたが、チップコンデンサの
代わりに、セラミック板に導電体膜を設けてなる板状の
コンデンサを用いることも可能である。
In the above-described embodiment, the chip capacitor is built in the printed wiring board. However, instead of the chip capacitor, it is also possible to use a plate-like capacitor in which a conductive film is provided on a ceramic plate.

【0105】ここで、第1実施形態のプリント配線板に
ついて、コア基板内に埋め込んだチップコンデンサ20
のインダクタンスと、プリント配線板の裏面(ドータボ
ード側の面)に実装したチップコンデンサのインダクタ
ンスとを測定した値を示す。 コンデンサ単体の場合 埋め込み形 137pH 裏面実装形 287pH コンデンサを8個並列に接続した場合 埋め込み形 60pH 裏面実装形 72pH 以上のように、コンデンサを単体で用いても、容量を増
大させるため並列に接続した場合にも、チップコンデン
サを内蔵することでインダクタンスを低減できる。
Here, with respect to the printed wiring board of the first embodiment, the chip capacitor 20 embedded in the core substrate is used.
And the inductance of the chip capacitor mounted on the back surface of the printed wiring board (the surface on the daughter board side) are shown. In case of single capacitor Embedded type 137pH Backside mounted type 287pH When 8 capacitors are connected in parallel Embedded type 60pH Backside mounted type 72pH As shown above, when using a single capacitor, it is connected in parallel to increase the capacity In addition, the inductance can be reduced by incorporating a chip capacitor.

【0106】次に、信頼性試験を行った結果について説
明する。ここでは、第1実施形態のプリント配線板にお
いて、1個のチップコンデンサの静電容量の変化率を測
定した。 静電容量変化率 (測定周波数100Hz) (測定周波数1kHz) Steam 168時間: 0.3% 0.4% HAST 100時間: -0.9% -0.9% TS 1000cycles: 1.1% 1.3%
Next, the results of the reliability test will be described. Here, the rate of change of the capacitance of one chip capacitor in the printed wiring board of the first embodiment was measured. Capacitance change rate (measuring frequency 100Hz) (measuring frequency 1kHz) Steam 168 hours: 0.3% 0.4% HAST 100 hours: -0.9% -0.9% TS 1000cycles: 1.1% 1.3%

【0107】Steam試験は、蒸気に当て湿度100%に
保った。また、HAST試験では、相対湿度100%、
印加電圧1.3V、温度121℃で100時間放置し
た。TS試験では、−125℃で30分、55℃で30
分放置する試験を1000回線り返した。
In the steam test, the humidity was adjusted to 100% by exposure to steam. In the HAST test, the relative humidity was 100%,
It was left at an applied voltage of 1.3 V and a temperature of 121 ° C. for 100 hours. In the TS test, 30 minutes at -125 ° C and 30 minutes at 55 ° C
The test of standing for 1000 minutes was repeated 1000 times.

【0108】上記信頼性試験において、チップコンデン
サを内蔵するプリント配線板においても、既存のコンデ
ンサ表面実装形と同等の信頼性が達成できていることが
分かった。また、上述したように、TS試験において、
セラミックから成るコンデンサと、樹脂からなるコア基
板及び層間樹脂絶縁層の熱膨張率の違いから、内部応力
が発生しても、チップコンデンサの端子とバイアホール
との間に断線、チップコンデンサと層間樹脂絶縁層との
間で剥離、層間樹脂絶縁層にクラックが発生せず、長期
に渡り高い信頼性を達成できることが判明した。
In the above reliability test, it was found that a printed wiring board having a built-in chip capacitor could achieve the same reliability as an existing capacitor surface mount type. As described above, in the TS test,
Due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the ceramic capacitor and the resin core substrate and interlayer resin insulation layer, even if internal stress occurs, disconnection between the chip capacitor terminal and the via hole, chip capacitor and interlayer resin It has been found that high reliability can be achieved for a long period without peeling from the insulating layer or cracking in the interlayer resin insulating layer.

【0109】[0109]

【発明の効果】本願発明の構造により、インダクタンス
を起因とする電気特性の低下することはない。また、コ
ンデンサの電極の表面に導電ペーストを塗布してあるた
め、表面が完全にフラットになる。このため、樹脂層に
レーザで開口を穿設した際に、電極の表面に樹脂が残る
ことが無くなり、該電極とめっきによるバイアホールと
の接続信頼性を高めることができる。更に、コア基板と
コンデンサの間に樹脂が充填されているので、コンデン
サなどが起因する応力が発生しても緩和されるし、マイ
グレーションの発生がない。そのために、コンデンサの
電極とバイアホールの接続部への剥離や溶解などの影響
がない。そのために、信頼性試験を実施しても所望の性
能を保つことができるのである。また、コンデンサの電
極を銅によって被覆している場合にも、マイグレーショ
ンの発生を防止することができる。
According to the structure of the present invention, the electric characteristics caused by the inductance do not decrease. Further, since the conductive paste is applied to the surfaces of the electrodes of the capacitor, the surface becomes completely flat. Therefore, when an opening is formed in the resin layer by laser, the resin does not remain on the surface of the electrode, and the connection reliability between the electrode and the via hole by plating can be improved. Further, since the resin is filled between the core substrate and the capacitor, even if stress caused by the capacitor or the like is generated, the stress is reduced and migration does not occur. Therefore, there is no influence such as peeling or melting of the connection portion between the electrode of the capacitor and the via hole. Therefore, desired performance can be maintained even if a reliability test is performed. Also, even when the electrodes of the capacitor are covered with copper, the occurrence of migration can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 5 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図6】第1実施形態に係るプリント配線板の断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment.

【図7】第1実施形態に係るプリント配線板の断面図で
ある。
FIG. 7 is a cross-sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment.

【図8】第1実施形態の第1改変例に係るプリント配線
板の断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a first modification of the first embodiment.

【図9】第1実施形態の第2改変例に係るプリント配線
板の製造工程図である。
FIG. 9 is a manufacturing process diagram of a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment.

【図10】第1実施形態の第2改変例に係るプリント配
線板の製造工程図である。
FIG. 10 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the second modified example of the first embodiment.

【図11】第1実施形態の第2改変例に係るプリント配
線板の断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment.

【図12】第1実施形態の第3改変例に係るプリント配
線板の製造工程図である。
FIG. 12 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the third modified example of the first embodiment.

【図13】第1実施形態の第3改変例に係るプリント配
線板の断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a third modification of the first embodiment.

【図14】(A)は、第1実施形態のチップコンデンサ
の断面図であり、(B)は、第1実施形態の第1改変例
のチップコンデンサの断面図である。
FIG. 14A is a cross-sectional view of a chip capacitor according to the first embodiment, and FIG. 14B is a cross-sectional view of a chip capacitor according to a first modification of the first embodiment.

【図15】ICチップへの供給電圧と時間との変化を示
すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing changes in supply voltage to an IC chip and time.

【図16】(A)、(B)、(C)、(D)は、第2実
施形態のプリント配線板のチップコンデンサの平面図で
ある。
FIGS. 16A, 16B, 16C, and 16D are plan views of a chip capacitor of a printed wiring board according to a second embodiment.

【図17】第2実施形態の第1改変例に係るプリント配
線板のチップコンデンサの平面図である。
FIG. 17 is a plan view of a chip capacitor of a printed wiring board according to a first modification of the second embodiment.

【図18】(A)、(B)は、第2実施形態の第2改変
例に係るプリント配線板のチップコンデンサの平面図で
ある。
FIGS. 18A and 18B are plan views of a chip capacitor of a printed wiring board according to a second modification of the second embodiment.

【図19】(A)及び(B)は、従来技術に係るプリン
ト配線板のループインダクタンスの説明図である。
FIGS. 19A and 19B are explanatory diagrams of a loop inductance of a printed wiring board according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 プリント配線板 20 チップコンデンサ 21 第1電極 22 第2電極 23 誘電体 23a 粗化面 23b ポイリミド膜 26 導電性ペースト 28a 無電解銅めっき膜 28b 電解銅めっき膜 28 複合金属膜 30 コア基板 31 収容層 36 スルーホール 37 通孔 39 通孔 40 接続層 43 非貫通孔 46 バイアホール 48 導体回路 60 層間樹脂絶縁層 66 バイアホール 68 導体回路 84 導電性ピン 90 ICチップ 94 ドータボード DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Printed wiring board 20 Chip capacitor 21 First electrode 22 Second electrode 23 Dielectric 23a Roughened surface 23b Polyimide film 26 Conductive paste 28a Electroless copper plating film 28b Electrolytic copper plating film 28 Composite metal film 30 Core substrate 31 Housing layer 36 Through hole 37 Through hole 39 Through hole 40 Connection layer 43 Non-through hole 46 Via hole 48 Conductor circuit 60 Interlayer resin insulation layer 66 Via hole 68 Conductor circuit 84 Conductive pin 90 IC chip 94 Daughter board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E336 AA04 AA08 AA16 BB03 BB15 BC02 BC26 CC32 CC36 CC43 CC53 CC55 DD28 EE07 EE08 EE17 GG05 GG09 GG11 GG16 5E346 AA12 AA15 AA32 AA43 AA51 BB16 BB20 CC08 CC32 DD22 DD33 DD34 EE31 EE33 EE35 EE38 FF04 FF07 FF13 FF14 FF17 FF18 FF45 GG15 GG17 GG18 GG19 GG22 GG27 GG28 HH02 HH31  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E336 AA04 AA08 AA16 BB03 BB15 BC02 BC26 CC32 CC36 CC43 CC53 CC55 DD28 EE07 EE08 EE17 GG05 GG09 GG11 GG16 5E346 AA12 AA15 AA32 AA43 AA51 BB16 BB20 CC33 EE EE DD EE FF04 FF07 FF13 FF14 FF17 FF18 FF45 GG15 GG17 GG18 GG19 GG22 GG27 GG28 HH02 HH31

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コア基板に樹脂絶縁層と導体回路とを積
層してなるプリント配線板であって、 前記コア基板は、少なくとも1層以上である絶縁樹脂層
で形成された接続層と、コンデンサ収納し2層以上の樹
脂層からなる収容層と、から構成され、 前記コンデンサのメタライズからなる電極の表面には、
導電性ペーストが塗布されていることを特徴とするプリ
ント配線板。
1. A printed wiring board comprising a resin insulating layer and a conductive circuit laminated on a core substrate, wherein the core substrate comprises a connection layer formed of at least one or more insulating resin layers, and a capacitor. And a housing layer made of two or more resin layers housed therein.
A printed wiring board to which a conductive paste is applied.
【請求項2】 コア基板に樹脂絶縁層と導体回路とを積
層してなるプリント配線板であって、 前記コア基板は、少なくとも1層以上である絶縁樹脂層
で形成された接続層と、コンデンサ収納し2層以上の樹
脂層からなる収容層でから構成され、両面にコンデンサ
と接続させるビアが形成され、 前記コンデンサのメタライズからなる電極の表面には、
導電性ペーストが塗布されていることを特徴とするプリ
ント配線板。
2. A printed wiring board comprising a resin insulating layer and a conductor circuit laminated on a core substrate, wherein the core substrate includes a connection layer formed of at least one or more insulating resin layers, and a capacitor. It is composed of an encasing layer composed of two or more resin layers that are accommodated and formed on both sides with vias to be connected to the capacitor.
A printed wiring board to which a conductive paste is applied.
【請求項3】 前記コンデンサの電極の導電性ペースト
上に金属層を設けたことを特徴とする請求項1又は請求
項2のプリント配線板。
3. The printed wiring board according to claim 1, wherein a metal layer is provided on the conductive paste of the electrodes of the capacitor.
【請求項4】 前記コンデンサの表面に、粗化処理を施
したことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1
のプリント配線板。
4. The capacitor according to claim 1, wherein the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment.
Printed wiring board.
【請求項5】 前記コンデンサの表面に、表面の濡れ性
改善処理を施したことを特徴とする請求項1〜請求項3
のいずれか1のプリント配線板。
5. The capacitor according to claim 1, wherein the surface of the capacitor is subjected to a surface wettability improving treatment.
Any one of the printed wiring boards.
【請求項6】 前記コア基板に形成されたバイアホール
は、めっきあるいはスパッタ、蒸着から選ばれる金属膜
からなることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれ
か1のプリント配線板。
6. The printed wiring board according to claim 1, wherein the via hole formed in the core substrate is made of a metal film selected from plating, sputtering, and vapor deposition.
【請求項7】 前記収容層と前記コンデンサとは絶縁性
接着剤で接合されていることを特徴とする請求項1〜請
求項6のいずれか1に記載のプリント配線板。
7. The printed wiring board according to claim 1, wherein the housing layer and the capacitor are joined with an insulating adhesive.
【請求項8】 前記コンデンサを複数個収容し、コンデ
ンサ間にICチップと外部基板との接続用配線を配設し
たことを特徴とする請求項1〜請求項7の内1に記載の
プリント配線板。
8. The printed wiring according to claim 1, wherein a plurality of the capacitors are accommodated, and a wiring for connecting an IC chip and an external substrate is provided between the capacitors. Board.
【請求項9】 前記プリント配線板の表面にコンデンサ
を実装したことを特徴とする請求項1〜請求項8の内1
に記載のプリント配線板。
9. The printed circuit board according to claim 1, wherein a capacitor is mounted on a surface of the printed wiring board.
A printed wiring board according to claim 1.
【請求項10】 前記表面のチップコンデンサの静電容
量は、内層のチップコンデンサの静電容量以上であるこ
とを特徴とする請求項9に記載のプリント配線板。
10. The printed wiring board according to claim 9, wherein the capacitance of the chip capacitor on the front surface is equal to or larger than the capacitance of the chip capacitor in the inner layer.
【請求項11】 前記表面のチップコンデンサのインダ
クタンスは、内層のチップコンデンサのインダクタンス
以上であることを特徴とする請求項9に記載のプリント
配線板。
11. The printed wiring board according to claim 9, wherein the inductance of the chip capacitor on the surface is equal to or greater than the inductance of the chip capacitor in the inner layer.
【請求項12】 前記コンデンサとして、外縁の内側に
電極が形成されたチップコンデンサを用いたことを特徴
とする請求項1〜請求項11の内1に記載のプリント配
線板。
12. The printed wiring board according to claim 1, wherein a chip capacitor having an electrode formed inside an outer edge is used as the capacitor.
【請求項13】 前記コンデンサとして、マトリクス状
に電極を形成されたチップコンデンサを用いたことを特
徴とする請求項1〜請求項12の内1に記載のプリント
配線板
13. The printed wiring board according to claim 1, wherein a chip capacitor having electrodes formed in a matrix is used as said capacitor.
【請求項14】 前記コンデンサとして、多数個取り用
のチップコンデンサを複数個連結させて用いたことを特
徴とする請求項1〜請求項13の内1に記載のプリント
配線板。
14. The printed wiring board according to claim 1, wherein a plurality of chip capacitors for multi-cavity are connected and used as said capacitor.
【請求項15】 前記絶縁性接着剤は、前記収容層より
も熱膨張率が小さいことを特徴とする請求項4に記載の
プリント配線板。
15. The printed wiring board according to claim 4, wherein the insulating adhesive has a lower coefficient of thermal expansion than the housing layer.
【請求項16】 少なくとも以下(a)〜(e)の工程
を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法: (a)心材に樹脂を含有させてなる第1の樹脂材料にコ
ンデンサ収容用の通孔を形成する工程; (b)前記通孔を形成した第1の樹脂材料に、第2の樹
脂材料を貼り付けて、コンデンサ収容部を有する収容層
を形成する工程; (c)前記収容層にメタライズ電極の上に導電性ペース
トを塗布したコンデンサを収納する工程; (d)前記(c)工程の収容層に第3の絶縁樹脂層を張
り付けてコア基板を形成する工程; (e)前記第3の絶縁樹脂層に前記コンデンサの電極へ
至る開口を設けてバイアホールを形成する工程。
16. A method for producing a printed wiring board, comprising at least the following steps (a) to (e): (a) a capacitor containing resin in a core material in a first resin material; Forming a through-hole; (b) attaching a second resin material to the first resin material having the through-hole to form a housing layer having a capacitor housing portion; (E) a step of housing a capacitor having a conductive paste applied on the metallized electrode in the housing layer; (d) a step of attaching a third insulating resin layer to the housing layer in the step (c) to form a core substrate; Forming a via hole in the third insulating resin layer to reach an electrode of the capacitor;
【請求項17】 少なくとも以下(a)〜(e)の工程
を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法: (a)心材に樹脂を含有させてなる第1の樹脂材料にコ
ンデンサ収容用の通孔を形成する工程; (b)第2の樹脂材料に、前記第1の樹脂材料のコンデ
ンサ収容部に該当する位置へメタライズ電極の上に導電
性ペーストを塗布したコンデンサを配設させる工程; (c)前記(a)工程を経た第1の樹脂材料と前記
(b)工程を経た第2の樹脂材料を貼り付けてコンデン
サを収納した収容層を形成する工程; (d)前記収容層に第3の絶縁樹脂層を張り付けコア基
板を形成する工程; (e)前記第3の絶縁樹脂層に前記コンデンサの電極へ
至る開口を設けてバイアホールを形成する工程。
17. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising at least the following steps (a) to (e): (a) a capacitor material is contained in a first resin material having a core material containing a resin; (B) disposing a capacitor in which a conductive paste is applied on a metallized electrode at a position corresponding to a capacitor accommodating portion of the first resin material in a second resin material; (C) a step of pasting the first resin material having undergone the step (a) and the second resin material having undergone the step (b) to form a housing layer housing the capacitor; and (d) the housing layer. (E) forming an opening to the electrode of the capacitor in the third insulating resin layer to form a via hole.
【請求項18】 少なくとも以下(a)〜(f)の工程
を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法: (a)心材に樹脂を含有させてなる第1の樹脂材料にコ
ンデンサ収容用の通孔を形成する工程; (b)第2の樹脂材料にバイアホールとなる貫通孔を設
けて、前記第1の樹脂材料のコンデンサ収容部に該当す
る位置へメタライズ電極の上に導電性ペーストを塗布し
たコンデンサを配設させる工程; (c)前記(a)工程を経た第1の樹脂材料と前記
(b)工程を経た第2の樹脂材料を貼り付けてコンデン
サを収納した収容層を形成する工程; (d)前記収容層に第3の絶縁樹脂層を張り付けコア基
板を形成させる工程; (e)前記第3の絶縁樹脂層に前記コンデンサの電極へ
至る開口を設ける工程; (f)前記第1の樹脂材料の貫通孔及び第3の樹脂材料
の開口に導体膜を形成してバイアホールとする工程。
18. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising at least the following steps (a) to (f): (a) A capacitor is contained in a first resin material having a core material containing a resin. (B) forming a through hole as a via hole in the second resin material, and forming a conductive paste on the metallized electrode at a position corresponding to the capacitor housing portion of the first resin material; (C) adhering the first resin material having passed through the step (a) and the second resin material having passed through the step (b) to form a housing layer containing the capacitor (D) attaching a third insulating resin layer to the housing layer to form a core substrate; (e) providing an opening to the capacitor electrode in the third insulating resin layer; (f) Of the first resin material Forming a conductive film in the through hole and the opening of the third resin material to form a via hole;
【請求項19】 前記(d)工程の貼り付けの際、基板
の両面から圧力をかけることを特徴とする請求項16〜
請求項18の内1に記載のプリント配線板の製造方法。
19. The method according to claim 16, wherein pressure is applied to both surfaces of the substrate during the attaching in the step (d).
A method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1.
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